TWM506652U

TWM506652U - 離心分離機

Info

Publication number: TWM506652U
Application number: TW104202260U
Authority: TW
Inventors: Yoshiki Nobuto; Masayuki Tamai; Shigeki BOHNO
Original assignee: Kuraray Co; Force Japan Co Ltd G
Priority date: 2014-02-19
Filing date: 2015-02-12
Publication date: 2015-08-11
Also published as: CN204564366U; JP3191304U

Description

離心分離機

本新型涉及一種將處理對象液分離為2種以上的物質的離心分離機。

離心分離機例如被使用於將使用過的冷卻劑分離為回收液和淤渣的離心分離工序等。在離心分離工序，淤渣成為層而附著於離心分離機的旋轉體(旋窯)的內壁面。因此，進行用離心分離機的刮板刮下附著的淤渣并從旋轉體的底部向旋轉體的外部排出的淤渣排出工序。淤渣排出工序在旋轉體的底部的遮門被打開的狀態下進行，被刮板刮掉的淤渣從旋轉體的底部排出到旋轉體的外部(例如，日本專利公開公報特開2013-66994號)。

但是，在淤渣的粘性高的情況下，在淤渣排出工序，附著於刮板的淤渣的一部分有時不被從刮板剝離而殘留於刮板的表面。殘留於刮板的表面的淤渣如果在淤渣排出工序以外的工序從刮板落下，則落下的淤渣有時附著於離心分離機的旋轉體的內壁，其結果，會引起離心分離機的異常振動。

此外，在如日本專利公開公報特開2013-66994號公開的冷卻劑再生方法那樣并用膜分離工序的情況下，如果成塊(球)的淤渣在淤渣排出工序以外的工序從刮板落下，則在膜分離裝置中會成為誘發膜堵塞的原因。

因此，需要將在淤渣排出工序中附著於刮板的淤渣在淤渣排出工序從刮板去除。

例如，可考慮使刮板振動并利用該振動使淤渣從刮板掉下的對策。但是，即使實施此種對策，在淤渣的粘性高的情況下，有時不能有效地使淤渣從刮板掉下來。

本新型的目的在於提供一種離心分離機，將處理對象液分離為2種以上的物質後，能夠抑制淤渣殘留於刮板上。

本新型的離心分離機，包括：旋轉體，用於對處理對象液進行離心分離；刮板，用於刮下因離心分離而附著於所述旋轉體的淤渣；以及噴嘴，被配置在所述旋轉體的內部空間，向殘留於所述刮板上的所述淤渣噴出從流體供應機構供應的流體，其中，所述刮板具有：被配置在所述旋轉體的所述內部空間的主體部；以及被設置在所述主體部的表面上，抑制從所述旋轉體刮下的所述淤渣殘留於表面的表層部，其中，所述表層部具有包含氟樹脂的塗層和包含氟樹脂的薄片體中的至少之一。

在該結構中，例如在上述的淤渣排出工序，在使刮板接近或抵接於旋轉體的壁面的狀態下使旋轉體旋轉來使用刮板刮下旋轉體的壁面的淤渣時，刮板的表層部能夠抑制淤渣殘留於刮板的表面上。并且，在該結構中，所述表層部具有包含氟樹脂的塗層和包含氟樹脂的薄片體中的至少之一，因此，能夠利用氟樹脂的特性來進一步抑制淤渣殘留於刮板的表面。

此外，根據淤渣的黏度等特性不同，有時僅僅利用表層部的淤渣殘留抑制效果并不充分，在刮板的表面也有可能殘留淤渣，但是在該結構中，例如在淤渣排出工序，一個或複數個噴嘴向殘留於刮板的表面的淤渣噴出流體，從而能夠有效地從刮板剝離淤渣并使其掉下。藉此，進一步有效地抑制淤渣殘留於刮板的表面。

在所述離心分離機中，優選：所述流體朝向沿所述刮板的表面的方向從所述噴嘴噴出。在該結構中，由於流體朝向沿刮板的表面的方向從噴嘴噴出，因此，能夠將流體噴到附著於刮板上的淤渣的側部。此時，處於噴嘴與刮板之間的刮板表面發揮將從噴嘴噴出的流體導向淤渣的引導面的作用。藉此，能夠抑制從噴嘴噴出的流體擴散，使流體集中於淤渣。通過如此地使流體集中於淤渣的側部，能夠提高從刮板剝離淤渣并使其掉下的效果。

優選：所述離心分離機是將所述旋轉體的旋轉軸沿上下方向設置的縱型離心分離機，所述流體朝向所述刮板的前端部從所述噴嘴沿水平方向噴出。例如在上述的淤渣排出工序，如果在使刮板的前端部接近或抵接於旋轉體的壁面的狀態下使旋轉體旋轉，旋轉體的壁面的淤渣就會被刮板的前端部剝離。被剝離的淤渣的一部分從刮板落下，淤渣的剩余部分附著於刮板的前端部。并且，在該結構中，流體朝向沿刮板的表面的方向、即朝向刮板的前端部沿水平方向從噴嘴噴出。即，在該結構中，對於附著於刮板的前端部的淤渣，從與該淤渣相比位於刮板的後端部側的噴嘴朝向前端部側噴出流體，從而將沿刮板的表面被引導的流體噴到淤渣的側部，能夠抑制淤渣的附著擴大到刮板的後端部側。

在所述離心分離機中，優選：所述噴嘴被固定於所述刮板。在該結構中，例如在淤渣排出工序，在刮板配置於使用刮板刮下附著於旋轉體的淤渣的位置(即，刮板接近或抵接於旋轉體的刮下位置)的狀態和在刮板配置於刮板從旋轉體離開的退避位置的狀態的任一狀態下，均能將相對於刮板的噴嘴的相對位置保持恆定。藉此，在刮下位置和退避位置的任一位置，均能夠以相同的條件(例如刮板的前端部與噴嘴的距離、對刮板的表面的流體的噴出方向等條件)從噴嘴向附著於刮板的淤渣噴出流體。

在所述離心分離機中，優選：所述噴嘴為複數個，沿所述刮板的表面排列。在該結構中，複數個噴嘴沿刮板排列，因此，能夠將流體噴到刮板表面的廣範圍。藉此，能夠提高抑制淤渣殘留於刮板的表面的效果。此外，在該結構中，例如能夠進行使複數個噴嘴依次噴出的控制、使複數個噴嘴同時噴出的控制等各種控制，能夠設定與刮板上的淤渣的附著狀態相對應的細致的流體噴出條件。

所述離心分離機優選還包括：控制部，控制所述流體供應機構。在該結構中，流體控制機構由控制部自動地進行控制。

在所述離心分離機中，優選：所述控制部控制所述流體供應機構，以使在使用所述刮板刮下附著於所述旋轉體的所述淤渣的所述旋轉體的旋轉動作過程中，從所述噴嘴噴出所述流體。在該結構中，使旋轉體旋轉并使用刮板剝離附著於旋轉體的淤渣，并且，利用從噴嘴噴出的流體，能夠抑制該被剝離的淤渣附著於刮板上。藉此，在旋轉體的旋轉動作過程中，能夠有效地抑制淤渣附著於刮板。

在所述離心分離機中，也可以為：所述控制部控制所述流體供應機構，以使在使用所述刮板刮下附著於所述旋轉體的所述淤渣的所述旋轉體的旋轉動作結束後，從所述噴嘴噴出所述流體。尤其優選從噴嘴的流體的噴出在旋轉體的旋轉動作過程中和該旋轉動作結束後均進行。藉此，能夠進一步有效地抑制淤渣附著於刮板。

在所述離心分離機中，優選：從所述流體供應機構供應至所述噴嘴的所述流體為空氣。在該結構中，與使用液體來作為流體的情況相比，能夠降低成本。此外，在離心分離機的用途為例如將處理對象液分離為回收液和淤渣的用途的情況下，如果流體為液體的處理對象液，則與淤渣一起排出的處理對象液的量增加，因此，液體的回收率(回收液的回收率)降低。此外，如果流體為處理對象液以外的液體，該液體會作為雜質而混入回收液中。針對於此，在該結構中，只是作為流體的空氣混入回收液中，因此，能夠縮小對回收液的影響。

1‧‧‧離心分離機

100‧‧‧處理系統

11‧‧‧原液箱

12‧‧‧處理箱

13‧‧‧膜分離裝置

13a‧‧‧原液側開口

13b‧‧‧原液側開口

13c‧‧‧濾液側開口

14‧‧‧濾液箱

15‧‧‧再生液箱

90~99‧‧‧配管

P1~P4‧‧‧泵

2‧‧‧裝置主體

20‧‧‧外殼

21‧‧‧冷卻劑噴出部

21a‧‧‧噴出管

21b‧‧‧噴出孔

22‧‧‧淤渣排出部

22a‧‧‧淤渣排出口

22b‧‧‧淤渣排出口

22c‧‧‧遮門

23‧‧‧排水回收部

23a‧‧‧液接收面

23b‧‧‧流出口

24‧‧‧離心分離液回收部

24a‧‧‧液接收面

24b‧‧‧流出口

3‧‧‧驅動部

30‧‧‧馬達

31‧‧‧傳遞部

32‧‧‧軸

4‧‧‧控制部

5‧‧‧旋轉體

5a‧‧‧開口部

5b‧‧‧開口部

6‧‧‧刮板

6a‧‧‧前端部

6b‧‧‧外表面

6c‧‧‧內表面

61‧‧‧主體部

62‧‧‧表層部

62a‧‧‧膜

62b‧‧‧氟樹脂層

62c‧‧‧粘合層

63‧‧‧支撐部

7‧‧‧噴嘴

7a‧‧‧噴出孔

71‧‧‧流體配管

72‧‧‧流體供應機構

73‧‧‧噴嘴支撐部件

S‧‧‧使用過的冷卻劑

S1‧‧‧再生冷卻劑

S2‧‧‧淤渣

L1‧‧‧刮下位置

L2‧‧‧退避位置

圖1是表示具備本新型的一實施形態所涉及的離心分離機的處理系統的概略結構的圖。

圖2是表示所述離心分離機的剖視圖。

圖3是表示所述離心分離機的旋轉體、刮板以及噴嘴的位置關系的立體圖。

圖4是表示所述離心分離機的旋轉體、刮板以及噴嘴的位置關系的俯視圖。

圖5是表示所述離心分離機的刮板以及噴嘴的正視圖。

圖6是表示所述離心分離機中設置在刮板的表面的表層部的一例的剖視圖。

圖7是表示所述離心分離機中設置在刮板的表面的表層部的其他例的剖視圖。

圖8是表示所述離心分離機的控制例的流程圖。

圖9是表示所述離心分離機的變形例1的立體圖。

圖10是表示所述離心分離機的變形例2的立體圖。

下面，參照附圖詳細說明本新型的實施形態所涉及的離心分離機1以及具備該離心分離機1的處理系統100。

[處理系統的整體結構]

圖1是表示具備本實施形態所涉及的離心分離機1的處理系統100的概略結構的圖。例如，處理系統100是以制品的制造工序中使用過的液體(使用過的液體)作為處理對象液，進行再生處理以再利用該使用過的液體的裝置。

作為處理對象液，可例示使用過的冷卻劑、使用過的研磨泥漿，但并不限定於此。作為使用過的冷卻劑，可例示包含切斷矽材料時產生的矽切削屑的使用過的矽冷卻劑，但并不限定於此。作為使用過的研磨泥漿，可例示用於研磨藍寶石基板等基板的使用過的研磨泥漿，但并不限定於此。在以下的說明中，以處理對象液為使用過的矽冷卻劑的情況為例進行說明，但本新型的離心分離機1也可適用於使用過的矽冷卻劑以外的其他用途。

具體而言，矽冷卻劑例如使用於利用線鋸切斷裝置將塊狀的矽晶錠(矽材料)切斷為預先規定的尺寸的切片工序。在切片工序使用的冷卻劑例如使用包含二甘醇、水以及其他添加劑等的液體，但并不限定於此。在切片工序使用後的使用過的冷卻劑S包含矽切削屑。使用過的冷卻劑S被分離為使用處理系統100被再生為能夠再利用的狀態的再生冷卻劑(膜過濾液)S1和包含矽切削屑的淤渣S2。

如圖1所示，處理系統100具備原液箱11、處理箱12、離心分離機1、膜分離裝置13、濾液箱14、再生液箱15以及控制部4。此外，處理系統100具備複數個配管90~99和複數個泵P1~P4。

處理系統100并不限定於圖1所示的具體例，也可以根據需要省略一部分箱、一部分配管、一部分泵等。此外，處理系統100是并用離心分離機1和膜分離裝置13的系統，但并不限定於此。根據處理系統100的用途，也可以省略例如膜分離裝置13。

本實施形態所涉及的離心分離機1是旋轉體5的旋轉軸的方向(後述的驅動部3的軸32的軸向)朝上下方向的縱型的裝置(縱型離心分離機)。關於離心分離機1的詳細結構將在後面敘述。

原液箱11是用於儲存處理對象液S(即，被回收的使用過的冷卻劑S)的容器。使用過的冷卻劑S通過連接於原液箱11的配管90流入原液箱11中。此外，被儲存在原液箱11內的使用過的冷卻劑S通過設有泵P1的配管91被輸送到處理箱12。

處理箱12是用於儲存從原液箱11輸送來的使用過的冷卻劑S的容器。此外，在離心分離機1中分離的離心分離液被返送到處理箱12中，在膜分離裝置13分離的濃縮液被返送到處理箱12中。離心分離液是通過離心分離機1的離心分離處理而固體成分濃度減小的液體。濃縮液是通過膜分離裝置13的膜分離處理而與膜過濾液分離的固體成分濃度上昇的液體，其包含矽切削屑。被返送至處理箱12的離心分離液和濃縮液在處理箱12中與使用過的冷卻劑S混合。

處理箱12內的混合液(包含使用過的冷卻劑S、離心分離液以及濃縮液的液體)通過設有泵P2的配管92被輸送到離心分離機1。在離心分離機1中被進行離心分離處理的離心分離液通過配管93返回到處理箱12。此外，配管94是在作業人員用水等清洗旋轉體5的內部時將該清洗過的廢液(排水)送回處理箱12的配管。

此外，處理箱12內的混合液通過設有泵P3的配管95被輸送到膜分離裝置13。在膜分離裝置13被進行膜分離處理後的濃縮液通過配管96被送回至處理箱12。此外，在膜分離裝置13被進行膜分離處理後的膜過濾液通過配管97被輸送到濾液箱14。

在本實施形態中，膜分離裝置13例如為在細長形狀的箱體內設有中空纖維膜的結構，但并不限定於此。膜分離裝置13只要是能夠從使用過的冷卻劑S去除切削屑等的結構即可，也可以為在箱體內設有中空纖維膜以外的其他分離膜的結構。

中空纖維膜的內部通過分別設置在箱體的長邊方向的端部的原液側開口13a、13b與箱體的外部連通。在箱體的側面形成有使箱體的內部空間(中空纖維膜的外側空間)與箱體外部連通的濾液側開口13c。通過中空纖維膜而被過濾的膜過濾液通過該濾液側開口13c而被導出到箱體的外部。通過使用膜分離裝置13，能夠分離為通過中空纖維膜的膜過濾液S1和包含未能通過中空纖維膜的矽切削屑的濃縮液。此外，也可以利用該濾液側開口13c，能夠將逆洗用流體導入到膜分離裝置13內。

濾液箱14是儲存在膜分離裝置13中被進行膜分離處理後的膜過濾液S1(回收液S1)的容器。從膜分離裝置13的濾液側開口13c流出的膜過濾液S1通過配管97被輸送到濾液箱14。

再生液箱15是儲存從濾液箱14輸送來的膜過濾液S1(回收液S1)的容器。濾液箱14內的膜過濾液S1通過設有泵P4的配管98被輸送到再生液箱15。被儲存在再生液箱15的膜過濾液S1(回收液S1)通過配管99被輸送到下一個工序(例如矽晶錠的切片工序等)而被再利用。

控制部4具備圖略的中央運算處理裝置(CPU)、存儲器等。控制部4控制處理系統100的動作。具體而言，控制部4具有控制離心分離機1的旋轉體5的旋轉動作的旋轉體控制部的作用。

[離心分離機的整體結構]

接下來，說明本實施形態所涉及的離心分離機1。圖2是表示本實施形態所涉及的離心分離機1的剖視圖。如圖2所示，離心分離機1具備裝置主體2和驅動部3。裝置主體2具備外殼20、旋轉體5、刮板6以及噴嘴7。驅動部3具備馬達30、傳遞部31以及軸32。

外殼20是在內部收容旋轉體5、刮板6、噴嘴7等的箱體。旋轉體5具有圓筒狀、碗狀等形狀。在本實施形態中，旋轉體5具有設置在上部的開口部5a和設置在下部的開口部5b。

刮板6是用於刮下因離心分離而附著於旋轉體5的內側面并堆積的淤渣S2的部件。噴嘴7是用於向殘留在刮板6表面的淤渣S2噴出流體的部件。關於刮板6以及噴嘴7的詳細結構將在後面敘述。

離心分離機1還具備冷卻劑噴出部21、淤渣排出部22、排水回收部23以及離心分離液回收部24。

冷卻劑噴出部21具有例如從開口部5b插入到旋轉體5內的噴出管21a。噴出管21a通過配管92連接於處理箱12。從處理箱12輸送來的包含使用過的冷卻劑S的混合液被供應到噴出管21a。被供應的混合液從設置在噴出管21a的噴出孔21b噴向旋轉體5內的空間。

淤渣排出部22具有：設置在旋轉體5的下部的開口部5b的正下方的淤渣排出口22a；將通過淤渣排出口22a而落下來的淤渣S2排出到離心分離機1外的淤渣排出口22b；以及能夠開閉淤渣排出口22a的遮門22c。遮門22c的開閉動作由控制部 4控制。

排水回收部23被設置在旋轉體5的下方。排水回收部23具有：接收清洗旋轉體5內部時的廢液(排水)的液接收面23a；以及使接收在液接收面23a的排水流出到外殼20的外部的流出口23b。液接收面23a優選以流出口23b側低的方式傾斜。藉此，接收在液接收面23a的排水沿液接收面23a被引導至流出口23b。流出口23b通過配管94連接於處理箱12。

離心分離液回收部24例如設置在旋轉體5的側方，但并不限定於此。離心分離液回收部24具有：接收從旋轉體5流出的離心分離液的液接收面24a；以及使接收在液接收面24a的離心分離液流出到外殼20的外部的流出口24b。流出口24b通過配管93連接於處理箱12。

馬達30的旋轉速度由控制部4的旋轉體控制部進行電控。馬達30的旋轉通過傳遞部31傳遞到軸32。旋轉體5的上部連接於驅動部3的軸32。藉此，旋轉體5伴隨軸32的旋轉而旋轉。

[處理系統的動作]

接下來，說明處理系統100的動作。如圖1所示，通過配管90被輸送到原液箱11的使用過的冷卻劑S通過泵P1輸送到處理箱12。從處理箱12供應到離心分離機1的液體(包含使用過的冷卻劑S的混合液或使用過的冷卻劑S)的供應量和從處理箱12供應到膜分離裝置13的液體的供應量可分別獨立地設定。

從處理箱12供應到離心分離機1的液體從圖2所示的噴出管21a的噴出孔221b噴出到旋轉體5內的空間。此時，旋轉體5高速旋轉，因此，利用其離心力進行基於比重差的分離。包含比重較大的矽切削屑的淤渣S2以朝向旋轉體5的內側面被按壓的方式堆積。

另一方面，以除去固體成分後的液體成分為主體的離心分離液滯留在旋轉體5內的空間，從旋轉體5的上側的開口部5a一點一點地溢流。通過溢流被導出到旋轉體5的外部的離心分離液基於重力在旋轉體5的外周面與外殼20的內表面之間的間隙流下，并落到離心分離液回收部24的液接收面24a。落下來的離心分離液在液接收面24a上被引導，并從流出口24b流出到外殼20的外部。流出的離心分離液如圖1所示通過配管93被輸送到處理箱12，并與處理箱12內的液體混合。其結果，包含使用過的冷卻劑的液體中的固體成分濃度下降。通過反復進行此種離心分離處理，處理箱12內的混合液中的固體成分濃度逐漸下降。

另一方面，從處理箱12供應到膜分離裝置13的液體例如被由中空纖維膜構成的過濾膜進行膜分離處理。藉此，能夠分離為通過過濾膜而幾乎不含有矽切削屑的膜過濾液和包含不能通過過濾膜的矽切削屑且固體成分濃度濃縮的濃縮液。

濃縮液被導出到儲存有使用過的冷卻劑的處理箱12，并與處理箱12內的液體混合。通過使濃縮液返回到處理箱12，能夠反復進行離心分離處理或膜分離處理，能夠提高從使用過的冷卻劑再生的冷卻劑的回收率。此外，通過將濃縮液與處理箱12內的液體混合，能夠稀釋濃縮液，能夠抑制再次供應到膜分離裝置時發生堵塞等。

[刮板]

接下來，詳細說明本實施形態所涉及的離心分離機1的刮板6。圖3是表示離心分離機1的旋轉體5、刮板6以及噴嘴7的位置關系的立體圖。圖4是表示離心分離機1的旋轉體5、刮板6以及噴嘴7的位置關系的俯視圖。圖5是表示離心分離機1的刮板6以及噴嘴7的正視圖。

如上所述，刮板6是用於刮下因離心分離而附著於旋轉體5的內側面并堆積的淤渣S2的部件。如圖3~圖5所示，刮板6具備主體部61、表層部62、支撐部63以及圖略的移位機構。刮板6在其前端部具有接近或抵接於旋轉體5的內側面的前端部6a。此外，刮板6具有朝向旋轉體5的內側面側的外表面6b和外表面6b的相反側的內表面6c(表層部62的表面6c)。

主體部61具有接近或抵接於旋轉體5的內側面來刮下淤渣S2的功能。主體部61例如由扁平的板狀部件形成。

表層部62具有抑制從旋轉體刮下的淤渣S2殘留於刮板6的表面的功能。圖6是表示離心分離機1中設置在刮板6的表面的表層部62的一例的剖視圖。在圖6所示的實施形態中，表層部62是包含氟樹脂的塗層。

用於在主體部61上塗布氟樹脂的塗層劑例如包含氟樹脂和溶媒。根據需要，可在氟樹脂塗層劑中加入添加劑等。作為將氟樹脂塗層劑塗布於基材的方法，例如可舉出旋塗、噴塗、棒塗(bar coating)、輥塗、浸漬、刷塗等，但并不限定於此。也可以在基材與氟樹脂塗層之間設置基層(底層)。在基材上塗布氟樹脂塗層劑後，進行例如加熱處理等。

此外，如圖7所示的其他例所示，表層部62也可為包含氟樹脂的薄片體。此種薄片體形態的表層部62例如包含膜62a、形成在該膜62a的其中一面的氟樹脂層62b以及形成在膜62a的另一面的粘合層62c。利用粘合層62c，表層部62粘貼於主體部61的表面。在圖7所示的薄片體形態的情況下，例如在膜62a的其中一面塗布包含氟樹脂的氟樹脂層62b，在另一面形成粘合層62c。

作為氟樹脂，例如可舉出聚四氟乙烯(PTFE)、四氟乙烯-全氟(烷基乙烯基)醚共聚物(PFA)、四氟乙烯-六氟丙烯共聚物(FEP)、聚三氟氯乙烯(PCTFE)、聚偏二氟乙烯(PVDF)、聚氟乙烯(PVF)、四氟乙烯-乙烯共聚物(PETFE)、乙烯-四氟乙烯共聚物(ETFE)、乙烯-三氟氯乙烯(ECTFE)等，但并不限定於此。

主體部61被固定於支撐部63。支撐部63具有支撐主體部61的功能。此外，如圖4所示，支撐部63具有通過利用所述移位機構轉動或沿水平方向移動，調整相對於旋轉體5的主體部61的位置、相對於旋轉體5的主體部61的角度的功能。

所述移位機構例如具備圖略的馬達。該馬達能夠使支撐部63轉動或使支撐部63沿水平方向移動。所述移位機構的動作由控制部4控制，藉此，刮板6在旋轉體5的內部空間在圖4中用實線所示的刮下位置L1與在圖4中用虛線所示的退避位置L2之間移動。

如圖4所示，刮下位置L1是例如在後述的淤渣排出工序中用刮板6刮下附著於旋轉體5的淤渣S2時的位置，是刮板6接近或抵接於旋轉體5的內側面的位置。退避位置L2是不進行淤渣S2的刮下時的位置，是與刮下位置L1相比刮板6(具體而言，刮板6的前端部6a)從旋轉體5的內側面離開的位置。

[噴嘴]

接下來，詳細說明本實施形態所涉及的離心分離機1的噴嘴7。如上所述，噴嘴7是用於向殘留於刮板6的表面的淤渣S2噴出流體的部件。如圖2所述，噴嘴7通過流體配管71連接於流體供應機構72。在流體例如為空氣的情況下，可使用壓縮機等作為流體供應機構72。在流體例如為水等液體的情況下，可使用泵等作為流體供應機構72。

噴嘴7只要是能夠噴出流體，則無特別限定，能夠采用各種結構的噴嘴。在本實施形態中，如圖3所示，噴嘴7具有通過流體配管71而供應的流體噴出的1個或複數個噴出孔7a。

此外，在圖2、圖3以及圖5所示的實施形態中，離心分離機1具備複數個噴嘴7。各噴嘴7以流體沿刮板6的表面6c的方向(例如平行於刮板6的表面6c的方向)噴出的姿勢被配置。因此，能夠使流體噴到附著於刮板6的淤渣S2的側部。此時，處於噴嘴7與淤渣S2之間的刮板6的表面6c發揮將從噴嘴7噴出的流體引導至淤渣S2的作用。藉此，能夠抑制從噴嘴7噴出的流體擴散而使流體集中到淤渣S2。

另外，在圖3所示的實施形態中，各噴嘴7以流體朝向刮板6的前端部6a沿水平方向噴出的姿勢被配置，但并不限定於此。如後述的變形例所示，從噴嘴7的流體的噴出方向例如也可為上下方向等水平方向以外的方向。

在本實施形態中，複數個噴嘴7被固定於刮板6。具體而言，例如圖3所示，複數個噴嘴7通過噴嘴支撐部件73而固定於刮板6的主體部61、支撐部63等。因此，複數個噴嘴7即使處於刮下位置L1以及退避位置L2中的任一位置，對刮板6的主體部61的相對位置不會改變。藉此，在刮下位置L1以及退避位置L2中的任一位置，均能以相同的條件(例如刮板6的前端部與噴嘴7的距離、對刮板6的表面6c的流體的噴出方向等條件)從噴嘴7向刮板6噴出流體。

此外，在本實施形態中，複數個噴嘴7沿刮板6的表面6c而在一方向(在圖3中為上下方向)上被排列。因此，與如後所述的變形例那樣只設有一個噴嘴7的情況相比，能夠將流體噴到刮板6的表面6c的廣範圍。藉此，能夠提高抑制淤渣S2殘留於刮板6的表面6c的效果。

[控制例]

圖8是表示離心分離機1的控制例的流程圖。在圖8所示的控制例中，首先，向離心分離機1供應包含處理對象液S(使用過的冷卻劑S)的液體(步驟S1)。接著，控制部4以使離心分離機1的旋轉體5高速旋轉的方式控制驅動部3(步驟S2；離心分離工序)。在離心分離工序，刮板6配置在退避位置L2。此外，在離心分離工序，淤渣排出口22a被遮門22c關閉。

如果離心分離工序結束，則進行淤渣排出工序。淤渣排出工序包含刮下工序(步驟S3)、刮板拂落工序(步驟S4)、旋轉體清洗工序(步驟S5)以及遮門拂落工序(步驟S6)。

在步驟S3的刮下工序，控制部4以使旋轉體5低速旋轉的方式控制驅動部3，并且，控制所述移位機構使刮板6移動到刮下位置L1。藉此，在離心分離工序附著於旋轉體5的內側面的淤渣S2被刮板6刮下。在該刮下工序，控制部4使遮門22c移動以開放淤渣排出口22a。藉此，被刮下的淤渣S2的一部分通過淤渣排出口22a落到外殼20的下部，進一步通過其下方的淤渣排出口22b向離心分離機1外排出。從淤渣排出口22b排出的淤渣S2例如被回收於圖略的容器等。

在該刮下工序，控制部4優選以從噴嘴7噴出流體的方式控制流體供應機構72。即，能夠用刮板6剝離附著於旋轉體5 的淤渣S2并抑制該剝離的淤渣S2附著於刮板6。藉此，能夠有效地抑制淤渣S2進一步附著於刮板6。

如果刮下工序結束，控制部4控制以使旋轉體5的旋轉停止的方式驅動部3，并且，控制流體供應機構72以使從噴嘴7向刮板6噴出流體(步驟S4)。在該刮板拂落工序，刮板可從刮下位置L1移動到退避位置L2，也可留在刮下位置L1。在該刮板拂落工序，可使複數個噴嘴7例如從上依次噴出，或者使複數個噴嘴7例如從下依次噴出，或者使複數個噴嘴7同時噴出。

如果刮板拂落工序結束，則進行旋轉體清洗工序(步驟S5)。在旋轉體清洗工序，例如在使刮板6處於刮下位置L1的情況下使旋轉體5低速旋轉，通過從冷卻劑噴出孔21b噴出液體來清洗旋轉體5的內部。此時，可使刮板6在刮下位置L1與退避位置L2之間往返，利用該衝擊去掉附著於刮板6的淤渣S2。如果旋轉體清洗工序結束，控制部4使遮門22c移動來關閉淤渣排出口22a。

接下來，根據需要，進行遮門拂落工序(步驟S6)。在遮門拂落工序，例如使用配置在當使遮門22c移動時能夠刮到遮門22c的表面的位置的圖略的刮落棒，將堆積於遮門22c上的淤渣S2刮落。此外，在本實施形態中，在刮板拂落工序去除附著於刮板上的淤渣S2，因此，能夠抑制之後在遮門22c的上面落下淤渣S2。因此，在本實施形態中，能夠省略該遮門拂落工序。以上，本實施形態的離心分離的一連的工序結束，該一連的工序反復被進行。

[實施形態的總結]

在本實施形態中，刮板6具有抑制淤渣S2殘留於表面的表層部62。例如在上述的淤渣排出工序，在使刮板6接近或抵接於旋轉體5的壁面的狀態下使旋轉體5旋轉，并用刮板6刮下旋轉體5的壁面的淤渣S2時，表層部62能夠抑制淤渣S2殘留於刮板6的表面。

此外，根據淤渣S2的黏度等特性，僅表層部62的淤渣殘留抑制效果并不充分，在刮板6的表面有可能殘留有淤渣S2，但是在本結構中，例如在淤渣排出工序，一個或複數個噴嘴7向殘留在刮板6的表面的淤渣S2噴出流體，藉此，能夠有效地從刮板6剝離淤渣S2并使其掉落。藉此，進一步有效地抑制淤渣S2殘留於刮板6的表面。

在本實施形態中，流體沿刮板6的表面的方向從噴嘴7噴出。在該結構中，由於流體沿刮板6的表面的方向從噴嘴7噴出，因此，能夠使流體噴到附著於刮板6的淤渣S2的側部。此時，處於噴嘴7與淤渣S2之間的刮板6的表面發揮將從噴嘴7噴出的流體引導向淤渣S2的作用。藉此，抑制從噴嘴7噴出的流體擴散，使流體集中於淤渣S2。由此，通過使流體集中於淤渣S2的側部，能夠提高從刮板6剝離淤渣S2并使其掉落的效果。

在本實施形態中，離心分離機1是旋轉體5的旋轉軸朝向上下方向的縱型的離心分離機，流體朝向刮板6的前端部從噴嘴7沿水平方向噴出。例如在上述的淤渣排出工序，如果在使刮板6的前端部接近或抵接於旋轉體5的壁面的狀態下使旋轉體5旋轉，旋轉體5的壁面的淤渣S2就被刮板6的前端部剝離。被剝離的淤渣S2的一部分從刮板6落下，淤渣S2的剩余部分附著於刮板6的前端部。并且，在該結構中，流體沿刮板6的表面的方向、即朝向刮板6的前端部沿水平方向從噴嘴7噴出。即，在該結構中，對於附著於刮板6的前端部的淤渣S2，從與該淤渣S2相比位於後端部側的噴嘴7向前端部側噴出流體，從而能夠將沿刮板6的表面被引導的流體噴出到淤渣S2的側部，由此抑制淤渣S2的附著擴大到刮板6的後端部側。

此外，在本實施形態中，流體從噴嘴7噴出的水平方向不僅包含嚴格與重力方向垂直的方向，而且還包含在能夠使流體噴到淤渣S2的側部的範圍內相對於垂直於重力方向的方向傾斜的方向。

在本實施形態中，噴嘴7被固定於刮板6。在該結構中，例如在淤渣排出工序，在刮板6被配置在用刮板6刮下附著於旋轉體5的淤渣S2時的位置(即，刮板6接近或抵接於旋轉體5的刮下位置)的狀態和刮板6配置在刮板6從旋轉體5離開的退避位置的狀態中的任一狀態下，均能將相對於刮板6的噴嘴7的位置保持為恆定。藉此，在刮下位置和退避位置的任一位置，均能以相同的條件(例如刮板6的前端部與噴嘴7的距離、對於刮板6的表面的流體的噴出方向等條件)使流體從噴嘴7噴向刮板6。

在本實施形態中，複數個噴嘴7沿刮板6的表面在一方向上排列。在該結構中，由於複數個噴嘴7沿刮板6的一方向(例如上下方向、水平方向等方向)排列，因此，能夠將流體噴到刮板6的表面的廣範圍。藉此，能夠提高抑制淤渣S2殘留於刮板6的表面的效果。此外，在該結構中，能夠進行例如使複數個噴嘴依次噴出的控制、使複數個噴嘴7同時噴出的控制等各種控制，能夠根據刮板6上的淤渣S2的附著狀態設定細致的流體噴出條件。

在本實施形態中，在使用刮板6刮下附著於旋轉體5的淤渣S2的旋轉體5的旋轉動作過程中從噴嘴7噴出流體。在該結構中，在使用刮板6刮下附著於旋轉體5的淤渣S2的旋轉體5的旋轉動作過程中從噴嘴7噴出流體。即，能夠使用刮板6剝離附著於旋轉體5的淤渣S2并抑制該剝離的淤渣S2附著於刮板6。藉此，能夠有效地抑制淤渣S2進一步附著於刮板6。

在本實施形態中，流體為空氣，因此，與使用液體作為流體的情況相比能夠降低成本。此外，在離心分離的用途為例如將處理對象液分離為回收液和淤渣S2的用途的情況下，如果流體為液體的處理對象液，則與淤渣S2一起排出的處理對象液的量增加，因此，液體成分的回收率(回收液的回收率)下降。此外，如果流體為處理對象液以外的液體，則該液體有可能作為雜質而混入回收液中。對此，在本實施形態中，將空氣作為流體混入回收液中，因此能夠縮小對回收液的影響。

在離心分離機中，表層部62優選具有包含氟樹脂的塗層和包含氟樹脂的薄片體中的至少之一。在該結構中，通過利用氟樹脂的特性使刮板6的表面的摩擦系數變小，其結果，能夠抑制淤渣S2殘留於刮板6的表面。

[變形例]

以上說明了本新型的實施形態所涉及的離心分離機1，但本新型并不限定於實施形態，可在不脫離其主旨的範圍內進行各種變更、改良等。

例如，圖9是表示離心分離機1的變形例1的立體圖。圖10是表示離心分離機1的變形例2的立體圖。在圖9所示的變形例1中，離心分離機1只具備一個噴嘴7。在圖10所示的變形例2中，離心分離機1具備複數個噴嘴7，複數個噴嘴7沿水平方向排列。并且，各噴嘴7例如以朝向下方噴出流體的姿勢被配置。