TWI824688B - 晶粒封裝體的接合與轉移方法 - Google Patents
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Abstract
一種晶粒封裝體的接合與轉移方法,其係提供設置有定位膠的晶粒封裝體,同時提供具有對應該定位膠之空槽的一振動底座,透過定位膠與空槽之對位,使晶粒封裝體可定位並容設於振動底座中,另提供一目標基板,藉由金屬材料使該目標基板與具有該晶粒封裝體之振動底座接合,之後,以雷射製程將該金屬材料熔解,以完成焊接。最後,移除振動底座並通過除膠製程去除定位膠,從而完成將該晶粒封裝體接合並轉移至目標基板上。通過採用此種製程方法,本發明可符合產業進行快速的巨量轉移技術,同時,使垂直型發光二極體晶粒封裝體的封裝良率獲得優化。
Description
本發明係有關於一種垂直型發光二極體晶粒封裝體的接合與轉移方法,且特別是有關於一種能夠直接針對晶粒封裝體結構進行巨量轉移的製程方法及其步驟。
按,已知,發光二極體(Light Emitting Diode,LED)係為一種經由半導體技術所製成的光源,其係由三五族(III-V族)化合物半導體所形成,其發光原理係為利用半導體中電子和電洞結合而發出光子,不同於傳統燈泡需在上千度的高溫操作,也不必像日光燈需使用的高電壓激發電子束,發光二極體和一般的電子元件相同,只需要2至4伏特(V)的電壓,且在一般溫度環境下即可正常運作,相較於傳統鎢絲燈泡而言,具備有:壽命長、省電節能、故障率低、光線穩定、發光效率高、和各式燈具相容性高的優點,因此發光壽命也比傳統光源長,已成為目前市場上的主流商品。
一般而言,發光二極體的晶粒結構可分為以下兩種:水平型結構(Horizontal)和垂直型結構(Vertical),綜觀來看,垂直型發光二極體與水平型發光二極體相比,其中,垂直型結構之發光二極體晶粒無論在結構強度、光電參數、熱學特性、光衰及成本等方面,皆可以提供較佳的可靠度,因此廣為業界所使用。
而近年來,隨著科技的進步,這些垂直型發光二極體晶粒也逐漸地被巨量轉移(Mass Transfer)於各式電子裝置及其基板上。
直至今日,現有技術中已揭示有數種可將晶粒移轉至基板上的方法,包括:表面黏著技術(Surface Mount Technology,SMT)、晶圓間轉移(wafer-to-wafer transfer)技術、及靜電轉移(electrostatic transfer)技術等等。其中,表面黏著技術需要先將晶粒逐一封裝為SMD(Surface Mount Device)元件後,通過一表面貼焊機(SMT)運用真空吸頭逐一將SMD元件打在電路基板上,再經回焊爐固定於基板。不過,採用表面黏著技術只能一次移轉單一個晶粒,在產業需要大量進行巨量轉移時,常遭遇應用有限且不敷使用的問題。
至於晶圓間轉移技術,則是將晶粒的原生基板與目標基板貼合,之後將原生基板剝離後使晶粒轉移到目標基板上,但此種方式對於原生基板與目標基板二者尺寸的要求較為嚴格,同時,基板上晶粒設置的間距也必須一致,基於此等要求及限制使得其應用受到極大的限制,因而不符合實際應用需求。再針對靜電轉移技術而言,其係則必須通過靜電方式拾取、移轉、再放置晶粒於目標基板上,然而,採用此種靜電轉移方式易造成晶粒結構上的損壞,同時,在進行移轉時係使用「硬體」間的接觸,也容易對基材造成損傷及破壞,除此之外,亦受限於靜電極的尺寸。
更進一步而言,當晶粒移轉至目標基板上時,即便是經由訓練良好的人為操作、抑或是精密的移轉技術,其晶粒或其晶粒封裝體的對準(alignment)也是很難做到完全對位並且精準的。而在此情況之下,不夠精準的晶粒對準更會影響後續晶粒固定作業的困難與增加其複雜度,甚至可能增加重工的成本及工時。
有鑒於此,考慮到上述所列之諸多問題點,極需要採納多方面的考量,從而使得本領域之專業人士確實具備亟需開發一種新穎且
具有創造性之製程方法的需求,從而解決上述所揭先前技藝所存在之問題,以使得發光二極體晶粒在進行巨量轉移時其效率可獲得優化。
緣此,本發明之發明人係有感於上述缺失之可改善,且依據多年來從事此方面之相關經驗,悉心觀察且研究之,並配合學理之運用,而提出一種設計新穎且有效改善上述缺失之本發明,其係揭露一種新穎的垂直型發光二極體晶粒之接合與轉移方法,通過此等創新的晶粒接合與轉移製程方法,可實現晶粒封裝體在進行巨量轉移時的最佳化結果及效益,本申請人將提供具體之架構及實施方式,並詳述於下。
為了解決上揭諸多缺失,本發明之一目的係在於提供一種創新的晶粒封裝體之接合與轉移方法,此種接合與轉移方法係可應用於垂直型發光二極體晶粒的轉移(transfer)製程中,更可進一步地廣泛應用於巨量轉移所需,滿足相關產業進行快速且巨量轉移之技術需求。
通過採用本發明所揭露之製程步驟,不僅可應用於垂直型發光二極體晶粒的巨轉製程。然而,本發明之應用當然不限於此。本發明提供的製程步驟亦可以應用於其他各種晶粒的巨轉製程中。一旦獲悉本申請案之公開內容,其他替代性及修改的示性例對於本領域技術人員而言,將為顯而易見的,而皆隸屬於本發明之發明範圍。通過採用本發明所公開之技術方案,可有效地降低現有針對晶粒封裝體進行巨轉的製程步驟及製程成本,與此同時,亦能夠優化其中發光二極體晶粒封裝體之結構,避免破壞其結構或產生結構中的損傷。
本發明之又一目的係在於提供一種適於垂直型發光二極體晶粒封裝體的製程方法,此種製程方法主要設計目的係在於可直接針對晶粒封裝體本身進行對位、焊接、並將該晶粒封裝體轉移至目標基板
上,其中,基於本發明可直接針對封裝體結構進行操作,在結合後續發光二極體晶粒需要巨量轉移的製程時,便可省卻傳統採用覆晶接合的製程及步驟時需要額外執行的對位、以及打線等操作步驟,進而省卻其冗雜的耗費工時及操作人力等成本,可符合產業進行快速的巨量轉移需求。
根據本發明之實施例,本申請人所公開之此種晶粒封裝體的接合與轉移方法,主要包含以下步驟:首先,提供一晶粒封裝體,並在其上設置有一定位膠;另提供一振動底座,其中形成有對應該定位膠的至少一空槽,使所述的空槽係可容設該定位膠;之後,噴佈該晶粒封裝體,並且振動該振動底座,使該晶粒封裝體可藉由該定位膠與空槽之對位,從而定位並容設於該振動底座中。另一方面,本發明係提供一目標基板,其中具有複數個鑽孔,該些鑽孔係以一第一金屬材料填充,同時,該些鑽孔之上表面另塗佈有一第二金屬材料。之後,通過所述的第二金屬材料使該目標基板與具有該晶粒封裝體之振動底座接合。隨後,進行一雷射製程,以藉由該雷射製程將所述的第二金屬材料熔解,使目標基板與晶粒封裝體完成焊接。最後,將振動底座移除,並通過一除膠製程將定位膠去除,以完成將所述的晶粒封裝體接合並轉移至目標基板上。
其中,根據本發明之實施例,本發明所採用的定位膠,其材質較佳地係可選用為一UV固化型水膠。在此條件下,本發明所採用的除膠製程僅需使用一去離子水,便能夠將該UV固化型水膠進行水解,從而將其去除。在一實施例中,所執行除膠製程之製程時間例如約介於20至40分鐘之間,製程溫度約介於攝氏60至90度之間。
另一方面而言,本發明所使用的目標基板,其材質較佳地
係可選用一玻璃基板,其中,鑽孔之孔徑例如可為至少60微米,並以所述的第一金屬材料(例如可為銅),通過網印製程或電鍍製程填充於鑽孔中。所述的第二金屬材料例如可為錫,並可通過一網印製程或一噴印製程塗佈於所述的鑽孔之上表面。在此條件下,本發明所執行之雷射製程其溫度係至少須達攝氏240~265度左右,實施該雷射製程之雷射時間例如可進行為0.3秒至3秒之間,以將該焊錫(第二金屬材料)熔解,從而俾使目標基板與晶粒封裝體完成焊接。
又一方面而言,為了使晶粒封裝體上之定位膠與振動底座中的空槽可達到更精準的對位效果,在本發明之一較佳實施例中,亦可選擇性地在所使用的定位膠之外層,另包覆有一磁性材料,同時,設計對應該定位膠之空槽為帶有磁性的一磁性模穴,藉由此配置關係,本發明便能夠藉由該磁性材料與該磁性模穴之間的磁性吸引,完成更準確且精密的對位。詳細而言,在此較佳之實施例中,所採用的磁性材料,其材質較佳地例如可選為一磁粉樹脂。
緣此,依據本發明所揭露之製程步驟及轉移方法,當設計所述的振動底座中具有複數個空槽時,則本發明可順利地將為數龐大的晶粒封裝體藉由具有該等空槽的振動底座完成接合,並一次性地巨量轉移至目標基板上。由此顯見,本發明所公開之技術方案係可成功地符合現今業界欲進行快速且有效率的巨轉技術之需求,同時,亦能使得垂直型發光二極體晶粒封裝體的結構良率獲得優化。
除此之外,通過採用本發明所揭露之巨轉方法,當應用於垂直型發光二極體晶粒封裝體的轉移時,則所述的垂直型發光二極體晶粒例如可選自於由紅色、藍色與綠色之發光二極體晶粒所構成之群組,惟本發明亦不以此波段範圍(紅色、藍色、綠色)之發光二極體晶粒為
其限制。在其他實施態樣中,這些垂直型發光二極體晶粒亦可依據設定波段範圍頻帶之不同,可製作成其他色光的發光二極體晶粒,又或者是白色光(可見光)之發光二極體晶粒,以廣泛應用本發明所公開之技術方案。
由此顯見,當本領域之技術人士在理解本發明所公開之技術方案,並應用本發明所公開之晶粒封裝體的接合與轉移方法時,其係可以成功地消除先前技術中尚存之問題與缺失。因此,能夠確信的是,本發明基於能有效地降低現有巨轉製程中過高的成本與製程步驟,使本發明相較於現有技術不僅具備有高度的競爭力,並且可以在相關產業中被有效地廣泛使用。同時,本發明亦能滿足現有產業趨勢的巨轉技術需求,亦能優化其製程良率,足以可見本發明極具產業應用性與本領域之技術競爭力。
以下,茲為使 貴審查委員對本發明的結構特徵及所達成的功效更有進一步的瞭解與認識,謹佐以較佳的實施例圖及配合詳細的說明,說明如後。
12:焊線
20:載板
22R:紅色發光二極體晶粒
22B:藍色發光二極體晶粒
22G:綠色發光二極體晶粒
24:上電極
26:封裝膠
33:定位膠
44:空槽
111:滾筒
200:晶粒封裝體
400:振動底座
422:封裝體對位點
600:目標基板
601:第一金屬材料
602:第二金屬材料
LS:雷射製程
S102、S104、S106、S108、S110、S112、S114:步驟
第1圖係為根據本發明一實施例之晶粒封裝體的接合與轉移方法之步驟流程圖。
第2圖係為根據本發明一實施例之晶粒封裝體之結構示意圖。
第3圖係為依據第2圖之晶粒封裝體在其上設置有定位膠之示意圖。
第4圖係為根據本發明一實施例之具有空槽之振動底座之結構剖面示意圖。
第5圖係為根據本發明實施例當晶粒封裝體完成定位並容設於振動
底座中之示意圖。
第6圖係為根據本發明一實施例所使用之目標基板其結構剖面之示意圖。
第7圖係為根據本發明實施例當目標基板與具有晶粒封裝體之振動底座通過第二金屬材料接合後之示意圖。
第8圖係為根據本發明實施例當通過一雷射製程熔解第二金屬材料使目標基板與晶粒封裝體完成焊接後之示意圖。
第9圖係為根據本發明實施例將振動底座移除並通過除膠製程去除定位膠,以完成晶粒封裝體之接合與轉移至目標基板後之示意圖。
第10圖係為根據本發明又一實施例,當進行晶粒封裝體的巨量轉移時所使用具有複數個封裝體對位點及複數個空槽之振動底座其結構示意圖。
第11圖係為根據本發明一實施例通過使用一滾筒使複數個晶粒封裝體之亮度達到均勻化之示意圖。
本發明之實施例將藉由下文配合相關圖式進一步加以解說。盡可能的,於圖式與說明書中,相同標號係代表相同或相似構件。於圖式中,基於簡化與方便標示,形狀與厚度可能經過誇大表示。可以理解的是,未特別顯示於圖式中或描述於說明書中之元件,為所屬技術領域中具有通常技術者所知之形態。本領域之通常技術者可依據本發明之內容而進行多種之改變與修改。
除非特別說明,一些條件句或字詞,例如「可以(can)」、「可能(could)」、「也許(might)」,或「可(may)」,通常是
試圖表達本案實施例具有,但是也可以解釋成可能不需要的特徵、元件,或步驟。在其他實施例中,這些特徵、元件,或步驟可能是不需要的。
於下文中關於“一個實施例”或“一實施例”之描述係指關於至少一實施例內所相關連之一特定元件、結構或特徵。因此,於下文中多處所出現之“一個實施例”或“一實施例”之多個描述並非針對同一實施例。再者,於一或多個實施例中之特定構件、結構與特徵可依照一適當方式而結合。
在說明書及申請專利範圍中使用了某些詞彙來指稱特定的元件。然而,所屬技術領域中具有通常知識者應可理解,同樣的元件可能會用不同的名詞來稱呼。說明書及申請專利範圍並不以名稱的差異做為區分元件的方式,而是以元件在功能上的差異來做為區分的基準。在說明書及申請專利範圍所提及的「包含」為開放式的用語,故應解釋成「包含但不限定於」。另外,「耦接」在此包含任何直接及間接的連接手段。因此,若文中描述第一元件耦接於第二元件,則代表第一元件可通過電性連接或無線傳輸、光學傳輸等信號連接方式而直接地連接於第二元件,或者通過其他元件或連接手段間接地電性或信號連接至該第二元件。
揭露特別以下述例子加以描述,這些例子僅係用以舉例說明而已,因為對於熟習此技藝者而言,在不脫離本揭示內容之精神和範圍內,當可作各種之更動與潤飾,因此本揭示內容之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。在通篇說明書與申請專利範圍中,除非內容清楚指定,否則「一」以及「該」的意義包含這一類敘述包括「一或至少一」該元件或成分。此外,如本揭露所用,除非從特定上下文明
顯可見將複數個排除在外,否則單數冠詞亦包括複數個元件或成分的敘述。而且,應用在此描述中與下述之全部申請專利範圍中時,除非內容清楚指定,否則「在其中」的意思可包含「在其中」與「在其上」。在通篇說明書與申請專利範圍所使用之用詞(terms),除有特別註明,通常具有每個用詞使用在此領域中、在此揭露之內容中與特殊內容中的平常意義。某些用以描述本揭露之用詞將於下或在此說明書的別處討論,以提供從業人員(practitioner)在有關本揭露之描述上額外的引導。在通篇說明書之任何地方之例子,包含在此所討論之任何用詞之例子的使用,僅係用以舉例說明,當然不限制本揭露或任何例示用詞之範圍與意義。同樣地,本揭露並不限於此說明書中所提出之各種實施例。
在以下的段落中,本發明將提供一種適用於垂直型發光二極體晶粒之封裝體結構的接合與轉移方法,此一製程方法係可應用於現有垂直型發光二極體晶粒封裝體之巨量轉移製程中,並直接針對晶粒封裝體進行巨轉,使其巨轉效率可達優化。進一步而言,以下提供之晶粒封裝體之封裝體結構與其封裝體結構之接合與轉移方法亦可應用於其他相關技術架構中,本發明並不以下揭之實施例為限。
請參閱第1圖所示,其係公開本發明實施例之晶粒封裝體的接合與轉移方法之步驟流程圖。依據本發明所公開之製程方法,其係包含下述步驟:步驟S102:首先,提供一晶粒封裝體,並在其上設置有一定位膠。步驟S104:之後,提供一振動底座,該振動底座中係形成有對應該定位膠的至少一空槽,以通過所述之空槽容設該定位膠。步驟S106:噴佈該晶粒封裝體,並且振動該振動底座,使晶粒封裝體可藉由該定位膠與該空槽之對位,從而定位並容設於振動底座中。步驟S108:接著,另提供一目標基板,其中具有複數個鑽孔,該些鑽孔係以一第一
金屬材料填充,該些鑽孔之上表面另塗佈有一第二金屬材料。步驟S110:通過該第二金屬材料使該目標基板與具有晶粒封裝體之該振動底座接合。步驟S112:隨後,進行一雷射製程,以藉由該雷射製程熔解所述的第二金屬材料,從而使該目標基板與該晶粒封裝體完成焊接。步驟S114:最後,移除前述的振動底座,並通過一除膠製程將所使用的定位膠去除,以完成將晶粒封裝體接合並轉移至該目標基板上。
為了能使貴審查委員能較佳地理解本發明所公開之製程方法,以下之詳細說明,請一併參閱本發明第2至第10圖所示之結構及其元件符號,本發明茲提供詳細說明如下。
首先,請參閱第2圖所示,其係公開本發明一實施例之晶粒封裝體之結構示意圖,依據本發明之實施例,如圖所示,此晶粒封裝體200例如可為一種垂直型發光二極體晶粒之封裝體結構,該垂直型發光二極體晶粒例如可選自於由紅色、藍色與綠色之發光二極體晶粒所構成之群組。如圖所示,其中包含有一紅色發光二極體晶粒22R、一綠色發光二極體晶粒22G、一藍色發光二極體晶粒22B,所述的紅色發光二極體晶粒22R、綠色發光二極體晶粒22G、以及藍色發光二極體晶粒22B係各自通過一焊線12打線連接於一上電極24,一載板20係用以承載所述的紅色發光二極體晶粒22R、綠色發光二極體晶粒22G、藍色發光二極體晶粒22B及上電極24,並以一封裝膠26封裝並覆蓋於其上,形成所述的晶粒封裝體200結構。在一實施例中,載板20之材質例如可為常用的樹脂載板,封裝膠26例如可為矽膠材質或環氧樹脂。更進一步而言,為了增加對比度,該封裝膠26之材質,較佳地,亦可使用一黑色的矽膠或環氧樹脂。值得特別說明的是,本發明所舉之垂直型發光二極體晶粒並不限於由紅色(R)、藍色(B)、或綠色(G)所組成,在應用本發明
的其他實施態樣中,尚可包括非純色之發光二極體晶粒,而紅色、藍色、綠色之發光二極體晶粒之數量,或其排列樣式(如本實施例中排列呈L型、或在其他實施例中亦可排列呈直線)也不為本發明所舉之示性例為限制。本發明之發明意旨,係在於可針對所述的晶粒封裝體200之封裝體結構直接進行巨量轉移,而無須以單一晶粒進行逐一或逐次的轉移,藉由本發明所公開的技術方案實現巨量轉移的最佳化效益。因此,本發明並不以所述的晶粒封裝體200其內部結構或組件為其限制。
之後,在經過點測並確認晶粒封裝體200可正常運作後,如本發明第1圖步驟S102所示,本發明係於所述的晶粒封裝體200上設置有一定位膠,該定位膠的設置位置例如可參見本發明第3圖所示,舉例而言,本領域之技術人士可依實際需求或設計規範,使所述的定位膠33例如是形成於該晶粒封裝體200之角落,或是其他可辨識或位於晶粒封裝體200中之非對稱的位置上(例如:避開中心點的其他位置)。
之後,再如本發明第1圖步驟S104所示,本發明另提供一振動底座,請參見第4圖所示,其係公開本發明一實施例之振動底座400之剖面示意圖,該振動底座400中係形成有對應於前述定位膠33之至少一空槽(cavity)44,該空槽44之外觀及尺寸、大小、形狀等參數皆是對應所述的定位膠33而設計,使該空槽44之用途係可用以容設前述之定位膠33。
之後,再如本發明第1圖步驟S106所示,本發明接著藉由噴佈(spray)該晶粒封裝體200,並且振動所述的振動底座400,使該晶粒封裝體200可藉由其上的定位膠33與振動底座400中之空槽44二者之對位,從而完成定位並容設於振動底座400中,如本發明附圖第5圖所繪製。在此圖示中,本發明係以實心的圖樣填充空槽44,以表示定位膠
33填充並對位於該空槽44中。
另一方面而言,請同時配合參照第6圖所示,其係公開本發明一實施例所使用之目標基板,其結構剖面之示意圖。如圖所示,該目標基板600中係形成有具有複數個鑽孔(drill),該些鑽孔係以一第一金屬材料601填充,並且,該些鑽孔之上表面另塗佈有一第二金屬材料602。其中,根據本發明之實施例,所述第一金屬材料601之材質例如可為銅,並且,通過一網印製程或一電鍍製程,可使所述的金屬銅填充於該些鑽孔中。之後,可再通過一網印製程或一噴印製程,將第二金屬材料602塗佈於該些鑽孔之上表面。所述第二金屬材料602之材質例如可為錫。一般而言,目標基板600之材質可選用為玻璃基板,其中所設置鑽孔之孔徑例如可為至少60微米。惟,該等參數亦僅為本發明其中之一種實施態樣,本領域具備通常知識之人士自然可因其產品或元件所需而自行變化或修飾之,惟本發明並不以此等示性例所舉之參數為其限制。
因此,在步驟S108中,本發明係提供所述的目標基板600,並且在步驟S110中,通過該第二金屬材料602使該目標基板600能夠與具有晶粒封裝體200之振動底座400接合在一起,該完成接合後之示意圖,請參見本發明附圖第7圖所示。
之後,如第8圖所示,本發明接續進行一雷射製程LS,並且通過該雷射製程LS熔解所述的第二金屬材料602,在第二金屬材料602熔解之後,便能使目標基板600與該晶粒封裝體200完成焊接(步驟S112)。其中,根據本發明之一實施態樣,本發明所執行之雷射製程LS係為一加熱時間可達瞬間高溫的製程,大抵而言,根據本領域之通常知識及經驗,能夠使焊錫(第二金屬材料602)熔解的溫度約介於攝氏240~265度之間。而其中,針對進行該雷射製程LS的雷射時間例如可
實施為介於0.3秒至3秒之間,其目的係在於能夠使所述的焊錫(第二金屬材料602)熔解,從而使目標基板600與該晶粒封裝體200完成焊接。
之後,在完成目標基板600與晶粒封裝體200的接合焊接之後,本發明接著如第1圖中之步驟S114所示,便能將前述的振動底座400移除,並且通過一除膠製程,以將前述晶粒封裝體200上的定位膠33去除,從而完成將晶粒封裝體200接合並轉移至目標基板600上的製程,其完成接合與轉移後的示意圖,係如本發明附圖第9圖所示。
又其中,針對本發明所公開之技術方案,所述的「除膠製程」主要係依據所使用的定位膠33而決定。根據本發明之一較佳實施例,則選用的定位膠33較佳地可以是一種UV固化型水膠。當使用此種UV固化型水膠作為晶粒封裝體200上的定位膠時,「除膠製程」便可相對地簡易,舉例來說,從業人員可直接通過使用一去離子水,便能夠將該UV固化型水膠進行水解,從而將其去除。其中,除膠製程之製程時間約介於20至40分鐘之間,製程溫度約介於攝氏60至90度之間。有鑑於此,本發明即便在去除定位膠時,也無須使用到額外的溶劑或特殊的除膠設備,減少了這些化學溶劑可能對基板或晶粒封裝體本身結構所造成的損傷及破壞,同時也省去了額外除膠設備的龐大成本與繁冗程序。由此顯見,本發明可在較為簡易且不傷害目標基板或晶粒封裝體的條件下,輕易地將所述的定位膠進行去除,此乃本發明之重要發明功效之一。
又更進一步而言,在本發明之實施步驟S102~S106中,當利用定位膠33與振動底座400之空槽44對位以使晶粒封裝體200能夠順利定位並容設於振動底座400中時,本發明另可在該定位膠33之外層進一步包覆有一磁性材料,同時,設計對應該定位膠33之該空槽44為帶有磁性之一磁性模穴,藉由此等磁性吸引關係,本發明便能進一步地使
該磁性材料與振動底座400中的磁性模穴藉由磁性吸引完成晶粒封裝體200的對位。在一實施例中,所述的包覆於該晶粒封裝體200之定位膠33外層之磁性材料,其材質較佳地可為一種磁粉樹脂,此種磁粉樹脂材料即便在後續進行除膠製程時,亦可簡易地與定位膠33一併被去除,而不至於破壞晶粒封裝體表面的結構。
又更進一步而言,依據本發明所揭露之晶粒封裝體的接合與轉移方法,其係可大量地應用於晶粒封裝體200的巨量轉移,在此情況下,振動底座中係可配置有複數個所述的空槽,以用來容設這些待轉移的複數個晶粒封裝體200的定位膠。舉例而言,請配合參閱第10圖所示,其中,在此實施例中,振動底座400中係設置有複數個封裝體對位點422,每一個封裝體對位點422係用以提供一個晶粒封裝體200的對位與容設,因此,每一個封裝體對位點422中係配置有一個所述的空槽44,以利用該空槽44容納晶粒封裝體200的定位膠,通過定位膠與空槽44的對位配置關係,同時應用本發明前述所公開之製程方法,本發明便能使複數個晶粒封裝體藉由具有該些空槽44的振動底座400完成接合並巨量轉移至目標基板上,滿足業界巨量轉移之需求。
又其中,為了使晶粒封裝體(例如垂直型發光二極體晶粒封裝體)之亮度達到均勻,如本發明圖示第11圖所示,這些待轉移的晶粒封裝體200係可先放置於一滾筒111中進行滾動,從而使該些晶粒封裝體200達到均勻化,之後,續行噴佈於振動底座400完成對位。
職故,鑒於以上本申請人所提供之技術方案,可明顯觀之,本發明係旨在揭露一種適於晶粒封裝體的接合與轉移方法,基於本發明所公開之製程方法,其係可直接針對晶粒封裝體進行轉移,由於先前技術僅能針對晶粒或晶圓本身進行轉移,必須在轉移之後再針對個別
晶粒或晶圓進行封裝及打線。本發明係改良此等技術缺失,而能夠直接針對整個晶粒封裝體進行轉移,大幅降低原有製程步驟的製程成本、繁複程序、以及製程複雜度。
除此之外,依據本發明所公開之晶粒封裝體的接合與轉移方法,更能進一步地以一次性地方式大量噴佈並轉移數量龐大的複數個晶粒封裝體結構,達到快速且巨量轉移的效果,不僅能夠有效符合現今發光二極體晶粒欲進行快速巨量轉移技術之需求,亦能夠有效提升其產業生產的競爭力。在此情況之下,本發明不僅可有效改良現有技術尚存的缺失,同時滿足晶粒尺寸微縮情況下的封裝及巨轉需求,並且,更可使得垂直型發光二極體晶粒的封裝良率獲得優化,實現本發明極為顯著之發明功效。
有鑑於此,通過本申請人所公開之適於垂直型發光二極體晶粒封裝體的接合與轉移方法,其係有助於優化現有的封裝、打件、以及巨轉製程。與現有技術相較之下,可以顯而易見的是通過本發明所公開之實施例及其製程步驟,其係可有效地解決現有技術中尚存之諸多缺失,並且提供更為優秀的製程表現。並且,基於本發明所揭露之技術方案,不僅可應用於一般常見的發光二極體晶粒中,同時更可應用並廣泛及於其相關之半導體產業、積體電路產業、或電力電子等各類電子電路元件中。顯見本申請人在此案所請求之技術方案的確具有極佳之產業利用性及競爭力。同時,本發明所揭露之技術特徵、方法手段與達成之功效係顯著地不同於現行方案,實非為熟悉該項技術者能輕易完成者,而應具有專利要件。
以上所述之實施例僅係為說明本發明之技術思想及特點,其目的在使熟習此項技藝之人士能夠瞭解本發明之內容並據以實
施,當不能以之限定本發明之專利範圍,即大凡依本發明所揭示之精神所作之均等變化或修飾,仍應涵蓋在本發明之專利範圍內。
S102、S104、S106、S108、S110、S112、S114:步驟
Claims (15)
- 一種晶粒封裝體的接合與轉移方法,包括: 提供一晶粒封裝體,並在其上設置有一定位膠; 提供一振動底座,其中形成有對應該定位膠的至少一空槽,該空槽係可容設該定位膠; 噴佈該晶粒封裝體,並且振動該振動底座,使該晶粒封裝體藉由該定位膠與該空槽之對位,從而定位並容設於該振動底座中; 提供一目標基板,其中具有複數個鑽孔,該些鑽孔係以一第一金屬材料填充,該些鑽孔之上表面另塗佈有一第二金屬材料; 通過該第二金屬材料使該目標基板與具有該晶粒封裝體之該振動底座接合; 進行一雷射製程,以藉由該雷射製程熔解該第二金屬材料,使該目標基板與該晶粒封裝體完成焊接;以及 移除該振動底座,並通過一除膠製程將該定位膠去除,以完成將該晶粒封裝體接合並轉移至該目標基板上。
- 如請求項1所述之晶粒封裝體的接合與轉移方法,其中,該定位膠之材質係為一UV固化型水膠。
- 如請求項2所述之晶粒封裝體的接合與轉移方法,其中,該除膠製程係使用一去離子水以將該UV固化型水膠進行水解,從而將其去除。
- 如請求項3所述之晶粒封裝體的接合與轉移方法,其中,該除膠製程之製程時間係介於20至40分鐘之間。
- 如請求項3所述之晶粒封裝體的接合與轉移方法,其中,該除膠製程之製程溫度係介於攝氏60至90度之間。
- 如請求項1所述之晶粒封裝體的接合與轉移方法,其中,該第一金屬材料係為銅,該第一金屬材料係可通過一網印製程或一電鍍製程填充於該些鑽孔中。
- 如請求項1所述之晶粒封裝體的接合與轉移方法,其中,該第二金屬材料係為錫,該第二金屬材料係可通過一網印製程或一噴印製程塗佈於該些鑽孔之上表面。
- 如請求項1所述之晶粒封裝體的接合與轉移方法,其中,該目標基板之材質係為一玻璃基板。
- 如請求項1所述之晶粒封裝體的接合與轉移方法,其中,一該鑽孔之孔徑係至少為60微米。
- 如請求項1所述之晶粒封裝體的接合與轉移方法,其中,在設置該定位膠的步驟中,更包括:在該定位膠之外層另包覆有一磁性材料,同時,對應該定位膠之該空槽係為帶有磁性之一磁性模穴,使該磁性材料與該磁性模穴更藉由磁性吸引完成對位。
- 如請求項10所述之晶粒封裝體的接合與轉移方法,其中,包覆於該晶粒封裝體之該定位膠外層之該磁性材料,其材質係為一磁粉樹脂。
- 如請求項1所述之晶粒封裝體的接合與轉移方法,其中,該振動底座中係設置有複數個該空槽,使複數個該晶粒封裝體係藉由具有該些空槽的該振動底座完成接合並巨量轉移至該目標基板上。
- 如請求項12所述之晶粒封裝體的接合與轉移方法,其中,在噴佈複數個該晶粒封裝體的步驟中,更包括:將複數個該晶粒封裝體放置於一滾筒中進行滾動,從而使該些晶粒封裝體達到均勻化。
- 如請求項1所述之晶粒封裝體的接合與轉移方法,其中,該晶粒封裝體係為一垂直型發光二極體晶粒之封裝體結構。
- 如請求項14所述之晶粒封裝體的接合與轉移方法,其中,該垂直型發光二極體晶粒係選自於由紅色、藍色與綠色之發光二極體晶粒所構成之群組。
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW201430968A (zh) * | 2012-11-15 | 2014-08-01 | Amkor Technology Inc | 用於具有晶粒對封裝的基板第一接合的半導體裝置封裝的方法和系統 |
TW201917813A (zh) * | 2017-10-30 | 2019-05-01 | 財團法人工業技術研究院 | 晶片接合裝置、晶片接合的方法以及晶片封裝結構 |
WO2019218775A1 (zh) * | 2018-05-12 | 2019-11-21 | 汕头超声显示器技术有限公司 | 一种led阵列装置的制造方法 |
TW202215559A (zh) * | 2019-06-11 | 2022-04-16 | 美商菲絲博克科技有限公司 | 經由脈衝雷射選擇性地接合發光裝置 |
CN114420799A (zh) * | 2021-12-08 | 2022-04-29 | 深圳市思坦科技有限公司 | 基板、微型发光二极管芯片的转移方法和转移装置 |
Family Cites Families (10)
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WO2017028430A1 (zh) | 2015-08-18 | 2017-02-23 | 江苏诚睿达光电有限公司 | 一种精制光转换体贴合封装led的工艺方法及精制装备系统 |
JP2017059577A (ja) | 2015-09-14 | 2017-03-23 | 日東電工株式会社 | 封止光半導体素子および発光装置の製造方法 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW201430968A (zh) * | 2012-11-15 | 2014-08-01 | Amkor Technology Inc | 用於具有晶粒對封裝的基板第一接合的半導體裝置封裝的方法和系統 |
TW201917813A (zh) * | 2017-10-30 | 2019-05-01 | 財團法人工業技術研究院 | 晶片接合裝置、晶片接合的方法以及晶片封裝結構 |
WO2019218775A1 (zh) * | 2018-05-12 | 2019-11-21 | 汕头超声显示器技术有限公司 | 一种led阵列装置的制造方法 |
TW202215559A (zh) * | 2019-06-11 | 2022-04-16 | 美商菲絲博克科技有限公司 | 經由脈衝雷射選擇性地接合發光裝置 |
CN114420799A (zh) * | 2021-12-08 | 2022-04-29 | 深圳市思坦科技有限公司 | 基板、微型发光二极管芯片的转移方法和转移装置 |
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