TWI820462B - 強化玻璃 - Google Patents

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Abstract

一種強化玻璃，其具有表面及厚度T，且將壓縮應力設為正數、將拉伸應力設為負數且自表面起沿深度方向測定應力而獲得的應力分佈包括：於表面壓縮應力成為最大的第一波峰P1；應力自第一波峰P1起沿深度方向遞減而成為極小的第一底部B1；應力自第一底部B1起沿深度方向遞增而壓縮應力成為極大的第二波峰P2；以及拉伸應力自第二波峰P2起沿深度方向遞減而成為最小的第二底部B2；並且第一波峰P1處的壓縮應力CSmax為500 MPa以上，第二波峰P2處的壓縮應力CSp為15 MPa～250 MPa，第二波峰P2的深度DOLp為厚度T的4%～20%，第一底部B1處的應力CSb為0 MPa以上且+65 MPa以下。

Description

強化玻璃
本發明是有關於一種強化玻璃，尤其是有關於一種適合於行動電話、數位相機、個人數位助理（personal digital assistant，PDA）（行動終端）、觸控面板顯示器的蓋玻璃的強化玻璃。
行動電話（尤其是智慧型手機）、數位相機、PDA、觸控面板顯示器、大型電視、非接觸供電等裝置（device）有日益普及的傾向。於該些用途中使用進行了離子交換處理的強化玻璃。另外，近年來，於數位電子看板（digital signage）、滑鼠（mouse）、智慧型手機等的包裝零件中使用強化玻璃的情況有所增加。
強化玻璃藉由於表面具有利用離子交換處理所形成的壓縮應力層，而抑制表面的裂紋的形成及發展，可獲得高強度。認為強化玻璃的強度可藉由調整此種壓縮應力層的形成態樣而提高（例如，專利文獻1）。 [現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]國際公開第2013/088856號
[發明所欲解決之課題] 然而，關於獲得更高的耐衝擊性，仍存在改良的餘地。
本發明的目的在於提供一種與現有技術相比具有更高的耐衝擊性的強化玻璃。 [解決課題之手段]
為了解決所述課題而創造的本發明為一種具有表面及厚度T的強化玻璃，且其特徵在於，將壓縮應力設為正數、將拉伸應力設為負數且自表面起沿深度方向測定應力而獲得的應力分佈包括：於表面壓縮應力成為最大值的第一波峰；應力自第一波峰起沿深度方向遞減而成為極小值的第一底部；壓縮應力自第一底部起沿深度方向遞增而成為極大值的第二波峰；以及拉伸應力自第二波峰起沿深度方向遞減而成為最小值的第二底部；並且第一波峰處的壓縮應力為500 MPa以上，第二波峰處的壓縮應力為15 MPa～250 MPa，第二波峰存在於厚度T的4%～20%的深度處，第一底部處的應力為0 MPa以上且+65 MPa以下。本發明者等人進行努力研究，結果確認到，若為具有此種應力分佈的強化玻璃，則具有高的耐衝擊性。尤其是將第二波峰的壓縮應力（極大值）與其深度方向上的位置設為所述數值範圍的情況對於提高耐衝擊性而言重要。
於所述構成中，較佳為應力分佈在第二波峰與第二底部之間具有應力成為零的應力零點，應力零點存在於距表面為厚度T的10%～35%的深度處。若如此，則可使壓縮應力產生至深處，因此可期待耐衝擊性提高。
於所述構成中，較佳為第一底部存在於距表面為厚度T的0.5%～12%的深度處。
於所述構成中，較佳為自第一底部起至第二波峰為止的深度方向上的距離為厚度T的3%以上。
於所述構成中，較佳為第一波峰處的壓縮應力為700 MPa以上，第二波峰存在於距表面為厚度T的7.3%以深的位置。
於所述構成中，較佳為厚度T為0.3 mm～0.9 mm，於主表面及端面具有所述應力分佈。
於所述構成中，較佳為厚度T為0.45 mm以上且0.85 mm以下的範圍內，第一波峰處的壓縮應力為700 MPa以上且850 MPa以下的範圍內，第二波峰處的壓縮應力為20 MPa以上且80 MPa以下的範圍內，第二波峰存在於距表面為厚度T的7.3%以上且20%以下的深度範圍內，應力分佈在第二波峰與第二底部之間具有應力成為零的應力零點，應力零點存在於距表面為厚度T的17%以上且25%以下的深度範圍內，拉伸應力的最大絕對值為40 MPa以上且60 MPa以下的範圍內。
於所述構成中，較佳為作為玻璃組成，以質量%計而含有40%～70%的SiO2 、10%～30%的Al2 O3 、0%～10%的B2 O3 、2%～11%的Li2 O、5%～25%的Na2 O、0%～10%的K2 O、0%～6%的MgO、0%～10%的ZnO、0%～20%的P2 O5 。 [發明的效果]
根據本發明，可獲得與現有技術相比具有更高的耐衝擊性的強化玻璃。
以下，對本發明的實施形態的強化玻璃進行說明。
（第一實施形態） 如圖1所示，本發明的第一實施形態的強化玻璃1是藉由離子交換而受到化學強化的板狀的化學強化玻璃，且包括壓縮應力層2及拉伸應力層3。強化玻璃1的厚度T可任意設定，較佳為2.0 mm以下，更佳為1.8 mm以下、1.6 mm以下、1.4 mm以下、1.2 mm以下、1.0 mm以下、0.9 mm以下、0.85 mm以下，進而佳為0.8 mm以下，較佳為0.03 mm以上、0.05 mm以上、0.1 mm以上、0.15 mm以上、0.2 mm以上、0.25 mm以上、0.3 mm以上、0.35 mm以上、0.4 mm以上、0.45 mm以上、0.5 mm以上、0.6 mm以上，進而佳為0.65 mm以上。
壓縮應力層2形成於強化玻璃1的包含主表面1a及端面1b的表層部。拉伸應力層3形成於強化玻璃1的內部、即較壓縮應力層2深的位置。
強化玻璃1的應力分佈（stress profile）是將壓縮應力設為正數、將拉伸應力設為負數且自主表面1a側起沿深度方向（與主表面1a正交的方向）測定應力而獲得。以所述方式獲得的強化玻璃1的應力分佈例如如圖2所示。於圖2的曲線圖中，縱軸表示應力，橫軸表示以其中一主表面1a為基準的厚度方向上的位置（深度）。於圖2的曲線圖中，正值的應力表示壓縮應力，負值的應力表示拉伸應力。即，關於圖2的曲線圖中的應力，絕對值越大，表示應力越大。再者，圖2是為了便於理解而被誇大的概念圖，強化玻璃1的應力分佈並不限於該態樣。
強化玻璃1的應力分佈自主表面1a側起沿深度方向（與主表面1a正交的方向）依序包括第一波峰P1、第一底部B1、第二波峰P2及第二底部B2。
第一波峰P1為壓縮應力的最大值，且存在於主表面1a。第一波峰P1的壓縮應力CSmax為500 MPa以上，較佳為600 MPa～1100 MPa，更佳為600 MPa～1000 MPa、700 MPa～900 MPa、750 MPa～850 MPa。
第一底部B1處，應力自第一波峰P1起沿深度方向遞減，應力取極小值。關於第一底部B1的應力CSb，於圖2中例示出成為壓縮應力（正值）的情況，但亦存在成為拉伸應力（負值）的情況。第一底部B1的應力CSb越低，第二底部B2的拉伸應力CTmax越降低，使破損時的行為緩慢。第一底部B1的應力CSb較佳為+100 MPa以下，更佳為+90 MPa以下、+80 MPa以下、+70 MPa以下、+60 MPa以下。但是，若第一底部B1的應力CSb過低，則於強化步驟中，於表面產生裂紋，使可視性惡化。第一底部B1的應力CSb較佳為-50 MPa以上，更佳為-45 MPa以上、-40 MPa以上、-35 MPa以上、-30 MPa以上。第一底部B1的應力CSb可為0 MPa以上且+65 MPa以下，亦可為-30 MPa以上且未滿0 MPa。第一底部B1的深度DOLb較佳為厚度T的0.5%～12%，更佳為厚度T的1%～7%。
第二波峰P2處，應力自第一底部B1起沿深度方向遞增，應力取極大值。第二波峰P2的應力CSp為壓縮應力。第二波峰P2的壓縮應力CSp為15 MPa～250 MPa，較佳為15 MPa～240 MPa、15 MPa～230 MPa、15 MPa～220 MPa、15 MPa～210 MPa、15 MPa～200 MPa、15 MPa～190 MPa、15 MPa～180 MPa、15 MPa～175 MPa、15 MPa～170 MPa、15 MPa～165 MPa、15 MPa～160 MPa、18 MPa～100 MPa，更佳為20 MPa～80 MPa。第二波峰P2的深度DOLp為厚度T的4%～20%，較佳為厚度T的4%～19%、4%～18.5%、4%～18%、4%～17.5%、4%～17%，更佳為4.5%～17%、5%～17%、6%～17%、7.3%～17%、8%～15%。
自第一底部B1起至第二波峰P2為止的深度方向上的距離、即DOLp-DOLb為厚度T的3%以上，較佳為厚度T的4%以上，更佳為厚度T的5%～13%。
第二底部B2處，應力自第二波峰P2起沿深度方向遞減，取拉伸應力的最小值（絕對值為最大值）。第二底部B2的拉伸應力CTmax的絕對值為70 MPa以下，較佳為65 MPa以下、60 MPa以下，更佳為40 MPa～55 MPa。
第二底部B2的拉伸應力CTmax與厚度T的乘積較佳為-70 MPa·mm以上，更佳為-65 MPa·mm以上、-60 MPa·mm以上、-55 MPa·mm以上。另外，第二底部B2的拉伸應力CTmax與厚度T的乘積較佳為-5 MPa·mm以下、-10 MPa·mm以下、-15 MPa·mm以下、-20 MPa·mm以下、-25 MPa·mm以下、-30 MPa·mm以下。
在第二波峰P2與第二底部B2之間，存在應力成為零的應力零點Z。通常，應力零點Z的深度DOLzero難以超過厚度T的20%，於物理方面，22%左右亦為極限，但本實施形態中，可獲得超過該極限值的DOLzero。應力零點Z的深度DOLzero越大，相對於突起物貫入的強度越高，較佳為厚度T的10%以上、10.5%以上、11%以上、11.5%以上、12%以上、12.5%以上、13%以上、13.5%以上、14%以上、14.5%以上、15%以上、15.5%以上、16%以上、16.5%以上、17%以上、17.5%以上、18%以上，更佳為18.5%以上、19%以上、19.5%以上、20%以上、20.5%以上、21%以上、21.5%以上、22.0%以上、22.5%以上、23%以上、23.5%以上，最佳為24%以上。但是，若應力零點Z的深度DOLzero過剩地變大，則有於第一底部B1或第二底部B2產生過剩的拉伸應力之虞。因此，應力零點Z的深度DOLzero較佳為厚度T的35%以下、34.5%以下、34%以下、33.5%以下、33%以下、32.5%以下、32%以下、31.5%以下、31%以下、30.5%以下、30%以下、29.5%以下、29%以下、28.5%以下、28%以下，更佳為27%以下。
此處，本實施形態中，強化玻璃1於端面1b亦具有相同的應力分佈。即，強化玻璃1的應力分佈包括：於端面1b壓縮應力成為最大值的第一波峰；應力自第一波峰起沿深度方向遞減而成為極小值的第一底部；壓縮應力自第一底部起沿深度方向遞增而成為極大值的第二波峰；以及拉伸應力自第二波峰起沿深度方向遞減而成為最小值的第二底部；並且第一波峰處的壓縮應力為500 MPa以上，第二波峰處的壓縮應力為15 MPa～250 MPa，第二波峰存在於厚度T的4%～20%的深度處。另外，與端面1b相關的應力分佈的較佳範圍亦可同樣應用與主表面1a相關的應力分佈的較佳範圍。
另外，強化玻璃1的應力及其分佈例如可使用利用折原製作所股份有限公司製造的FSM-6000LE及SLP-1000進行測定及合成而得的值。
以所述方式構成的強化玻璃1例如可利用以下要點來製造。首先，作為準備步驟，準備包含鹼金屬氧化物作為組成並供於強化處理的板狀玻璃（以下，稱為強化用玻璃）。繼而，依序實施使第一熔融鹽與強化用玻璃的表面接觸的第一離子交換步驟（第一強化步驟）、使第二熔融鹽與強化用玻璃的表面接觸的第二離子交換步驟（緩和步驟）、使第三熔融鹽與強化用玻璃的表面接觸的第三離子交換步驟（第二強化步驟）。各離子交換步驟中，較佳將強化用玻璃浸漬於熔融鹽中。
準備步驟中所準備的強化用玻璃較佳為例如作為玻璃組成，以質量%計而含有40%～70%的SiO2 、10%～30%的Al2 O3 、0%～3%的B2 O3 、5%～25%的Na2 O、0%～5.5%的K2 O、0%～10%的Li2 O、0%～5.5%的MgO、2%～10%的P2 O5 。
以下示出所述組成較佳的理由。再者，於各成分的含有範圍的說明中，只要無特別說明，則%表達是指質量%。
SiO2 為形成玻璃的網狀結構的成分。若SiO2 的含量過少，則難以玻璃化，且耐酸性容易降低。因此，SiO2 的較佳的下限範圍為40%以上、40.5%以上、41%以上、41.5%以上、42%以上、42.5%以上、43%以上、44%以上、45%以上、46%以上、47%以上、48%以上、49%以上、尤其是50%以上。另一方面，若SiO2 的含量過多，則熔融性或成形性容易降低，且熱膨脹係數變得過低而難以與周邊材料的熱膨脹係數匹配。因此，SiO2 的較佳的上限範圍為70%以下、68%以下、65%以下、62%以下、60%以下、58%以下、57%以下、56%以下、55%以下、尤其是54%以下。
Al2 O3 為提高離子交換速度的成分，且是提高楊氏模量並提高維氏硬度的成分。進而，為提高分相產生黏度的成分。Al2 O3 的含量為10%～30%。若Al2 O3 的含量過少，則離子交換速度或楊氏模量容易降低。因此，Al2 O3 的較佳的下限範圍為10%以上、11%以上、12%以上、13%以上、14%以上、14.5%以上、15%以上、15.5%以上、16%以上、16.5%以上、17%以上、17.5%以上、18%以上、18.5%以上、19%以上、尤其是19.5%以上。另一方面，若Al2 O3 的含量過多，則於玻璃中容易析出失透結晶而難以利用溢流下拉法等進行板狀成形。尤其於使用氧化鋁耐火材料作為成形體耐火材料並利用溢流下拉法進行板狀成形的情況下，於與氧化鋁耐火材料的界面容易析出尖晶石的失透結晶。另外，耐酸性亦降低，難以應用於酸處理步驟。進而，高溫黏性變高，熔融性容易降低。因此，Al2 O3 的較佳的上限範圍為30%以下、28%以下、26%以下、25%以下、24%以下、23.5%以下、23%以下、22.5%以下、22%以下、21.5%以下、尤其是21%以下。
B2 O3 為使高溫黏度或密度降低，並且提高耐失透性的成分。但是，若B2 O3 的含量過多，則離子交換速度（尤其是應力深度）容易降低。另外，因離子交換而產生被稱為泛黃的玻璃表面的著色，或者耐酸性或耐水性容易降低。因此，B2 O3 的較佳的範圍為0%～3%、0%～2.5%、0%～2%、0%～1.9%、0%～1.8%、0%～1.7%、0%～1.6%、0%～1.5%、0%～1.3%、尤其是0%～未滿1%。
Na2 O為離子交換成分，且是使高溫黏度降低並提高熔融性或成形性的成分。另外，Na2 O亦為改善耐失透性、與成形體耐火材料、尤其是氧化鋁耐火材料的反應失透性的成分。若Na2 O的含量過少，則熔融性降低，或熱膨脹係數過度降低，或離子交換速度容易降低。因此，Na2 O的較佳的下限範圍為5%以上、7%以上、8%以上、8.5%以上、9%以上、9.5%以上、10%以上、11%以上、12%以上、尤其是12.5%以上。另一方面，若Na2 O的含量過多，則分相產生黏度容易降低。另外，存在耐酸性降低，或缺乏玻璃組成的成分平衡，反而耐失透性降低的情況。因此，Na2 O的較佳的上限範圍為25%以下、22%以下、20%以下、19.5%以下、19%以下、18%以下、17%以下、16.5%以下、16%以下、15.5%以下、尤其是15%以下。
K2 O為使高溫黏度降低並提高熔融性或成形性的成分。進而，亦為改善耐失透性或提高維氏硬度的成分。但是，若K2 O的含量過多，則分相產生黏度容易降低。另外，有耐酸性降低，或缺乏玻璃組成的成分平衡，反而耐失透性降低的傾向。因此，K2 O的較佳的下限範圍為0%以上、0.01%以上、0.02%以上、0.1%以上、0.5%以上、1%以上、1.5%以上、2%以上、2.5%以上、3%以上、尤其是3.5%以上，較佳的上限範圍為5.5%以下、5%以下、尤其是未滿4.5%。
Li2 O為離子交換成分，且是使高溫黏度降低並提高熔融性或成形性的成分。進而，為提高楊氏模量的成分。Li2 O的較佳的下限範圍為0%以上、0.0001%以上、0.01%以上、1%以上、2%以上、2.5%以上、2.8%以上，Li2 O的較佳的上限範圍為10%以下、5%以下、4.5%以下、2%以下、1%以下、未滿1%、0.5%以下、0.3%以下、0.1%以下、0.05%以下。
MgO為使高溫黏度降低並提高熔融性或成形性的成分。另外，亦為提高楊氏模量並提高維氏硬度，或提高耐酸性的成分。因此，MgO的較佳的下限範圍為0%以上、0.1%以上、0.5%以上、1%以上、1.5%以上、尤其是2%以上。但是，若MgO的含量過多，則有離子交換速度容易降低，且玻璃容易失透的傾向。尤其於使用氧化鋁耐火材料作為成形體耐火材料並利用溢流下拉法進行板狀成形的情況下，於與氧化鋁耐火材料的界面容易析出尖晶石的失透結晶。因此，MgO的較佳的上限範圍為5.5%以下、4.5%以下、4%以下、3.5%以下、3%以下、尤其是2.5%以下。
P2 O5 為維持壓縮應力值且提高離子交換速度的成分。因此，P2 O5 的較佳的下限範圍為2%以上、2.1%以上、2.5%以上、3%以上、4%以上、尤其是4.5%以上。但是，若P2 O5 的含量過多，則於玻璃中因分相而產生白濁，或耐水性容易降低。因此，P2 O5 的較佳的上限範圍為10%以下、8.5%以下、8%以下、7.5%以下、7%以下、6.5%以下、6.3%以下、6%以下、5.9%以下、5.7%以下、5.5%以下、5.3%以下、5.1%以下、尤其是5%以下。
作為澄清劑，可添加0%～3%的選自Cl、SO3 、CeO2 的群組（較佳為Cl、SO3 的群組）中的一種或兩種以上。
SnO2 具有提高離子交換性能的效果。因此，SnO2 的含量較佳為0%～3%、0.01%～3%、0.05%～3%、尤其是0.1%～3%、尤其是0.2%～3%。
Fe2 O3 的含量較佳為未滿1000 ppm（未滿0.1%）、未滿800 ppm、未滿600 ppm、未滿400 ppm、尤其是未滿300 ppm。若如此，則厚度1 mm的透過率（400 nm～770 nm）容易提高。
Nb2 O5 、La2 O3 等稀土類氧化物為提高楊氏模量的成分。但是，原料自身的成本高，且若大量添加，則耐失透性容易降低。因此，稀土類氧化物的含量較佳為3%以下、2%以下、1%以下、0.5%以下、尤其是0.1%以下。
另外，關於所述強化用玻璃，就環境方面考慮，作為玻璃組成，較佳為實質不含As2 O3 、Sb2 O3 、PbO。另外，就環境方面考慮，亦較佳為實質不含Bi2 O3 、F。
強化用玻璃更佳為作為玻璃組成，以質量%計而含有40%～70%的SiO2 、10%～30%的Al2 O3 、0.1%～3%的B2 O3 、5%～25%的Na2 O、1%～5.5%的K2 O、0.01%～10%的Li2 O、0.1%～5.5%的MgO、2%～10%的P2 O5 、0.01%～3%的SnO2 。
再者，所述強化用玻璃的組成為一例，若可進行利用離子交換的化學強化，則可使用具有周知的組成的強化用玻璃。另外，對所述強化用玻璃進行離子交換處理而獲得的強化玻璃的組成為與離子交換處理前的強化用玻璃的組成相同的組成。
所述強化用玻璃可以如下方式來製作。
首先，將以成為所述玻璃組成的方式調配而成的玻璃原料投入至連續熔融爐中，於1500℃～1600℃下進行加熱熔融，澄清後，供給至成形裝置並成形為板狀等，進行緩冷，藉此可製作強化用玻璃。
作為成形玻璃板的方法，較佳為採用溢流下拉法。溢流下拉法是可大量製作高品質的玻璃板，並且亦可容易製作大型的玻璃板的方法，且能夠盡可能地減低玻璃板的表面的傷痕。再者，溢流下拉法中，使用氧化鋁或緻密鋯石作為成形體。本發明的強化用玻璃與氧化鋁或緻密鋯石、尤其是氧化鋁的相容性良好（與成形體反應而難以生成氣泡或渣子等）。
除溢流下拉法以外，亦可採用各種成形方法。例如可採用浮動（float）法、下拉法（流孔下引（slot down）法、再拉（redraw）法等）、滾壓（roll out）法、壓製法等成形方法。
亦可於成形強化用玻璃後，或者與成形同時視需要進行彎曲加工。另外，亦可視需要進行切斷加工、開孔加工、表面研磨加工、倒角加工、端面研磨加工、蝕刻加工等加工。
強化用玻璃的尺寸可任意設定，但厚度T較佳為2.0 mm以下，更佳為1.0 mm以下，進而佳為0.3 mm～0.9 mm。
對以所述方式獲得的強化用玻璃進行多次離子交換處理。本實施形態中，以實施三次離子交換處理的情況為一例進行說明。詳細而言，本實施形態的強化玻璃的製造方法中，如圖3所示，依序實施第一離子交換步驟S1、第二離子交換步驟S2、第三離子交換步驟S3。再者，雖省略圖式，但以下針對各步驟S1～步驟S3中所使用的熔融鹽或鹼金屬離子，亦標注符號，以便將它們加以區分。
第一離子交換步驟S1中，將強化用玻璃浸漬於充滿有第一熔融鹽的處理槽中，並且於規定溫度下保持規定時間，藉此進行強化用玻璃的表面的離子交換處理，所述第一熔融鹽包含離子半徑大於強化用玻璃中所含的第一鹼金屬離子a1的第二鹼金屬離子a2。藉此，使強化用玻璃中所含的第一鹼金屬離子a1與第一熔融鹽m1中所含的第二鹼金屬離子a2進行離子交換，自強化用玻璃的表面（本實施形態中為主表面及端面）起至厚度T的10.5%以上的深度為止導入第二鹼金屬離子a2。其結果，於強化用玻璃的表層部形成壓縮應力層而將強化用玻璃加以強化。
第一離子交換步驟S1中，第一鹼金屬離子a1成為自強化用玻璃脫離的脫離離子，第二鹼金屬離子a2成為導入至強化用玻璃中的導入離子。
於第一離子交換步驟S1中，於強化用玻璃中導入第二鹼金屬離子a2的區域較佳為自強化用玻璃的表面起至厚度T的12%以上的深度為止的區域，更佳為自強化用玻璃的表面起至厚度T的13.5%以上且30%以下的深度為止的區域。
第一熔融鹽m1是將預先包含於強化用玻璃的組成中且於離子交換中脫離的第一鹼金屬離子a1的硝酸鹽與藉由離子交換而導入至強化用玻璃中的第二鹼金屬離子a2的硝酸鹽的混合鹽作為主成分來構成。本實施形態中，對第一鹼金屬離子a1為Na離子、第二鹼金屬離子a2為K離子的情況進行說明。即，於本實施形態中，第一熔融鹽m1為以NaNO3 及KNO3 為主成分的混合鹽。再者，第一熔融鹽m1並不限定於此，例如亦可為僅包含KNO3 的熔融鹽。
KNO3 於第一熔融鹽m1中所佔的濃度較佳為高於NaNO3 於第一熔融鹽m1中所佔的濃度。具體而言，NaNO3 的濃度較佳為未滿50質量%，更佳為5質量%～40質量%。KNO3 的濃度較佳為50質量%以上，更佳為60質量%～95質量%。
第二離子交換步驟S2中，將經過了第一離子交換步驟S1的強化用玻璃浸漬於充滿有第二熔融鹽m2的處理槽中，並且於規定溫度下保持規定時間，藉此進行強化用玻璃的表面的離子交換處理，所述第二熔融鹽m2包含第一鹼金屬離子a1。藉此，使強化用玻璃中所含的第二鹼金屬離子a2與第二熔融鹽m2中所含的第一鹼金屬離子a1進行離子交換，使自強化用玻璃的表面（本實施形態中為主表面及端面）起至較厚度T的10%淺的區域為止的第二鹼金屬離子a2的至少一部分自強化用玻璃脫離。其結果，形成於強化用玻璃上的壓縮應力層的壓縮應力變小。另一方面，壓縮應力層的形成區域擴大至強化用玻璃的深處。
第二離子交換步驟S2中，第二鹼金屬離子a2成為自強化用玻璃脫離的脫離離子，第一鹼金屬離子a1成為導入至強化用玻璃中的導入離子。
於第二離子交換步驟S2中，自強化用玻璃脫離第二鹼金屬離子a2的區域較佳為自強化用玻璃的表面起至厚度T的9%以下的深度為止的區域，更佳為自強化用玻璃的表面起至厚度T的4%以上且8%以下的深度為止的區域。
第二熔融鹽m2是將預先包含於強化用玻璃的組成中且於離子交換中脫離的第二鹼金屬離子a2的硝酸鹽與藉由離子交換而導入至強化用玻璃中的第一鹼金屬離子a1的硝酸鹽的混合鹽作為主成分來構成。即，於本實施形態中，第二熔融鹽m2為以NaNO3 及KNO3 為主成分的混合鹽。再者，第二熔融鹽m2並不限定於此，例如亦可為僅包含NaNO3 的熔融鹽。
NaNO3 於第二熔融鹽m2中所佔的濃度較佳為高於KNO3 於第二熔融鹽m2中所佔的濃度。具體而言，NaNO3 的濃度較佳為60質量%以上，更佳為70質量%～95質量%。KNO3 的濃度較佳為40質量%以下，更佳為5質量%～30質量%。
第三離子交換步驟S3中，將經過了第二離子交換步驟S2的強化用玻璃浸漬於充滿有第三熔融鹽m3的處理槽中，並且於規定溫度下保持規定時間，藉此進行強化用玻璃的表面的離子交換處理，所述第三熔融鹽m3包含第二鹼金屬離子a2。藉此，使強化用玻璃中所含的第一鹼金屬離子a1與第一熔融鹽m1中所含的第二鹼金屬離子a2進行離子交換，自強化用玻璃的表面（本實施形態中為主表面及端面）起至較厚度T的7%淺的區域為止導入第二鹼金屬離子a2。其結果，再次將強化用玻璃強化，可於表層部中的表面附近形成具有高壓縮應力的壓縮應力層2。此時，壓縮應力層2維持為擴大至某種程度深處的狀態。
第三離子交換步驟S3中，第一鹼金屬離子a1成為自強化用玻璃脫離的脫離離子，第二鹼金屬離子a2成為導入至強化用玻璃中的導入離子。
於第三離子交換步驟S3中，於強化用玻璃中導入第二鹼金屬離子a2的區域較佳為自強化用玻璃的表面起至厚度T的6%以下的深度為止的區域，更佳為自強化用玻璃的表面起至厚度T的1%以上且5%以下的深度為止的區域。
KNO3 於第三熔融鹽m3中所佔的濃度較佳為高於NaNO3 於第三熔融鹽m3中所佔的濃度。
NaNO3 於第三熔融鹽m3中所佔的濃度較佳為低於NaNO3 於第一熔融鹽m1中所佔的濃度。具體而言，第三熔融鹽m3的NaNO3 的濃度較佳為10質量%以下，更佳為0質量%～5質量%，進而佳為0.1質量%～5質量%。
KNO3 於第三熔融鹽m3中所佔的濃度較佳為高於KNO3 於第一熔融鹽m1中所佔的濃度。具體而言，KNO3 於第三熔融鹽m3中所佔的濃度較佳為90質量%以上，更佳為95質量%～100質量%，進而佳為95質量%～99.5質量%。
於本實施形態中，第三熔融鹽m3為僅包含KNO3 的熔融鹽，但並不限定於此，例如亦可為以NaNO3 及KNO3 為主成分的混合鹽。
第三熔融鹽m3中的離子半徑小的鹼金屬離子（例如，Li離子、Na離子、尤其是Na離子）的含有比例較佳為少於第1熔融鹽m1中的離子半徑小的鹼金屬離子的含有比例。藉此，較深地形成應力深度且容易提高最表面的大的鹼金屬離子的濃度。再者，鹼金屬離子的大小為Li離子＜Na離子＜K離子（鉀離子）＜Ce離子＜Rb離子的關係。
第一離子交換步驟S1的離子交換處理溫度及第二離子交換步驟S2的離子交換處理溫度較佳為高於第三離子交換步驟S3的離子交換處理溫度。再者，離子交換處理溫度是指熔融鹽的溫度。
具體而言，第一離子交換步驟S1及第二離子交換步驟S2的離子交換處理溫度較佳為420℃以上，更佳為430℃以上，進而佳為440℃～500℃。再者，第一離子交換步驟S1的離子交換處理溫度較佳為高於第二離子交換步驟S2的離子交換處理溫度。第一離子交換步驟S1及第二離子交換步驟S2的離子交換處理溫度的差較佳為5℃以上，更佳為5℃～50℃。第一離子交換步驟S1的離子交換處理溫度更佳為440℃～未滿490℃，進而佳為450℃～470℃。第二離子交換步驟S2的離子交換處理溫度更佳為400℃～480℃，進而佳為420℃～460℃。
第三離子交換步驟S3的離子交換處理溫度較佳為較第一離子交換步驟S1的離子交換溫度低10℃以上、20℃以上、30℃以上、尤其是50℃以上。具體而言，第三離子交換步驟S3的離子交換處理溫度較佳為350℃～未滿410℃、360℃～未滿400℃、尤其是380℃～未滿400℃。
第一離子交換步驟S1及第二離子交換步驟S2的離子交換處理時間較佳為較第三離子交換步驟S3的離子交換處理時間長3倍以上，更佳為5倍以上，進而佳為10倍～200倍。
第一離子交換步驟S1及第二離子交換步驟S2的離子交換處理時間較佳為2小時以上，更佳為3小時以上，進而佳為4小時～20小時。藉由延長第一離子交換步驟S1及第二離子交換步驟S2的離子交換處理時間，可較深地形成壓縮應力層，因此較佳為於不使生產性降低的範圍內延長該處理時間。再者，第一離子交換步驟S1的離子交換處理時間較佳為長於第二離子交換步驟S2的離子交換處理時間。第一離子交換步驟S1及第二離子交換步驟S2的離子交換處理時間的差較佳為2小時以上，更佳為3小時～7小時。
第三離子交換步驟S3的離子交換處理時間較佳為2小時以下，更佳為3小時以下、0.2小時～2小時、0.3小時～1小時、0.3小時～0.5小時。藉由將離子交換處理的合計時間控制得短，容易將拉伸應力層3中的拉伸應力控制為小值。
於各離子交換步驟S1～離子交換步驟S3中，浸漬於熔融鹽中的強化用玻璃可預先預熱至各離子交換步驟的離子交換處理中的熔融鹽的溫度，亦可於常溫（例如，1℃～40℃）的狀態下浸漬於各熔融鹽中。
較佳為在第一離子交換步驟S1與第二離子交換步驟S2之間及/或第二離子交換步驟S2與第三離子交換步驟S3之間設置對自熔融鹽抽出的強化用玻璃進行清洗的清洗步驟。藉由進行清洗而容易除去附著於強化用玻璃上的附著物，於第二離子交換步驟S2或第三離子交換步驟S3中，可更均勻地進行離子交換處理。
藉由於以上說明的第一離子交換步驟S1～第三離子交換步驟S3的條件範圍內適宜調整處理時間或處理溫度，可獲得具有所述特性的強化玻璃1。
再者，亦可於所述第三離子交換步驟S3後，進行切斷加工、開孔加工、表面研磨加工、倒角加工、端面研磨加工、蝕刻加工、成膜加工等各種加工。
另外，所述實施形態中，對進行包括兩次強化步驟及一次緩和步驟的第一離子交換步驟～第三離子交換步驟的例子進行了說明，但亦可實施包括至少兩次強化步驟的兩次或四次以上的離子交換步驟。
（第二實施形態） 所述第一實施形態中，例示了藉由三次離子交換處理來獲得強化玻璃1的方法，但第二實施形態中，例示藉由兩次離子交換處理來獲得強化玻璃1的方法。詳細而言，關於本實施形態的強化玻璃的製造方法，如圖4所示，依序實施第一離子交換步驟T1、第二離子交換步驟T2。再者，雖省略圖式，但以下針對各步驟T1～步驟T2中所使用的熔融鹽或鹼金屬離子，亦標注符號，以便將它們加以區分。
第一離子交換步驟T1中，將強化用玻璃浸漬於充滿有第一熔融鹽n1的處理槽中，並且於規定溫度下保持規定時間，藉此進行強化用玻璃的表面的離子交換處理，所述第一熔融鹽n1包含離子半徑大於強化用玻璃中所含的第一鹼金屬離子b1的第二鹼金屬離子b2。藉此，使強化用玻璃中所含的第一鹼金屬離子b1與第一熔融鹽n1中所含的第二鹼金屬離子b2進行離子交換，將第二鹼金屬離子b2導入至強化用玻璃的表面（本實施形態中為主表面及端面）附近。其結果，於強化用玻璃的表層部形成壓縮應力層而將強化用玻璃強化。
第一離子交換步驟T1中，第一鹼金屬離子b1成為自強化用玻璃脫離的脫離離子，第二鹼金屬離子b2成為導入至強化用玻璃中的導入離子。
於第一離子交換步驟T1中，於強化用玻璃中導入第二鹼金屬離子b2的區域較佳為自強化用玻璃的表面起至厚度T的10%以上的深度為止的區域，更佳為自強化用玻璃的表面起至厚度T的12%以上、14%以上、15%以上、15%以上且40%以下的深度為止的區域。
第二離子交換步驟T2中，將強化用玻璃浸漬於充滿有第二熔融鹽n2的處理槽中，並且於規定溫度下保持規定時間，藉此進行強化用玻璃的表面的離子交換處理，所述第二熔融鹽n2包含離子半徑大於強化用玻璃中所含的第二鹼金屬離子b2的第三鹼金屬離子b3與第一鹼金屬離子b1。藉此，使第一鹼金屬離子b1與強化用玻璃中所含的第二鹼金屬離子b2進行反離子交換，使第二鹼金屬離子b2的至少一部分自強化用玻璃脫離。與此同時，使第三鹼金屬離子b3與強化用玻璃中所含的第一鹼金屬離子b1或第二鹼金屬離子b2進行離子交換，自表面起至較厚度T的7%淺的區域為止將第三鹼金屬離子b3導入至強化玻璃中。即，藉由反離子交換而將於強化用玻璃的表層部中所形成的壓縮應力緩和，並且藉由離子交換而將強化用玻璃強化，僅於表層部中的表面附近形成高的壓縮應力。
於第二離子交換步驟T2中，自強化用玻璃脫離第二鹼金屬離子b2的區域較佳為自強化用玻璃的表面起至厚度T的15%以下的深度為止的區域，更佳為自強化用玻璃的表面起至厚度T的14%以下、13%以下、12%以下、11%以下、10%以下、1%以上且10%以下、2%以上且10%以下、3%以上且10%以下、4%以上且10%以下、5%以上且10%以下的深度為止的區域。另外，於第二離子交換步驟T2中，於強化用玻璃中導入第三鹼金屬離子b3的區域較佳為自強化用玻璃的表面起至厚度T的7%以下的深度為止的區域，更佳為自強化用玻璃的表面起至厚度T的6.5%以下、6%以下、5.5%以下、5%以下的深度為止的區域。
藉由於以上說明的第一離子交換步驟T1～第二離子交換步驟T2的條件範圍內適宜調整處理時間或處理溫度，可獲得具有所述特性的強化玻璃1。
此處，於第二離子交換步驟T2中，所述反離子交換的速度大於所述離子交換的速度，因此表層部的壓縮應力的緩和先進行至深處，其後，於表面再次形成壓縮應力，因此於所製造的強化玻璃1的應力分佈中，容易形成如圖2所示的第一底部B1。
再者，亦可於所述第二離子交換步驟T2後，進行切斷加工、開孔加工、表面研磨加工、倒角加工、端面研磨加工、蝕刻加工、成膜加工等各種加工。
於第二實施形態中，第一鹼金屬離子b1較佳為Li離子，第二鹼金屬離子b2較佳為Na離子，第三鹼金屬離子b3較佳為K離子。
尤其是於強化用玻璃為以質量%計而含有2%以上的Li2 O、5%以上的Na2 O的鋰鋁矽酸鹽玻璃的情況下，作為第一熔融鹽n1，可使用僅包含NaNO3 的熔融鹽或以NaNO3 及KNO3 為主成分的混合鹽。再者，第一熔融鹽n1亦可包含LiNO3 。於該情況下，強化用玻璃的Li2 O的含量較佳為2.5質量%～5.0質量%，更佳為2.8質量%～4.5質量%。
於第二實施形態中，強化用玻璃較佳為作為玻璃組成，以質量%計而含有48%～60%的SiO2 、21%～29%的Al2 O3 、0%～10%的B2 O3 、2%～11%的Li2 O、5%～20%的Na2 O、0%～10%的K2 O、0%～6%的MgO、0%～10%的ZnO、0%～20%的P2 O5 。
第二實施形態中，第一離子交換步驟T1中所使用的第一熔融鹽n1較佳為NaNO3 及KNO3 的混合鹽。若於第一熔融鹽n1中包含K離子，則於第一離子交換步驟T1後，容易測定強化用玻璃的應力及其分佈，因此適於所獲得的強化玻璃的品質管理。NaNO3 於第一熔融鹽n1中所佔的濃度以質量%計較佳為100%～20%、100%～30%、100%～40%、100%～50%、100%～60%，剩餘部分較佳為KNO3 。NaNO3 於第一熔融鹽n1中所佔的濃度較佳為高於KNO3 於第一熔融鹽n1中所佔的濃度。再者，第一熔融鹽n1亦可設為僅包含NaNO3 而不含KNO3 的構成。第一離子交換步驟T1的離子交換處理溫度較佳為350℃～480℃，更佳為360℃～430℃，進而佳為370℃～400℃、370℃～390℃。第一離子交換步驟T1的離子交換處理時間較佳為1小時～20小時，更佳為1.5小時～15小時，進而佳為2小時～10小時。
第二實施形態中，第二離子交換步驟T2中所使用的第二熔融鹽n2較佳為LiNO3 及KNO3 的混合鹽。LiNO3 於第二熔融鹽n2中所佔的濃度較佳為低於KNO3 於第二熔融鹽n2中所佔的濃度。詳細而言，LiNO3 於第二熔融鹽n2中所佔的濃度以質量%計較佳為0.1%～5%、0.2%～5%、0.3%～5%、0.4%～5%、0.5%～5%、0.5%～4%、0.5%～3%、0.5%～2.5%、0.5%～2%、1%～2%，剩餘部分較佳為KNO3 。另外，第二熔融鹽中所含的Li離子的濃度較佳為100質量ppm以上。此時，Li離子於第二熔融鹽n2中所佔的濃度是藉由將以質量%表示的LiNO3 乘以0.101而求出。第二離子交換步驟T2的離子交換處理溫度較佳為350℃～480℃，更佳為360℃～430℃，進而佳為370℃～400℃、370℃～390℃。第二離子交換步驟T2的離子交換處理時間較佳為短於第一離子交換步驟T1的離子交換處理時間。第二離子交換步驟T2的離子交換處理時間較佳為0.2小時以上，更佳為0.3小時～2小時、0.4小時～1.5小時，進而佳為0.5小時～1小時。
以上，對本發明的實施形態進行了說明，但本發明當然並不限定於該形態，可於本發明的範圍內採取各種形態。
例如，所述第一實施形態及第二實施形態中，示出了強化玻璃1於表背的主表面1a的兩側及端面1b側具備壓縮應力層2的例子，但亦可僅於其中一主表面1a側具備壓縮應力層2等僅於強化玻璃1的表層部的一部分具備壓縮應力層2。作為僅於強化玻璃1的表層部的一部分形成壓縮應力層2的方法，例如可列舉如下方法：於強化用玻璃中的未形成壓縮應力層的區域預先形成抑制離子交換處理中的導入離子的透過的抑制膜（例如，SiO2 膜），對除抑制膜以外的部分局部實施離子交換處理。
另外，於所述實施形態中，強化玻璃1為平坦的板狀，但本發明中的板狀概念亦包括具有曲面的彎曲板狀的形態。 [實施例]
以下，基於實施例對本發明的強化玻璃進行說明。再者，以下實施例僅為例示，本發明並不受以下實施例的任何限定。
以如下方式製作試樣。首先，準備作為玻璃組成的表1～表2所示的組成A～組成T的強化用玻璃。
[表1]
  玻璃 A B C D E F G H I J
wt% SiO2 53.59 61.69 58.2 58.9 57.2 56.6 54.7 54.5 54.0 53.4
Al2 O3 20 18 27.4 27.7 27.5 28.7 26.8 23.2 22.5 25.0
B2 O3 0.5 0.5   0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1
Li2 O 0.01 0.01 2.9 3.8 3.8 3.3 2.8 3.4 3.5 3.5
Na2 O 13.7 14.6 10.4 7.6 8.5 8.4 8.1 6.4 7.1 6.4
K2 O 4.4 2.0   1.8 1.8 1.8 1.2 3.5 2.1 3.5
MgO 2.1 3.0           1.4 1.2 2.1
ZnO                    
P2 O5     1.0   1.0 1.0 6.3 7.3 9.4 5.9
SnO2 0.3 0.3 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1
[表2]
  玻璃 K L M N O P Q R S T
wt% SiO2 53.2 54.2 53.4 53.7 52.9 52.1 54.9 56.3 57.0 51.5
Al2 O3 22.4 22.6 22.5 22.4 22.3 24.4 23.4 24.0 25.2 27.9
B2 O3 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1     0.3
Li2 O 3.5 4.0 4.0 3.1 3.0 4.1 3.8 2.8 3.6 3.3
Na2 O 7.1 6.2 6.2 8.0 7.9 6.2 6.0 10.2 7.5 7.5
K2 O 2.1 2.1 2.1 2.1 2.1 1.0 3.5   0.7 0.6
MgO 1.2 1.2 1.2 1.2 1.2 2.4 1.4   0.2 0.3
ZnO               1.4    
P2 O5 10.4 9.4 10.4 9.4 10.3 9.5 6.8 5.2 5.7 8.4
SnO2 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1
按組成調配玻璃原料，使用鉑罐（pot）於1600℃下熔融21小時。其後，使用溢流下拉法將所獲得的熔融玻璃自耐火材料成形體流下成形，從而成形為表3～表18中記載的規定厚度的板狀。
繼而，於表3～表18所示的條件下將所述強化用玻璃浸漬於熔融鹽浴中而進行離子交換處理，藉此獲得板狀的強化玻璃。關於熔融鹽浴，有NaNO3 /KNO3 標記的步驟中，向KNO3 熔融鹽中添加NaNO3 熔融鹽來進行調整，以使熔融鹽中的NaNO3 與KNO3 的重量濃度比成為表中記載的濃度。關於熔融鹽浴，有LiNO3 /KNO3 標記的步驟中，向KNO3 熔融鹽中添加LiNO3 熔融鹽來進行調整，以使熔融鹽中的LiNO3 與KNO3 的重量濃度比成為表中記載的濃度。
再者，試樣No.1～試樣No.10進行第一離子交換步驟（強化步驟）、第二離子交換步驟（緩和步驟）及第三離子交換步驟（強化步驟）的合計三次離子交換處理。另一方面，試樣No.11進行僅第一離子交換步驟（強化步驟）的合計一次離子交換處理，試樣No.12～試樣No.160進行第一離子交換步驟（強化步驟）及第二離子交換步驟（強化步驟）的合計兩次離子交換處理。試樣No.1～試樣No.10及試樣No.13～試樣No.160為本發明的實施例，試樣No.11～試樣No.12為比較例。
關於以所述方式獲得的強化玻璃，將如以下般測定的各種特性及強度試驗的結果示於表3～表18中。
[表3]
No. 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
組成 A A A A A A A A A A B B
厚度T μm 700 700 700 700 700 700 700 700 700 700 700 800
第一離子交換步驟 NaNO3 /KNO3 質量% 33.3/66.7 33.3/66.7 33.3/66.7 20/80 20/80 20/80 20/80 0/100 33.3/66.7 20/80 1.9/98.1 29.6/70.4
處理溫度 ℃ 460 460 460 460 460 460 460 460 460 460 430 490
處理時間 h 9 9 9 9 24 24 24 2 24 24 3 18.5
第二離子交換步驟 NaNO3 /KNO3 質量% 80/20 80/20 80/20 80/20 70/30 65/35 65/35 100/0 68/32 60/40 - 0/100
處理溫度 ℃ 430 450 450 450 450 450 450 410 450 450 - 390
處理時間 h 9 4 9 4 7 16 18 4 9 18 - 1
第三離子交換步驟 NaNO3 /KNO3 質量% 0/100 0/100 0/100 0/100 0/100 0/100 0/100 0/100 0/100 0/100 - -
處理溫度 ℃ 390 390 390 390 390 390 390 390 390 390 - -
處理時間 h 0.33 0.33 0.33 0.33 0.33 0.33 0.33 0.33 0.33 0.33 - -
CSmax MPa 855 867 867 772 733 746 741 741 919 763 842 812
CTmax MPa 42 42 37 56 76 61 57 44 55 64 35.8 101.8
CTmax·厚度T MPa·mm 29 30 26 39 53 42 40 31 39 45 - -
DOLzero μm 136 127 144 132 177 186 186 92 171 181 36 102
DOLzero/厚度T % 19 18 21 19 25 27 27 13 24 26 5 13
CSb MPa 8.9 16.2 -7.4 2.0 -29.4 -10.5 -17.7 55.7 -5.0 -2.3 - -
DOLb μm 21.9 20.3 21.5 25.5 19.1 19.6 21 12 17.1 19.5 - -
DOLb/厚度T % 3 3 3 4 3 3 3 2 2 3 - -
CSp MPa 33 46 21 71 60 28 26 156 32 26 - -
DOLp μm 69.6 61.8 81.6 67.8 91.5 104.1 107.6 37 91.6 99.5 - -
DOLp/厚度T % 10 9 12 10 13 15 15 5 13 14 - -
CSp-CSb MPa 24.0 29.8 28.0 69.5 89.7 38.5 44.1 100.3 36.8 28.4 39 76
DOLp-DOLb μm 47.7 41.5 60.1 42.3 72.4 84.5 86.6 25.0 74.5 80.0 ＜20 ＜20
（DOLp-DOLb）/厚度T % 7 6 9 6 10 12 12 4 11 11 - -
（CSp-CSb）/（DOLp-DOLb） MPa/μm 0.5 0.7 0.5 1.6 1.2 0.5 0.5 4.0 0.5 0.4 - -
偽框體落下強度 P180 153 169 130 197 未測定 未測定 未測定 未測定 154 167 39 76
P120 47 51 50 48 未測定 未測定 未測定 未測定 52 53 ＜20 ＜20
P100 未測定 未測定 未測定 25 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 45 未測定 未測定
P80 未測定 未測定 未測定 ＜20 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 45 未測定 未測定
計算強度 P180 80 91 67 110 - - - - 76 70 32 -
P120 62 64 56 81 - - - - 68 64 5 -
P100 48 47 46 56 - - - - 59 57 3 -
P80 -4 -8 4 -18 - - - - 7 12 -15 -
[表4]
No. 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22
組成 C C D D D D D D D D
厚度T μm 700 700 700 700 700 700 700 700 700 700
第一離子交換步驟 NaNO3 /KNO3 質量% 100/0 80/20 100/0 100/0 100/0 100/0 100/0 100/0 90/10 85/15
處理溫度 ℃ 380 380 380 380 380 380 380 380 380 380
處理時間 h 3 6 3 3 3 3 3 6 6 6
第二離子交換步驟 LiNO3 /KNO3 質量% 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5 1.7/98.3 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5
處理溫度 ℃ 380 380 380 380 380 380 380 380 380 380
處理時間 min. 60 90 60 75 90 90 105 90 90 90
CSmax MPa 863 799 511 743 856 769 778 816 739 725
CTmax MPa 37 33 64 58 53 46 52 61 62 66
CTmax·厚度T MPa·mm 26 23 45 41 37 33 36 43 43 46
DOLzero μm 170 155 146 157 160 164 167 167 166 164
DOLzero/厚度T % 24 22 21 22 23 23 24 24 24 23
CSb MPa -35 -26 47 39 28 22 10 11 17 -10
DOLb μm 15 19 25 38 41 42 16 16 14 17
DOLb/厚度T % 2 3 4 5 6 6 2 2 2 2
CSp MPa 28 25 62 51 42 36 32 45 50 56
DOLp μm 97 88 61 76 87 98 83 80 76 77
DOLp/厚度T % 14 13 9 11 12 14 12 11 11 11
CSp-CSb MPa 63 51 15 12 14 14 23 34 33 66
DOLp-DOLb μm 81 69 36 38 46 56 67 64 62 60
（DOLp-DOLb）/厚度T % 12 10 5 5 7 8 10 9 9 9
（CSp-CSb）/（DOLp-DOLb） MPa/μm 0.8 0.7 0.4 0.3 0.3 0.2 0.3 0.5 0.5 1.1
偽框體落下強度 P180 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P120 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P100 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P80 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
計算強度 P180 - - 108 98 87 80 80 91 97 98
P120 - - 82 81 76 72 68 78 82 85
P100 - - 62 65 62 61 58 65 68 69
P80 - - -12 -4 0 3 6 2 1 1
[表5]
No. 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32
組成 D D E E E E E E E E
厚度T μm 700 700 700 700 700 700 700 700 700 700
第一離子交換步驟 NaNO3 /KNO3 質量% 80/20 75/25 100/0 100/0 100/0 100/0 100/0 100/0 90/10 85/15
處理溫度 ℃ 380 380 380 380 380 380 380 380 380 380
處理時間 h 6 6 3 3 3 3 3 6 6 6
第二離子交換步驟 LiNO3 /KNO3 質量% 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5 1.7/98.3 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5
處理溫度 ℃ 380 380 380 380 380 380 380 380 380 380
處理時間 min. 90 90 60 75 90 90 105 90 90 90
CSmax MPa 719 699 803 803 788 766 809 711 706 694
CTmax MPa 53 60 53 52 50 45 43 55 63 56
CTmax·厚度T MPa·mm 37 42 37 36 35 32 30 39 44 39
DOLzero μm 161 160 151 158 164 168 167 173 165 166
DOLzero/厚度T % 23 23 22 23 23 24 24 25 24 24
CSb MPa 8 20 21 23 19 13 2 -2 5 -2
DOLb μm 16 18 14 26 28 27 16 14 20 17
DOLb/厚度T % 2 2 2 4 4 4 2 2 3 2
CSp MPa 43 52 54 43 36 35 26 41 45 45
DOLp μm 77 74 68 75 85 90 93 87 83 84
DOLp/厚度T % 11 11 10 11 12 13 13 12 12 12
CSp-CSb MPa 35 32 33 20 16 22 24 43 40 47
DOLp-DOLb μm 61 56 54 49 57 62 77 73 63 67
（DOLp-DOLb）/厚度T % 9 8 8 7 8 9 11 10 9 10
（CSp-CSb）/（DOLp-DOLb） MPa/μm 0.6 0.6 0.6 0.4 0.3 0.4 0.3 0.6 0.6 0.7
偽框體落下強度 P180 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P120 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P100 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P80 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
計算強度 P180 89 99 101 90 82 78 71 85 89 88
P120 75 82 80 75 71 70 63 76 78 78
P100 62 66 63 61 60 60 55 65 65 65
P80 2 -3 -6 0 4 7 9 7 0 2
[表6]
No. 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42
組成 E E F F F F F F F F
厚度T μm 700 700 700 700 700 700 700 700 700 700
第一離子交換步驟 NaNO3 /KNO3 質量% 80/20 75/25 100/0 100/0 100/0 100/0 100/0 100/0 90/10 85/15
處理溫度 ℃ 380 380 380 380 380 380 380 380 380 380
處理時間 h 6 6 3 3 3 3 3 6 6 6
第二離子交換步驟 LiNO3 /KNO3 質量% 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5 1.7/98.3 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5
處理溫度 ℃ 380 380 380 380 380 380 380 380 380 380
處理時間 min. 90 90 60 75 90 90 105 90 90 90
CSmax MPa 719 685 832 859 841 837 812 732 754 651
CTmax MPa 53 57 53 52 46 45 47 45 53 53
CTmax·厚度T MPa·mm 37 40 37 36 32 32 33 32 37 37
DOLzero μm 161 157 150 163 159 167 161 173 166 168
DOLzero/厚度T % 23 22 21 23 23 24 23 25 24 24
CSb MPa 8 9 24 21 15 10 2 -17 -2 9
DOLb μm 16 19 15 31 17 40 19 17 16 16
DOLb/厚度T % 2 3 2 4 2 6 3 2 2 2
CSp MPa 43 48 49 37 33 28 22 31 36 35
DOLp μm 77 78 66 79 86 100 86 96 82 81
DOLp/厚度T % 11 11 9 11 12 14 12 14 12 12
CSp-CSb MPa 35 39 25 15 17 18 20 48 37 26
DOLp-DOLb μm 61 59 52 48 68 61 67 79 66 64
（DOLp-DOLb）/厚度T % 9 8 7 7 10 9 10 11 9 9
（CSp-CSb）/（DOLp-DOLb） MPa/μm 0.6 0.7 0.5 0.3 0.3 0.3 0.3 0.6 0.6 0.4
偽框體落下強度 P180 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P120 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P100 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P80 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
計算強度 P180 89 93 96 84 79 70 69 71 81 82
P120 75 79 76 71 68 64 59 67 70 71
P100 62 63 60 59 57 56 51 59 59 60
P80 2 -4 -5 4 3 8 10 10 6 7
[表7]
No. 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52
組成 F F F F G G G G G G
厚度T μm 700 700 700 700 700 700 700 700 700 700
第一離子交換步驟 NaNO3 /KNO3 質量% 80/20 75/25 75/25 75/25 75/25 100/0 100/0 100/0 100/0 100/0
處理溫度 ℃ 380 380 410 410 410 380 380 380 380 380
處理時間 h 6 6 3 3 3 3 3 3 3 3
第二離子交換步驟 LiNO3 /KNO3 質量% 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5 1/99
處理溫度 ℃ 380 380 380 380 380 380 380 380 380 380
處理時間 min. 90 90 90 105 90 30 45 60 75 45
CSmax MPa 745 735 796 757 692 696 749 735 779 696
CTmax MPa 49 50 57 48 47 59 54 42 45 59
CTmax·厚度T MPa·mm 34 35 40 34 33 41 38 29 31 41
DOLzero μm 165 163 168 167 156 156 146 158 162 156
DOLzero/厚度T % 24 23 24 24 22 22 21 23 23 22
CSb MPa -3 8 15 -5 22 54 12 13 9 54
DOLb μm 18 19 15 19 18 10 14 17 15 10
DOLb/厚度T % 3 3 2 3 3 1 2 2 2 1
CSp MPa 34 33 37 27 29 59 48 20 26 59
DOLp μm 85 82 78 90 63 42 55 68 75 42
DOLp/厚度T % 12 12 11 13 9 6 8 10 11 6
CSp-CSb MPa 36 26 23 32 7 5 36 7 17 5
DOLp-DOLb μm 67 63 63 71 45 32 41 51 61 32
（DOLp-DOLb）/厚度T % 10 9 9 10 6 5 6 7 9 5
（CSp-CSb）/（DOLp-DOLb） MPa/μm 0.5 0.4 0.4 0.4 0.2 0.1 0.9 0.1 0.3 0.1
偽框體落下強度 P180 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P120 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P100 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P80 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
計算強度 P180 79 80 85 72 79 104 93 70 75 104
P120 69 69 72 64 63 79 68 56 62 79
P100 58 58 61 55 53 63 54 49 53 63
P80 6 4 6 8 5 -1 1 11 9 -1
[表8]
No. 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62
組成 G G G G G H H H I I
厚度T μm 700 700 700 700 700 700 670 670 670 680
第一離子交換步驟 NaNO3 /KNO3 質量% 100/0 100/0 100/0 100/0 100/0 75/25 75/25 75/25 75/25 75/25
處理溫度 ℃ 380 380 380 380 380 420 420 420 420 420
處理時間 h 3 3 3 3 3 3 3 3 3 3
第二離子交換步驟 LiNO3 /KNO3 質量% 1/99 1.3/98.7 1.3/98.7 1/99 1/99 1.5/98.5 2/98 1.5/98.5 2/98 1.5/98.5
處理溫度 ℃ 380 380 380 360 360 380 380 380 380 380
處理時間 min. 90 60 45 120 60 45 45 90 45 90
CSmax MPa 791 762 768 797 813 531 536 584 507 517
CTmax MPa 55 44 59 52 51 78 67 61 59 59
CTmax·厚度T MPa·mm 39 31 41 37 36 54 45 41 39 40
DOLzero μm 141 153 154 159 144 155 145 146 151 150
DOLzero/厚度T % 20 22 22 23 21 22 22 22 23 22
CSb MPa 24 33 42 26 47 54 67 33 26 17
DOLb μm 15 14 15 19 14 12 11 20 13 15
DOLb/厚度T % 2 2 2 3 2 2 2 3 2 2
CSp MPa 52 36 48 27 53 76 73 46 52 55
DOLp μm 45 45 50 50 48 54 39 59 61 55
DOLp/厚度T % 6 6 7 7 7 8 6 9 9 8
CSp-CSb MPa 27 3 5 2 7 22 6 13 26 38
DOLp-DOLb μm 30 32 35 31 33 42 28 39 47 41
（DOLp-DOLb）/厚度T % 4 4 5 4 5 6 4 6 7 6
（CSp-CSb）/（DOLp-DOLb） MPa/μm 0.9 0.1 0.2 0.1 0.2 0.5 0.2 0.3 0.5 0.9
偽框體落下強度 P180 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P120 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P100 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P80 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
計算強度 P180 93 84 96 77 99 121 114 94 99 99
P120 65 65 73 61 73 91 81 71 76 73
P100 52 54 59 52 57 71 62 56 60 58
P80 0 4 -1 7 -6 -7 -10 -5 -3 0
[表9]
No. 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72
組成 J J J K K K L L M M
厚度T μm 680 680 680 680 680 680 700 700 700 700
第一離子交換步驟 NaNO3 /KNO3 質量% 75/25 75/25 75/25 75/25 75/25 75/25 75/25 75/25 75/25 75/25
處理溫度 ℃ 420 420 420 420 420 420 420 420 420 420
處理時間 h 3 3 3 3 3 3 3 3 3 3
第二離子交換步驟 LiNO3 /KNO3 質量% 1.5/98.5 2/98 1.5/98.5 1.5/98.5 2/98 1.5/98.5 1/99 1.5/98.5 1/99 1.5/98.5
處理溫度 ℃ 380 380 380 380 380 380 380 380 380 380
處理時間 min. 45 45 90 45 45 90 90 90 60 60
CSmax MPa 561 528 604 531 517 594 616 546 579 527
CTmax MPa 76 74 66 66 59 55 69 65 69 60
CTmax·厚度T MPa·mm 52 50 45 45 40 38 48 45 48 42
DOLzero μm 145 146 150 146 150 148 157 164 158 161
DOLzero/厚度T % 21 22 22 21 22 22 22 23 23 23
CSb MPa 63 24 46 54 17 23 43 23 19 21
DOLb μm 8 9 14 12 15 19 18 17 14 13
DOLb/厚度T % 1 1 2 2 2 3 2 2 2 2
CSp MPa 97 95 61 67 55 32 51 44 64 60
DOLp μm 42 44 53 41 55 57 53 67 57 66
DOLp/厚度T % 6 6 8 6 8 8 7 10 8 9
CSp-CSb MPa 34 71 15 13 38 9 8 21 46 39
DOLp-DOLb μm 34 35 38 28 41 38 35 51 43 53
（DOLp-DOLb）/厚度T % 5 5 6 4 6 6 5 7 6 8
（CSp-CSb）/（DOLp-DOLb） MPa/μm 1.0 2.1 0.4 0.5 0.9 0.2 0.2 0.4 1.1 0.7
偽框體落下強度 P180 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P120 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P100 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P80 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
計算強度 P180 130 127 107 106 99 80 98 92 108 106
P120 88 86 79 74 73 61 76 75 82 85
P100 66 65 62 58 58 50 61 62 65 68
P80 -14 -11 -7 -5 0 3 0 5 0 1
[表10]
No. 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82
組成 M M M N N N N N N O
厚度T μm 700 700 700 700 700 700 698 698 698 700
第一離子交換步驟 NaNO3 /KNO3 質量% 75/25 75/25 75/25 75/25 75/25 75/25 75/25 75/25 75/25 75/25
處理溫度 ℃ 420 420 420 420 420 420 420 420 420 420
處理時間 h 3 3 3 3 3 3 3 3 3 3
第二離子交換步驟 LiNO3 /KNO3 質量% 1/99 1.5/98.5 2/98 1/99 1.5/98.5 2/98 1/99 1.5/98.5 2/98 1/99
處理溫度 ℃ 380 380 380 380 380 380 380 380 380 380
處理時間 min. 90 90 90 60 60 60 90 s 90 60
CSmax MPa 629 571 527 645 557 524 647 582 529 613
CTmax MPa 70 61 52 57 52 49 52 49 43 59
CTmax·厚度T MPa·mm 49 42 36 40 36 34 36 34 30 41
DOLzero μm 158 165 168 152 161 164 145 157 165 151
DOLzero/厚度T % 23 24 24 22 23 23 21 22 24 22
CSb MPa 42 21 17 32 29 8 9 6 4 34
DOLb μm 18 17 17 16 17 15 17 19 21 17
DOLb/厚度T % 2 2 2 2 2 2 2 3 3 2
CSp MPa 48 43 37 47 39 38 48 27 25 49
DOLp μm 52 69 76 55 63 72 51 73 84 53
DOLp/厚度T % 7 10 11 8 9 10 7 11 12 8
CSp-CSb MPa 6 22 21 15 11 30 39 21 21 16
DOLp-DOLb μm 34 53 59 39 46 57 34 54 63 36
（DOLp-DOLb）/厚度T % 5 8 8 6 7 8 5 8 9 5
（CSp-CSb）/（DOLp-DOLb） MPa/μm 0.2 0.4 0.4 0.4 0.2 0.5 1.1 0.4 0.3 0.4
偽框體落下強度 P180 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P120 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P100 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P80 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
計算強度 P180 96 91 86 94 88 86 91 76 72 -
P120 74 75 72 71 71 71 66 62 62 -
P100 61 62 61 57 59 59 53 52 53 -
P80 0 5 8 2 5 8 3 8 10 -
[表11]
No. 83 84 85 86 87 88 89 90 91 92
組成 O O O O O P P P P P
厚度T μm 700 700 698 698 698 700 700 700 700 700
第一離子交換步驟 NaNO3 /KNO3 質量% 75/25 75/25 75/25 75/25 75/25 75/25 75/25 75/25 75/25 75/25
處理溫度 ℃ 420 420 420 420 420 420 420 420 420 420
處理時間 h 3 3 3 3 3 1.5 1.5 3 1.5 3
第二離子交換步驟 LiNO3 /KNO3 質量% 1.5/98.5 2/98 1/99 1.5/98.5 2/98 2/98 1/99 1/99 1.5/98.5 1.5/98.5
處理溫度 ℃ 380 380 380 380 380 380 380 380 380 380
處理時間 min. 60 60 90 90 90 60 60 60 60 60
CSmax MPa 548 516 644 586 544 632 737 695 662 627
CTmax MPa 51 50 55 47 45 66 56 80 77 82
CTmax·厚度T MPa·mm 35 35 38 33 31 46 39 56 54 57
DOLzero μm 161 170 147 153 172 153 144 154 153 158
DOLzero/厚度T % 23 24 21 22 25 22 21 22 22 22
CSb MPa 8 -7 31 3 0 55 53 80 77 64
DOLb μm 16 16 22 20 21 11 9 10 15 12
DOLb/厚度T % 2 2 3 3 3 2 1 1 2 2
CSp MPa 43 38 35 28 21 70 70 85 78 78
DOLp μm 72 79 51 71 93 49 41 36 25 48
DOLp/厚度T % 10 11 7 10 13 7 6 5 4 7
CSp-CSb MPa 36 45 4 25 21 15 16 5 0 14
DOLp-DOLb μm 56 63 29 51 72 38 32 26 10 36
（DOLp-DOLb）/厚度T % 8 9 4 7 10 5 5 4 1 5
（CSp-CSb）/（DOLp-DOLb） MPa/μm 0.6 0.7 0.1 0.5 0.3 0.4 0.5 0.2 0.0 0.4
偽框體落下強度 P180 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P120 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P100 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P80 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
計算強度 P180 - - - - - 114 109 125 117 122
P120 - - - - - 84 76 91 85 91
P100 - - - - - 66 59 71 67 71
P80 - - - - - -5 -4 -10 -8 -7
[表12]
No. 93 94 95 96 97 98 99 100 101 102
組成 P P P P Q Q Q Q Q R
厚度T μm 700 700 700 700 700 700 700 700 700 700
第一離子交換步驟 NaNO3 /KNO3 質量% 75/25 75/25 75/25 75/25 75/25 75/25 75/25 75/25 75/25 100/0
處理溫度 ℃ 420 420 420 420 420 420 420 420 420 380
處理時間 h 1.5 3 1.5 3 1.5 3 1.5 3 3 4
第二離子交換步驟 LiNO3 /KNO3 質量% 2/98 2/98 1.5/98.5 1.5/98.5 2/98 1.5/98.5 2/98 2/98 1.5/98.5 2/98
處理溫度 ℃ 380 380 380 380 380 380 380 380 380 380
處理時間 min. 90 90 90 90 60 60 90 90 90 30
CSmax MPa 612 626 710 647 543 539 557 521 564 595
CTmax MPa 61 61 70 67 61 74 53 62 70 41
CTmax·厚度T MPa·mm 43 43 49 47 43 52 37 44 49 28
DOLzero μm 165 174 158 167 147 154 159 164 162 168
DOLzero/厚度T % 24 25 23 24 21 22 23 23 23 24
CSb MPa 28 21 53 35 60 64 28 35 50 -6
DOLb μm 16 10 14 13 14 12 16 18 14 9
DOLb/厚度T % 2 1 2 2 2 2 2 3 2 1
CSp MPa 43 46 60 53 70 79 45 49 61 41
DOLp μm 67 72 49 66 42 46 65 64 54 78
DOLp/厚度T % 10 10 7 9 6 7 9 9 8 11
CSp-CSb MPa 15 25 7 18 9 15 17 14 11 47
DOLp-DOLb μm 51 62 35 52 28 34 49 46 39 69
（DOLp-DOLb）/厚度T % 7 9 5 7 4 5 7 7 6 10
（CSp-CSb）/（DOLp-DOLb） MPa/μm 0.3 0.4 0.2 0.3 0.3 0.5 0.4 0.3 0.3 0.7
偽框體落下強度 P180 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 108
P120 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P100 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 44
P80 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 47
計算強度 P180 92 94 107 102 111 121 94 98 108 87
P120 75 79 82 83 78 88 75 79 84 74
P100 63 67 66 69 61 69 61 65 68 62
P80 4 9 -3 1 -5 -6 3 2 -1 10
[表13]
No. 103 104 105 106 107 108 109 110 111 112
組成 R R R R R R R R R R
厚度T μm 700 700 700 700 700 700 700 700 700 700
第一離子交換步驟 NaNO3 /KNO3 質量% 100/0 100/0 100/0 100/0 100/0 80/20 80/20 80/20 80/20 80/20
處理溫度 ℃ 380 380 380 380 380 380 380 380 380 380
處理時間 h 4 4 9 9 9 9 4 9 4 9
第二離子交換步驟 LiNO3 /KNO3 質量% 2/98 2/98 2/98 2/98 2/98 2/98 2/98 2/98 2/98 2/98
處理溫度 ℃ 380 380 380 380 380 380 380 380 380 380
處理時間 min. 45 60 30 45 60 30 30 45 45 60
CSmax MPa 637 671 528 559 590 583 627 636 636 626
CTmax MPa 37 30 35 28 26 39 43 44 44 32
CTmax·厚度T MPa·mm 26 21 25 20 18 27 30 31 31 23
DOLzero μm 172 181 183 188 197 163 158 158 158 176
DOLzero/厚度T % 24 26 26 27 28 23 23 23 23 25
CSb MPa -2 -9 -56 -46 -29 -2 11 12 12 -12
DOLb μm 22 35 9 12 26 21 11 43 43 30
DOLb/厚度T % 3 5 1 2 4 3 2 6 6 4
CSp MPa 31 18 40 31 24 45 43 32 32 22
DOLp μm 90 106 87 103 113 76 70 90 90 102
DOLp/厚度T % 13 15 12 15 16 11 10 13 13 15
CSp-CSb MPa 33 27 96 77 52 48 32 20 20 35
DOLp-DOLb μm 68 71 79 91 88 54 59 47 47 72
（DOLp-DOLb）/厚度T % 10 10 11 13 13 8 8 7 7 10
（CSp-CSb）/（DOLp-DOLb） MPa/μm 0.5 0.4 1.2 0.8 0.6 0.9 0.5 0.4 0.4 0.5
偽框體落下強度 P180 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P120 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P100 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P80 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
計算強度 P180 74 58 78 65 50 86 91 75 75 58
P120 67 55 74 67 57 74 74 66 66 58
P100 58 50 64 60 53 61 60 56 56 52
P80 13 19 18 20 24 11 5 6 6 18
[表14]
No. 113 114 115 116 117 118 119 120 121 122
組成 R R R R R R R R R R
厚度T μm 700 700 700 700 700 700 700 700 700 700
第一離子交換步驟 NaNO3 /KNO3 質量% 80/20 60/40 60/40 60/40 60/40 60/40 60/40 40/60 40/60 40/60
處理溫度 ℃ 380 380 380 380 380 380 380 380 380 380
處理時間 h 4 4 9 9 4 9 4 4 9 4
第二離子交換步驟 LiNO3 /KNO3 質量% 2/98 2/98 2/98 2/98 2/98 2/98 2/98 2/98 2/98 2/98
處理溫度 ℃ 380 380 380 380 380 380 380 380 380 380
處理時間 min. 60 30 30 45 45 60 60 45 45 60
CSmax MPa 677 631 597 692 692 668 717 657 655 673
CTmax MPa 32 48 48 44 44 35 39 45 45 37
CTmax·厚度T MPa·mm 22 33 34 31 31 24 27 31 31 26
DOLzero μm 171 150 147 149 149 161 149 153 144 151
DOLzero/厚度T % 24 21 21 21 21 23 21 22 21 22
CSb MPa 1 32 31 34 34 -14 9 17 8 6
DOLb μm 31 16 41 20 20 40 46 45 38 48
DOLb/厚度T % 4 2 6 3 3 6 7 6 5 7
CSp MPa 20 42 42 34 34 24 18 31 27 24
DOLp μm 108 57 73 32 32 94 90 85 75 95
DOLp/厚度T % 15 8 10 5 5 13 13 12 11 14
CSp-CSb MPa 19 10 10 0 0 38 9 14 18 18
DOLp-DOLb μm 77 41 32 13 13 54 43 41 37 47
（DOLp-DOLb）/厚度T % 11 6 5 2 2 8 6 6 5 7
（CSp-CSb）/（DOLp-DOLb） MPa/μm 0.2 0.3 0.3 0.0 0.0 0.7 0.2 0.3 0.5 0.4
偽框體落下強度 P180 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P120 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P100 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P80 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
計算強度 P180 61 91 89 81 81 59 66 76 73 66
P120 57 70 70 61 61 58 55 64 59 59
P100 51 56 55 51 51 50 47 53 48 50
P80 14 1 1 4 4 13 8 5 5 7
[表15]
No. 123 124 125 126 127 128 129 130 131 132
組成 R R R R R R R R R R
厚度T μm 700 700 700 700 700 700 700 700 700 700
第一離子交換步驟 NaNO3 /KNO3 質量% 40/60 100/0 100/0 100/0 80/20 80/20 60/40 100/0 100/0 100/0
處理溫度 ℃ 380 380 380 380 380 380 380 380 380 380
處理時間 h 9 3 4 9 4 9 9 3 4 9
第二離子交換步驟 LiNO3 /KNO3 質量% 2/98 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5 1.5/98.5
處理溫度 ℃ 380 380 380 380 380 380 380 380 380 380
處理時間 min. 60 30 30 30 30 30 30 45 45 45
CSmax MPa 646 685 670 610 655 675 657 722 751 659
CTmax MPa 34 52 50 41 56 48 49 43 46 37
CTmax·厚度T MPa·mm 24 36 35 28 40 34 34 30 32 26
DOLzero μm 146 150 149 154 145 148 139 154 160 169
DOLzero/厚度T % 21 21 21 22 21 21 20 22 23 24
CSb MPa -6 21 23 -7 28 24 30 11 7 -13
DOLb μm 45 24 29 21 26 26 32 18 16 16
DOLb/厚度T % 6 3 4 3 4 4 5 3 2 2
CSp MPa 22 54 51 50 56 47 43 33 34 32
DOLp μm 95 62 68 75 59 66 67 73 78 91
DOLp/厚度T % 14 9 10 11 8 9 10 10 11 13
CSp-CSb MPa 28 34 28 57 28 23 14 22 27 45
DOLp-DOLb μm 49 38 39 54 34 41 35 55 63 75
（DOLp-DOLb）/厚度T % 7 5 6 8 5 6 5 8 9 11
（CSp-CSb）/（DOLp-DOLb） MPa/μm 0.6 0.9 0.7 1.0 0.8 0.6 0.4 0.4 0.4 0.6
偽框體落下強度 P180 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 86 未測定 未測定
P120 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P100 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 49 未測定 未測定
P80 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 50 未測定 未測定
計算強度 P180 60 99 96 92 100 93 91 81 80 73
P120 55 75 75 77 74 72 69 66 68 68
P100 47 59 59 62 57 57 53 54 57 58
P80 6 1 0 3 -3 0 -7 4 7 11
[表16]
No. 133 134 135 136 137 138 139 140 141 142
組成 R R R R R R R R R R
厚度T μm 700 700 700 700 700 700 700 700 700 700
第一離子交換步驟 NaNO3 /KNO3 質量% 80/20 80/20 100/0 100/0 100/0 100/0 80/20 80/20 80/20 80/20
處理溫度 ℃ 380 380 380 380 380 380 380 380 380 380
處理時間 h 4 9 9 4 9 4 9 4 9 4
第二離子交換步驟 LiNO3 /KNO3 質量% 1.5/98.5 1.5/98.5 1/99 1/99 1/99 1/99 1/99 1/99 1/99 1/99
處理溫度 ℃ 380 380 380 380 380 380 380 380 380 380
處理時間 min. 45 45 30 30 45 45 30 30 45 45
CSmax MPa 709 676 715 758 768 717 721 796 739 761
CTmax MPa 46 43 46 52 42 45 52 52 50 41
CTmax·厚度T MPa·mm 33 30 32 36 30 32 37 37 35 28
DOLzero μm 154 157 155 150 162 154 149 147 152 148
DOLzero/厚度T % 22 22 22 21 23 22 21 21 22 21
CSb MPa 19 -11 11 36 -2 31 34 46 24 36
DOLb μm 31 26 24 27 11 47 35 12 35 49
DOLb/厚度T % 4 4 3 4 2 7 5 2 5 7
CSp MPa 33 35 47 48 37 35 47 52 37 37
DOLp μm 76 80 72 64 74 85 68 40 76 67
DOLp/厚度T % 11 11 10 9 11 12 10 6 11 10
CSp-CSb MPa 14 45 36 12 39 5 13 6 12 1
DOLp-DOLb μm 45 54 49 37 64 38 33 29 41 18
（DOLp-DOLb）/厚度T % 6 8 7 5 9 5 5 4 6 3
（CSp-CSb）/（DOLp-DOLb） MPa/μm 0.3 0.8 0.7 0.3 0.6 0.1 0.4 0.2 0.3 0.0
偽框體落下強度 P180 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 170 未測定 未測定
P120 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 140 未測定 未測定
P100 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 56 未測定 未測定
P80 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 32 未測定 未測定
計算強度 P180 81 77 92 96 84 84 93 96 96 92
P120 66 67 75 75 70 70 72 69 75 77
P100 55 55 61 59 58 57 57 55 59 62
P80 2 7 3 -2 9 -1 0 1 0 3
[表17]
No. 143 144 145 146 147 148 149 150 151 152
組成 R R R S S S S T T T
厚度T μm 700 700 700 700 700 780 780 700 700 700
第一離子交換步驟 NaNO3 /KNO3 質量% 60/40 40/60 40/60 100/0 100/0 100/0 100/0 75/25 75/25 75/25
處理溫度 ℃ 380 380 380 380 380 380 380 410 410 410
處理時間 h 9 4 9 3 3 3 3 3 3 3
第二離子交換步驟 LiNO3 /KNO3 質量% 1/99 1/99 1/99 2/98 2/98 2.5/97.5 2.5/97.5 0.5/99.5 1/99 1.5/98.5
處理溫度 ℃ 380 380 380 380 380 380 380 380 380 380
處理時間 min. 30 45 45 45 60 45 60 45 45 45
CSmax MPa 705 773 737 727 852 794 748 844 764 685
CTmax MPa 57 46 37 46 46 46 43 65 56 53
CTmax·厚度T MPa·mm 40 32 26 32 32 36 33 45 39 37
DOLzero μm 141 144 140 168 177 179 183 146 159 161
DOLzero/厚度T % 20 21 20 24 25 23 24 21 23 23
CSb MPa 35 32 23 45 34 30 24 60 37 13
DOLb μm 32 15 41 13 10 10 11 18 13 16
DOLb/厚度T % 5 2 6 2 1 1 1 3 2 2
CSp MPa 45 47 28 52 45 48 39 60 46 40
DOLp μm 63 44 69 54 64 71 74 20 58 72
DOLp/厚度T % 9 6 10 8 9 9 9 3 8 10
CSp-CSb MPa 10 15 5 7 11 18 14 0 9.0 27
DOLp-DOLb μm 31 30 28 41 54 61 63 2 45 57
（DOLp-DOLb）/厚度T % 4 4 4 6 8 8 8 0 6 8
（CSp-CSb）/（DOLp-DOLb） MPa/μm 0.3 0.5 0.2 0.2 0.2 0.3 0.2 0.0 0.2 0.5
偽框體落下強度 P180 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 178 167 182
P120 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 135 165 132
P100 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 33 41 38
P80 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
計算強度 P180 95 80 73 100 94 97 88 100 95 88
P120 68 68 68 80 78 82 75 72 75 72
P100 53 57 58 66 66 70 65 56 61 60
P80 -6 7 11 8 12 13 16 -4 1 4
[表18]
No. 153 154 155 156 157 158 159 160
組成 T T T T T T T T
厚度T μm 700 700 700 550 550 550 550 800
第一離子交換步驟 NaNO3 /KNO3 質量% 60/40 60/40 60/40 75/25 60/40 60/40 30/70 75/25
處理溫度 ℃ 380 380 380 410 380 380 380 410
處理時間 h 3 3 3 3 2.5 3 1.5 3
第二離子交換步驟 LiNO3 /KNO3 質量% 0.5/99.5 1/99 1.5/98.5 1/99 1/99 1/99 1/99 1/99
處理溫度 ℃ 380 380 380 380 380 380 380 380
處理時間 min. 45 45 45 45 45 45 45 45
CSmax MPa 874 781 723 739 765 733 790 773
CTmax MPa 65 65 61 48 63 52 53 67
CTmax·厚度T MPa·mm 46 46 43 26 35 29 29 54
DOLzero μm 144 150 151 126 117 120 115 173
DOLzero/厚度T % 21 21 22 23 21 22 21 22
CSb MPa 49 55 45 15 35 24 22 55
DOLb μm 14 14 13 14 14 15 14 14
DOLb/厚度T % 2 2 2 3 2 3 3 2
CSp MPa 64 58 55 27 41 38 35 63
DOLp μm 45 37 44 57 35 52 45 47
DOLp/厚度T % 6 5 6 10 6 9 8 6
CSp-CSb MPa 15 3 10 12 6 13 13 8
DOLp-DOLb μm 32 23 32 43 21 37 31 33
（DOLp-DOLb）/厚度T % 5 3 5 8 4 7 6 4
（CSp-CSb）/（DOLp-DOLb） MPa/μm 0.5 0.1 0.3 0.3 0.3 0.4 0.4 0.3
偽框體落下強度 P180 179 188 177 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P120 131 123 158 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P100 28 26 33 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
P80 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定 未測定
計算強度 P180 106 101 99 75 80 83 78 78
P120 75 74 72 54 52 56 51 51
P100 58 59 58 41 39 40 37 37
P80 -6 -2 0 -6 -14 -13 -11 -11
首先，對各試樣的應力分佈進行測定。試樣No.1～試樣No.10及試樣No.13～試樣No.160的應力分佈是使用折原製作所製造的表面應力計FSM-6000LE與SLP-1000進行測定。使用所述裝置預具備的資料合成應用pmc來合成測定結果，從而獲得相位差分佈。關於合成中的各資料的應用範圍，將FSM-6000LE設定為自表面至10 μm為止，將SLP-1000設定為距表面為30 μm以後。根據所獲得的相位差分佈，經由以下所述的解析而求出應力分佈。首先，設定下述表所示的初始值，計算所獲得的相位差分佈的各深度x處的下述式R（x）。此處，設為Δ=0.01[μm]。計算所述R（x）與所獲得的相位差分佈的差分平方和，以使所述差分平方和成為最小的方式決定各種變數A1、變數A2、變數A3、變數B1、變數B2、變數B3、變數C1。更具體而言，利用表格的解算器功能並於解決方法中使用「GRG非線形」，對各種變數賦予依據下述表的範圍及約束條件來進行近似。反覆進行該近似計算，直至R（x）與相位差分佈的相關係數超過0.9995。於相關係數未達到0.9995的情況下，使用SLP-1000進行多次測定，並使用其平均化後的測定資料來進行解析。將使用以所述方式獲得的各種變數而表示的下述式σ（x）設為應力分佈。試樣No.11及試樣No.12的應力分佈是使用折原製作所公司製造的表面應力計FSM-6000LE進行測定。光彈性常數C[nm/cm/MPa]是針對每個試樣，使用光外差干涉法，更具體而言，使用尤尼奧普特（Uniopt）公司製造的PEL-3A-XR進行測定。裝置常數k是於該裝置中藉由將各試樣的折射率輸入至SLP-1000而算出的常數，更具體而言為測定結果檔案中所記載的kDP的值除以應力校準係數而得的值。再者，折射率是針對每個試樣使用V分組方法，更具體而言，使用島津製作所股份有限公司製造的KPR-2000進行測定。 [數式1] σ（x）=A1·erfc（B1·x）+A2·erfc（B2·x）+A3·erfc（B3·x）+C1 [數式2] k：裝置常數、C：光彈性常數、λ：測定波長（640 nm） [表19]
變數 範圍/條件 初始值
A1 0～2000 500
A2 -2000～0 -200
A3 0～2000 200
B1 0.001～1 0.2
B2 0.001～1 0.01
B3 0.001～1 0.01
C1 -200～0 -50
R0 相位差分佈的深度0 μm處的值  
A1+A2+A3+C 利用FSM-6000LE所測定的CS值  
將所測定的應力分佈的一例示於圖5～圖12中。圖5為表示試樣No.1的強化玻璃的深度方向上的應力分佈的曲線圖，圖6為表示試樣No.2的強化玻璃的深度方向上的應力分佈的曲線圖，圖7為表示試樣No.3的強化玻璃的深度方向上的應力分佈的曲線圖，圖8為表示試樣No.4的強化玻璃的深度方向上的應力分佈的曲線圖，圖9為表示試樣No.10的強化玻璃的深度方向上的應力分佈的曲線圖，圖10為表示試樣No.38的強化玻璃的深度方向上的應力分佈的曲線圖，圖11為表示試樣No.49的強化玻璃的深度方向上的應力分佈的曲線圖，圖12為表示試樣No.140的強化玻璃的深度方向上的應力分佈的曲線圖。於圖5～圖12中，橫軸表示距其中一主表面的深度（μm），縱軸表示應力的大小（MPa）。再者，於圖5～圖12中，壓縮應力由正值表示，拉伸應力由負值表示。
基於以所述方式測定的應力分佈而算出表3～表18所示的特性。
於表3～表18中，CSmax表示第一波峰P1處的應力，即壓縮應力層2中的最大壓縮應力。CTmax表示第二底部B2處的應力，即拉伸應力層3中的最小拉伸應力。CSb表示第一底部B1處的應力（極小值），DOLb表示第一底部B1的深度。CSp表示第二波峰P2的應力（極大值），DOLp表示第二波峰P2的深度。DOLzero表示在第二波峰P2與第二底部B2之間至應力成為零的點為止的深度。
如圖13所示，偽框體落下強度表示如下高度：於以依序積層了偽框體10、包含強化玻璃1的玻璃試樣20、砂紙30的狀態落下至鐵製的平台40上時，玻璃試樣20破損的高度。具體而言，首先，將偽框體10貼附於加工為寬度65 mm、長度130 mm的大小且表1中記載的厚度T的玻璃試樣20的其中一主表面。偽框體10是模擬行動終端的寬度70 mm、長度140 mm、厚度8 mm的質量110 g的聚碳酸酯製的厚板構件。偽框體10與玻璃試樣20是藉由將厚度150 μm的光學黏著膜50夾於之間而接著。
繼而，以使砂紙30的表面（設置有研磨材的面）抵接於玻璃試樣20的另一主表面（和與偽框體接著的主表面相反的一側的主表面）的方式貼附砂紙30。砂紙30為寬度60 mm、長度120 mm的尺寸，且配置於玻璃試樣20的另一主表面的中央部。此時，玻璃試樣20的周緣部配置為自砂紙30突出。於多個部位利用多個乙烯膠帶片60將以所述方式突出的玻璃試樣20的背面（未設置研磨材的面）周緣部與砂紙30的端部這兩者貼附，藉此將砂紙30貼附於玻璃試樣20上。乙烯膠帶片60為寬度19 mm、長度10 mm、厚度0.1 mm，貼附部位為砂紙30的各短邊的中央部。再者，作為砂紙30，使用研磨粒的粗糙度（支數）不同的理研剛玉（RIKEN CORUNDUM）製造的SiC砂紙P180、P120、P100及P80，針對各個情況，測定偽框體落下強度。
以砂紙30成為下方的方式以水平姿勢保持以所述方式獲得的試驗體，一面提高落下高度一面使其朝向平台40反覆落下，直至玻璃試樣20破損。更詳細而言，本申請案中，利用包含汽缸的夾持機構來夾持試驗體，與夾持機構一起開始落下，於平台40的平台面20 cm近前的位置解除汽缸的夾持，藉此以於試驗體維持水平姿勢的狀態下朝平台40落下的方式進行試驗。砂紙30每進行一次落下試驗更換為新品。落下高度以距落下面為20 cm的高度為基準，於玻璃試樣20不發生破損的情況下，以上升10 cm高度的方式設定。
於測定了偽框體落下強度的所有實施例（例如，試樣No.1～試樣No.4）中，確認到與比較例（試樣No.11、試樣No.12）相比，偽框體落下強度高且具有高的耐衝擊性。
另外，確認到它們的偽框體落下強度與下述所示的計算強度具有某程度的相關。 [數式3] 此處，P（x）為落下試驗中所產生的深度x的傷痕的概率密度函數，σf（x）為下述所示的應力擴大係數與壓縮應力值的和。 [數式4] 此處，Kc為母玻璃的破壞韌性值，σ（x）為因強化而產生的深度x處的壓縮應力值。逐次觀察落下試驗中所產生的傷痕的深度並求出P（x）及計算強度，若表示偽框體落下試驗中的破損高度的相關，則如圖14所示的曲線圖般，確認到落下強度與所述計算強度相關聯。
再者，於本發明的強化玻璃中，P180的計算強度較佳為35 MPa以上，更佳為40 MPa～200 MPa。另外，P120的計算強度較佳為10 MPa以上，更佳為20 MPa～150 MPa。P100的計算強度較佳為5 MPa以上，更佳為10 MPa～100 MPa。P80的計算強度較佳為-13 MPa以上，更佳為-10 MPa～50 MPa。 [產業上的可利用性]
本發明的強化玻璃例如可用作行動電話（尤其是智慧型手機）、平板電腦、數位相機、觸控面板顯示器、大型電視等的零件。
1:強化玻璃 1a:主表面 1b:端面 2:壓縮應力層 3:拉伸應力層 10:偽框體 20:玻璃試樣（強化玻璃） 30:砂紙 40:平台 50:光學黏著膜 60:乙烯膠帶片 B1:第一底部 B2:第二底部 CSb:應力 CSmax、CSp:壓縮應力 CTmax:拉伸應力 DOLb、DOLp、DOLzero:深度 P1:第一波峰 P2:第二波峰 S1、T1:第一離子交換步驟 S2、T2:第二離子交換步驟 S3:第三離子交換步驟 T:厚度 Z:應力零點
圖1為表示本發明的第一實施形態的強化玻璃的剖面的概略圖。 圖2為表示本發明的第一實施形態的強化玻璃的厚度方向上的應力分佈的概略的曲線圖。 圖3為本發明的第一實施形態的強化玻璃的製造方法的流程圖。 圖4為本發明的第二實施形態的強化玻璃的製造方法的流程圖。 圖5為表示試樣No.1的強化玻璃的應力分佈的曲線圖。 圖6為表示試樣No.2的強化玻璃的應力分佈的曲線圖。 圖7為表示試樣No.3的強化玻璃的應力分佈的曲線圖。 圖8為表示試樣No.4的強化玻璃的應力分佈的曲線圖。 圖9為表示試樣No.10的強化玻璃的應力分佈的曲線圖。 圖10為表示試樣No.38的強化玻璃的應力分佈的曲線圖。 圖11為表示試樣No.49的強化玻璃的應力分佈的曲線圖。 圖12為表示試樣No.140的強化玻璃的應力分佈的曲線圖。 圖13為表示本發明的實施例中的落下試驗方法的概略圖。 圖14為表示本發明的實施例中的破壞高度與計算強度的關係的曲線圖。
B1:第一底部
B2:第二底部
CSb:應力
CSmax、CSp:壓縮應力
CTmax:拉伸應力
DOLb、DOLp、DOLzero:深度
P1:第一波峰
P2:第二波峰
T:厚度
Z:應力零點

Claims (8)

  1. 一種強化玻璃，其具有表面及厚度T，且所述強化玻璃的特徵在於：將壓縮應力設為正數、將拉伸應力設為負數且自所述表面起沿深度方向測定應力而獲得的應力分佈包括：於所述表面壓縮應力成為最大值的第一波峰；應力自所述第一波峰起沿深度方向遞減而成為極小值的第一底部；壓縮應力自所述第一底部起沿深度方向遞增而成為極大值的第二波峰；以及拉伸應力自所述第二波峰起沿深度方向遞減而成為最小值的第二底部；並且所述第一波峰處的壓縮應力為750MPa以上，所述第二波峰處的壓縮應力為15MPa~250MPa，所述第二波峰存在於所述厚度T的4%~20%的深度處，所述第一底部處的應力為0MPa以上且+65MPa以下。
  2. 如請求項1所述的強化玻璃，其中所述應力分佈在所述第二波峰與所述第二底部之間具有應力成為零的應力零點，所述應力零點存在於距所述表面為所述厚度T的10%~35%的深度處。
  3. 如請求項2所述的強化玻璃，其中所述第一底部存在於距所述表面為所述厚度T的0.5%~12%的深度處。
  4. 如請求項3所述的強化玻璃，其中自所述第一底部起至所述第二波峰為止的深度方向上的距離為所述厚度T的3%以上。
  5. 如請求項4所述的強化玻璃，其中所述第二波峰存在於距所述表面為所述厚度T的7.3%以深的位置。
  6. 如請求項5所述的強化玻璃，其中所述厚度T為0.3mm~0.9mm，於主表面及端面具有所述應力分佈。
  7. 如請求項1所述的強化玻璃，其中所述厚度T為0.45mm以上且0.85mm以下的範圍內，所述第一波峰處的壓縮應力為750MPa以上且850MPa以下的範圍內，所述第二波峰處的壓縮應力為20MPa以上且80MPa以下的範圍內，所述第二波峰存在於距所述表面為所述厚度T的7.3%以上且20%以下的深度範圍內，所述應力分佈在所述第二波峰與所述第二底部之間具有應力成為零的應力零點，所述應力零點存在於距所述表面為所述厚度T的17%以上且25%以下的深度範圍內，拉伸應力的最大絕對值為40MPa以上且60MPa以下的範圍內。
  8. 如請求項1至請求項7中任一項所述的強化玻璃，其中作為玻璃組成，以質量%計而含有40%~70%的SiO2、10%~30%的Al2O3、0%~10%的B2O3、2%~11%的Li2O、5%~25%的Na2O、0%~10%的K2O、0%~6%的MgO、0%~10%的ZnO、0%~20%的P2O5。
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