TWI811487B - 著色感光性組成物、膜、濾色器、固體攝像元件及圖像顯示裝置 - Google Patents
著色感光性組成物、膜、濾色器、固體攝像元件及圖像顯示裝置 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI811487B TWI811487B TW108142661A TW108142661A TWI811487B TW I811487 B TWI811487 B TW I811487B TW 108142661 A TW108142661 A TW 108142661A TW 108142661 A TW108142661 A TW 108142661A TW I811487 B TWI811487 B TW I811487B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- group
- pigment
- photosensitive composition
- formula
- colored photosensitive
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 241
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims abstract description 387
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 265
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 67
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 43
- -1 oxime compound Chemical class 0.000 claims description 126
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 117
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 117
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims description 77
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 74
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 70
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 47
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 31
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 claims description 25
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- FYNROBRQIVCIQF-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-b]pyrrole-5,6-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)C(=O)N=C21 FYNROBRQIVCIQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- SILNNFMWIMZVEQ-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazol-2-one Chemical compound C1=CC=C2NC(O)=NC2=C1 SILNNFMWIMZVEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 claims description 4
- PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N isoindolin-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NCC2=C1 PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 claims description 4
- 239000004172 quinoline yellow Substances 0.000 claims description 4
- 229940051201 quinoline yellow Drugs 0.000 claims description 4
- 235000012752 quinoline yellow Nutrition 0.000 claims description 4
- MYONAGGJKCJOBT-UHFFFAOYSA-N benzimidazol-2-one Chemical compound C1=CC=CC2=NC(=O)N=C21 MYONAGGJKCJOBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GWVMLCQWXVFZCN-UHFFFAOYSA-N isoindoline Chemical compound C1=CC=C2CNCC2=C1 GWVMLCQWXVFZCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N thioindigo Chemical compound S\1C2=CC=CC=C2C(=O)C/1=C1/C(=O)C2=CC=CC=C2S1 JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N 0.000 claims description 3
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 92
- 239000010408 film Substances 0.000 description 82
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 72
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 65
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 57
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 54
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 41
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 41
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 40
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 38
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 37
- 230000008569 process Effects 0.000 description 35
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 32
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 31
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 29
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 26
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 26
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 23
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 23
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 23
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 23
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical group [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 22
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 22
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 22
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 19
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 19
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 18
- 239000000047 product Substances 0.000 description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 16
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 16
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical group [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 15
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 15
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 15
- 238000011161 development Methods 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 15
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 14
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 14
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 14
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 14
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 14
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 13
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 13
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 13
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 12
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 12
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 12
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 12
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 12
- 239000001052 yellow pigment Substances 0.000 description 12
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 11
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 11
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 11
- 150000004292 cyclic ethers Chemical group 0.000 description 11
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 11
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 11
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 11
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 11
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 11
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 11
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 10
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 10
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 10
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 10
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 10
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 10
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 9
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 9
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 9
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 9
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 8
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 8
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 8
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 8
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 8
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 8
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 8
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 8
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 8
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 8
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 7
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 7
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical class [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 6
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 6
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 description 6
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 6
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 6
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 6
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 6
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 6
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 6
- 239000012463 white pigment Substances 0.000 description 6
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 5
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 5
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 5
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 5
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 5
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 5
- 239000001057 purple pigment Substances 0.000 description 5
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 5
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 5
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 5
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 5
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 5
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- HZNVUJQVZSTENZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(C#N)=C(C#N)C1=O HZNVUJQVZSTENZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 4
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 description 4
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 4
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 4
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 4
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 4
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 4
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 4
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 4
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 4
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 4
- RQGPLDBZHMVWCH-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-b]pyrrole Chemical class C1=NC2=CC=NC2=C1 RQGPLDBZHMVWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 4
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 4
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 4
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical group O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 3
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 3
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 3
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 3
- 125000004644 alkyl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005135 aryl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 3
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical group N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 3
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 3
- 239000007771 core particle Substances 0.000 description 3
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 3
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 3
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 3
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Chemical class N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 3
- 238000004768 lowest unoccupied molecular orbital Methods 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 3
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 3
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 3
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 3
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical class OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 3
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 description 3
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 3
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 3
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IXHWGNYCZPISET-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(dicyanomethylidene)-2,3,5,6-tetrafluorocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene]propanedinitrile Chemical compound FC1=C(F)C(=C(C#N)C#N)C(F)=C(F)C1=C(C#N)C#N IXHWGNYCZPISET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BXPLEMMFZOKIHP-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(dicyanomethylidene)-3-fluorocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene]propanedinitrile Chemical compound FC1=CC(=C(C#N)C#N)C=CC1=C(C#N)C#N BXPLEMMFZOKIHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IHXWECHPYNPJRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxycyclobut-2-en-1-one Chemical class OC1=CC(=O)C1 IHXWECHPYNPJRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTNFILZMBZUFDX-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-1,2-dihydrotriazol-5-one Chemical class N1N=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1O WTNFILZMBZUFDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000008360 acrylonitriles Chemical class 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 125000004466 alkoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium group Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- 125000005162 aryl oxy carbonyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 2
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical group C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 125000006367 bivalent amino carbonyl group Chemical group [H]N([*:1])C([*:2])=O 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 239000011246 composite particle Substances 0.000 description 2
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000412 dendrimer Substances 0.000 description 2
- 229920000736 dendritic polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005266 diarylamine group Chemical group 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 238000010130 dispersion processing Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 2
- WSTZPWUPYWHZRR-UHFFFAOYSA-N ethene;2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical group C=C.CCC(CO)(CO)CO WSTZPWUPYWHZRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 2
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 2
- LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N gallic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 2
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005143 heteroarylsulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005368 heteroarylthio group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002636 imidazolinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000879 imine group Chemical group 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 150000002475 indoles Chemical class 0.000 description 2
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 2
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 150000004010 onium ions Chemical class 0.000 description 2
- 239000001053 orange pigment Substances 0.000 description 2
- AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N oxophosphane Chemical compound P=O AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 2
- 229920000412 polyarylene Polymers 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 2
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 2
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 150000003873 salicylate salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoquinodimethane Chemical compound N#CC(C#N)=C1C=CC(=C(C#N)C#N)C=C1 PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003568 thioethers Chemical group 0.000 description 2
- OVTCUIZCVUGJHS-VQHVLOKHSA-N trans-dipyrrin Chemical class C=1C=CNC=1/C=C1\C=CC=N1 OVTCUIZCVUGJHS-VQHVLOKHSA-N 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N urea group Chemical group NC(=O)N XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012855 volatile organic compound Substances 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical group O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFBYWDZWMVWPLL-UHFFFAOYSA-N (3-imino-1-oxo-1-phenylpropan-2-yl) benzoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(C=N)OC(=O)C1=CC=CC=C1 DFBYWDZWMVWPLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGSHZSDDBWTHDU-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC(=O)C(C)=NOS(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 PGSHZSDDBWTHDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRUDPRFGMHTPFJ-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) acetate Chemical compound CC(=O)ON=C(C)C(C)=O MRUDPRFGMHTPFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKCKRZWCOYHBEC-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) benzoate Chemical compound CC(=O)C(C)=NOC(=O)C1=CC=CC=C1 SKCKRZWCOYHBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQLZSJJJXHJANW-UHFFFAOYSA-N (3-oxopentan-2-ylideneamino) acetate Chemical compound CCC(=O)C(C)=NOC(C)=O HQLZSJJJXHJANW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N (z)-1-[(z)-octadec-9-enoxy]octadec-9-ene Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOCCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000355 1,3-benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical group CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran Chemical group C1=CC=C2OC=CC2=C1 IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical class C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGGNJDKQZHDKHQ-UHFFFAOYSA-N 1H-indole Chemical group C1=CC=C2NC=CC2=C1.C1=CC=C2NC=CC2=C1 JGGNJDKQZHDKHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 2,3-ditert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1C(C)(C)C QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXOFYPKXCSULTL-UHFFFAOYSA-N 2,4,7,9-tetramethyldec-5-yne-4,7-diol Chemical compound CC(C)CC(C)(O)C#CC(C)(O)CC(C)C LXOFYPKXCSULTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZECQLHQEHJJSAN-UHFFFAOYSA-N 2,9-dihydro-1h-carbazole Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C2=C1CCC=C2 ZECQLHQEHJJSAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKWGWBPECLWUKL-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3,6,8-tetratert-butylbenzo[d][1,3,2]benzodioxaphosphepin-10-yl)oxy-N,N-bis[2-(1,3,6,8-tetratert-butylbenzo[d][1,3,2]benzodioxaphosphepin-10-yl)oxyethyl]ethanamine Chemical compound C(C)(C)(C)C1=CC(=CC2=C1OP(OC1=C2C(=CC(=C1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OCCN(CCOC1=CC2=C(OP(OC3=C2C(=CC(=C3)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(=C1)C(C)(C)C)CCOC1=CC2=C(OP(OC3=C2C(=CC(=C3)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(=C1)C(C)(C)C XKWGWBPECLWUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIAFURWZWWWBQT-UHFFFAOYSA-N 2-(2-aminoethoxy)ethanol Chemical compound NCCOCCO GIAFURWZWWWBQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFSDYUVXXQTNMX-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(dicyanomethylidene)-2,5-difluorocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene]propanedinitrile Chemical compound FC1=CC(=C(C#N)C#N)C(F)=CC1=C(C#N)C#N PFSDYUVXXQTNMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOGWYSWDBYCVDY-UHFFFAOYSA-N 2-chlorocyclohexa-2,5-diene-1,4-dione Chemical compound ClC1=CC(=O)C=CC1=O WOGWYSWDBYCVDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-[4-[[4-(2-hydroxy-2-methylpropanoyl)phenyl]methyl]phenyl]-2-methylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(C)(O)C)=CC=C1CC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-2-ol Chemical compound CC(C)(O)CC1=CC=CC=C1 RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOUQAVYLRNOXDO-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(C(C)(C)C)C(O)=C1 XOUQAVYLRNOXDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBNVWXKPFORCRI-UHFFFAOYSA-N 2h-naphtho[2,3-f]quinolin-1-one Chemical class C1=CC=CC2=CC3=C4C(=O)CC=NC4=CC=C3C=C21 XBNVWXKPFORCRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CAAMSDWKXXPUJR-UHFFFAOYSA-N 3,5-dihydro-4H-imidazol-4-one Chemical compound O=C1CNC=N1 CAAMSDWKXXPUJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEMXPVDXFSROA-UHFFFAOYSA-N 3-butylbenzene-1,2-diol Chemical group CCCCC1=CC=CC(O)=C1O BJEMXPVDXFSROA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQYSALLXMHVJAV-UHFFFAOYSA-M 3-heptyl-2-[(3-heptyl-4-methyl-1,3-thiazol-3-ium-2-yl)methylidene]-4-methyl-1,3-thiazole;iodide Chemical compound [I-].CCCCCCCN1C(C)=CS\C1=C\C1=[N+](CCCCCCC)C(C)=CS1 DQYSALLXMHVJAV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 5-(2,4-dioxooxolan-3-yl)-7-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C(C(OC2=O)=O)C2C(C)=CC1C1C(=O)COC1=O FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 9,10-anthraquinone Chemical group C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZRPIZSSEMKEEW-UHFFFAOYSA-N C1CO1.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 Chemical compound C1CO1.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 HZRPIZSSEMKEEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150012716 CDK1 gene Proteins 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000000703 Cerium Chemical class 0.000 description 1
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N Cyclohexyl acetate Chemical compound CC(=O)OC1CCCCC1 YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100029921 Dipeptidyl peptidase 1 Human genes 0.000 description 1
- 102100020751 Dipeptidyl peptidase 2 Human genes 0.000 description 1
- FPVVYTCTZKCSOJ-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol distearate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCOC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC FPVVYTCTZKCSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000793922 Homo sapiens Dipeptidyl peptidase 1 Proteins 0.000 description 1
- 101000931864 Homo sapiens Dipeptidyl peptidase 2 Proteins 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002035 Pluronic® L 10 Polymers 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical group CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- 229920002359 Tetronic® Polymers 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- CGRTZESQZZGAAU-UHFFFAOYSA-N [2-[3-[1-[3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoyloxy]-2-methylpropan-2-yl]-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecan-9-yl]-2-methylpropyl] 3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C)=CC(CCC(=O)OCC(C)(C)C2OCC3(CO2)COC(OC3)C(C)(C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C)C=2)C(C)(C)C)=C1 CGRTZESQZZGAAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N [2-[[4-methyl-3-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]carbonylamino]phenyl]carbamoyloxymethyl]-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound CC1=CC=C(NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C)C=C1NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N [3-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]-2,2-bis[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxymethyl]propyl] 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCC(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIVQCJOGAHNXBO-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] propanoate Chemical compound CCC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HIVQCJOGAHNXBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000004844 aliphatic epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001420 alkaline earth metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 150000004996 alkyl benzenes Chemical class 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229910052789 astatine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000013475 authorization Methods 0.000 description 1
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 1
- JGFLAAWSLCPCDY-UHFFFAOYSA-N benzene;cyclopenta-1,3-diene;iron Chemical compound [Fe].C1C=CC=C1.C1=CC=CC=C1 JGFLAAWSLCPCDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 150000001562 benzopyrans Chemical class 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 125000000649 benzylidene group Chemical group [H]C(=[*])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M benzyltrimethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RKTGAWJWCNLSFX-UHFFFAOYSA-M bis(2-hydroxyethyl)-dimethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].OCC[N+](C)(C)CCO RKTGAWJWCNLSFX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- 239000007853 buffer solution Substances 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010216 calcium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 229910002090 carbon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000332 coumarinyl group Chemical class O1C(=O)C(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940105990 diglycerin Drugs 0.000 description 1
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 239000012972 dimethylethanolamine Substances 0.000 description 1
- 150000002013 dioxins Chemical class 0.000 description 1
- OVTCUIZCVUGJHS-UHFFFAOYSA-N dipyrrin Chemical compound C=1C=CNC=1C=C1C=CC=N1 OVTCUIZCVUGJHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- YDMWUMUNUXUYKT-UHFFFAOYSA-N ethyl [(1-oxo-1-phenylpropan-2-ylidene)amino] carbonate Chemical compound CCOC(=O)ON=C(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 YDMWUMUNUXUYKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVFVBPYVNUCWJX-UHFFFAOYSA-M ethyl(trimethyl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](C)(C)C KVFVBPYVNUCWJX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 1
- 229940074391 gallic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000004515 gallic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium oxide Inorganic materials O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 229940100608 glycol distearate Drugs 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004970 halomethyl group Chemical group 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005553 heteroaryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005226 heteroaryloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine group Chemical group NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002433 hydrophilic molecules Chemical class 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- YAMHXTCMCPHKLN-UHFFFAOYSA-N imidazolidin-2-one Chemical group O=C1NCCN1 YAMHXTCMCPHKLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003453 indazolyl group Chemical group N1N=C(C2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003387 indolinyl group Chemical group N1(CCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 230000009878 intermolecular interaction Effects 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002510 isobutoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical group OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002518 isoindoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000000904 isoindolyl group Chemical group C=1(NC=C2C=CC=CC12)* 0.000 description 1
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005439 maleimidyl group Chemical group C1(C=CC(N1*)=O)=O 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- NYGZLYXAPMMJTE-UHFFFAOYSA-M metanil yellow Chemical group [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC(N=NC=2C=CC(NC=3C=CC=CC=3)=CC=2)=C1 NYGZLYXAPMMJTE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N methyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OC HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011325 microbead Substances 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 238000000199 molecular distillation Methods 0.000 description 1
- AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N n-(9,10-dioxoanthracen-1-yl)-4-[4-[[4-[4-[(9,10-dioxoanthracen-1-yl)carbamoyl]phenyl]phenyl]diazenyl]phenyl]benzamide Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2NC(=O)C(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1N=NC(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1C(=O)NC1=CC=CC2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N n-hydroxy-n-phenylnitrous amide Chemical class O=NN(O)C1=CC=CC=C1 DAHPIMYBWVSMKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006574 non-aromatic ring group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N octadecyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002114 octoxynol-9 Polymers 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N omega-Hydroxydodecanoic acid Natural products OCCCCCCCCCCCC(O)=O ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical group C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 150000004880 oxines Chemical class 0.000 description 1
- AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethanamine Chemical compound NCC1CO1 AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N oxogermanium Chemical compound [Ge]=O PVADDRMAFCOOPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRNFFDZCBYOZJY-UHFFFAOYSA-N p-quinodimethane Chemical class C=C1C=CC(=C)C=C1 NRNFFDZCBYOZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013500 performance material Substances 0.000 description 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical group O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N phosphonic acid group Chemical group P(O)(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 229920006350 polyacrylonitrile resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical class C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGVMPKQSTZIOIU-UHFFFAOYSA-N quaterrylene Chemical group C12=C3C4=CC=C2C(C2=C56)=CC=C5C(C=57)=CC=CC7=CC=CC=5C6=CC=C2C1=CC=C3C1=CC=CC2=CC=CC4=C21 GGVMPKQSTZIOIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002294 quinazolinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003011 styrenyl group Chemical group [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- PMJMHCXAGMRGBZ-UHFFFAOYSA-N subphthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(=N3)N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C3=N1 PMJMHCXAGMRGBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 1
- 125000000475 sulfinyl group Chemical group [*:2]S([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 1
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M tetrapropylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003577 thiophenes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- 238000010023 transfer printing Methods 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical group 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000004953 trihalomethyl group Chemical group 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 1
- 238000001132 ultrasonic dispersion Methods 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N urethane group Chemical group NC(=O)OCC JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 239000001043 yellow dye Substances 0.000 description 1
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/44—Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
- C08K5/0041—Optical brightening agents, organic pigments
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3412—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
- C08K5/3415—Five-membered rings
- C08K5/3417—Five-membered rings condensed with carbocyclic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B47/00—Porphines; Azaporphines
- C09B47/04—Phthalocyanines abbreviation: Pc
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B62/00—Reactive dyes, i.e. dyes which form covalent bonds with the substrates or which polymerise with themselves
- C09B62/02—Reactive dyes, i.e. dyes which form covalent bonds with the substrates or which polymerise with themselves with the reactive group directly attached to a heterocyclic ring
- C09B62/04—Reactive dyes, i.e. dyes which form covalent bonds with the substrates or which polymerise with themselves with the reactive group directly attached to a heterocyclic ring to a triazine ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B67/00—Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
- C09B67/0033—Blends of pigments; Mixtured crystals; Solid solutions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B67/00—Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
- C09B67/0071—Process features in the making of dyestuff preparations; Dehydrating agents; Dispersing agents; Dustfree compositions
- C09B67/0084—Dispersions of dyes
- C09B67/0085—Non common dispersing agents
- C09B67/009—Non common dispersing agents polymeric dispersing agent
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
- G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/325—Non-aqueous compositions
- G03F7/327—Non-aqueous alkaline compositions, e.g. anhydrous quaternary ammonium salts
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/38—Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Architecture (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Color Television Image Signal Generators (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Abstract
一種著色感光性組成物,其包含:顏料衍生物A1,在波長400~700 nm的範圍內的莫耳吸光係數的最大值為3,000 L・mol-1
・cm-1
以下;顏料衍生物A2,在波長400~700 nm的範圍內的莫耳吸光係數的最大值超過3,000 L・mol-1
・cm-1
;顏料;聚合性化合物;及光聚合起始劑。本發明提供一種由上述著色感光性組成物形成之膜、濾色器、固體攝像元件及圖像顯示裝置。
Description
本發明關於一種包含顏料之著色感光性組成物。又,本發明關於一種由著色感光性組成物形成之膜、濾色器、固體攝像元件及圖像顯示裝置。
近年來,由於數位照相機、附帶照相機之可攜式電話等的普及,電荷耦合元件(CCD)圖像感測器等固體攝像元件的需求大幅增長。使用濾色器、紅外線截止濾波器等作為顯示器和光學元件的關鍵器件。
濾色器或紅外線截止濾波器係使用包含著色劑和聚合性化合物之著色感光性組成物來製造。又,通常使用顏料作為著色劑時,使用分散劑等使顏料分散於著色感光性組成物中。
專利文獻1中揭示有關於著色感光性組成物之發明,該著色感光性組成物含有使規定的三化合物和顏料分散於有機溶劑中而製造之顏料分散組成物、具有酸性基之黏合劑聚合物、具有2個以上的乙烯性不飽和雙鍵之多官能單體及光聚合起始劑。
又,專利文獻2中記載有一種顏料分散劑,其特徵為含有特定結構的偶氮色素。
[專利文獻1]日本特開2003-081972號公報
[專利文獻2]日本特開2000-239554號公報
關於使用著色感光性組成物而形成之膜,期望進一步的提高與支撐體的密接性和所獲得之膜的對比度的相容性。
另外,專利文獻1中,對顏料分散後的組成物的分散穩定性的進行了研究,但是對於與支撐體的密接性並未進行任何研究,又,對於所獲得之膜的對比度尚有進一步提高的餘地。
又,專利文獻2中記載了提高所獲得之膜的對比度之內容,但是對於與支撐體的密接性並未進行任何研究。
因此,本發明的目的在於提供一種能夠形成與支撐體的密接性和所獲得之對比度的相容性優異之膜之著色感光性組成物。又,提供一種由著色感光性組成物形成之膜、濾色器、固體攝像元件及圖像顯示裝置。
藉由本發明人的研究,發現能夠藉由設為以下的構成來實現上述目的,以致完成本發明。因此,本發明提供以下。
<1>一種著色感光性組成物,其包含:顏料衍生物A1,在波長400~700nm的範圍內的莫耳吸光係數的最大值為3,000L.mol-1.cm-1以下;顏料衍生物A2,在波長400~700nm的範圍內的莫耳吸光係數的最大值超過3,000L.mol-1.cm-1;
顏料;聚合性化合物;及光聚合起始劑。
<2>如<1>所述之著色感光性組成物,其中相對於上述顏料衍生物A1和上述顏料衍生物A2的總質量,上述顏料衍生物A1的含量為50~90質量%。
<3>如<1>或<2>所述之著色感光性組成物,其中相對於上述顏料100質量份,上述顏料衍生物A1和上述顏料衍生物A2的總含量為1~30質量份。
<4>如<1>至<3>中任一項所述之著色感光性組成物,其中上述顏料衍生物A1包含由下述式(1)表示之化合物。
A1-L1-Z1......(1)
式(Z1)中,*表示鍵結鍵,Yz1表示-N(Ry1)-或-O-,Ry1表示氫原子或烴基,
Lz1表示單鍵或2價的連結基,Rz1及Rz2分別獨立地表示氫原子或烴基,Rz1與Rz2可經由2價的基團鍵結而形成環,m表示1~5的整數。
<5>如<4>所述之著色感光性組成物,其中由上述式(Z1)表示之基團為由下述式(Z2)表示之基團。
式(Z2)中,*表示鍵結鍵,Yz2及Yz3分別獨立地表示-N(Ry2)-或-O-,Ry2表示氫原子或烴基,Lz2及Lz3分別獨立地表示2價的連結基,Rz3~Rz6分別獨立地表示氫原子或烴基,Rz3與Rz4及Rz5與Rz6可分別經由2價的基團鍵結而形成環。
<6>如<1>至<5>中任一項所述之著色感光性組成物,其中上述顏料衍生物A2包含具有色素部分結構之化合物,上述色素部分結構包含將選自包括苯并咪唑酮色素、苯并咪唑啉酮色素、喹啉黃色素、酞菁色素、蒽醌色素、二酮吡咯并吡咯色素、喹吖啶
酮色素、偶氮色素、異吲哚啉酮色素、異吲哚啉色素、二色素、苝色素及硫靛藍色素之群組中之至少一種色素作為來源之部分結構。
<7>如<1>至<6>中任一項所述之著色感光性組成物,其中上述顏料衍生物A2包含選自包括下述式(Pg-1)~下述式(Pg-10)之群組中之至少一種部分結構。
式(Pg-1)~式(Pg-10)中,虛線部分表示與其他結構的鍵結部位。
<8>如<1>至<7>中任一項所述之著色感光性組成物,其中
上述顏料包含鹵代酞菁。
<9>如<1>至<8>中任一項所述之著色感光性組成物,其中上述光聚合起始劑包含肟化合物。
<10>如<1>至<9>中任一項所述之著色感光性組成物,其中上述光聚合起始劑在波長365nm下的莫耳吸光係數為3,000L.mol-1.cm-1以上。
<11>如<1>至<10>中任一項所述之著色感光性組成物,其還包含作為樹脂之分散劑。
<12>如<1>至<11>中任一項所述之著色感光性組成物,其還包含具有酸基之樹脂。
<13>一種膜,其由<1>至<12>中任一項所述之著色感光性組成物形成。
<14>一種濾色器,其由<1>至<12>中任一項所述之著色感光性組成物形成。
<15>一種固體攝像元件,其包含<13>所述之膜。
<16>一種圖像顯示裝置,其包含<13>所述之膜。
藉由本發明,提供一種能夠形成與支撐體的密接性優異之膜之著色感光性組成物。又,提供一種由上述著色感光性組成物形成之膜、濾色器、固體攝像元件及圖像顯示裝置。
以下,對本發明的內容進行詳細說明。
本說明書中,“~”係以將記載於其前後之數值作為下限值及上限值而包含之含義來使用。
本說明書中之基團(原子團)的標記中,未標有經取代及未經取代之標記包含不具有取代基之基團(原子團),並且亦包含具有取代基之基團(原子團)。例如,“烷基”係指,不僅包含不具有取代基之烷基(未經取代烷基),亦包含具有取代基之烷基(經取代烷基)。
關於本說明書中的“曝光”,除非另有指明,則不僅包含使用光之曝光,使用電子束及離子束等粒子束之描繪亦包含在曝光中。並且,作為曝光中所使用之光,可列舉水銀燈的明線光譜、準分子雷射所代表之遠紫外線、極紫外線(EUV光)、X射線、電子束等光化射線或放射線。
本說明書中,“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯及丙烯酸甲酯兩者或任一者,“(甲基)丙烯酸”表示丙烯酸及甲基丙烯酸兩者或任一者,“(甲基)丙烯醯基”表示丙烯醯基及甲基丙烯醯基兩者或任一者。
本說明書中,結構式中的Me表示甲基,Et表示乙基,Bu表示丁基,Ph表示苯基。
本說明書中,重量平均分子量(Mw)及數量平均分子量(Mn)係藉由GPC(凝膠滲透層析)法來進行測量之聚苯乙烯換算值。
本說明書中,近紅外線係指波長700~2,500nm的光。
本說明書中,總固體成分係指從組成物的總成分中去除溶劑之成分的總質量。
本說明書中,顏料係指難以溶解於溶劑之化合物。例如,顏料相對於23℃的水100g及23℃的丙二醇單甲醚乙酸酯100g之溶解度均為0.1g以下為較佳,0.01g以下為更佳。
本說明書中“製程”的術語不僅為獨立之製程,而且即使在無法與其他製程明確區分之情況下,亦實現該製程的所期望的作用,則包含在本術語中。
在本說明書中,除非另有說明,否則組成物作為組成物中所含有之各成分可以包含與其成分相對應之2種以上的化合物。又,除非另有說明,否則組成物中的各成分的含量係指與其成分相對應之所有化合物的合計含量。
在本說明書中,除非另有說明,否則結構式中的波線部分或*(星號)表示與其他結構的鍵結部位。
本說明書中,較佳的態樣的組合係更佳的態樣。
(著色感光性組成物)
本發明的著色感光性組成物包含:
顏料衍生物A1(以下,亦稱為“無色顏料衍生物A1”。),在波長400~700nm的範圍內的莫耳吸光係數的最大值為3,000L.mol-1.cm-1以下;
顏料衍生物A2(以下,亦稱為“有色顏料衍生物A2”。),在波長400~700nm的範圍內的莫耳吸光係數的最大值超過3,000L.mol-1.cm-1;顏料;聚合性化合物;及光聚合起始劑。
藉由本發明的著色感光性組成物,可獲得與支撐體的密接性和所獲得之膜的對比度的相容性優異的膜。作為可獲得上述效果之原因,可如下推測。
本發明的著色感光性組成物包含光聚合起始劑。通常,由於光聚合起始劑為光分解性高的化合物,因此推測在保管著色感光性組成物時等中亦會進行光聚合起始劑的分解反應從而使光聚合起始劑的性能容易被失活。
尤其,對於著色感光性組成物,除了顏料以外,以顏料的分散等為目的有時還使用顏料衍生物。作為上述顏料衍生物僅包含在波長400~700nm的範圍具有吸收之化合物時,由於該種化合物作為敏化劑發揮作用,因此推測光聚合起始劑的性能更容易被失活。
本發明的著色感光性組成物除了在波長400~700nm的範圍具有吸收之上述化合物以外還併用無色顏料衍生物A1作為顏料衍生物。因此,推測配合所需量的顏料衍生物的同時可抑制基於上述化合物的增感作用,從而抑制著色感光性組成物中的光聚合起始劑的性能失活。從著色感光性組成物的感光性得到提高等的原因
考慮,認為藉由抑制上述失活,硬化著色感光性組成物時容易硬化至膜深部(膜的支撐體側),從而形成密接性優異的膜。
又,作為顏料衍生物,當僅使用無色顏料衍生物時,有時所獲得之膜的對比度可能會降低。認為這是因為,在膜中顏料之間存在無色顏料衍生物,因此與包含有色顏料衍生物之情況相比,膜中的可見光的吸收性降低。本發明的著色感光性組成物包含有色顏料衍生物A2作為顏料衍生物。藉由上述有色顏料衍生物A2來補充上述可見光的吸收,因此可獲得對比度優異的膜。
亦即,認為本發明的著色感光性組成物包含無色顏料衍生物A1及有色顏料衍生物A2,從而能夠良好地維持上述密接性及上述對比度的相容性的同時能夠增加顏料衍生物的濃度,因此分散性亦容易優異。
又,認為關於本發明的著色感光性組成物,由於可抑制上述光聚合起始劑的分解,因此著色感光性組成物的保存穩定性亦優異。
本發明的著色感光性組成物能夠應用於濾色器、近紅外線透過濾波器、近紅外線截止濾波器、黑矩陣、遮光膜、折射率調整膜、微透鏡等中。
作為濾色器,可列舉具有透過特定波長的光之著色像素之濾波器,具有選自包括紅色像素、藍色像素、綠色像素、黃色像素、青色像素及品紅色像素的群組中之至少1種著色像素之濾波器為較佳。
濾色器能夠使用包含彩色顏料之著色感光性組成物來形成。
作為近紅外線截止濾波器,可列舉在波長700~1,800nm的範圍具有極大吸收波長之濾波器。近紅外線截止濾波器係在波長700~1,300nm的範圍具有極大吸收波長之濾波器為較佳,在波長700~1,000nm的範圍具有極大吸收波長之濾波器為更佳。
又,近紅外線截止濾波器在波長400~650nm的所有範圍的透過率係70%以上為較佳,80%以上為更佳,90%以上為進一步較佳。又,在波長700~1,800nm的範圍的至少1點的透過率係20%以下為較佳。
又,近紅外線截止濾波器的極大吸收波長下的吸光度Amax與波長550nm下的吸光度A550之比亦即吸光度Amax/吸光度A550係20~500為較佳,50~500為更佳,70~450為進一步較佳,100~400為特佳。
近紅外線截止濾波器能夠使用包含近紅外線吸收顏料之著色感光性組成物來形成。
近紅外線透過濾波器為透過至少一部分近紅外線之濾波器。近紅外線透過濾波器可以為透過可見光和近紅外線兩者之濾波器(透明膜),亦可以為屏蔽至少一部分可見光,並透過至少一部分近紅外線之濾波器。作為近紅外線透過濾波器,可較佳地列舉滿足波長400~640nm的範圍的透過率的最大值為20%以下(較佳為15%以下,更佳為10%以下)且波長1,100~1,300nm的範圍的透過率的最小值為70%以上(較佳為75%以上,更佳為80%以上)之分光特性之濾波器等。
近紅外線透過濾波器係滿足以下的(1)~(4)中的任一者的分光特性之濾波器為較佳。
(1):波長400~640nm的範圍的透過率的最大值為20%以下(較佳為15%以下,更佳為10%以下)且波長800~1,300nm的範圍的透過率的最小值為70%以上(較佳為75%以上,更佳為80%以上)之濾波器。
(2):波長400~750nm的範圍的透過率的最大值為20%以下(較佳為15%以下,更佳為10%以下)且波長900~1,300nm的範圍的透過率的最小值為70%以上(較佳為75%以上,更佳為80%以上)之濾波器。
(3):波長400~830nm的範圍的透過率的最大值為20%以下(較佳為15%以下,更佳為10%以下)且波長1,000~1,300nm的範圍的透過率的最小值為70%以上(較佳為75%以上,更佳為80%以上)之濾波器。
(4):波長400~950nm的範圍的透過率的最大值為20%以下(較佳為15%以下,更佳為10%以下)且波長1,100~1,300nm的範圍的透過率的最小值為70%以上(較佳為75%以上,更佳為80%以上)之濾波器。
本發明的著色感光性組成物能夠較佳地用作濾色器用著色感光性組成物。具體而言,能夠較佳地用作濾色器的像素形成用著色感光性組成物,並且能夠更佳地用作固體攝像元件中所使用之濾色器的像素形成用著色感光性組成物。
又,本發明的著色感光性組成物能夠較佳地用作濾色器的綠色像素形成用硬化性組成物。
又,本發明的著色感光性組成物亦能夠用作彩色微透鏡形成用組成物。作為彩色微透鏡的製造方法,可列舉日本特開2018-010162號公報中所記載之方法等。
以下,對本發明的著色感光性組成物中所使用之各成分進行說明。
<無色顏料衍生物A1>
本發明的著色感光性組成物包含波長400~700nm的範圍內的莫耳吸光係數的最大值為3,000L.mol-1.cm-1以下的顏料衍生物A1(無色顏料衍生物A1)。
從所獲得之膜與支撐體的密接性的觀點考慮,無色顏料衍生物A1在波長400~700nm的範圍內的莫耳吸光係數的最大值為1,000L.mol-1.cm-1以下為較佳,500L.mol-1.cm-1以下為更佳,100L.mol-1.cm-1以下為進一步較佳。最小值並無特別限定,能夠設為0L.mol-1.cm-1以上。
在本說明書中,無色顏料衍生物A1的莫耳吸光係數的值係藉由後述之實施例中所記載之方法測量而得之值。
[化合物(1)]
無色顏料衍生物A1係由下述式(1)表示之化合物(亦稱為“化合物(1)”)為較佳。
A1-L1-Z1......(1)
式(1)中,A1表示包含芳香族環之基團,L1表示單鍵或2價的連結基,Z1表示由下述式(Z1)表示之基團。
式(Z1)中,*表示鍵結鍵,Yz1表示-N(Ry1)-或-O-,Ry1表示氫原子或烴基,Lz1表示單鍵或2價的連結基,Rz1及Rz2分別獨立地表示氫原子或烴基,Rz1與Rz2可經由2價的基團鍵結而形成環,m表示1~5的整數。
-A1-
式(1)中,A1表示包含芳香族環之基團。作為芳香族環,可以為芳香族烴環,亦可以為芳香族雜環。又,芳香族環可以為單環,亦可以為稠環。
作為A1所表示之基團,可列舉包含選自包括苯環、萘環、茀環、苝環、咪唑環、吡唑環、噁唑環、噻唑環、咪唑啉環、吡啶環、三唑環、咪唑啉環、哌環、嘧啶環、噠環、喹啉環、異喹啉環、喹噁啉環、喹唑啉環、苯并咪唑環、苯并吡唑環、苯并噁唑環、苯
并噻唑環、苯并三唑環、吲哚環、異吲哚環、三環、吡咯環、咔唑環、苯并咪唑啉酮環、鄰苯二甲醯亞胺環、酞菁環、蒽醌環、二氧代吡咯并吡咯環、異吲哚啉酮環、異吲哚啉環及喹吖酮環之群組中之芳香族環之基團;包含含有該等芳香族環之稠環之基團等。上述稠環可以為芳香族環,亦可以為非芳香族環,芳香族環為較佳。
又,A1中的與L1的鍵結位置中的原子係A1中所含有之芳香族環或稠環中所含有之環員之原子為較佳,A1中所含有之芳香族環或稠環中所含有之環員之碳原子為更佳。
又,A1所表示之基團可以為僅具有1個上述芳香族環或稠環之基團,但從芳香族環多的一方藉由π-π相互作用,顏料吸附性得到提高從而容易提高組成物的保存穩定性之原因考慮,具有2個以上的該等環為較佳。
A1包含2個以上的環時,該等環藉由單鍵、-O-、-NRa-、醯胺鍵、-S-、-C(=O)-、酯鍵、脲鍵、醯亞胺鍵等鍵結為較佳。上述Ra表示氫原子或烴基,係氫原子、烷基、烯基、炔基或芳基為較佳,氫原子或烷基為更佳,氫原子為進一步較佳。
Ra所表示之烴基的碳數係1~30為較佳,1~20為更佳,1~12為進一步較佳。Ra所表示之烴基可以進一步具有取代基。作為取代基,可列舉後述之取代基T。
Ra所表示之烷基的碳數係1~20為較佳,1~15為更佳,1~8為進一步較佳。烷基可以為直鏈、分支、環狀中的任一種,亦可以為將該等組合2種以上而成之結構,直鏈或分支為較佳,直鏈為更
佳。Ra所表示之烷基可進一步具有取代基。作為取代基,可列舉後述之取代基T。
Ra所表示之烯基的碳數係2~20為較佳,2~12為更佳,2~8為特佳。烯基可以為直鏈、分支、環狀中的任一種,亦可以為將該等組合2種以上而成之結構,直鏈或分支為較佳,直鏈為更佳。Ra所表示之烯基可以進一步具有取代基。作為取代基,可列舉後述之取代基T。
Ra所表示之炔基的碳數係2~40為較佳,2~30為更佳,2~25為特佳。炔基可以為直鏈、分支、環狀中的任一種,亦可以為將該等組合2種以上而成之結構,直鏈或分支為較佳,直鏈為更佳。Ra所表示之炔基可以進一步具有取代基。作為取代基,可列舉後述之取代基T。
Ra所表示之芳基的碳數係6~30為較佳,6~20為更佳,6~12為進一步較佳。Ra所表示之芳基可以進一步具有取代基。作為取代基,可列舉後述之取代基T。
A1所表示之基團可進一步具有取代基。作為取代基,可列舉後述之取代基T。
從提高著色感光性組成物中的顏料的分散性之觀點或提高著色感光性組成物的保存穩定性之觀點考慮,A1所表示之基團係具有容易與本發明的著色感光性組成物中所含有之顏料相互作用之結構或類似於顏料之結構之基團為較佳。又,從容易更顯著地獲得本發明的效果之原因考慮,A1所表示之基團係包含芳香族雜
環之基團為較佳,包含含氮芳香族雜環之基團為更佳,包含三環之基團為進一步較佳,由下述式(A1)表示之基團為特佳。
式(A1)中,*表示鍵結鍵,Ya1及Ya2分別獨立地表示-N(Ra1)-或-O-,Ra1表示氫原子或烴基,B1及B2分別獨立地表示氫原子或取代基。
式(A1)中,Ya1及Ya2分別獨立地表示-N(Ra1)-或-O-,從容易更顯著地獲得本發明的效果之原因考慮,-N(Ra1)-為較佳。
Ra1表示氫原子或烴基,Ra1的較佳態樣與上述Ra中的較佳態樣相同。
式(A1)中,B1及B2分別獨立地表示氫原子或取代基。作為取代基可列舉後述之取代基T,烷基、芳基或雜環基為較佳,芳基或雜環基為更佳,從提高顏料吸附性而容易提高組成物的保存穩定性之原因考慮,芳基為進一步較佳。
B1及B2所表示之烷基、芳基及雜環基可以進一步具有取代基。作為進一步的取代基,可列舉烷基(較佳為碳數1~30的烷基)、氟烷基(較佳為碳數1~30的氟烷基)、烯基(較佳為碳數2~30的
烯基)、炔基(較佳為碳數2~30的炔基)、芳基(較佳為碳數6~30的芳基)、胺基(較佳為碳數0~30的胺基)、烷氧基(較佳為碳數1~30的烷氧基)、芳氧基(較佳為碳數6~30的芳氧基)、雜芳氧基、醯基(較佳為碳數1~30的醯基)、烷氧羰基(較佳為碳數2~30的烷氧羰基)、芳基氧羰基(較佳為碳數7~30的芳基氧羰基)、醯氧基(較佳為碳數2~30的醯氧基)、醯胺基(較佳為碳數2~30的醯胺基)、烷氧基羰基胺基(較佳為碳數2~30的烷氧基羰基胺基)、芳氧基羰基胺基(較佳為碳數7~30的芳氧基羰基胺基)、胺磺醯基(較佳為碳數0~30的胺磺醯基)、胺甲醯基(較佳為碳數1~30的胺甲醯基)、烷硫基(較佳為碳數1~30的烷硫基)、芳硫基(較佳為碳數6~30的芳硫基)、雜芳硫基(較佳為碳數1~30的雜芳硫基)、烷基磺醯基(較佳為碳數1~30的烷基磺醯基)、芳基磺醯基(較佳為碳數6~30的芳基磺醯基)、雜芳基磺醯基(較佳為碳數1~30的雜芳基磺醯基)、烷基亞磺醯基(較佳為碳數1~30的烷基亞磺醯基)、芳基亞磺醯基(較佳為碳數6~30的芳基亞磺醯基)、雜芳基亞磺醯基(較佳為碳數1~30的雜芳基亞磺醯基)、脲基(較佳為碳數1~30的脲基)、磷酸醯胺基(較佳為碳數1~30的磷酸醯胺基)、羥基、羧基、磺酸基、磷酸基、巰基、鹵素原子、氰基、烷基亞磺基、芳基亞磺基、肼基、亞胺基等,烷基、氟烷基、烷氧基、胺基、鹵素原子、烯基、羥基、烷氧基羰基、醯氧基、醯胺基、硝基為較佳。
B1及B2所表示之烷基、芳基及雜環基不具有上述之進一步的取代基亦為較佳。
<<取代基T>>
作為取代基T,可列舉鹵素原子、氰基、硝基、烷基、烯基、炔基、芳基、雜環基、-ORt1、-CORt1、-COORt1、-OCORt1、-NRt1Rt2、-NHCORt1、-CONRt1Rt2、-NHCONRt1Rt2、-NHCOORt1、-SRt1、-SO2Rt1、-SO2ORt1、-NHSO2Rt1或-SO2NRt1Rt2。Rt1及Rt2分別獨立地表示氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基或雜芳基。Rt1與Rt2可以鍵結而形成環。
作為鹵素原子,可列舉氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。
烷基的碳數係1~30為較佳,1~15為更佳,1~8為進一步較佳。烷基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種,直鏈或支鏈為較佳,直鏈為更佳。
烯基的碳數係2~30為較佳,2~12為更佳,2~8為特佳。烯基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種,直鏈或支鏈為較佳,直鏈為更佳。
炔基的碳數係2~30為較佳,2~25為更佳。炔基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種,直鏈或支鏈為較佳,直鏈為更佳。
芳基的碳數為6~30為較佳,6~20為更佳,6~12為進一步較佳。
雜環基可以為單環,亦可以為稠環。雜環基係單環或稠合數為2~4的稠環為較佳。構成雜環基的環之雜原子的數係1~3為較佳。
構成雜環基的環之雜原子係氮原子、氧原子或硫原子為較佳。構成雜環基的環之碳原子的數係3~30為較佳,3~18為更佳,3~12為更佳。
烷基、烯基、炔基、芳基及雜環基可具有取代基,亦可以為未經取代。作為取代基,可列舉上述取代基T中說明之取代基。
作為A1的具體例可列舉下述結構的基團。以下結構式中,Me表示甲基,波線部分表示與L1的鍵結部位。
-L1-
式(1)中,L1表示單鍵或2價的連結基,2價的連結基為較佳。作為L1所表示之2價的連結基,可列舉伸烷基、伸芳基、雜環基、-O-、-N(RL1)-、-NHCO-、-CONH-、-OCO-、-COO-、-CO-、-SO2NH-、-SO2-及將該等組合2種以上而成之基團。伸烷基的碳數係1~30為較佳,1~15為更佳,1~8為進一步較佳,1~5為特佳。伸烷基可以為直鏈狀、分支狀、環狀中的任一種,亦可以為將該等
組合2種以上而成之結構,直鏈或分支為較佳,直鏈為特佳。伸芳基的碳數為6~30為較佳,6~15為更佳。伸芳基係伸苯基為較佳。
RL1表示氫原子或烴基,RL1的較佳態樣與上述Ra中的較佳態樣相同。
作為L1所表示之2價的連結基,係由下述式(L1)表示之基團為較佳。
*A-L1A-L1B-L1C-*Z......(L1)
式中,L1A及L1C分別獨立地表示-O-、-N(RL1)-、-NHCO-、-CONH-、-OCO-、-COO-、-CO-、-SO2NH-或-SO2-,L1B表示單鍵或2價的連結基,*A表示式(1)中的與A1的鍵結部位,*Z表示式(1)中的與Z1的鍵結部位。
作為由L1B表示之2價的連結基,可列舉伸烷基、伸芳基、將伸烷基與伸芳基經由單鍵或選自包括-O-、-N(RL1)-、-NHCO-、-CONH-、-OCO-、-COO-、-CO-、-SO2NH-、-SO2-及將該等組合2種以上而成之基團之群組中之基團鍵結而成之基團、將伸烷基彼此或伸芳基彼此經由選自包括-O-、-N(RL1)-、-NHCO-、-CONH-、-OCO-、-COO-、-CO-、-SO2NH-、-SO2-及將該等組合2種以上而成之基團之群組中之基團鍵結而成之基團等。
在由式(1)表示之化合物中,A1為由式(A1)表示之基團時,L1A係-N(RL1)-為較佳,L1A為-N(RL1)-且L1B中的與L1A的鍵結部位係伸芳基為更佳。
又,L1C係-N(RL1)-、-NHCO-或-CONH-為較佳。
作為L1的具體例可列舉下述結構的基團。在下述結構中,紙面左側的波線部分為與A1的鍵結部位,紙面右側的波線部分為與Z1的鍵結部位。
-Z1-
<<式Z1>>
式(1)中,Z1表示由下述式(Z1)表示之基團。
式中,*表示鍵結鍵,
Yz1表示-N(Ry1)-或-O-,Ry1表示氫原子或烴基,Lz1表示單鍵或2價的連結基,Rz1及Rz2分別獨立地表示氫原子或烴基,Rz1與Rz2可經由2價的基團鍵結而形成環,m表示1~5的整數。
式(Z1)中,Yz1表示-N(Ry1)-或-O-,從容易提高耐久性之原因考慮,係-N(Ry1)-為較佳。
Ry1表示氫原子或烴基,Ry1的較佳態樣與上述Ra中的較佳態樣相同。
式(Z1)中,作為Lz1所表示之2價的連結基,可列舉伸烷基、伸芳基、雜環基、-O-、-N(RL1)-、-NHCO-、-CONH-、-OCO-、-COO-、-CO-、-SO2NH-、-SO2-及將該等組合2種以上而成之基團,伸烷基為較佳。伸烷基的碳數係1~30為較佳,1~15為更佳,1~8為進一步較佳,1~5為特佳。伸烷基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種,直鏈或支鏈為較佳,直鏈為特佳。
式(Z1)中,Rz1及Rz2分別獨立地表示氫原子或烴基,氫原子、烷基、烯基、炔基或芳基為較佳,烷基或芳基為更佳,烷
基為進一步較佳。烴基的碳數係1~30為較佳,1~20為更佳,1~12為進一步較佳。烷基的碳數係1~10為較佳,1~5為更佳,1~3為進一步較佳,1或2為特佳。烷基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種,直鏈或支鏈為較佳,直鏈為更佳。烯基的碳數係2~10為較佳,2~8為更佳,2~5為特佳。烯基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種,直鏈或支鏈為較佳,直鏈為更佳。炔基的碳數係2~10為較佳,2~8為更佳,2~5為特佳。炔基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種,直鏈或支鏈為較佳,直鏈為更佳。芳基的碳數係6~30為較佳,6~20為更佳,6~12為進一步較佳。
當Rz1表示烴基時,上述烴基可以具有取代基,作為取代基可列舉上述之取代基T。
當Rz2表示烴基時,上述烴基可以具有取代基,作為取代基可列舉上述之取代基T。
當m為2以上時,2以上的Rz1可以相同,亦可以不同。
當m為2以上時,2以上的Rz2可以相同,亦可以不同。
式(Z1)中,Rz1與Rz2可以經由2價的基團鍵結而形成環。作為所形成之環,5員環或6員環為較佳。作為2價的基團,可列舉-CH2-、-O-、-SO2-。作為Rz1與Rz2經由2價的基團而形成之環的具體例可列舉以下。
式(Z1)中,m表示1~5的整數,1~4為較佳,1~3為更佳,2~3為進一步較佳,2為特佳。
<<式Z2>>
式(1)中,Z1係由下述式(Z2)表示之基團為較佳。
式中,*表示鍵結鍵,Yz2及Yz3分別獨立地表示-N(Ry2)-或-O-,Ry2表示氫原子或烴基,Lz2及Lz3分別獨立地表示2價的連結基,Rz3~Rz6分別獨立地表示氫原子或烴基,Rz3與Rz4及Rz5與Rz6分別可經由2價的基團鍵結而形成環。
式(Z2)的Yz2及Yz3的含義與式(Z1)的Yz1的含義相同,較佳的範圍亦相同。Ry2表示氫原子或烴基,Ry2的較佳態樣與上述Ra中的較佳態樣相同。
式(Z2)的Lz2及Lz3的含義與式(Z1)的Lz1的含義相同,較佳的範圍亦相同。式(Z2)的Rz3~Rz6的含義與式(Z1)的Rz1及Rz2的含義相同,較佳的範圍亦相同。
作為Z1的具體例可列舉下述結構的基團。以下結構式中,Ph表示苯基。結構式中的括號的下標表示重複數。
用於本發明的著色感光性組成物之化合物(1)、亦即無色顏料衍生物A1且由上述式(1)表示之化合物係由下述式(2)表示之化合物為較佳。藉由使用該種化合物,可進一步顯著地獲得本發明的效果。
A1-X1-L2-X2-Z1......(2)
式(2)中,A1表示包含芳香族環之基團,X1及X2分別獨立地表示單鍵-O-、-N(R1)-、-NHCO-、-CONH-、-OCO-、-COO-、-CO-、-SO2NH-或-SO2-,R1表示氫原子或烴基,L2表示單鍵或2價的連結基,Z1表示由上述之式(Z1)表示之基團。
式(2)的A1及Z1的含義與式(1)的A1及Z1的含義相同,較佳的範圍亦相同。
式(2)的X1及X2分別獨立地表示單鍵、-O-、-N(R1)-、-NHCO-、-CONH-、-OCO-、-COO-、-CO-、-SO2NH-或-SO2-,係-O-、-N(R1)-、-NHCO-、-CONH-、-OCO-、-COO-、-CO-、-SO2NH-或-SO2-為較佳。R1表示氫原子或烴基,R1的較佳態樣與上述Ra中的較佳態樣相同。
式(2)的L2表示單鍵或2價的連結基。作為由L2表示之2價的連結基,可列舉伸烷基、伸芳基、將伸烷基與伸芳基經由單鍵或選自包括-O-、-N(R2)-、-NHCO-、-CONH-、-OCO-、-COO-、-CO-、-SO2NH-、-SO2-及將該等組合2種以上而成之基團之群組
中之基團鍵結而成之基團、將伸烷基彼此或伸芳基彼此經由選自包括-O-、-N(R2)-、-NHCO-、-CONH-、-OCO-、-COO-、-CO-、-SO2NH-、-SO2-及將該等組合2種以上而成之基團之群組中之基團鍵結而成之基團等。R2表示氫原子或烴基,R2的較佳態樣與上述Ra中的較佳態樣相同。
作為本發明中所使用之無色顏料衍生物的較佳一態樣之化合物(1)的具體例可列舉以下。以下表中,“No.”欄的記載表示化合物編號,“A1”、“L1”、“Z1”欄中所記載之符號表示分別以式(1)中的A1的具體例、L1的具體例、Z1的具體例列舉之結構。
無色顏料衍生物A1滿足以下(a)~(d)中的任一分光特性亦為較佳。
(a)波長超過700nm且為750nm以下的範圍的莫耳吸光係數的最大值為3,000L.mol-1.cm-1以下為較佳,1,000L.mol-1.cm-1以下為更佳,100L.mol-1.cm-1以下為進一步較佳。
(b)波長超過750nm且為800nm以下的範圍的莫耳吸光係數的最大值為3,000L.mol-1.cm-1以下為較佳,1,000L.mol-1.cm-1以下為更佳,100L.mol-1.cm-1以下為進一步較佳。
(c)波長超過800nm且為850nm以下的範圍的莫耳吸光係數的最大值為3,000L.mol-1.cm-1以下為較佳,1,000L.mol-1.cm-1以下為更佳,100L.mol-1.cm-1以下為進一步較佳。
(d)波長超過850nm且為900nm以下的範圍的莫耳吸光係數的最大值為3,000L.mol-1.cm-1以下為較佳,1,000L.mol-1.cm-1以下為更佳,100L.mol-1.cm-1以下為進一步較佳。
著色感光性組成物的總固體成分中的無色顏料衍生物A1的含量係0.3~20質量%為較佳。下限為0.6質量%以上為較佳,0.9質量%以上為更佳。上限為15質量%以下為較佳,12.5質量%以下為更佳,10質量%以下為進一步較佳。
又,無色顏料衍生物A1的含量相對於顏料100質量份係1~30質量份為較佳。下限為2質量份以上為較佳,3質量份以上為更佳。上限為20質量份以下為較佳,15質量份以下為更佳。無色顏料衍生物A1可以僅使用1種,亦可以使用2種以上。當併用2種以上時,該等的合計量係上述範圍為較佳。
<有色顏料衍生物A2>
本發明的著色感光性組成物包含波長400~700nm的範圍內的莫耳吸光係數的最大值超過3,000L.mol-1.cm-1之顏料衍生物A2(有色顏料衍生物A2)。
從提高所獲得之膜的對比度的觀點考慮,有色顏料衍生物A2在波長400~700nm的範圍內的莫耳吸光係數的最小值係4,000L.mol-1.cm-1以上為較佳,5,000L.mol-1.cm-1以上為更佳。又,最大值例如能夠設為100,000L.mol-1.cm-1以下。
在本說明書中,有色顏料衍生物A2的莫耳吸光係數的值係藉由後述之實施例中所記載之方法測量而得之值。
[色素部分結構]
有色顏料衍生物A2包含具有色素部分結構之化合物為較佳。
作為上述色素部分結構,以選自包括苯并咪唑酮色素、苯并咪唑啉酮色素、喹啉黃色素、酞菁色素、蒽醌色素、二酮吡咯并吡咯色素、喹吖啶酮色素、偶氮色素、異吲哚啉酮色素、異吲哚啉色素、二色素、苝色素及硫靛藍色素之群組中之至少一種色素作為來源之部分結構為較佳,從更容易顯著地獲得本發明的效果之原因考慮,以選自包括苯并咪唑酮色素、苯并咪唑啉酮色素、喹啉黃色素、酞菁色素、二酮吡咯并吡咯色素及偶氮色素之群組中之至少一種色素作為來源之部分結構為更佳,以選自包括苯并咪唑啉酮色素及偶氮色素之群組中之至少一種色素作為來源之部分結構為進一步較佳。
有色顏料衍生物A2包含選自包括下述式(Pg-1)~式(Pg-10)之群組中之至少一種部分結構為較佳。
有色顏料衍生物A2包含選自包括下述式(Pg-1)~式(Pg-10)之群組中之至少一種部分結構作為上述色素部分結構為較佳。
該等中,具有由式(Pg-1)、式(Pg-2)、式(Pg-3)、式(Pg-5)及式(Pg-7)中的任一個表示之結構或從該等結構中進一步去除1個氫原子而成之結構為更佳。另外,下述式(Pg-3)中,M表示金屬原子、金屬氧化物或金屬鹵化物。
下述式(Pg-1)~式(Pg-10)中,虛線部分表示與其他結構的鍵結部位。
有色顏料衍生物A2中所含有之色素部分結構的數量可以為1個,亦可以為2個以上。
[酸基或鹼性基]
有色顏料衍生物A2包含酸基或鹼性基為較佳。
有色顏料衍生物A2中的上述酸基為選自包括羧基、磺基、磷酸基及其鹽之群組中之至少一種為較佳,選自包括羧基、磺基及其鹽之群組中之至少一種為更佳。作為構成鹽之原子或原子團,可列舉鹼金屬離子(Li+、Na+、K+等)、鹼土類金屬離子(Ca2+、Mg2+等)、銨離子、咪唑鎓離子、吡啶鎓離子、鏻離子等。
有色顏料衍生物A2所具有之上述鹼性基為選自包括胺基、吡啶基及其鹽、銨基的鹽、以及酞醯亞胺甲基之群組中之至少一種為較佳,選自包括胺基、胺基的鹽及銨基的鹽之群組中之至少一種為更佳,胺基或胺基的鹽為更佳。作為胺基,可列舉-NH2、二烷基胺基、烷基芳基胺基、二芳基胺基、環狀胺基等。二烷基胺基、烷基芳基胺基、二芳基胺基、環狀胺基可以還具有取代基。作為取代基,可列舉上述取代基T和硬化性基等。作為構成鹽之原子或原子團,可列舉氫氧根離子、鹵素離子、羧酸根離子、磺酸根離子、苯氧離子等。
有色顏料衍生物A2中所含有之酸基或鹼性基的數量可以為1個,亦可以為2個以上。有色顏料衍生物A2中所含有之酸基或鹼性基的數量為1個時,著色感光性組成物的硬化性容易優異。又,有色顏料衍生物A2中所含有之酸基或鹼性基的數量為2個以上時,顏料的分散性容易優異。又,有色顏料衍生物A2中所含有之酸基或鹼性基的數量為2個以上時,從分散性的觀點考慮,
僅包含2個以上的酸基或僅包含2個以上的鹼性基為較佳。又,有色顏料衍生物A2具有鹼性基為較佳。
有色顏料衍生物A2中所含有之酸基或鹼性基的數量係1~4個為較佳,1~3個為更佳,1~2個為進一步較佳。若酸基或鹼性基的數量在上述範圍內,則例如,有色顏料衍生物A2與樹脂的親和性容易提高,並且組成物中的顏料的分散性容易提高。
[硬化性基]
從提高著色感光性組成物的硬化性的觀點考慮,有色顏料衍生物A2包含硬化性基為較佳。
作為上述硬化性基,選自包括乙烯性不飽和基及環狀醚基之群組中之至少一種為較佳,從容易獲得更優異的硬化性之原因考慮,乙烯性不飽和基為較佳。作為乙烯性不飽和基,可列舉乙烯基、乙烯基苯基、烯丙基、(甲基)丙烯醯基、(甲基)丙烯醯胺基及順丁烯二醯亞胺基,(甲基)丙烯醯基為較佳,(甲基)丙烯醯氧基為更佳。作為環狀醚基,可列舉環氧基及氧雜環丁基,環氧基為較佳。有色顏料衍生物A2中所含有之硬化性基的數量係1~8個為較佳,2~6個為更佳,2~4個為進一步較佳。若硬化性基的數量在上述範圍內,則著色感光性組成物的硬化性良好,並且能夠進一步提高線寬靈敏度和密接性等。
[式(A2-1)~式(A2-3)]
在本發明中,有色顏料衍生物A2係由式(A2-1)~式(A2-3)中的任一個表示之化合物為較佳,從顏料的分散性優異的原因考慮,由式(A2-1)或式(A2-2)表示之化合物為更佳。
式(A2-1)中,P1表示色素部分結構,L11分別獨立地表示a1+1價的連結基,L12分別獨立地表示b1+1價的連結基,A1分別獨立地表示硬化性基,B1分別獨立地表示酸基或鹼性基,a1分別獨立地表示1以上的整數,b1分別獨立地表示1以上的整數,n表示0以上的整數,m表示1以上的整數;式(A2-2)中,P2表示色素部分結構,L21表示a2+b2+1價的連結基,A2表示硬化性基,B2表示酸基或鹼性基,a2分別獨立地表示0以上的整數,b2分別獨立地表示1以上的整數,j表示1以上的整數;式(A2-3)中,P3表示色素部分結構,L31表示a3+1價的連結基,A3表示硬化性基,B3表示酸基或鹼性基,a3分別獨立地表示1以上的整數,k表示1以上的整數。
式(A2-1)中,a1係1~4為較佳,1~3為更佳,1或2為進一步較佳。n係0~4為較佳,0~3為更佳,0、1或2為進一步較佳。b1係1~4為較佳,1~3為更佳,1或2為進一步較佳。m係1~4為較佳,1~3為更佳,1或2為進一步較佳。
式(A2-2)中,a2係0~4為較佳,0~3為更佳,0、1或2為進一步較佳。b2係1~4為較佳,1~3為更佳,1或2為進一步較佳。j係1~4為較佳,1~3為更佳,1或2為進一步較佳。
式(A2-3)中,a3係1~4為較佳,1~3為更佳,1或2為進一步較佳。
式(A2-3)中,k係1~4為較佳,1~3為更佳,1或2為進一步較佳。
在式(A2-1)~式(A2-3)中,作為P1~P3所表示之色素部分結構,可列舉上述有色顏料衍生物A2中的作為色素部分結構記載之結構,較佳態樣亦相同。
在式(A2-1)~式(A2-3)中,作為A1~A3所表示之硬化性基,可列舉上述有色顏料衍生物A2中的作為硬化性基記載之基團,較佳態樣亦相同。
在式(A2-1)~式(A2-3)中,B1~B3分別獨立地表示酸基或鹼性基。關於酸基及鹼性基,可列舉上述基團,較佳態樣亦相同。
在式(A2-1)~式(A2-3)中,作為L11所表示之a1+1價的連結基、L12所表示之b1+1價的連結基、L21所表示之a2+b2+1
價的連結基及L31所表示之a3+1價的連結基,可列舉烴基、雜環基、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-SO2-、-NRL-、-NRLCO-、-CONRL-、-NRLSO2-、-SO2NRL-及將該等組合2種以上而成之基團,RL表示氫原子、烷基或芳基。烴基可以為脂肪族烴基,亦可以為芳香族烴基。作為烴基,可列舉伸烷基、伸芳基或從該等基團去除1個以上的氫原子而成之基團。伸烷基的碳數係1~30為較佳,1~15為更佳,1~10為進一步較佳。伸烷基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一個。又,環狀的伸烷基可以為單環、多環中任一種。伸芳基的碳數為6~18為較佳,6~14為更佳,6~10為進一步較佳。雜環基係單環或稠合數為2~4的稠環為較佳。構成雜環基的環之雜原子的數係1~3為較佳。構成雜環基的環之雜原子係氮原子、氧原子或硫原子為較佳。構成雜環基的環之碳原子的數係3~30為較佳,3~18為更佳,3~12為更佳。烴基及雜環基可以具有取代基。作為取代基,可列舉以上述取代基T列舉之取代基。又,RL所表示之烷基的碳數係1~20為較佳,1~15為更佳,1~8為進一步較佳。烷基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種,直鏈或支鏈為較佳,直鏈為更佳。RL所表示之烷基可進一步具有取代基。作為取代基,可列舉上述之取代基T。RL所表示之芳基的碳數係6~30為較佳,6~20為更佳,6~12為進一步較佳。RL所表示之芳基可以進一步具有取代基。作為取代基,可列舉上述之取代基T。
在式(A2~1)~式(A2-3)中,L11、L12、L21及L31分別獨立地為由下述式(L-1)~式(L-5)中的任一個表示之基團為較
佳。藉由該態樣,能夠提高有色顏料衍生物A2與顏料的親和性,並且能夠進一步提高組成物中的顏料的分散性。
式中,*為鍵結鍵,p1表示0~5的整數,p2表示1~6的整數,p1+p2為2~6的整數,L100~L105分別獨立地表示單鍵或2價的連結基,X1、X2及X3分別獨立地表示-O-、-S-或-NRL1-,RL1表示氫原子、烷基或芳基。
RL1所表示之烷基及芳基的含義與上述RL的項中說明之烷基及芳基的含義相同,較佳範圍亦相同。又,RL1所表示之烷基
及芳基可以進一步具有取代基。作為取代基,可列舉上述之取代基T。
作為L100~L105所表示之2價的連結基,可列舉伸烷基、伸芳基、雜環基、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-SO2-、-NRL2-、-NRL2CO-、-CONRL2-、-NRL2SO2-、-SO2NRL2-及將該等組合2個以上而成之基團。
伸烷基的碳數係1~30為較佳,1~15為更佳,1~10為進一步較佳。伸烷基可以為直鏈、支鏈、環狀中的任一種。又,環狀的伸烷基可以為單環、多環中任一種。伸芳基的碳數為6~18為較佳,6~14為更佳,6~10為進一步較佳。雜環基係單環或稠合數為2~4的稠環為較佳。構成雜環基的環之雜原子的數係1~3為較佳。構成雜環基的環之雜原子係氮原子、氧原子或硫原子為較佳。構成雜環基的環之碳原子的數係3~30為較佳,3~18為更佳,3~12為更佳。伸烷基、伸芳基及雜環基可以具有取代基。作為取代基,可列舉上述之取代基T。
RL2表示氫原子、烷基或芳基。RL2所表示之烷基及芳基的含義與上述RL的項中說明之烷基及芳基的含義相同,較佳範圍亦相同。又,RL2所表示之烷基及芳基可以進一步具有取代基。作為取代基,可列舉上述之取代基T。
在式(L-5)中,X1、X2及X3分別獨立地表示-O-、-S-或-NRL1-,-NRL1-為較佳。又,RL1係氫原子為較佳。
有色顏料衍生物A2包含具有分子間相互作用之官能基。在有色顏料衍生物A2具有該種官能基之情況下,能夠提高有色顏料衍生物A2與顏料的親和性,並且能夠進一步提高組成物中的顏料的分散性。作為上述官能基,可列舉醯胺基、脲基、胺基甲酸酯基、磺醯胺基、三、異三聚氰酸基、醯亞胺基、咪唑啶酮基等。該等官能基可以包含於色素部分結構,亦可以包含於除色素部分結構以外的部位(例如,式(A1)的L11或L12、式(A2)的L21、式(A3)的L31等)。
作為有色顏料衍生物A2的具體例,可列舉下述結構的化合物。在以下的結構式中,Ac表示乙醯基。
在上述式(A2)-12中,CuPc表示銅酞菁(在下述式(CuPc),*表示(A2)-12中的鍵結部位。),在上述式(A2)-13中,ZnPc表示鋅酞菁(在下述式(ZnPc),*表示(A2)-13中的鍵結部位。)。
有色顏料衍生物A2的分子量係2,000以下為較佳,1,500以下為更佳,1,000以下為更佳。下限係300以上為較佳。
當有色顏料衍生物A2具有硬化性基時,硬化性基值係0.1~10mmol/g為較佳。下限係0.5mmol/g以上為較佳,1mmol/g以上為更佳。上限係8mmol/g以下為較佳,4mmol/g以下為更佳。另外,有色顏料衍生物A2的硬化性基值係藉由有色顏料衍生物A2的1個分子中所含有之硬化性基的數量除以有色顏料衍生物A2的分子量而計算出之值。作為硬化性基,可列舉乙烯性不飽和基、環狀醚基等。
又,當有色顏料衍生物A2所具有之硬化性基為乙烯性不飽和基時,有色顏料衍生物A2的乙烯性不飽和基值(以下,亦稱為C=C值)係0.1~10mmol/g為較佳。下限係0.5mmol/g以上為較佳,1mmol/g以上為更佳。上限係8mmol/g以下為較佳,4mmol/g以下為更佳。另外,有色顏料衍生物A2的C=C值係藉由有色顏料衍生物A2的1個分子中所含有之乙烯性不飽和基的數量除以有色顏料衍生物A2的分子量而計算出之值。
當有色顏料衍生物A2為具有鹼性基之化合物時,有色顏料衍生物A2的鹼性基值係10mmol/g以下為較佳,8mmol/g以下為更佳,5mmol/g以下為進一步較佳。下限係0.1mmol/g以上為較佳,1mmol/g以上為更佳,2mmol/g以上為進一步較佳。
又,當有色顏料衍生物A2為具有酸基之化合物時,有色顏料衍生物A2的酸值係10mmol/g以下為較佳,8mmol/g以下為更
佳,5mmol/g以下為進一步較佳。下限係0.1mmol/g以上為較佳,1mmol/g以上為更佳,2mmol/g以上為進一步較佳。
有色顏料衍生物A2係親水性化合物亦為較佳。藉由該態樣,能夠提高與顏料表面或樹脂之間的相互作用,並且能夠進一步提高顏料的分散性。有色顏料衍生物A2的親水性例如能夠由LogP值進行評價,有色顏料衍生物A2的LogP值越小,親水性傾向於越高。有色顏料衍生物A2的LogP值係3以下為較佳,2以下為更佳,1以下為進一步較佳。有色顏料衍生物A2的LogP值係化合物A的1-辛醇/水的分配係數P的常用對數的值。在本說明書中,使用ChemiBioDraw Ultra ver.13.0.2.3021(Cambridge soft公司製)進行預測計算來求出化合物A的LogP值。
有色顏料衍生物A2在350~700nm下具有一個以上極大吸收波長為較佳,在380~600nm下具有一個以上極大吸收波長為更佳,在400~500nm下具有一個以上極大吸收波長為進一步較佳。
有色顏料衍生物A2滿足以下(a)~(d)中的任一分光特性亦為較佳。
(a)波長超過700nm且為750nm以下的範圍的莫耳吸光係數的最大值為3,000L.mol-1.cm-1以下為較佳,1,000L.mol-1.cm-1以下為更佳,100L.mol-1.cm-1以下為進一步較佳。
(b)波長超過750nm且為800nm以下的範圍的莫耳吸光係數的最大值為3,000L.mol-1.cm-1以下為較佳,1,000L.mol-1.cm-1以下為更佳,100L.mol-1.cm-1以下為進一步較佳。
(c)波長超過800nm且為850nm以下的範圍的莫耳吸光係數的最大值為3,000L.mol-1.cm-1以下為較佳,1,000L.mol-1.cm-1以下為更佳,100L.mol-1.cm-1以下為進一步較佳。
(d)波長超過850nm且為900nm以下的範圍的莫耳吸光係數的最大值為3,000L.mol-1.cm-1以下為較佳,1,000L.mol-1.cm-1以下為更佳,100L.mol-1.cm-1以下為進一步較佳。
著色感光性組成物的總固體成分中的有色顏料衍生物A2的含量為1~15質量%。下限為2質量%以上為較佳,3質量%以上為更佳。上限為12質量%以下為較佳,10質量%以下為更佳。
又,有色顏料衍生物A2的含量相對於顏料100質量份係0.1~20質量份為較佳。下限係1質量份以上為較佳,2質量份以上為更佳,5質量份以上為進一步較佳。上限為18質量份以下為較佳,15質量份以下為更佳。有色顏料衍生物A2可以僅使用1種,亦可以使用2種以上。當併用2種以上時,該等的合計量在上述範圍內為較佳。
<無色顏料衍生物A1與有色顏料衍生物A2的含有比率>
本發明的著色顏料衍生物中的上述無色顏料衍生物A1及上述有色顏料衍生物A2的含有比率只要將無色顏料衍生物A1與有色顏料衍生物A2混合,則並無特別限定,但是相對於上述顏料衍生物A1及上述顏料衍生物A2的總質量,上述顏料衍生物A1的
含量係5~98質量%為較佳,10~95質量%為更佳,20~90質量%為進一步較佳,50~90質量%為進一步較佳。
<無色顏料衍生物A1與有色顏料衍生物A2的莫耳吸光係數>
無色顏料衍生物A1在波長400~700nm的範圍內的莫耳吸光係數的最大值與有色顏料衍生物A2在波長400~700nm的範圍內的莫耳吸光係數的最大值之差係300~100,000L.mol-1.cm-1為較佳,500~50,000L.mol-1.cm-1為更佳。
<顏料>
本發明的著色感光性組成物含有顏料。作為顏料,可列舉白色顏料、黑色顏料、彩色顏料、近紅外線吸收顏料。另外,本發明中,白色顏料不僅包含純白色,還包含接近白色的亮灰色(例如灰白色、淺灰色等)的顏料等。
又,顏料可以為無機顏料、有機顏料中的任一種,從更容易提高分散穩定性之原因考慮,有機顏料為較佳。
又,顏料係在波長400~2,000nm的範圍具有極大吸收波長者為較佳,在波長400~700nm的範圍具有極大吸收波長者為更佳。
又,在使用在波長400~700nm的範圍具有極大吸收波長之顏料(較佳為彩色顏料)之情況下,本發明的著色感光性組成物能夠較佳地用作濾色器中的著色層形成用的著色感光性組成物。
作為著色層,例如可列舉紅色著色層、綠色著色層、藍色著色層、品紅色著色層、藍色著色層、黃色著色層等。
顏料的平均一次粒徑係1~200nm為較佳。下限係5nm以上為較佳,10nm以上為更佳。上限係180nm以下為較佳,150nm以下為更佳,100nm以下為進一步較佳。若顏料的平均一次粒徑在上述範圍內,則著色感光性組成物中的顏料的分散穩定性良好。另外,在本發明中,顏料的一次粒徑能夠藉由使用透過性電子顯微鏡觀察顏料的一次粒子並從所獲得之圖像照片求出。具體而言,求出顏料的一次粒子的投影面積,將與上述投影面積相同面積的正圓的直徑(等效圓直徑)作為顏料的一次粒徑而計算。又,本發明中的平均一次粒徑設為對於400個顏料的一次粒子的一次粒徑的算術平均值。又,顏料的一次粒子係指未凝聚之獨立之粒子。
[彩色顏料]
作為彩色顏料並無特別限定,能夠使用公知的彩色顏料。作為彩色顏料,可列舉在波長400~700nm的範圍具有極大吸收波長之顏料。例如,可列舉黃色顏料、橙色顏料、紅色顏料、綠色顏料、紫色顏料、藍色顏料等。作為該等具體例,例如可列舉以下。
比色指數(C.I.)顏料黃(以下,亦簡稱為“PY”。)1,2,3,4,5,6,10,11,12,13,14,15,16,17,18,20,24,31,32,34,35,35:1,36,36:1,37,37:1,40,42,43,53,55,60,61,62,63,65,73,74,77,81,83,86,93,94,95,97,98,100,101,104,106,108,109,110,113,114,115,116,117,118,119,120,123,125,126,127,128,129,137,138,139,147,148,150,151,152,153,154,155,156,161,162,
164,166,167,168,169,170,171,172,173,174,175,176,177,179,180,181,182,185,187,188,193,194,199,213,214,231、232(次甲基/聚次甲基系)等(以上為黃色顏料)、C.I.顏料橙(以下,亦簡稱為“PO”。)2,5,13,16,17:1,31,34,36,38,43,46,48,49,51,52,55,59,60,61,62,64,71,73等(以上為橙色顏料)、C.I.顏料紅(以下,亦簡稱為“PR”。)1,2,3,4,5,6,7,9,10,14,17,22,23,31,38,41,48:1,48:2,48:3,48:4,49,49:1,49:2,52:1,52:2,53:1,57:1,60:1,63:1,66,67,81:1,81:2,81:3,83,88,90,105,112,119,122,123,144,146,149,150,155,166,168,169,170,171,172,175,176,177,178,179,184,185,187,188,190,200,202,206,207,208,209,210,216,220,224,226,242,246,254,255,264,270,272,279、294(系、Organo Ultramarine、Bluish Red)等(以上為紅色顏料)、C.I.顏料綠(以下,亦簡稱為“PG”。)7,10,36,37,58,59,62,63等(以上為綠色顏料)、C.I.顏料紫(以下,亦簡稱為“PV”。)1,19,23,27,32,37,42,60(三芳基甲烷系),61(系)等(以上為紫色顏料)、C.I.顏料藍(以下,亦簡稱為“PB”。)1,2,15,15:1,15:2,15:3,15:4,15:6,16,22,29,60,64,66,79,80,87(單偶氮系),88(次甲基/聚次甲基系)等(以上為藍色顏料)。
從更容易獲得本發明的效果之觀點考慮,本發明的著色感光性組成物作為顏料包含綠色顏料為較佳,包含鹵代酞菁為更佳,包含PG 36和/或PG 58為進一步較佳。
又,本發明的著色感光性組成物併用上述綠色顏料和黃色顏料亦為較佳。作為併用之黃色顏料,可較佳地列舉PY 150和/或PY 185。
-綠色顏料-
又,作為綠色顏料,能夠使用在1個分子中之鹵素原子數為平均10~14個、溴原子數為平均8~12個、氯原子數為平均2~5個之鹵化鋅酞菁素顏料。作為具體例可列舉國際公開第2015/118720號中所記載之化合物。又,作為綠色顏料,亦能夠使用中國專利申請公開第106909027號說明書中所記載之化合物、具有磷酸酯作為配位體之酞菁化合物等。
-藍色顏料-
又,作為藍色顏料,還能夠使用具有磷原子之鋁酞菁化合物。作為具體例,可列舉日本特開2012-247591號公報的0022~0030段、日本特開2011-157478號公報的0047段中所記載之化合物。
-黃色顏料-
又,作為黃色顏料,能夠使用日本特開2017-201003號公報中所記載之顏料、日本特開2017-197719號公報中所記載之顏料。
又,作為黃色顏料,還能夠使用金屬偶氮顏料,該金屬偶氮顏料包含選自包括下述式(I)表示之偶氮化合物及其互變異構結構
的偶氮化合物的群組中之至少1種陰離子、2種以上的金屬離子及三聚氰胺化合物。
式中,R1及R2分別獨立地為-OH或-NR5R6,R3及R4分別獨立地為=O或=NR7,R5~R7分別獨立地為氫原子或烷基。R5~R7所表示之烷基的碳數係1~10為較佳,1~6為更佳,1~4為進一步較佳。烷基可以為直鏈、分支及環狀中的任一種,直鏈或分支為較佳,直鏈為更佳。烷基可以具有取代基。取代基係鹵素原子、羥基、烷氧基、氰基及胺基為較佳。
關於上述金屬偶氮顏料,能夠參閱日本特開2017-171912號公報的0011~0062段、0137~0276段、日本特開2017-171913號公報的0010~0062段、0138~0295段、日本特開2017-171914號公報的0011~0062段、0139~0190段、日本特開2017-171915號公報的0010~0065段、0142~0222段的記載,將該等內容編入本說明書中。
-紅色顏料-
作為紅色顏料,亦能夠使用日本特開2017-201384號公報中所記載之結構中由至少一個溴原子取代之二氧代吡咯并吡咯系顏
料、日本專利第6248838號的0016~0022段中所記載之二氧代吡咯并吡咯系顏料等。又,還能夠使用具有芳香環基與二氧代吡咯并吡咯骨架鍵結而成之結構之化合物,該芳香環基中導入有相對於芳香環鍵結有氧原子、硫原子或氮原子之基團。作為該種化合物,由式(DPP1)表示之化合物為較佳,由式(DPP2)表示之化合物為更佳。
上述式中,R11及R13分別獨立地表示取代基,R12及R14分別獨立地表示氫原子、烷基、芳基或雜芳基,n11及n13分別獨立地表示0~4的整數,X12及X14分別獨立地表示氧原子、硫原子或氮原子,X12為氧原子或硫原子時,m12表示1,X12為氮原子時,m12表示2,X14為氧原子或硫原子時,m14表示1,X14為氮原子時,m14表示2。作為R11及R13所表示之取代基,可列舉以上述之取代基T列舉之基團,並且可列舉烷基、芳基、鹵素原子、
醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、雜芳氧基羰基、醯胺基、氰基、硝基、三氟甲基、亞碸基、磺基等作為較佳的具體例。
在本發明中,彩色顏料可組合2種以上來使用。又,彩色顏料組合2種以上來使用時,可以由2種以上的彩色顏料的組合形成黑色。作為該種組合,例如可列舉以下(1)~(7)的態樣。著色感光性組成物中包含2種以上的彩色顏料,並且由2種以上的彩色顏料的組合呈現黑色時,本發明的著色感光性組成物能夠較佳地用作近紅外線透過濾波器。
(1)含有紅色顏料及藍色顏料之態樣。
(2)含有紅色顏料、藍色顏料及黃色顏料之態樣。
(3)含有紅色顏料、藍色顏料、黃色顏料及紫色顏料之態樣。
(4)含有紅色顏料、藍色顏料、黃色顏料、紫色顏料及綠色顏料之態樣。
(5)含有紅色顏料、藍色顏料、黃色顏料及綠色顏料之態樣。
(6)含有紅色顏料、藍色顏料及綠色顏料之態樣。
(7)含有黃色顏料及紫色顏料之態樣。
[白色顏料]
作為白色顏料,可列舉氧化鈦、鈦酸鍶、鈦酸鋇、氧化鋅、氧化鎂、氧化鋯、氧化鋁、硫酸鋇、二氧化矽、滑石、雲母、氫氧化鋁、矽酸鈣、矽酸鋁、中空樹脂粒子、硫化鋅等。白色顏料係具有鈦原子之粒子為較佳,氧化鈦為更佳。又,白色顏料係相對於波長
589nm的光之25℃下的折射率為2.10以上的粒子為較佳。前述折射率係2.10~3.00為較佳,2.50~2.75為更佳。
又,白色顏料亦能夠使用“氧化鈦 物性與應用技術 清野學著 13~45頁 1991年6月25日發行 技報堂出版發行”中所記載之氧化鈦。
白色顏料不僅可以使用包括單一無機物者,亦可以使用與其他材料複合而得之粒子。例如,使用在內部具有空孔或其他材料之粒子、在芯粒子上附著有大量無機粒子之粒子、由包括聚合物粒子之芯粒子和包括無機奈米微粒之殼層構成之芯殼複合粒子為較佳。作為上述由包括聚合物粒子之芯粒子和包括無機奈米微粒之殼層構成之芯殼複合粒子,例如能夠參閱日本特開2015-047520號公報的0012~0042段的記載,該內容被併入本說明書中。
白色顏料亦能夠使用中空無機粒子。中空無機粒子係在內部具有空洞之結構的無機粒子,係指具有被外殼包圍之空洞之無機粒子。作為中空無機粒子,能夠列舉日本特開2011-075786號公報、國際公開第2013/061621號、日本特開2015-164881號公報等中所記載之中空無機粒子,該等內容被併入本說明書中。
[黑色顏料]
作為黑色顏料並無特別限定,能夠使用公知者。例如,可列舉碳黑、鈦黑、石墨等,碳黑、鈦黑為較佳,鈦黑為更佳。鈦黑係含有鈦原子之黑色粒子,低次氧化鈦或氧氮化鈦為較佳。鈦黑能夠以提高分散性、抑制凝聚性等目的並根據需要來修飾表面。例如,能
夠利用氧化矽、氧化鈦、氧化鍺、氧化鋁、氧化鎂或氧化鋯包覆鈦黑的表面。又,還能夠進行如日本特開2007-302836號公報中所示之利用拒水性物質的處理。作為黑色顏料,可列舉顏色索引(C.I.)顏料黑1,7等。鈦黑的每個粒子的一次粒徑及平均一次粒徑中的任一者均較小為較佳。具體而言,平均一次粒徑為10~45nm為較佳。鈦黑還能夠用作分散物。例如可列舉包含鈦黑粒子及二氧化矽粒子,並且分散物中的Si原子與Ti原子的含有比調整在0.20~0.50的範圍之分散物等。關於上述分散物,能夠參閱日本特開2012-169556號公報的0020~0105段的記載,該內容被編入本說明書中。作為鈦黑的市售品的例子,可列舉鈦黑10S、12S、13R、13M、13M-C、13R-N、13M-T(商品名:Mitsubishi Materials Corporation製)、Tilack D(商品名:Ako Kasei Co.,Ltd.製)等。
[近紅外線吸收顏料]
近紅外線吸收顏料係有機顏料為較佳。又,近紅外線吸收顏料在波長超過700nm且為1,400nm以下的範圍具有極大吸收波長為較佳。又,近紅外線吸收顏料的極大吸收波長係1,200nm以下為較佳,1,000nm以下為更佳,950nm以下為進一步較佳。又,近紅外線吸收顏料中,在波長550nm下的吸光度A550與極大吸收波長下的吸光度Amax之比亦即A550/Amax為0.1以下者為較佳,0.05以下為更佳,0.03以下為進一步較佳,0.02以下為特佳。下限並無特別限定,例如,能夠設為0.0001以上,亦能夠設為0.0005以上。若上述的吸光度之比為上述範圍,則能夠設為可見光透明性
及近紅外線屏蔽性優異之近紅外線吸收顏料。另外,在本發明中,近紅外線吸收顏料的極大吸收波長及各波長下的吸光度的值係從使用包含近紅外線吸收顏料之著色感光性組成物而形成之膜的吸收光譜求出之值。
作為近紅外線吸收顏料並無特別限定,可列舉吡咯并吡咯化合物、芮化合物、氧雜菁化合物、方酸菁化合物、花青化合物、克酮鎓化合物、酞菁化合物、萘酞菁化合物、吡喃鎓化合物、薁鎓化合物、靛藍化合物及吡咯甲川化合物,選自包括吡咯并吡咯化合物、方酸菁化合物、花青化合物、酞菁化合物及萘酞菁化合物的群組中之至少一種為較佳,吡咯并吡咯化合物或方酸菁化合物為進一步較佳,吡咯并吡咯化合物為特佳。
著色感光性組成物的總固體成分中的顏料的含量係5質量%以上為較佳,10質量%以上為更佳,20質量%以上為進一步較佳,30質量%以上為更進一步較佳,40質量%以上為更特佳。上限為80質量%以下為較佳,70質量%以下為更佳,60質量%以下為進一步較佳。
[染料]
本發明的著色感光性組成物能夠含有染料。作為染料並無特別限定,能夠使用公知的染料。染料可以為彩色染料,亦可以為近紅外線吸收染料。作為彩色染料,可列舉吡唑偶氮化合物、苯胺基偶氮化合物、三芳基甲烷化合物、蒽醌化合物、蒽吡啶酮化合物、苯亞甲基化合物、氧雜菁化合物、吡唑并三唑偶氮化合物、吡啶酮
偶氮化合物、花青化合物、啡噻化合物、吡咯并吡唑次甲基偶氮化合物、化合物、酞菁化合物、苯并哌喃化合物、靛藍化合物、吡咯甲川化合物。又,亦能夠使用日本特開2012-158649號公報中所記載之噻唑化合物、日本特開2011-184493號公報中所記載之偶氮化合物、日本特開2011-145540號公報中所記載之偶氮化合物。又,作為黃色染料,亦能夠使用日本特開2013-054339號公報的0011~0034段中所記載之喹啉黃(quinophthalone)化合物、日本特開2014-026228號公報的0013~0058段中所記載之喹啉黃化合物等。作為近紅外線吸收染料,可列舉吡咯并吡咯化合物、芮化合物、氧雜菁化合物、方酸菁化合物、花青化合物、克酮鎓化合物、酞菁化合物、萘酞菁化合物、吡喃鎓化合物、薁鎓化合物、靛藍化合物及吡咯甲川化合物。又,亦能夠使用日本特開2017-197437號公報中所記載之方酸菁化合物、國際公開第2017/213047號的0090~0107段中所記載之方酸菁化合物、日本特開2018-054760號公報的0019~0075段中所記載之含有吡咯環之化合物、日本特開2018-040955號公報的0078~0082段中所記載之含有吡咯環之化合物、日本特開2018-002773號公報的0043~0069段中所記載之含有吡咯環之化合物、日本特開2018-041047號公報的0024~0086段中所記載之在醯胺基α位具有芳香族環之方酸菁化合物、日本特開2017-179131號公報中所記載之醯胺基連結型方酸菁化合物、日本特開2017-141215號公報中所記載之具有吡咯雙型方酸菁骨架或克酮鎓骨架之化合物、日本特開2017-082029號
公報中所記載之二氫咔唑雙型的方酸菁化合物、日本特開2017-068120號公報的0027~0114段中所記載之非對稱型的化合物、日本特開2017-067963號公報中所記載之含有吡咯環之化合物(咔唑型)、日本專利第6251530號公報中所記載之酞菁化合物等。
著色感光性組成物的總固體成分中的染料的含量係1質量%以上為較佳,5質量%以上為更佳,10質量%以上為特佳。作為上限並沒有特別限制,係70質量%以下為較佳,65質量%以下為更佳,60質量%以下為進一步較佳。
又,染料的含量相對於顏料的100質量份係5~50質量份為較佳。上限為45質量份以下為較佳,40質量份以下為更佳。下限為10質量份以上為較佳,15質量份以上為進一步較佳。
又,本發明的著色感光性組成物亦能夠實際上不含有染料。本發明的著色感光性組成物實質上不包含染料時,本發明的著色感光性組成物的總固體成分中的染料的含量係0.1質量%以下為較佳,0.05質量%以下為更佳,不含有為特佳。
<顏料與顏料衍生物的含有比率>
關於本發明的著色顏料衍生物中的上述顏料、上述無色顏料衍生物A1及上述有色顏料衍生物A2的含有比率,只要為顏料被分散,則並無特別限定,相對於上述顏料100質量份,上述顏料衍生物A1及上述顏料衍生物A2的總含量係1~30質量份為較佳,2~20質量份為更佳,3~15質量份為特佳。
<聚合性化合物>
本發明的著色感光性組成物含有聚合性化合物。上述有色顏料衍生物A2及與具有後述硬化性基之分散劑相對應之化合物並不對應於聚合性化合物。作為聚合性化合物,能夠使用能夠藉由自由基、酸或熱交聯之公知的化合物。在本發明中,聚合性化合物例如係具有乙烯性不飽和基之化合物為較佳。作為乙烯性不飽和基,可列舉乙烯基、(甲基)烯丙基、(甲基)丙烯醯基等。本發明中所使用之聚合性化合物係自由基聚合性化合物為較佳。
作為聚合性化合物,可以是單體、預聚物、低聚物等化學形態的任一種,但單體為較佳。聚合性化合物的分子量為100~3,000為較佳。上限為2,000以下為更佳,1,500以下為進一步較佳。下限為150以上為更佳,250以上為進一步較佳。
聚合性化合物係包含3個以上的乙烯性不飽和基之化合物為較佳,包含3~15個乙烯性不飽和基之化合物為更佳,包含3~6個乙烯性不飽和基之化合物為進一步較佳。又,聚合性化合物為3~15官能的(甲基)丙烯酸酯化合物為較佳,3~6官能的(甲基)丙烯酸酯化合物為更佳。作為聚合性化合物的具體例,可列舉日本特開2009-288705號公報的0095~0108段、日本特開2013-029760號公報的0227段、日本特開2008-292970號公報的0254~0257段、日本特開2013-253224號公報的0034~0038段、日本特開2012-208494號公報的0477段、日本特開2017-048367號公報、日本專利第6057891號公報、日本專利第6031807號公報中所記載之化合物,該等內容被編入本說明書中。
聚合性化合物為二新戊四醇三丙烯酸酯(作為市售品為KAYARAD D-330;Nippon Kayaku Co.,Ltd.製)、二新戊四醇四丙烯酸酯(作為市售品為KAYARAD D-320;Nippon Kayaku Co.,Ltd.製)、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯(作為市售品為KAYARAD D-310;Nippon Kayaku Co.,Ltd.製)、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(作為市售品為KAYARAD DPHA;Nippon Kayaku Co.,Ltd.製、NK ESTER A-DPH-12E;Shin Nakamura Chemical Co.,Ltd.製)、及該等之(甲基)丙烯醯基經由乙二醇及/或丙二醇殘基鍵結之結構的化合物(例如由SARTOMER Company,Inc.市售之SR454、SR499)為較佳。又,作為聚合性化合物,亦能夠使用雙甘油EO(環氧乙烷)改性(甲基)丙烯酸酯(作為市售品的M-460;TOAGOSEI CO.,LTD.製)、季戊四醇四丙烯酸酯(Shin Nakamura Chemical Co.,Ltd.製、NK ESTER A-TMMT)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(Nippon Kayaku Co.,Ltd.製、KAYARAD HDDA)、RP-1040(Nippon Kayaku Co.,Ltd.製)、ARONIX TO-2349(TOAGOSEI CO.,LTD.製)、NK OLIGO UA-7200(Shin Nakamura Chemical Co.,Ltd.製)、8UH-1006、8UH-1012(Taisei Fine Chemical Co.,Ltd.製)、LIGHT ACRYLATE POB-A0(KYOEISHA CHEMICAL Co.,Ltd.製)等。
又,作為聚合性化合物,使用三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷環氧丙烷改質三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷環氧乙烷改質三(甲基)丙烯酸酯、異氰脲酸環氧乙烷改質
三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯等3官能的(甲基)丙烯酸酯化合物亦為較佳。作為3官能的(甲基)丙烯酸酯化合物的市售品,可列舉ARONIX M-309、M-310、M-321、M-350、M-360、M-313、M-315、M-306、M-305、M-303、M-452、M-450(TOAGOSEI CO.,LTD.製)、NK酯A9300、A-GLY-9E、A-GLY-20E、A-TMM-3、A-TMM-3L、A-TMM-3LM-N、A-TMPT、TMPT(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.製)、KAYARAD GPO-303、TMPTA、THE-330、TPA-330、PET-30(Nippon Kayaku Co.,Ltd.製)等。
聚合性化合物亦能夠使用具有酸基之化合物。藉由使用具有酸基之聚合性化合物,顯影由著色感光性組成物形成之膜時容易去除未曝光部的聚合性化合物,並能夠抑制顯影殘渣的產生。作為酸基,可列舉羧基、磺酸基、磷酸基等,羧基為較佳。作為具有酸基之聚合性化合物的市售品可列舉ARONIX M-510、M-520、ARONIX TO-2349(TOAGOSEI CO.,LTD.製)等。作為具有酸基之聚合性化合物的較佳之酸值為0.1~40mgKOH/g,5~30mgKOH/g為更佳。若聚合性化合物的酸值為0.1mgKOH/g以上,則膜在顯影液中的溶解性良好,若為40mgKOH/g以下,則在製造或處理上有利。
在本說明書中,除非另有說明,否則酸值為藉由JIS K0070(1992)所規定之滴定方法測量之值。
聚合性化合物係具有己內酯結構之化合物亦為較佳的態樣。具有己內酯結構之聚合性化合物例如由NIPPON KAYAKU CO.,Ltd.作為KAYARAD DPCA系列而在市場上出售,可列舉DPCA-20、DPCA-30、DPCA-60、DPCA-120等。
聚合性化合物亦能夠使用具有伸烷氧基之聚合性化合物。具有伸烷氧基之聚合性化合物係具有伸乙基氧基及/或伸丙基氧基之聚合性化合物為較佳,具有伸乙基氧基之聚合性化合物為更佳,具有4~20個伸乙基氧基之3~6官能(甲基)丙烯酸酯化合物為進一步較佳。作為具有伸烷氧基之聚合性化合物的市售品,例如可列舉Sartomer Company,Inc製的作為具有4個伸乙氧基之4官能(甲基)丙烯酸酯之SR-494、作為具有3個異伸丁氧基之3官能(甲基)丙烯酸酯之KAYARAD TPA-330等。
聚合性化合物亦能夠使用具有茀骨架之聚合性化合物。作為具有茀骨架之聚合性化合物的市售品,可列舉OGSOL EA-0200、EA-0300(Osaka Gas Chemicals Co.,Ltd.製,具有茀骨架之(甲基)丙烯酸酯單體)等。
作為聚合性化合物,使用實質上不包含甲苯等環境法規物質之化合物亦為較佳。作為該種化合物的市售品,可列舉KAYARAD DPHA LT、KAYARAD DPEA-12 LT(Nippon Kayaku Co.,Ltd.製)等。
作為聚合性化合物,如日本特公昭48-041708號公報、日本特開昭51-037193號公報、日本特公平2-032293號公報、日本
特公平2-016765號公報中所記載之胺基甲酸酯丙烯酸酯類或日本特公昭58-049860號公報、日本特公昭56-017654號公報、日本特公昭62-039417號公報、日本特公昭62-039418號公報中所記載之具有環氧乙烷系骨架之胺基甲酸酯化合物亦較佳。又,使用日本特開昭63-277653號公報、日本特開昭63-260909號公報、日本特開平1-105238號公報中所記載之在分子內具有胺基結構或硫醚結構之聚合性化合物亦較佳。又,作為聚合性化合物,亦能夠使用UA-7200(Shin Nakamura Chemical Co.,Ltd.製)、DPHA-40H(Nippon Kayaku Co.,Ltd.製)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600、LINC-202UA(KYOEISHA CHEMICAL Co.,Ltd.)製等市售品。
著色感光性組成物的總固體成分中的聚合性化合物的含量係0.1~50質量%為較佳。下限為0.5質量%以上為更佳,1質量%以上為進一步較佳。上限為45質量%以下為更佳,40質量%以下為進一步較佳。聚合性化合物可以為單獨一種,亦可以併用兩種以上。在併用兩種以上之情況下,該等的合計為上述範圍為較佳。
<光聚合起始劑>
本發明的著色感光性組成物包含光聚合起始劑。作為光聚合起始劑,並無特別限制,能夠從公知的光聚合起始劑中適當地選擇。例如,對紫外區域至可見區域的光線具有感光性之化合物為較佳。光聚合起始劑係光自由基聚合起始劑為較佳。
作為光聚合起始劑,可列舉鹵化烴衍生物(例如,具有三骨架之化合物、具有噁二唑骨架之化合物等)、醯基膦化合物、六芳基聯咪唑、肟化合物、有機過氧化物、硫代化合物、酮化合物、芳香族鎓鹽、α-羥基酮化合物、α-胺基酮化合物等。從曝光靈敏度的觀點而言,光自由基聚合起始劑係三鹵甲基三(trihalo methyl triazine)化合物、苄基二甲基縮酮化合物、α-羥基酮化合物、α-胺基酮化合物、醯基膦化合物、氧化膦化合物、茂金屬化合物、肟化合物、三芳基咪唑二聚物、鎓化合物、苯并噻唑化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物、環戊二烯-苯-鐵錯合物、鹵甲基二唑化合物及3-芳基取代香豆素化合物為較佳,選自包括肟化合物、α-羥基酮化合物、α-胺基酮化合物及醯基膦化合物的群組中之化合物為更佳,從容易獲得本發明的效果之觀點考慮,肟化合物為進一步較佳。關於光聚合起始劑,能夠參閱日本特開2014-130173號公報的0065~0111段、日本專利第6301489號公報的記載,該等內容被併入本說明書中。
作為α-羥基酮化合物的市售品,能夠列舉IRGACURE-184、DAROCUR-1173、IRGACURE-500、IRGACURE-2959、IRGACURE-127(以上為BASF公司製)。作為α-胺基酮化合物的市售品,可列舉IRGACURE-907、IRGACURE-369、IRGACURE-379及IRGACURE-379EG(以上為BASF公知製)等。作為醯基膦化合物的市售品,可列舉IRGACURE-819、DAROCUR-TPO(以上為BASF公知製)等。
作為肟化合物,可列舉日本特開2001-233842號公報中所記載之化合物、日本特開2000-080068號公報中所記載之化合物、日本特開2006-342166號公報中所記載之化合物、J.C.S.Perkin II(1979年,pp.1653-1660)中所記載之化合物、J.C.S.Perkin II(1979年,pp.156-162)中所記載之化合物、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995年,pp.202-232)中所記載之化合物、日本特開2000-066385號公報中所記載之化合物、日本特開2000-080068號公報中所記載之化合物、日本特表2004-534797號公報中所記載之化合物、日本特開2006-342166號公報中所記載之化合物、日本特開2017-019766號公報中所記載之化合物、日本專利第6065596號公報中所記載之化合物、國際公開第2015/152153號中所記載之化合物、國際公開第2017/051680號中所記載之化合物、日本特開2017-198865號公報中所記載之化合物、國際公開第2017/164127號的0025~0038段中所記載之化合物等。作為肟化合物的具體例,可列舉3-苯甲醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、3-乙醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、3-丙醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、2-乙醯氧基亞胺基戊烷-3-酮、2-乙醯氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮、2-苯甲醯氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮、3-(4-甲苯磺醯氧基)亞胺基丁烷-2-酮、以及2-乙氧基羰氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮等。作為市售品,可列舉IRGACURE OXE01、IRGACURE OXE02、IRGACURE OXE03、IRGACURE OXE04(以上,BASF公司製)、TR-PBG-304(Changzhou Tronly New Electronic Materials CO.,LTD.製)、Adeka Optomer N-
1919(ADEKA Corporation製、日本特開2012-014052號公報中所記載之光聚合起始劑2)。又,作為肟化合物,使用著色性低的化合物、透明性高且不易變色之化合物亦為較佳。作為市售品,可列舉ADEKAARKLS NCI-730、NCI-831、NCI-930(以上、ADEKA Corporation製)等。
本發明中,作為光聚合起始劑,亦能夠使用具有茀環之肟化合物。作為具有茀環之肟化合物的具體例,可列舉日本特開2014-137466號公報中所記載的化合物。將該內容編入本說明書中。
本發明中,作為光聚合起始劑,亦能夠使用具有氟原子之肟化合物。作為具有氟原子之肟化合物的具體例,可列舉日本特開2010-262028號公報中所記載的化合物、日本特表2014-500852號公報中所記載的化合物24、36~40、日本特開2013-164471號公報中所記載的化合物(C-3)等。將該等內容編入本說明書中。
本發明中,作為光聚合起始劑,能夠使用具有硝基之肟化合物。具有硝基之肟化合物為二聚體亦為較佳。作為具有硝基之肟化合物的具體例,可列舉日本特開2013-114249號公報的0031~0047段、日本特開2014-137466號公報的0008~0012段、0070~0079段中所記載之化合物、日本專利4223071號公報的0007~0025段中所記載之化合物、ADEKA ARKLS NCI-831(ADEKA Corporation製)。
本發明中,作為光聚合起始劑,亦能夠使用具有苯并呋喃骨架之肟化合物。作為具體例,可列舉國際公開第2015/036910號中所記載之OE-01~OE-75。
以下示出在本發明中較佳地使用之肟化合物的具體例,但本發明不限定於該等。
本發明中所使用之光聚合起始劑係在波長350~500nm的範圍具有極大吸收波長之化合物為較佳,在波長360~480nm的範圍具有極大吸收波長之化合物為更佳。
有色顏料衍生物A2在波長400~700nm的範圍內的極大吸收波長與光聚合起始劑的極大吸收波長之差係20~200nm為較佳,50~100nm為更佳。
又,從更容易獲得本發明的效果之觀點考慮,本發明中所使用之光聚合起始劑在波長365nm下的莫耳吸光係數係1,000L.mol-1.cm-1以上為較佳,3,000L.mol-1.cm-1以上為更佳,5,000L.mol-1.cm-1以上為進一步較佳。又,最大值並無特別限定,100,000L.mol-1.cm-1以下為較佳。能夠使用公知的方法來測量光聚合起始劑的莫耳吸光係數。例如,藉由分光光度計(Varian公司製造之Cary-5分光光度計(spectrophotometer)),使用乙酸乙酯溶劑以0.01g/L的濃度測量為較佳。
作為光聚合起始劑,還可以使用2官能或3官能以上的光自由基聚合起始劑。藉由使用該種光自由基聚合起始劑,從光自由基聚合起始劑的1個分子產生2個以上的自由基,因此可獲得良好的靈敏度。又,當使用非對稱結構的化合物時,結晶性降低,溶劑等中的溶解性提高,難以經時析出,能夠提高著色感光性組成物的經時穩定性。作為2官能或3官能以上的光自由基聚合起始劑的具體例,可列舉日本特表2010-527339號公報、日本特表2011-524436號公報、國際公開第2015/004565號、日本特表2016-532675號公報的0412~0417段、國際公開第2017/033680號的0039~0055段中所記載之肟化合物的二聚體、日本特表2013-522445號公報中所記載之化合物(E)及化合物(G)、國際公開第2016/034963號中所記載之Cmpd1~7、日本特表2017-523465號公報的0007段中所記載之肟酯類光起始劑、日本特開2017-167399號公報的
0020~0033段中所記載之光起始劑、日本特開2017-151342號公報的0017~0026段中所記載之光聚合起始劑(A)等。
本發明的著色感光性組成物的總固體成分中的光聚合起始劑的含量係0.1~30質量%為較佳。下限為0.5質量%以上為較佳,1質量%以上為更佳。上限為20質量%以下為較佳,15質量%以下為更佳。本發明的著色感光性組成物中,光聚合起始劑可以僅使用1種,亦可以使用2種以上。當使用2種以上時,該等的合計量在上述範圍內為較佳。
<樹脂>
本發明的著色感光性組成物能夠含有樹脂。樹脂例如以將顏料等粒子分散於著色感光性組成物中之用途或黏合劑的用途來進行摻和。另外,亦將主要用於使顏料等粒子分散之樹脂稱為分散劑。但是,樹脂的該等用途為一例,亦能夠以除了該等用途以外的目的使用。
樹脂的重量平均分子量(Mw)係3,000~2,000,000為較佳。上限係1,000,000以下為較佳,500,000以下為更佳。下限為4,000以上為較佳,5,000以上為更佳。
作為樹脂,可列舉(甲基)丙烯酸樹脂、烯-硫醇樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醚樹脂、聚芳酯樹脂、聚碸樹脂、聚醚碸樹脂、聚苯樹脂、聚伸芳基醚氧化膦樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚醯胺醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、環狀烯烴樹脂、聚酯樹脂、苯乙烯樹脂等。從該等樹脂可以單獨使用1種,亦可混合2種以上使用。又,亦能
夠使用日本特開2017-206689號公報的0041~0060段中所記載之樹脂、日本特開2018-010856號公報的0022~0071段中所記載之樹脂。
[具有酸基之樹脂]
本發明的著色感光性組成物作為樹脂包含具有酸基之樹脂為較佳。藉由該態樣,能夠提高著色感光性組成物的顯影性,並且容易形成矩形性優異的像素。作為酸基,可列舉羧基、磷酸基、磺基、酚性羥基等,羧基為較佳。具有酸基之樹脂例如能夠用作鹼可溶性樹脂。
具有酸基之樹脂包含在側鏈上具有酸基之重複單元為較佳,在樹脂的所有重複單元中包含5~70莫耳%的在側鏈上具有酸基之重複單元為更佳。在側鏈上具有酸基之重複單元的含量的上限係50莫耳%以下為較佳,30莫耳%以下為更佳。在側鏈上具有酸基之重複單元的含量的下限係10莫耳%以上為較佳,20莫耳%以上為更佳。
具有酸基之樹脂包含來自於包含由下述式(ED1)表示之化合物和/或由下述式(ED2)表示之化合物(以下,有時將該等化合物亦稱為“醚二聚物”。)之單體成分之重複單元亦為較佳。
式(ED1)中,R1及R2分別獨立地表示氫原子或可具有取代基之碳數1~25的烴基。
式(ED2)中,R表示氫原子或碳數1~30的有機基。關於式(ED2)的詳細內容,能夠參閱日本特開2010-168539號公報的記載,該內容被併入本說明書中。
作為醚二聚物的具體例,例如能夠參閱日本特開2013-029760號公報的0317段中的記載,該內容被併入本說明書中。
本發明中所使用之樹脂包含來自於由下述式(X)表示之化合物之重複單元亦為較佳。
式(X)中,R1表示氫原子或甲基,R2表示碳數2~10的伸烷基,R3表示氫原子或可以包含苯環之碳數1~20的烷基。n表示1~15的整數。
關於具有酸基之樹脂,能夠參閱日本特開2012-208494號公報的0558~0571段(對應之美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的0685~0700段)的記載、日本特開2012-198408號公報
的0076~0099段的記載,該等內容被併入本說明書中。又,具有酸基之樹脂亦能夠使用市售品。
具有酸基之樹脂的酸值係30~500mgKOH/g為較佳。下限為50mgKOH/g以上為較佳,70mgKOH/g以上為更佳。上限為400mgKOH/g以下為較佳,300mgKOH/g以下為更佳,200mgKOH/g以下尤進一步較佳。具有酸基之樹脂的重量平均分子量(Mw)係5,000~100,000為較佳。又,具有酸基之樹脂的數量平均分子量(Mn)係1,000~20,000為較佳。
作為具有酸基之樹脂,例如可列舉下述結構的樹脂等。下述結構中,括號的下標表示各重複單元的含量(莫耳%)。
[分散劑]
本發明的著色感光性組成物還能夠包含作為分散劑之樹脂。作為分散劑,可列舉酸性分散劑(酸性樹脂)、鹼性分散劑(鹼性樹脂)。在此,酸性分散劑(酸性樹脂)表示酸基的量多於鹼性基的量之樹脂。酸性分散劑(酸性樹脂),將酸基的量與鹼性基的量的總計量設為100莫耳%時,酸基的量佔70莫耳%以上之樹脂為較佳,實質上僅包含酸基之樹脂為更佳。酸性分散劑(酸性樹脂)所具有之酸基為羧基為較佳。酸性分散劑(酸性樹脂)的酸值係20~180mgKOH/g為較佳,30~150mgKOH/g為更佳,50~100mgKOH/g為進一步較佳。又,鹼性分散劑(鹼性樹脂)表示鹼性基的量多於酸基的量之樹脂。關於鹼性分散劑(鹼性樹脂),將酸基的量與鹼性基的量的總計量設為100莫耳%時,鹼性基的量大於50莫耳%之樹脂為較佳。鹼性分散劑所具有之鹼性基為胺基為較佳。
用作分散劑之樹脂包含具有酸基之重複單元為較佳。用作分散劑之樹脂包含具有酸基之重複單元,藉此在藉由光刻法形成圖案時,能夠進一步抑制顯影殘渣的產生。
用作分散劑之樹脂為接枝樹脂亦為較佳。接枝樹脂的詳細內容能夠參閱日本特開2012-255128號公報的0025~0094段的記載,該內容被併入本說明書中。
用作分散劑之樹脂係在主鏈及側鏈中的至少一處包含氮原子之聚亞胺系分散劑亦為較佳。作為聚亞胺系分散劑,係具有主鏈及側鏈,且在主鏈及側鏈的至少一處具有鹼性氮原子之樹脂為
較佳,該主鏈包含具有pKa14以下的官能基之部分結構,該側鏈的原子數為40~10,000。鹼性氮原子只要係呈鹼性之氮原子,則並沒有特別限制。關於聚亞胺系分散劑,能夠參閱日本特開2012-255128號公報的0102~0166段的記載,該內容被併入本說明書中。
用作分散劑之樹脂係在芯部鍵結有複數個聚合物鏈之結構的樹脂亦為較佳。作為該種樹脂,例如可列舉樹枝狀聚合物(包含星型聚合物)。又,作為樹枝狀聚合物的具體例,可列舉日本特開2013-043962號公報的0196~0209段中所記載之高分子化合物C-1~C-31等。
又,亦能夠將上述具有酸基之樹脂(鹼可溶性樹脂)用作分散劑。
又,用作分散劑之樹脂係包含在側鏈上具有乙烯性不飽和基之重複單元之樹脂亦為較佳。在側鏈上具有乙烯性不飽和基之重複單元的含量係樹脂的所有重複單元中10莫耳%以上為較佳,10~80莫耳%為更佳,20~70莫耳%為進一步較佳。
分散劑亦能夠作為市售品獲得,作為該種具體例,可列舉BYKChemieGmbH製的DISPERBYK系列(例如,DISPERBYK-111、161等)、Lubrizol Japan Limited.製的SOLSPERSE系列(例如、SOLSPERSE76500等)等。又,亦能夠使用日本特開2014-130338號公報的0041~0130段中所記載之顏料分散劑,該內容被併入本說明書中。另外,作為上述分散劑而說明之樹脂還能夠以除了分散劑以外的用途而使用。例如,還能夠作為黏合劑而使用。
-具有硬化性基之分散劑-
作為本發明中所使用之分散劑,亦可適當地列舉具有硬化性基之分散劑。
作為上述分散劑中的硬化性基,乙烯性不飽和基為較佳,選自包括乙烯基、乙烯基苯基、烯丙基、(甲基)丙烯醯基、(甲基)丙烯醯胺基及順丁烯二醯亞胺基之群組中之至少一種為更佳,(甲基)丙烯醯基為進一步較佳,丙烯醯基為特佳。
又,在側鏈具有硬化性基為較佳,在側鏈的分子末端具有硬化性基亦為較佳。
在本發明中,與上述無色顏料衍生物A1及上述有色顏料衍生物A2相對應之化合物並不對應於具有硬化性基之分散劑。
又,分散劑係不具有上述色素部分結構之化合物為較佳。
又,分散劑的較佳重量平均分子量係10,000~100,000為較佳。
<<由式D1表示之構成單元>>
具有硬化性基之分散劑具有由下述式D1表示之構成單元為較佳。
式D1中,RD1~RD3分別獨立地表示氫原子或烷基,XD1表示-COO-、-CONRD6-或伸芳基,RD6表示氫原子、烷基或芳基,RD4表示2價的連結基,LD1表示由下述式D2或式D3表示之基團,RD5表示(n+1)價的連結基,XD2表示氧原子或NRD7-,RD7表示氫原子、烷基或芳基,RD表示氫原子或甲基,n表示1以上的整數。
式D2及式D3中,XD3表示氧原子或-NH-,XD4表示氧原子或COO-,Re1~Re3分別獨立地表示氫原子或烷基,Re1~Re3中的至少2個可以鍵結而形成環結構,*及波線部分表示與其他結構的鍵結位置。
又,由式D3表示之結構作為結構異構物可以包含由下述式D3’表示之結構。
式D3’中,XD5的含義與式D3中的XD4的含義相同,Re4~Re6的含義與式D3中的Re1~Re3的含義相同,較佳態樣亦相同。
又,式D3’中,Re4~Re6中的至少2個可以鍵結而形成環結構,*及波線部分表示與其他結構的鍵結位置。
由式D3’表示之結構有時例如藉由羧基、酚性羥基等基團與環氧基的反應而作為結構異構物而存在。
在著色感光性組成物中,藉由使用具有上述硬化性基之分散劑,所獲得之硬化物的深部硬化性易於優異。
獲得上述效果之原因尚不清楚,但可如下推測。
認為當使用具有上述硬化性基之分散劑時,由於樹脂成分彼此聚合,因此所獲得之硬化物的深部硬化性易於優異。
尤其,認為在具有由式D1表示之構成單元之樹脂中,在側鏈具有作為極性基之由式D2或式D3表示之基團,由此在組成物中上述(甲基)丙烯醯基的移動幅度增加,從而反應性優異。又,認為藉由具有由式D2或式D3表示之基團,抑制樹脂彼此的凝聚,分散性優異,上述(甲基)丙烯醯基更容易反應,因此容易獲得上述深部硬化性優異的著色感光性組成物。
又,藉由具有由式D1表示之構成單元,能夠經由式D2或式D3表示之基團將高反應性的(甲基)丙烯醯基導入至遠離主鏈之位置。藉此,認為樹脂分子內的(甲基)丙烯醯基彼此並不反應,而是與樹脂分子之間或組成物中的其他交聯成分(例如,聚合性化
合物等)反應之可能性增加,顏料濃度高的組成物中亦會有效地進行交聯反應,從而能夠提高深部硬化性及圖案形狀。
又,認為由式D1表示之構成單元具有較長的側鏈結構,且在側鏈上具有由式D2或式D3表示之極性基,因此提高對顏料的吸附性,並且表現出抑制顏料粒子彼此的凝聚之空間排斥性。其結果,認為可提高顏料的分散性。
此外,認為藉由具有由後述之式D4表示之構成單元,能夠將成為吸附性基之羧酸導入至遠離主鏈之位置,從而能夠提高顏料吸附性並提高分散穩定性。
又,認為藉由導入由式D1表示之構成單元,藉由優異的深度硬化性,基板密接性及圖案形狀亦得到改善,進而藉由具有由後述之式D4表示之構成單元來提高分散穩定性。
從深部硬化性的觀點考慮,式D1中的RD1~RD3分別獨立地為氫原子或甲基為較佳,氫原子為更佳。又,從深部硬化性的觀點考慮,RD1為氫原子或甲基,並且RD2及RD3係氫原子為進一步較佳。當LD1為由式D2表示之基團時,RD1係甲基為進一步較佳,當LD1為由式D3表示之基團時,RD1係氫原子為進一步較佳。
從深部硬化性的觀點考慮,式D1中的XD1係-COO-或CONRD6-為較佳,-COO-為更佳。當XD1為伸芳基時,碳數6~20的2價的芳香族烴基為較佳,伸苯基或伸萘基為更佳,伸苯基為進一步較佳。當XD1為-COO-時,-COO-中的碳原子與式D1中的由RD1
所鍵結之碳原子鍵結為較佳。當XD1為-CONRD6-時,-CONRD6-中的碳原子與由式D1中的RD1所鍵結之碳原子鍵結為較佳。
RD6係氫原子或烷基為較佳,氫原子為更佳。
從深部硬化性的觀點考慮,式D1中的RD4係烴基或2個以上的烴基與選自包括醚鍵及酯鍵之群組中之1個以上的結構鍵結而成之基團為較佳,烴基或2個以上的烴基與1個以上的酯鍵鍵結而成之基團為更佳。
又,式D1中的RD4係由選自包括伸烷基、醚基、羰基、伸苯基、伸環烷基及酯鍵之群組中之2個以上的基團鍵結而成之基團為較佳,係由選自包括伸烷基、醚基及酯鍵之群組中之2各以上的基團鍵結而成之基團為更佳。
又,從深部硬化性的觀點考慮,式D1中的RD4係總原子數2~60的基團為較佳,總原子數2~50的基團為更佳,總原子數2~40的基團為特佳。
此外,從深部硬化性的觀點考慮,RD4係選自包括烴基、伸烷氧基、伸烷基羰氧基及由下述結構表示之任一基團之群組中之基團,並且上述RD5係伸烷基或2個以上的伸烷基與選自包括醚鍵及酯鍵之群組中之1個以上的結構鍵結而成之基團為特佳。
上述式中,*及波線部分表示與其他結構的鍵結位置,*表示式D1中的與XD1的鍵結部位,波線部分表示與LD1的鍵結位置為較佳。
又,上述式中,LF1及LF2分別獨立地表示烴基,n表示0以上的整數。
LF1及LF2分別獨立地為碳數2~20的伸烷基之態樣亦為較佳。
LF1及LF2為相同基團之態樣亦為較佳。
n為0~100之態樣亦為較佳。
從深部硬化性的觀點考慮,式D1中的n係1~6的整數為較佳,1~3的整數為更佳,1為進一步較佳。
從深部硬化性的觀點考慮,式D1中的RD5係2價的連結基為較佳,伸烷基或2個以上的伸烷基與選自包括醚鍵及酯鍵之群組中之1個以上的結構鍵結而成之基團為更佳,伸烷基氧伸烷基為進一步較佳,亞甲氧基-正伸丁基為特佳。
又,從深部硬化性的觀點考慮,式D1中的RD5係總原子數2~40的基團為較佳,總原子數2~30的基團為更佳,總原子數2~20的基團為特佳。
從深部硬化性的觀點考慮,式D1中的XD2係氧原子為較佳。
RD7係氫原子或烷基為較佳,氫原子為更佳。
RD係氫原子為較佳。
從分散性的觀點考慮,式D1中的LD1係由上述式D2表示之基團為較佳,從圖案形狀及顯影殘渣抑制的觀點考慮,由上述式D3表示之基團為較佳。
在上述式D2及D3中,*為與RD4的鍵結部位且波線部分為與RD5的鍵結部位為較佳。
從深部硬化性及分散性的觀點考慮,式D2中的XD3係氧原子為較佳。
又,當LD1為由式D2表示之基團時,從深部硬化性及分散性的觀點考慮,RD4為選自包括伸乙基、正伸丙基、異伸丙基、正伸丁基及異伸丁基之群組中之基團,並且RD5係伸乙基為特佳。
從深部硬化性、圖案形狀及顯影殘渣抑制的觀點考慮,式D3中的XD4係-COO-為較佳。當XD4為上述-COO-時,-COO-中的氧原子與由Re1所鍵結之碳原子鍵結為較佳。
從深部硬化性、圖案形狀及顯影殘渣抑制的觀點考慮,式D3中的Re1~Re3係氫原子為較佳。
又,當LD1為由式D3表示之基團時,從深部硬化性、圖案形狀及顯影殘渣抑制的觀點考慮,RD4係烴基、2個以上的烴基與選自包括醚鍵及酯鍵之群組中之1各以上的結構鍵結而成之基團或由下述結構表示之任一個基團,並且,RD5係伸烷基或2個以上的
伸烷基與選自包括醚鍵及酯鍵之群組中之1個以上的結構鍵結而成之基團為特佳。
作為由式D2表示之基團,可較佳地列舉由下述式D2-1或式D2-2表示之基團。
又,作為由式D3表示之基團,可較佳地列舉由下述式D3-1或式D3-2表示之基團。
*及波線部分的含義與式D2或式D3中的*及波線部分的含義相同,較佳態樣亦相同。
又,在由式D3-1及式D3-2表示之結構中,至少一部分可以成為由相對於下述式D3-1之式D3-1’、相對於下述式D3-2之式D3-2’表示之結構。由式D3-1’表示之結構作為一例,在羧酸化合物與具有環氧基及丙烯醯基之化合物的反應中,作為結構異構物而存在。由式D3-2’表示之結構作為一例,在酚化合物與具有環氧基及丙烯醯基之化合物的反應中,作為結構異構物而存在。
作為由式D1表示之構成單元,可較佳地列舉以下所示之結構,但當然並不限定於該等。下述具體例中,m表示2以上的整數,n表示1以上的整數。
具有硬化性基之分散劑可以單獨具有1種由式D1表示之構成單元,亦可以具有2種以上。
從顯影性、圖案形狀、分散穩定性及深部硬化性的觀點考慮,由式D1表示之構成單元的含量相對於具有硬化性基之分散劑的總質量係1~80質量%為較佳,1~70質量%為更佳,1~60質量%為特佳。
<<由式D4表示之構成單元)>>
從分散穩定性及顯影性的觀點考慮,具有硬化性基之分散劑還具有由下述式D4表示之構成單元為較佳。
式D4中,RD8表示氫原子或烷基,XD5表示-COO-、-CONRB-或伸芳基,RB表示氫原子、烷基或芳基,LD2表示碳數1~10的脂肪族烴基、碳數6~20的芳香族烴基或將選自包括碳數1~10的脂肪族烴基及碳數6~20的芳香族烴基之群組中之2個以上的基團與選自包括醚鍵及酯鍵之群組中之1個以上的基團鍵結而成之基團,此外,當XD5為伸芳基時,LD2可以為單鍵。
式D4中的RD8係氫原子為較佳。
從分散穩定性的觀點考慮,式D4中的XD5係-COO-或CONRB為較佳,-COO-為更佳。當XD5為-COO-時,-COO-中的碳原子與式D4中的由RD8所鍵結之碳原子鍵結為較佳。當XD5為-CONRDB-時,-CONRDB-中的碳原子與式D4中由的RD8所鍵結之碳原子鍵結為較佳。
RB係氫原子或烷基為較佳,氫原子為更佳。
從分散穩定性的觀點考慮,式D4中的LD2係碳數1~10的脂肪族烴基或將2個以上的碳數1~10的脂肪族烴基與1個以上的酯
鍵鍵結而成之基團為較佳,碳數1~10的脂肪族烴基為進一步較佳,碳數1~10的伸烷基為特佳。
作為由式D4表示之構成單元,可較佳地列舉以下所示之結構,但當然並不限定於該等。下述具體例中,n表示1以上的整數。
具有硬化性基之分散劑可以單獨具有1種由式D4表示之構成單元,亦可以具有2種以上。
從顯影性、圖案形狀及分散穩定性的觀點考慮,由式D4表示之構成單元的含量相對於具有硬化性基之分散劑的總質量係20質量%~80質量%為較佳,20質量%~70質量%為更佳,20質量%~60質量%為特佳。
<<由式D5表示之構成單元>>
從分散穩定性的觀點考慮,具有硬化性基之分散劑還具有由下述式D5表示之構成單元為較佳,從分散穩定性及顯影性的觀點
考慮,還具有由上述式D4表示之構成單元及由下述式D5表示之構成單元為更佳。
式D5中,RD9表示氫原子或烷基,XD6表示氧原子或NRC-,RC表示氫原子、烷基或芳基,LD3表示2價的連結基,YD1及YD2分別獨立地表示伸烷氧基或伸烷基羰氧基,ZD1表示碳數1~20的脂肪族烴基或碳數6~20的芳香族烴基,p及q分別獨立地表示0以上的整數,p+q的值為1以上。
式D5中的RD9係氫原子或甲基為較佳,甲基為更佳。
從分散穩定性的觀點考慮,式D5中的XD6係氧原子為較佳。
RC係氫原子或烷基為較佳,氫原子為更佳。
從分散穩定性的觀點考慮,式D5中的LD3係總原子數2~30的基團為較佳,總原子數3~20的基團為更佳,總原子數4~10的基團為特佳。
又,從分散穩定性的觀點考慮,式D5中的LD3係具有胺甲酸乙酯鍵或脲鍵之基團為較佳,具有胺甲酸乙酯鍵之基團為更佳,伸烷基與胺甲酸乙酯鍵鍵結而成之基團為特佳。
從分散穩定性的觀點考慮,式D5中的YD1及YD2分別獨立地為伸烷基羰氧基為較佳,YD1及YD2為分別不同之伸烷基羰氧基為更佳。又,p個YD1及q個YD2可以隨機排列,亦可以形成p個YD1塊和q個YD2塊而排列。
從分散穩定性的觀點考慮,上述伸烷基羰氧基的碳數係2~30為較佳,3~10為更佳,5~8為特佳。
從分散穩定性的觀點考慮,p為1以上的整數,並且q係0以上的整數為較佳,p為1以上的整數,並且q係1以上的整數為更佳,p為3以上的整數,並且q係3以上的整數為特佳。
又,p及q分別獨立地為50以下為較佳,30以下為更佳,20以下為特佳。
從分散穩定性的觀點考慮,式D5中的ZD1係碳數1~20的脂肪族烴基為較佳,碳數4~20的烷基為更佳,碳數6~20的烷基為特佳。
又,從分散穩定性的觀點考慮,ZD1中的上述烷基係支鏈烷基為較佳。
作為由式D5表示之構成單元,可較佳地列舉以下所示之結構,但當然並不限定於該等。下述具體例中,n表示1以上的整數,a及b分別獨立地表示1以上的整數。
具有上述硬化性基之分散劑可以單獨具有1種由式D5表示之構成單元,亦可以具有2種以上。
從顯影性及分散穩定性的觀點考慮,由式D5表示之構成單元的含量相對於具有硬化性基之分散劑的總質量係5質量%~80質量%為較佳,5質量%~70質量%為更佳,5質量%~60質量%為特佳。
<<由式D6表示之構成單元>>
從硬化性的觀點考慮,具有硬化性基之分散劑還具有由下述式D6表示之構成單元為較佳,從分散穩定性及顯影性的觀點考慮,還具有由上述式D4表示之構成單元為較佳,從分散穩定性的觀點考慮,還具有由上述式D5表示之構成單元為更佳,及從硬化性的觀點考慮,還具有由下述式D6表示之構成單元為更佳。
式D6中,RD10及RD14分別獨立地表示氫原子或烷基,LD5表示2價的連結基,AD1表示包含質子從酸基分離之結構之基團,RD11、RD12及RD13分別獨立地表示碳數1~20的脂肪族烴基或碳數6~20的芳香族烴基。
式D6中的RD10及RD14分別獨立地表示氫原子或甲基,甲基為較佳。
式D6中的LD5係直鏈狀、支鏈狀或環狀的伸烷基、醚鍵、酯鍵、脲鍵、胺甲酸乙酯鍵及將該等組合2種以上而成之基團為較佳,由下述式D6-1或式D6-2表示之基團為更佳。
式D6中的AD1係包含至少一個質子從選自包括羧酸基、磺酸基、磷酸基、次膦酸基及膦酸基之群組中之至少一種酸基分離之結構之基團為較佳,從分散穩定性的觀點考慮,包含質子從羧酸分離之結構之基團為更佳。又,AD1可以包含2個以上的酸基,亦可以僅包含1個酸基。作為較佳態樣之一,可列舉AD1僅包含1個酸基之態樣。
從分散穩定性的觀點考慮,式D6中的RD11、RD12及RD13分別獨立地為碳數1~20的烷基或具有苯基為較佳,碳數1~20的烷基為特佳。
式D6-1及式D6-2中,LD6及LD7表示2價的連結基,*表示與式D6中的氮原子的鍵結部位,波線部分表示式與D6中的RD14所鍵結之碳原子的鍵結部位。
式D6-1中,LD6係伸烷基、醚基及將該等鍵結2個以上而成之基團為較佳。上述伸烷基的碳數係1~20為較佳,1~10為更佳。又,由式D6-1表示之基團係由下述式D6-3表示之基團為較佳。
式D6-2中,LD7係伸烷基為較佳。上述伸烷基的碳數係1~20為較佳,1~10為更佳。又,LD7與式D6-2中所記載之、羥基(-OH)及*所鍵結之環己環中的任一環員原子鍵結即可,鍵結位置並無特別限定,當將式D6-2中的羥基所鍵結之環員原子作為1位、將與*鍵結之環員原子作為2位時,與5位的環員原子鍵結為較佳。
式D6-3中,LD6及LD7表示2價的連結基,*表示與式D6中的氮原子的鍵結部位,波線部分表示式與D6中的RD14所鍵結之碳原子的鍵結部位。
又,在由式D6-1表示之結構中,至少一部分可以成為由式D6-1’表示之結構。由式D6-1’表示之結構作為一例,在羧酸、酚性羥基等基團與環氧基的反應中,作為結構異構物而存在。
作為由式D6表示之構成單元,可較佳地列舉將選自以下所示之群組A之至少一種和選自群B之至少一種組合而成之結構,當然並不限定於該等。下述具體例中,n表示1以上的整數,Et表示乙基。
<<其他構成單元>>
具有硬化性基之分散劑可以具有除由上述式D1、式D4式D5及式D6表示之構成單元以外的其他構成單元。
作為其他構成單元,並無特別限定,能夠具有公知的構成單元。
具有硬化性基之分散劑的重量平均分子量(Mw)係1,000以上為較佳,1,000~200,000為更佳,1,000~100,000為特佳。
從深部硬化性、圖案形狀及基板密接性的觀點考慮,具有硬化性基之分散劑的乙烯性不飽和鍵值係0.01mmol/g~2.5mmol/g為較佳,0.05mmol/g~2.3mmol/g為更佳,0.1mmol/g~2.2mmol/g為進一步較佳,0.1mmol/g~2.0mmol/g為特佳。
具有硬化性基之分散劑的乙烯性不飽和鍵值係表示具有硬化性基之分散劑的每1g固體成分的乙烯性不飽和基的莫耳量者,藉由鹼處理從具有硬化性基之分散劑提取乙烯性不飽和基部位(例如,藉由具有上述硬化性基之分散劑的由式D1表示之構成單元中,具有丙烯醯氧基之情況下為丙烯酸)的低分子成分(a),藉由高效液相層析法(HPLC)測量其含量,並依據其測量值由下述式計算乙烯性不飽和鍵值。具體而言,將測量樣品0.1g溶解於四氫呋喃/甲醇混合液(50mL/15mL)中,並添加4mol/L氫氧化鈉水溶液10mL,使其在40℃下反應了2小時。將反應液用4mol/L甲磺酸水溶液10.2mL中和,然後,將添加了離子交換水5mL和甲醇2mL之混合液轉移到100mL容量瓶中,並藉由使用甲醇混合而製備HPLC測量樣品,在以下條件下進行測量。另外,低分子成分(a)的含量由另行製作之低分子成分(a)的校準曲線計算,乙烯性不飽和鍵值由下述式計算。
[乙烯性不飽和鍵值計算式]
乙烯性不飽和鍵值[mmol/g]=(低分子成分(a)含量[ppm]/低分子成分(a)的分子量[g/mol])/(製備聚合物的稱量值[g]×(聚合物液體的固體成分濃度[%]/100)×10)
-HPLC測量條件-
測量設備:Agilent-1200(Agilent Technologies,Inc.製)
管柱:Phenomenex公司製Synergi 4u Polar-RP 80A,250mm×4.60mm(內徑)+保護管柱
管柱溫度:40℃
分析時間:15分鐘
流速:1.0mL/min(最大送液壓力:182bar(18.2MPa))
注入量:5μl
檢測波長:210nm
洗提液:四氫呋喃(不含穩定劑HPLC用)/緩衝溶液(含有磷酸0.2體積%及三乙胺0.2體積%之離子交換水溶液)=55/45(體積%)
另外,在本說明書中,體積%係25℃下的值。
著色感光性組成物可以單獨含有1種具有硬化性基之分散劑,亦可以包含2種以上。
當著色感光性組成物含有具有硬化性基之分散劑時,從深部硬化性及分散穩定性的觀點考慮,具有硬化性基之分散劑的含量相對於著色感光性組成物的總固體成分係10~45質量%為較佳,12~40質量%為更佳,14~35質量%為特佳。
又,從深部硬化性及分散穩定性的觀點考慮,具有硬化性基之分散劑的含量相對於顏料的含量100質量份,含有20~60質量份為較佳,22~55質量份為更佳,24~50質量份為特佳。
具有硬化性基之分散劑的合成方法並無特別限定,能夠應用公知的方法來合成。
例如,可列舉藉由公知的方法合成具有上述硬化性基之分散劑的前驅物之後,藉由高分子反應導入由上述式D1表示之構成單元中的具有丙烯醯基之基團之方法。作為上述高分子反應,可列舉具有上述硬化性基之分散劑的前驅物所具有之羧基與具有環氧基及丙烯醯基之化合物的反應、以及具有上述硬化性基之分散劑的前驅物所具有之羥基與具有異氰酸酯基及丙烯醯基之化合物的反應等。
又,具有上述硬化性基之分散劑由承擔顯影性之構成單元、承擔分散性之構成單元、承擔硬化性之構成單元等不同的構成單元構成,為了有效地表現不同的功能,使具有上述硬化性基之分散劑的組成均勻化為較佳。
作為使具有上述硬化性基之分散劑的組成均勻化之方法,例如可列舉在反應體系內滴加單體以匹配不同單體種類的消耗速度之方法。通常,能夠藉由提高消耗速度慢的單體種類在反應體系內的初始濃度,滴加消耗速度快的單體種類而產生反應系內的濃度差來匹配反應速度。
[含量]
當本發明的著色感光性組成物包含樹脂時,著色感光性組成物的總固體成分中的樹脂的含量(與著色感光性組成物中所含有之、樹脂相對應之成分的合計量)係5~50質量%為較佳。下限為10質量%以上為較佳,15質量%以上為更佳。上限為40質量%以下為較佳,35質量%以下為更佳,30質量%以下為進一步較佳。又,著色感光性組成物的總固體成分中的具有酸基之樹脂的含量係5~50質量%為較佳。下限為10質量%以上為較佳,15質量%以上為更佳。上限為40質量%以下為較佳,35質量%以下為更佳,30質量%以下為進一步較佳。又,從容易獲得優異的顯影性的原因考慮,樹脂總量中的具有酸基之樹脂的含量係30質量%以上為較佳,50質量%以上為更佳,70質量%以上為進一步較佳,80質量%以上為特佳。上限能夠設為100質量%,亦能夠設為95質量%,亦能夠設為90質量%以下。
又,從硬化性、顯影性及覆膜形成性的觀點考慮,著色感光性組成物的總固體成分中的聚合性化合物與樹脂的合計的含量係10~65質量%為較佳。下限為15質量%以上為較佳,20質量%以上為更佳,30質量%以上為進一步較佳。上限為60質量%以下為較佳,50質量%以下為更佳,40質量%以下進一步較佳。又,相對於聚合性化合物的100質量份,含有30~300質量份的樹脂為較佳。下限為50質量份以上為較佳,80質量份以上為更佳。上限為250質量份以下為較佳,200質量份以下為更佳。
<具有環狀醚基之化合物>
本發明的著色感光性組成物能夠含有具有環狀醚基之化合物。作為環狀醚基,可列舉環氧基、氧雜環丁基等。具有環狀醚基之化合物係具有環氧基之化合物為較佳。作為具有環氧基之化合物,可列舉1分子內具有一個以上的環氧基之化合物,具有2個以上的環氧基之化合物為較佳。在1分子內具有1~100個環氧基為較佳。環氧基的數量的上限例如能夠設為10個以下,亦能夠設為5個以下。環氧基的數量的下限係2個以上為較佳。作為具有環氧基之化合物,亦能夠使用日本特開2013-011869號公報的0034~0036段、日本特開2014-043556號公報的0147~0156段、日本特開2014-089408號公報的0085~0092段中所記載之化合物、日本特開2017-179172號公報中所記載之化合物。將該等內容編入本說明書中。
具有環氧基之化合物可以為低分子化合物(例如,分子量小於2000,進而分子量小於1,000),亦可以為高分子化合物(macromolecule)(例如,分子量1,000以上的聚合物的情況下,重量平均分子量為1,000以上)中的任一個。具有環氧基之化合物的重量平均分子量係200~100,000為較佳,500~50,000為更佳。重量平均分子量的上限係10,000以下為較佳,5,000以下為更佳,3,000以下為進一步較佳。
作為具有環氧基之化合物,能夠較佳地使用環氧樹脂。作為環氧樹脂,例如可列舉作為酚化合物的縮水甘油醚化物之環氧樹脂、作為各種酚醛清漆樹脂的縮水甘油醚化物之環氧樹脂、脂環式環氧樹脂、脂肪族系環氧樹脂、雜環式環氧樹脂、縮水甘油酯系
環氧樹脂、縮水甘油胺系環氧樹脂、將鹵代酚類縮水甘油基化而得之環氧樹脂、具有環氧基之矽化合物與其以外的矽化合物的稠合物、具有環氧基之聚合性不飽和化合物與其以外的其他聚合性不飽和化合物的共聚物等。環氧樹脂的環氧當量係310~3,300g/eq為較佳,310~1,700g/eq為更佳,310~1,000g/eq為進一步較佳。
作為具有環狀醚基之化合物的市售品,例如可列舉EHPE3150(Daicel Corporation製)、EPICLON N-695(DIC Corporation製)、Marproof G-0150M、G-0105SA、G-0130SP、G-0250SP、G-1005S、G-1005SA、G-1010S、G-2050M、G-01100、G-01758(以上,NOF Corporation製,含有環氧基之聚合物)等。
本發明的著色感光性組成物含有具有環狀醚基之化合物時,著色感光性組成物的總固體成分中的具有環狀醚基之化合物的含量係0.1~20質量%為較佳。下限例如為0.5質量%以上為較佳,1質量%以上為更佳。上限例如為15質量%以下為較佳,10質量%以下為更佳。具有環狀醚基之化合物可以僅為1種,亦可以為2種以上。為2種以上時,該等合計量係上述範圍為較佳。
<矽烷偶合劑>
本發明的著色感光性組成物能夠含有矽烷偶合劑。藉由該態樣,能夠進一步提高與所獲得之膜的支撐體的密接性。本發明中,矽烷偶合劑係指具有水解性基和其以外的官能基之矽烷化合物。又,水解性基係指直接鍵結於矽原子並且可藉由水解反應及稠合反應中的任一者產生矽氧烷鍵之取代基。作為水解性基,例如可列
舉鹵素原子、烷氧基、醯氧基等,烷氧基為較佳。亦即,矽烷耦合劑係具有烷氧基甲矽烷基之化合物為較佳。又,作為除水解性基以外的官能基,例如可列舉乙烯基、(甲基)烯丙基、(甲基)丙烯醯基、巰基、環氧基、氧雜環丁基、胺基、脲基、硫醚基、異氰酸酯基、苯基等,胺基、(甲基)丙烯醯基及環氧基為較佳。作為矽烷耦合劑的具體例,可列舉日本特開2009-288703號公報的0018~0036段中所記載之化合物、日本特開2009-242604號公報的0056~0066段中所記載之化合物,該等內容被併入本說明書中。
著色感光性組成物的總固體成分中的矽烷耦合劑的含量係0.1~5質量%為較佳。上限為3質量%以下為較佳,2質量%以下為更佳。下限為0.5質量%以上為較佳,1質量%以上為更佳。矽烷耦合劑可以僅為1種,亦可以為2種以上。為2種以上時,合計量成為上述範圍為較佳。
<溶劑>
本發明的著色感光性組成物能夠含有溶劑。作為溶劑可列舉有機溶劑。溶劑只要滿足各成分的溶解性和著色感光性組成物的塗佈性,則基本上並無特別限制。作為有機溶劑,可列舉酯系溶劑、酮系溶劑、醇系溶劑、醯胺系溶劑、醚系溶劑、烴系溶劑等。關於該等的詳細內容,能夠參閱國際公開第2015/166779號的0223段,該內容被併入本說明書中。又,亦能夠較佳地使用環狀烷基所取代之酯系溶劑、環狀烷基所取代之酮系溶劑。作為有機溶劑的具體例,可列舉聚乙二醇單甲基醚、二氯甲烷、3-乙氧基丙酸甲酯、3-
乙氧基丙酸乙基、乙基溶纖劑乙酸酯、乳酸乙基、二乙二醇二甲醚、乙酸丁基、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、環己酮、乙酸環己基、環戊酮、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、3-甲氧基-N,N-二甲基丙醯胺、3-丁氧基-N,N-二甲基丙醯胺等。但是作為溶劑的芳香族烴類(苯、甲苯、二甲苯、乙基苯等),有時因環境方面等的理由降低為宜(例如,相對於有機溶劑總量,能夠設為50質量ppm(百萬分率,parts per million)以下,亦能夠設為10質量ppm以下、亦能夠設為1質量ppm以下)。
本發明中,使用金屬含量較少之溶劑為較佳,例如溶劑的金屬含量例如為10質量ppb(十億分率,parts per billion)以下為較佳。依需要,亦可以使用質量ppt(萬億分之一,parts per trillion)級別的溶劑,該種高純度溶劑例如由TOYO Gosei Co.,Ltd.所提供(化學工業日報,2015年11月13日)。
作為從溶劑中去除金屬等雜質之方法,例如,能夠列舉使用蒸餾(分子蒸餾和薄膜蒸餾等)或過濾器之過濾。作為用於過濾之過濾器的過濾器孔徑,10μm以下為較佳,5μm以下為更佳,3μm以下為進一步較佳。過濾器的材質係聚四氟乙烯、聚乙烯或尼龍為較佳。
溶劑中可以含有異構物(原子數相同但結構不同之化合物)。又,異構物可以僅包含1種,亦可以包含複數種。
本發明中,有機溶劑中之過氧化物的含有率係0.8mmol/L以下為較佳,實際上不含有過氧化物為更佳。
著色感光性組成物中的溶劑的含量係10~95質量%為較佳,20~90質量%為更佳,30~90質量%為進一步較佳。
又,從環境法規的觀點考慮,本發明的著色感光性組成物實質上不含有環境法規物質為較佳。另外,本發明中,實質上不含有環境法規物質係指著色感光性組成物中之環境法規物質的含量為50質量ppm以下,30質量ppm以下為較佳,10質量ppm以下為進一步較佳,1質量ppm以下為特佳。環境法規物質例如可列舉苯;甲苯、二甲苯等烷基苯類;氯苯等鹵化苯類等。該等在REACH(Registration Evaluation Authorization and Restriction of CHemicals)法規、PRTR(Pollutant Release and Transfer Register)法、VOC(Volatile Organic Compounds)法規等下註冊為環境法規物質,使用量和處理方法受到嚴格管制。該等化合物有時在製造用於本發明的著色感光性組成物之各成分等時用作溶劑,作為殘留溶劑混入著色感光性組成物中。從對人的安全性、對環境的考慮的觀點考慮,盡可能地減少該等物質為較佳。作為減少環境法規物質之方法,可列舉將系統內部進行加熱和減壓而設為環境法規物質的沸點以上,並從系統中蒸餾去除環境法規物質並將其減少之方法。又,在蒸餾去除少量的環境法規物質之情況下,為了提高效率而與具有該溶劑相同的沸點之溶劑共沸亦是有用的。又,當含有具有自由基聚合性之化合物時,可以在添加聚合抑制劑之後減壓蒸餾去除,以便抑制在減壓蒸餾去除中自由基聚合反應的進行導致在分子間進行交聯。該等蒸餾去除方法能夠在原料階段、使原料反
應之產物(例如聚合後的樹脂溶液和多官能單體溶液)的階段或藉由混合該等化合物而製作之著色感光性組成物的階段中的任一階段中進行。
<聚合抑制劑>
本發明的著色感光性組成物含有聚合抑制劑為較佳。作為聚合抑制劑,可列舉對苯二酚、對甲氧基苯酚、二-三級丁基-對甲酚、五倍子酚、三級丁基鄰苯二酚、苯醌、4,4’-硫代雙(3-甲基-6-三級丁基苯酚)、2,2’-亞甲基雙(4-甲基-6-三級丁基酚醛)、N-亞硝基苯基羥基胺鹽(銨鹽、第一鈰鹽等)。其中,對甲氧基苯酚為較佳。著色感光性組成物的總固體成分中的聚合抑制劑的含量係0.0001~5質量%為較佳。
<界面活性劑>
本發明的著色感光性組成物能夠含有界面活性劑。作為界面活性劑,能夠使用氟系界面活性劑、非離子系界面活性劑、陽離子系界面活性劑、陰離子系界面活性劑、矽酮系界面活性劑等各種界面活性劑。關於界面活性劑,能夠參閱國際公開第2015/166779號的0238~0245段,該內容被併入本說明書中。
本發明中,界面活性劑係氟系界面活性劑為較佳。著色感光性組成物中含有氟系界面活性劑,藉此能夠進一步提高液體特性(尤其,流動性),並且能夠進一步改善省液性。又,還能夠形成厚度不均勻少之膜。
氟系界面活性劑中之氟含有率為3~40質量%為較佳,5~30質量%為更佳,7~25質量%為特佳。氟含有率為該範圍內之氟系界面活性劑,從塗佈膜的厚度的均勻性和省液性的方面而言為有效,著色感光性組成物中之溶解性亦良好。
作為氟系界面活性劑,可列舉日本特開2014-041318號公報的0060~0064段(相對應之國際公開第2014/017669號的0060~0064段)等中所記載之界面活性劑、日本特開2011-132503號公報的0117~0132段中所記載之界面活性劑,該等內容被併入本說明書中。作為氟系界面活性劑的市售品,例如可列舉MAGAFACE F171、F172、F173、F176、F177、F141、F142、F143、F144、R30、F437、F475、F479、F482、F554、F780、EXP、MFS-330(以上,DIC Corporation製)、Fluorad FC430、FC431、FC171(以上,Sumitomo 3M Limited製)、Surflon S-382、SC-101、SC-103、SC-104、SC-105、SC-1068、SC-381、SC-383、S-393、KH-40(以上,ASAHI GLASS CO.,LTD.製)、PolyFox PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(以上,OMNOVA Solutions Inc.製)等。
又,氟系界面活性劑亦能夠較佳地使用包含具有含有氟原子之官能基之分子結構,且在加熱時含有氟原子之官能基的一部分被斷裂而氟原子揮發之丙烯酸系化合物。作為該等氟系界面活性劑,可列舉DIC Corporation製的MAGAFACE DS系列(化學工業日報,2016年2月22日)(日經產業新聞,2016年2月23日)、例如MAGAFACE DS-21。
又,氟系界面活性劑使用具有氟化烷基或氟化伸烷基醚基之含氟原子乙烯醚化合物與親水性乙烯醚化合物的聚合物亦為較佳。該種氟系界面活性劑能夠參閱日本特開2016-216602號公報的記載,並該內容被併入本說明書中。
作為氟系界面活性劑還可以使用嵌段聚合物。例如可列舉日本特開2011-089090號公報中所記載之化合物。氟系界面活性劑還能夠較佳地使用含氟高分子化合物,該含氟高分子化合物含有:源自具有氟原子之(甲基)丙烯酸酯化合物之重複單元;及源自具有2個以上(較佳為5個以上)伸烷氧基(較佳為伸乙氧基、伸丙氧基)之(甲基)丙烯酸酯化合物之重複單元。作為本發明中所使用之氟系界面活性劑,還例示出下述化合物。
上述化合物的重量平均分子量為3,000~50,000為較佳,例如為14,000。上述化合物中,表示重複單元的比例之%為莫耳%。
又,氟系界面活性劑亦能夠使用在側鏈上具有乙烯性不飽和基之含氟聚合物。作為具體例,可列舉日本特開2010-164965號公報的0050~0090段及0289~0295段中所記載之化合物,例如DIC Corporation製的MEGAFACE RS-101、RS-102、RS-718K、RS-
72-K等。氟系界面活性劑亦能夠使用日本特開2015-117327號公報的0015~0158段中所記載之化合物。
作為非離子系界面活性劑,可列舉甘油、三羥甲基丙烷、三羥甲基乙烷以及它們的乙氧基化物及丙氧基化物(例如,甘油丙氧基化物、甘油乙氧基化物等)、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、脫水山梨糖醇脂肪酸酯、PLURONIC L10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2(BASF公司製)、TETRONIC 304、701、704、901、904、150R1(BASF公司製)、SOLSPERSE 20000(Lubrizol Japan Ltd.製)、NCW-101、NCW-1001、NCW-1002(Wako Pure Corporation製)、PIONIN D-6112、D-6112-W、D-6315(Takemoto Oil & Fat Co.,Ltd.製)、OLFIN E1010、Surfynol 104、400、440(Nissin Chemical Co.,Ltd.製)等。
作為矽酮系界面活性劑,例如可列舉Toray Silicone DC3PA、Toray Silicone SH7PA、Toray Silicone DC11PA、Toray Silicone SH21PA、Toray Silicone SH28PA、Toray Silicone SH29PA、Toray Silicone SH30PA、Toray Silicone SH8400(以上,Dow Corning Toray Co.,Ltd.製)、TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4460、TSF-4452(以上,Momentive performance Materials Inc.製)、KP-341、KF-6001、KF-6002(以上,Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.製)、BYK307、BYK323、BYK330(以上,BYK Chemie GmbH製)等。
著色感光性組成物的總固體成分中的界面活性劑的含量係0.001質量%~5.0質量%為較佳,0.005~3.0質量%為更佳。界面活性劑可以僅為1種,亦可以為2種以上。為2種以上時,合計量成為上述範圍為較佳。
<紫外線吸收劑>
本發明的著色感光性組成物能夠含有紫外線吸收劑。紫外線吸收劑能夠使用共軛二烯化合物、胺基二烯化合物、水楊酸酯化合物、二苯甲酮化合物、苯并三唑化合物、丙烯腈化合物、羥基苯基三化合物、吲哚化合物、三化合物等。關於該等的詳細內容,能夠參閱日本特開2012-208374號公報的0052~0072段、日本特開2013-068814號公報的0317~0334段、日本特開2016-162946號公報的0061~0080段中的記載,該等內容被併入本說明書中。作為紫外線吸收劑的具體例子,可列舉下述結構的化合物等。作為紫外線吸收劑的市售品,例如可列舉UV-503(DAITO CHEMICAL CO.,LTD.製)等。又,作為苯并三唑化合物,可列舉MIYOSHI OIL & FAT CO.,LTD.製的MYUA系列(化學工業日報、2016年2月1日)。
著色感光性組成物的總固體成分中的紫外線吸收劑的含量係0.01~10質量%為較佳,0.01~5質量%為更佳。本發明中,紫外線吸收劑可以僅使用1種,亦可以使用2種以上。使用兩種以上之情況下,合計量係上述範圍為較佳。
<抗氧化劑>
本發明的著色感光性組成物能夠含有抗氧化劑。作為抗氧化劑,可列舉苯酚化合物、亞磷酸酯化合物、硫醚化合物等。作為苯酚化合物,能夠使用作為苯酚系抗氧化劑已知之任意的苯酚化合物。作為較佳的苯酚化合物,可列舉受阻酚化合物。在與苯酚性羥基相鄰之部位(鄰位)具有取代基之化合物為較佳。作為前述取代基,碳數1~22的經取代或未經取代的烷基為較佳。又,抗氧化劑係在同一分子內具有苯酚基和亞磷酸酯基之化合物亦為較佳。又,抗氧化劑亦能夠較佳地使用磷系抗氧化劑。作為磷系抗氧化劑,可列舉三[2-[[2,4,8,10-四(1,1-二甲基乙基)二苯并[d,f][1,3,2]二氧雜磷雜庚英-6-基]氧基]乙基]胺、三[2-[(4,6,9,11-四-第三丁基二苯并[d,f][1,3,2]二氧雜磷雜庚英-2-基)氧基]乙基]胺、及亞磷酸乙基雙(2,4-二-第三丁基-6-甲基苯基)。作為抗氧化劑的市售品,例如
可以舉出ADKSTAB AO-20、ADKSTAB AO-30、ADKSTAB AO-40、ADKSTAB AO-50、ADKSTAB AO-50F、ADKSTAB AO-60、ADKSTAB AO-60G、ADKSTAB AO-80、ADKSTAB AO-330(以上為ADEKA Corporation製造)等。
著色感光性組成物的總固體成分中的抗氧化劑的含量係0.01~20質量%為較佳,0.3~15質量%為更佳。抗氧化劑可以僅使用一種,亦可以使用兩種以上。使用兩種以上之情況下,合計量係上述範圍為較佳。
<氧化劑>
本發明的著色感光性組成物能夠含有氧化劑。
氧化劑中有時包含還作為上述聚合抑制劑發揮作用之化合物。
作為氧化劑,例如可列舉醌化合物、醌二甲烷化合物等。作為醌化合物,能夠使用苯醌、萘醌、蒽醌、氯醌、二氯二氰基苯醌(DDQ)等。作為醌二甲烷化合物,能夠使用7,7,8,8-四氰醌二甲烷(TCNQ)、2-氟-7,7,8,8-四氰醌二甲烷(FTCNQ)、2,5-二氟-7,7,8,8-四氰醌二甲烷(F2TCNQ)、四氟四氰醌二甲烷(F4TCNQ)等。
氧化劑低於所含有之顏料或染料的最低未佔用分子軌道(LUMO)為較佳。氧化劑的LUMO較佳為-3.5eV以下,更佳為-3.8eV以下,最佳為-4.0eV以下。
著色感光性組成物的總固體成分中的氧化劑的含量係0.0001~10質量%為較佳,0.0005~5質量%為更佳,0.001~1質量%
為最佳。氧化劑可以僅使用一種,亦可以使用兩種以上。使用兩種以上之情況下,合計量係上述範圍為較佳。
<其他成分>
本發明的著色感光性組成物視需要亦可含有敏化劑、硬化促進劑、填料、熱硬化促進劑、塑化劑及其他助劑類(例如,導電性粒子、填充劑、消泡劑、阻燃劑、調平劑、剝離促進劑、香料、表面張力調整劑、鏈轉移劑等)。藉由適宜含有該等成分,而能夠調整膜物性等性質。該等成分例如能夠參閱日本特開2012-003225號公報的0183段以後(相對應之美國專利申請公開第2013/0034812號說明書的0237段)的記載、日本特開2008-250074號公報的0101~0104段、0107~0109段等的記載,該等內容被併入本說明書中。又,本發明的著色感光性組成物根據需要還可以含有潛伏的抗氧化劑。作為潛伏的抗氧化劑,可列舉作為抗氧化劑發揮功能之部位被保護基保護之化合物,且保護基藉由在100~250℃下進行加熱或在酸/鹼觸媒存在下在80~200℃下進行加熱而脫離並作為抗氧化劑發揮功能之化合物。作為潛伏的抗氧化劑,可列舉國際公開第2014/021023號、國際公開第2017/030005號、日本特開2017-008219號公報中所記載之化合物。作為潛在抗氧化劑的市售品,可列舉ADEKA ARKLS GPA-5001(ADEKA Corporation製)等。
又,本發明的著色感光性組成物為了調整所獲得之膜的折射率可以含有金屬氧化物。作為金屬氧化物,可列舉TiO2、ZrO2、Al2O3、SiO2等。金屬氧化物的一次粒徑係1~100nm為較佳,3~70
nm為更佳,5~50nm為進一步較佳。金屬氧化物可以具有核-殼結構。又,在該種情況下,核部可以為中空狀。
又,本發明的著色感光性組成物可包含耐光性改良劑。作為耐光性改良劑,可列舉日本特開2017-198787號公報的0036~0037段中所記載之化合物、日本特開2017-146350號公報的0029~0034段中所記載之化合物、日本特開2017-129774號公報的0036~0037段、0049~0052段中所記載之化合物、日本特開2017-129674號公報的0031~0034段、0058~0059段中所記載之化合物、日本特開2017-122803號公報的0036~0037段、0051~0054段中所記載之化合物、國際公開第2017/164127號的0025~0039段中所記載之化合物、日本特開2017-186546號公報的0034~0047段中所記載之化合物、日本特開2015-025116號公報的0019~0041段中所記載之化合物、日本特開2012-145604號公報的0101~0125段中所記載之化合物、日本特開2012-103475號公報的0018~0021段中所記載之化合物、日本特開2011-257591號公報的0015~0018段中所記載之化合物、日本特開2011-191483號公報的0017~0021段中所記載之化合物、日本特開2011-145668號公報的0108~0116段中所記載之化合物、日本特開2011-253174號公報的0103~0153段中所記載之化合物等。
例如,藉由塗佈形成膜時,本發明的著色感光性組成物的黏度(25℃)係1~100mPa.s為較佳。下限為0.1mPa.s以上為更
佳,0.2mPa.s以上為進一步較佳。上限為10mPa.s以下為更佳,5mPa.s以下為進一步較佳,3mPa.s以下為特佳。
本發明的著色感光性組成物中,未與顏料等鍵結或配位之游離的金屬的含量係100ppm以下為較佳,50ppm以下為更佳,10ppm以下為進一步較佳,實質上不含有為特佳。在本說明書中,ppm為質量基準。藉由該態樣,能夠期待顏料分散性的穩定化(抑制凝聚)、伴隨分散性的提高引起之分光特性的提高、硬化性成分的穩定化、伴隨金屬原子.金屬離子的溶出引起之導電性變動的抑制、顯示特性的提高等效果。又,亦可獲得日本特開2012-153796號公報、日本特開2000-345085號公報、日本特開2005-200560號公報、日本特開平8-043620號公報、日本特開2004-145078號公報、日本特開2014-119487號公報、日本特開2010-083997號公報、日本特開2017-090930號公報、日本特開2018-025612號公報、日本特開2018-025797號公報、日本特開2017-155228號公報、日本特開2018-036521號公報等中所記載之效果。作為上述游離的金屬的種類,可列舉Na、K、Ca、Sc、Ti、Mn、Cu、Zn、Fe、Cr、Co、Mg、Al、Sn、Zr、Ga、Ge、Ag、Au、Pt、Cs、Ni、Cd、Pb、Bi等。又,本發明的著色感光性組成物中,未與顏料等鍵結或配位之游離的鹵素的含量係100ppm以下為較佳,50ppm以下為更佳,10ppm以下為進一步較佳,實質上不含有為特佳。作為鹵素,可列舉F、Cl、Br、I及該等的陰離子。作為著色感光性組
成物中的游離的金屬或鹵素的減少方法,可列舉基於離子交換水之清洗、過濾、超濾、基於離子交換樹脂之純化等方法。
本發明的著色感光性組成物實質上不包含對苯二甲酸酯亦為較佳。
<收容容器>
作為本發明的著色感光性組成物的收容容器,並無特別限定,能夠使用公知的收容容器。又,作為收容容器,以抑制雜質混入原材料或著色感光性組成物中為目的,使用由6種6層的樹脂構成容器內壁之多層瓶或將6種樹脂設為7層結構之瓶亦較佳。作為該種容器,例如可列舉日本特開2015-123351號公報中記載之容器。
又,作為本發明的著色感光性組成物、為了製造影像感測器而使用之組成物的收容容器,以防止金屬從容器內壁溶出、提高組成物的保存穩定性、抑制成分變質之目的,將收容容器的內壁設為玻璃製或不銹鋼製等為較佳。
作為本發明的著色感光性組成物的保存條件並無特別限定,能夠使用以往公知的方法。又,亦能夠使用日本特開2016-180058號公報中所記載之方法。
<著色感光性組成物的製備方法>
本發明的著色感光性組成物能夠將前述成分進行混合而製備。在製備著色感光性組成物時,可以將所有成分同時溶解和/或分散於溶劑中來製備著色感光性組成物,亦可以根據需要先將各成分
適當地作為兩種以上的溶液或分散液,並在使用時(塗佈時)將該等混合而製備著色感光性組成物。
又,當製備著色感光性組成物時,包含使顏料分散之製程為較佳。在使顏料分散之步驟中,作為用於顏料的分散中之機械力,可列舉壓縮、壓榨、衝擊、剪斷、氣蝕等。作為該等步驟的具體例,可列舉珠磨機、混砂機(sand mill)、輥磨機、球磨機、塗料攪拌器(pain shaker)、微射流機(microfluidizer)、高速葉輪、砂磨機、噴流混合器(flowjet mixer)、高壓濕式微粒化、超聲波分散等。又,在混砂機(珠磨機)中之顏料的粉碎中,在藉由使用直徑小的珠子、加大珠子的填充率等來提高了粉碎效率之條件下進行處理為較佳。又,粉碎處理後,藉由過濾、離心分離等去除粗粒子為較佳。又,使顏料分散之步驟及分散機能夠較佳地使用《分散技術大全,JOHOKIKO CO.,LTD.發行,2005年7月15日》或《以懸浮液(固/液分散體系)為中心之分散技術與工業應用的實際 綜合資料集、經營開發中心出版部發行,1978年10月10日》、日本特開2015-157893號公報的0022段中所記載之步驟及分散機。又,在使顏料分散之步驟中,可以藉由鹽磨(salt milling)製程進行粒子的微細化處理。鹽磨製程中所使用之材料、機器、處理條件等例如能夠參閱日本特開2015-194521號公報、日本特開2012-046629號公報的記載。
製備著色感光性組成物時,以去除異物和減少缺陷等為目的,利用過濾器過濾著色感光性組成物為較佳。作為過濾器,只
要為一直用於過濾用途等之過濾器,則能夠無特別限定而使用。例如可列舉使用了聚四氟乙烯(PTFE)等氟樹脂、尼龍(例如尼龍-6、尼龍-6,6)等聚醯胺系樹脂、聚乙烯、聚丙烯(PP)等聚烯樹脂(包含高密度、超高分子量的聚烯樹脂)等的原材料之過濾器。該等原材料中聚丙烯(包含高密度聚丙烯)及尼龍為較佳。
過濾器的孔徑係0.01~7.0μm為較佳,0.01~3.0μm為更佳,0.05~0.5μm為進一步較佳。只要過濾器的孔徑在上述範圍,則能夠可靠地去除微細的異物。針對過濾器的孔徑值,能夠參閱過濾器廠商的標稱值。過濾器能夠使用NIHON PALL LTD.(DFA4201NIEY等)、Advantec Toyo Kaisha,Ltd.、Nihon Entegris K.K.(formerly Nippon Mykrolis Corporation)及KITZ MICROFILTER Corporation等所提供之各種過濾器。
又,使用纖維狀過濾材料作為過濾器亦為較佳。作為纖維狀過濾材料,例如可列舉聚丙烯纖維、尼龍纖維、玻璃纖維等。作為市售品,可列舉ROKI GROUP CO.,Ltd.製的SBP類型系列(SBP008等)、TPR類型系列(TPR002、TPR005等)、SHPX類型系列(SHPX003等)。
使用過濾器時,亦可以組合不同之過濾器(例如,第1過濾器和第2過濾器等)。此時,各過濾器中的過濾可以僅為一次,亦可以進行兩次以上。又,可以在上述範圍內組合不同之孔徑的過濾器。又,第1過濾器中的過濾僅對分散液進行,混合其他成分之後亦可以由第2過濾器進行過濾。
(膜)
本發明的膜為由上述本發明的著色感光性組成物形成之膜。本發明的膜能夠用於濾色器、近紅外線透過濾波器、近紅外線截止濾波器、黑矩陣、遮光膜、折射率調整膜等。例如,能夠較佳地用作濾色器的著色層。
本發明的膜的膜厚能夠依目的適當地調整。例如,膜厚為20μm以下為較佳,10μm以下為更佳,5μm以下為進一步較佳。膜厚的下限為0.1μm以上為較佳,0.2μm以上為更佳,0.3μm以上為進一步較佳。
<膜的製造方法>
本發明的膜能夠經由將上述之本發明的著色感光性組成物賦予到支撐體上之製程來製造。本發明的膜的製造方法中還包括形成圖案(像素)之製程為較佳。作為圖案(像素)的形成方法,光微影法為較佳。
基於光微影法之圖案形成包含利用本發明的著色感光性組成物在支撐體上形成著色感光性組成物層之製程、將著色感光性組成物層曝光成圖案狀之製程及對著色感光性組成物層的未曝光部進行顯影去除來形成圖案(像素)之製程為較佳。可依據需要,設置對著色感光性組成物層進行烘烤之製程(預烘烤製程)及對所顯影之圖案進行烘烤之製程(後烘烤製程)。
[形成著色感光性組成物層之製程]
在形成著色感光性組成物層之製程中,使用本發明的著色感光性組成物,在支撐體上形成著色感光性組成物層。作為支撐體,無特別限定,能夠依用途適當選擇。例如可列舉玻璃基板、矽基板等,矽基板為較佳。又,矽基板上可形成電荷耦合元件(CCD)、互補金屬氧化膜半導體(CMOS)、透明導電膜等。又,有時亦會在矽基板上形成隔離各像素之黑色矩陣。又,在矽基板上為了改良與上部層的密接、防止物質的擴散或者基板表面的平坦化而設置有底塗層。
在形成著色感光性組成物層之製程中,著色感光性組成物被賦予到支撐體上。
作為著色感光性組成物的賦予方法能夠使用公知的方法。例如可列舉滴加法(滴鑄);狹縫塗佈法;噴霧法;輥塗法;旋轉塗佈法(旋塗);流延塗佈法;狹縫及旋塗法;預濕法(例如,日本特開2009-145395號公報中所記載之方法);噴墨法(例如按需噴塗方式、壓電方式、熱方式)、噴嘴噴塗等吐出系印刷、柔性版印刷、網板印刷、凹版印刷、反轉膠版印刷、金屬遮罩印刷法等各種印刷法;使用模具等之轉印法;奈米壓印法等。作為基於噴墨之應用方法並無特別限定,例如可列舉“擴散、可使用之噴墨-在專利中看到的無限可能性-、2005年2月發行、S.B.Techno-Research Co.,Ltd.”中所示出之方法(尤其,115頁~133頁)或日本特開2003-262716號公報、日本特開2003-185831號公報、日本特開2003-261827號公報、日本特開2012-126830號公報、日本特開2006-
169325號公報等中所記載之方法。又,關於著色感光性組成物的塗佈方法,能夠參閱國際公開第2017/030174號、國際公開第2017/018419號的記載,該等內容被編入到本說明書中。
形成於支撐體上之著色感光性組成物層可以進行乾燥(預烘烤)。藉由低溫製程製造膜之情況下,亦可以不進行預烘烤。進行預烘烤時,預烘烤溫度為150℃以下為較佳,120℃以下為更佳,110℃以下為進一步較佳。下限例如能夠設為50℃以上,亦能夠設為80℃以上。預烘烤時間係10~300秒為較佳,40~250秒為更佳,80~220秒為進一步較佳。預烘烤能夠由加熱板、烘箱等進行。
[曝光製程]
接著,將著色感光性組成物層曝光成圖案狀(曝光製程)。例如,使用步進曝光機或掃描儀曝光機等隔著具有規定的遮罩圖案之遮罩,對著色感光性組成物層進行曝光,藉此能夠以圖案狀進行曝光。藉此,能夠使曝光部分硬化。
作為能夠在曝光時使用之放射線(光),可列舉g射線、i射線等。又,亦能夠使用波長300nm以下的光(較佳為波長180~300nm的光)。作為波長300nm以下的光,可列舉KrF射線(波長248nm)、ArF射線(波長193nm)等,KrF射線(波長248nm)為較佳。又,亦能夠利用300nm以上的長波的光源。
又,在曝光時,可以連續照射光而進行曝光,亦可以脈衝照射而進行曝光(脈衝曝光)。另外,脈衝曝光係指在短時間(例
如,毫秒級以下)的循環中反覆進行光的照射和暫停而進行曝光之方式的曝光方法。脈衝曝光時,脈衝寬度係100奈秒(ns)以下為較佳,50奈秒以下為更佳,30奈秒以下為進一步較佳。脈衝寬度的下限並無特別限定,能夠設為1飛秒(fs)以上,亦能夠設為10飛秒以上。頻率係1kHz以上為較佳,2kHz以上為更佳,4kHz以上為進一步較佳。頻率的上限為50kHz以下為較佳,20kHz以下為更佳,10kHz以下為進一步較佳。最大瞬間照度係50,000,000W/m2以上為較佳,100,000,000W/m2以上為更佳,200,000,000W/m2以上為進一步較佳。又,最大瞬間照度的上限係1,000,000,000W/m2以下為較佳,800,000,000W/m2以下為更佳,500,000,000W/m2以下為進一步較佳。另外,脈衝寬度係指在脈衝週期中照射光之時間。又,頻率係指每一秒的脈衝週期的次數。又,最大瞬間照度係指在脈衝週期中照射光之時間內的平均照度。又,脈衝週期係指將脈衝曝光中的光的照射和暫停作為一個循環之週期。
照射量(曝光量)例如係0.03~2.5J/cm2為較佳,0.05~1.0J/cm2為更佳。關於曝光時之氧濃度,能夠進行適當選擇,除了在大氣下進行以外,亦可以例如在氧濃度為19體積%以下的低氧環境下(例如15體積%、5體積%、或者實質上無氧)進行曝光,亦可以在氧濃度大於21體積%之高氧環境下(例如22體積%、30體積%、或者50體積%)進行曝光。又,能夠適當設定曝光照度,通常能夠從1,000W/m2~100,000W/m2(例如,5,000W/m2,15,000W/m2,或者35,000W/m2)的範圍選擇。氧濃度與曝光照度可以組
合適當條件,例如能夠在氧濃度10體積%下設為照度10,000W/m2,在氧濃度35體積%下設為照度20,000W/m2等。
[顯影製程]
接著,將著色感光性組成物層的未曝光部顯影去除而形成圖案(像素)。著色感光性組成物層的未曝光部的顯影去除能夠使用顯影液來進行。藉此,曝光製程中之未曝光部的著色感光性組成物層溶出於顯影液,僅殘留光硬化之部分。作為顯影液,不會對基底的元件或電路等帶來損傷之有機鹼性顯影液為較佳。顯影液的溫度例如為20~30℃為較佳。顯影時間為20~180秒為較佳。又,為了提高殘渣去除性,可反覆進行數次如下製程:每隔60秒甩去顯影液,進一步重新供給顯影液。
顯影液係用純水稀釋鹼劑而得之鹼性水溶液(鹼性顯影液)為較佳。作為鹼劑,例如可列舉胺、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、二甘醇胺、二乙醇胺、羥基胺、乙二胺、四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨、乙基三甲基氫氧化銨、苄基三甲基氫氧化銨、二甲基雙(2-羥基乙基)氫氧化銨、膽鹼、吡咯、哌啶、1,8-二氮雜雙環[5.4.0]-7-十一碳烯等有機鹼性化合物或氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸氫鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉等無機鹼性化合物。關於鹼劑,分子量大的化合物在環境面及安全面方面較佳。鹼性水溶液的鹼劑的濃度為0.001~10質量%為較佳,0.01~1質量%為更佳。又,顯影液可進一步包含界面活性劑。作為界面活性劑,可列舉上述界面活性劑,非離子系界面活
性劑為較佳。從運輸和保管方便等觀點考慮,顯影液暫且製成為濃縮液,亦可稀釋成使用時所需的濃度。對於稀釋倍率並無特別限定,但例如能夠設定在1.5~100倍的範圍。又,顯影後利用純水進行清洗(沖洗)亦為較佳。又,沖洗藉由使形成有顯影後的感光性著色組成物層之支撐體旋轉的同時向顯影後的著色感光性組成物層供給沖洗液來進行為較佳。又,藉由使吐出沖洗液之噴嘴從支撐體的中心部向支撐體的周緣部移動來進行亦為較佳。此時,在從噴嘴的支撐體中心部向周緣部移動時,可以在逐漸降低噴嘴的移動速度的同時使其移動。藉由以該種方式進行沖洗,能夠抑制沖洗的面內偏差。又,藉由使噴嘴從支撐體中心部向周緣部移動的同時逐漸降低支撐體的轉速亦可獲得相同的效果。
顯影後,在實施乾燥之後進行追加曝光處理或加熱處理(後烘烤)為較佳。追加曝光處理或後烘烤為用於使硬化完全之顯影後的處理,加熱溫度例如100~240℃為較佳,200~240℃為更佳。關於後烘烤,對顯影後的膜,能夠以成為上述條件之方式,利用加熱板或對流式烘箱(熱風循環式乾燥機)、高頻加熱器等加熱機構,以連續式或者間斷式進行。
當進行追加曝光處理時,用於曝光之光係波長400nm以下的光為較佳。又,追加曝光處理可以藉由韓國公開專利第10-2017-0122130號公報中所記載之方法來進行。
作為像素的寬度,0.5~20.0μm為較佳。下限為1.0μm以上為較佳,2.0μm以上為更佳。上限為15.0μm以下為較佳,10.0μm以下為更佳。
作為像素的楊氏係數,0.5~20GPa為較佳,2.5~15GPa為更佳。
像素具有較高之平坦性為較佳。具體而言,作為像素的表面粗糙度Ra,100nm以下為較佳,40nm以下為更佳,15nm以下為進一步較佳。下限無規定,例如0.1nm以上為較佳。表面粗糙度的測量能夠使用例如Veeco公司製的AFM(原子力顯微鏡)Dimension3100來進行測量。
又,像素上的水的接觸見方能夠設定成適當較佳的值,典型的為50~110°的範圍。接觸見方能夠使用例如接觸見方儀CV-DT.A型(KyowaInterfaceScienceCo.,LTD.製)來進行測量。
期望像素的體積電阻值較高。具體而言,像素的體積電阻值為109Ω.cm以上為較佳,1011Ω.cm以上為更佳。上限無規定,例如1014Ω.cm以下為較佳。像素的體積電阻值能夠使用例如超高電阻儀5410(Advantest Corporation製)來進行測量。
(濾色器)
本發明的濾色器係由本發明的著色感光性組成物形成之濾色器。本發明的濾色器具有上述本發明的膜為較佳。在將本發明的膜用於濾色器之情況下,作為顏料,使用彩色顏料為較佳。
本發明的濾色器的膜厚為20μm以下為較佳,10μm以下為更佳,5μm以下為進一步較佳。膜厚的下限為0.1μm以上為較佳,0.2μm以上為更佳,0.3μm以上為進一步較佳。本發明的濾色器能夠用於CCD(電荷耦合元件)和CMOS(互補金屬氧化膜半導體)等固體攝像元件和圖像顯示裝置等。
又,本發明的濾色器可以包含本發明的膜及保護層。上述保護層與本發明的膜可以接觸,亦可以在其之間還具有另一層,亦可以在其之間具有空隙。藉由包含保護層,能夠賦予氧氣阻擋化、低反射化、親水疏水化、特定波長的光(紫外線、近紅外線、紅外線等)的屏蔽等各種功能。作為保護層的厚度,0.01~10μm為較佳,0.1~5μm為進一步較佳。作為保護層的形成方法,可列舉塗佈溶解於溶劑之樹脂組成物而形成之方法、化學氣相沉積法、用接著劑貼附成型之樹脂之方法等。作為構成保護層之成分,可列舉(甲基)丙烯酸樹脂、烯.硫醇樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醚樹脂、聚芳酯樹脂、聚碸樹脂、聚醚碸樹脂、聚苯樹脂、聚伸芳基醚氧化膦樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚醯胺醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、環狀烯烴樹脂、聚酯樹脂、苯乙烯樹脂、多元醇樹脂、聚偏二氯乙烯樹脂、三聚氰胺樹脂、聚胺酯樹脂、芳綸(aramid)樹脂、聚醯胺樹脂、醇酸樹脂、環氧樹脂、改姓聚矽氧樹脂、氟系樹脂、聚丙烯腈樹脂、纖維素樹脂、Si、C、W、Al2O3、Mo、SiO2、Si2N4等,亦可以含有兩種以上的該等成分。例如,在以阻擋氧氣為目的之保護層之情況下,保護層包含多元醇樹脂、SiO2、Si2N4為較佳。又,在以低
反射化為目的之保護層之情況下,保護層包含(甲基)丙烯酸樹脂、氟樹脂為較佳。
當塗佈樹脂組成物而形成保護層時,作為樹脂組成物的塗佈方法,能夠使用旋塗法、流延法、網板印刷法、噴墨法等公知的方法。樹脂組成物中所含有之溶劑能夠使用公知的溶劑(例如,丙二醇1-單甲醚2-乙酸酯、環戊酮、乳酸乙酯等)。當藉由化學氣相沉積法形成保護層時,作為化學氣相沉積法,能夠使用公知的化學氣相沉積法(熱化學氣相沉積法、電漿化學氣相沉積法、光化學氣相沉積法)。
保護層依據需要還可含有有機.無機微粒子、特定波長(例如,紫外線、近紅外線、紅外線等)的吸收劑、折射率調整劑、抗氧化劑、密接劑、界面活性劑等添加劑。作為有機.無機微粒子的例子,例如可列舉高分子微粒子(例如,聚矽氧樹脂微粒子、聚苯乙烯微粒子、三聚氰胺樹脂微粒子)、氧化鈦、氧化鋅、氧化鋯、氧化銦、氧化鋁、氮化鈦、氧氮化鈦、氟化鎂、中空二氧化矽、二氧化矽、碳酸鈣、硫酸鋇等。特定波長的吸收劑能夠使用公知的吸收劑。例如,作為紫外線吸收劑能夠使用共軛二烯化合物、胺基二烯化合物、水楊酸酯化合物、二苯甲酮化合物、苯并三唑化合物、丙烯腈化合物、羥基苯基三化合物、吲哚化合物、三化合物等。關於該等的詳細內容,能夠參閱日本特開2012-208374號公報的0052~0072段、日本特開2013-068814號公報的0317~0334段、日本特開2016-162946號公報的0061~0080段中的記載,該等內容
被併入本說明書中。作為紅外線吸收劑,例如能夠使用環狀四吡咯色素、氧化碳色素、花青色素、誇特銳烯(quaterrylene)色素、萘酞菁色素、鎳錯合物色素、銅離子色素、亞胺鎓色素、亞酞菁色素、色素、偶氮色素、二吡咯亞甲基色素、吡咯并吡咯色素等。關於該等的詳細內容,能夠參閱日本特開2018-054760號公報的0020~0072段、日本特開2009-263614號公報、國際公開第2017/146092號的記載,該等內容被編入本說明書中。該等添加劑的含量能夠適當地調整,相對於保護層的總質量,0.1~70質量%為較佳,1~60質量%為進一步較佳。
又,作為保護層,亦能夠使用日本特開2017-151176號公報的0073~0092段中所記載之保護層。
(固體攝像元件)
本發明的固體攝像元件包含上述本發明的膜。作為本發明的固體攝像元件的結構,包含本發明的膜,只要是作為固體攝像元件而發揮功能之結構,則無特別限定,例如可列舉如以下般結構。
在基板上如下構成:具有包括構成固體攝像元件(CCD(電荷耦合元件)影像感測器、CMOS(互補金屬氧化膜半導體)影像感測器等)的受光區域之複數個二極體及多晶矽等之傳輸電極,在二極體及傳輸電極上具有僅開口二極體的受光部之遮擋膜,在遮擋膜上具有包括以覆蓋遮擋膜整面及二極體受光部的方式形成之氮化矽等之器件保護膜,在器件保護膜上具有濾色器。另外,亦可以為在器件保護膜上且濾色器之下(接近於基板之側)具有聚光機構(例
如,微透鏡等。以下相同)之結構或在濾色器上具有聚光機構之結構等。又,濾色器可具有如下結構:在藉由隔壁例如以方格狀隔開之空間嵌入有各著色像素之結構。此時的隔壁係相對於各著色像素為低折射率為較佳。作為具有該種結構之攝像裝置的例子,可以舉出日本特開2012-227478號公報、日本特開2014-179577號公報、國際公開第2018/043654號中所記載之裝置。具備了本發明的固體攝像元件之攝像裝置,除了數位相機或具有攝像機能之電子設備(移動電話等)以外,能夠用作車載相機或監控相機用。
(圖像顯示裝置)
本發明的圖像顯示裝置包含上述本發明的膜。作為圖像顯示裝置,可列舉液晶顯示裝置和有機電致發光顯示裝置等。關於顯示裝置的定義和各圖像顯示裝置的詳細內容,例如記載於“電子顯示器設備(佐佐木昭夫著、Kogyo Chosakai Publishing Co.,Ltd.1990年發行)”、“顯示器設備(伊吹順章著、Sangyo-Tosho Publishing Co.Ltd.、1989年發行)”等中。又,關於液晶顯示裝置,例如記載於“下一代液晶顯示器技術(內田龍男編輯、Kogyo Chosakai Publishing Co.,Ltd.、1994年發行)”中。對能夠應用本發明之液晶顯示裝置無特別限制,例如能夠應用於上述“新一代液晶顯示器技術”中所記載之各種方式的液晶顯示裝置。
以下舉出實施例,對本發明進行更具體說明。示於以下的實施例之材料、使用量、比例、處理內容、處理順序等只要不脫離
本發明的宗旨就能夠適當地進行變更。從而,本發明的範圍不限定於以下所示之具體例。
<分散液的製備(1)>
將下述表中所記載之顏料(G顏料(綠色顏料):8.29質量份、Y顏料(黃色顏料):2.07質量份)、下述表中所記載之無色顏料衍生物A1、下述表中所記載之有色顏料衍生物A2、下述表中所記載之分散劑及71.92質量份的PGMEA(丙二醇單甲醚乙酸酯)進行混合之後,添加直徑0.3mm的氧化鋯珠230質量份,使用油漆攪拌器進行5小時分散處理,藉由過濾將珠子分離而製造了分散液。下述表中所記載之表示含量之數值為質量份。另外,例如分散液G-18中的“G顏料”欄的PG36 PG58(50/50)等記載表示以50/50(質量比)的比例使用PG36和PG38作為G顏料。
又,“(A1)/(A1+A2)(質量%)”欄中記載了“相對於顏料衍生物A1和顏料衍生物A2的總質量之、顏料衍生物A1的含量(質量%)”,“(A1+A2)/顏料”欄中記載了“相對於顏料100質量份之、顏料衍生物A1和顏料衍生物A2的總含量(質量份)”。
又,表2中,“-”的記載表示不含有相應之化合物。
上述表中的用縮寫表示之原材料的詳細內容如下所述。
[G顏料]
.PG36:C.I.顏料綠36
.PG58:C.I.顏料綠58
[Y顏料]
.PY150:C.I.顏料黃150
.PY185:C.I.顏料黃185
[無色顏料衍生物A1]
.(A1)-1:與上述無色顏料衍生物A1的具體例中說明之化合物(A1)-1相同結構的化合物。此外,關於(A1)-10等亦為與上述具體例中的化合物(A1)-10等相同結構的化合物。
.(A1)-r1:下述結構的化合物
[有色顏料衍生物A2]
.(A2)-1:與上述有色顏料衍生物A2的具體例中說明之化合物(A2)-1相同結構的化合物。此外,關於(A2)-2等亦為與上述具體例中的化合物(A2)-2等相同結構的化合物。
.(A2)-r1:下述結構的化合物
[分散劑]
.P-1:下述結構的樹脂的30質量%丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)溶液。主鏈中所附記之數值為莫耳比,側鏈中所附記之數值為重複單元的數。Mw=20,000。
.P-2:下述結構的樹脂的30質量%PGMEA溶液。主鏈中所附記之數值為莫耳比,側鏈中所附記之數值為重複單元的數。Mw=28,000。式中,r=15、s=63、t=5、u=17、n=9。
.P-3:下述結構的樹脂的30質量%PGMEA溶液。主鏈中所附記之數值為莫耳比,側鏈中所附記之數值為重複單元的數。Mw=22,000。
[無色顏料衍生物A1的莫耳吸光係數]
藉由下述方法測量無色顏料衍生物A1在波長400~700nm的範圍的莫耳吸光係數的最大值(εmax),依據下述評價基準進行了評價。評價結果記載於表2的“吸收”欄中。
各化合物的εmax以如下方式進行了測量。
使20mg各化合物溶解於甲醇200mL中,並向該溶液2mL添加甲醇而使其成為50mL。針對該溶液的吸光度,使用Cary5000UV-Vis-NIR分光光度計(Agilent Technologies,Inc.製)測量至波長200~800nm的範圍,並計算了波長400~700nm下的εmax。
-評價基準-
A:波長400~700nm的範圍的莫耳吸光係數的最大值(εmax)為100L.mol-1.cm-1以下。
B:波長400~700nm的範圍的莫耳吸光係數的最大值(εmax)大於100L.mol-1.cm-1且為1000L.mol-1.cm-1以下。
C:波長400~700nm的範圍的莫耳吸光係數的最大值(εmax)大於1000L.mol-1.cm-1且為3000L.mol-1.cm-1以下。
D:波長400~700nm的範圍的莫耳吸光係數的最大值(εmax)超過3000L.mol-1.cm-1。
[有色顏料衍生物A2的莫耳吸光係數]
對於上述(A2)-1~(A2)-22及(A2)-r1,分別測量了波長400~700nm的範圍的莫耳吸光係數的最大值(εmax)。
在波長400~700nm的範圍,任何化合物的莫耳吸光係數的最大值(εmax)均超過了3,000L.mol-1.cm-1。
藉由與上述無色顏料衍生物A1的莫耳吸光係數相同的方法測量了各化合物的εmax,並藉由下述評價基準對其進行了評價。
將評價結果記載於下述表。
-評價基準-
A:εmax為5000L.mol-1.cm-1以上
B:εmax為4000L.mol-1.cm-1以上且小於5000L.mol-1.cm-1
C:εmax超過3000L.mol-1.cm-1且小於4000L.mol-1.cm-1
<分散液的製備(2)>
將下述表中所記載之顏料、0.5質量份的無色顏料衍生物(A1)-1、0.5質量份的有色顏料衍生物(A2)-1、15質量份的分散劑P-3(30質量%PGMEA溶液)、73.64質量份的溶劑PGMEA進行混合之後,添加直徑0.3mm的氧化鋯珠230質量份,使用油漆攪拌器進行5小時分散處理,藉由過濾將珠子分離而製造了分散液。下述表中所記載之表示含量之數值為質量份。
在下述G-r3及G-r4的製備中,將色顏料衍生物(A1)-1的含量從0.5質量份變更為0質量份(不含有),並將有色顏料衍生物(A2)-1的含量從0.5質量份變更為1.0質量份。
又,“(A1)/(A1+A2)(質量%)”欄中記載了“相對於顏料衍生物A1和顏料衍生物A2的總質量之、顏料衍生物A1的含量(質量%)”,“(A1+A2)/顏料”欄中記載了“相對於顏料100質量份之、顏料衍生物A1和顏料衍生物A2的總含量(質量份)”。
除上述以外,上述表中的用縮寫表示之原材料的詳細內容如下所述。
[Y顏料]
.PY129:C.I.顏料黃129
.PY231:C.I.顏料黃231
(實施例1~50、比較例1~2)
混合以下原料而製備了著色感光性組成物。
另外,表5中,“光聚合起始劑”欄的“F-1/F-6”等記載表示,作為光聚合起始劑合計含有0.33質量份的“F-1”和“F-6”,並且“F-1”與“F-6”的含有質量比為1:1。
<著色感光性組成物的組成>
.下述表5中所記載之種類的分散液(G-):39.4質量份
.樹脂D1:0.58質量份
.聚合性化合物E1(KAYARAD DPHA、Nippon Kayaku Co.,Ltd.製):0.54質量份
.表5中所記載之光聚合起始劑(F-):0.33質量份
.界面活性劑H1:4.17質量份
.對甲氧基苯酚:0.0006質量份
.7,7,8,8-四氰醌二甲烷:0.02質量份
.PGMEA:7.66質量份
上述用縮寫表示之原材料的詳細內容如下所述。
樹脂D1:下述結構的樹脂。主鏈中所附記之數值為莫耳比。Mw=11,000。
聚合性化合物E1:KAYARAD DPHA(Nippon Kayaku Co.,Ltd.製)
光聚合起始劑F:下述化合物。另外,F-1~F-3不是肟化合物,F-4~F-6係肟化合物。
.F-1:IRGACURE 369(BASF公司製)(365nm下的莫耳吸光係數為800L.mol-1.cm-1)
.F-2:IRGACURE 819(BASF公司製)(365nm下的莫耳吸光係數為500L.mol-1.cm-1)
.F-3:IRGACURE 907(BASF公司製)(365nm下的莫耳吸光係數為1,100L.mol-1.cm-1)
.F-4:IRGACURE OXE01(BASF公司製)(365nm下的莫耳吸光係數為1,500L.mol-1.cm-1)
.F-5:IRGACURE OXE02(BASF公司製)(365nm下的莫耳吸光係數為3,500L.mol-1.cm-1)
.F-6:IRGACURE OXE03(BASF公司製)(365nm下的莫耳吸光係數為15,000L.mol-1.cm-1)
界面活性劑H1:下述混合物(Mw=14,000)的1質量%PGMEA溶液。下述式中,表示重複單元的比例之%為莫耳%。
<分散性評價>
使用Toki Sangyo Co.,Ltd製“RE-85L”測量了在各實施例或比較例中獲得之著色感光性組成物的黏度。著色感光性組成物的黏度係在將溫度調整在25℃之狀態下進行了測量。依據下述評價基準評價了測量結果。評價結果記載於表5。可以說,黏度越小,分散性越良好。
[評價基準]
A:黏度為3mPa.s以下
B:黏度大於3mPa.s且為5mPa.s以下
C:黏度大於5mPa.s且為10mPa.s以下
D:黏度大於10mPa.s
<保存穩定性評價>
在各實施例或比較例中,使用Toki Sangyo Co.,Ltd製“RE-85L”測量上述中所獲得之著色感光性組成物的黏度之後,將著色感光性組成物在45℃、3天的條件下靜置之後,再次測量了黏度。由靜置前後的黏度差(△Vis)依據下述評價基準評價了保存穩定性。可以認為黏度差(△Vis)的數值越小,保存穩定性越良好。靜置3天後的著色感光性組成物的黏度係在將溫度調整在25℃之狀態下進行了測量。評價基準如下所述,評價結果記載於下述表中。
[評價基準]
A:△vis為0.5mPa.s以下
B:△vis大於0.5mPa.s且為1.0mPa.s以下
C:△vis大於1.0mPa.s且為2.0mPa.s以下
D:△vis大於2.0mPa.s
<密接性評價>
利用旋塗機以後烘烤後的厚度成為0.1μm的方式將CT-4000L(FUJIFILM Electronic Materials Co.,Ltd製)塗佈於8英吋(20.32cm)矽晶圓上,利用加熱板在220℃下加熱300秒鐘而形成底塗層,從而獲得了帶有底塗層之矽晶圓(支撐體)。接著,使用旋塗機塗佈了各著色感光性組成物。接著,使用加熱板在100℃下後烘烤了2分鐘。後烘烤後的著色感光性組成物層的膜厚為0.5μm。
接著,使用i射線步進式曝光裝置FPA-3000i5+(Canon Inc.製),隔著具有形成規定的像素(圖案)尺寸之拜耳圖案之遮罩以200mJ/cm2的曝光量進行了曝光。另外,遮罩使用了具有以0.7μm見方、0.8μm見方、0.9μm見方、1.0μm見方、1.1μm見方、1.2μm見方、1.3μm見方、1.4μm見方、1.5μm見方、1.7μm見方、2.0μm見方、3.0μm見方、5.0μm見方、10.0μm見方的尺寸形成像素圖案之拜耳圖案之遮罩。
接著,使用氫氧化四甲銨(TMAH)0.3質量%水溶液,在23℃下進行了旋覆浸沒顯影60秒鐘。然後,使用純水藉由旋轉噴淋進行了沖洗。接著,使用加熱板在200℃下加熱5分鐘,從而形成了圖案(像素)。
使用高分辨率FEB(Field Emission Beam:場發射束)測量裝置(HITACHI CD-SEM)S9380II(Hitachi High-Technologies Corporation製),觀察0.7μm見方、0.8μm見方、0.9μm見方、
1.0μm見方、1.1μm見方、1.2μm見方、1.3μm見方、1.4μm見方、1.5μm見方、1.7μm見方、2.0μm見方、3.0μm見方、5.0μm見方、10.0μm見方的尺寸的圖案,將無剝離而形成圖案之最小的圖案尺寸設為最小密接線寬。最小密接線寬越小,意味著密接性越優異。
[評價基準]
A:最小密接線寬為1.2μm見方以下。
B:最小密接線寬大於1.2μm見方且為1.4μm見方以下。
C:最小密接線寬大於1.4μm見方且為1.6μm見方以下。
D:最小密接線寬大於1.6μm見方。
<對比度評價>
在各實施例或比較例中,將著色感光性組成物塗佈於玻璃基板上,以乾燥後的塗佈膜的厚度成為1μm之方式製作了樣品。在2張偏光板(SIGMAKOKI CO.,LTD.製,USP-50C)之間放置該樣品,測量偏光軸平行時和垂直時的透光量,將該比作為對比度(該評價法參閱了“1990年第7次 色彩光學會議、512色顯示10.4“尺寸TFT-LCD(thin film transistor liquid crystal display:薄膜電晶體液晶顯示器)用濾色器、植木、小關、福永、山中”)。測量及評價的結果示於下述表5。在此,對比度高表示著色力高。
具體而言,使用旋塗法以硬化後的塗佈膜的厚度成為1μm之方式將所獲得之著色感光性組成物塗佈於100mm×100mm的玻璃基板(1737、Corning Inc.製)上。上述塗佈後,在90℃的烘箱中
乾燥了60秒鐘(預烘烤)。然後,在塗膜的整個表面以200mJ/cm2(照度20mW/cm2)進行曝光,使用鹼性顯影液CDK-1(FUJIFILM Electronic Materials Co.,Ltd.製)的1%水溶液覆蓋曝光後的塗膜,並靜置了60秒鐘。靜置後,以噴淋狀散佈純水以清洗顯影液。然後,將如上所述實施了曝光及顯影之塗膜在220℃的烘箱中加熱處理1小時(後烘烤),在玻璃基板上形成著色樹脂被膜(本發明的膜),從而製作了著色濾光片基板(濾色器)。在上述著色濾光片基板的上述著色樹脂被膜上放置偏光板,從玻璃基板側藉由另一張偏光板夾住玻璃基板及著色樹脂被膜,使用TOPCON Corporation製的BM-5測量偏光板的偏光軸平行時的亮度和正交時的亮度,將平行時的亮度除以正交時的亮度而得之值(=平行時的亮度/正交時的亮度)作為用於評價對比度的指標。值越大,表示對比度越高。
[評價基準]
A:5,000以上。
B:2,000以上且小於5,000。
C:1,000以上且小於2,000。
D:小於1,000。
以上,如實施例及比較例所示,實施例的著色感光性組成
物的與支撐體的密接性和所獲得之膜的對比度均優異。
比較例1中的著色感光性組成物不包含無色顏料衍生物A1,僅包含有色顏料衍生物A2,因此所獲得之膜的密接性差。
比較例2中的著色感光性組成物不包含有色顏料衍生物A2,僅包含無色顏料衍生物A1,因此所獲得之膜的對比度差。
比較例3中的著色感光性組成物不包含無色顏料衍生物A1,僅包含有色顏料衍生物A2,因此所獲得之膜的密接性差。
比較例4中的著色感光性組成物不包含無色顏料衍生物A1,僅包含有色顏料衍生物A2,因此所獲得之膜的密接性差。
又,在實施例1中,將組成物G-1中所含有之PY150變更為相同質量份的C.I.顏料黃139,並進行了與實施例1相同的實驗,結果獲得了與實施例1相同的結果。
(實施例201~239)
使用旋塗法將Green組成物塗佈於矽晶圓上,以使後烘烤後的膜厚成為1.0μm。接著,使用加熱板在100℃下加熱了2分鐘。接著,使用i射線步進式曝光裝置FPA-3000i5+(Canon Inc.製),將365nm的波長光以1000mJ/cm2的曝光量隔著2μm見方的點圖案的遮罩進行了曝光。接著,使用氫氧化四甲銨(TMAH)0.3質量%水溶液,在23℃下進行了旋覆浸沒顯影60秒鐘。之後,利用旋轉噴淋進行沖洗,進而使用純水進行了水洗。接著,使用加熱板在200℃下加熱(後烘烤)5分鐘,從而將Green組成物進行了圖案化。同樣地依次對Red組成物、Blue組成物進行了圖案化,形
成了紅、綠及藍的著色圖案(拜耳圖案)。
作為Green組成物,在實施例201中使用了實施例1的著色感光性組成物,在實施例202中使用了實施例2的著色感光性組成物,以下同樣在實施例203~實施例239中分別使用了實施例3~39的著色感光性組成物。
針對Red組成物及Blue組成物進行後述。
另外,拜耳圖案係如美國專利第3,971,065號說明書中所揭示之、將具有一個紅色(Red)元件、兩個綠色(Green)元件、一個藍色(Blue)元件之彩色濾光片元件的2×2陣列重複之圖案。
將所獲得之濾色器依據公知的方法分別併入固體攝像元件中。任何固體攝像元件均具有較佳的圖像識別能力。
[Red組成物]
將下述成分混合並攪拌之後,利用孔徑0.45μm的尼龍製過濾器(Nihon Pall Ltd.製)進行過濾,製備了Red組成物。
Red顏料分散液:51.7質量份
樹脂D1的40質量%PGMEA溶液:0.6質量份
聚合性化合物E6:0.6質量份
光聚合起始劑F1:0.3質量份
界面活性劑H1:4.2質量份
PGMEA:42.6質量份
[Blue組成物]
將下述成分混合並攪拌之後,利用孔徑0.45μm的尼龍製過
濾器(Nihon Pall Ltd.製)進行過濾,製備了Blue組成物。
Blue顏料分散液:44.9質量份
樹脂D1的40質量%PGMEA溶液:2.1質量份
聚合性化合物E1:1.5質量份
聚合性化合物E6:0.7質量份
光聚合起始劑F1:0.8質量份
界面活性劑H1:4.2質量份
PGMEA:45.8質量份
用於製備Red組成物及Blue組成物之原料如下所示。
-Red顏料分散液-
使用珠磨(氧化鋯微珠0.3mm直徑),將以9.6質量份C.I.顏料紅254、4.3質量份C.I.顏料黃139、6.8質量份分散劑(Disperbyk-161、BYKChemieGmbH製)及79.3質量份PGMEA之量摻合而成之混合液進一步進行混合及分散了3小時。然後進一步使用附減壓機構之高壓分散機NANO-3000-10(Nippon BEE Co.,Ltd.製),在2,000kg/cm3的壓力下以500g/min的流量進行了分散處理。反覆進行10次該分散處理,從而得到了Red顏料分散液。
-Blue顏料分散液-
使用珠磨(氧化鋯珠0.3mm直徑),將以9.7質量份的C.I.Pigment Blue 15:6、2.4質量份的C.I.Pigment Violet 23、5.5質量份的分散劑(Disperbyk-161、BYK Chemie GmbH製)、82.4質量份的PGMEA的量摻合而成之混合液進一步混合並分散了3
小時。然後進一步使用附減壓機構之高壓分散機NANO-3000-10(Nippon BEE Co.,Ltd.製),在2,000kg/cm3的壓力下以500g/min的流量進行了分散處理。反覆進行10次該分散處理,從而得到了Blue顏料分散液。
樹脂D1、聚合性化合物E1、光聚合起始劑F1及界面活性劑H1:為上述材料。
聚合性化合物E6:下述結構的化合物
Claims (15)
- 一種著色感光性組成物,其包含:顏料衍生物A1,在波長400~700nm的範圍內的莫耳吸光係數的最大值為3,000L.mol-1.cm-1以下;顏料衍生物A2,在波長400~700nm的範圍內的莫耳吸光係數的最大值超過3,000L.mol-1.cm-1;顏料;聚合性化合物;及光聚合起始劑,相對於該顏料衍生物A1和該顏料衍生物A2的總質量,該顏料衍生物A1的含量為50~90質量%。
- 如請求項1所述之著色感光性組成物,其中相對於該顏料100質量份,該顏料衍生物A1和該顏料衍生物A2的總含量為1~30質量份。
- 如請求項1或2所述之著色感光性組成物,其中 該顏料包含鹵代酞菁。
- 如請求項1或2所述之著色感光性組成物,其中該光聚合起始劑包含肟化合物。
- 如請求項1或2所述之著色感光性組成物,其中該光聚合起始劑在波長365nm下的莫耳吸光係數為3,000L.mol-1.cm-1以上。
- 如請求項1或2所述之著色感光性組成物,其還包含作為樹脂之分散劑。
- 如請求項1或2所述之著色感光性組成物,其還包含具有酸基之樹脂。
- 一種膜,其由如請求項1至11中任一項所述之著色感光性組成物形成。
- 一種濾色器,其由如請求項1至11中任一項所述之著色感光性組成物形成。
- 一種固體攝像元件,其包含如請求項12項所述之膜。
- 一種圖像顯示裝置,其包含如請求項12項所述之膜。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018-221327 | 2018-11-27 | ||
JP2018221327 | 2018-11-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202030274A TW202030274A (zh) | 2020-08-16 |
TWI811487B true TWI811487B (zh) | 2023-08-11 |
Family
ID=70851978
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW108142661A TWI811487B (zh) | 2018-11-27 | 2019-11-25 | 著色感光性組成物、膜、濾色器、固體攝像元件及圖像顯示裝置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20210278761A1 (zh) |
JP (2) | JP7366927B2 (zh) |
KR (1) | KR102672920B1 (zh) |
TW (1) | TWI811487B (zh) |
WO (1) | WO2020110873A1 (zh) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020022247A1 (ja) * | 2018-07-26 | 2020-01-30 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、硬化性組成物の製造方法、膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置 |
JPWO2023112840A1 (zh) * | 2021-12-17 | 2023-06-22 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005266429A (ja) * | 2004-03-19 | 2005-09-29 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | カラーフィルタ用緑色着色組成物およびカラーフィルタ |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10298476A (ja) * | 1997-04-30 | 1998-11-10 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | インクジェット用記録液およびその製造方法 |
JP4082818B2 (ja) | 1999-02-23 | 2008-04-30 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散剤、それを含む顔料分散組成物及び着色感光性組成物 |
JP2003081972A (ja) | 2001-09-12 | 2003-03-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | トリアジン化合物、顔料分散剤、及びこれを含む顔料分散組成物並びに着色感光性組成物 |
JP4585781B2 (ja) | 2003-03-27 | 2010-11-24 | 東洋インキ製造株式会社 | 着色組成物及びカラーフィルタ |
EP2196505B1 (en) * | 2007-08-22 | 2014-03-05 | Toyo Ink Mfg. Co. Ltd. | Pigment composition for color filter and coloring composition for color filter |
JP2014118479A (ja) * | 2012-12-17 | 2014-06-30 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | 黄色着色剤とその製造方法およびそれを用いたカラーフィルタ |
TWI763186B (zh) * | 2015-03-30 | 2022-05-01 | 日商富士軟片股份有限公司 | 著色感光性組成物、硬化膜、圖案形成方法、帶遮光膜的紅外線截止濾光片、固體攝像元件、圖像顯示裝置及紅外感測器 |
TWI699617B (zh) * | 2015-11-10 | 2020-07-21 | 日商富士軟片股份有限公司 | 著色組成物、彩色濾光片、圖案形成方法、固體攝像元件及圖像顯示裝置 |
JP6633176B2 (ja) | 2016-02-15 | 2020-01-22 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および、硬化膜の製造方法 |
-
2019
- 2019-11-21 KR KR1020217015748A patent/KR102672920B1/ko active IP Right Grant
- 2019-11-21 JP JP2020557608A patent/JP7366927B2/ja active Active
- 2019-11-21 WO PCT/JP2019/045535 patent/WO2020110873A1/ja active Application Filing
- 2019-11-25 TW TW108142661A patent/TWI811487B/zh active
-
2021
- 2021-05-25 US US17/329,177 patent/US20210278761A1/en active Pending
-
2023
- 2023-10-11 JP JP2023176029A patent/JP2024009929A/ja not_active Abandoned
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005266429A (ja) * | 2004-03-19 | 2005-09-29 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | カラーフィルタ用緑色着色組成物およびカラーフィルタ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2024009929A (ja) | 2024-01-23 |
TW202030274A (zh) | 2020-08-16 |
US20210278761A1 (en) | 2021-09-09 |
KR20210086663A (ko) | 2021-07-08 |
KR102672920B1 (ko) | 2024-06-07 |
WO2020110873A1 (ja) | 2020-06-04 |
JPWO2020110873A1 (ja) | 2021-10-07 |
JP7366927B2 (ja) | 2023-10-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7399268B2 (ja) | 着色組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子及び画像表示装置 | |
JP7496873B2 (ja) | 着色組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置及び化合物 | |
TWI839519B (zh) | 感光性樹脂組成物、硬化膜、濾色器、固體攝像元件及圖像顯示裝置 | |
TWI819041B (zh) | 組成物、膜、濾光器、積層體、固體攝像元件、圖像顯示裝置及紅外線感測器 | |
JP2024009929A (ja) | 着色感光性組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置 | |
JP2024052779A (ja) | 着色組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子及び画像表示装置 | |
TWI820219B (zh) | 硬化性組成物、硬化膜、圖案的形成方法、濾光器及光學感測器 | |
TW202104309A (zh) | 硬化性組成物、膜、濾色器、濾色器之製造方法、固體攝像元件、圖像顯示裝置及高分子化合物 | |
JP2024040152A (ja) | 着色組成物、膜、カラーフィルタおよび固体撮像素子 | |
JP2024012409A (ja) | 着色感光性組成物、硬化物、カラーフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、及び、非対称ジケトピロロピロール化合物 | |
JP7080325B2 (ja) | 硬化性組成物、膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置 | |
JP7462807B2 (ja) | 感光性着色組成物、硬化膜、パターンの形成方法、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置 | |
JP7419475B2 (ja) | 着色感光性樹脂組成物、膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、構造体、固体撮像素子及び画像表示装置 | |
JP7095091B2 (ja) | 感光性組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子及び画像表示装置 | |
KR102668934B1 (ko) | 착색 조성물, 경화막, 구조체, 컬러 필터 및 표시 장치 | |
TW202212260A (zh) | 感光性組成物、膜、濾色器、固體攝像元件及圖像顯示裝置 | |
TW202010758A (zh) | 硬化性組成物、硬化性組成物的製造方法、膜、濾色器、濾色器的製造方法、固體攝像元件及圖像顯示裝置 | |
TW202102596A (zh) | 樹脂組成物、膜、近紅外線截止濾波器、近紅外線透射濾波器、固體攝像元件、圖像顯示裝置及紅外線感測器 | |
TW202112903A (zh) | 著色樹脂組成物、膜、濾色器、固體攝像元件、圖像顯示裝置及樹脂 | |
TWI853820B (zh) | 感光性組成物、膜、濾色器、固體攝像元件及圖像顯示裝置 | |
KR102720835B1 (ko) | 착색 조성물, 막, 광학 필터, 고체 촬상 소자 및 화상 표시 장치 | |
TWI846905B (zh) | 著色組成物、膜、濾色器、固體攝像元件及圖像顯示裝置 | |
JP7389900B2 (ja) | マゼンタ色感光性樹脂組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子及び画像表示装置 | |
JP7344379B2 (ja) | 樹脂組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子および画像表示装置 | |
WO2023182017A1 (ja) | 着色組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置 |