TWI805769B - 著色樹脂組成物及其製造方法、近紅外線透射遮光膜及加飾基板 - Google Patents
著色樹脂組成物及其製造方法、近紅外線透射遮光膜及加飾基板 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI805769B TWI805769B TW108118499A TW108118499A TWI805769B TW I805769 B TWI805769 B TW I805769B TW 108118499 A TW108118499 A TW 108118499A TW 108118499 A TW108118499 A TW 108118499A TW I805769 B TWI805769 B TW I805769B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- resin composition
- coloring material
- colored resin
- colored
- light
- Prior art date
Links
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 105
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 40
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 31
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims abstract description 104
- 238000004040 coloring Methods 0.000 claims abstract description 103
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 97
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 47
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 47
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000011324 bead Substances 0.000 claims description 39
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims description 35
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 25
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 20
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 13
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims description 8
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract description 40
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 106
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 description 24
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 23
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 21
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 17
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 17
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 16
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 15
- -1 polyazo Polymers 0.000 description 15
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 14
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 12
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 12
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 12
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 11
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 11
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 11
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 10
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 10
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 10
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 9
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 9
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 8
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 7
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 7
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 7
- IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran Chemical compound C1=CC=C2OC=CC2=C1 IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 5
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 5
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 5
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 5
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 5
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 5
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 4
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 4
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 4
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 4
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical compound O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AUNAPVYQLLNFOI-UHFFFAOYSA-L [Pb++].[Pb++].[Pb++].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-][Cr]([O-])(=O)=O.[O-][Mo]([O-])(=O)=O Chemical compound [Pb++].[Pb++].[Pb++].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-][Cr]([O-])(=O)=O.[O-][Mo]([O-])(=O)=O AUNAPVYQLLNFOI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N dichromium trioxide Chemical compound O=[Cr]O[Cr]=O QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 3
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 3
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYNQKSJRFHJZTK-UHFFFAOYSA-N (3-methoxy-3-methylbutyl) acetate Chemical class COC(C)(C)CCOC(C)=O RYNQKSJRFHJZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QWOZZTWBWQMEPD-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethoxypropoxy)propan-2-ol Chemical compound CCOC(C)COCC(C)O QWOZZTWBWQMEPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COCCCOCCCO QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybutyl acetate Chemical compound COC(C)CCOC(C)=O QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MXLMTQWGSQIYOW-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-2-butanol Chemical compound CC(C)C(C)O MXLMTQWGSQIYOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ACZGCWSMSTYWDQ-UHFFFAOYSA-N 3h-1-benzofuran-2-one Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)CC2=C1 ACZGCWSMSTYWDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N butyl butanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCC XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 2
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N glycine betaine Chemical compound C[N+](C)(C)CC([O-])=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZKVLEFBKBNUQHK-UHFFFAOYSA-N helium;molecular nitrogen;molecular oxygen Chemical compound [He].N#N.O=O ZKVLEFBKBNUQHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N heptan-3-one Chemical compound CCCCC(=O)CC NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 235000019239 indanthrene blue RS Nutrition 0.000 description 2
- UHOKSCJSTAHBSO-UHFFFAOYSA-N indanthrone blue Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=C4NC5=C6C(=O)C7=CC=CC=C7C(=O)C6=CC=C5NC4=C3C(=O)C2=C1 UHOKSCJSTAHBSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N isoamyl acetate Chemical compound CC(C)CCOC(C)=O MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N methyl 2-hydroxypropionate Chemical compound COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N propyl acetate Chemical compound CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000870 ultraviolet spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000004736 wide-angle X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- OWSKJORLRSWYGK-UHFFFAOYSA-N (3-methoxy-3-methylbutyl) propanoate Chemical compound CCC(=O)OCCC(C)(C)OC OWSKJORLRSWYGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XUKSWKGOQKREON-UHFFFAOYSA-N 1,4-diacetoxybutane Chemical compound CC(=O)OCCCCOC(C)=O XUKSWKGOQKREON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPHFJZRSMXHTAW-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-methoxypropoxy)propoxy]butane Chemical compound CCCCOCC(C)OCC(C)OC QPHFJZRSMXHTAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHUFHLFHOQVFGB-UHFFFAOYSA-N 1-aminoanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2N KHUFHLFHOQVFGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrolidine-3-carboxamide Chemical compound C1C(C(=O)N)CCN1CC1=CC=CC=C1 HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-ol Chemical compound CCCOCC(C)O FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMDZKDKPYCNCDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound CCCCOC(C)COC(C)CO WMDZKDKPYCNCDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJINVQNEBGOMCR-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound COCCOCCOC(C)=O BJINVQNEBGOMCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRLRGHZJOQGQEC-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxypropoxy)propyl acetate Chemical compound COC(C)COC(C)COC(C)=O DRLRGHZJOQGQEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJCYDDALXPHSHR-UHFFFAOYSA-N 2-(2-propoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCOCCOCCO DJCYDDALXPHSHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYVAYAJYLWYJJN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-propoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound CCCOC(C)COC(C)CO XYVAYAJYLWYJJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCHBYORVPVDWBJ-UHFFFAOYSA-N 2-(3-methylbutoxy)ethanol Chemical compound CC(C)CCOCCO NCHBYORVPVDWBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWLHAQYOFMQTHQ-UHFFFAOYSA-N 2-N-[8-[[8-(4-aminoanilino)-10-phenylphenazin-10-ium-2-yl]amino]-10-phenylphenazin-10-ium-2-yl]-8-N,10-diphenylphenazin-10-ium-2,8-diamine hydroxy-oxido-dioxochromium Chemical compound O[Cr]([O-])(=O)=O.O[Cr]([O-])(=O)=O.O[Cr]([O-])(=O)=O.Nc1ccc(Nc2ccc3nc4ccc(Nc5ccc6nc7ccc(Nc8ccc9nc%10ccc(Nc%11ccccc%11)cc%10[n+](-c%10ccccc%10)c9c8)cc7[n+](-c7ccccc7)c6c5)cc4[n+](-c4ccccc4)c3c2)cc1 FWLHAQYOFMQTHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethoxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCOCCOCCOCCO WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMVOPJLFZGSYOS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethoxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CCOC(C)COC(C)COC(C)CO FMVOPJLFZGSYOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methoxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound COC(C)COC(C)COC(C)CO WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFSVOASYOCHEOV-UHFFFAOYSA-N 2-diethylaminoethanol Chemical compound CCN(CC)CCO BFSVOASYOCHEOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPGSWASWQBLSKZ-UHFFFAOYSA-N 2-hexoxyethanol Chemical compound CCCCCCOCCO UPGSWASWQBLSKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethanol Chemical compound CCCOCCO YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPAGVACEWQNVQO-UHFFFAOYSA-N 3-acetyloxybutyl acetate Chemical compound CC(=O)OC(C)CCOC(C)=O MPAGVACEWQNVQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTKBNCABAMQDIG-UHFFFAOYSA-N 3-butoxypropan-1-ol Chemical compound CCCCOCCCO NTKBNCABAMQDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFKRHJVUCZRDTF-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-3-methylbutan-1-ol Chemical compound COC(C)(C)CCO MFKRHJVUCZRDTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VATRWWPJWVCZTA-UHFFFAOYSA-N 3-oxo-n-[2-(trifluoromethyl)phenyl]butanamide Chemical compound CC(=O)CC(=O)NC1=CC=CC=C1C(F)(F)F VATRWWPJWVCZTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2-pentanol Chemical compound CC(C)CC(C)O WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMFWEWMHABZQNB-UHFFFAOYSA-N 6-acetyloxyhexyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCCCCCOC(C)=O ZMFWEWMHABZQNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 1
- VXXJPRMLSOWMOQ-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCCCCCC1=CN(CCO)C(CC(O)=O)=N1 Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CN(CCO)C(CC(O)=O)=N1 VXXJPRMLSOWMOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000684 Cobalt-chrome Inorganic materials 0.000 description 1
- YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N Cyclohexyl acetate Chemical compound CC(=O)OC1CCCCC1 YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N Methylacetoacetic acid Chemical compound COC(=O)CC(C)=O WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIQMPQMYFZXDAX-UHFFFAOYSA-N Pentyl formate Chemical compound CCCCCOC=O DIQMPQMYFZXDAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- AZFUASHXSOTBNU-UHFFFAOYSA-N Propyl 2-methylpropanoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)C AZFUASHXSOTBNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZONYXWQDUYMKFB-UHFFFAOYSA-N SJ000286395 Natural products O1C2=CC=CC=C2C(=O)CC1C1=CC=CC=C1 ZONYXWQDUYMKFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Natural products C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- HSSJULAPNNGXFW-UHFFFAOYSA-N [Co].[Zn] Chemical compound [Co].[Zn] HSSJULAPNNGXFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 1
- 125000004849 alkoxymethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- BTBJBAZGXNKLQC-UHFFFAOYSA-N ammonium lauryl sulfate Chemical compound [NH4+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O BTBJBAZGXNKLQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940063953 ammonium lauryl sulfate Drugs 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- UHHXUPJJDHEMGX-UHFFFAOYSA-K azanium;manganese(3+);phosphonato phosphate Chemical compound [NH4+].[Mn+3].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O UHHXUPJJDHEMGX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 1
- IRERQBUNZFJFGC-UHFFFAOYSA-L azure blue Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[Al+3].[S-]S[S-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] IRERQBUNZFJFGC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WDIHJSXYQDMJHN-UHFFFAOYSA-L barium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ba+2] WDIHJSXYQDMJHN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001626 barium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L barium(2+);oxomethanediolate Chemical compound [Ba+2].[O-][14C]([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L 0.000 description 1
- 239000000440 bentonite Substances 0.000 description 1
- 229910000278 bentonite Inorganic materials 0.000 description 1
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003237 betaine Drugs 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 1
- OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N butanoic acid ethyl ester Natural products CCCC(=O)OCC OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTMVHUNTONAYDX-UHFFFAOYSA-N butyl propionate Chemical compound CCCCOC(=O)CC BTMVHUNTONAYDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWLNAUNEAKQYLH-UHFFFAOYSA-N butyric acid octyl ester Natural products CCCCCCCCOC(=O)CCC PWLNAUNEAKQYLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJOBVZJTOIVNNF-UHFFFAOYSA-N cadmium sulfide Chemical compound [Cd]=S CJOBVZJTOIVNNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 125000005626 carbonium group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000152 cobalt phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- NNSIWZRTNZEWMS-UHFFFAOYSA-N cobalt titanium Chemical compound [Ti].[Co] NNSIWZRTNZEWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010952 cobalt-chrome Substances 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 1
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYAAVKFHBMJOJZ-UHFFFAOYSA-N diimidazo[1,3-b:1',3'-e]pyrazine-5,10-dione Chemical compound O=C1C2=CN=CN2C(=O)C2=CN=CN12 UYAAVKFHBMJOJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N dipropylamine Chemical compound CCCNCCC WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- DDXLVDQZPFLQMZ-UHFFFAOYSA-M dodecyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C DDXLVDQZPFLQMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000000572 ellipsometry Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- MTVMXNTVZNCVTH-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diol;2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound OCCO.OCCOCCO MTVMXNTVZNCVTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-ethoxyacetate Chemical compound CCOCC(=O)OCC CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFUIDHWFLMPAGY-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxy-2-methylpropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)(C)O GFUIDHWFLMPAGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZANNOFHADGWOLI-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxyacetate Chemical compound CCOC(=O)CO ZANNOFHADGWOLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJAKCEHATXBFJT-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-oxobutanoate Chemical compound CCOC(=O)C(=O)CC FJAKCEHATXBFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-methoxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)CCOC IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 description 1
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229930003949 flavanone Natural products 0.000 description 1
- 150000002207 flavanone derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 235000011981 flavanones Nutrition 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 1
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 239000002563 ionic surfactant Substances 0.000 description 1
- WTFXARWRTYJXII-UHFFFAOYSA-N iron(2+);iron(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Fe+2].[Fe+3].[Fe+3] WTFXARWRTYJXII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N iron(II,III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]O[Fe]=O SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOBAEOGBNPPUQV-UHFFFAOYSA-N iron;trihydrate Chemical compound O.O.O.[Fe].[Fe] YOBAEOGBNPPUQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N iso-butyl acetate Natural products CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117955 isoamyl acetate Drugs 0.000 description 1
- FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M isocaproate Chemical compound CC(C)CCC([O-])=O FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N isoindolin-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NCC2=C1 PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWVMLCQWXVFZCN-UHFFFAOYSA-N isoindoline Chemical compound C1=CC=C2CNCC2=C1 GWVMLCQWXVFZCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid Chemical compound CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid methyl ester Natural products COC(=O)CC(C)C OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052622 kaolinite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- MOUPNEIJQCETIW-UHFFFAOYSA-N lead chromate Chemical compound [Pb+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O MOUPNEIJQCETIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M malachite green Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 239000013528 metallic particle Substances 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 1
- HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N methyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OC HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N methyl pyruvate Chemical compound COC(=O)C(C)=O CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N n-butyric acid methyl ester Natural products CCCC(=O)OC UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNVRJGIVDSQCOP-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-methylethanamine Chemical compound CCN(C)CC GNVRJGIVDSQCOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONLRKTIYOMZEJM-UHFFFAOYSA-N n-methylmethanamine oxide Chemical compound C[NH+](C)[O-] ONLRKTIYOMZEJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBJNZHVOCNPSCS-UHFFFAOYSA-N naphtho[2,3-f]quinazoline Chemical compound C1=NC=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C=CC2=N1 OBJNZHVOCNPSCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- UPHWVVKYDQHTCF-UHFFFAOYSA-N octadecylazanium;acetate Chemical compound CC(O)=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCCN UPHWVVKYDQHTCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 235000012736 patent blue V Nutrition 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 229920000083 poly(allylamine) Polymers 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- ILPVOWZUBFRIAX-UHFFFAOYSA-N propyl 2-oxopropanoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=O ILPVOWZUBFRIAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUAZGNHGCJGYNP-UHFFFAOYSA-N propyl butyrate Chemical compound CCCOC(=O)CCC HUAZGNHGCJGYNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116423 propylene glycol diacetate Drugs 0.000 description 1
- 239000008213 purified water Substances 0.000 description 1
- LLBIOIRWAYBCKK-UHFFFAOYSA-N pyranthrene-8,16-dione Chemical compound C12=CC=CC=C2C(=O)C2=CC=C3C=C4C5=CC=CC=C5C(=O)C5=C4C4=C3C2=C1C=C4C=C5 LLBIOIRWAYBCKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYNROBRQIVCIQF-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-b]pyrrole-5,6-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)C(=O)N=C21 FYNROBRQIVCIQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000005622 tetraalkylammonium hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N thioindigo Chemical compound S\1C2=CC=CC=C2C(=O)C/1=C1/C(=O)C2=CC=CC=C2S1 JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013799 ultramarine blue Nutrition 0.000 description 1
- 238000009849 vacuum degassing Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 235000014692 zinc oxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/15—Heterocyclic compounds having oxygen in the ring
- C08K5/151—Heterocyclic compounds having oxygen in the ring having one oxygen atom in the ring
- C08K5/1535—Five-membered rings
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/56—Organo-metallic compounds, i.e. organic compounds containing a metal-to-carbon bond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L35/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical, and containing at least one other carboxyl radical in the molecule, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L35/02—Homopolymers or copolymers of esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B57/00—Other synthetic dyes of known constitution
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B67/00—Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
- C09B67/0025—Crystal modifications; Special X-ray patterns
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B67/00—Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
- C09B67/0033—Blends of pigments; Mixtured crystals; Solid solutions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B67/00—Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
- C09B67/0071—Process features in the making of dyestuff preparations; Dehydrating agents; Dispersing agents; Dustfree compositions
- C09B67/0084—Dispersions of dyes
- C09B67/0085—Non common dispersing agents
- C09B67/009—Non common dispersing agents polymeric dispersing agent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D17/00—Pigment pastes, e.g. for mixing in paints
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/32—Radiation-absorbing paints
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/41—Organic pigments; Organic dyes
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/037—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polyamides or polyimides
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0382—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable the macromolecular compound being present in a chemically amplified negative photoresist composition
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K2201/00—Specific properties of additives
- C08K2201/002—Physical properties
- C08K2201/005—Additives being defined by their particle size in general
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
- C08K5/0041—Optical brightening agents, organic pigments
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2203/00—Applications
- C08L2203/16—Applications used for films
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L77/00—Compositions of polyamides obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L77/12—Polyester-amides
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Architecture (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
一種著色樹脂組成物，其係含有(A)樹脂、(B)著色材及(C)有機溶劑之著色樹脂組成物，其中至少含有雙苯并呋喃酮系顏料作為該(B)著色材，且該著色樹脂組成物之硬化物所構成的著色膜中之雙苯并呋喃酮系顏料的微晶尺寸為10nm以上25nm以下。本發明提供一種著色樹脂組成物，其耐光性優異，具有高可見光遮光性與近紅外線透射性，且透射散射光少。
Description
本發明係關於一種著色樹脂組成物及其製造方法、近紅外線透射遮光膜及加飾基板。
近年來在智慧型手機、平板電腦PC等各種資訊終端中，為了強化防盜性(security)，採用各式各樣的生物體驗證。除以往的指紋驗證之外，臉部驗證或虹膜驗證等的探討也有所進展，臉部驗證或虹膜驗證係使用近紅外線感測器或近紅外線攝像機。又，在汽車中，也使用車內顯示器之動作感測器等近紅外線感測器、或駕駛者監視攝像機等近紅外線攝像機。
上述的近紅外線感測器或近紅外線攝像機，一般而言係配置於各種顯示器或框體的週邊部。以往的近紅外線感測器或近紅外線攝像機，因為使用透明或半透明的罩蓋，所以可自外部識別近紅外線感測器或近紅外線攝像機，有損及外觀設計性的課題。因此，正進行用以自外部隱蔽近紅外線感測器或近紅外線攝像機的濾光片或塗料之探討。該等濾光片或塗料係需要近紅外線之高透射性與可見光之低透射性。使用以往一般所用之染料作為著色材時，雖然紅外線的透射性十分高，但有耐光性不足，且隨時間導致光學特性劣化的課題。因此，正進行探討例如：一種積層體，在支撐體上設置至少透射紅外區域的光，而且，至少包含可遮蔽可見區域的光之平均分散粒徑為1~100nm的金屬微粒或半金屬微粒、可鍛燒去除的有機物、及玻璃粉體的機能層(參 考例如專利文獻1)；及一種光學濾光片，特徵為含有綠色色素、及黑色色素，且波長400~730nm之光的平均透射率為2%以下，具備在波長800~1000nm之間具有平均透射率成為80%以上之連續的50nm之波長區域的結構體(參考例如專利文獻2)等。
另一方面，作為兼具高近紅外線透射性與高可見光遮光性的顏料，已知有雙苯并呋喃酮系顏料(參考例如專利文獻3)，且已在探討含有雙-側氧基二氫伸吲哚基-苯并二呋喃酮著色劑、或其異構物或是互變異構物的近紅外線不活性組成物(參考例如專利文獻4)。
專利文獻1：日本特開2016-191729號公報
專利文獻2：國際公開第2016/098810號
專利文獻3：日本特表2010-534726號公報
專利文獻4：日本特開2017-116955號公報
然而，使用金屬微粒或有機著色顏料、有機黑色顏料之專利文獻1~2所記載的技術，雖耐光性為良好，但難以兼具可見光遮光性與近紅外線透射性，特別是有起因於粒子的光散射導致近紅外線攝像機之圖像解析性大幅降低的課題。
因此，本發明的目的在於提供一種著色樹脂組成物，其耐光性優異，具有高可見光遮光性與近紅外線透射性，且 透射散射光少。
本案發明人等進行仔細探討的結果發現：藉由使用雙苯并呋喃酮系顏料作為著色樹脂組成物的著色材，且將著色樹脂組成物中之雙苯并呋喃酮系顏料的微晶尺寸定為特定的範圍，可解決上述課題，且完成本發明。
本發明為一種著色樹脂組成物，其係含有(A)樹脂、(B)著色材及(C)有機溶劑之著色樹脂組成物，其中至少含有雙苯并呋喃酮系顏料作為該(B)著色材，且該著色樹脂組成物之硬化物所構成的著色膜中之雙苯并呋喃酮系顏料的微晶尺寸為10nm以上25nm以下。在此，微晶尺寸係為由將CuKα線作為X射線源使用的X射線繞射光譜中之繞射角2θ=7.8°以上8.0°以下時出現的主峰之半峰寬所求出的數值。
本發明的著色樹脂組成物，其近紅外線區域(波長800~1000nm)中之透光性、可見區域中之遮光性、及耐光性優異，而且，可減低透射散射光。藉由本發明的著色樹脂組成物，可得到優異的近紅外線攝像機圖像。
圖1為雙苯并呋喃酮系顏料Bk-1與雙苯并呋喃酮系顏料Bk-2之X射線繞射變化曲線。
圖2為在實施例3及比較例1中得到的著色膜之X射線繞射變化曲線。
本發明的著色樹脂組成物含有(A)樹脂、(B)著色材及(C)有機溶劑。(A)樹脂具有作為組成物中之黏合劑的作用，(B)著色材具有遮蔽可見光的作用，(C)有機溶劑具有將(A)樹脂及/或(B)著色材均勻地溶解或分散的作用。在本發明中，特徵為至少含有雙苯并呋喃酮系顏料作為該(B)著色材，且該著色樹脂組成物之硬化物所構成的著色膜中之雙苯并呋喃酮系顏料的微晶尺寸為10nm以上25nm以下。在此，微晶尺寸係為由將CuKα線作為X射線源使用的X射線繞射光譜中之繞射角2θ=7.8°以上8.0°以下時出現的主峰之半峰寬所求出的數值。
藉由自耐光性優異的顏料之中，選擇兼具高近紅外線透射性與高可見光遮光性的雙苯并呋喃酮系顏料作為(B)著色材，並且，使雙苯并呋喃酮系顏料成為特定的微晶尺寸而分散於著色樹脂組成物及著色膜中，可遮蔽可見光，另一方面，可大幅提升近紅外線透射性。又，從可抑制透射光的散射之觀點而言，可抑制近紅外散射光，且隔著著色膜得到鮮明的近紅外線攝像機圖像。
作為(A)樹脂，可舉出例如，環氧樹脂、丙烯酸樹脂、矽氧烷樹脂、聚醯亞胺樹脂等。亦可含有該等2種以上。從著色樹脂組成物的儲存安定性或著色膜的耐熱性之觀點而言，該等之中，較佳為選自丙烯酸樹脂、聚醯亞胺樹脂及矽氧烷樹脂的樹脂。
本發明的著色樹脂組成物，可具有亦可不具有感光性，但藉由使用鹼可溶性樹脂作為(A)樹脂，且進一步含有後述的(D)感光劑，可對著色樹脂組成物賦予感光性。在此，本發明 中之鹼可溶性樹脂係指具有羥基及/或羧基作為鹼可溶性基，且酸價為10mgKOH/g以上，並且重量平均分子量(Mw)為500以上150,000以下的樹脂。在此，重量平均分子量(Mw)係指藉由以四氫呋喃作為載體的凝膠滲透層析進行分析，使用利用標準聚苯乙烯的檢量線進行換算而得的數值。又，鹼可溶性樹脂的酸價係指用以中和鹼可溶性樹脂1g所需要的氫氧化鉀之mg數(單位：mgKOH/g)。
作為鹼可溶性樹脂，可舉出例如，卡多樹脂、丙烯酸樹脂、酚醛樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚醯亞胺前驅物、聚苯并
唑樹脂、聚苯并
唑前驅物、聚醯胺樹脂、矽氧烷樹脂等。著色樹脂組成物具有負型的感光性時，從圖案加工性與塗膜可靠度之觀點而言，較佳為丙烯酸樹脂或聚醯亞胺樹脂，從分散安定性之觀點而言，更佳為丙烯酸樹脂。另一方面，著色樹脂組成物具有正型的感光性時，從圖案加工性之觀點而言，較佳為選自聚醯亞胺樹脂、聚醯亞胺前驅物、聚苯并
唑樹脂、聚苯并
唑前驅物及矽氧烷樹脂之樹脂，從圖案加工性之觀點而言，更佳為聚醯亞胺樹脂或聚醯亞胺前驅物。
本發明的著色樹脂組成物，其至少含有雙苯并呋喃酮系顏料作為(B)著色材。藉由使用雙苯并呋喃酮系顏料作為著色材，可提升耐光性，且兼具可見區域中之遮光性與近紅外區域中之高透光性。雙苯并呋喃酮系顏料具有下述通式(I)~(III)中之任一者所示之結構。下述通式(I)~(III)所示之結構，各自互為順式-反式異構物的關係，也可具有2種以上的該等結構。
通式(I)~(III)中，R1及R2各自獨立，且表示氫原子或碳原子數1~10的烷基。R3及R4各自獨立，且表示R10、OR11、SR11、COR11、CONR11R12、NR11COR12、OCOR11、 COOR11、SCOR11、OCSR11、COSR11、CSOR11、CN、鹵原子或羥基。其中，R10表示碳原子數1~20的烷基、碳原子數6~30的芳基、碳原子數7~30的芳烷基或碳原子數2~20的雜環基。R11及R12各自獨立，且表示氫原子、碳原子數1~20的烷基、碳原子數6~30的芳基、碳原子數7~30的芳烷基或碳原子數2~20的雜環基。a及b各自獨立，且表示0~4的整數。
具有上述通式(I)~(III)中之任一者所示之結構的雙苯并呋喃酮系顏料本身係為周知，可藉由例如日本特表2012-515233號公報所記載的方法得到。又，作為例如“Irgaphor”(註冊商標)Black S0100CF(商品名，BASF(股)製)於市面上販售。
雙苯并呋喃酮系顏料與含有其之著色樹脂組成物及著色膜，在將CuKα線作為X射線源使用之X射線繞射光譜中，於繞射角2θ=7.8°以上8.0°以下觀測到強度最強的主峰。然後，由該等之X射線繞射峰的半峰寬，依據下述式(1)所示之謝樂方程式，可算出雙苯并呋喃酮系顏料的微晶尺寸。
上述式(1)中之K為定數0.9，λ為0.15418[nm]。β以下述式(2)表示。
上述式(2)中之βe為繞射峰的半峰寬，βO為半峰寬的補正值(0.13[°])。其中，β、βe及βO係以弧度進行計算。
X射線繞射光譜係使用CuKα射線作為X射線源， 藉由廣角X射線繞射法進行測定。作為X射線繞射裝置，可使用例如Bruker AXS(股)公司製DS ADVANCE。測定條件，輸出定為40kV/40mA，狹縫系定為Div.Slit：0.3°，測定step(2θ)定為0.0171°，計測時間定為0.5秒/step。
本發明的著色樹脂組成物之硬化物所構成的著色膜，重要的是由將CuKα線作為X射線源使用的X射線繞射光譜中之繞射角2θ=7.8°以上8.0°以下時出現的主峰之半峰寬所求出的雙苯并呋喃酮系顏料之微晶尺寸為10nm以上25nm以下。該微晶尺寸為著色膜中之雙苯并呋喃酮系顏料的分散狀態之指標，微晶尺寸越小，意指雙苯并呋喃酮系顏料在著色膜中越微分散。在此，本發明中之著色膜為本發明的著色樹脂組成物之硬化物所構成的膜。在著色樹脂組成物中，(A)樹脂所含有的交聯性基較佳為藉由熱及/或光交聯，且在著色膜中實質上未殘留。
該著色膜，可藉由在基板上形成著色樹脂組成物的塗膜，且藉由熱板等將塗膜進行乾燥後，藉由熱風烘箱等進行加熱處理而得到。例如，著色樹脂組成物含有丙烯酸樹脂作為(A)樹脂時，加熱處理溫度較佳為170℃以上，加熱處理時間較佳為30分鐘以上。
在著色膜中之雙苯并呋喃酮系顏料的微晶尺寸較25nm更大時，近紅外線透射性降低，且透射散射光增加，因此隔著著色膜得到的紅外線攝像機圖像之鮮明性降低。雙苯并呋喃酮系顏料的微晶尺寸，較佳為20nm以下。另一方面，在著色膜中之雙苯并呋喃酮系顏料的微晶尺寸小於10nm時，雙苯并呋喃酮系顏料的分散安定化變困難，且會發生顏料再凝聚所致的透射散射光之增加、可見光遮光性之降低。作為將著色膜中之雙苯并 呋喃酮系顏料的微晶尺寸定為上述之範圍的手段，較佳為在樹脂中使雙苯并呋喃酮系顏料不進行再凝聚地以細微的狀態安定且均勻地分散。更具體而言，可舉出藉由使用微晶尺寸小之雙苯并呋喃酮系顏料的方法、或使用後述之珠磨機的方法製造著色樹脂組成物的方法等。
作為(B)著色材，在不阻礙本發明的效果之範圍，亦可同時具有雙苯并呋喃酮系顏與其它的著色材。作為雙苯并呋喃酮系顏料以外的著色材，可舉出一般所使用之有機顏料、無機顏料、染料等。為了提升著色膜之耐熱性、可靠度及耐光性，較佳為有機顏料或無機顏料。
作為有機顏料，可舉出例如：二酮吡咯并吡咯系顏料；偶氮顏料、雙偶氮顏料、多偶氮顏料等偶氮系顏料；銅酞青素、鹵化銅酞青素、無金屬酞青素等酞青素系顏料；胺基蒽醌、二胺基二蒽醌、蒽嘧啶、黃士酮、嵌二蒽酮、陰丹酮、皮蒽酮、紫蒽酮等蒽醌系顏料；喹吖酮系顏料；二
系顏料；苝酮系顏料；苝系顏料；硫靛藍系顏料；異吲哚啉系顏料；異吲哚啉酮系顏料；喹酞酮系顏料；陰丹士林系顏料；金屬錯合物系顏料等。
作為無機顏料，可舉出例如：氧化鈦、鋅華、硫化鋅、鉛白、碳酸鈣、沉降性硫酸鋇、白碳、礬土白、高嶺石黏土、滑石、膨潤土、黑色氧化鐵、鎘紅、鐵紅、鉬紅、鉬橙、鉻朱紅、鉻黃、鎘黃、黃色氧化鐵、鈦黃、氧化鉻、鉻綠、鈦鈷綠、鈷綠、鈷鉻綠、維多利亞綠、群青、紺青、鈷藍、天藍、鈷二氧化矽藍、鈷鋅二氧化矽藍、錳紫、鈷紫等。
作為染料，可舉出例如：偶氮染料、蒽醌染料、縮合多環芳香族羰基染料、靛染料、碳鎓染料、酞青素染料、次甲 基染料、多次甲基染料等。
作為黑色的著色材，可舉出例如：黑色有機顏料、混色有機顏料、無機顏料等。作為黑色有機顏料，可舉出例如：碳黑、苝黑、苯胺黑、苯并呋喃酮系顏料等。作為混色有機顏料，可舉出將具有紅、藍、綠、紫、黃、品紅、深藍等色之2種以上的顏料進行混色，成為擬黑色者。作為黑色無機顏料，可舉出例如：石墨；鈦、銅、鐵、錳、鈷、鉻、鎳、鋅、鈣、銀等金屬的微粒；上述金屬的氧化物、錯合氧化物、硫化物、氮化物、氮氧化物等。
作為白色的著色材，可舉出例如：二氧化鈦、碳酸鋇、氧化鋯、碳酸鈣、硫酸鋇、礬土白、二氧化矽等。
亦可含有2種以上的該等之著色材。從進一步提升著色膜的可見光遮光性之觀點而言，該等之中，較佳為藍著色材，從堅實性之觀點而言，更佳為銅酞青素。
含有雙苯并呋喃酮系顏料以外之著色材時，其含量，相對於雙苯并呋喃酮系顏料的含量100重量份，較佳為5重量份以上，更佳為20重量份以上。另一方面，雙苯并呋喃酮系顏料以外之著色材的含量，從進一步提升近紅外線透射性，且進一步抑制透射光散射之觀點而言，相對於雙苯并呋喃酮系顏料的含量100重量份，較佳為75重量份以下，更佳為30重量份以下。
本發明的著色樹脂組成物中之(B)著色材的含量，於固體成分中，較佳為1~60重量%。在此，固體成分係指著色樹脂組成物所含的成分中，在室溫中為固體的成分。作為對應於固體成分的成分，可舉出(A)樹脂、(B)著色材、後述的(D)感光 劑、(E)自由基聚合性化合物、其它添加劑等。藉由將(B)著色材的含量定為1重量%以上，即使為著色膜之膜厚薄的情況，也可提升可見光遮光性。(B)著色材的含量，更佳為10重量%以上。另一方面，藉由將(B)著色材的含量定為60重量%以下，可提升(B)著色材的分散安定性。又，可抑制著色膜與基板的界面中之入射光的反射，且更提升近紅外線透射性。(B)著色材的含量，較佳為40重量%以下，更佳為17重量%以下。
作為(C)有機溶劑，可舉出例如，醚類、乙酸酯類、酯類、酮類、芳香族烴類、醯胺類、醇類等。
作為醚類，可舉出例如，乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單正丙醚、乙二醇單正丁醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單正丙醚、二乙二醇單正丁醚、三乙二醇單甲醚、三乙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單正丙醚、丙二醇單正丁醚、二丙二醇單甲醚、二丙二醇單乙醚、二丙二醇單正丙醚、二丙二醇單正丁醚、二丙二醇二甲醚、二丙二醇甲基正丁醚、三丙二醇單甲醚、三丙二醇單乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲基乙醚、二乙二醇二乙醚、四氫呋喃等。
作為乙酸酯類，可舉出例如，乙酸丁酯、乙二醇單甲醚乙酸酯、乙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、乙酸3-甲氧基丁酯、乙二醇單丁醚乙酸酯、二乙二醇單甲醚乙酸酯、二乙二醇單乙醚乙酸酯、二乙二醇單丁醚乙酸酯、環己醇乙酸酯、丙二醇二乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯(以下為「PGMEA」)、二丙二醇甲醚乙酸酯、乙酸3-甲氧基-3-甲基-1-丁酯、1,4-丁二醇二乙酸酯、1,3-丁二醇二乙酸酯、1,6-己二醇二乙酸酯等。
作為酯類，可舉出例如，2-羥基丙酸甲酯、2-羥基丙酸乙酯等乳酸烷酯類；2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙氧基乙酸乙酯、羥基乙酸乙酯、2-羥基-3-甲基丁酸甲酯、乙酸3-甲氧基丁酯、乙酸3-甲基-3-甲氧基丁酯、丙酸3-甲基-3-甲氧基丁酯、乙酸乙酯、乙酸正丙酯、乙酸異丙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯、甲酸正戊酯、乙酸異戊酯、丙酸正丁酯、丁酸乙酯、丁酸正丙酯、丁酸異丙酯、丁酸正丁酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸正丙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、2-側氧丁酸乙酯等。
作為酮類，可舉出例如，甲基乙基酮、環己酮、2-庚酮、3-庚酮等。
作為芳香族烴類，可舉出例如，甲苯、二甲苯等。
作為醯胺類，可舉出例如，N-甲基吡咯啶酮、N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺等。
作為醇類，可舉出例如，丁醇、異丁醇、戊醇、4-甲基-2-戊醇、3-甲基-2-丁醇、3-甲基-3-甲氧基丁醇、二丙酮醇等等。
亦可含有2種以上之該等溶媒。
該等之中，為了進一步分散安定化著色材，較佳為乙酸酯類。(C)有機溶劑中之乙酸酯類的含量，較佳為50~100重量%，更佳為70~100重量%。
作為在基板上形成著色樹脂組成物之塗膜的方法，伴隨形成著色膜的基板之大型化，使用模塗布裝置的塗布正成為主流。另一方面，在罩蓋玻璃之加飾、或作為用以隱蔽近紅外線 感測器及近紅外線攝像機的加飾膜之著色膜形成之際，必須在小片玻璃形成著色膜，較佳為使用噴墨裝置的塗布。從於該等使用模塗布裝置及噴墨裝置的塗布中實現適當的揮發性或乾燥性之觀點而言，著色樹脂組成物較佳為含有2種以上之(C)有機溶劑。從使著色樹脂組成物之塗布膜的膜厚變均勻且提升表面的平滑性及黏著性之觀點、與抑制模塗布裝置及噴墨裝置的噴嘴中之乾燥異物之觀點而言，較佳為在(C)有機溶劑中含有30~75重量%之沸點為150~200℃的有機溶劑。
從塗布步驟中之塗布膜的膜厚均勻性之觀點而言，本發明的著色樹脂組成物中之(C)有機溶劑的含量，較佳為50重量%以上，更佳為70重量%以上。另一方面，從抑制顏料沉降之觀點而言，(C)有機溶劑的含量，較佳為95重量%以下，更佳為90重量%以下。
本發明的著色樹脂組成物，藉由含有鹼可溶性樹脂作為(A)樹脂，且進一步含有(D)感光劑，可對著色樹脂組成物賦予感光性。作為感光性，可以具有所謂的負型之感光性，藉由隔著曝光遮罩進行圖案曝光使曝光部鹼溶解性降低，再藉由鹼顯影液去除未曝光部而進行圖案形成；也可以具有所謂的正型之感光性，藉由隔著曝光遮罩進行圖案曝光使曝光部的鹼溶解性高於未曝光部的鹼溶解性，藉由鹼顯影液去除曝光部而進行圖案形成。在本發明中，即使於遮光性高的情況中，也容易形成解析度高的圖案，因此較佳為具有負型的感光性。
藉由含有光聚合起始劑作為(D)感光劑，且進一步含有(E)自由基聚合性化合物，可使曝光部藉由自由基聚合反應進行光硬化，對著色樹脂組成物賦予負型的感光性。作為(E)自由 基聚合性化合物，較佳為具有2個以上之自由基聚合性基的化合物。
光聚合起始劑係指藉由曝光斷鍵及/或反應，產生自由基的化合物。藉由含有光聚合起始劑，可藉由曝光使(E)自由基聚合性化合物進行光硬化。
作為光聚合起始劑，可舉出例如，咔唑系光聚合起始劑、醯基氧化膦系光聚合起始劑、肟酯系光聚合起始劑、α-胺烷基苯酮系光聚合起始劑等。亦可含有該等2種以上。從在後述的曝光步驟中，對於包含i射線(365nm)、h射線(405nm)、g射線(436nm)之混合射線的感度高之觀點而言，該等之中，較佳為咔唑系光聚合起始劑或肟酯系光聚合起始劑。
從對於曝光的感度提升之觀點而言，光聚合起始劑之含量，相對於鹼可溶性樹脂與(E)自由基聚合性化合物之合計含量100重量份，較佳為1重量份以上。另一方面，從對於曝光的深部硬化性之觀點而言，光聚合起始劑之含量，相對於鹼可溶性樹脂與(E)自由基聚合性化合物之合計含量100重量份，較佳為60重量份以下，更佳為40重量份以下。
從曝光時的感度提升及著色膜的硬度提升之觀點而言，作為(E)自由基聚合性化合物具有的自由基聚合性基，較佳為(甲基)丙烯醯基。在此所言之(甲基)丙烯醯基係指甲基丙烯醯基或丙烯醯基。
從對於曝光的感度提升之觀點而言，(E)自由基聚合性化合物的含量，較佳為前述的鹼可溶性樹脂與(E)自由基聚合性化合物之合計含量100重量份中的5重量份以上，更佳為15重量份以上。另一方面，從硬化步驟中之回流性之觀點而言， (E)自由基聚合性化合物的含量，較佳為鹼可溶性樹脂與(E)自由基聚合性化合物之合計含量100重量份中的80重量份以下，較佳為60重量份以下。
藉由在著色樹脂組成物含有光酸產生劑作為(D)感光劑，可相對地提高曝光部的鹼溶解性，賦予正型的感光性。
作為光酸產生劑，較佳為醌二疊氮化合物。作為醌二疊氮化合物，更佳為具有酚性羥基的化合物與醌二疊氮磺酸氯化物之酯化物。為了提升鹼溶解性，可不將酚性羥基之一部分酯化，而刻意地殘留。
從圖案加工性之觀點而言，醌二疊氮化合物的含量，相對於前述的鹼可溶性樹脂100重量份，較佳為1~50重量份。
本發明的著色樹脂組成物，較佳為進一步含有高分子分散劑。高分子分散劑係指兼具「具有對顏料表面的化學鍵結或吸附作用的顏料親和性基」及「具有親溶媒性的高分子鏈或基」者。高分子分散劑，在後述的濕式媒體分散處理中，發揮下述效果：提升顏料對分散媒之潤濕性而促進顏料之解凝，並藉由立體障礙及/或靜電排斥效果使粒度及黏度安定化，甚至抑制著色樹脂組成物之儲存時或塗布時之色分離的產生。
作為高分子分散劑，可舉出例如，聚酯系高分子分散劑、丙烯酸系高分子分散劑、聚胺基甲酸酯系高分子分散劑、聚烯丙胺系高分子分散劑、碳二亞胺系分散劑、聚醯胺系高分子分散劑等。該等之中，更佳為丙烯酸系高分子分散劑或聚醯胺系高分子分散劑。作為聚醯胺系高分子分散劑，較佳為具有多個包含聚酯鏈的側鏈之櫛型結構者。更具體而言，較佳為主鏈具有聚 烯烴亞胺等具有多個氮原子的結構，且具有多個經由該氮原子進行醯胺鍵結的聚酯鏈之側鏈的化合物。作為如前述的櫛型結構之聚醯胺系分散劑，可舉出例如，“DISPERBYK”(註冊商標)2200(BYK公司製)、“SOLSPERSE”(註冊商標)11200、28000(均為Lubrizol(股)製))等。
高分子分散劑分類為：胺價為1mgKOH/g以上且酸價小於1mgKOH/g的分散劑、酸價為1mgKOH/g以上且胺價小於1mgKOH/g的分散劑、胺價為1mgKOH/g以上且酸價為1mgKOH/g以上的分散劑、胺價小於1mgKOH/g且酸價小於1mgKOH/g的分散劑。亦可含有該等2種以上。該等之中，較佳為胺價為1mgKOH/g以上的分散劑。
作為胺價為1mgKOH/g以上且酸價小於1mgKOH/g的高分子分散劑，可舉出例如，“DISPERBYK”(註冊商標)102、160、161、162、2163、164、2164、166、167、168、2000、2050、2150、2155、9075、9077、“BYK”(註冊商標)-LP N6919、“DISPERBYK”(註冊商標)-LP N21116、“DISPERBYK”(註冊商標)-LP N21234(以上均為BYK公司製)、“EFKA”(註冊商標)4015、4020、4046、4047、4050、4055、4060、4080、4300、4330、4340、4400、4401、4402、4403、4800(以上均為BASF公司製)、“AJISPER”(註冊商標)PB711(Ajinomoto Fine-Techno(股)製)、“SOLSPERSE”(註冊商標)13240、13940、20000、71000、76500(以上均為Lubrizol(股)製)等。
作為胺價為1mgKOH/g以上且酸價為1mgKOH/g以上的高分子分散劑，可舉出例如， “DISPERBYK”(註冊商標)142、145、2001、2010、2020、2025、9076、Anti-Terra-205(以上均為BYK公司製)、“SOLSPERSE”(註冊商標)24000(Lubrizol(股)公司製)、“AJISPER”(註冊商標)PB821、PB880、PB881(以上均為Ajinomoto Fine-Techno(股)製)、“SOLSPERSE”(註冊商標)9000、11200、13650、24000SC、24000GR、32000、32500、32550、326000、33000、34750、35100、35200、37500、39000、56000(Lubrizol(股)製)等。
從提升分散安定性之觀點而言，本發明的著色樹脂組成物中之高分子分散劑的含量，相對於後述的(B)著色材100重量份，較佳為10重量份以上，更佳為20重量份以上。另一方面，從提升著色膜的耐熱性或密合性之觀點而言，高分子分散劑的含量，相對於(B)著色材100重量份，較佳為100重量份以下，更佳為60重量份以下。
本發明的著色樹脂組成物，亦可含有熱交聯劑。藉由含有熱交聯劑，可提升最後得到的塗膜強度。作為熱交聯劑，可舉出具有2個以上烷氧甲基及/或羥甲基的化合物、具有2個以上環氧基的化合物等。亦可含有該等2種以上。
本發明的著色樹脂組成物，亦可含有均塗劑。藉由含有均塗劑，可提升塗布性或著色膜的表面平滑性。作為均塗劑，可舉出例如：月桂基硫酸銨、聚氧乙烯烷醚硫酸三乙醇胺等陰離子界面活性劑；硬脂胺乙酸酯、月桂基三甲基銨氯等陽離子界面活性劑；月桂基二甲基胺氧化物、月桂基羧甲基羥乙基咪唑鎓甜菜鹼等兩性界面活性劑；聚氧乙烯月桂醚、聚氧乙烯硬脂醚、山梨糖醇酐單硬脂酸酯等非離子界面活性劑；將聚二甲基矽氧烷等 作為主骨架的矽酮系界面活性劑；氟系界面活性劑等。亦可含有該等2種以上。作為界面活性劑的市售品，可舉出例如，“BYK”-302、“BYK”-333、“BYK”-3550、“BYK”-392(以上均為BYK公司製)。
本發明的著色樹脂組成物，較佳為使光學濃度(OD值)成為4而形成著色膜時之著色膜在波長920nm至960nm的近紅外區域中之平均透光率為90%以上，更佳為93%以上。若在波長920nm至960nm中之平均透光率為90%以上，則可進一步提升隔著著色膜得到的紅外線強度，且進一步提升近紅外線感測器感度或近紅外線攝像機圖像照度。
可在透明基板上形成著色樹脂組成物的塗膜，且藉由熱板等將塗膜進行乾燥後，以熱風烘箱等進行加熱處理，得到著色膜，並使用紫外可見近紅外-分光光度計進行測定，藉以求出著色膜的透光率。
著色樹脂組成物之塗膜的厚度係調整成使得到的著色膜之OD值成為4。塗膜或著色膜的OD值，可使用光學濃度計(361TVisual；X-Rite公司製)，各自測定塗膜或著色膜之入射光及透射光的強度，並藉由下述式(3)算出。
OD值=log10(I0/I) 式(3)
I0：入射光強度
I：透射光強度。
在得到的著色膜中，作為塗膜之加熱處理的條件，較佳為著色樹脂組成物中的(A)樹脂所含有之交聯性基經交聯，且實質上不殘留。例如，著色樹脂組成物含有丙烯酸樹脂作為(A)樹脂時，加熱處理溫度較佳為170℃以上，加熱處理時間較佳為 30分鐘以上。
作為紫外可見分光光度計，較佳係使用UV-3150(島津製作所(股)製)。著色膜的透光率係將使用的透明基板之透光率作為參考而進行測定。作為透明基板，較佳為透光性玻璃基板之TEMPAX(AGC TECHNO GLASS(股)製)。
又，本發明的著色樹脂組成物，較佳為使光學濃度(OD值)成為2而形成著色膜時的可見區域中之霧度值成為6%以下，更佳為3%以下。霧度值為近紅外線透射光之散射強度的指標，若霧度值為6%以下，則可進一步抑制隔著著色膜得到的近紅外線透射光之散射強度，可進一步提升近紅外線攝像機圖像之解析性。
可與透光率同樣地針對在透明基板上形成的著色膜，使用霧度計進行測定，藉以求出著色膜的霧度。作為霧度計，較佳為NDH7000(日本電色工業(股)製)。
作為本發明的著色樹脂組成物之製造方法，較佳為例如使用分散機，使含有(A)樹脂、(B)著色材、及視需要含有(C)有機溶劑的樹脂溶液分散而預先調製著色材濃度高的著色材分散液，再添加(A)樹脂、或視需要添加感光劑等其它成分進行攪拌的方法。視需要亦可進行過濾。
在本發明中，較佳為使用微晶尺寸為10nm以上90nm以下的雙苯并呋喃酮系顏料作為(B)著色材。在此，微晶尺寸係為由將CuKα線作為X射線源使用的X射線繞射光譜中之繞射角2θ=7.8°以上8.0°以下時出現的主峰之半峰寬所求出的數值。在著色樹脂組成物之製造中，藉由將原料階段的雙苯并呋喃酮系顏料之微晶尺寸定為10nm以上，使雙苯并呋喃酮系顏料 更安定地分散於著色樹脂組成物或著色膜中，可輕易地將著色膜中之雙苯并呋喃酮系顏料的微晶尺寸定為前述所需的範圍。另一方面，藉由將原料階段的雙苯并呋喃酮系顏料之微晶尺寸定為90nm以下，可藉由一般的分散手法輕易地將著色膜中之雙苯并呋喃酮系顏料的微晶尺寸定為25nm以下。
作為將雙苯并呋喃酮系顏料的微晶尺寸定為前述範圍的手段，可舉出例如，將雙苯并呋喃酮系顏料與無機鹽及有機溶劑進行混練磨碎的鹽研磨處理、或將雙苯并呋喃酮系顏料暫時溶解於硫酸等強酸後與不良溶媒混合的酸性漿體處理等。
作為鹽研磨處理，較佳為混練雙苯并呋喃酮系顏料、水溶性無機鹽及不溶解無機鹽的有機溶劑後，將混練物投入至水中，並將得到的漿體進行過濾及水洗，除去無機鹽的方法。亦可同時添加雙苯并呋喃酮系顏料、水溶性無機鹽及有機溶劑與高分子分散劑等樹脂或顏料衍生物，可抑制鹽研磨處理所致之微粒化後的雙苯并呋喃酮顏料之再凝聚。
作為水溶性無機鹽，可舉出例如，氯化鈉、氯化鉀、氯化鈣、氯化鋇、硫酸鈉等。
作為有機溶劑，只要為水溶性，且不溶解水溶性無機鹽者，則沒有特別限定，但在鹽研磨時溫度上升，會成為有機溶劑容易蒸發的狀態，因此從安全性之觀點而言，較佳為高沸點溶劑。可舉出例如，2-甲氧基乙醇、2-丁氧基乙醇、2-(異戊氧基)乙醇、2-(己氧基)乙醇、二乙二醇、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙基二醇、二乙二醇單丁醚、三乙二醇、三乙二醇單甲醚、液體聚乙二醇、1-甲氧基-2-丙醇、1-乙氧基-2-丙醇、二丙二醇、二丙二醇單甲醚、二丙二醇單乙醚、低分子量聚丙二醇等。亦可 使用該等2種以上。
作為混練裝置，可舉出例如，捏合機、混合混練機、行星式混合機之井上製作所(股)製的“Trimix”(註冊商標)、連續式單軸混練機之淺田鐵工(股)製的“Miracle KCK”(註冊商標)等。
原料階段的雙苯并呋喃酮系顏料之比表面積，較佳為10m2/g以上100m2/g以下，更佳為40m2/g以上100m2/g以下。藉由將雙苯并呋喃酮系顏料的比表面積定為10m2/g以上，可使雙苯并呋喃酮系顏料容易細微地分散，且提升著色樹脂組成物中之分散安定性。另一方面，藉由將雙苯并呋喃酮系顏料的比表面積定為100m2/g以下，可抑制雙苯并呋喃酮系顏料之再凝聚，且更提升著色樹脂組成物中之分散安定性、或著色膜之可見光遮光性。在此，雙苯并呋喃酮系顏料的比表面積，可使用氣體吸附式比表面積測定裝置，藉由利用氮氣吸附法的BET多點法求出。作為將比表面積定為前述範圍的手段，可舉出上述的鹽研磨處理或酸性漿體處理等。
作為使含有(A)樹脂、(B)著色材、及視需要含有(C)有機溶劑的樹脂溶液分散的分散機，可舉出例如，球磨機、珠磨機、砂研磨機、3支輥磨機、高速度撞擊磨機等。該等之中，為了分散效率化及微分散化，較佳為珠磨機。作為珠磨機，可舉出例如，CoBall Mill、籃式磨機、針磨機、Dyno Mill等。作為珠磨機的珠粒，可舉出例如，氧化鈦珠粒、氧化鋯珠粒、鋯石珠粒等。
在本發明中，較佳為使用珠磨機，以多階段進行分散，且較佳為具有下述步驟：藉由使用平均珠粒徑較0.1mmφ更 大的珠粒之珠磨機進行分散處理後，藉由使用平均珠粒徑為0.1mmφ以下的珠粒之珠磨機進行分散處理。藉由使用平均珠粒徑較0.1mmφ更大的珠粒之珠磨機進行分散處理，可藉以有效率地壓碎微晶尺寸大的雙苯并呋喃酮系顏料。之後，藉由使用平均珠粒徑為0.1mmφ以下之微小的珠粒之珠磨機進行分散處理，可藉以減小對雙苯并呋喃酮系顏料賦予之能量而抑制雙苯并呋喃酮系顏料的表面活性，同時亦進行微分散，並且可抑制著色樹脂組成物中之雙苯并呋喃酮系顏料的再凝聚，而更均勻地分散。此時，珠磨機，較佳為具備可將微小的珠粒與分散液進行分離之利用離心分離方式的分離機。在此，平均珠粒徑係指珠粒之圓當量直徑的數平均值。具體而言，可將珠粒以實體顯微鏡擴大45倍進行拍攝，針對隨機選擇的100個珠粒，分別測定最長徑與最短徑，將其平均值定為圓當量直徑，並藉由算出其數平均值，求出珠粒徑。
藉由使本發明的著色樹脂組成物硬化，可得到著色膜。著色膜的OD值4左右之在波長920nm至960nm的近紅外區域中之平均透光率較佳為90%以上，更佳為93%以上。平均透光率，可如前述進行而測定。在此，著色膜的OD值4左右之平均透光率意指在著色膜之OD值成為4的膜厚時之著色膜的平均透光率。由於OD值與著色膜的膜厚成比例，故由測定的著色膜之OD值與膜厚，可計算著色膜之OD值成為4的膜厚。另一方面，透光率T與吸光度A有下述式之關係，且吸光度A與膜厚成比例，因此可算出在著色膜之OD值成為4的膜厚時之著色膜的平均透光率。
T=10-A
又，OD值2左右的可見區域中之霧度值，較佳為6%以下，更佳為3%以下。霧度，可如前述進行而測定。在此，著色膜之OD值2左右的霧度值意指著色膜之OD值成為2的膜厚中之著色膜的霧度值。針對霧度，也與膜厚成比例，因此可與上述同樣地算出OD值2中之霧度。
又，作為著色膜對於波長940nm光的折射率，較佳為1.40以上1.60以下，更佳為1.50以上1.60以下。著色膜係藉由在基板上塗布著色樹脂組成物，且進行硬化而得到，但藉由減小著色膜與基板之折射率差，可提升著色膜的紅外線透射率。
著色膜的折射率，可藉由使用橢圓偏光術或分光反射率法，分析著色膜的反射光而求出。
接著，針對使本發明的著色樹脂組成物硬化，形成著色膜的方法，舉出負型之感光性的著色樹脂組成物為例進行說明。
將感光性的著色樹脂組成物塗布於基板上，得到塗布膜。作為基板，可舉出例如：鈉玻璃、無鹼玻璃、石英玻璃等所構成之透明基板；矽晶圓、陶瓷類、鎵砷等所構成之基板等。作為塗布方法，可舉出例如：使用旋轉器的旋轉塗布、噴灑塗布、噴墨塗布、模塗布、輥塗布等。塗布膜的膜厚，可根據塗布方法等適當選擇。一般使乾燥後的膜厚成為1~150μm。
將得到的塗布膜進行乾燥，得到乾燥膜。作為乾燥方法，可舉出例如：加熱乾燥、風乾、減壓乾燥、紅外線照射等。作為加熱乾燥裝置，可舉出例如：烘箱、熱板等。乾燥溫度，較佳為50~150℃，乾燥時間，較佳為1分鐘~數小時。
在得到的乾燥膜，隔著具有所需的圖案之遮罩，照射光化射線，得到曝光膜。作為照射的光化射線，可舉出例如：紫外線、可見光線、電子束、X射線等。對於本發明的著色樹脂組成物，較佳為照射汞燈的i射線(365nm)、h射線(405nm)及g射線(436nm)。
將得到的曝光膜，使用鹼性顯影液等進行顯影，藉以去除未曝光部，得到圖案。作為在鹼性顯影液使用的鹼性化合物，可舉出例如：氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸鉀、矽酸鈉、偏矽酸鈉、氨水等無機鹼類；乙胺、正丙胺等一級胺類；二乙胺、二正丙胺等二級胺類；三乙胺、甲基二乙胺等三級胺類；四甲基氫氧化銨(TMAH)等四烷基氫氧化銨類、膽鹼等四級銨鹽；三乙醇胺、二乙醇胺、單乙醇胺、二甲基胺基乙醇、二乙胺基乙醇等醇胺類；吡咯、哌啶、1,8-二氮雜雙環[5,4,0]-7-十一烯、1,5-二氮雜雙環[4,3,0]-5-壬烷、
啉等環狀胺類等有機鹼類。
鹼性顯影液中之鹼性化合物的濃度，一般為0.01~50重量%，較佳為0.02~1重量%。又，為了使藉由顯影而得到的圖案之圖案形狀變更良好，也可在顯影液添加0.1~5重量%的非離子系界面活性劑等界面活性劑。再者，在顯影液為鹼水溶液的情況，亦可在顯影液添加乙醇、γ-丁內酯、二甲基甲醯胺、N-甲基-2-吡咯啶酮等水溶性有機溶劑。
作為顯影方法，可舉出例如浸漬法、噴灑法、混拌法等。甚至亦可對得到的圖案，使用純水等進行潤洗清洗。
藉由將得到的圖案進行加熱處理(後烘烤)，可得到圖案成形的著色膜。加熱處理，亦可在空氣中、在氮氣環境下、 真空狀態之任一者進行。加熱溫度，較佳為150~300℃，加熱時間，較佳為0.25~5小時。也可使加熱溫度連續地變化，亦可階段地變化。
本發明的著色樹脂組成物及著色膜具有近紅外線之高透射性與可見光之低透射性，因此適當使用於用以自外部隱蔽近紅外線感測器或近紅外線攝像機的著色膜(以下稱為近紅外線透射遮光膜、或單純稱為遮光膜)。該等之用途，作為在透明基板上形成遮光膜的加飾基板使用的情況也多。具體而言，可適當利用於智慧型手機或平板電腦PC等顯示終端中之加飾基板的遮光膜、搭載於車載顯示器或車載測量儀器之駕駛者監視用或手勢感測器用之近紅外線感測器及近紅外線攝像機隱蔽用的加飾面板用之加飾基板的遮光膜、液晶顯示裝置等所具備之彩色濾光片的黑色矩陣等遮光膜、有機EL顯示器內部的著色分隔壁等。
以下舉出實施例及比較例，詳細地說明本發明，但本發明並沒有限定於該等之態樣。
作為原料階段的雙苯并呋喃酮系顏料之微晶尺寸測定樣本，將下述製造例所使用的苯并呋喃系顏料Bk-1及藉由製造例1得到的Bk-2各自填充至鋁製標準試料支架。又，作為著色膜中的雙苯并呋喃酮系顏料之微晶尺寸測定樣本，將藉由各實施例及比較例得到的著色膜自玻璃基板切削出來，填充至鋁製標準試料支架。針對該等測定樣本，使用Bruker AXS(股)製X射線繞射裝 置DS ADVANCE(商品名)，並使用CuKα射線作為X射線源，藉由廣角X射線繞射法測定X射線繞射光譜。作為測定條件，輸出定為40kV/40mA，狹縫系定為Div.Slit：0.3°，測定step(2θ)定為0.0171°，計測時間定為0.5秒/step。
測定源自繞射角2θ=7.9°附近觀察到的苯并呋喃系顏料之主峰的繞射角及半峰寬，使用前述式(1)所示之謝樂方程式，求出構成粒子的微晶尺寸。
針對下述製造例所使用的苯并呋喃系顏料Bk-1及藉由製造例1得到的Bk-2，使用BEL JAPAN(股)製高精度全自動氣體吸附裝置“BELSORP”36，在100℃真空除氣後，測定N2氣的液態氮溫度(77K)中之吸附等溫線，並將該等溫線以BET法分析，求出比表面積。
針對利用各實施例及比較例得到的著色膜，使用X-Rite公司製光學濃度計361TVisual，算出膜厚每1μm的OD值。
針對利用各實施例及比較例得到的著色膜，使用島津製作所(股)製紫外-可見分光光度計UV-3150，測定OD值成為4的膜厚中之波長400nm至700nm的光之透射率，並求出最大透射率。最大透射率越低，可見區域中之遮光性越優異。又，針對利用各實施例及比較例得到的著色膜，同樣地測定OD值成為4的 膜厚中之波長920nm至960nm的光之透射率，求出平均透射率。平均透射率越高，近紅外區域中之透光性越優異。
針對利用各實施例及比較例得到的著色膜，使用日本電色工業(股)製霧度計NDH7000(商品名)，測定OD值成為2的膜厚中之霧度值。霧度值越小，越可抑制透射光之散射。
針對利用各實施例及比較例得到的著色膜，使用高速分光橢圓偏光計(M-2000，J.A.Woollam公司製)，將入射角定為50°、60°及70°，使用WVASE32作為分析軟體，測定對於波長940nm之光的折射率。折射率越小，在近紅外線之透射率越高。
針對利用各實施例及比較例得到的著色膜，將Alpha Technology公司製紅外線攝像機模組Freemo配置於著色膜的背面，並針對得到的攝像機圖像，基於以下的基準進行評價。
A：可確認鮮明的圖像
B：可確認圖像，但輪廓不清楚
C：無法確認圖像。
針對利用各實施例及比較例得到的著色膜，使用Q-Lab公司製Q-SUN氙試驗機Xe-3，將Xe燈X-1800作為光源，以目 視觀察以波長420nm中之照度成為1.2W/m2的強度照射紫外線300小時後的著色膜之變色，並針對褪色之有無進行評價。
藉由日本專利第3120476號說明書的實施例1所記載之方法，合成甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸/苯乙烯共聚物(重量比30/40/30)。對於得到的共聚物100重量份，加成甲基丙烯酸環氧丙酯40重量份，以精製水再沈澱，並進行過濾及乾燥，藉以得到重量平均分子量15,000、酸價110mgKOH/g之鹼可溶性的丙烯酸樹脂(P-1)。此外，丙烯酸樹脂的酸價係定為用以中和丙烯酸樹脂1g所需要的氫氧化鉀之量(mg)(單位：mgKOH/g)；使用凝膠滲透層析(GPC)「HLC-8220GPC」(Tosoh(股)製試驗裝置)，將載體定為四氫呋喃，藉由聚苯乙烯換算而測定重量平均分子量。
準備BASF(股)製“Irgaphor”Black S0100CF(Bk-1)作為細微化的原料之雙苯并呋喃系顏料。將Bk-1的比表面積藉由上述的方法進行測定後為4m2/g。又，將Bk-1之2θ=7.90°的主峰之半峰寬藉由上述的方法進行測定後為0.145°，由該值算出的微晶尺寸為124nm。
將200g之上述Bk-1、2400g之氯化鈉及400g之二乙二醇投入捏合機(森山製作所(股)製，S型捏合機(商品名))，並在70℃混練8小時。接著，將該混練物投入約10L的溫水，一邊加熱至40℃，一邊以高速混合機攪拌1小時，成為漿 體狀。之後，過濾漿體，進行水洗，除去氯化鈉及二乙二醇，並在80℃真空乾燥24小時，得到雙苯并呋喃系顏料Bk-2。將得到之Bk-2的比表面積藉由上述的方法進行測定後為66m2/g。又，將Bk-2之2θ=7.90°的主峰之半峰寬藉由上述的方法進行測定後為0.261°，由該值算出的微晶尺寸為42nm。
將Bk-1及細微化其之Bk-2的評價結果示於表1。又，將X射線繞射變化曲線示於圖1。
將前述雙苯并呋喃酮系顏料Bk-1 120g、藉由合成例1得到的丙烯酸樹脂(P-1)之35重量%丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)溶液171g、作為高分子分散劑之聚醯胺系高分子分散劑“DISPERBYK”(註冊商標)2200(BYK-2200)20g及PGMEA689g加入至槽體，以均質機攪拌20分鐘，得到預備分散液。在具備填充珠粒徑0.30mmφ的氧化鋯珠粒75體積%之離心分離分離機的壽工業(股)製分散機Ultra Apex Mill UAM015，供給得到的預備分散液，並以旋轉速度12m/s進行分散處理20分鐘。接著，將分散處理後的液，供給至填充珠粒徑0.05mmφ的氧化鋯珠粒75體積%之Ultra Apex Mill UAM015，以旋轉速度8m/s進行分散處理90分鐘，得到固體成分濃度20重量%、著色材/(樹脂+高分子分散劑)(重量比)=60/40的著色材分散液DP-1。
使用藉由製造例1得到的雙苯并呋喃酮系顏料Bk-2，代替雙苯并呋喃酮系顏料Bk-1，除此以外係與製造例2同樣進行，得到預備分散液。在具備填充珠粒徑0.10mmφ的氧化鋯珠粒75體積%之離心分離分離機的壽工業(股)製分散機Ultra Apex Mill UAM015，供給得到的預備分散液，並以旋轉速度8m/s進行分散處理90分鐘，得到固體成分濃度20重量%、著色材/(樹脂+高分子分散劑)(重量比)=60/40的著色材分散液DP-2。
使用藉由製造例1得到的雙苯并呋喃酮系顏料Bk-2，代替雙苯并呋喃酮系顏料Bk-1，除此以外係與製造例2同樣進行，以多階段進行分散處理，得到著色材分散液(DP-3)。
使用丙烯酸系高分子分散劑“DISPERBYK”(註冊商標)-LP N21116(胺價=32mgKOH/g)，代替“DISPERBYK”(註冊商標)2200作為高分子分散劑，除此以外係與製造例4同樣進行，得到著色材分散液(DP-4)。
使用Bk-1作為苯并呋喃酮系顏料，使用“DISPERBYK”(註冊商標)-LP N21116作為高分子分散劑，使用珠粒徑0.30mmφ的氧化鋯珠粒作為分散珠粒，除此以外係與製造例3同樣進行，得到著色材分散液(DP-5)。
使用珠粒徑0.10mmφ的氧化鋯珠粒作為分散珠粒，除此以外係與製造例6同樣進行，得到著色材分散液(DP-6)。
使用藍色顏料(銅酞青素)PB15：6(東洋油墨製)作為著色材，除此以外係與製造例7同樣進行，得到著色材分散液(DP-7)。
使用藉由磺酸基修飾表面的碳黑(Cabot製TPK1227)作為著色材，除此以外係與製造例7同樣進行，得到著色材分散液(DP-8)。
將作為著色材之黑色染料OIL Black860(ORIENT CHEMICAL INDUSTRIES(股)製)120g、丙烯酸聚合物(P-1)之35重量%丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)溶液229g、及PGMEA651g加入至槽體，以均質機攪拌20分鐘，且溶解染料，得到固體成分濃度20重量%、著色材/樹脂(重量比)=60/40的著色材分散液(DP-9)。
將製造例2~10之組成與分散條件示於表2。
將丙烯酸聚合物(P-1)的35重量%PGMEA溶液29.83g、作為多官能單體之二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化藥(股)製)8.74g、作為密合改良劑之KBM5103(信越化學(股)製)0.4g、作為界面活性劑之矽酮系界面活性劑“BYK”333(BYK公司製)的10重量%PGMEA溶液0.3g溶解於33.65g之PGMEA而成的溶液，添加至27.08g之著色材分散液(DP-1)，得到總固體成分濃度25重量%、總固體成分中的著色材含量13重量%之著色樹脂組成物PC-1。
將得到的著色樹脂組成物PC-1，在無鹼玻璃基板(AN100)上，使用MIKASA(股)製旋轉器(1H-DS)進行塗布，將塗布膜於100℃的熱板上加熱乾燥2分鐘，得到乾燥膜。在熱風烘箱中於230℃將該乾燥膜進行後烘烤30分鐘，得到著色膜C-1。再者，作成改變膜厚，使著色膜C-1的OD值各自成為2及4之2種基板，並使用著色膜C-1之OD值為4的基板，進行遮光性之評價，使用著色膜C-1之OD值為2的基板，進行霧度值之評價。針對該著色膜C-1，將藉由前述的方法進行評價的結果示於表3。
使用著色材分散液(DP-2)代替著色材分散液(DP-1)，除此以外係與實施例1同樣進行，得到著色樹脂組成物PC-2。使用得到的著色樹脂組成物PC-2，與實施例1進行同樣的評價。將結果示於表3。
使用著色材分散液(DP-3)代替著色材分散液(DP-1)，除此以外係與實施例1同樣進行，得到著色樹脂組成物PC-3。使用得到的著色樹脂組成物PC-3，與實施例1進行同樣的評價。將結果示於表3。又，將著色膜的X射線繞射變化曲線示於圖2。
使用著色材分散液(DP-4)代替著色材分散液(DP-1)，除此以外係與實施例1同樣進行，得到著色樹脂組成物PC-4。使用得到的著色樹脂組成物PC-4，與實施例1進行同樣的評價。將結果示於表3。
將丙烯酸聚合物(P-1)之35重量%PGMEA溶液36.56g、作為多官能單體之二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化藥(股)製)9.72g、作為密合改良劑之KBM5103(信越化學(股)製)0.4g、作為界面活性劑之矽酮系界面活性劑“BYK”333(BYK公司製)的10重量%PGMEA溶液0.3g溶解於42.61g之PGMEA而成的溶液，添加至10.42g之著色材分散液(DP-3)，得到總固體成分濃度25重量%、總固體成分中的著色材含量5重量%之著色樹脂組成物PC-5。使用得到的著色樹脂組成物PC-5，與實施例1進行同樣的評價。將結果示於表3。
將丙烯酸聚合物(P-1)之35重量%PGMEA溶液19.75g、作為多官能單體之二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化藥(股)製)7.27g、作為密合改良劑之KBM5103(信越化學(股)製)0.4g、作為界面活性劑之矽酮系界面活性劑“BYK”333(BYK公司製)的10重量%PGMEA溶液0.3g溶解於20.20g之PGMEA而成的溶液，添加至52.08g之著色材分散液(DP-3)，得到總固體成分濃度25重量%、總固體成分中的著色材含量25重量%之著色樹脂組成物PC-6。使用得到的著色樹脂組成物PC-6，與實施例1進行同樣的評價。將結果示於表3。
將丙烯酸聚合物(P-1)之35重量%PGMEA溶液29.83g、作為多官能單體之二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化藥(股)製)8.74g、作為密合改良劑之KBM5103(信越化學(股)製)0.4g、作為界面活性劑之矽酮系界面活性劑“BYK”333(BYK公司製)的10重量%PGMEA溶液0.3g溶解於33.65g之PGMEA而成的溶液，添加至21.67g之著色材分散液(DP-3)與5.42g之藍色著色材分散液(DP-7)的混合溶液，得到總固體成分濃度25重量%、總固體成分中的著色材含量13重量%之著色樹脂組成物PC-7。使用得到的著色樹脂組成物PC-7，與實施例1進行同樣的評價。將結果示於表3。
使用16.25g之著色材分散液(DP-3)與10.83g之藍色著色材分散液(DP-7)的混合溶液作為著色分散液，除此以外係與實施 例7同樣進行，得到總固體成分濃度25重量%、總固體成分中的著色材含量13重量%之著色樹脂組成物PC-8。使用得到的著色樹脂組成物PC-8，與實施例1進行同樣的評價。將結果示於表3。
添加作為光聚合起始劑之“ADEKA ARKLS”(註冊商標)NCI-831(ADEKA(股)製)0.41g，除此以外係與實施例3同樣進行，得到總固體成分濃度25重量%、總固體成分中的著色材含量13重量%之著色樹脂組成物PC-9。將得到的著色樹脂組成物PC-9，在無鹼玻璃基板(AN100)上，使用MIKASA(股)製旋轉器(1H-DS)進行塗布，將塗布膜於100℃的熱板上加熱乾燥2分鐘。對於該乾燥膜，使用Union Optical光學(股)製光罩對準曝光機(PEM-6M)，對整面將紫外線以100mJ/cm2的曝光量進行曝光後，在熱風烘箱中於230℃進行後烘烤30分鐘，得到著色膜C-9。針對該著色膜C-9，與實施例1進行同樣的評價。將結果示於表3。
使用著色材分散液(DP-5)代替著色材分散液(DP-1)，除此以外係與實施例1同樣進行，得到著色樹脂組成物PC-10。使用得到的著色樹脂組成物PC-10，與實施例1進行同樣的評價。將結果示於表3。又，將著色膜的X射線繞射變化曲線示於圖2。
使用著色材分散液(DP-6)代替著色材分散液(DP-1)，除此以外係與實施例1同樣進行，得到著色樹脂組成物PC-11。使用得到的著色樹脂組成物PC-11，與實施例1進行同樣的評價。將結果示於表3。
使用著色材分散液(DP-8)代替著色材分散液(DP-1)，除此以外係與實施例1同樣進行，得到著色樹脂組成物PC-12。使用得到的著色樹脂組成物PC-12，與實施例1進行同樣的評價。將結果示於表3。
使用著色材分散液(DP-9)代替著色材分散液(DP-1)，除此以外係與實施例1同樣進行，得到著色樹脂組成物PC-13。使用得到的著色樹脂組成物PC-13，與實施例1進行同樣的評價。將結果示於表3。
可知：實施例的著色樹脂組成物，可見區域中之最大透射率低，近紅外區域中之平均透射率高，且霧度也低。另一方面，比較例1、2的著色樹脂組成物，近紅外區域中之平均透射率低，且霧度也高，得到的近紅外線攝像機圖像不清楚。又，在比較例3中，得不到近紅外線攝像機圖像，在比較例4中，於耐光性試驗後看到褪色。
本發明的著色樹脂組成物，可作為形成適於隱蔽近紅外線攝像機及感測器的近紅外線透射遮光膜之黑色加飾印墨而適當利用。
Claims (11)
- 一種著色樹脂組成物，其係含有(A)樹脂、(B)著色材及(C)有機溶劑之著色樹脂組成物，其中至少含有雙苯并呋喃酮系顏料作為該(B)著色材，且該著色樹脂組成物之硬化物所構成的著色膜中之雙苯并呋喃酮系顏料的微晶尺寸為10nm以上25nm以下，該(B)著色材的含量在總固體成分中為1~17重量%。
- 如請求項1之著色樹脂組成物，其係更含有藍著色材作為該(B)著色材。
- 如請求項2之著色樹脂組成物，其中該藍著色材為銅酞青素。
- 如請求項1至3中任一項之著色樹脂組成物，其係更含有聚醯胺系高分子分散劑。
- 如請求項4之著色樹脂組成物，其中該聚醯胺系高分子分散劑為具有包含聚酯鏈的側鏈之櫛型結構的聚醯胺系分散劑。
- 如請求項1至3中任一項之著色樹脂組成物，其係含有鹼可溶性樹脂作為該(A)樹脂，且更含有光聚合起始劑及自由基聚合性化合物。
- 一種如請求項1至6中任一項之著色樹脂組成物之製造方法，其係至少摻合(A)樹脂、(B)著色材及(C)有機溶劑的著色樹脂組成物之製造方法，作為該(B)著色材，使用微晶尺寸為10nm以上、90nm以下之雙苯并呋喃酮系顏料，並使用珠磨機使含有(A)樹脂、(B)著色材及(C)有機溶劑的樹脂溶液以多階段進行分散，藉此得到著色樹脂組成物。
- 一種近紅外線透射遮光膜，其係包含如請求項1至6中任一項之著色樹脂組成物之硬化物。
- 如請求項8之近紅外線透射遮光膜，其中相對於波長940nm的光之折射率為1.40以上、1.60以下。
- 一種加飾基板，其係具備基板及如請求項8或9之近紅外線透射遮光膜。
- 一種近紅外線感測器或近紅外線攝像機隱蔽用加飾面板用之加飾基板，其係具備基板及如請求項8或9之近紅外線透射遮光膜。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018-105802 | 2018-06-01 | ||
| JP2018105802 | 2018-06-01 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW202003721A TW202003721A (zh) | 2020-01-16 |
| TWI805769B true TWI805769B (zh) | 2023-06-21 |
Family
ID=68696977
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW108118499A TWI805769B (zh) | 2018-06-01 | 2019-05-29 | 著色樹脂組成物及其製造方法、近紅外線透射遮光膜及加飾基板 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20210179809A1 (zh) |
| EP (1) | EP3805822A4 (zh) |
| JP (1) | JP6958620B2 (zh) |
| CN (1) | CN112189154B (zh) |
| TW (1) | TWI805769B (zh) |
| WO (1) | WO2019230684A1 (zh) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023022199A1 (ja) * | 2021-08-18 | 2023-02-23 | 積水化学工業株式会社 | 近赤外線透過黒色粒子 |
| US20240084147A1 (en) * | 2022-09-14 | 2024-03-14 | Raytheon Company | Water-based acrylic latex paint transmissive in the nir and swir bands |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW201641612A (zh) * | 2015-05-22 | 2016-12-01 | Fujifilm Corp | 著色組成物、膜、彩色濾光片、圖案形成方法、彩色濾光片的製造方法、固體攝像元件及紅外線感測器 |
| CN107966877A (zh) * | 2012-12-27 | 2018-04-27 | 富士胶片株式会社 | 彩色滤光片用组合物 |
Family Cites Families (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3120476B2 (ja) | 1991-02-26 | 2000-12-25 | 東レ株式会社 | カラーフィルタ用着色ペースト |
| JP3718915B2 (ja) * | 1995-10-16 | 2005-11-24 | 味の素株式会社 | 顔料分散剤 |
| JP5092326B2 (ja) * | 2005-09-26 | 2012-12-05 | 三菱化学株式会社 | 色材分散液、着色樹脂組成物、カラーフィルタ、及び液晶表示装置 |
| RU2500696C9 (ru) * | 2007-07-19 | 2014-08-10 | Басф Се | Оик-инертные субстраты, содержащие бис-оксодигидроиндолиленбензодифураноны |
| JP2010111750A (ja) * | 2008-11-05 | 2010-05-20 | Fujifilm Corp | 光吸収性組成物 |
| US9214004B2 (en) | 2008-12-18 | 2015-12-15 | Vmware, Inc. | Watermarking and scalability techniques for a virtual desktop planning tool |
| EP2387598B1 (en) | 2009-01-19 | 2014-06-04 | Basf Se | Black matrix for colour filters |
| US20150059325A1 (en) | 2013-09-03 | 2015-03-05 | Caterpillar Inc. | Hybrid Apparatus and Method for Hydraulic Systems |
| JP6330412B2 (ja) * | 2014-03-26 | 2018-05-30 | 東レ株式会社 | 遮光膜形成基板及びタッチパネル |
| KR101966125B1 (ko) * | 2014-05-01 | 2019-04-05 | 후지필름 가부시키가이샤 | 착색 조성물, 막, 컬러 필터, 패턴 형성 방법, 컬러 필터의 제조 방법, 고체 촬상 소자 및 적외선 센서 |
| JP6325097B2 (ja) * | 2014-05-27 | 2018-05-16 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および赤外線センサ |
| JP6537320B2 (ja) | 2015-03-30 | 2019-07-03 | 株式会社トッパンインフォメディア | 赤外透過及び可視隠蔽用積層体 |
| WO2017043428A1 (ja) * | 2015-09-10 | 2017-03-16 | 積水化学工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、平坦化膜、ブラックマトリックス、カラーフィルター、及び、表示素子 |
| KR102129747B1 (ko) * | 2016-08-18 | 2020-07-03 | 후지필름 가부시키가이샤 | 조성물, 경화막, 적외선 투과 필터, 고체 촬상 소자 및 적외선 센서 |
| JP6691604B2 (ja) * | 2016-08-30 | 2020-04-28 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、固体撮像素子、赤外線センサ、硬化膜の製造方法、及び、カラーフィルタの製造方法 |
| WO2018056127A1 (ja) * | 2016-09-20 | 2018-03-29 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線吸収有機顔料、顔料分散液、硬化性組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、積層体、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
| KR102219156B1 (ko) * | 2016-09-27 | 2021-02-23 | 후지필름 가부시키가이샤 | 드라이 에칭용 조성물, 키트, 패턴 형성 방법 및 광학 필터의 제조 방법 |
| WO2018061583A1 (ja) * | 2016-09-29 | 2018-04-05 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、硬化膜、カラーフィルタ、固体撮像素子、赤外線センサ、近赤外線センサ、及び、近接センサ |
| JP2017116955A (ja) * | 2017-03-03 | 2017-06-29 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線透過フィルタ用組成物、赤外線透過フィルタ、赤外線透過フィルタの製造方法、及び、赤外線センサー |
-
2019
- 2019-05-28 WO PCT/JP2019/021004 patent/WO2019230684A1/ja unknown
- 2019-05-28 CN CN201980034750.1A patent/CN112189154B/zh active Active
- 2019-05-28 JP JP2019529274A patent/JP6958620B2/ja active Active
- 2019-05-28 EP EP19812017.2A patent/EP3805822A4/en active Pending
- 2019-05-28 US US17/052,598 patent/US20210179809A1/en active Pending
- 2019-05-29 TW TW108118499A patent/TWI805769B/zh active
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107966877A (zh) * | 2012-12-27 | 2018-04-27 | 富士胶片株式会社 | 彩色滤光片用组合物 |
| TW201641612A (zh) * | 2015-05-22 | 2016-12-01 | Fujifilm Corp | 著色組成物、膜、彩色濾光片、圖案形成方法、彩色濾光片的製造方法、固體攝像元件及紅外線感測器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP6958620B2 (ja) | 2021-11-02 |
| CN112189154A (zh) | 2021-01-05 |
| KR20210016348A (ko) | 2021-02-15 |
| US20210179809A1 (en) | 2021-06-17 |
| WO2019230684A1 (ja) | 2019-12-05 |
| EP3805822A1 (en) | 2021-04-14 |
| EP3805822A4 (en) | 2022-05-11 |
| CN112189154B (zh) | 2022-08-12 |
| JPWO2019230684A1 (ja) | 2021-06-03 |
| TW202003721A (zh) | 2020-01-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US10095107B2 (en) | Composition and fabricating method thereof, and infrared ray sensor | |
| JP6569220B2 (ja) | タッチパネル用黒色樹脂組成物 | |
| JP2012007121A (ja) | 化合物及び着色組成物 | |
| TWI530758B (zh) | 用於濾色器之光敏性樹脂組成物及使用該組成物之濾色器 | |
| JP5609229B2 (ja) | 化合物及び該化合物を含む着色感光性樹脂組成物 | |
| TWI805769B (zh) | 著色樹脂組成物及其製造方法、近紅外線透射遮光膜及加飾基板 | |
| TWI631189B (zh) | 彩色濾光片用顏料組成物及彩色濾光片 | |
| JP7111250B2 (ja) | 黒色樹脂組成物、近赤外線透過遮光膜、加飾基板、加飾フィルムおよび有機ｅｌディスプレイ用の着色隔壁 | |
| TWI648353B (zh) | 著色組成物及其製造方法與用途、著色硬化膜及顯示元件 | |
| TWI522744B (zh) | 用於彩色濾光片的光敏樹脂組合物及使用其的彩色濾光片 | |
| WO2023067962A1 (ja) | 着色樹脂組成物、着色膜、加飾基板 | |
| KR102667981B1 (ko) | 착색 수지 조성물과 그의 제조 방법, 근적외선 투과 차광막 및 장식 기판 | |
| JP5950682B2 (ja) | オキシム系光重合開始剤及びその使用方法 | |
| EP2275495B1 (en) | Curable composition comprising a metal phthalocyanine dye mixture, color filter, and method for producing color filter | |
| JP2011202025A (ja) | 固体分散液、着色感光性組成物、インクジェット用インク、カラーフィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、表示装置、並びに金属錯体化合物及びその互変異性体 | |
| EP4043527A1 (en) | Colored resin composition | |
| TWI825269B (zh) | 黃色著色硬化性組成物 | |
| JP2010176077A (ja) | 染料含有ネガ型硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法 | |
| JP2023030340A (ja) | 自発光型表示装置用基板および自発光型表示装置用基板の製造方法 | |
| JP2010275532A (ja) | 化合物 | |
| KR20220136211A (ko) | 적색 착색 조성물 | |
| JP2022112699A (ja) | 着色樹脂組成物、遮光膜、加飾基板及び加飾フィルム | |
| KR20200025833A (ko) | 착색 감광성 수지 조성물 | |
| TW201314361A (zh) | 顏料組成物及彩色濾光片 |