TWI805678B - 記錄方法、記錄裝置、再生方法、再生裝置及高速響應元件 - Google Patents

記錄方法、記錄裝置、再生方法、再生裝置及高速響應元件 Download PDF

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Abstract

本發明係提出一種記錄方法及記錄裝置，即使是將具有高保磁力的ε型氧化鐵粒子用作為磁性記錄材料之磁性記錄媒體，仍可容易地記錄資訊。本發明的記錄裝置10係構成為，對含有ε型氧化鐵粒子的粒子分散體1施加令ε型氧化鐵粒子的磁化3傾斜的外部磁場Ho，照射令磁化3激發的光L1。藉此，記錄裝置10係藉由磁化3的傾斜與磁化3的光激發之協同作用而能夠令僅憑外部磁場反轉不了的磁化3反轉。

Description

記錄方法、記錄裝置、再生方法、再生裝置及高速響應元件
本發明係有關記錄方法、記錄裝置、再生方法、再生裝置及高速響應元件，係適用於使用ε(epsilon)型氧化鐵粒子的磁性記錄媒體等。
在磁性記錄媒體的領域，係著眼於記錄的高密度化而期望磁性粒子的微小化，近年來，使用能夠實現磁性粒子之微小化的ε型氧化鐵粒子之磁性記錄媒體係受到矚目。伴隨磁性粒子的微小化，能夠使信號的S/N比(Signal/Noise Ratio；訊號/雜訊比)提高，但同時，咸信磁化的熱安定性係與磁異向性常數及粒子體積成比例，故因微小化而有損磁化的熱安定性。
此處，咸信磁異向性常數係能夠藉由提高磁性記錄媒體的保磁力來增加。因此，為了獲得粒子體積(粒徑)小且熱安定性高的粒子，將保磁力高的物質用作為磁性材料是有效的。例如，本發明的發明人們係已在後述之專利文獻1及非專利文獻1至4中揭示了一種 ε型氧化鐵粒子，在藉由施加平行於易磁化軸的配向方向之方向的外部磁場而量測的磁滯迴線(hysteresis loop)中，係觀測到了超過20kOe(1.59×106A/m)的保磁力Hc。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1 日本國特許第5124825號公報
非專利文獻
非專利文獻1 S. Ohkoshi, A. Namai, K. Imoto, M. Yoshikiyo, W. Tarora, K. Nakagawa, M. Komine, Y. Miyamoto, T. Nasu, S. Oka, and H. Tokoro, Scientific Reports, 5, 14414/1-9 (2015).
非專利文獻2 S. Sakurai, A. Namai, K. Hashimoto, and S. Ohkoshi, J. Am. Chem. Soc., 131, 18299-18303 (2009).
非專利文獻3 A. Namai, S. Sakurai, M. Nakajima, T. Suemoto, K. Matsumoto, M. Goto, S. Sasaki, and S. Ohkoshi, J. Am. Chem. Soc., 131, 1170-1173 (2009).
非專利文獻4 A. Namai, M. Yoshikiyo, K. Yamada, S. Sakurai, T. Goto, T. Yoshida, T Miyazaki, M. Nakajima, T. Suemoto, H. Tokoro, and S. Ohkoshi, Nature Communications, 3, 1035/1-6 (2012).
然而，當將磁性記錄媒體的保磁力Hc提高時，係必須使用具有高程度(level)飽和磁通密度的磁頭(magnetic head)來產生高外部磁場以將資訊記錄至磁性記錄媒體。一般咸認為磁頭產生的外部磁場係與所使用的軟磁性膜的飽和磁通密度成比例，目前已有人提出具有1.5kOe至4.5kOe(1.19×105A/m至3.58×105A/m)程度之保磁力Hc的硬碟(hard disc)，而在該些硬碟的記錄寫入用的磁頭中係使用飽和磁通密度具有諸如2.4T之高飽和磁通密度的材料。
如在上述的專利文獻1中所見，當將具有20kOe(1.59×106A/m)程度之巨大保磁力Hc的ε型氧化鐵粒子用於磁性記錄媒體的磁性記錄材料時，係有若不存在具有比現狀更高之飽和磁通密度的材料便難以將資訊記錄至磁性記錄媒體的問題。
有鑒於上述，本發明係考慮上述之點而研創，目的在於提案一種記錄方法及記錄裝置，即使是將具有高保磁力的ε型氧化鐵粒子用作為磁性記錄材料之磁性記錄媒體，仍可容易地記錄資訊。
此外，目的在於提案一種再生方法及再生裝置，即使在使用ε型氧化鐵粒子作為磁性記錄材料的磁性記錄媒體以多值的方式記錄有資訊，仍可再生該資訊。
此外，近年來發現了ε型氧化鐵粒子的新特性，利用該特性的新型元件之開發亦備受期待。本發明係亦針對上述之點進行考慮而研創，目的在於提案使用ε型氧化鐵粒子的新型高速響應元件。
為了解決上述課題，本發明的記錄方法係對將ε型氧化鐵粒子用作磁性記錄材料的磁性記錄媒體進行外部磁場的施加與光的照射，藉此令前述ε型氧化鐵粒子的磁化反轉。
此外，本發明的記錄裝置係具備：磁場施加部，係對含有ε型氧化鐵粒子的磁性記錄媒體施加外部磁場；及光照射部，係對前述磁性記錄媒體照射光；藉由前述外部磁場與前述光令前述ε型氧化鐵粒子的磁化反轉。
此外，本發明的再生方法係針對將ε型氧化鐵粒子用作磁性記錄材料且能夠以多值的方式記錄資訊的磁性記錄媒體，檢測前述磁性記錄媒體的磁化，根據從前述磁性記錄媒體檢測出的前述磁化的強度，再生與前述磁化的強度相應的資訊。
此外，本發明的再生裝置係具備：檢測部，係針對將ε型氧化鐵粒子用作磁性記錄材料且能夠以多值的方式記錄資訊的磁性記錄媒體，檢測前述磁性記錄媒體的磁化；及資訊再生部，係根據從前述磁性記錄媒體檢測出的前述磁化的強度，再生與前述磁化的強度相應的資訊。
此外，本發明的高速響應元件係含有ε型氧化鐵粒子，照射到兆赫(terahertz)光的時序(timing)而響應磁化狀態。
依據本發明，對使用ε型氧化鐵粒子的磁性記錄媒體照射光，藉此，相較於不照射光時，能夠降低使磁化反轉時所需的外部磁場。藉此，即使是使用具有高保磁力的ε型氧化鐵粒子之磁性記錄媒體，藉由照射光，仍能夠以低外部磁場容易地記錄資訊。
此外，依據本發明的再生方法及再生裝置，在以外部磁場與光記錄資訊時，即使改變光的強度且以多值的方式在磁性記錄媒體記錄資訊，仍能夠藉由檢測磁化的強度而將多值性的資訊再生。
此外，依據本發明，能夠實現依據被照射兆赫光的時序而高速地響應磁化狀態之新型高速響應元件。
1‧‧‧粒子分散體(磁性記錄媒體)
10‧‧‧記錄裝置
11‧‧‧磁場施加部
12‧‧‧光照射部
15‧‧‧再生裝置
16‧‧‧檢測部
17‧‧‧資訊再生部
圖1係顯示本發明的記錄裝置的全體構成之概略圖。
圖2係供說明施加外部磁場時的粒子分散體之用的概略圖。
圖3係供說明照射光時的粒子分散體之用的概略圖。
圖4係顯示磁化反轉而記錄資訊的粒子分散體的構成之概略圖。
圖5係顯示磁化反轉過程(process)的位能(energy potential)(光照射前)之概略圖。
圖6係顯示磁化反轉過程的位能(外部磁場施加時)及藉由光照射進行的磁化反轉之概略圖。
圖7係顯示分級後的粉末試料的粒徑的變異之圖表(graph)。
圖8係顯示粒子分散體的X射線繞射圖譜(pattern)之圖表。
圖9係顯示300K時的粒子分散體的磁滯的量測結果之圖表。
圖10係顯示粒子分散體的UV-vis吸收光譜(spectrum)的波長依存性之圖表。
圖11係顯示粒子分散體的磁化的外部磁場依存性與在光照射後的磁化的變化之圖表，圖11A為外部磁場±50kOe之區域的圖表，圖11B為將圖11A的一部分放大的圖表。
圖12係顯示粒子分散體的法拉第(Faraday)橢圓率的波長依存性之圖表。
圖13係顯示波長390nm(nanometer；奈米)的法拉第橢圓率的外部磁場依存性與在8.1mJ/pulse的光照射後的法拉第橢圓率的變化之圖表。
圖14係顯示波長390nm的法拉第橢圓率的外部磁場依存性與在12.7mJ/pulse的光照射後的法拉第橢圓率的變化之圖表。
圖15係顯示波長390nm的法拉第橢圓率的外部磁場依存性與在16.0mJ/pulse的光照射後的法拉第橢圓率的變化之圖表。
圖16係顯示再生裝置的構成之方塊圖(block diagram)。
圖17係顯示高速響應元件的構成之概略圖。
圖18係顯示對高速響應元件照射兆赫光時的樣子之概略圖。
圖19係供說明對高速響應元件照射脈衝兆赫光的驗證試驗之用的概略圖。
圖20係顯示在對高速響應元件從兩個磁化方向照射脈衝兆赫光時的法拉第旋轉角的量測結果之圖表。
圖21係顯示法拉第旋轉角對脈衝兆赫光的響應性之圖表。
以下，根據圖式，詳述本發明的實施形態。
(1)本發明的記錄裝置中作為磁性記錄材料使用的ε型氧化鐵粒子
在本發明的記錄裝置中，就磁性記錄媒體而言，較佳為適用將具有高保磁力Hc的ε型氧化鐵粒子用作為磁性記錄材料之磁性記錄媒體。在本發明中，即使將具有高保磁力Hc的ε型氧化鐵粒子用作為磁性記錄材料，藉由照射光，能夠不使用具有高程度飽和磁通密度的磁頭而仍以低外部磁場使磁化反轉來記錄資訊。
此處，首先針對本實施形態中所使用的具有高保磁力Hc的ε型氧化鐵粒子，於以下進行說明。就 ε型氧化鐵粒子而言，較佳為通式是以ε-Fe2O3、ε-AxFe2-xO3(A為Fe以外的元素，x的範圍為0<x<2)、ε-ByCzFe2-y-zO3(此處的B及C為A及Fe以外的元素且為互異的元素，y的範圍為0<y<1，z的範圍為0<z<1)、ε-DUEVFWFe2-U-V-WO3(此處的D、E及F為A及Fe以外的元素且為互異的元素，U的範圍為0<U<1，V的範圍為0<V<1，W的範圍為0<W<1)表示之晶體的其中任一者。
ε-AxFe2-xO3乃係晶體系及空間群與ε-Fe2O3相同且將ε-Fe2O3晶體的Fe位(site)的一部分以Fe以外的元素A取代而成。為了保持ε-Fe2O3的晶體結構安定，就A而言較佳為使用3價的元素。此外，就A而言係能夠舉出從Al、Sc、Ti、V、Cr、Ga、In、Y、Rh當中選擇的1種元素。
ε-ByCzFe2-y-zO3乃係晶體系及空間群與ε-Fe2O3相同且將ε-Fe2O3晶體的Fe位的一部分以Fe以外的2種元素B、C取代而成。為了保持ε-Fe2O3的晶體結構安定，就B而言較佳為使用4價的元素、就C而言較佳為使用2價的元素。此外，就B而言係能夠舉出Ti、就C而言係能夠舉出從Co、Ni、Mn、Cu及Zn當中選擇的1種元素。
ε-DUEVFWFe2-U-V-WO3乃係晶體系及空間群與ε-Fe2O3相同且將ε-Fe2O3晶體的Fe位的一部分以Fe以外的3種元素D、E、F取代而成。為了保持ε-Fe2O3的晶體結構安定，就D而言較為使用3價的元素、就E 而言較佳為使用4價的元素、就F而言較佳為使用2價的元素。就D而言係能夠舉出從Al、Sc、Ti、V、Cr、Ga、In、Y、Rh當中選擇的1種元素。此外，就E而言係能夠舉出Ti、就F而言係能夠舉出從Co、Ni、Mn、Cu及Zn當中選擇的1種元素。
另外，之所以在上述的A、B、C、D、E及F排除Fe，係為了將ε-Fe2O3的Fe3+離子位的一部分以1種或互異的2種、3種的元素取代之故。此處，ε型氧化鐵粒子的粒徑並無特別限定，但例如從TEM(Transmission Electron Microscope；穿透式電子顯微鏡)影像測量得的平均粒徑較佳為在5nm至200nm的範圍，為了提高磁性記錄媒體的記錄密度，平均粒徑更較佳為100nm以下、再較佳為50nm以下、再更佳為20nm以下。
上述該些ε型氧化鐵粒子乃係公知的粒子。由將Fe位的一部分以Fe以外的1種元素A、2種元素B、C、3種元素D、E、F分別取代而成的ε-AxFe2-xO3、ε-ByCzFe2-y-zO3、ε-DUEVFWFe2-U-V-WO3其中任一者的晶體組成的ε型氧化鐵粒子，係例如能夠以逆微胞法(reverse micelle method)與溶膠凝膠法(sol-gel method)組合而成的步驟及燒成步驟來合成。此外，如日本國特開2008-174405號公報所揭示，能夠以直接合成法與溶膠凝膠法組合而成的步驟及燒成步驟來合成。
另外，關於更具體的製造方法，係例如已揭示於屬於公知文獻的「Jian Jin,Shinichi Ohkoshi and Kazuhito Hashimoto,ADVANCED MATERIALS 2004,16,No.1、January 5,p.48-51」和「Shin-ichi Ohkoshi,Shunsuke Sakurai,Jian Jin,Kazuhito Hashimoto,JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,97,10K312(2005)」，故在此省略其說明。
(2)含有ε型氧化鐵粒子的粒子分散體
用於本實施形態的記錄裝置的粒子分散體係例如以如下述的方式製造。將令上述的ε型氧化鐵粒子分散於預定的溶媒而得的分散液配置於基體上。例如，在玻璃基板上貼附聚酯膜(polyester film)，將分散液滴至該膜上。從提高配向的確實性的觀點來看，將配置到基體上的分散液置於2特斯拉(tesla；T)以上的磁通密度下令分散液硬化，藉此，能夠獲得膜狀的粒子分散體。另外，如上述的膜狀的粒子分散體的詳細製造方法係已揭示於日本國特開2016-135737號公報，故在此省略其說明。
如上述方式製造的粒子分散體係例如較佳為以配向度=SQ(易磁化軸方向)/SQ(難磁化軸方向)定義的磁性粒子的配向度之值係超過0.6。此外，令ε型氧化鐵粒子的易磁化軸朝預定方向配向而得的粒子分散體係較佳為室溫下的保磁力Hc為3kOe(2.39×105A/m)以上。
(3)利用光的記錄裝置 (3-1)利用光的記錄裝置的構成
接著，針對前述能夠將資訊記錄至具有高保磁力Hc的粒子分散體之記錄裝置，於以下進行說明。圖1係顯示本發明的記錄裝置10。記錄裝置10係具備磁場施加部11及光照射部12，使用該些磁場施加部11及光照射部12，改變粒子分散體1的磁化方向而能夠記錄資訊。
磁場施加部11係具有第1線圈(coil)部11a及第2線圈部11b，藉由讓電流流至第1線圈部11a及第2線圈部11b，而例如形成從第1線圈部11a朝向第2線圈部11b的外部磁場Ho。此外，在本實施形態的情形中，第1線圈部11a及第2線圈部11b係具有貫通至與記錄面相對向的相對向面之厚度的貫通孔13，第1線圈部11a的貫通孔13與第2線圈部11b的貫通孔13係相對向配置。
在第1線圈部11a及第2線圈部11b之間，係配置成使粒子分散體1的記錄面的面方向位在垂直於外部磁場Ho的外部磁場方向x。藉此，粒子分散體1的記錄面被垂直地施加外部磁場Ho。此外，在本實施形態的情形中，粒子分散體1係配置在第1線圈部11a及第2線圈部11b的相對向的貫通孔13間。
光照射部12係照射作為磁性記錄材料使用的ε型氧化鐵粒子能夠吸收的波長的光L1。從光照射部12射出的光L1係除了連續性的雷射(laser)光之外，亦可為脈衝(pulse)雷射光，此外，亦可為紫外線(280nm以上且小於400nm)或可見光線(400nm以上且780nm以下)。
光照射部12係朝第1線圈部11a及第2線圈部11b的貫通孔13照射光L1，經由第1線圈部11a的貫通孔13將光L1照射至粒子分散體1的記錄面。經由第1線圈部11a的貫通孔13照射至粒子分散體1的記錄面的光L1係穿透記錄面，從第2線圈部11b的貫通孔13射出往外側。
如上述，在記錄裝置10中，照射至粒子分散體1的記錄面的光L1係直接從第2線圈部11b的貫通孔13穿出往外側，藉此，抑制光L1在第1線圈部11a及第2線圈部11b間的漫射，能夠防止光L1對照射部位以外產生影響。藉此，光照射部12係能夠對粒子分散體1的記錄面僅在記錄面的必要部位照射光L1。如上述，在記錄裝置10中，能夠一邊藉由磁場施加部11施加外部磁場Ho，一邊對正施加有外部磁場Ho的粒子分散體1的預定區域照射光L1。
另外，在圖1中雖係採用四邊狀的粒子分散體1，但例如亦可使用帶狀的粒子分散體1。此時，令粒子分散體1的長邊方向沿與外部磁場方向x正交的預定方向y搬送，藉此，能夠對粒子分散體1進行資訊的連續性記錄。
(3-2)利用光對粒子分散體記錄資訊的記錄方法的概要
接著，針對對含有ε型氧化鐵粒子的粒子分散體1記錄資訊的記錄方法的概要，亦包含粒子分散體1內的磁化3的配向狀態，於以下進行說明。圖1中的區塊 (area)ER係顯示將粒子分散體1的局部區域抽出的剖面構成，乃係顯示在剖面簡略性地顯示磁化3之示意圖。如圖1的區塊ER內所示，在未施加有外部磁場Ho時，ε型氧化鐵粒子的磁化3係例如磁化方向係沿與外部磁場方向x相反之方向(以下，稱為初始配向方向)x1配向。
接著，如圖2所示，當朝外部磁場方向x施加外部磁場Ho時，在粒子分散體1中，在被施加外部磁場Ho的區域ER1的磁化3便受外部磁場Ho的影響而相對於粒子分散體1的厚度方向傾斜預定角度。在本實施形態的情形中，由於作為磁性記錄材料使用的ε型氧化鐵粒子具有高保磁力Hc，故僅藉由磁場施加部11施加的外部磁場Ho係難以使磁化3反轉180度，磁化3係止於傾斜，無法記錄資訊。
在本實施形態的情形中，並非僅有外部磁場Ho的施加，而是如圖3所示，在沿外部磁場方向x被施加外部磁場Ho的狀態下，還對粒子分散體1照射來自於光照射部12的光L1。光L1的照射區域ER2內因外部磁場Ho而傾斜的磁化3係因為光L1而被激發。如上述方式，記錄裝置10係事先施加外部磁場Ho讓磁化3的方向傾斜，再藉由光L1的照射令磁化3激發，藉此，由光L1輔助(assist)磁化反轉，而如圖4所示，使磁化方向從初始配向方向x1反轉180度。
如此一來，在被施加外部磁場Ho且被照射光L1的區域ER3內的磁化3，係磁化方向成為從初始配向方向x1朝向反轉180度後的反轉方向x2且記錄有資訊的狀態。
此處，針對藉由外部磁場Ho的施加與光L1的照射將磁化3反轉的現象(以下，亦稱為磁化反轉過程)，利用圖5及圖6，從位能(potential energy)的觀點，於以下進行說明。
圖5係顯示沒有施加外部磁場Ho且沒有照射光L1時的位能。在圖5中，於橫軸表示以朝向初始配向方向x1時的磁化安定位置的磁化方向為0度、以磁化反轉時的磁化安定位置的磁化方向為180度。此時，能量最小部部位係出現在0度附近與180度附近，在該些0度與180度之間出現磁化反轉的能量障壁。
0度附近的磁化係因能量障壁而無法反轉。然後，當施加外部磁場Ho時，如圖6所示，位能便變化，0度附近的位能上升並且180度附近的位能下降，在180度附近出現能量最小部部位。然而，在0度與180度之間仍存在磁化反轉的能量障壁，0度的磁化方向係維持不變。
在該狀態中，當照射光L1，如圖6所示，由於賦予跨越磁化反轉的能量障壁之能量，便磁化反轉，反轉方向x2即180度附近係成為磁化安定位置。
另外，在上述的實施形態中，係針對構成為一邊對粒子分散體1施加外部磁場Ho一邊對該粒子分散體1照射光L1的情形進行說明，但本發明並不限於此。例如，緊接於對粒子分散體1施加外部磁場Ho結束後，在粒子分散體1內的磁化3傾斜的期間照射光L1，藉此，能夠以光L1輔助磁化3的反轉。
此外，在上述的實施形態中，係針對構成為對粒子分散體1於一開始施加外部磁場Ho再對施加有外部磁場Ho的對粒子分散體1照射光L1的情形進行說明，但本發明並不限於此。例如，亦可構成為，對粒子分散體1於一開始照射光L1再對正照射光L1的粒子分散體1施加外部磁場Ho，藉此，以外部磁場Ho輔助磁化3的反轉。如上述，即使將外部磁場Ho的施加與光L1的照射的順序顛倒，仍能夠降低使磁化3反轉時所需的外部磁場Ho之值。
另外，在即使將外部磁場Ho的施加與光L1的照射的順序顛倒的情形中，例如，緊接於對粒子分散體1照射光L1結束後，在粒子分散體1內磁化3受到光激發的期間施加外部磁場Ho，藉此，同樣能夠以外部磁場Ho輔助磁化3的反轉。
(3-3)作用及效果
在上述的構成中，在記錄裝置10中，在對將ε型氧化鐵粒子用作磁性記錄材料的粒子分散體1記錄資訊時，對粒子分散體1施加令ε型氧化鐵粒子的磁化3傾斜的外部磁場Ho，此外還照射光L1。藉此，記錄裝置10係藉由磁化3的傾斜與磁化3的光激發之協同作用而能夠令僅憑外部磁場反轉不了的磁化3反轉。
如上述，在記錄裝置10中，藉由對使用ε型氧化鐵粒子的粒子分散體1照射光L1，與不照射光L1時相比，較能降低使磁化3反轉時所需的外部磁場Ho 之值。因此，即使為使用具有高保磁力Hc的ε型氧化鐵粒子之粒子分散體1，仍能夠以低的外部磁場Ho容易地記錄資訊。
(3-4)驗證試驗
接著，製作將具有高保磁力Hc的ε型氧化鐵粒子用作為磁性記錄材料之膜狀的粒子分散體，進行藉由照射光是否能夠降低使磁化反轉時所需的外部磁場Ho之驗證試驗。此處，首先，依下述的程序，製作由ε-Ga0.27Ti0.05Co0.07Fe1.61O3的晶體組成的ε型氧化鐵粒子。
(3-4-1)粉末試料
令藉由既知的方法合成出的由ε-Ga0.27Ti0.05Co0.07Fe1.61O3的晶體組成的ε型氧化鐵粒子分散於由四甲基氫氧化銨(TMAH；tetramethyl ammonium hydroxide)組成的分散液中，藉由離心分離處理進行分級，獲得粒徑一致的粉末試料。針對該粉末試料，以穿透式電子顯微鏡(TEM)觀察後，確認了是球狀粒子。
此外，調查該粉末試料的粒徑後，獲得如圖7所示的結果。如圖7所示，粉末試料的平均粒徑為19.2nm±4.2nm，確認了具有良好的均一粒徑分布。
(3-4-2)粒子分散體的製作
接著，使用經分級得的粉末試料，製作用於驗證試驗的粒子分散體1。在粒子分散體1的製作中，作為粒子分散體用的樹脂，製備混合胺甲酸乙酯(urethane)樹脂與氯乙烯樹脂而成的混合物，製作令該混合物與經分級得的粉末試料分散於預定溶媒中而成的分散液。接著，將分散液持續滴至聚酯膜(亦有簡稱為膜)，置於2T的磁通密度下使分散液乾燥，藉此，獲得分散液硬化而成的透明的粒子分散體1。另外，此時，膜係以使磁通密度沿垂直方向作用的方式配置。
調查所製得的粒子分散體1的X射線繞射圖譜後，獲得如圖8所示的結果。如圖8所示，檢測出對應於200的反射峰值(peak)。此外，針對所製得的粒子分散體1調查配向度後，確認了洛特格林(Lotgering)值為0.84的高值，具有優異的配向性。
接著，在300K，對粒子分散體1的記錄面沿垂直方向施加外部磁場(H0)，量測粒子分散體1的磁滯後，獲得如圖9所示的結果。粒子分散體1的保磁力Hc為3.3kOe(2.63×105A/m)，磁滯曲線方形比顯示為0.737的高值。
接著，使用日本分光股份有限公司製的紫外可見近紅外分光光譜儀JASCO V-670量測粒子分散體1的紫外線及可見光線的吸收光譜後，獲得如圖10所示的結果。從圖10確認了該粒子分散體1係吸收紫外線到波長約600nm的可見光線為止範圍的光。
(3-4-3)使用超導量子干涉儀(SQUID；Superconducting Quantum Interference Device)的雷射光照射實驗
接著，針對所製得的粒子分散體1，進行使用SQUID的雷射光照射實驗。此處，使用光纖將在圖10中確認了粒子分散體1會吸收的波長410nm的CW(continuous wave；連續波)雷射光導入SQUID。在該光纖的前端係安裝粒子分散體1，構成為能夠將CW雷射光照射至粒子分散體1。
首先，量測照射CW雷射光前之在300K時的粒子分散體1的磁滯後，獲得如圖11A及圖11B所示的結果。圖11B乃係將圖11A的一部分放大之圖。在圖11A及圖11B中係以黑點表示照射CW雷射光之前的量測結果。在圖11A及圖11B中，雖然部分被白圈擋住，但有量測得方形的磁滯。
接著，在施加外部磁場Ho達+50kOe(+3.98×106A/m)後，從+50kOe(+3.98×106A/m)掃至-2kOe(-1.59×105A/m)，在已施加-2kOe(-1.59×105A/m)的外部磁場Ho的狀態下對粒子分散體1照射波長410nm的CW雷射光。結果，如圖11A及圖11B所示，磁化開始減少，確認了磁化反轉。接著，從已磁化反轉的狀態，將外部磁場Ho從-2kOe(-1.59×105A/m)掃至-50kOe(-3.98×106A/m)後，再次持續提高外部磁場Ho，量測到與光照射前幾乎相同的磁滯。另外，圖11A及圖11B中，白圈係代表光照射後的量測結果。
從以上的結果，確認了以約-2kOe(-1.59×105A/m)的外部磁場Ho獲得了在光照射前是以約-4kOe(-3.2×105A/m)附近的外部磁場Ho獲得的磁化反轉。因此，確認了即使降低外部磁場Ho的絕對值，藉由進行光照射，以CW雷射光輔助磁化反轉而仍可做到磁化反轉。從上述，可以說在使用具有高保磁力Hc的ε型氧化鐵粒子之粒子分散體1亦確認了熱輔助磁化記錄(HAMR；Heat Assisted Magnetic Recording)的有效性。
(3-4-4)使用法拉第效應量測裝置的雷射光照射實驗
此處，在使用粒子分散體1的一般性的記錄方式中，係一邊令粒子分散體1滑行一邊進行資訊的記錄。因此，對粒子分散體1進行記錄的記錄速度亦非常重要。例如，若考慮到粒子分散體1的滑行速度，期望能夠在20ns以內將資訊記錄至粒子分散體1。
因此，此處，使用脈衝雷射光進行粒子分散體1的磁化反轉的驗證試驗。作為脈衝雷射光，使用脈衝寬度為10ns且波長532nm的YAG雷射光，構成為對粒子分散體1照射YAG雷射光。首先，將YAG雷射光照射至粒子分散體1，使用法拉第效應量測裝置調查室溫下的粒子分散體1的法拉第橢圓率的波長依存性。結果，獲得如圖12所示的結果。
從圖12確認了法拉第橢圓率在波長390nm附近最大。接著，在該波長390nm量測法拉第橢 圓率的磁滯後，獲得如圖13所示的結果。另外，由於在波長390nm，法拉第橢圓率的值為負的，故磁滯的迴線形狀係如圖13所示，成為與以SQUID量測得的圖11A及圖11B的磁滯為上下顛倒。如圖14所示，法拉第橢圓率的磁滯的迴線形狀係與以SQUID量測得的圖11A及圖11B的磁滯的迴線形狀皆有對應。
接著，將外部磁場Ho維持在+2.5kOe(+1.99×105A/m)不變，對粒子分散體1照射8.1mJ/pulse的脈衝狀的YAG雷射光後，確認了粒子分散體1的磁化反轉。藉此，確認了藉由10ns的脈衝光亦同樣輔助ε型氧化鐵粒子的磁化反轉，即使降低外部磁場Ho仍能夠使磁化反轉。
接著，同光照射前一樣將外部磁場Ho提高後再次持續降低，量測磁滯後，確認了能夠初始化成與光照射前的磁滯相同的迴線。
接著，再次將外部磁場Ho維持在+2.5kOe(+1.99×105A/m)不變，對粒子分散體1照射12.7mJ/pulse的脈衝狀的YAG雷射光後，如圖14所示，確認了粒子分散體1的磁化反轉。此外，令外部磁場Ho變化，形成為光照射前的初始的磁滯，再次將外部磁場Ho維持在+2.5kOe(+1.99×105A/m)不變，對粒子分散體1照射16.0mJ/pulse的脈衝狀的YAG雷射光後，如圖15所示，確認了粒子分散體1的磁化反轉。
從圖13、圖14及圖15的結果，確認了若持續提高單位脈衝的光強度，磁化反轉量便跟著持續增加。
從上述，在上述的實施形態中，就對磁性記錄媒體進行資訊的記錄而言，係針對藉由外部磁場的施加與預定強度的光的照射將資訊記錄至粒子分散體1的情形進行說明，但本發明並不限於此，亦可如上述的圖13、圖14及圖15所示，構成為在藉由外部磁場的施加與光的照射將資訊記錄至粒子分散體1時，相應於進行記錄的資訊持續改變光的強度，而對粒子分散體1以多值的方式(藉由多階段的磁化狀態而能夠識別二值以上的多數的值之狀態)記錄資訊。
(4)關於再生裝置
接著，針對能夠再生以多值的方式記錄有資訊的粒子分散體1的資訊之再生裝置，於以下進行說明。如圖16所示，再生裝置15係具備檢測部16、資訊再生部17及顯示部18。檢測部16係例如為磁頭，配置成與粒子分散體1的記錄面接近或接觸。檢測部16係在粒子分散體1上掃描，檢測粒子分散體1的磁化，將所獲得的檢測結果輸出至資訊再生部17。
資訊再生部17係根據從粒子分散體1檢測出的磁化的強度，再生與磁化的強度相應的資訊，顯示於顯示部18。此處，在照射光並且施加外部磁場來將資訊記錄至粒子分散體1時，當降低光的強度時，磁化反轉量亦跟著降低。結果，在以再生裝置15進行再生時，從粒子分散體1檢測出的磁化的強度亦降低。
另一方面，在照射光並且施加外部磁場來將資訊記錄至粒子分散體1時，當提高光的強度時，磁化反轉量亦跟著提高。結果，在以再生裝置15進行再生時，從粒子分散體1檢測出的磁化的強度亦提高。
如上述，藉由在對粒子分散體1記錄資訊時調整光的強度，能夠對粒子分散體1進行多值性的資訊的記錄。此外，在以外部磁場與光記錄資訊時，即使改變光的強度且以多值的方式在粒子分散體1記錄資訊，仍能夠藉由以再生裝置15檢測粒子分散體1的磁化而根據檢測出的磁化的強度的差異將多值性的資訊再生。
(5)利用兆赫光的高速響應元件 (5-1)利用兆赫光的本發明的高速響應元件的構成
在上述的實施形態中係針對磁化3響應光而反轉的情形進行說明，而此處係針對使用兆赫光令磁化高速地響應的高速響應元件進行說明。
在本發明中，作為磁性材料使用的ε型氧化鐵粒子係由於磁化的共振現象而能夠吸收毫米波(millimeter wave)(30GHz至300GHz)範圍的兆赫光。ε型氧化鐵粒子係藉由照射兆赫光而誘發磁化的高速運動。
圖17係顯示因應兆赫光的照射而高速地響應磁化狀態的高速響應元件25。高速響應元件25係如圖17所示，例如，在沒有照射兆赫光時，磁化3朝向 初始配向方向x1。如圖18所示，高速響應元件25係當受到兆赫光L2照射時，便誘發兆赫光L2所照射的區域ER2的磁化3的進動(precession)，使磁化狀態變化。
如上述的磁化狀態的變化係依據照射兆赫光L2的時序而產生。具體而言，緊接於兆赫光L2開始照射至高速響應元件25後誘發磁化3的進動，使磁化狀態立刻開始變化。此外，當結束對高速響應元件25照射兆赫光L2時，磁化3的進動便立刻停止，磁化狀態係回復到初始狀態。
在上述的構成中，在該高速響應元件25中係含有ε型氧化鐵粒子，依據照射到兆赫光L2的時序而響應磁化狀態。因此，高速響應元件25係依據兆赫光L2的照射時序而高速地響應磁化狀態，故能夠適用於需要高速響應的各種電路元件。另外，此處，就兆赫光而言，除了脈衝狀的兆赫光(以下，稱為脈衝兆赫光)之外，亦可為連續性地照射至高速響應元件25的兆赫光。
(5-2)關於照射脈衝兆赫光的磁化響應性之驗證試驗
接著，針對在對高速響應元件25照射脈衝兆赫光L2時，磁化對脈衝兆赫光L2的響應性進行調查。在該驗證試驗中，使用由ε-Fe2O3的晶體組成的ε型氧化鐵粒子作為磁性材料，以與前述的「(2)含有ε型氧化鐵粒子的粒子分散體」相同的程序製作高速響應元件25。
此外，在該驗證試驗中，如圖19所示，構成為朝高速響應元件25的一面照射脈衝兆赫光L2。 另外，照射至高速響應元件25的脈衝兆赫光L2係採用脈衝狀的信號S1。
此處，就脈衝兆赫光L2而言，使用高強度的脈衝兆赫光L2，針對磁化的響應，使用法拉第效應量測裝置進行觀測。用於量測的脈衝兆赫光L2係最大峰值振幅為400kV/cm。
如圖20所示，分別針對將高速響應元件31a設置成磁化朝向與脈衝兆赫光L2的照射方向相反之方向的情形、與將高速響應元件31b設置成磁化朝向脈衝兆赫光L2的照射方向的情形，調查法拉第旋轉角。具體而言，藉由以兆赫激發和光法拉第檢測進行的激發-探測(pump-probe)法，進行法拉第旋轉角的高速光譜測定。
如圖20所示，確認了在脈衝兆赫光L2的照射時間的原點，任一情況皆出現大的峰值，法拉第旋轉角大幅度變化，觀測到了磁化的高速響應。這樣的變化為，所配向的磁化係因脈衝兆赫光L2的磁場成分而對高速響應元件31a、31b的厚度方向稍微傾倒，因而檢測出高速響應元件31、31ba的厚度方向的磁化減少。此外，亦確認了藉由改變磁化的方向使得所呈現的信號S2、S3正負顛倒。
接著，於時間軸上並列脈衝兆赫光L2的信號S1、將脈衝兆赫光L2的電場取平方而得的信號S4、此時所得的高速響應元件31a的法拉第信號S5及高速響應元件31b的法拉第信號S6，獲得如圖21所示的結果。
關於法拉第信號S5、S6，確認了垂直方向(高速響應元件31a、31b的照射面的面方向)的磁化的大小因磁矩(magnetic moment)傾斜而減少，且以與脈衝兆赫光L2的脈衝寬度同等的時間產生。此外，亦可知磁化的減少的弛緩時間迅速，磁化係以與磁化的減少同等的時間、即數百飛秒(femtosecond)(從法拉第信號S5、S6的最大峰值回復需400fs)回復。如此一來，確認了能夠高速地響應脈衝兆赫光L2而誘發垂直方向的磁化的增減。
(6)其他實施形態
另外，本發明並不限定於上述實施形態，可在本發明主旨的範圍內實施各種變形。例如，雖然針對應用粒子分散體作為磁性記錄媒體作了說明，但例如亦可使用磁帶(type)和磁碟(disk)等各種磁性記錄媒體。
此外，在上述的實施形態中，係應用由藉由流通電流而產生外部磁場Ho的第1線圈部11a及第2線圈部11b組成的磁場施加部11，但本發明並不限於此，亦可將磁鐵等作為磁場施加部。此外，電磁波並沒必要對磁性記錄媒體的記錄面垂直照射，亦可構成為從各種角度照射。
此外，在上述的實施形態中，就對磁性記錄媒體進行外部磁場的施加與光的照射的順序而言，係針對在施加外部磁場後再照射光的情形、與照射光後再施加外部磁場的情形進行說明，但本發明並不限於此，亦可同時進行外部磁場的施加與光的照射。
1‧‧‧粒子分散體(磁性記錄媒體)
3‧‧‧磁化
10‧‧‧記錄裝置
11‧‧‧磁場施加部
11a‧‧‧第1線圈部
11b‧‧‧第2線圈部
12‧‧‧光照射部
13‧‧‧貫通孔
ER‧‧‧區塊
L1‧‧‧光
x1‧‧‧初始配向方向

Claims (12)

  1. 一種記錄方法，係對將ε型氧化鐵粒子用作為磁性記錄材料的單層之磁性記錄媒體進行外部磁場的施加與光的照射，藉此令前述ε型氧化鐵粒子的磁化反轉，依據進行記錄的資訊改變前述光的強度，而對前述磁性記錄媒體藉由多階段的磁化狀態以多值的方式記錄資訊。
  2. 如請求項1之記錄方法，其中在對前述磁性記錄媒體施加前述外部磁場後，照射前述光。
  3. 如請求項1之記錄方法，其中在對前述磁性記錄媒體照射前述光後，施加前述外部磁場。
  4. 如請求項1之記錄方法，其中前述光為前述ε型氧化鐵粒子所具有的吸收光譜內的波長。
  5. 一種記錄方法，係對將ε型氧化鐵粒子用作為磁性記錄材料的磁性記錄媒體進行外部磁場的施加與光的照射，藉此令前述ε型氧化鐵粒子的磁化反轉，前述光為前述ε型氧化鐵粒子所具有的吸收光譜內的波長，依據進行記錄的資訊改變前述光的強度，而對前述磁性記錄媒體以多值的方式記錄資訊。
  6. 一種記錄方法，係對將ε型氧化鐵粒子用作為磁性記錄材料的磁性記錄媒體進行外部磁場的施加與脈衝雷射光的照射，藉此令前述ε型氧化鐵粒子的磁化反轉，前述記錄係在20ns以內進行。
  7. 一種記錄裝置，係具備： 磁場施加部，係對含有ε型氧化鐵粒子的單層之磁性記錄媒體施加外部磁場；及光照射部，係對前述磁性記錄媒體，依據進行記錄的資訊改變光的強度並照射光；藉由前述外部磁場與前述光令前述ε型氧化鐵粒子的磁化反轉。
  8. 如請求項7之記錄裝置，其中前述磁場施加部係具備貫通孔，該貫通孔貫通與前述磁性記錄媒體的記錄面相對向配置的相對向面之厚度；前述光照射部係經由前述貫通孔將前述光照射至前述磁性記錄媒體。
  9. 如請求項7之記錄裝置，其中前述磁場施加部係具有第1線圈部及第2線圈部，在前述第1線圈部與前述第2線圈部之間配置有前述磁性記錄媒體，前述第1線圈部及前述第2線圈部分別具有貫通孔，該貫通孔貫通與前述磁性記錄媒體的記錄面相對向配置的相對向面之厚度；經由前述第1線圈部的貫通孔照射至前述記錄面的脈衝雷射光係穿透前述記錄面，從前述第2線圈部的貫通孔往外側射出。
  10. 一種再生方法，係針對將ε型氧化鐵粒子用作磁性記錄材料且透過依據進行記錄的資訊改變光的強度，藉由多階段的磁化狀態而能夠以多值的方式記錄資訊的單層之磁性記錄媒體，檢測前述磁性記錄媒體的磁化，根據從前述磁性記錄媒體檢測出的前述磁化的強 度，再生與前述磁化的強度相應的資訊。
  11. 一種再生裝置，係具備：檢測部，係針對將ε型氧化鐵粒子用作磁性記錄材料且透過依據進行記錄的資訊改變光的強度，藉由多階段的磁化狀態而能夠以多值的方式記錄資訊的單層之磁性記錄媒體，檢測前述磁性記錄媒體的磁化；及資訊再生部，係根據從前述磁性記錄媒體檢測出的前述磁化的強度，再生與前述磁化的強度相應的資訊。
  12. 一種高速響應元件，係含有ε型氧化鐵粒子，依據照射到脈衝兆赫光的時序而響應磁化狀態，在前述磁化狀態的響應中，依據前述脈衝兆赫光的磁場成分，對應前述脈衝兆赫光的脈衝波形，前述高速響應元件中與被照射前述脈衝兆赫光的面垂直之方向的磁化會增減。
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