JPH04222946A - 光磁気用薄膜ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光磁気記録媒体に対し
て同一側に磁気ヘッドと光ヘッドが形成された光磁気用
薄膜ヘッドに係わる。

【０００２】

【従来の技術】磁界変調型の光磁気記録再生は、磁気光
学効果等を利用して記録再生を行う方式で、記録時には
例えば磁性薄膜にレーザ光を照射して局所的に温度を上
昇させると同時に情報に応じて変調した外部磁界を与え
、その局所領域の磁化Ｍを磁界の方向に向けて記録を行
う。そして再生時には例えばレーザ光によって得た直線
偏光を磁性薄膜面に照射して磁気光学効果による偏光面
の回転を光の強度に変換して検出し、記録情報の再生を
行う。従ってこの場合オーバーライト動作を比較的簡単
に実現することができ、また光を用いることから磨耗等
による品質の劣化を回避させることができることや、ま
た記録密度の高密度化及び大容量化等をはかる上で実用
に向けて開発が著しい。

【０００３】このような磁界変調型の光磁気記録再生を
行う磁界変調型光磁気ドライブ装置の一例を図１２の略
線的拡大側面図に示す。この場合磁界変調型の光磁気デ
ィスク等の光磁気記録媒体１の片側の面１Ａ側に光ヘッ
ド２と磁気ヘッド３とを設けた光磁気用薄膜ヘッドで、
このように片面側に光ヘッド２と磁気ヘッド３とを設け
る場合は、光磁気記録媒体１の両面１Ａ及び１Ｂを記録
再生に用いることができる。

【０００４】このような磁気ヘッド３としては、基板が
光透過性を有することが必要であり、図示の例では例え
ばガラス等より成る非磁性の基板４上にＣｕ等より成る
薄膜コイル９を形成する構造としている。しかしながら
、この場合は記録時に必要な磁界強度を得るためには、
従来のフェライト基板等の上に薄膜コイルを形成した場
合に比して２０〜３０％以上高い電流をこのコイルに通
電する必要があり、磁界強度の向上をはかりにくく、ま
た高周波特性が低下して短波長化等による高記録密度化
をはかり難いという問題がある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述したよ
うに光磁気記録媒体に対して同一面側に、光ヘッドと磁
気ヘッドとを設ける光磁気用薄膜磁気ヘッドにおいて、
高周波特性に優れ、高磁界を発生する磁気特性に優れた
磁気ヘッドを提供するものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明による光磁気用薄
膜ヘッドの一例の一部を断面とする略線的拡大側面図を
図１に示す。本発明は、図１に示すように、光磁気記録
媒体１に対向して磁気ヘッド３と光ヘッド２が配置され
る光磁気用薄膜ヘッドにおいて、この磁気ヘッド３が、
非磁性の基板４上に磁性膜６が被着され、この磁性膜６
上に薄膜コイル９が形成され、磁性膜６は、薄膜コイル
９の作る磁界とほぼ直交方向に磁化容易軸を有するよう
になす。

【０００７】

【作用】上述したように、本発明光磁気用薄膜ヘッドに
おいては、その磁気ヘッド３の非磁性の基板４上に磁性
膜６を形成し、磁性膜６の磁化容易軸は薄膜コイル９の
作る磁界とほぼ直交するようになされる。

【０００８】このような光磁気用薄膜ヘッドにおける磁
気ヘッド３の薄膜コイル９が作る磁界について考察する
と、例えば磁気ヘッド３の上面からみた図２に示すよう
に、磁性膜６を上面ほぼ円形とし、この上に薄膜コイル
９を磁性膜６の中心から外縁部に渦巻き状に向かうパタ
ーンとした場合、この薄膜コイル９の作る磁界は、磁性
膜６の内部においては、中心部から外側に向かう方向、
或いは外側から中心部に向かういわゆる半径方向に生じ
る。そして、本発明ではこの磁界に対して垂直な方向に
磁化容易軸を有するものであり、この容易軸の向きは磁
性膜６の中心部を中心とする周方向となり、磁化困難軸
が半径方向となる。即ちこの場合薄膜コイル９の作る磁
界は磁性膜６内の磁化困難軸に沿う方向となり、磁性膜
が磁化され易いいわゆる磁気エネルギー損失の小さい構
造の磁気ヘッドを得ることができる。

【０００９】従って、本発明による光磁気用薄膜ヘッド
によれば、記録時に必要な磁界強度を得るための電流値
の低減化または磁界強度の向上をはかることができ、高
周波特性の向上をはかって短波長化等による高記録密度
化をはかることができる。

【００１０】

【実施例】以下本発明光磁気用薄膜ヘッドの一例を図１
〜図１１を参照して詳細に説明する。この例では光磁気
記録媒体１に対して光ヘッド部からの光が、磁気ヘッド
を通して照射される例で、図１に示すように、光磁気記
録媒体１の片側の面１Ａ上に、基板４に磁性膜６と薄膜
コイル９等が被着形成されて成る磁気ヘッド３と、この
磁気ヘッド３を介してレーザ発光部や対物レンズ等（図
示せず）より成る光ヘッド２とが設けられる。

【００１１】この磁気ヘッドは、図２にその一例の上面
図を示すように、例えばガラスより成り、ほぼ正方形と
された非磁性の基板４上にほぼ円形にパターニングされ
た磁性膜６が被着形成され、その上にＣｕ等より成る薄
膜コイル９が渦巻き状に形成されて成る。そしてこの磁
性膜６の中心部には、ほぼ円形の中心孔６ｗが穿設され
て成り、図１において光ヘッド２から発光された光Ｌが
、ガラス基板４とこの中心孔６ｗとを通過して、光磁気
記録媒体３の所要のトラック部分に照射されるように、
光ヘッド２の光軸と磁気ヘッド３の中心部とが軸合わせ
されて成る。

【００１２】この磁気ヘッド３の製造方法の一例を以下
に説明する。先ず図３に示すように、ほぼ正方形のガラ
ス基板より成る基板４上に、Ｃｒ等より成る磁性膜の下
地となる下地層５を全面的にスパッタリング等により厚
さ５００Å程度に被着した後、この下地層５上に例えば
フォトリソグラフィを適用してフォトレジストの塗布、
パターン露光、現像によって所要のパターンのレジスト
７を形成する。

【００１３】図３におけるＡＡ線上の略線的断面図を図
４に示すように、この下地層５上に所要のパターンのレ
ジスト７を形成した後、ａまたはｂで示す図４の紙面に
垂直な方向に磁界をかけた状態で、磁場中メッキを施し
て磁性膜６を形成する。この磁性膜６の材料としては、
例えばアモルファス軟磁性膜を用いて、その磁歪定数λ
がλ＞０となるような組成とする。

【００１４】このようなアモルファス軟磁性材の製造方
法としては、本出願人による特開平２−７００８５号公
開公報にその開示がある。即ち、例えば基板上に電気メ
ッキ法によってＣｏＦｅＰ系のアモルファス軟磁性膜を
形成する方法で、このようにして形成されたアモルファ
ス軟磁性膜は、高飽和磁束密度、高透磁率、低磁歪等の
優れた磁気特性に加え、高比抵抗等の電気特性、あるい
は高耐磨耗性等の物理特性を有することが示されている
。そしてこの場合、（Ｆｅｘ　Ｃｏ１００−ｘ　）ｙ　
Ｐ１００−ｙ　より成るアモルファス軟磁性膜では、ｘ
＞４とすると、ｙにはほとんど因らずに磁歪定数λが正
となることが開示されている。

【００１５】従ってこの場合例えば磁歪定数λが正であ
るＦｅ４．６　Ｃｏ８２Ｐ１３．４を例えば３００〔Ｏ
ｅ〕の磁界を上述した例えばａで示す方向に印加しなが
ら、図５に示すように例えば５μｍの厚さに電気メッキ
法により被着形成し、この後レジスト７を除去して磁性
膜６をほぼ円形にパターニングした後、更にこのレジス
ト７の除去による開口部を通じて下地層５をイオンエッ
チング等により磁性膜６と同様のパターンにパターニン
グして、図６に示すように中心孔６ｗを形成する。この
状態における上面図を図７に示す。

【００１６】そしてこの状態で、例えば１ｋ〔Ｏｅ〕の
例えば図７において矢印ｃで示す平行磁場中において、
基板４を例えば中心孔６ｗの中心部を中心軸として、例
えば１００ｒｐｍで回転させながら２６０℃、１５分の
条件において磁場中回転アニールを施す。このとき、磁
性膜６の磁歪定数λが正である場合は、その磁化容易軸
が図８において矢印Ａで示すように、磁性膜６の周方向
に沿って形成されることとなる。一方、磁歪定数λが負
の場合は図９に示すように、磁化容易軸は矢印Ｂで示す
外側方向或いは内側方向へ向かう半径方向に沿って形成
されることとなる。

【００１７】次にこの磁性膜６上にＳｉＯ２　等より成
る絶縁層８を被着形成した後、Ｃｕ等より成る導電層を
全面的にスパッタリング等により被着してこれをフォト
リソグラフィの適用によりフォトレジストの塗布、パタ
ーン露光、現像した後このフォトレジストをマスクとし
たエッチングを行って所要のパターン例えば図２に示す
ように渦巻き状のパターンの薄膜コイル９を形成する。 この場合、薄膜コイル９の断切れやパターン崩れを防ぐ
為に、例えば薄いフォトレジストの塗布、パターン露光
、電気メッキにより導電層の被着を行う工程を複数回繰
り返すことによって、所要の厚さの薄膜コイル９をパタ
ーニングするようにしてもよい。そしてこの薄膜コイル
９上に図１０に示すようにＳｉＯ２　等より成る保護膜
１０を被着して、磁気ヘッド３を得ることができる。

【００１８】このようにして形成した磁気ヘッド３を用
いる場合、図１１に示すように、薄膜コイル９に通電す
ると電流は図においてｉで示す、紙面に対して垂直な方
向の例えば下向きに流れ、コイル９の作る磁界の向きは
矢印Ｈａ　で示すように時計回りとは逆向きの方向とな
り、磁性膜６中では矢印Ｈｂで示す紙面に沿う方向とな
る。このように磁性膜６中を磁界が通過することによっ
て、例えばガラス等の絶縁性の透明基板上に直接薄膜コ
イル９を形成した場合に比して、記録時において光磁気
記録媒体３に与える磁界を発生するための必要な電流値
が格段に小となる。また、この磁性膜６中の磁界の向き
は、図８において矢印Ａで示す磁化容易軸方向の向きと
は垂直な即ち磁化困難軸方向であり、磁性膜６の磁化に
要する磁気エネルギーの低減化をはかることができる。

【００１９】尚、上述の例では磁性膜６の材料としてア
モルファス軟磁性膜のＦｅ４．６　Ｃｏ８２Ｐ１３．４
を用いたが、その他種々の磁性膜を用いることができ、
基板４や薄膜コイル９の材料や構成も上述の例に限らず
、その他種々の材料、構成を採ることができる。

【００２０】

【発明の効果】上述したように、本発明光磁気用薄膜ヘ
ッドによれば、非磁性基板上に磁性膜を設けたこと即ち
磁芯を設けたことと、更に加えて薄膜コイルの作る磁界
の向きに対してこの磁性膜の磁化容易軸が垂直な向きと
なるようにしたため、磁性膜中の磁界が磁化困難軸方向
に沿うこととなり、記録時に必要な磁界強度を得るため
の電流値の低減化または磁界強度の向上をはかることが
できると共に、短波長化即ち高周波特性の向上をはかっ
て、高記録密度化をはかることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明光磁気用薄膜ヘッドの一例の一部を断面
とした略線的拡大側面図である。

【図２】本発明光磁気用薄膜ヘッドの要部の略線的拡大
上面図である。

【図３】本発明光磁気用薄膜ヘッドの一製造工程を示す
略線的拡大上面図である。

【図４】本発明光磁気用薄膜ヘッドの一製造工程を示す
略線的拡大断面図である。

【図５】本発明光磁気用薄膜ヘッドの一製造工程を示す
略線的拡大断面図である。

【図６】本発明光磁気用薄膜ヘッドの一製造工程を示す
略線的拡大断面図である。

【図７】本発明光磁気用薄膜ヘッドの一製造工程を示す
略線的拡大上面図である。

【図８】本発明光磁気用薄膜ヘッドの一製造工程を示す
略線的拡大上面図である。

【図９】比較光磁気用薄膜ヘッドの一製造工程を示す略
線的拡大上面図である。

【図１０】本発明光磁気用薄膜ヘッドの要部の略線的拡
大上面図である。

【図１１】本発明光磁気用薄膜ヘッドの要部の略線的拡
大断面図である。

【図１２】従来の光磁気用薄膜ヘッドの一例の一部を断
面とした略線的拡大側面図である。

【符号の説明】

１　　光磁気記録媒体 １Ａ　　面 １Ｂ　　面 ２　　光センサ ３　　磁気ヘッド ４　　基板 ５　　下地層 ６　　磁性膜 ７　　レジスト ８　　絶縁層 ９　　薄膜コイル １０　　保護膜

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　光磁気記録媒体に対向して磁気ヘッド
   と光ヘッドが配置される光磁気用薄膜ヘッドにおいて、
   上記磁気ヘッドが、非磁性の基板上に磁性膜が被着され
   、該磁性膜上に薄膜コイルが形成され、上記磁性膜は、
   上記コイルの作る磁界とほぼ直交方向に磁化容易軸を有
   するようになされたことを特徴とする光磁気用薄膜ヘッ
   ド。