TWI758341B - 超音波處理裝置 - Google Patents

Abstract

本發明的課題，是在於提供一種得以防止超音波處理不均勻的超音波處理裝置。 　　本發明的解決手段具有以下要旨。本發明的超音波處理裝置，係具有：用以對被處理物實施超音波處理的超音波槽、及對上述被處理物的表面側發出超音波振盪的第1超音波振動體、以及對上述被處理物的背面側發出超音波振盪的第2超音波振動體；上述第1超音波振動體，是以與上述第2超音波振動體不相向的方式所配置。

Description

超音波處理裝置

本發明是關於超音波處理裝置，詳細而言，是關於以超音波對浸漬於於處理液的被處理物進行表面處理的超音波處理裝置。

以往以來，對電子零件或者印刷基板等之被處理物的洗淨，是使用超音波處理裝置。例如對印刷基板進行無膠渣(desmear)處理等各式各樣的處理，不過在處理後的印刷基板表面會附著有樹脂等之異物或髒污。因此，在將印刷基板浸漬於處理液之後，以超音波振盪，藉由渦泡(cavitation)作用來進行將附著於印刷基板表面的異物或髒污除去的超音波處理。

隨著超音波處理所產生的問題自以往以來就被指摘，並提案有改善此等問題的超音波處理裝置。例如，當處理液因循環等因素而有流動時，超音波會受其影響而變得難以均勻的處理。作為如此之問題的解決對策，例如於專利文獻1中，揭示有使超音波朝向配置在處理液槽內的處理液與環境氣體之間的交界板產生超音波振盪的基板處理裝置。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1] 日本特開2000-107710號公報

[發明所欲解決的問題]

本發明者們，為了要對被處理物的表面及背面之兩方進行超音波處理，因而檢討了在被處理物表面側、以及在被處理物背面側的相向位置設置超音波振動體。然而，當在相向的位置設置超音波振動體時，超音波產生共振而會使構成超音波振動體之複數個超音波振盪元件的一部分損傷。由於超音波無法充分對與受損傷之超音波振盪元件相向的被處理物施振，所以會產生超音波處理不均勻。又，本發明者們亦檢討了以夾持被處理物的方式在被處理物的兩側設置搬運輥作為在超音波處理時用以抑制被處理物晃動等之導引來使被處理物移動在搬運輥之間。不過，當將超音波振動體設置在搬運輥的外側時，搬運輥會干涉超音波的波動，而使得發出振盪在與搬運輥設置部分相向之被處理物上的超音波變弱。因此，在被處理物的上下方向上會產生超音波處理不均勻。

本發明是著眼於上述般之缺失情事所研創的，在於提供一種可防止超音波處理不均勻的超音波處理裝置。特別是，本發明的第1目的是在於提供一種超音波處理裝置，其對於用以構成設置於超音波槽內之超音波振動體的超音波振盪元件，可防止該超音波振盪元件的損傷而得以抑制超音波處理不均勻；第2目的是在於提供一種超音波處理裝置，其可以抑制起因於超音波槽內之導引手段所致之向來成為問題的超音波處理不均勻。 [用以解決問題之手段]

得以解決上述問題之本發明的超音波處理裝置，其要旨為具有：用以對被處理物實施超音波處理的超音波槽、及設在上述被處理物之表面側的第1超音波振動體、以及設在上述被處理物之背面側的第2超音波振動體；上述第1超音波振動體，是以與上述第2超音波振動體不相向的方式所配置。

上述超音波振動體，係具有：複數個超音波振盪元件、以及與上述超音波振盪元件的超音波振盪側接觸而設置的板構件為佳。

又，較佳之實施形態為上述超音波槽，係具有：設置在上述被處理物之表面側的第3超音波振動體、以及設置在上述被處理物之背面側的第4超音波振動體；通過構成上述第1超音波振動體之超音波振盪元件的中央部的水平線，是與通過構成上述第3超音波振動體之任一超音波振盪元件的中央部的水平線，以沒有重疊的方式所配置，並且通過構成上述第2超音波振動體之超音波振盪元件的中央部的水平線，是與通過構成上述第4超音波振動體之任一超音波振盪元件的中央部通水平線，以沒有重疊的方式所配置。

本發明的超音波處理裝置，是具有與上述超音波振動體相向的反射體者、是具有上述被處理物的搬運機構者，其中任一者皆為較佳實施形態。

再者，本發明的超音波處理裝置，係具有：設在上述超音波槽之入口側的前槽、以及設在上述超音波槽之出口側的後槽；於上述各槽之間，設有朝向上述超音波槽側開啟的開閉機構亦佳。

又，本發明的超音波處理裝置亦包含具有以下要旨者。超音波處理裝置，係具有：對被處理物實施超音波處理的超音波槽、及對被處理物發出超音波振盪的超音波振動體、及上述被處理物的搬運機構、及與上述被處理物的表面相向的導引手段、以及與上述被處理物的背面相向的導引手段；上述導引手段，是於垂直面上形成有複數根線材，並且上述線材的長邊方向是相對於水平線呈傾斜地設置。

上述導引手段，係具有：位於上述線材長邊方向兩端的支柱、以及接近上述支柱所設置之上述線材的折返部；上述線材是通過上述一方之支柱的外周後在上述折返部折返，通過上述一方之支柱的外周後而跨渡至另一方的支柱，亦為較佳之實施形態。

再者，上述線材具有導電性；又上述支柱，是形成有螺旋狀的溝槽；於上述支柱，是設有用以調整與上述被處理物之距離的水平位置調整機構，其中任一者皆為較佳實施形態。

上述超音波振動體，是由振盪出不同頻率之超音波的複數個超音波振盪元件所構成；上述超音波振動體，是同時地振盪出至少2種不同的頻率者；上述超音波振動體，是使頻率可變地被驅動者；於上述超音波振動體，設有：用以調整與上述被處理物之距離的水平位置調整機構，其中任一者皆為較佳實施形態。 [發明效果]

根據本發明的第1構成，由於超音波振動體是以不相向的方式所配置，所以共振被抑制而可以防止超音波振盪元件的損傷，並可以抑制超音波處理不均勻的產生。又，根據本發明的第2構成，由於設置於超音波槽內之導引件的長邊方向是以相對於水平線呈傾斜的方式所設置，所以可以抑制在被處理物的上下方向上之超音波處理不均勻的產生。藉由結合本發明的第1構成與第2構成，可以提供一種超音波槽，其可以更加有效地抑制被處理物之超音波處理不均勻的產生。

以下，對於用以實施本發明的最佳形態一邊參照圖面一邊詳細地進行說明，不過本發明並不受以下的實施形態所限定。

依據圖面對於本發明的第1構成進行說明。第1圖是從上方觀察作為本發明之一實施形態的超音波處理裝置的平面圖。第2圖是從Y方向觀察第1圖之超音波處理裝置的側面圖。第8圖是第2圖之超音波處理裝置的斷面圖，且是從箭頭Z方向觀察的正面圖。又，在第1圖、第2圖中，是省略了被處理物的搬運機構。

如第1圖所示，於超音波處理裝置，是沿著被處理物4的搬運方向5，依序設置：前槽6、超音波槽1、後槽7，被處理物4是以該順序通過各槽。於各槽中，設有用以形成第8圖所示之固定具31之通路的缺口30。在超音波槽1內以能夠同時對複數個被處理物實施超音波處理的方式，設有複數個超音波振動體。

超音波槽1，是用以對被處理物4進行超音波處理的處理槽，於內部具有朝向被處理物4發出超音波振盪的超音波振動體。超音波振動體是如第9圖所示地，是具有：複數個超音波振盪元件19、以及接觸於該超音波振盪元件19的超音波振盪側而設置的板構件20。藉由超音波振盪元件19的振動使板構件20振動來對處理液傳播超音波振動。又，各超音波振動體，是藉由固定部35而固定於超音波槽1的內壁，不過亦可以將超音波振動體固定在：以不與內壁接觸的方式所設置的固定柱。

如第1圖所示的超音波槽1，是具有：設置在被處理物4之表面側的第1超音波振動體8、以及設置在被處理物4之背面側的第2超音波振動體9。第1超音波振動體8與第2超音波振動體9是以沒有相向的方式所設置。於本發明中之所謂沒有相向，是指設置於被處理物之一方的面側的超音波振動體的超音波振盪面(板構件20側)的正面，並沒有設置在另一方面側之超音波振動體的超音波振盪面，也就是說，設置於被處理物之一方的面側的超音波振動體的超音波振盪面在夾介被處理物4而相向的正面位置處，並沒有於另一方面側所設置之超音波振動體的超音波振盪面。藉此，使得第1超音波振動體8和第2超音波振動體9的共振被抑制，而可以防止超音波振動體，具體而言是防止超音波振盪元件19的損傷。又，於本發明中之被處理物4的表面、背面，其意是指與一方的面相向之對面側的面，例如板狀之被處理物的情形時，會有以具有最大面積之面的一方為表面，而以其相反側為背面的情形；也會有以一方的側面為表面，而以相對於該側面(表面)位於相反側之側面為背面的情形。

在第1圖的超音波槽1，是具有：與第1超音波振動體8同樣被設置於被處理物之表面側的第3超音波振動體10、以及與第2超音波振動體9同樣被設置於被處理物之背面側的第4超音波振動體11。在設置有複數個超音波振動體之情形時，設置於表面側的超音波振動體(第1超音波振動體8、第3超音波振動體10)的任一者，皆是以不與設置於背面側的超音波振動體(第2超音波振動體9、第4超音波振動體11)的任一者相向的方式所配置。又，超音波振動體的數量，是可以因應超音波槽之大小等來設置任意數量的超音波振動體，於此情形時亦如上所述地，各超音波振動體是以沒有相向的方式所配置。

第10圖是顯示相對於被處理物4，在表面側具有複數個超音波振動體之情形下之設置狀態的一例的側面圖。通過在被處理物4的表面側所排列之構成第1超音波振動體8的超音波振盪元件19的中央部33(超音波振盪元件的板構件接地面中心點)的水平線34a，是與通過構成第3超音波振動體10之任一個超音波振盪元件19的中央部33的水平線34b，以沒有重疊的方式配置在不同的高度位置。藉此，由於使振盪強度較大之超音波振盪元件19的高度位置依每一個超音波振動體而有所不同，因而可以對被搬運的被被處理物4施加更加均勻的超音波處理。在圖面上雖無顯示，但對於在被處理物的背面側所排列之第2超音波振動體及第4超音波振動體亦同樣地，通過構成第2超音波振動體的超音波振盪元件的中央部的水平線，是與通過構成第4超音波振動體之任一個超音波振盪元件的中央部的水平線，以沒有重疊的方式所配置。

又，在本發明中是具有與超音波振動體相向的反射體。第1超音波振動體8至第4超音波振動體11是夾介被處理物4而設置有分別相向的反射體12a～12d。又，所謂與超音波振動體相向，是指反射體的反射面是存在於超音波振動體之超音波振盪面(板構件20)的正面，也就是說，超音波振動體的超音波振盪面在夾介被處理物4而相向的正面位置處，存在有反射體的反射面。藉此，從超音波振動體所振盪的超音波是經由被處理物後在反射體的反射面被反射，藉由該反射後的超音波(反射波)可獲得對被處理物的表面處理效果。反射體12a～12d，是凡只要具有反射超音波之性質者皆可使用，例如例示出中空狀容器(空氣箱)等。

本發明的超音波處理裝置，是具有：設置於超音波槽1之入口側的前槽6、以及設置於超音波槽1之出口側的後槽7。於前槽6和後槽7，設有處理液供給手段、以及處理液去除手段。處理液供給手段在圖面上並無顯示，其具備有：處理液的供給管、處理液的送液泵浦、儲存處理液的處理液槽等之在處理液的供給上必要的手段。藉此對前槽6、及後槽7供給預定量的處理液。又，處理液去除手段在圖面上並無顯示，不過在前槽6、及後槽7的底部具備有：排出口、以及排出口開閉手段。藉此使處理液從前槽6、及後槽7排出。作為排出口開閉手段者是可以採用各種習知的排出口開閉手段，例如可舉出用以開閉排出口之滑動式蓋等。藉由滑動式蓋的開閉，可以控制前槽6、及後槽7的乾液狀態與滿液狀態。

又，於前槽6、及後槽7設有分別與被處理物4的表面與背面相向的滾子環17。藉由使被處理物4被搬運在相向的滾子環17之間，來維持被處理物4的姿勢。

於各槽之搬運方向前後的出入口設有開閉機構18a～18d。使開閉機構呈開啟狀態來使被處理物4通過而搬入下一處理槽之後，使開閉機構呈關閉狀態。開閉機構18a～18d例如是以具備有：具有使被處理物得以通過之缺口(閘道通路)的固定構件、以及與閘道通路相對應地控制開閉狀態的閘道部，來構成為佳。

開閉機構18a的構成是例示於第11圖、第12圖。

開閉機構18a，是於固定構件37具有成為閘道通路36的缺口，在固定構件37之缺口下部附近設有L字型導引軌道39。固定構件37是被固定在前槽6的內壁，並被施以密閉處理以使處理液不會從該固定部洩漏。藉由L字型導引軌道39的L字型形狀與固定構件37形成成為導引溝的凹部，閘道構件38是以可滑動的方式設置於導引溝內。閘道部係具有閘道構件38及氣缸部43，閘道構件38與氣缸部43是透過連接部而固定。藉此，藉由氣缸部43的往復運動，使閘道構件38沿著導引溝滑動而可以控制開啟、關閉。在圖示例中，連接部，是用以固定L字型的固定構件40與T字腳型的連接構件41而構成，該L字型的固定構件40是設在閘道構件38的上部，該T字腳型的連接構件41是設在構成氣缸部43之活塞桿45的末端部分(桿端42)。又，氣缸部43是藉由前槽6或是後槽7的上部所固定。當來自圖面上沒有顯示出之空氣壓縮機的空氣被供給至氣缸部43時，則活塞桿45伸長使閘道構件38滑動並藉由與閘道通路36重疊而關閉閘門，若維持在此狀態下則可以維持關閉狀態。另一方面，當從氣缸部43將空氣排除時則活塞桿45後退，閘道構件38被朝向活塞桿45的後退方向拉引滑動，藉此解除與閘道通路36的重疊而使閘道開啟，若維持在此狀態下則可以維持開啟狀態。

開閉機構18a，係當閘道構件38被配置成為位於前槽6側時，藉由充填於前槽6之處理液的液體壓力，使閘道構件38被強壓於固定構件37而使密閉性提高，可以抑制處理液從閘道構件38與固定構件37的接地部分洩漏出。又，當排出前槽6的處理液時，由於液體壓力被釋放，故可以降低在對閘道構件38的開閉上所必要的驅動力。開閉機構18d亦藉由具有與開閉機構18a相同的構成。開閉機構18d亦藉由使閘道構件38被配置成為位於後槽7側，同樣地可以謀得密閉性提升與驅動力降低。

開閉機構18c的構成是例示於第13圖、第14圖。又，在此省略超音波槽1的頂板。開閉機構18b亦具有同樣的構成。

前槽6與超音波槽1之間的開閉機構18b，以及後槽7與超音波槽1之間的開閉機構18c，是於超音波槽1側使閘道構件38擺動來對成為閘道通路36之缺口部分進行開閉，其中該閘道通路36是夾介固定台51與超音波處理槽1地設置在藉由螺絲等之固定具52所固定的固定構件37。 　　於閘道構件38之一方側面(縱向方向)附近，軸54是大致垂直地設置。軸54的上端是與設置在閘道構件38上端附近的上部軸承55卡合，軸54的下端是與設置在閘道構件下端附近於的下部軸承56卡合。又，於軸54組裝有複數個鉸鏈46a～46c，鉸鏈46a～46c之一方的葉片是與閘道構件38固定著，另一方的葉片是與固定構件37固定著。上部軸承55是夾介定位軸環(set collar)等之軸承具53而與曲柄桿48之一方端部的曲柄桿螺紋部49以預定的角度固定(非可動部)而連結。又，設於曲柄桿48之另一方端部的貫通孔，與設在用以構成氣缸部43之活塞桿45的桿末端部分的貫通孔是藉由卡合銷50所連結著，其中該氣缸部43是藉由固定部57而固定於超音波槽1的上部。因應氣缸的伸縮並以在曲柄桿48與活塞桿45所形成的卡合銷50作為支點的角度能夠變化地卡合(可變卡合部分)。於氣缸部43連接有圖面上沒有顯示出的空氣壓縮機，當空氣被供給至氣缸部43時則活塞桿45伸長，伴隨於此，減少以卡合銷50為支點之可變卡合部分的角度，並且在固定有曲柄桿48的上部軸承55朝向活塞桿45的伸長方向施力，藉此，以軸54為軸使閘道構件38朝向超音波槽1側旋轉90°而成為開啟狀態。當保持此狀態時，則可以維持閘道通路36的開啟狀態。 　　當排出已供給於氣缸部43的空氣時，伴隨於此，活塞桿45後退而以卡合銷50作為支點而擴大可變卡合部分的角度，並且在上部軸承55朝向活塞桿45後退方向施力，藉此，以軸54為軸使閘道構件38進行旋轉而與固定構件37接觸而成為關閉狀態。由於在超音波槽1充填有處理液，故在前槽6、後槽7為乾液狀態時，藉由來自超音波槽1側的液體壓力，使閘道構件38被強壓而可提升密閉性，使處理液漏出受到抑制。 　　又，前槽6、後槽7為滿液狀態時，可解除液體壓力差異而能夠以較少力量成為開啟狀態。

超音波處理裝置，係例如具備有：用以搬運被處理物4的固定具31、以及用以將固定具31搬運於各槽內的搬運機構。其中該被處理物4是以與搬運方向5平行之超音波處理裝置的側面方向作為具有被處理物4之最大面積的表背面的方式所保持。

如第8圖所示，固定具31，是藉由夾具等的把持部32來保持被處理物4的上部(一邊)。固定具31是從固定具連接台29經由缺口30而在各槽內保持於懸浮在空中的狀態。又，固定具31是只要可以保持被處理物4即可，是可以使用各種習知的固定具，例如可以使用被使用在印刷基板等之搬運上之周知的吊架。作為被處理物者，可以例示出各種樹脂基板、玻璃基板、金屬基板、陶瓷基板等的板狀被處理物。被處理物可以是如剛性基板等之可撓性較低者，亦可以是如軟性基板等之可撓性較高者。又，被處理物為板狀時之厚度亦是從數mm至次微米等級皆可對應。

第8圖所示的搬運機構，是至少由：導引軌道27、固定具連接台29、以及搬運用輥子28所構成，於固定具連接台29的底部安裝有用以移動在導引軌道27上的搬運用輥子28，並藉由圖面上沒有顯示的馬達等之驅動手段所驅動。導引軌道27是固定在超音波處理裝置的上部。又，搬運機構是可以使用各種周知的固定具搬運手段。

對於沒有將超音波振動體以相向的方式所配置之本發明的超音波處理裝置的另一實施形態進行說明。超音波振動體的超音波振盪面夾介被處理物後，若是與其他的超音波振動體的超音波振盪面沒有相向的話，被處理物的平面朝向、搬運方法就不受限定。第3圖，是本發明的另一實施形態之超音波處理裝置的側面圖，是水平搬運使平面朝向上下方向的被處理物4。於第3圖的超音波槽1的入口側設有前槽6、於出口側設有後槽7，並於各槽之間設有開閉機構。於超音波槽1內設有複數個搬運輥23。搬運輥23是朝向搬運方向5以預定的間隔所配置，並且在上側的搬運輥23與下側的搬運輥23之間構成有使被處理物4以水平姿勢通過的被處理物搬運路徑。各搬運輥是藉由圖面上沒有顯示的驅動裝置在以一定的速度進行旋轉下，使被處理物4在上下的搬運輥之間朝向搬運方向5移動。又，於下側的搬運輥23側，設有對被搬運之被處理物4的表面發出超音波振盪的第1超音波振動體8，並配置有夾介被處理物4而相向的反射體12a。又，沿著搬運方向5設有對被處理物4的背面發出超音波振盪的第2超音波振動體9，並配置有夾介被處理物4而相向的反射體12b。第1超音波振動體8與第2超音波振動體9是以不相向的方式所配置。第3超音波振動體10、第4超音波振動體11亦是與第1超音波振動體8、第2超音波振動體9同樣地設有相向的反射體12c、12d，並且分別以不與其他的超音波振動體相向的方式所配置。

又，各超音波振動體的構成是具有第9圖、第10圖的構成，通過在被處理物4的下表面側所排列之構成第1超音波振動體8的超音波振盪元件19的中央部33的水平線34，是與通過構成第3超音波振動體10之任一個超音波振盪元件19的中央部33的水平線34，以沒有重疊的方式偏移地配置在前後方向(圖面的前方及後方方向)上。在被處理物4的上表面側所排列的第2超音波振動體9與第4超音波振動體11的超音波振盪元件亦同樣地，使水平線以沒有重疊的方式偏移地配置在前後方向上。

又，於前槽6、後槽7，用以可以水平搬運被處理物4而與搬運輥23同樣地設有滾子環17，使被處理物4以可以移動在設於上下的滾子環17之間的方式所構成。第2圖與第3圖的前槽6、後槽7雖在被處理物4為垂直狀態或是水平狀態而有所不同，不過處理液供給手段或處理液除去手段等，其他的構成為同樣地具有。

第4圖為本發明之再另一實施形態，是從上方觀察以筐體搬運被處理物之超音波處理裝置的平面圖。第4圖的超音波處理裝置，是由第1超音波槽2及第2超音波槽3所構成。於第1超音波槽2設有從被處理物的側面方向照射超音波的第1超音波振動體8，並配置有夾隔著被處理物4而相向的反射體12a。又，第2超音波槽3亦與第1超音波槽2同樣地配置有第2超音波振動體9與反射體12b。筐體(basket)21是將形成側面框板構件予以組合而於內部形成空間，並且為具有底部之構成。於筐體21的內部空間，被處理物4是以沒有相互接觸的方式朝向厚度方向立起的狀態下並列。被處理物4是藉由設在筐體21的底部及框板構件之沒有圖示出的保持部以不使之傾倒的方式保持著。筐體21係在第1超音波槽2經超音波處理後，藉由沒有圖示出的搬運機構使筐體21上昇並從第1超音波槽2取出後使之移動，並使之下降至第2超音波槽3的筐體搬運位置22而搬運至第2超音波槽3來進行超音波處理。若將第1超音波槽2與第2超音波槽3予以組合來看時，則第1超音波振動體8與第2超音波振動體9雖是夾隔著被處理物4從不同的方向發出超音波振盪，不過由於第1超音波振動體8與第2超音波振動體9是設置在不同的超音波槽，所以是不相向的配置。

第5圖為本發明之另一實施形態，是從上方觀察以筐體搬運被處理物之超音波處理裝置的平面圖。於超音波槽1，設有從被處理物的表面方向發出超音波振盪的第1超音波振動體8，並配置有夾隔著被處理物4而相向的反射體12a。又設置有從被處理物的背面方向發出超音波振盪的第2超音波振動體9，並配置有夾隔著被處理物4而相向的反射體12b。第2超音波振動體9與第1超音波振動體8是沒有相向的方式所設置。筐體21的構成是與上述第4圖相同，被處理物4亦同樣地被保持。筐體21係在第1超音波振動體8側經超音波處理後，藉由沒有圖示出的搬運機構使筐體21往筐體搬運位置22移動並在第2超音波振動體9側被超音波處理。

其次，對於本發明的第2構成進行說明。超音波槽1的構成係如第1圖所示，對於與上述第1構成相同者省略其說明。超音波槽1係具有：與被處理物4的表面相向的導引手段、以及與該被處理物4的背面相向的導引手段。第6圖(A)是從上方觀察設置在第1圖所示之超音波槽1內之一方的導引手段的平面圖；第6圖(B)是從X方向觀察導引手段的側面圖。相反側之導引手段的構成由於相同，故省略之。

導引手段是由線材13所構成。線材13係由於相較於滾子環17等時其面積極小，故與超音波的干涉亦較少。導引手段是在垂直面上配置複數根的線材13。藉由將線材13配置於垂直面上，可以抑制進行搬運之被處理物4的擺動動作，並且可以抑制超音波的漫反射。又，線材13其長邊方向是相對於水平線呈傾斜地設置。藉此，與線材13相向之被處理物4的高度位置會隨著被處理物的移動而變化。其結果，可以解除超音波在被處理物4之高度方向上的照射不均勻而提升超音波處理效果。線材13的傾斜方向並無特別地限定。

於第6圖(B)所示的導引手段，係具有：於線材13的長邊方向兩端用以保持線材的支柱14A、支柱14B、以及接近支柱14A與支柱14B所設置之線材13的折返部15A～15J。支柱14A與支柱14B的端部是接觸於超音波槽1的底面與頂面並以大致垂直地維持姿勢的方式所設置。於支柱14A、14B的附近分別配置有：使姿勢以與支柱平行的方式被固定的固定柱16A、固定柱16B，於固定柱16A設有折返部15A、15C、15E、15G、15I，於固定柱16B設有折返部15B、15D、15F、15H、15J，各折返部其高度位置並不相同。折返部15A～15I係例示為金屬鉤等。將接連於成為設在固定柱16B之始點24的折返部15B的線材13，從超音波槽1的壁面側繞過支柱14B的外周後經過被處理物4側而跨渡至另一方的支柱14A，然後從被處理物4側繞過支柱14A的外周而連通至設置於固定柱16A的折返部15A。然後線材13在該折返部15A折返，並從超音波槽1的壁面側繞過支柱14A的外周後經過被處理物4側而跨渡至支柱14B側。然後線材13從被處理物4側繞過支柱14B的外周而在折返部15D被折返而同樣地繞過支柱14B的外周後經過被處理物側而跨渡至支柱14A側。線材13同樣地實施，至折返部15E→15H→15G→15J→15I為止連接於成為終點25的折返部15I。藉此，在支柱14A和支柱14B之被處理物4側的垂直面上配置複數根線材13。又，由於可以藉由1根金屬線形成導引手段，所以導引手段的作製容易，且維護也容易。

第7圖是於第6圖所使用之支柱14A、14B的較佳實施形態，且是省略固定柱16A、16B的圖面。於第6圖所示的支柱14A、14B，是如第7圖所示地以從支柱上側朝向下側設有一連串之螺旋狀的溝槽26為佳。以將線材13配置於溝槽26內之方式使溝槽26形成於支柱14A、14B。線材13係沿著支柱14A的溝槽26繞過支柱14A的外周而跨渡至折返部或是支柱14B，線材13在支柱14B亦同樣地實施而跨渡至折返部或是支柱14A。由於依照被處理物4的尺寸(特別是厚度)或是材質等，被處理物4的撓彎或折曲的產生容易度有所不同，故如第7圖所示地，於支柱14A、14B設置溝槽，並且以其縱軸為中心得以旋轉的方式來設置支柱14A、14B，藉此，可以使線材13的傾斜角或者高度位置在防止被處理物4的折曲或撓彎等的有效位置上變動。亦即，當使支柱以其縱軸為中心旋轉時，線材13隨著溝槽26的旋轉而移動在支柱上使高度位置變動，其結果，可以使線材13的傾斜角變化。例如當使支柱14B以縱軸為中心旋轉時，使得支柱14B側之線材13的高度會沿著溝槽26而降下，如第15圖(A)、(B)所示，線材13之長邊方向的傾斜角會相對於水平線而變動，線材13的高度位置就成為比被處理物4的上表面還低(X1→X2)。又，藉由使支柱14B朝向相反方向旋轉，則可以使線材13的高度位置上昇(X2→X1)。同樣地，使支柱14A以其縱軸為中心旋轉，可以使得支柱14A側之線材13的高度位置變化。藉由使支柱14A及支柱14B同時朝向相同方向旋轉，就可以維持線材13的傾斜角而使高度位置變化。又，溝槽26雖是只要形成於支柱14A、14B之至少一方即可，不過以形成於雙方為佳。又，支柱的旋轉手段並沒有特別地限定，例如，在超音波槽1台座的底面或是頂面設置旋轉台、旋轉台的驅動手段、旋轉控制部，將支柱的上下端部接連於該旋轉台即可。將來自控制部的動作命令傳達至馬達等之驅動手段而可以使旋轉台動作並使支柱旋轉。

作為線材13者可例示金屬製線材、樹脂製線材等。特別是金屬製線材等具有導電性線材的話，藉由電性地連接沒有圖示出的電源、及通電檢測裝置進行常時性通電，在線材13斷線的情形時，能夠藉由通電檢測裝置而偵知，而可以迅速地修補。又，為了抑制線材13會因被處理物4與線材13接觸而損傷，故使用以樹脂等所被覆的金屬製線材亦可。

其次，對於使用超音波處理裝置的表面處理，一邊參照第1、2、8一邊進行說明。預先以搬運手段之固定具31的把持部32保持被處理物4的上部，被處理物4是被安裝為縱向懸吊狀態(兩面成為垂直的狀態)。當超音波處理裝置作動時，首先，開閉機構18a成為開啟狀態。藉由搬運機構使被處理物4被搬進前槽6內之後，開閉機構18a成為關閉狀態。

設置於各槽的開閉機構18a～18d，是與控制部(圖示省略)電性連接而被控制，當接受到來自控制部的動作指令時，則氣缸部43的活塞桿45伸長。藉此，閘道構件38移動使閘道通路36成為開放狀態，以供被處理物4搬入。被處理物4通過之後，接受到來自控制部的動作指令而使伸長的活塞桿45縮短。藉此，閘道構件38移動使閘道通路36成為關閉狀態，各槽被區隔而成為獨立的空間。

於本發明中，控制部，是具備有：執行各種運算處理的CPU、執行程式之記憶及讀取的記憶體(RAM、ROM)、記錄控制用程式或資料等的記錄媒體(磁碟等)，將收納於記錄媒體的各種處理程式從記憶體讀取出，CPU依據其內容控制超音波處理裝置之各部的動作及處理。又，在動作上必須要電力供給的裝置是連接於沒有圖示出的電源，來供給必要的電力。

又，被處理物4的搬運機構，是由馬達與控制部(圖示省略)電性連接所控制，搬運用輥子28被接受到來自控制部之動作命令的馬達所驅動而旋轉，並在導引軌道27上移動至預定的位置為止。藉此，使藉由搬運機構的固定具31所保持的被處理物4移動。

搬入於前槽6的被處理物4在預定的位置停止後，供給與超音波槽1相同的處理液。具體上是被接受到來自控制手段之動作命令的供給泵浦所加壓，處理液從貯液槽經由處理液供給管而被供給至前槽6。處理液的供給量是藉由感測器(沒有圖示出)等偵測手段所管理，當偵測到處理液已達到與超音波槽1同等之液面水位時，就對控制部發送信號以停止處理液的供給。藉此，前槽6成為滿液狀態。

前槽6成為滿液狀態之後，開閉機構18b成為開啟狀態，被處理物4藉由搬運機構被搬入處理液已滿的超音波槽1。被處理物4被搬入超音波槽1之後，使閘道關閉，開閉機構18b成為關閉狀態。由於是使被處理物4在前槽6被浸漬於處理液之後才搬入超音波槽1，因此即使使開閉機構18b成為開啟狀態下亦能抑制處理液的流動，並且可以抑制因被處理物4的擺動動作所造成之折彎等的破損。

開閉機構18b成為關閉狀態之後，將充滿前槽6的處理液進行排出。具體上是當藉由控制手段將排出口開閉手段執行為開啟狀態時，前槽6內的處理液就透過連接於排出口的排出管而被排出。藉此，前槽6內成為乾液狀態。被排出的處理液是被丟棄或是施以異物過濾去除等之適當處理後予以再利用亦可。將處理液排出之後，使排出口成為關閉狀態。使前槽6成為乾液狀態之後，使開閉機構18a成為開啟狀態以進行下一個被處理物4的搬入。

被搬入於超音波槽1的被處理物4是藉由搬運機構以一定的速度朝向開閉機構18c移動。從設於超音波槽1內之第1～第4超音波振動體8～11所振盪出的超音波振動傳播於處理液而施加於移動的被處理物4，來去除附著在被處理物4之表面的異物等。作為處理液者，可以使用水、或是添加有界面活性劑的水等之各種習知的超音波處理液。對於超音波振動體的具體動作於後述之。

超音波槽1內的處理液是從沒有圖示出的排出口所排除後，藉由過濾器等之淨化設備將處理液中的異物去除之後，從沒有圖示出的供給口被供給至超音波槽1內。藉此，可以持續維持超音波槽1內之處理液的清淨度，同時進行超音波處理。藉由控制處理液的供給量與排出量，超音波處理槽1內之處理液的液面水位是被維持於一定。

當被處理物4接近開閉機構18c時，開閉機構18c使閘道構件38擺動而成為開啟狀態，被處理物4便被搬入充滿處理液的後槽7。後槽7是以預先成為滿液狀態之方式被供給液體，被處理物4是從超音波槽1朝向後槽7進行液體中移動。被處理物4被搬入於後槽7之後，開閉機構18c的閘道成為關閉狀態。已搬入至後槽7的被處理物4在預定的位置停止。由於對後槽7之處理液的供給是與前槽6相同，所以在此省略其說明。由於藉由先使後槽7預先成為滿液狀態下，被處理物4才在液體中移動中從超音波槽1搬出，因此即使使開閉機構18c成為開啟狀態下亦能抑制處理液的流動，並且可以抑制因被處理物4的擺動動作所造成之折彎等的破損。

開閉機構18c成為關閉狀態之後，使充滿後槽7的處理液排出。由於後槽7內之處理液的排出是與前槽6相同，故省略其說明。後槽7內成為乾液狀態之後，使開閉機構18d成為開啟狀態，被處理物4從後槽7搬出。將被處理物4搬出後，開閉機構18d成為關閉狀態。其後，對後槽7供給處理液而成為滿液狀態。

其次，對於設於超音波槽1內的超音波振動體進行說明。於超音波振動體具備有驅動超音波振盪元件的超音波振盪器(圖示省略)。超音波振盪器是與電源(圖示省略)、以及控制部電性連接，接受到來自控制部的動作命令而以預定的間隔、頻率進行超音波振盪。超音波振動體係可以全時地動作，也可以控制ON/OFF。

當持續同一頻率之振盪的話會產生駐波，對於被處理物會有產生超音波處理不均勻或是被處理物損傷的情形。作為解決如此之問題的手段，可以舉出(1)將超音波振動體以產生不同頻率之超音波振盪的複數個超音波振盪元件來構成、(2)從超音波振動體至少同時振盪出2種頻率、(3)使從超音波振動體所振盪的頻率成為可變，可以使任一者單獨使用、或是予以組合使用。

(1)不同頻率的超音波振盪元件 　　超音波振動體亦可以是由振盪出不同頻率之超音波的複數個超音波振盪元件所構成。藉此，可以抑制對被處理物的同一處所持續施以相同頻率的超音波之情形下會成為問題的超音波處理不均勻或是被處理物的損傷。所謂複數個超音波振盪元件是只要組合頻率不同之2種以上的超音波振盪元件即可。作為不同頻率之2種超音波振盪元件之組合者，例如可舉出將頻率40kHz之超音波振盪元件與頻率75kHz之超音波振盪元件予以組合後的超音波振動體、或是將頻率28kHz之超音波振盪元件與頻率40kHz之超音波振盪元件予以組合後的超音波振動體。又，作為不同頻率之3種超音波振盪元件之組合者，例如可舉出將頻率28kHz之超音波振盪元件、頻率45kHz之超音波振盪元件、以及頻率100kHz之超音波振盪元件予以組合後的超音波振動體、或是將頻率35kHz之超音波振盪元件、頻率70kHz之超音波振盪元件、以及頻率100kHz之超音波振盪元件予以組合後的超音波振動體等。也可以使用將不同頻率之4種以上的超音波振盪元件予以組合後的超音波振動體。不同頻率之超音波振盪元件在組合上是不受上述所限定，而是可以適當地組合。

(2)使至少2種不同的頻率同時振盪 　　又，將複數個振盪不同頻率之超音波的超音波振盪元件予以組合後的超音波振動體，是可以以同時從所有的超音波振盪元件振盪出超音波的方式來控制、或是亦可以依各同一頻率的超音波振盪元件以在不同時機下振盪出超音波的方式來控制。當使不同的頻率同時振盪時，可以抑制超音波處理不均勻或者被處理物的損傷。

(3)使振盪的頻率成為可變 　　驅動超音波振盪元件的超音波振盪器亦可以具備有振幅調變電路(AM調變電路)或者頻率調變電路(FM調變電路)。藉此，使振動振幅變化而從超音波振動體的振盪頻率能夠成為可變。振動振幅變動，是可以使用AM調變、或者FM調變之任一者皆可、或是組合兩者來使用亦可。藉由如此地使振動振幅變化，可以抑制超音波處理不均勻或者被處理物的損傷。

從超音波振動體所振盪的超音波，依照其波長在處理液中會在音壓上產生強弱的分布。藉由超音波所產生之對被處理物之洗淨等的表面處理效果，在音壓為最大值時其效果最高。因此，以因應被處理物的大小尺寸等設置可調整超音波振動體與被處理物之間的間隔的調整手段為佳。作為超音波振動體與被處理物在水平方向上的距離調整手段者，於第16圖例示有水平位置調整機構。

第16圖是調整第1超音波振動體8及反射體12a與被處理物4之距離的水平位置調整機構的概略圖，且是從Z方向觀察第2圖之超音波槽1的正面圖。藉由水平位置調整機構，可以調整第1超音波振動體8與被處理物4的距離。水平位置調整機構係具有：使第1超音波振動體8移動的螺旋軸60、以及使該螺旋軸60旋轉的驅動機構。驅動機構係具有：螺旋軸旋轉控制用的馬達61、以及執行沒有圖示出的電源、馬達61之控制的控制部。馬達61與螺旋軸60是藉由棒狀之作為旋轉軸的軸62所連接。軸62係大致垂直地設置，為了將來自馬達61的動力傳達至螺旋軸60，其一端與馬達61連接，並且另一端設有：作為將旋轉傳達給螺旋軸60之手段的斜齒輪64。軸62是被設置成藉由通過被固定在超音波槽1內壁之軸承63的開口部而能夠旋轉。軸62的斜齒輪64，是配置成與設在形成有螺旋狀螺紋溝之螺旋軸60之一端的斜齒輪64接連，而使馬達61的動力能夠從軸62傳達至螺旋軸60。螺旋軸60的另一端是朝向被處理物4方向延伸，且螺旋軸60是以成為水平的方式所設置。於螺旋軸60依序安裝有軸承63、螺母65、軸承63。螺旋軸60是被設置成藉由通過被固定在超音波槽1底部之軸承63的開口部而能夠旋轉。又，螺旋軸60是通過被安裝在第1超音波振動體8底面之螺母65的開口部。於該開口部形成有：與形成於螺旋軸60之螺旋狀凹凸相對應的螺旋狀凹凸，因而藉由螺旋軸60的旋轉，可使螺母65在螺旋軸60上移動。第1超音波振動體8是藉由軌道58而能夠朝向與螺旋軸60設置方向相同的水平方向59滑動地被支撐，也就是在被處理物4與超音波槽1側面之間能夠水平滑動地被支撐。在圖示例中，軌道58是分別平行地配置在第1超音波振動體8的上下位置處，不過為了始終維持住第1超音波振動體8的姿勢來使之移動，軌道58亦可以是在第1超音波振動體8的上下左右四個角隅附近以使各軌道成為平行的方式來配置。軌道58的一端是被固定在超音波槽1的側面，而朝向被處理物4方向延伸。於第1超音波振動體8設有用以使軌道58穿通的貫通孔。當螺旋軸60旋轉而使螺母65移動時，被各軌道58所支撐的第一超音波振動體8伴隨著該移動而朝水平方向59移動。軌道58及螺旋軸60係具有移動後之第一超音波振動體8不會與被處理物4接觸的長度。反射體12a的水平位置調整機構亦具有同樣的構成。

於第2超音波振動體9、第3超音波振動體10、第4超音波振動體11、以及反射體12b～12d亦藉由設有與第一超音波振動體8相同的上述水平位置調整機構，而可以提昇由超音波所產生的表面處理效果。

將與上述水平位置調整機構相同的構成設置於上述導引手段，來調整導引手段與被處理物4的距離亦為理想的實施形態。藉由上述水平位置調整機構，並因應被處理物的尺寸，特別是因應於厚度來調整導引手段與被處理物之間的距離，藉此可以更進一步提升被處理物對撓彎或折彎等之破損防止效果。將在上述導引手段設置上述水平位置調整機構的構成例顯示於第17圖。

第17圖是用以調整構成導引手段的支柱14A與被處理物4之距離的水平位置調整機構的概略圖，且是從Z方向觀察第2圖之超音波槽1的正面圖。水平位置調整機構，係具有使台座66移動的螺旋軸60、以及使該螺旋軸60旋轉的驅動機構，其中，該台座66是將支柱14A、及固定柱16A以成為大致垂直的方式予以載置，該驅動機構之構成係如上所述。又，螺旋軸60與軸62的構成、設置、連接方法係如上所述，馬達61的動力是從軸62被傳達至螺旋軸60。螺母65是固定於台座66的底面部。棒狀的軌道58是被設置成：以與螺旋軸60成為水平的方式被固定在超音波槽1等，並且使台座66以能夠在軌道58上滑動的方式使軌道58通過設置於台座66的開口部。當螺旋軸60旋轉而使螺母65移動時，受軌道58所支撐的台座66伴隨著該移動而朝水平方向移動。藉此，可以調整導引手段與被處理物4的距離。同樣的水平位置調整機構亦設置在支柱14B、固定柱16B側，並且藉由使設在導引手段之兩側的水平位置調整機構連動地移動而可以平行移動導引手段。

水平位置調整機構的驅動，是在控制部中事先將超音波振動體與被處理物4的適當距離，也就是事先將相應於超音波的波長或者被處理物4之大小尺寸等的適當距離，與馬達旋轉數進行相關連結並記錄在控制部的記錄媒體中，藉此，以本發明的超音波處理裝置連續性地處理被處理物4時，由於即使包含有大小尺寸不同的被處理物4之情況時也能夠迅速地將超音波振動體移動至適當的位置，所以可以維持較高的處理效率。

同樣地，於控制部中事先將導引手段與被處理物4的適當距離，也就是事先將相應於被處理物4之大小尺寸等的適當距離，與馬達旋轉數進行相關連結並記錄在控制部的記錄媒體中，藉此，以本發明的超音波處理裝置連續性地處理被處理物4時，由於即使包含有大小尺寸不同的被處理物4之情況時也能夠迅速地將導引手段移動至適當的位置。

又，水平位置調整機構，亦可以用手動方式使軸62旋轉來取代上述驅動機構。例如亦可以用轉盤手柄或曲軸手柄等之手柄與軸62連接來取代馬達61。

又，作為使超音波振動體或者使導引手段朝向水平方向移動的手段，亦可以使用致動器或者氣缸等之各種周知的水平移動手段來取代上述螺旋螺母。將來自控制部的動作命令傳達至馬達等的驅動手段，使致動器或者氣缸動作來使超音波振動體或者支柱移動至預定的位置。

1‧‧‧超音波槽2‧‧‧第1超音波槽3‧‧‧第2超音波槽4‧‧‧被處理物5‧‧‧搬運方向6‧‧‧前槽7‧‧‧後槽8‧‧‧第1超音波振動體9‧‧‧第2超音波振動體10‧‧‧第3超音波振動體11‧‧‧第4超音波振動體12a～12d‧‧‧反射體13‧‧‧線材14A、14B‧‧‧支柱15A～15J‧‧‧折返部16A、16B‧‧‧固定柱17‧‧‧滾子環18a～18d‧‧‧開閉機構19‧‧‧超音波振盪元件20‧‧‧板構件21‧‧‧筐體22‧‧‧筐體搬運位置23‧‧‧搬運輥24‧‧‧始點25‧‧‧終點26‧‧‧溝槽27‧‧‧導引軌道28‧‧‧搬運用輥子29‧‧‧固定具連接台30‧‧‧缺口31‧‧‧固定具32‧‧‧把持部33‧‧‧超音波振盪元件的中央部34a、34b‧‧‧通過中央部的水平線35‧‧‧固定部36‧‧‧閘道通路37‧‧‧固定構件38‧‧‧閘道構件39‧‧‧L字型導引軌道40‧‧‧固定構件41‧‧‧連接構件42‧‧‧桿端43‧‧‧氣缸部45‧‧‧活塞桿46a～46c‧‧‧鉸鏈48‧‧‧曲柄桿49‧‧‧曲柄桿螺紋部50‧‧‧卡合銷51‧‧‧固定台52‧‧‧固定具53‧‧‧軸承具54‧‧‧軸55‧‧‧上部軸承56‧‧‧下部軸承57‧‧‧固定部58‧‧‧軌道59‧‧‧水平方向60‧‧‧螺旋軸61‧‧‧馬達62‧‧‧軸63‧‧‧軸承64‧‧‧斜齒輪65‧‧‧螺母66‧‧‧台座F、S、T、X、Y、Z‧‧‧觀察方向

第1圖，是從上方觀察本發明之一實施形態的超音波處理裝置的平面圖。 　　第2圖，是從Y方向觀察第1圖之超音波處理裝置的側面圖。 　　第3圖，為本發明的另一實施形態，是以水平搬運被處理物之超音波處理裝置的側面圖。 　　第4圖，為本發明的另一實施形態，是從上方觀察以筐體搬運被處理物之超音波處理裝置的平面圖。 　　第5圖，為本發明的另一實施形態，是從上方觀察以筐體搬運被處理物之超音波處理裝置的平面圖。 　　第6圖(A)是從上方觀察導引手段的平面圖；第6圖(B)是從X方向觀察導引手段的側面圖。 　　第7圖，是從第6圖(A)的X方向觀察本發明之導引手段的側面圖。 　　第8圖，是從Z方向觀察第2圖之超音波槽的正面圖。 　　第9圖(A)是從被處理物側觀察超音波振動體的正面圖；第9圖(B)是從底面側(P方向)觀察超音波振動體的斷面圖。 　　第10圖是在同一面側具有複數個超音波振動體之情形下的設置狀態的一例，是從被處理物側觀察超音波振動體的正面圖。 　　第11圖(A)是從上方觀察第1圖之開閉機構在開啟狀態下的平面圖；第11圖(B)是從S方向觀察開閉機構在開啟狀態下的正面圖；第11圖(C)是從S1方向觀察開閉機構在開啟狀態下的側面圖。 　　第12圖(A)是從上方觀察第1圖的開閉機構在關閉狀態下的平面圖；第12圖(B)是從S方向觀察開閉機構在關閉狀態下的正面圖。 　　第13圖(A)是從上方觀察第1圖的開閉機構在關閉狀態下的平面圖；第13圖(B)是從上方觀察開閉機構在關閉狀態下的平面圖。 　　第14圖(A)是從F方向觀察第13圖(A)之開閉機構在關閉狀態下的側面圖；第14圖(B)是從T方向觀察開閉機構在關閉狀態下的正面圖。 　　第15圖(A)是顯示導引手段之一方的支柱側之線材的高度位置下降前之狀態的圖面；第15圖(B)是顯示一方的支柱側之線材的高度位置下降後之狀態的圖面，且皆是從第1圖的Y方向所觀察的側面圖。 　　第16圖是用以調整第1超音波振動體及反射體，與被處理物之距離的水平位置調整機構的概略圖，且是從Z方向觀察第2圖之超音波槽的正面圖。 　　第17圖是用以調整構成導引手段的支柱與被處理物之距離的水平位置調整機構的概略圖，且是從Z方向觀察第2圖之超音波槽的正面圖。

1‧‧‧超音波槽

4‧‧‧被處理物

5‧‧‧搬運方向

6‧‧‧前槽

7‧‧‧後槽

8‧‧‧第1超音波振動體

9‧‧‧第2超音波振動體

10‧‧‧第3超音波振動體

11‧‧‧第4超音波振動體

12a~12d‧‧‧反射體

13‧‧‧線材

14A、14B‧‧‧支柱

16A、16B‧‧‧固定柱

17‧‧‧滾子環

18a~18d‧‧‧開閉機構

Y‧‧‧觀察方向

Claims (17)

1. 一種超音波處理裝置，其特徵為，具有：用以對被處理物實施超音波處理的超音波槽、及設在上述被處理物之表面側的第1超音波振動體和第3超音波振動體、以及設在上述被處理物之背面側的第2超音波振動體和第4超音波振動體；上述第1超音波振動體，是以與上述第2超音波振動體不相向的方式所配置；通過構成上述第1超音波振動體之超音波振盪元件的中央部的水平線，是與通過構成上述第3超音波振動體之任一超音波振盪元件的中央部的水平線，以沒有重疊的方式所配置，並且通過構成上述第2超音波振動體之超音波振盪元件的中央部的水平線，是與通過構成上述第4超音波振動體之任一超音波振盪元件的中央部的水平線，以沒有重疊的方式所配置。
2. 一種超音波處理裝置，其特徵為，具有：用以對被處理物實施超音波處理的超音波槽、及設在上述被處理物之表面側的第1超音波振動體、以及設在上述被處理物之背面側的第2超音波振動體； 上述第1超音波振動體，是以與上述第2超音波振動體不相向的方式所配置；上述第1、第2超音波振動體，係具有：複數個超音波振盪元件、以及與上述超音波振盪元件的超音波振盪側接觸而設置的板構件；具有與上述第1、第2超音波振動體相向的反射體，並且上述反射體的反射面是存在於夾介上述被處理物而相向之上述第1、第2超音波振動體的正面位置。
3. 一種超音波處理裝置，其特徵為，具有：用以對被處理物實施超音波處理的超音波槽、及設在上述被處理物之表面側的第1超音波振動體、以及設在上述被處理物之背面側的第2超音波振動體；上述第1超音波振動體，是以與上述第2超音波振動體不相向的方式所配置；上述超音波處理裝置，係具有：設在上述超音波槽之入口側的前槽、以及設在上述超音波槽之出口側的後槽；於上述前槽與上述後槽之間，設有朝向上述超音波槽側開啟的開閉機構。
4. 如申請專利範圍第1或3項的超音波處理裝置，其中，上述第1、第2超音波振動體，係具有：複數個超音波 振盪元件、以及與上述超音波振盪元件的超音波振盪側接觸而設置的板構件。
5. 如申請專利範圍第2或3項的超音波處理裝置，其中，上述超音波槽，進一步地具有：設置在上述被處理物之表面側的第3超音波振動體、以及設置在上述被處理物之背面側的第4超音波振動體；通過構成上述第1超音波振動體之超音波振盪元件的中央部的水平線，是與通過構成上述第3超音波振動體之任一超音波振盪元件的中央部的水平線，以沒有重疊的方式所配置，並且通過構成上述第2超音波振動體之超音波振盪元件的中央部的水平線，是與通過構成上述第4超音波振動體之任一超音波振盪元件的中央部的水平線，以沒有重疊的方式所配置。
6. 如申請專利範圍第1或3項的超音波處理裝置，其中，具有與上述第1、第2超音波振動體相向的反射體。
7. 如申請專利範圍第1至3項中之任一項的超音波處理裝置，其中，上述超音波處理裝置，具有上述被處理物的搬運機構。
8. 如申請專利範圍第1或2項所述的超音波處理裝置，其中，上述超音波處理裝置，係具有：設在上述超音波槽之入口側的前槽、以及設在上述超音波槽之出口側的後槽；於上述前槽與上述後槽之間，設有朝向上述超音波槽側開啟的開閉機構。
9. 一種超音波處理裝置，其特徵為，具有：對被處理物實施超音波處理的超音波槽、及對被處理物發出超音波振盪的超音波振動體、及上述被處理物的搬運機構、及與上述被處理物的表面相向的導引手段、以及與上述被處理物的背面相向的導引手段；上述導引手段，是於垂直面上形成有複數根線材，並且上述線材的長邊方向是相對於水平線呈傾斜地設置。
10. 如申請專利範圍第9項的超音波處理裝置，其中，上述導引手段，係具有：位於上述線材長邊方向兩端的支柱、以及接近上述支柱所設置之上述線材的折返部；上述線材是通過一方之上述支柱的外周後在上述折返 部折返，通過上述一方之支柱的外周後而跨渡至另一方的支柱。
11. 如申請專利範圍第9或10項的超音波處理裝置，其中，上述線材具有導電性。
12. 如申請專利範圍第9或10項的超音波處理裝置，其中，上述支柱，形成有螺旋狀的溝槽。
13. 如申請專利範圍第9或10項的超音波處理裝置，其中，於上述支柱，設有用以調整與上述被處理物之距離的水平位置調整機構。
14. 如申請專利範圍第9或10項的超音波處理裝置，其中，上述超音波振動體，是由振盪出不同頻率之超音波的複數個超音波振盪元件所構成。
15. 如申請專利範圍第9或10項的超音波處理裝置，其中，上述超音波振動體，是同時地振盪出至少2種不同的 頻率者。
16. 如申請專利範圍第9或10項的超音波處理裝置，其中，上述超音波振動體，是使頻率可變地被驅動者。
17. 如申請專利範圍第9或10項所述的超音波處理裝置，其中，於上述超音波振動體，設有：用以調整與上述被處理物之距離的水平位置調整機構。

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