TWI743291B - 閘流體熱開關元件及其裝配方法 - Google Patents
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Abstract
一種元件可包括引線框架,其中所述引線框架包括中心
部分及側面接墊,所述側面接墊相對於中心部分沿側向設置。所述元件可更包括閘流體元件,所述閘流體元件包括半導體晶粒且更包括閘極,其中所述閘流體元件在中心部分上設置於引線框架的第一側上。所述元件亦可包括:正溫度係數(PTC)元件,電性耦合至閘流體元件的閘極,其中所述正溫度係數元件在引線框架的第一側上設置於側面接墊上;以及熱耦合器,具有連接至閘流體元件的第一端及附接至正溫度係數元件的第二端。
Description
各實施例是有關於突波保護元件領域,且更具體而言是有關於過電壓保護元件及可重設熔斷器。
閘流體廣泛用於交流(alternating current,AC)電力控制應用。與其他半導體開關一樣,閘流體在傳導電流時會產生熱量。包括閘流體的元件或設備常常包括用於對由閘流體造成的熱量產生進行測量或管理的其他組件,包括散熱片(heat sink)、冷卻風扇、或用於監測閘流體主體溫度的溫度感測器。若不進行溫度控制,則閘流體可進入熱失控(thermal runaway)狀態,進而導致災難性故障(catastrophic failure)。在成本敏感應用中,大的散熱片或冷卻風扇並非可接受的解決方案,因而迫使設計者規定閘流體在遠低於其最大操作額定條件下操作以防止熱量相關故障。
有鑒於該些及其他考量,提供本揭露內容。
各示例性實施例是有關於改良的保護元件。在一個實施例中,一種元件可包括引線框架,其中所述引線框架包括中心部
分及側面接墊,所述側面接墊相對於所述中心部分沿側向設置。所述元件可更包括閘流體元件,所述閘流體元件包括半導體晶粒且更包括閘極,其中所述閘流體元件在所述中心部分上設置於所述引線框架的第一側上。所述元件亦可包括正溫度係數(positive temperature coefficient,PTC)元件,所述正溫度係數元件電性耦合至所述閘流體元件的閘極,其中所述正溫度係數元件在所述引線框架的第一側上設置於所述側面接墊上;且可包括熱耦合器,所述熱耦合器具有連接至所述閘流體元件的第一端及附接至所述正溫度係數元件的第二端。
在另一實施例中,一種方法可包括提供引線框架,所述引線框架具有中心部分及側面接墊,其中所述側面接墊相對於所述中心部分沿側向設置。所述方法可更包括將閘流體元件附加至所述引線框架的中心部分的第一側,所述閘流體元件包括半導體晶粒且更包括閘極。所述方法亦可包括:將正溫度係數(PTC)元件在所述引線框架的第一側上附加至所述側面接墊;以及將熱耦合器的第一端連接至所述閘流體元件以及將所述熱耦合器的第二端連接至所述正溫度係數元件,其中所述閘流體元件的閘極電性連接至所述正溫度係數元件。
100、202:元件
102:引線框架
104:中心部分
106:側面接墊
112:第一主端子引線
114:第二主端子引線
116:閘極引線
122:正溫度係數元件
124:閘流體元件
126:主端子接觸夾
127:第一主端子電極
128:熱耦合器
129:上表面
130:第一端
132:第二端
134:閘極電極
136:陶瓷基板
138:散熱片
140:焊料
144、204:殼體
150:第一側
200:配置形式
400:過程流程
402、404、406、408:操作
MT1:第一主端子
圖1A呈現根據本揭露實施例的元件的分解立體圖。
圖1B呈現根據本揭露實施例的呈已組裝形式的元件的俯視平面圖。
圖1C提供圖1A所示元件的一種實作方式的電路圖。
圖2A呈現在第一組裝階段中元件的配置形式的俯視平面圖。
圖2B呈現在第二組裝階段中元件的配置形式的俯視平面圖。
圖2C呈現在第三組裝階段中元件的配置形式的俯視平面圖。
圖3繪示示出示例性正溫度係數元件的特性的示例性曲線圖。
圖4示出根據本揭露一些實施例的組裝設備的流程圖。
現在將在下文中參照其中示出示例性實施例的附圖來更充分地闡述本發明實施例。所述實施例不應被視為僅限於本文所述的實施例。更確切而言,提供該些實施例是為了使本揭露內容將透徹及完整,且將向熟習此項技術者充分傳達本揭露內容的範圍。在圖式中,相同編號自始至終指代相同部件。
在以下說明及/或申請專利範圍中,用語「位於…上」、「上覆於…上」、「設置於…上」、及「位於…之上」可在以下說明及申請專利範圍中使用。「位於…上」、「上覆於…上」、「設置於…上」、及「位於…之上」可用來指示二或更多個部件直接實體地接觸彼此。此外,用語「位於…上」、「上覆於…上」、「設置於…上」、及「位於…之上」亦可意味著二或更多個部件不直接接觸彼此。舉
例而言,「位於…之上」可意味著一個部件位於另一部件上方而不接觸彼此,且可在所述兩個部件之間具有另一部件或另一些部件。此外,用語「及/或」可意指「及」,其可意指「或」,其可意指「互斥或」,其可意指「一個」,其可意指「一些,但並非全部」,其可意指「兩者皆不…」,及/或其可意指「兩者皆…」,但所主張主題的範圍在此方面並不受到限制。
在各種實施例中,提供一種混合元件,所述混合元件包括閘流體元件(例如三端雙向閘流體(triode for alternating current,TRIAC))以及充當熱開關的正溫度係數元件。設備可被配置成能改良設計以便於更易於組裝以及更佳地整合至待保護元件中的構型。
本文所使用的用語「閘流體元件」可包括單個閘流體、矽控整流器(silicon controlled rectifier,SCR)或交流三極體元件。眾所習知,閘流體元件與矽控整流器有關,其中矽控整流器是由分層式結構構成,所述分層式結構具有由N型半導體區或層以及P型半導體層或區例如按照P-N-P-N四層順序形成的配置形式。在閘流體中,閘極連接至四層式元件的內層。與在僅一個方向上傳導電流的單個閘流體不同,交流三極體可被視為可在兩個方向上進行電流傳導的一種閘流體。可藉由對閘極施加正電壓或負電壓來觸發交流三極體。交流三極體一旦被觸發便會繼續傳導,即使閘極電流中斷,直至主電流降至低於被稱為保持電流的特定位準。
本發明實施例藉由將正溫度係數(PTC)型組件整合至緊密裝置中以控制閘流體元件的操作,來提供對已知元件的改良。圖1A呈現根據本揭露實施例的元件100的分解立體圖,而圖1B呈現根據本揭露實施例的呈已組裝形式的元件100的俯視平面圖。另外,圖1C提供圖1A所示元件100的一種實作方式的電路圖。如圖1A所示,元件100包括引線框架102,其中引線框架102包括中心部分104及側面接墊106,其中側面接墊106相對於中心部分104沿側向設置。引線框架102一般可由導電性材料構成,所述導電性材料例如為金屬,包括銅材料,例如純銅或銅合金。引線框架102亦可包括第一主端子引線112、第二主端子引線114、及閘極引線116,如圖所示。第二主端子引線114可連接至中心部分104。元件100可更包括閘流體元件124。與在已知閘流體元件中一樣,閘流體元件124可在半導體晶粒中被形成為其中不同的層具有不同摻雜極性的多層結構。閘流體元件124可被實施為交流三極體,其中閘流體元件124包括閘極。如圖1A所示,在組裝後,閘流體元件124在中心部分104上設置於引線框架的第一側150(如圖1A所示引線框架的上側)上。如此一來,第二主端子引線114可經由位於與上表面129相對的下表面上的閘流體元件124的第二主端子電極(圖中未示出)電性連接至閘流體元件124。
如圖1A所示,元件100包括正溫度係數(PTC)元件122,在各種實施例中所述元件可為聚合物正溫度係數元件。此種
元件可能夠使電阻率在窄的溫度範圍內(例如在10攝氏度或20攝氏度範圍內)改變大約10,000倍。如下文進一步論述,在組裝後,正溫度係數元件122可電性耦合至閘流體元件124的閘極,且具體而言可在引線框架102的第一側150上設置於側面接墊106上。如圖1A進一步所繪示,元件100可包括熱耦合器128,熱耦合器128在組裝後具有連接至閘流體元件124的第一端130以及附接至正溫度係數元件122的第二端132。熱耦合器128可為高導熱性主體,例如銅臂,所述高導熱性主體在閘流體元件124與正溫度係數元件122之間提供高導熱路徑。如此一來,當閘流體元件124在操作期間變熱時,正溫度係數元件122因此可快速變熱,以獲得與閘流體元件124的溫度接近的溫度。
如圖1A進一步所示,元件100可包括主端子接觸夾126,主端子接觸夾126被配置成接觸第一主端子電極127而不接觸銅臂,即不觸及熱耦合器128。主端子接觸夾126在組裝後可在第一主端子引線112與閘流體元件124的第一主端子(參見圖1C所示MT1)之間提供導電性路徑。如此一來,在元件100的操作期間,電流可在第一主端子引線112與第二主端子引線114之間經由閘流體元件124傳導至第二主端子引線114。如下文所詳述,在操作期間,所述兩條引線之間的電流可藉由經由閘極引線116供應的電流來調節。
在組裝後,熱耦合器128亦可用作設置於閘流體元件124的上表面129上的閘極電極134與正溫度係數元件122之間的
電性連接部。如此一來,在操作期間,正溫度係數元件122電性串聯於閘極引線116與閘極電極134之間。如此,正溫度係數元件122可用作被供應至閘流體元件124的閘極電流的電流調節器。舉例而言,在由閘流體元件124傳導的電流不會過高的中等電流操作條件下,閘流體元件124的溫度可保持低於此項技術中所定義的最大接面溫度Tjmax。具體而言,若接面溫度Tj上升至超過Tjmax,則漏電流(leakage current)可高至足以觸發閘流體的敏感閘極。閘流體元件然後將會失去保持處於阻斷狀態的能力,且電流傳導將在不施加外部閘極電流情況下開始進行。
Tjmax的值可根據此項技術中已知的具體交流三極體或閘流體元件來確定。舉例而言,在一些實例中,Tjmax可為110℃、120℃、130℃、或140℃、或者150℃。實施例並非僅限於此上下文。正溫度係數元件122可被設計成當溫度低於Tjmax時,用作相對低電阻元件。因此,足夠的閘極電流可自閘極引線116經由電路流至閘極電極134,以達成閘流體元件124的目標操作。當溫度逼近Tjmax或達到Tjmax時,正溫度係數元件122可被設計成具有與Tjmax接近的脫扣溫度(trip temperature),其中正溫度係數元件122用作相對高電阻元件。在一個具體實施例中,正溫度係數元件122可被設計成具有130℃的脫扣溫度,而用作閘流體元件124的交流三極體的Tjmax為150℃。如此,可減少來自閘流體元件124的閘極的電流,使得由閘流體元件124傳導的電流降低,進而進一步限制閘流體元件124發熱。此種電流限制可使得防止損壞閘流體
元件124及周圍的組件,否則可能會在熱失控條件下在缺少正溫度係數元件122的元件中發生此種損壞。如圖1A進一步所示,元件100可包括散熱片138,散熱片138提供引線框架102與外部散熱片之間的熱連接。元件100亦可包括陶瓷基板136,陶瓷基板136藉由焊料140連接至散熱片138且提供引線框架102與散熱片138之間的電性隔離。散熱片138被暴露至外部條件且連接至外部散熱片(圖中未示出),所述散熱片可為最終產品的外殼。
轉向圖1B,其示出元件100的變型的已組裝視圖,其中元件100亦包括圖1A中未示出的殼體144。與在已知元件中一樣,殼體144可為固體模塑材料,殼體144包圍上文所述的其他組件。在操作中,元件100可方便地耦合至例如在交流應用中待調節的任何電路或任一組元件或組件。圖1C提供元件100的一種實作方式的電路表示,其中元件100包括交流三極體作為閘流體元件124。如此一來,可借助於正溫度係數元件122經由交流三極體在兩個相反的方向上進行電流調節。
圖2A呈現在可被稱為第一組裝階段(而非開始組裝)的組裝階段中元件202的配置形式200的俯視平面圖。在此實例中,元件202可實質上相同於上文所述的元件100。配置形式200包括在組裝期間容納多個元件的構架,其中所述元件的單體化(參見例如圖1B所示單體化元件)可在組裝完成之後進行。在圖2A所示組裝階段,閘流體元件124例如藉由焊接而附加至引線框架102的中心部分104。閘極電極134及第一主端子電極127設置於
上表面129上,面向外(向上)且不直接電性接觸用於保持閘流體元件124的中心部分104。另外,位於閘流體元件124的下表面上的第二主端子電極(圖中未示出)電性接觸中心部分104。另外,正溫度係數元件124例如藉由焊接連接至側面接墊106。
圖2B呈現在第二組裝階段中元件的配置形式200的俯視平面圖。在此組裝階段中,熱耦合器128就位,以用於將正溫度係數元件122電性連接至閘流體元件124以及將正溫度係數元件122熱耦合至閘流體元件124。熱耦合器128可被焊接至正溫度係數元件122,且可呈附著至閘極電極134的金屬夾的形式,並且可藉由焊接或打線結合(wire bonding)附接至閘極電極。另外,第一主端子接觸夾126就位且可被焊接至第一主端子引線112。第一主端子接觸夾126被配置成例如使用焊料連接來接觸第一主端子電極127而不接觸熱耦合器128。在所示實施例中,第一主端子接觸夾126具有C形狀,以提供廣大的表面積來耦合至第一主端子電極127,而不接觸閘極電極134。第一主端子電極127亦可存在其他形狀。另外,在圖2B所示實施例中,熱耦合器128可延伸超過第一主端子接觸夾126的平面,以在第一主端子接觸夾126之上延伸,而不觸及第一主端子接觸夾126,如圖所示。熱耦合器128亦可存在其他形狀,例如圖1A所示實施例的直角形狀。
圖2C呈現在第三組裝階段中元件202的配置形式200的俯視平面圖,其中用於形成最終元件的給定一組組件被包封於殼體204(例如環氧材料)中。舉例而言,閘流體元件與對應的正
溫度係數元件一起被包封於給定殼體中,而閘極引線116、第一主端子引線112、及第二主端子引線114延伸至殼體204之外。隨後,配置形式200可經單體化而形成圖1B所示的一組各別元件。
在一些實施例中,正溫度係數元件122的大小可被設計成以不延伸超出側面接墊106的方式配合於側面接墊106上。在一些實施例中,正溫度係數元件122可在圖2A的平面圖中具有矩形或正方形形狀,其中正溫度係數元件的大小為60密耳×60密耳或小於60密耳×60密耳。實施例並非僅限於此上下文。
在以上實施例的變型中,正溫度係數元件122的電特性可根據待保護的閘流體元件124的電特性來進行定製。作為實例,給定正溫度係數元件可由脫扣溫度來表徵。脫扣溫度對應於將低溫狀態(傳導狀態)與高溫狀態(高阻抗狀態)分開的溫度,在低溫狀態下,電阻相對較低且隨著溫度的升高而相對緩慢地升高,而在高溫狀態下,電阻變得相對高得多且隨著溫度的升高而相對快速地升高。圖3提供示出示例性200密耳正方形正溫度係數測試晶片的電阻隨著溫度而變化的示例性曲線圖,其中以對數刻度來繪出電阻。在此實例中,脫扣溫度可被設計為近似125℃。在低於此溫度時,電阻為幾歐姆以下且在25℃與125℃之間的100℃範圍內增加僅一個數量級(one order of magnitude)。在高於脫扣溫度時,電阻在僅10℃範圍內增加四個數量級(104)。因此,當電流在溫度低於125℃的初始「冷的」條件下傳導經過正溫度係數晶片且正溫度係數晶片的溫度隨後升高並超過125℃僅幾度
時,在其他條件皆相同的條件下,經過正溫度係數晶片的電流可降低許多個數量級。該些特性可藉由將圖3所示正溫度係數晶片耦合至如上所述的閘流體元件(例如交流三極體,其中所述交流三極體具有介於例如125℃至145℃範圍內的最大接面溫度)而得到有效利用。如此,當交流三極體的溫度超過125℃時,可藉由減小經由閘極端子及正溫度係數晶片所供應的閘極電流來間接控制交流三極體的溫度。此種限制藉由限制交流三極體所經歷的最大溫度達到目標最大水準(例如Tjmax)的持續時間及所述最大溫度的值來防止電流/熱失控情景。如此一來,對交流三極體元件的操作的控制得以維持。另外,正溫度係數晶片的存在使得交流三極體元件能夠接近於Tjmax或在Tjmax下操作,此為對先前所知的交流三極體元件操作的改良,在先前所知的交流三極體元件操作中,操作溫度可被限制至低得多的溫度來防止熱失控及對元件的潛在破壞。
僅作為說明性實例,在交流三極體的傳導狀態下,當需要100毫安的閘極電流時,閘極驅動器可施加最多達12伏特。此條件會導致為120歐姆的阻抗最大值。在阻斷狀態下,可施加20伏特的最大值且閘極電流將被限制至小於0.1毫安以在125℃的溫度下將交流三極體維持於關斷狀態下。在此種情況下,所需要的阻抗為200千歐姆或高於200千歐姆。可藉由根據本發明實施例進行配置的60密耳×60密耳正溫度係數元件來輕易地達成多於三個數量級的此種電阻變化。應注意,對於60密耳×60密耳晶粒,
使用200密耳×200密耳正溫度係數晶片的圖3所示阻抗值按比例增大近似11倍。
應注意,為了改良元件(例如元件100)的設計,可將正溫度係數元件122與閘流體元件124之間的熱耦合考量在內。舉例而言,閘流體元件的Tjmax或其他設計限制可為130℃。在所述元件結構的元件100操作條件下,正溫度係數元件122與閘流體元件124之間的熱耦合可使得當閘流體元件達到130℃時,設置於側面接墊106上的正溫度係數元件122的溫度可達到110℃。因此,正溫度係數元件122可被配置成具有介於110℃範圍內的脫扣溫度,以使得當正溫度係數元件122超過110℃時(對應於當閘流體元件124的溫度超過130℃時的條件)觸發高阻抗狀態。
圖4示出根據本揭露的額外實施例的過程流程400。在方塊402中,提供引線框架,其中所述引線框架具有中心部分及側面接墊,其中所述側面接墊相對於中心部分沿側向設置。在各種實施例中,引線框架可包括三條引線,其中一條引線連接至中心部分。
在方塊404中,將閘流體元件(例如交流三極體)附加至引線框架的中心部分的第一側。閘流體元件可包括具有閘極的半導體晶粒。閘極可包括形成於半導體晶粒的上表面上的閘極接點。
在方塊406中,將正溫度係數元件在引線框架的第一側上附加至側面接墊。正溫度係數元件可例如被焊接至側面接墊。
在方塊408中,將熱耦合器在第一端上連接至閘流體元件以及在第二端上連接至正溫度係數元件。熱耦合器可用於將閘流體元件電性連接至正溫度係數元件,同時亦在正溫度係數元件與閘流體元件之間提供高熱導率。
儘管已參照某些實施例揭露了本發明實施例,然而在不背離本揭露的領域及範圍的同時可對所述實施例作出眾多潤飾、變更、及改變。因此,本發明實施例並非僅限於所述實施例,而是可具有由以下申請專利範圍及其等效範圍的語言所界定的全範圍。
100:元件
102:引線框架
104:中心部分
106:側面接墊
112:第一主端子引線
114:第二主端子引線
116:閘極引線
122:正溫度係數元件
124:閘流體元件
126:主端子接觸夾
127:第一主端子電極
128:熱耦合器
129:上表面
130:第一端
132:第二端
134:閘極電極
136:陶瓷基板
138:散熱片
140:焊料
150:第一側
Claims (13)
- 一種閘流體熱開關元件,包括:引線框架,所述引線框架包括:中心部分;側面接墊,所述側面接墊相對於所述中心部分沿側向設置;閘流體元件,所述閘流體元件包括半導體晶粒且更包括閘極,其中所述閘流體元件在所述中心部分上設置於所述引線框架的第一側上;正溫度係數元件,電性耦合至所述閘流體元件的所述閘極,其中所述正溫度係數元件在所述引線框架的所述第一側上設置於所述側面接墊上;以及熱耦合器,具有連接至所述閘流體元件的第一端及附接至所述正溫度係數元件的第二端,其中所述熱耦合器包括銅臂,所述銅臂將所述閘極電性連接至所述正溫度係數元件,其中所述閘流體元件包括上表面,所述上表面包括閘極電極及第一主端子電極,其中所述第一主端子電極環繞所述閘極電極且與所述閘電極電性隔離。
- 如申請專利範圍第1項所述的閘流體熱開關元件,其中所述引線框架包含銅材料。
- 如申請專利範圍第1項所述的閘流體熱開關元件,更包 括主端子接觸夾,所述主端子接觸夾被配置成接觸所述第一主端子電極而不接觸所述銅臂。
- 如申請專利範圍第1項所述的閘流體熱開關元件,所述引線框架更包括:第一主端子引線,電性耦合至所述閘流體元件的所述第一主端子電極;第二主端子引線,電性耦合至位於與所述上表面相對的下表面上的所述閘流體元件的第二主端子電極;以及閘極引線,電性耦合至所述正溫度係數元件。
- 如申請專利範圍第4項所述的閘流體熱開關元件,其中所述銅臂連接至所述正溫度係數元件的第一表面,且其中所述閘極引線連接至所述正溫度係數元件的第二表面,所述第二表面與所述第一表面相對。
- 如申請專利範圍第1項所述的閘流體熱開關元件,其中所述閘流體元件包括交流三極體。
- 如申請專利範圍第1項所述的閘流體熱開關元件,其中所述正溫度係數元件包括聚合物正溫度係數元件。
- 如申請專利範圍第1項所述的閘流體熱開關元件,其中所述正溫度係數元件包括脫扣溫度,其中所述閘流體元件包括最高接面溫度,且其中所述最高接面溫度超過所述脫扣溫度20攝氏度或不到20攝氏度。
- 一種閘流體熱開關的裝配方法,包括: 提供引線框架,所述引線框架包括:中心部分;以及側面接墊,所述側面接墊相對於所述中心部分沿側向設置;將閘流體元件附加至所述引線框架的所述中心部分的第一側,所述閘流體元件包括半導體晶粒且更包括閘極;將正溫度係數元件在所述引線框架的所述第一側上附加至所述側面接墊;將熱耦合器的第一端連接至所述閘流體元件以及將所述熱耦合器的第二端連接至所述正溫度係數元件,其中所述閘流體元件的所述閘極電性連接至所述正溫度係數元件,所述熱耦合器包括銅臂,所述銅臂將所述閘極電性連接至所述正溫度係數元件;在所述閘流體元件的上表面上提供閘極電極及第一主端子電極,其中所述第一主端子電極環繞所述閘極電極且與所述閘極電極電性隔離;以及將主端子接觸夾附加至所述第一主端子電極而使所述主端子接觸夾不接觸所述銅臂或所述閘極電極。
- 如申請專利範圍第9項所述的閘流體熱開關的裝配方法,更包括:將第一主端子引線連接至所述主端子接觸夾;將第二主端子引線耦合至位於與所述上表面相對的下表面上的所述閘流體元件的第二主端子接點;以及 將閘極引線連接至所述正溫度係數元件。
- 如申請專利範圍第10項所述的閘流體熱開關的裝配方法,其中所述將所述熱耦合器的所述第二端連接至所述正溫度係數元件包括將所述熱耦合器連接至所述正溫度係數元件的第一表面,且其中所述將所述閘極引線連接至所述正溫度係數元件包括將所述閘極引線連接至所述正溫度係數元件的第二表面,所述第二表面與所述第一表面相對。
- 如申請專利範圍第9項所述的閘流體熱開關的裝配方法,其中所述閘流體元件包括交流三極體。
- 如申請專利範圍第9項所述的閘流體熱開關的裝配方法,其中所述正溫度係數元件包括聚合物正溫度係數元件。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI792574B (zh) * | 2017-01-13 | 2023-02-11 | 美商力特福斯股份有限公司 | 閘流體熱開關元件及其裝配方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11349021B2 (en) | 2020-03-24 | 2022-05-31 | Littelfuse, Inc. | Thyristor assembly |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030010997A1 (en) * | 1999-03-01 | 2003-01-16 | Casey Kelly C. | Low voltage protection module |
US20060016694A1 (en) * | 2004-07-20 | 2006-01-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Tin-plated film and method for producing the same |
US20060215342A1 (en) * | 2005-03-28 | 2006-09-28 | Wayne Montoya | Surface mount multi-layer electrical circuit protection device with active element between PPTC layers |
US20100155034A1 (en) * | 2007-06-11 | 2010-06-24 | Mueller Jens | Heat pipe and cooling device used in cryotechnology |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3489976A (en) * | 1966-01-03 | 1970-01-13 | Texas Instruments Inc | Self-protected time delay relay |
US3708720A (en) * | 1973-01-02 | 1973-01-02 | Franklin Electric Co Inc | Semiconductor thermal protection |
US5150271A (en) | 1990-08-21 | 1992-09-22 | Texas Instruments Incorporated | Telecommunication equipment protector |
JP3272493B2 (ja) | 1992-12-05 | 2002-04-08 | 山田電機製造株式会社 | 単相誘導電動機の起動装置 |
US5452853A (en) * | 1994-05-04 | 1995-09-26 | Action Products Marketing Corporation | Method and apparatus for spraying grout onto the interior surface of an enclosed elongated cavity |
US6331763B1 (en) * | 1998-04-15 | 2001-12-18 | Tyco Electronics Corporation | Devices and methods for protection of rechargeable elements |
ATE437463T1 (de) * | 1999-03-25 | 2009-08-15 | Tyco Electronics Corp | Vorrichtungen und verfahren zum schutz von wiederaufladbaren elementen |
US6667461B1 (en) * | 2002-06-19 | 2003-12-23 | Tyco Electronics Corporation | Multiple load protection and control device |
ATE328354T1 (de) * | 2002-12-11 | 2006-06-15 | Bourns Inc | Verkapseltes elektronisches bauelement und verfahren zu dessen herstellung |
US6862162B2 (en) * | 2003-04-23 | 2005-03-01 | Teccor Electronics, Lp | Thyristor circuit providing overcurrent protection to a low impedance load |
US6980411B2 (en) * | 2003-06-04 | 2005-12-27 | Bel Fuse Incorporated | Telecom circuit protection apparatus |
JP2009117535A (ja) * | 2007-11-05 | 2009-05-28 | Sharp Corp | ソリッドステートリレーおよびこれを搭載した電子機器 |
US20100301332A1 (en) * | 2009-05-29 | 2010-12-02 | Donald Dibra | Detecting a Fault State of a Semiconductor Arrangement |
US10128219B2 (en) * | 2012-04-25 | 2018-11-13 | Texas Instruments Incorporated | Multi-chip module including stacked power devices with metal clip |
KR20160002918A (ko) | 2013-04-19 | 2016-01-08 | 타이코 일렉트로닉스 저팬 지.케이. | 보호 장치 |
US9773718B2 (en) | 2013-08-07 | 2017-09-26 | Oracle International Corporation | Winged heat sink |
WO2015111623A1 (ja) * | 2014-01-22 | 2015-07-30 | 大日本印刷株式会社 | リードフレームおよびその製造方法、ならびに半導体装置およびその製造方法 |
US10177081B2 (en) * | 2017-01-13 | 2019-01-08 | Littlefuse, Inc. | Thyristor and thermal switch device and assembly techniques therefor |
-
2017
- 2017-01-13 US US15/406,065 patent/US10177081B2/en active Active
-
2018
- 2018-01-12 CN CN201880015455.7A patent/CN110392925B/zh active Active
- 2018-01-12 WO PCT/US2018/013455 patent/WO2018132641A1/en unknown
- 2018-01-12 TW TW107101301A patent/TWI743291B/zh active
- 2018-01-12 KR KR1020197023409A patent/KR102476452B1/ko active IP Right Grant
- 2018-01-12 TW TW110135159A patent/TWI792574B/zh active
- 2018-01-12 EP EP18739167.7A patent/EP3568874B1/en active Active
- 2018-12-05 US US16/210,335 patent/US10446477B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030010997A1 (en) * | 1999-03-01 | 2003-01-16 | Casey Kelly C. | Low voltage protection module |
US20060016694A1 (en) * | 2004-07-20 | 2006-01-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Tin-plated film and method for producing the same |
US20060215342A1 (en) * | 2005-03-28 | 2006-09-28 | Wayne Montoya | Surface mount multi-layer electrical circuit protection device with active element between PPTC layers |
US20100155034A1 (en) * | 2007-06-11 | 2010-06-24 | Mueller Jens | Heat pipe and cooling device used in cryotechnology |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI792574B (zh) * | 2017-01-13 | 2023-02-11 | 美商力特福斯股份有限公司 | 閘流體熱開關元件及其裝配方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20190103349A (ko) | 2019-09-04 |
WO2018132641A1 (en) | 2018-07-19 |
US10177081B2 (en) | 2019-01-08 |
US10446477B2 (en) | 2019-10-15 |
TW201841320A (zh) | 2018-11-16 |
US20190109078A1 (en) | 2019-04-11 |
TW202213410A (zh) | 2022-04-01 |
EP3568874A4 (en) | 2020-11-04 |
KR102476452B1 (ko) | 2022-12-12 |
US20180204789A1 (en) | 2018-07-19 |
EP3568874B1 (en) | 2023-08-30 |
EP3568874A1 (en) | 2019-11-20 |
CN110392925A (zh) | 2019-10-29 |
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