TWI696531B - 取放頭及用於提取工件之方法 - Google Patents

Abstract

本發明揭示一種取放頭，其用於自至少一第一位置提取複數個工件並將該複數個工件放置於至少一第二位置處。該取放頭展現複數個吸嘴，其中各吸嘴經結構設計以藉由一真空之作用接合該等工件之一者。至少一吸嘴具有一個別真空供應裝置且至少兩個另外吸嘴具有一共用真空供應裝置。亦揭示一種對應方法，該方法包含以下步驟：用一各自吸嘴接近該複數個工件之至少一者且接著開始在各個各自吸嘴處產生一真空。至少一吸嘴處真空之該產生係藉由一個別真空供應裝置達成且至少兩個另外吸嘴處真空之產生係藉由該至少兩個另外吸嘴之一共用真空供應裝置達成。

Description

取放頭及用於提取工件之方法

本發明係關於一種用於自一位置提取工件並將其等放置於一不同位置處之取放頭以及對應方法。更具體言之，本發明係關於一種取放頭及對應方法，其中工件之提取係藉由真空之作用。

一產品之製造或一些裝置之組裝通常涉及工件(例如待組裝組件)之處置。特定言之，此等工件在其等經歷製程時，需在不同位置(如組裝台、檢驗台、封裝台或運送構件)之間運送。在現代自動或半自動製造中，通常由機器人完成此工件處置。可並行處置大量組件。例如，通常在模製矩陣載體(例如，JEDEC托盤)中運送電子組件。電子組件定位於托盤之凹穴或單元中。通常由取放機器人完成將組件放置至凹穴中或自凹穴提取組件以將其等轉移至一不同位置(即，用於檢驗或組裝)。一取放機器人通常包括一或若干個所謂之夾持器(或提取器)，該一或若干個所謂之夾持器(或提取器)可自一托盤之一凹穴提取一電子組件且亦將一電子組件放置至一托盤之一凹穴中。夾持器可機械地夾持電子組件或更常見地使用真空吸嘴。 為了增大處理量，取放機器人通常裝配有多個夾持器，使得可並行提取或放置若干組件。常見結構係具有用於同時提取完整一列組件或在一些情況中同時提取完整兩列組件之足夠夾持器之取放頭。 在一典型製程中，一托盤之多數凹穴含有可由一夾持器提取之一組件。然而，通常每個托盤亦存在幾個空凹穴，或含有一錯誤放置(例如傾斜或旋轉)之組件之凹穴。無法自此等凹穴提取組件且放置於此一凹穴上方之一真空吸無法達到真空。因此，使用真空吸嘴之習知多吸嘴/夾持器取放機器人具有獨立/個別真空/放氣供應管線連同用於各吸嘴之個別真空感測器，使得若在一空凹穴或一錯誤放置之組件處(其中無法達到真空)存在一吸嘴，則其他吸嘴將不受影響，而可藉由真空提取組件，因此正確操作。 此意味著為了增大夾持器或吸嘴之數目，真空供應裝置及真空感測器之數目亦需增大。取放頭上之額外硬體增大取放頭之質量。然而，為了高處理量，需要高加速度，因此較高質量係不合需要的，且此外亦增大成本。且特定言之，當用額外吸嘴更新既有頭時，該頭之許多部件需要修改或變更，尤其使得真空供應裝置及真空感測器之數目可根據需要增大。 雖然上文已使用此項領域中現行之詞彙描述用於處置電子組件之一典型情況，但上文實例中所示之問題係更一般的。在需要於製造期間處置大量之組件或工件(尤其至少大致上相同幾何形之組件)之任何情況下，可採用可一次性提取或放置一個以上組件之機器人或更一般言之取放器件。將經由吸嘴施加至工件之真空用於提取工件係一廣泛概念。為了放置一工件或自一吸嘴放下一工件，撤銷對應吸嘴之真空，此外一陣氣體(通常係空氣)可用於主動地自吸嘴吹離工件。 如上文已指示，若一取放頭經修改以變更其展現之吸嘴之數目，使得其可一次性處置之工件之數目變更，則在先前技術之取放頭中需要重大重新結構設計，此係因為各吸嘴具有其單獨的真空供應裝置，通常具有對應的真空感測器。此外，對各吸嘴提供單獨的真空供應裝置及真空感測器致使取放頭之結構頗為複雜。

本發明之一目的係提供一種較簡單結構之取放頭，其可容易經重新結構設計以變更可一次性處置之工件之數目，且仍提供所有待處理工件之有效及可靠處置。 本發明之另一目的係提供一種用於依一有效及可靠方式一次性處置複數個工件之方法。 關於該取放頭之目的係由一種取放頭達成，該取放頭用於自至少一第一位置提取複數個工件並將該複數個工件放置於至少一第二位置處，該取放頭展現複數個吸嘴，該複數個吸嘴之各吸嘴經結構設計以藉由真空之作用接合該複數個工件之一者，其中該複數個吸嘴之至少一吸嘴具有一個別真空供應裝置且該複數個吸嘴之至少兩個另外吸嘴具有一共用真空供應裝置。 關於該方法之目的係藉由一種方法達成，該方法用複數個吸嘴藉由真空之作用提取複數個工件，將該等工件放置於一不同位置處，該方法包含以下步驟：用一各自吸嘴接近該複數個工件之至少一者且接著開始在各個各自吸嘴處產生一真空，其中在該複數個吸嘴之至少一者處一真空之產生係藉由該複數個吸嘴之至少一者之一個別真空供應裝置達成且在該複數個吸嘴之至少兩個另外吸嘴處一真空之產生係藉由該至少兩個另外吸嘴之一共用真空供應裝置達成。 根據本發明之取放頭展現複數個吸嘴，該複數個吸嘴之各者經結構設計以藉由真空之作用接合複數個工件之一者。根據本發明，複數個吸嘴之至少一吸嘴具有一個別真空供應裝置且複數個吸嘴之至少兩個另外吸嘴具有一共用真空供應裝置。用於一吸嘴之一個別真空供應裝置意味著該吸嘴之真空供應裝置獨立於不同吸嘴之真空供應裝置，且特定言之暗示若在取放頭之一或複數個其他吸嘴處發生無法達成充分真空度，則此無法達成不影響該具有個別真空供應裝置之吸嘴。由於至少兩個另外吸嘴具有一共用真空供應裝置，故顯然無需對此等另外吸嘴之各者提供個別真空供應裝置，因此導致取放頭之一較簡單結構。然而，一共用真空供應裝置自身具有一明顯缺點。若無法在共用一真空供應裝置之吸嘴之一者處達成充分真空度，則此亦將影響連接至該共用真空供應裝置之其他吸嘴處之真空，其通常導致在此等其他吸嘴處一真空之破壞或無法達成一充分真空。例如，若一吸嘴自一工件本該所處位置(例如一托盤之一特定凹穴)提取該工件，但該工件不在該位置(即，不在該凹穴中)或相對於該吸嘴不恰當地定位，使得其無法適當密封該吸嘴，從而阻止一真空之建置，則發生在一單個吸嘴處無法達成真空，接著影響連接至共同真空供應裝置之所有其他吸嘴。因此，共用真空供應裝置中之不充分真空度將導致無法提取工件，通常將提取工件不會比無工件或工件未恰當定位的情況多。因此，根據本發明，提供具有個別真空供應裝置之至少一吸嘴。雖然在取放頭之正常操作中，此吸嘴可正如其他吸嘴般用於提取工件，但若在共用真空供應裝置中發生真空故障，則該吸嘴可用於提取由於該共用真空供應裝置中之不充分真空度而未提取之所有該等工件。依此方式，確保提取所有工件。變更吸嘴數目之取放頭之重新結構設計比先前技術簡單，此係因為取代提供單獨的真空供應裝置，在根據本發明之取放頭中，將吸嘴連接至共用真空供應裝置或自共用真空供應裝置斷開吸嘴係足夠的。 原理上，可設想且足以達成本發明之目的，即除一個以外之所有吸嘴連接至一共用真空供應裝置，且該唯一吸嘴具有一個別真空供應裝置。雖然此結構係本發明之範疇內之一結構，但本發明之範疇內之許多另外結構係可行的。 在一實施例中，吸嘴配置成列。具有個別真空供應裝置之吸嘴形成L個此等列，其中L等於或大於1。其餘吸嘴形成S個列，其中S等於或大於1。S列之各者中之吸嘴共用一真空供應裝置，但各此列之真空供應裝置獨立於所有其他列之真空供應裝置。 在一不同實施例中，吸嘴亦配置成列。具有個別真空供應裝置之吸嘴形成L個此等列，其中L等於或大於1。其餘吸嘴形成S個列，其中S等於或大於1。此S個列中之所有吸嘴具有一共用真空供應裝置，即，其等皆連接至一共同真空供應裝置。 在另一實施例中，吸嘴配置成列。各列中之至少一吸嘴具有一個別真空供應裝置，且各自列之所有另外吸嘴具有一共用真空供應裝置。不同列中之吸嘴不共用一真空供應裝置。在前述三個實施例之各者中，各列容納相同數目之吸嘴。作為此等實施例之各者之一變體，存在至少兩列吸嘴，該至少兩列吸嘴之間不同在於其等所容納之吸嘴之數目。 在實施例中，一真空感測器對應於各真空供應裝置。該真空感測器經結構設計以指示是否已達到用於接合工件之充分真空。若一吸嘴內部之壓力充分低於環境壓力，使得工件藉由環境壓力而抵壓該吸嘴，從而對抗該工件之重量，則已達到充分真空；否則真空不充分。依此方式，在充分真空之情況中，一吸嘴接合一工件。針對一吸嘴之已知結構及一工件之已知重量及幾何形，可確立該吸嘴內部之壓力與環境壓力之間的一壓力差之一臨限值。接著，若一真空供應裝置或對應吸嘴中之壓力與該臨限值所指示相比，分別進一步低於環境壓力，則該真空供應裝置或吸嘴中之真空可被視為充分的。否則，真空可被視為不充分的。若真空感測器指示未達成充分真空，則可採取適當措施。例如，可採用具有個別真空供應裝置之吸嘴提取歸因於共用真空供應裝置中之真空不充分而未提取之工件。 在一實施例中，吸嘴定位於安裝於取放頭之本體上之至少一吸嘴載體上。該吸嘴載體係該取放頭之一單獨元件且展現該取放頭之吸嘴。該吸嘴載體可與該取放頭之其餘部分連接。特定言之，該取放頭之本體中之真空供應裝置之供應管線可連接至在該吸嘴載體中延伸至吸嘴且因此建立吸嘴之真空供應裝置之管線之對應管線。該取放頭經結構設計，使得該吸嘴載體可與具有不同數目之吸嘴之一吸嘴載體互換。特定言之，該取放頭之本體內之真空供應裝置之供應管線經結構設計，使得其等可與具有不同數目之吸嘴之吸嘴載體協作而不變更該取放頭之本體之結構。在特定實施例中，該取放頭上吸嘴載體之安裝係經由一中間元件，其被稱為夾持器本體，該夾持器本體連接至該取放頭且含有一吸嘴載體之一安裝位置。吸嘴載體及中間元件或夾持器本體形成一夾持器。該夾持器本體可相對於該取放頭之本體移動。 該取放頭可相對於複數個工件移動。在其中吸嘴配置成列之上文所描述之類型之一實施例中，吸嘴之配置進一步使得當該取放頭相對於該複數個工件移動時，具有個別真空供應裝置之吸嘴緊隨具有共用真空供應裝置之吸嘴。依此方式，無法被具有共用真空供應裝置之吸嘴提取之工件可最容易地由具有個別真空供應裝置之吸嘴提取而無需該取放頭之額外反向移動。可實現此一吸嘴配置，而不管數列吸嘴之各者是否存在共用真空供應裝置或是否存在由超過一列吸嘴共用之一真空供應裝置。 如已述，可有利地採用本發明，其中處置之工件係電子組件。特定言之，在實施例中，工件或電子組件自至少一托盤提取並放置於一處理台處。該處理台可例如執行工件之組裝、檢驗或封裝。根據本發明之取放頭亦可用於在一處理台處提取工件並將其等放置至至少一托盤中。 本發明之一特定實施例係一種取放頭，該取放頭用於自至少一第一位置提取複數個工件並將該複數個工件放置於至少一第二位置處。該取放頭展現複數個吸嘴，該複數個吸嘴之各吸嘴經結構設計以藉由真空之作用接合該複數個工件之一者。該等吸嘴配置成列，其中一第一列之吸嘴各具有一個別真空供應裝置且至少一第二列之吸嘴具有一共用真空供應裝置。一真空感測器對應於各真空供應裝置，各真空感測器經結構設計以指示是否已達到用於接合工件之充分真空。 根據本發明之用於用複數個吸嘴藉由真空之作用提取複數個工件以將該等工件放置於一不同位置處之方法包含以下步驟：用一各自吸嘴接近該複數個工件之至少一者及開始在各個各自吸嘴處產生一真空。應注意，移動一取放頭以接合一工件暗示該取放頭之所有吸嘴之移動，即使在可能存在無工件提取之至少一吸嘴之一特定情況中。 根據本發明，在複數個吸嘴之至少一者處一真空之產生係藉由該複數個吸嘴之至少一者之一個別真空供應裝置達成且在複數個吸嘴之至少兩個另外吸嘴處一真空之產生係藉由該至少兩個另外吸嘴之一共用真空供應裝置達成。上文已在取放頭之內容脈絡中論述個別真空供應裝置及共用真空供應裝置之意義。 在該方法之一有利實施例中，在一或複數個工件無法由具有共用真空供應裝置之吸嘴提取之情況中(此係因為該共用真空供應裝置中真空不充分)，在一後續步驟中可由具有一個別真空供應裝置之吸嘴提取此等工件。在實施例中，由針對各真空供應裝置提供之一真空感測器監測各真空供應裝置中且因此對應吸嘴中一真空之產生。各真空感測器經結構設計以在無法達成足以由連接至吸嘴之各自真空供應裝置之吸嘴接合工件之一真空的情況下，觸發一錯誤信號。 在該方法之一些實施例中，工件將用配置成列之吸嘴提取及放置。其中，特定言之，各列可含有相同數目之吸嘴，但其中存在不同在於其等所含之吸嘴數目之至少兩列吸嘴之實施例亦被視為在本發明之範疇內。在任一情況中，存在L (等於或大於1)個列之吸嘴，其中各吸嘴具有一個別真空供應裝置。其餘吸嘴(即，不在前述L個列中之吸嘴)配置成S (等於或大於1)個列且具有一共用真空供應裝置。該共用真空供應裝置可係S個列中之所有吸嘴所共有或可僅係S個列之各者之吸嘴所共有，但獨立於任何不同列之真空供應裝置。在此等實施例中，該方法包含以下步驟：嘗試用該等吸嘴之各者提取一各自工件，接著將該等所提取工件放置於一不同位置處，及用具有一個別真空供應裝置之一吸嘴提取無法由具有一共用真空供應裝置之一吸嘴提取之一工件。嘗試用一吸嘴提取一工件之步驟涉及移動吸嘴，使得由一各自吸嘴接近該待提取工件或該等待提取工件，使該(等)工件與該(等)各自吸嘴接觸且開始經由各自所連接之真空供應裝置在該(等)各自吸嘴中產生一真空。提取一工件之嘗試可由於各種原因而失敗：可能無針對該等吸嘴之至少一者之工件。在此情況中，如此無法提取一不存在工件之事實不構成一故障，但若各自吸嘴與同其他吸嘴共用之一真空供應裝置連接，則當無工件阻塞吸嘴時，在其他吸嘴之共用真空供應裝置中可能未產生充分真空以提取工件。相同情況可能在以下情況下發生：存在針對具有一共用真空供應裝置之各吸嘴之一工件，但此等工件之至少一者錯位，使得該工件無法完全阻塞該吸嘴，從而再次導致該共用真空供應裝置中且因此亦在與該共用真空供應裝置連接之另外吸嘴處之不充分真空。具有個別真空供應裝置之吸嘴列中之吸嘴除在一第一步驟中提取工件以外，亦可在一後續步驟或甚至在複數個後續步驟中提取無法由連接至一共用真空供應裝置之吸嘴提取之工件。 在一不同實施例中，吸嘴亦配置成列。在各此列中，L (等於或大於1)個吸嘴各具有一個別真空供應裝置且各列中其餘S (等於或大於1)個吸嘴具有各個各自列中之此等S個吸嘴所共有但獨立於任何不同列之吸嘴中之吸嘴之真空供應裝置之一真空供應裝置。在此，該方法包含以下步驟：嘗試用該等吸嘴之各者提取一各自工件，接著將該等所提取工件放置於一不同位置處，及用具有一個別真空供應裝置之一吸嘴提取無法由具有一共用真空供應裝置之一吸嘴提取之一工件。該方法之步驟對應於針對前述實施例所描述之步驟，此處差別在於將吸嘴指派至共用真空供應裝置。 在根據本發明之用複數個吸嘴藉由真空之作用提取複數個工件以將該等工件放置於一不同位置處之方法之一特定實施例中，該等工件及該等吸嘴配置成各自列。一第一列吸嘴之吸嘴各具有一個別真空供應裝置。其餘至少一第二列吸嘴之吸嘴具有一共用真空供應裝置。在此實施例中，該方法如下般實行： 藉由吸嘴與工件之間的相對移動，將各列吸嘴定位於一列工件上方。接著，嘗試用各吸嘴提取一各自工件。該嘗試可由於上文已論述之原因而失敗。接著，將已所提取工件放置於一所期望之不同位置處。該方法之實施例亦包含驗證是否無法在前述嘗試中提取工件之一步驟。此可例如由吸嘴之真空供應裝置之真空感測器達成。接著，一共用真空供應裝置中偵測之不充分真空將觸發下文針對工件列所描述之步驟，該等工件列係對應於具有不充分真空之共用真空供應裝置之吸嘴列所嘗試提取的。 為了提取先前無法提取之工件，將第一列吸嘴定位於無法被提取之一工件上方。接著，該工件用該第一列吸嘴之一吸嘴提取並放置於所期望之不同位置處。若一個以上工件無法自一特定列之工件提取(其可容易在意欲於提取特定列之工件之吸嘴列之共用真空供應裝置無法提供充分真空之情況下發生)，則可由該第一列吸嘴在一步驟中提取所有此等工件。該第一列吸嘴繼續提取任何工件(提取其等之嘗試失敗)，並將該等工件放置於其等各自所期望之位置處。若此完成或若無提取工件之失敗嘗試，則測試是否餘留與吸嘴列一樣多的待提取工件列。若是，則吸嘴列可相對於工件列前進且重複前述之步驟。在其餘工件列數目不足之情況下，可例如用第一列吸嘴之吸嘴提取其餘列之工件。

相關申請案的交叉引用 本專利申請案主張2013年11月26日申請之以引用方式併入本文中之美國臨時專利申請案第61/909,184號之優先權。 貫穿各個圖式，相同參考數字指代相同元件。此外，在圖式中僅展示描述各自圖式所需之參考數字。所示實施例僅表示可如何實行本發明之實例。此不應被視為限制本發明。 圖1展示具有一取放頭2之一取放器件1。取放頭2可如由雙箭頭A指示沿一軌道3移動，以自一托盤5提取工件4並將其等放置於一處理台6處。取放頭2與所提取工件4依虛線再次展示在處理台6上方之一位置中。取放頭2藉由吸嘴10接合工件4。吸嘴10藉由真空之作用接合工件4。在取放頭2中，吸嘴因此連接至對應真空供應裝置(圖1中未展示)。在先前技術中，各吸嘴具有一單獨的真空供應裝置。根據本發明，至少一吸嘴10具有一單獨的真空供應裝置且至少兩個另外吸嘴10具有一共用真空供應裝置。在實施例中，吸嘴10可在垂直於由雙箭頭A指示之方向之由雙箭頭B指示之一方向上移動，以自托盤提起工件且此外將其等放置至處理台6上。在不同實施例中，軌道3可在由雙箭頭B指示之方向上移動。根據本發明之一取放頭亦可用於不同結構之取放器件中，例如取放頭可安裝於一機器人臂上。 圖2展示複數個吸嘴10。吸嘴10之一些具有一個別真空供應裝置11L，而另外吸嘴10具有一共用真空供應裝置11S。特定言之，圖2展示三個吸嘴10之各三列，其中各列之一吸嘴10具有一個別真空供應裝置11L，且各列之其餘兩個吸嘴10具有一共用真空供應裝置11S。在此實施例中，無吸嘴列之間共用之真空供應裝置。 圖3係展示為黑色實心圓之吸嘴10及吸嘴10之真空供應裝置之連接之一示意圖。真空供應裝置被展示為線。更確切言之，在圖3中，展示四列吸嘴10，各列含有六個吸嘴10。該等列之一者之吸嘴各具有一個別真空供應裝置11L，而對於其餘三列吸嘴10，各列具有各自列之所有吸嘴10所共有但獨立於吸嘴10之所有其他列之真空供應裝置之一共用真空供應裝置11S。 圖4使用相同於圖3之示意圖展示吸嘴10之真空供應裝置之一不同連接。圖4展示四列吸嘴10，各列含有六個吸嘴10。該等列之一者之吸嘴各具有一個別真空供應裝置11L，而其餘三列吸嘴10具有該三列之所有吸嘴10所共有之一共用真空供應裝置11S。 圖5使用相同於圖3之示意圖展示吸嘴10之真空供應裝置之又一連接方案。圖5展示六列吸嘴10，各列含有四個吸嘴10。各列之一吸嘴10具有一個別真空供應裝置11L，而各列之其餘三個吸嘴10具有一共用真空供應裝置11S。列之間未共用真空供應裝置。 對於所有實施例，真空供應裝置包括最終連接至一已知真空源(如已知類型之一或複數個泵)之管道、導管、通道，其中該真空源經結構設計以自該等管道、導管、通道且因此亦自形成該等管道、導管、通道之一端之吸嘴10之內部移除氣體，特定言之空氣。若吸嘴10被一工件阻塞，則氣體/空氣無法進入該吸嘴取代移除之氣體/空氣，且在該吸嘴中產生一真空；在本申請案之內容脈絡中，一真空之產生意味著低於環境壓力之氣體/空氣之一壓力之產生。若環境壓力與吸嘴中之壓力之間的壓力差足以對抗一待提取工件之重量，使得該工件抵壓該吸嘴，則達成充分真空度。 圖6展示通常被稱為夾持器20之一元件，其展現吸嘴10且吸嘴10藉由該元件附接至如圖1中所示之一取放頭2。在所示實施例中，夾持器20包括：一吸嘴載體21，其亦被稱為節距調適器；及一夾持器本體23，其藉由連接構件22連接至該吸嘴載體21。在預備操作之一取放頭2中，夾持器本體23安裝至取放頭2之本體，其包含將通道11之各者連接至一單獨的真空源。在所示實施例中，吸嘴載體21可自夾持器本體23拆除。當一吸嘴載體21附接至一夾持器本體23時，連接構件22不僅機械地固定夾持器本體23與吸嘴載體21之間的連接，且亦建立用於自夾持器本體23至吸嘴載體21之通道11之一連接。在所示實施例中，各通道11通向一吸嘴10。如前所述，由於各通道11連接至一單獨的真空源，故所示之兩個吸嘴10之各者具有一個別真空供應裝置，該個別真空供應裝置分別藉由通道11之一者建立。在所示實施例中，吸嘴載體21可與一不同吸嘴載體互換。 圖7亦展示一夾持器20。使用相同於圖6中所示之夾持器本體23，但藉由連接構件22將一不同吸嘴載體21附接至夾持器本體23。圖7之吸嘴載體21展現三個吸嘴10而非兩個，但如自圖7可見，夾持器本體23之結構未變更。通道11之各者仍連接至一單獨的真空源。藉由吸嘴載體21之結構，通道11之一者建立用於吸嘴10之一者之一個別真空供應裝置，而其他通道11建立用於其餘兩個吸嘴10之一共用真空供應裝置。 圖6及圖7之夾持器本體可如此結構設計且安裝至該取放頭2，使得其可沿如由圖1中之雙箭頭B指示之方向相對於取放頭移動。夾持器本體23之此結構設計及安裝獨立於所使用之吸嘴載體21，特定言之獨立於一吸嘴載體21上存在之吸嘴10之數目。為了將圖6及圖7置於內容脈絡中，展示與一工件4接合之一吸嘴10。 圖8係根據本發明之方法之一特定實施例之一流程圖。在此實施例中，使用具有三列吸嘴之一取放頭，各列吸嘴具有相同數目之吸嘴。吸嘴列之一第一者之吸嘴各具有一個別真空供應裝置，且其餘兩列之吸嘴具有一共用真空供應裝置。若共用真空供應裝置連接於兩列之間及若僅在各自列之吸嘴之間共用真空供應裝置，則由流程圖提供之方法之描述適用兩者。此外，工件亦按列對準(後續工件列之間的距離對應於所使用之取放頭上之吸嘴列之間的距離)，使得可一次性提取三列工件。具有吸嘴之取放頭可相對於工件移動，使得具有個別真空供應裝置之吸嘴列(即，第一列吸嘴)緊隨具有共用真空供應裝置之吸嘴列。 在步驟100中，藉由取放頭與工件之間的相對移動，將三列吸嘴放置於三列工件上方，一列吸嘴分別放置於一列工件上方。通常，促使吸嘴與待所提取工件接觸。 在步驟105中，同時在一單個步驟藉由開始在各吸嘴之各自真空供應裝置中產生一真空而嘗試提取上方定位吸嘴之工件。 在步驟110中，將所提取工件放置於一所期望之不同位置處，例如一處理台。 在步驟115中，檢查是否存在在步驟105中無法提取之任何工件。此檢查可藉由任何合適方式完成，例如可藉由攝影機監視工件列且可使用影像處理。替代地，各真空供應裝置具備一真空感測器。此一真空感測器經結構設計以僅在其對應真空供應裝置中達到一不充分真空的情況下觸發一錯誤信號。上文已說明不充分真空之意義。在此一情況中，將存在在步驟105中無法提取之工件。若情況係如此(圖8中之分支「是」)，則該方法繼續步驟120。若情況並非如此(即，若無在步驟105中無法提取之工件)，則該方法繼續步驟135 (來自步驟115之分支「否」)。 在步驟120中，將第一列吸嘴定位於無法提取之一工件上方，即，將第一列吸嘴定位於一列工件在步驟105之前佔據之位置上方，在步驟105中無法自該位置提取至少一工件。在步驟125中，用來自第一列吸嘴之一吸嘴提取在步驟105中無法提取之至少一工件。若在步驟105中無法提取來自各自列之一個以上工件，則藉由第一列吸嘴之吸嘴在一步驟中同時提取所有此等工件。接著將所提取工件放置於其等對應之所期望不同位置處。 在步驟130中，檢查是否餘留在步驟105中無法提取之任何工件。此可尤其在於步驟105中無法提取來自超過一列工件之工件之情況下發生。若情況係如此(來自步驟130之分支「是」)，則該方法返回至步驟120。若情況並非如此(來自步驟130之分支「否」)，則該方法繼續進行步驟135。 若到達步驟135，則應在步驟105中提取之所有工件已直接藉由步驟105及110或經由額外步驟120及125提取並放置於其等各自所期望之位置處。接著，該方法繼續提取任何可能的另外工件列。 在步驟135中，測試是否餘留任何工件列。若否(來自步驟135之分支「終止」)，則該方法終止。亦測試是否餘留至少與吸嘴列一樣多的將提取工件列(即，在本文所描述之特定實施例中至少三工件列)，且若是(來自步驟135之分支「是」)，則取放頭往前推進三列工件以從步驟100開始重複方法步驟。若餘留較少工件列，即，在所描述之特定實施例中少於三列工件，則可藉由第一列吸嘴提取任何其餘工件列，如同任何其餘工件列在步驟105中無法提取；因此，在此情況中，該方法將視其餘工件列如同其等無法提取且繼續進行步驟120 (來自步驟135之分支「否」)。 圖9藉由展示在該方法之各個階段之工件列而繪示該方法。該等階段藉由由字母a、b、c、d依其等在該方法中發生之次序來指示。如在圖3、圖4及圖5中，實心點指示吸嘴10，吸嘴之間的線指示一共用真空供應裝置。為了便於參考，工件列被命名為R1、R2、R3、R4、R5、R6及R7。交叉方形指示一工件4，而空方形指示在一列中可被一工件佔據但空的一位置或其中一工件錯位之一位置。 在開始階段a，由吸嘴10提取列R1、R2及R3，由具有個別真空供應裝置之吸嘴10提取列R1，同時由具有共用真空供應裝置之吸嘴提取列R2及R3。列R1、R2、R3之所有位置被正確放置之工件佔據，因此所有工件可同時提取，且接著放置於其等所期望之其他位置處，例如一檢驗或組裝台。接著，此處工件在列中佔據之位置係空的。取決於製程，可能在如檢驗之一步驟(針對其自列提取工件)之後，在提取下一列工件之前將該等工件放置回該等列中。在此情況中，列R1、R2、R3之位置將不會是空的，而是再次被佔據。該方法移動至階段b。吸嘴10列向前推進三列工件，使得在階段b，提取列R4、R5及R6，更確切言之由具有個別真空供應裝置之吸嘴10列提取列R4，由具有共用真空供應裝置之吸嘴10列提取列R5及R6。 可由具有個別真空供應裝置之吸嘴提取列R4中之所有工件。然而，在列5中，存在一空位置。在共用真空供應裝置中，歸因於列R5中之空位置，無法獲得充分真空，此係因為該空位置上方之對應吸嘴未被一工件密封。在此實例中，不充分真空導致無法提取列R5及R6之所有工件。由具有個別真空供應裝置之吸嘴所提取之工件(即，自列R4提取之工件)放置於其等所期望之位置處。接著，該方法繼續階段c。 在階段c中，將具有個別真空供應裝置之吸嘴列放置於列R5上方。具有個別真空供應裝置之吸嘴提取列R5中之三個工件。歸因於工件遺漏，無法在對列R5操作之吸嘴之一者中獲得充分真空之事實不影響其他吸嘴中之真空，確切言之此係因為其等之真空供應裝置獨立於彼此。取決於取放頭如何操作，在階段c中，當列R6及R7完成時(即，無工件遺漏)，則亦可在此步驟提取此等列，且可將來自列R5、R6及R7之工件放置於其等所期望之位置處。接著，該方法將停止，此係因為所有工件已轉移至一不同位置。替代地且對應於在圖8之內容脈絡中所論述之方法之實施例，該方法在階段c繼續僅提取來自R5之工件並將其等放置於其等所期望之位置處。接著，該方法可繼續僅藉由具有個別真空供應裝置之吸嘴提取其餘列R6及R7中之工件。 在後一替代中，該方法繼續步驟d，以提取來自列R6之工件，該工件將被放置於其等所期望之位置處。在將具有個別真空供應裝置之吸嘴移動至列R7且重複提取並放置列R7之工件之明顯且未展示之操作之後，該方法結束，來自列R1至R7之所有工件已轉移至所期望之位置。

1‧‧‧取放器件2‧‧‧取放頭3‧‧‧軌道4‧‧‧工件5‧‧‧托盤6‧‧‧處理台10‧‧‧吸嘴11‧‧‧通道11L‧‧‧個別真空供應裝置11S‧‧‧共用真空供應裝置20‧‧‧夾持器21‧‧‧吸嘴載體22‧‧‧連接構件23‧‧‧夾持器本體100‧‧‧步驟105‧‧‧步驟110‧‧‧步驟115‧‧‧步驟120‧‧‧步驟125‧‧‧步驟130‧‧‧步驟135‧‧‧步驟A‧‧‧方向B‧‧‧方向R1‧‧‧工件列R2‧‧‧工件列R3‧‧‧工件列R4‧‧‧工件列R5‧‧‧工件列R6‧‧‧工件列R7‧‧‧工件列

現將在結合附圖圖式進行之本發明之下文詳細描述中更全面地描述本發明之操作之性質及模式，其中 圖1係具有一取放頭之一取放器件之一示意圖； 圖2示意地展示根據本發明之一實施例之具有個別及共用真空供應裝置之複數個吸嘴； 圖3示意地展示根據本發明之一實施例之具有共用及個別真空供應裝置之吸嘴之一配置； 圖4示意地展示根據本發明之另一實施例之具有共用及個別真空供應裝置之吸嘴之一配置； 圖5示意地展示根據本發明之另一實施例之具有共用及個別真空供應裝置之吸嘴之一配置； 圖6展示具有兩個吸嘴之一吸嘴載體，該兩個吸嘴具有一個別真空供應裝置，該吸嘴載體附接至一取放頭之一元件； 圖7展示具有一個吸嘴及兩個吸嘴之一吸嘴載體，該一個吸嘴具有一個別真空供應裝置且該兩個吸嘴具有一共用真空供應裝置，該吸嘴載體附接至一取放頭之一元件； 圖8展示用於取放工件之方法之一實施例之一流程圖；及 圖9係方法之一實施例之一圖解，其展示提取工件之各個步驟。

10‧‧‧吸嘴

11L‧‧‧個別真空供應裝置

11S‧‧‧共用真空供應裝置

Claims (18)

1. 一種取放頭，其用於自至少一第一位置提取複數個工件並用於將該複數個工件放置於至少一第二位置處，該取放頭展現複數個吸嘴，該複數個吸嘴之各吸嘴經組態以藉由一真空之作用接觸且接合該複數個工件之一者，其特徵在於：該複數個吸嘴之至少一吸嘴具有藉由一獨立真空供應導管供應之一個別真空供應裝置，且該複數個吸嘴之至少兩個另外吸嘴具有一共用真空供應裝置，該共用真空供應裝置藉由沒有附接至該個別真空供應裝置之一共用真空供應導管供應，其中該共用真空供應裝置包括至少一共用真空供應裝置，其中該等吸嘴配置成列，各列中之至少一吸嘴具有一個別真空供應裝置，且該各自列之所有另外吸嘴具有該至少一共用真空供應裝置。
2. 如請求項1之取放頭，其中一數目L個列中之該等吸嘴各展現一個別真空供應裝置，且一數目S個列之各者中之該等吸嘴具有獨立於(separate from)另外吸嘴列之該真空供應裝置之該至少一共用真空供應裝置，且其中該數目L大於或等於1，且其中該數目S大於或等於1。
3. 如請求項1之取放頭，其中一數目L個列中之該等吸嘴各展現一個別真空供應裝置，且一數目S個列中之該等吸嘴具有該數目S個列中之所有該等吸嘴所共有(common to)之該至少一共用真空供應裝置，且其中該數目L大於或等於1，且其中該數目S大於或等於1。
4. 如請求項2之取放頭，其中該取放頭相對於該複數個工件係可移動，且該取放頭上該等吸嘴列之配置使得當該取放頭在一界定方向(defined divection)上於該複數個工件上方移動時，具有一個別真空供應裝置之該數目L個列緊隨具有一共用真空供應裝置之該數目S個列。
5. 如請求項3之取放頭，其中該取放頭相對於該複數個工件係可移動，且該取放頭上該等吸嘴列之該配置使得當該取放頭在一界定方向上於該複數個工件上方移動時，具有一個別真空供應裝置之該數目L個列緊隨具有一共用真空供應裝置之該數目S個列。
6. 一種取放器件，其具有可藉由該取放器件之操作移動之一取放頭，該取放頭展現複數個吸嘴，該複數個吸嘴之各吸嘴經組態以藉由一真空之作用接觸且接合複數個工件之一者，其特徵在於該複數個吸嘴之至少一吸嘴具有一個別真空供應裝置及一獨立真空供應導管，且該複數個吸嘴之至少兩個另外吸嘴具有一共用真空供應裝置及一共用真空供應導管，其中該共用真空供應裝置包括至少一共用真空供應裝置，其中該等吸嘴配置成列，各列中之至少一吸嘴具有一個別真空供應裝置，且該各自列之所有另外吸嘴具有該至少一共用真空供應裝置。
7. 一種取放器件，其包含：可藉由該取放器件之操作移動之一取放頭，該取放頭具有第一複數個吸嘴與第二複數個吸嘴，各吸嘴經組態以藉 由一真空之作用接觸且接合複數個工件之一者，其中：該第一複數個吸嘴中之各吸嘴具有一各自個別真空供應裝置及一獨立真空供應導管；該第一複數個吸嘴配置成一第一數目個列；該第二複數個吸嘴配置成獨立於(separate from)該第一數目個列的一第二數目個列；包括於該第二數目之列個各列具有一各自個別共用真空供應裝置及一共用真空供應導管；且每一各自個別共用真空供應裝置係一各自單一真空泵，其中該共用真空供應裝置包括至少一共用真空供應裝置，其中該等吸嘴配置成列，各列中之至少一吸嘴具有一個別真空供應裝置，且該各自列之所有另外吸嘴具有該至少一共用真空供應裝置。
8. 一種取放器件，其包含：可藉由該取放器件之操作移動之一取放頭，該取放頭具有第一複數個吸嘴與第二複數個吸嘴，各吸嘴經組態以藉由一真空之作用接觸且接合複數個工件之一者，其中：該第一複數個吸嘴中之各吸嘴具有一各自個別真空供應裝置及一獨立真空供應導管；該第一複數個吸嘴配置成一第一數目個列；該第二複數個吸嘴配置成獨立於該第一數目個列的第一及第二列；該等第一及第二列具有獨立於任何其他真空供應裝置之共用真空供應裝置及一共用真空供應導管；且該共用真空供應裝置係一單一真空泵，其中該共用真空供應裝置包括至少一共用真空供應裝置，其中該等吸嘴配置成列，各列中之至少一吸嘴具有一個別真空供應裝置，且該各自列之所有另外吸嘴具有該至少一共用真空供應裝置。
9. 一種取放頭，其用於將複數個工件自至少一第一位置運送至至少一第二位置，該取放頭包含：第一複數個吸嘴與第二複數個吸嘴，各吸嘴經組態以接觸且接合該複數個工件之一者；及一各自獨立真空供應裝置，其經組態以藉由一獨立真空供應導管附接至該第一複數個吸嘴之各吸嘴，其中：該第二複數個吸嘴配置成一第一列、一第二列及一第三列；且該第一列、該第二列及該第三列之各列具有一各自個別共用真空供應裝置及一各自共用真空供應導管，且每一各自個別共用真空供應裝置係一各自單一真空泵，其中該共用真空供應裝置包括至少一共用真空供應裝置，其中該等吸嘴配置成列，各列中之至少一吸嘴具有一個別真空供應裝置，且該各自列之所有另外吸嘴具有該至少一共用真空供應裝置。
10. 一種取放頭，其用於將複數個工件自至少一第一位置運送至至少一第二位置，該取放頭包含：複數個吸嘴，各吸嘴經組態以接觸且接合該複數個工件之一者，該複數個吸嘴配置成具有至少一第一列及一第二列之多個列；複數個獨立真空供應裝置，各獨立真空供應裝置經組態以藉由一獨立真空供應導管附接至該第一列中之該複數個吸嘴之一個別吸嘴；一共用真空供應裝置，其經組態以藉由一共用真空供應導管附接至該第二列之吸嘴；及一單一真空感測器，其經組態以指示是否一足夠之力正被施加至該複數個工件，其中：該共用真空供應裝置係一單一真空泵；該共用真空供應裝置及該複數個獨立真空供應裝置具有該單一真空感測器；及在該第一列中之至少一吸嘴經配置以提取無法藉由在該第二列中之吸嘴提取之一工件，其中該共用真空供應裝置包括至少一共用真空供應裝置，其中該等吸嘴配置成列，各列中之至少一吸嘴具有一個別真空供應裝置，且該各自列 之所有另外吸嘴具有該至少一共用真空供應裝置。
11. 一種取放頭，其用於將複數個工件自至少一第一位置運送至至少一第二位置，該取放頭包含：複數個吸嘴，各吸嘴經組態以接觸且接合該複數個工件之一者，該複數個吸嘴配置成具有至少一第一列、一第二列及一第三列之多個列；複數個獨立真空供應裝置，各獨立真空供應裝置經組態以藉由一獨立真空供應導管附接至該第一列中之該複數個吸嘴之一各自吸嘴；一第一共用真空供應裝置，其經組態以藉由一第一共用真空供應導管而僅附接至該第二列之吸嘴；一第二共用真空供應裝置，其經組態以藉由一第二共用真空供應導管而僅附接至該第三列之吸嘴；及複數個真空感測器，其經組態以指示是否一足夠之力正被施加至該複數個工件，其中該第一共用真空供應裝置係一單一真空泵，其中該共用真空供應裝置包括至少一共用真空供應裝置，其中該等吸嘴配置成列，各列中之至少一吸嘴具有一個別真空供應裝置，且該各自列之所有另外吸嘴具有該至少一共用真空供應裝置。
12. 如請求項11之取放頭，其中該第二共用真空供應裝置包括一泵。
13. 一種用於用複數個吸嘴藉由一真空之作用提取複數個工件以將該等工件放置於一不同位置處之方法，該方法包含以下步驟：以包括於該複數個吸嘴中之每一各自吸嘴接近包括於該複數個工件中之每一各自單一工件；以一個別真空供應裝置在一第一吸嘴處產生一真空； 以一共用真空供應裝置在一第二吸嘴及一第三吸嘴處產生一真空；及分別以該第一吸嘴、該第二吸嘴及該第三吸嘴提取該等各自單一工件之各者，其中該共用真空供應裝置包括至少一共用真空供應裝置，其中該等吸嘴配置成列，各列中之至少一吸嘴具有一個別真空供應裝置，且該各自列之所有另外吸嘴具有該至少一共用真空供應裝置。
14. 如請求項13之方法，其中該共用真空供應裝置係一單一真空泵。
15. 一種用於用配置成一第一列及一第二列之一第一複數個吸嘴及一第二複數個吸嘴藉由一真空之作用提取複數個工件以將該等工件放置於一不同位置處之方法，該方法包含以下步驟：以包括於該第一複數個吸嘴中之每一各自吸嘴或以包括於該第二複數個吸嘴中之每一各自吸嘴接近包括於該複數個工件中之每一各自單一工件；以一個別真空供應裝置在包括於該第一複數個吸嘴中之每一吸嘴處產生一真空；以一共用真空供應裝置在該第二複數個吸嘴處產生一真空；及以包括於該第一複數個吸嘴中之該等各自吸嘴或以包括於該第二複數個吸嘴中之每一各自吸嘴提取該等各自單一工作件之各者，其中該共用真空供應裝置包括至少一共用真空供應裝置，其中該等吸嘴配置成列，各列中之至少一吸嘴具有一個別真空供應裝置，且該 各自列之所有另外吸嘴具有該至少一共用真空供應裝置。
16. 如請求項15之方法，其中該共用真空供應裝置係一單一真空泵。
17. 一種用於用配置成一第一列、一第二列及一第三列之一第一複數個吸嘴及一第二複數個吸嘴藉由一真空之作用提取複數個工件以將該等工件放置於一不同位置處之方法，該方法包含以下步驟：以包括於該第一複數個吸嘴中之每一各自吸嘴或以包括於該第二複數個吸嘴之每一各自吸嘴接近包括於該複數個工件中之每一各自單一工件；以一個別真空供應裝置在包括於該第一複數個吸嘴中之每一吸嘴處產生一真空；以一共用真空供應裝置在該第二複數個吸嘴處產生一真空；及以包括於該第一複數個吸嘴中之該等各自吸嘴或以包括於該第二複數個吸嘴中之該等各自吸嘴之各者提取該等各自單一工件之各者，其中該共用真空供應裝置包括至少一共用真空供應裝置，其中該等吸嘴配置成列，各列中之至少一吸嘴具有一個別真空供應裝置，且該各自列之所有另外吸嘴具有該至少一共用真空供應裝置。
18. 如請求項17之方法，其中該共用真空供應裝置係一單一真空泵。

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