TWI693983B - 具有曲面形狀之構件的研磨加工方法 - Google Patents
具有曲面形狀之構件的研磨加工方法 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI693983B TWI693983B TW104127177A TW104127177A TWI693983B TW I693983 B TWI693983 B TW I693983B TW 104127177 A TW104127177 A TW 104127177A TW 104127177 A TW104127177 A TW 104127177A TW I693983 B TWI693983 B TW I693983B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- polishing
- resin layer
- hard resin
- polishing pad
- polished
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/11—Lapping tools
- B24B37/20—Lapping pads for working plane surfaces
- B24B37/22—Lapping pads for working plane surfaces characterised by a multi-layered structure
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B29/00—Machines or devices for polishing surfaces on work by means of tools made of soft or flexible material with or without the application of solid or liquid polishing agents
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/11—Lapping tools
- B24B37/20—Lapping pads for working plane surfaces
- B24B37/24—Lapping pads for working plane surfaces characterised by the composition or properties of the pad materials
- B24B37/245—Pads with fixed abrasives
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/11—Lapping tools
- B24B37/20—Lapping pads for working plane surfaces
- B24B37/26—Lapping pads for working plane surfaces characterised by the shape of the lapping pad surface, e.g. grooved
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
- B24D11/00—Constructional features of flexible abrasive materials; Special features in the manufacture of such materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/11—Lapping tools
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Abstract
本發明提供一種研磨方法,可除去具有曲面之樹脂塗裝面的浮凸。使用具有以硬質的樹脂層(40)形成之研磨面(30)的研磨墊(10),研磨具有曲面的樹脂塗裝面。
Description
本發明是關於研磨方法。
作為將具有曲面的被研磨物,例如汽車等的樹脂塗裝面平滑化的加工方法有拋光研磨加工已為人知(例如專利文獻1)。拋光研磨加工是在以布製或其他材料製成的研磨輪(拋光輪)的周圍面(表面)賦予種種的研磨劑等旋轉,進行研磨對象物研磨的方法。
[專利文獻1]日本特開2012-251099號公報
但是,拋光研磨加工不能除去樹脂塗裝面的浮凸,實現美觀的表面精加工困難。
本發明是以提供可除去具有曲面之樹脂塗裝面的浮凸
的研磨方法為課題。
為解決上述課題,本發明之一樣態的研磨方法是使用具有以硬質的樹脂層形成之研磨面的研磨墊,研磨具有曲面的樹脂塗裝面。
上述研磨方法中,也可以使研磨面追隨樹脂塗裝面。也可以將包含支撐硬質的樹脂層的軟質的樹脂層及硬質的樹脂層的2層構造形成於研磨墊,使研磨面追隨樹脂塗裝面。
上述研磨方法中,也可在研磨面形成溝槽,使研磨面追隨樹脂塗裝面。
並且,相對於樹脂塗裝面之研磨面的推壓力也可以是一定。
也可在上述研磨墊進行研磨之後,使用硬度較上述硬質的樹脂層低的第2研磨墊研磨樹脂塗裝面。
又,上述研磨方法中也可以使用包含氧化鋁磨粒的泥漿作為研磨劑。
根據本發明,實現可除去具有曲面之樹脂塗裝面的浮凸的研磨方法。
本發明的目的及優點是使用申請專利範圍記載的元件及其組合予以具體化來達成。上述的一般性記載
及以下詳細記載的雙方為僅單純之例示及說明,如申請專利範圍並非解釋以限定本發明。
1‧‧‧自動研磨裝置
2‧‧‧機器手臂
4‧‧‧研磨工具
5‧‧‧壓制壓力檢測部
7‧‧‧控制器
10‧‧‧研磨墊
30‧‧‧研磨面
31‧‧‧第1溝槽
32‧‧‧第2溝槽
40‧‧‧硬質的樹脂層
50‧‧‧軟質的樹脂層
51‧‧‧支撐面
第1圖是表示使用本發明的實施例相關之研磨墊的自動研磨裝置的構成例的圖。
第2(a)圖為本發明的實施例相關之研磨墊的透視圖,第2(b)圖為第2(a)圖表示之研磨墊的A-A剖視圖。
第3(a)圖為研磨前的樹脂塗裝面之表面形狀的說明圖,第3(b)圖為比較例的拋光研磨加工後的樹脂塗裝面之表面形狀的說明圖,第3(c)圖為第2(a)圖的研磨墊進行研磨後之樹脂塗裝面的表面形狀的說明圖,第3(d)圖為二次研磨後之樹脂塗裝面的表面形狀的說明圖。
第4(a)圖為本發明第2實施形態相關之研磨墊的上視圖,第4(b)圖為第4(a)圖表示之研磨墊的A-A剖視圖。
第5(a)圖為第4(a)圖表示之研磨墊的第1變形例的剖視圖,第5(b)圖為第4(a)圖表示之研磨墊的第2變形例的剖視圖。
第6(a)圖為第4(a)圖表示之研磨墊的第3變形例的上視圖,第6(b)圖為第6(a)圖表示之研磨墊的
A-A剖視圖。
以下,針對本發明的實施形態一邊參閱圖示一邊詳細說明。
第1實施形態有關的研磨方法是使用以硬質的樹脂層所形成之研磨面的研磨墊,研磨具有曲面的樹脂塗裝面。樹脂塗裝面可以是例如車輛等之車體的塗裝面。
第1實施形態相關的研磨方法中,例如也可使研磨面追隨樹脂塗裝面。
第1實施形態相關的研磨方法中,也可在研磨墊形成包含形成研磨面的硬質的樹脂層,及支撐該硬質的樹脂層之軟質的樹脂層的2層構造,藉以使研磨面追隨樹脂塗裝面。在研磨面抵接於樹脂塗裝面之曲面的場合,軟質的樹脂層對應曲面變形使得硬質的樹脂層彎曲,研磨面追隨樹脂塗裝面的曲面。
並且,第1實施形態相關的研磨方法中,也可使用彈性構件支撐硬質的樹脂層,藉以使研磨面追隨樹脂塗裝面。研磨面被壓接於樹脂塗裝面的曲面的場合,彈性構件變形硬質的樹脂對應曲面而彎曲,研磨面追隨樹脂塗裝面的曲面。
又,相對於樹脂塗裝面之研磨面的推壓力也可以是一
定。
並可在具有硬質的樹脂層形成之研磨面的研磨墊進行研磨之後,使用硬度較硬質的樹脂層低的第2研磨墊研磨樹脂塗裝面。
又,在研磨時,也可使用含氧化鋁磨粒的泥漿作為研磨劑。
以下,詳細說明第1實施形態。
第1實施形態相關的研磨方法是例如將具有以硬質的樹脂層形成的研磨面的研磨墊安裝於具備機器手臂的自動研磨裝置,可使用在研磨具有曲面之樹脂塗裝面的自動研磨處理。
參閱第1圖。自動研磨裝置1具備:機器手臂2、研磨墊10、研磨工具4、壓制壓力檢測部5及控制器7。參閱符號90是表示被研磨物。被研磨物90可以是例如表面樹脂塗裝後的汽車等的車體。機器手臂2具有複數關節部20、21及22,可以使安裝有研磨墊10、研磨工具4及壓制壓力檢測部5的前端部23朝著複數方向移動。
研磨工具4是透過壓制壓力檢測部5安裝於前端部23,藉內置的驅動手段在研磨面30以垂直的方向為轉軸使研磨墊10旋轉。控制器7是控制機器手臂2的舉動,及藉研磨工具4進行研磨墊10的旋轉。從未圖示的研磨劑供應機構朝著研磨墊10與被研磨物90之間供應
研磨劑。控制器7是藉著機器手臂2將研磨墊10推壓至被研磨物90的表面旋轉研磨墊10,藉此研磨被研磨物90的表面。壓制壓力檢測部5是檢測相對於被研磨物90之研磨面30的推壓力。控制器7也可以根據壓制壓力檢測部5的檢測結果進行將被研磨物90推壓至研磨面30的力的調整。控制器7是根據壓制壓力檢測部5的檢測結果,控制機器手臂2將相對於被研磨物90之研磨面30的推壓力維持一定的狀態,使得研磨面30在被研磨物90的表面移動。
並且,第1實施形態相關的研磨方法,並非限定使用於上述自動研磨裝置。例如,第1實施形態相關的研磨方法,也可以將具有硬質的樹脂層形成研磨面的研磨墊安裝在手動拋光機的前端,使用於研磨具有曲面之樹脂塗裝面的手工作業。
研磨墊10只要具有以硬質的樹脂層形成的研磨面則尤其不加以限定其構成。例如,研磨墊10也可以是具備追隨樹脂塗裝面之研磨墊10的研磨面的構造。研磨墊10的研磨面追隨樹脂塗裝面的構造也可以例如具有包含形成研磨面的硬質的樹脂層,及支撐該硬質的樹脂層的軟質的樹脂層的2層構造。以下的說明中,形成研磨面的硬質的樹脂層僅標記為「硬質的樹脂層」,支撐硬質的樹脂層的軟質的樹脂層僅標記為「軟質的樹脂層」。
以下,說明具有包含形成研磨面的硬質的樹脂層,及支撐該硬質的樹脂層的軟質的樹脂層之2層構造的研磨墊10的構成例,以作為研磨墊10的一例。參閱第2(a)圖及第2(b)圖。研磨墊10為具有包含硬質的樹脂層40與軟質的樹脂層50的2層構造。硬質的樹脂層40是形成研磨墊10的研磨面30。軟質的樹脂層50為支撐硬質的樹脂層40,且研磨面30被壓接於樹脂塗裝面的曲面時對應曲面而變形。因此,硬質的樹脂層40沿著曲面而彎曲,研磨面30追隨樹脂塗裝面的曲面。
硬質的樹脂層40的硬度是以JIS K 6253為依據的A硬度50度以上為佳,60度以上更佳。又,硬質的樹脂層40的硬度是以95度以下為佳。例如,硬質的樹脂層40的硬度是以60度以上80度以下為佳,或者硬質的樹脂層40的硬度以85度以上95度以下為佳。在以上的範圍,藉研磨墊10進行樹脂塗裝面之曲面的研磨成為仿形研磨困難,並可除去樹脂塗裝面表面的浮凸。
硬質的樹脂層40的厚度尤其不加以限定但以3.0mm以下為佳。又,硬質的樹脂層40的厚度以0.5mm以上為佳。如上述的範圍,在研磨面30壓接於樹脂塗裝面的曲面時硬質的樹脂層40沿著樹脂塗裝面的曲面變得容易彎曲,提升研磨面30相對於被研磨物之曲面的追隨性。因此,可除去被研磨物之表面形狀的浮凸成份,並可
增加研磨面30與曲面的接觸面積提升研磨效率。
硬質的樹脂層40的材質尤其不加以限定,只要具有上述硬度的材質即可。尤其是硬質的樹脂層40的材質例如也可以是聚氨基甲酸乙酯發泡體或不織布。硬質的樹脂層40的材質例如也可以是A硬度60度以上80度以下的不織布,也可以是A硬度85度以上95度以下的聚氨基甲酸乙酯發泡體。
軟質的樹脂層50的硬度是以JIS K 6253為依據的E硬度之30度以下為佳。只要是以上的範圍,在研磨面30壓接於樹脂塗裝面的曲面時軟質的樹脂層50變形變得容易。其結果,軟質的樹脂層50沿著樹脂塗裝面的曲面變得容易彎曲,提升研磨面30相對於被研磨物之曲面的追隨性。因此,可除去被研磨物之表面形狀的浮凸成份,並可增加研磨面30與曲面的接觸面積提升研磨效率。
軟質的樹脂層50的厚度尤其不加以限定但以5.0mm以上為佳。又,軟質的樹脂層50的厚度以50mm以下為佳。如上述的範圍,在研磨面30壓接於樹脂塗裝面的曲面的場合,可容易確保軟質的樹脂層50的變形量與硬質的樹脂層40的彎曲量。
軟質的樹脂層50的材質尤其不加以限定,只要具有上述硬度的材質即可。軟質的樹脂層50的材質例如可以是聚氨基甲酸乙酯發泡體或聚乙烯發泡體等的樹脂發泡
體。
針對上述研磨方法中使用的研磨劑的例說明。
作為研磨劑可使用含二氧化矽、氧化鋁、二氧化鈰、二氧化鈦、氧化鋯、氧化鐵及氧化錳等的矽或金屬元素的氧化物所成的粒子,或熱塑性樹脂所成的有機粒子,或有機無機複合粒子等所選擇之磨粒的泥漿。
例如研磨劑以使用可高研磨速度,且容易獲得的氧化鋁泥漿為佳。
氧化鋁有α-氧化鋁、β-氧化鋁、γ-氧化鋁、θ-氧化鋁等的結晶形態不同,並存在有稱為氫氧化鋁的鋁氧化物。從研磨速度的觀點是以α-氧化鋁為主成份的磨粒為佳。
磨粒的平均粒徑是以0.1μm以上為佳,並以0.3μm以上更佳。隨著平均粒徑的變大,提升研磨速度。平均粒徑如在上述範圍內的場合,研磨速度在實用上尤其可容易提升至適當的位準。
又,平均粒徑是以10.0μm以下為佳,並以5.0μm以下更佳。隨著平均粒徑的變小,提升研磨劑的分散穩定性,抑制研磨面的刮痕產生。
平均粒徑如在上述範圍內的場合,研磨劑的分散穩定性,及研磨面的表面精度在實用上尤其提升至適當的位準變得容易。再者,磨粒的平均粒徑是可藉孔隙電阻法(測量機:粒度分佈測量裝置MultisizerIII型
Beckman Coulter公司製)測量。
研磨劑中的磨粒含量是以0.1質量%以上為佳,以0.2質量%以上更佳,並以0.5質量%以上最佳。隨著磨粒的含量變多,提升研磨速度。磨粒的含量如在上述範圍內的場合,研磨速度在實用上尤其可容易提升至適當的位準。
又,磨粒的含量是以50質量%以下為佳,以25質量%以下更佳,並以20質量%最佳。磨粒的含量如在上述範圍內的場合,可抑制研磨劑的成本。並可進一步抑制在使用研磨劑研磨之後的研磨對象物的表面產生表面缺陷。
研磨劑是除了上述磨粒之外,並可根據需要適當包含潤滑油、有機溶劑、表面活性劑、增黏劑等的其他成份。
潤滑油也可以是合成油、礦物油、植物性油脂或該等的組合。
有機溶劑是除了烴系溶劑之外,也可以是乙醇、乙醚、甘醇類或甘油等。
表面活性劑也可以是所謂陰離子、陽離子、非離子、兩性表面活性劑。
增黏劑也可以使合成系增黏材、纖維素系增黏材或天然系增黏材等。
第1實施形態的研磨方法是使用以具有硬質的樹脂層形成的研磨面的研磨墊研磨樹脂塗裝面。因此,與軟質的
研磨面比較,樹脂塗裝面的研磨成為仿形研磨困難。其結果,可除去樹脂塗裝面之表面形狀的的浮凸成份。
又,第1實施形態的研磨方法是使用具備研磨面30追隨樹脂塗裝面的曲面之構造的研磨墊10。為此,研磨面30追隨著樹脂塗裝面的曲面,因此可除去被研磨物之表面形狀的浮凸成份,並藉增加與具有曲面的樹脂塗裝面接觸之研磨面30的接觸面積提升研磨效果,可縮短比較大的樹脂塗裝面之研磨所需的時間。
參閱第3(a)圖~第3(c)圖。第3(a)圖為模式表示研磨前的樹脂塗裝面之表面形狀的輪廓。研磨前的表面形狀是具有比較高頻的表面粗糙成份與比較低頻的浮凸成份。
第3(b)圖是表示比較例之拋光研磨加工後的樹脂塗裝面之表面形狀的輪廓。拋光研磨加工為研磨布的硬度比較低,會成為仿形研磨。因此,雖除去表面粗糙成份,但浮凸成份仍在研磨後殘留。
第3(c)圖為模式表示藉第1實施形態的研磨墊10進行研磨後之樹脂塗裝面的表面形狀的輪廓。由於是以硬質的樹脂層40形成研磨面30,因此樹脂塗裝面的表面的研磨成為仿形研磨困難,因此,可除去樹脂塗裝面之表面形狀的浮凸。
並且,在以研磨墊10進行研磨之後,除去微小表面
粗糙成份的場合,也可在以研磨墊10進行一次研磨之後,進行除去表面粗糙成份用的二次研磨。此時,在以研磨墊10進行研磨之後,例如更換安裝於第1圖表示之研磨工具4的研磨墊,使用具有硬度比研磨墊10之硬質的樹脂層40低的研磨墊進行被研磨物90表面的研磨。
使用於二次研磨的研磨墊的硬度是例如以A硬度小於50度為佳,並以40度以下更佳。又,使用於二次研磨的研磨墊的硬度是以30度以上為佳。在如以上的範圍內,可除去樹脂塗裝面的表面之細的表面粗糙成份。
第3(d)圖為模式表示二次研磨後之樹脂塗裝面的表面形狀的輪廓。藉研磨墊10進行研磨及隨後的二次研磨,藉此除去樹脂塗裝面的表面的粗糙度與浮凸的雙方。
對使用於二次研磨之研磨墊的材質尤其不加以限定,只要是具有上述硬度的材質即可。使用於二次研磨之研磨墊的材質可以是例如不織布或麂皮。例如使用於二次研磨之研磨墊的材質可以是A硬度30度以上40度以下的麂皮。
使用於二次研磨的研磨墊也可與研磨墊10同樣具有兩層構造。亦即,使用於二次研磨的研磨墊也可具有形成研磨面之比較硬質的第1層及支撐第1層的比較軟質的第2層的兩層構造。
第1層的硬度是以較研磨墊10之硬質的樹脂層40的硬度低為佳。第1層的硬度是例如以A硬度小於50度為佳,40度以下更佳。又,第1層的硬度是以30度
以上為佳。
第1層的厚度是以3.0mm以下為佳。並且,第1層的厚度是以0.5mm以上為佳。在如以上的範圍內,研磨面被壓接於樹脂塗裝面之曲面的場合第1層沿著樹脂塗裝面的曲面變得容易彎曲,增加研磨面與曲面的接觸面積提升研磨效率。
第1層的材質尤其不加以限定,只要是具有上述硬度的材質即可。第1層的材質可以是例如不織布或麂皮。例如,第1層的材質可以是A硬度30度以上40度以下的麂皮。
第2層的構成可以是與研磨墊10的軟質之樹脂層50的構成相同。
研磨墊10的構造不限於第2(a)圖及第2(b)圖表示的兩層構造。研磨墊10只要具備形成研磨面30的硬質的樹脂層即可。例如,研磨墊10也可不具備支撐形成研磨面30之硬質的樹脂層用的軟質的樹脂層。
此時,第1圖表示的控制器7也可控制機器手臂2以使得研磨面30沿著被研磨物90的表面的曲面移動。藉控制機器手臂2使研磨面30沿著被研磨物90的表面的曲面移動,可以硬質的樹脂層形成的研磨面30除去被研磨物90表面的浮凸。
接著,針對本發明的第2實施形態說明。第2實施形態有關的研磨方法中,作為第1圖表示的研磨墊10使用在研磨面形成有溝槽的研磨墊,藉以使研磨面追隨樹脂塗裝面。藉著在研磨面形成有溝槽,在研磨面壓接於樹脂塗裝面的曲面的場合研磨面追隨樹脂塗裝面的曲面變得容易。
以上的溝槽尤其不加以限定,但例如可以在形成包含硬質的樹脂層及軟質的樹脂層的兩層構造之後,藉著蝕刻等除去形成溝槽的部份的樹脂層形成。並可在形成兩層構造之後,一邊高速旋轉的圓形刀刃並以預定量壓接於研磨墊掃描表面來形成。
參閱第4(a)圖及第4(b)圖。對具有和第2(a)圖相同功能的構成元件賦予相同的符號。在研磨墊10的研磨面30形成有第1溝槽31及第2溝槽32。第1溝槽31是沿著研磨面30上的第1方向延伸,第2溝槽32是沿著與第1方向正交之研磨面30上的第2方向延伸。在研磨面30形成複數的第1溝槽31及複數的第2溝槽32,藉此在研磨面30形成有格子狀的溝槽。
第1溝槽31及第2溝槽32的深度可以是與硬質的樹脂層40的厚度相同。亦即,可藉著第1溝槽31及第2溝槽32將硬質的樹脂層40分割成複數個。又,第
1溝槽31及第2溝槽32是僅形成於硬質的樹脂層40,不形成於軟質的樹脂層50。硬質的樹脂層40被第1溝槽31及第2溝槽32所分割,藉此在研磨面30壓接於樹脂塗裝面的曲面的場合,可對應曲面朝著硬質的樹脂層40抵接方向位移。因此,研磨面30容易追隨樹脂塗裝面的曲面。
第1溝槽31及第2溝槽32的溝槽寬是例如以0.5mm以上為佳。並且,第1溝槽31及第2溝槽32的溝槽寬是例如以5.0mm以下為佳。
在如以上的範圍,可一邊抑制溝槽的形成所導致研磨面30與樹脂塗裝面之接觸面積的減少,並確保研磨面30壓接於樹脂塗裝面的曲面時之硬質的樹脂層40的位移量使研磨面30容易彎曲。
第1溝槽31的間距及第2溝槽32的間距是例如以5.0mm以上為佳。並且,第1溝槽31的間距及第2溝槽32的間距是例如以50mm以下為佳。
在如以上的範圍,可一邊抑制溝槽的形成所導致研磨面30與樹脂塗裝面之接觸面積的減少,並確保研磨面30壓接於樹脂塗裝面的曲面時之研磨面30整體的彎曲量。
該等溝槽寬及間距的尺寸在如以下說明的第1~第3變形例也是相同。
參閱第5(a)圖。第1溝槽31及第2溝槽32的深
度也可以較硬質的樹脂層40的厚度淺。亦即,硬質的樹脂層40不為第1溝槽31及第2溝槽32分割成複數,第1溝槽31及第2溝槽32的部份的硬質的樹脂層40的厚度是比其他的部份厚度薄。使得第1溝槽31及第2溝槽32的部份的剛性降低,所以硬質的樹脂層40變得容易彎曲。因此,研磨面30追隨樹脂塗裝面的曲面變得容易。
參閱第5(b)圖。第1溝槽31及第2溝槽32的深度可以較硬質的樹脂層40的厚度深。亦即,第1溝槽31及第2溝槽32也可形成於硬質的樹脂層40及軟質的樹脂層50。因此,支撐硬質的樹脂層40的軟質的樹脂層50的支撐面51也被第1溝槽31及第2溝槽32所分割。分割後的複數的硬質的樹脂層40是分別被分割後的複數的支撐面51所支撐。
第1溝槽31及第2溝槽32也可形成於軟質的樹脂層50,因此在軟質的樹脂層50的剛性降低,研磨面30被壓接於樹脂塗裝面的曲面的場合,軟質的樹脂層50容易對應曲面而變形。又,藉著支撐硬質的樹脂層40之支撐面51的分割,降低支撐面51間的拘束力,分割後的硬質的樹脂層40為彼此獨立而變得容易位移。因此抵接方向之硬質的樹脂層50的位移量變大,研磨面30容易追隨樹脂塗裝面的曲面。
參閱第6(a)圖及第6(b)圖。在研磨面30上僅形成有第1溝槽31,未形成有第2溝槽32。在研磨面30形成複數的第1溝槽31,藉此在研磨面30形成有條紋狀溝槽。
第1溝槽31的深度是可以比硬質的樹脂層40的厚度深。亦即,第1溝槽31也可形成於硬質的樹脂層40及軟質的樹脂層50。因此,支撐硬質的樹脂層40的軟質的樹脂層50的支撐面51也被第1溝槽31所分割。分割後的複數的硬質的樹脂層40是分別被分割後的複數的支撐面51所支撐。並且,第1溝槽31的深度可以和硬質的樹脂層40的厚度相同或較淺。
省略第2溝槽32在研磨面30上形成條紋狀的溝槽,可藉此提升研磨面的強度,並可降低形成溝槽的工時而有助於低成本化。又,在硬質的樹脂層40也形成第1溝槽31,藉此減輕因不形成朝第2方向延伸之第2溝槽32對研磨面30的追隨性的降低。
並且,也可在使用於二次研磨的研磨墊的研磨面上,形成與第2實施形態相關之研磨墊10相同的溝槽。
層疊厚度1.5mm、材質聚氨基甲酸乙酯發泡體及A硬度90的硬質的樹脂層,及厚度30.0mm、材質聚氨基甲酸乙酯發泡體及E硬度20的軟質的樹脂層以形成研磨墊,
進行樹脂塗裝面的研磨。在硬質的樹脂層上,藉著將形成兩層構成後的高速旋轉的圓形的切刀一邊以預定量壓接於研磨墊並進行表面掃描形成寬度2.0mm、間距20.0mm、深度3.0mm的格子狀的溝槽。作為研磨劑是使用氧化鋁泥漿。
其結果,可實現算術平均浮凸(Wa)為0.05μm以下,濾波最大浮凸(Wcm)為0.3μm以下之平坦光澤面的精加工。
在此記載的所有的例及條件性用語為具有教育性目的之意圖,以有助於讀者對發明人為了本發明及技術的進展所賦予之概念時的理解,在此應解釋為不限於具體記載之上述的例與條件,及表示本發明之優異性與劣差性相關之本案說明書的例的構成。本發明的實施例雖已詳細說明,但在不脫離本發明的精神及範圍,應解釋為可進一步加以進行種種的變更、置換及修正。
10:研磨墊
30:研磨面
40:硬質的樹脂層
50:軟質的樹脂層
Claims (6)
- 一種研磨方法,使用研磨墊,來研磨具有曲面的樹脂塗裝面;上述研磨墊,具有2層構造包含:形成研磨面之硬質的樹脂層、支撐上述硬質的樹脂層的軟質的樹脂層;其特徵為:上述軟質的樹脂層的厚度是5~50mm,上述硬質的樹脂層的硬度是以JIS K 6253為依據的A硬度50度以上95度以下;上述軟質的樹脂層的硬度是以JIS K 6253為依據的E硬度之30度以下。
- 如申請專利範圍第1項記載的研磨方法,其中,使上述研磨面追隨上述樹脂塗裝面。
- 如申請專利範圍第1項或第2項記載的研磨方法,其中,在上述研磨面形成溝槽,藉以使上述研磨面追隨上述樹脂塗裝面。
- 如申請專利範圍第1項或第2項記載的研磨方法,其中,相對於上述樹脂塗裝面之上述研磨面的推壓力為一定。
- 如申請專利範圍第1項或第2項記載的研磨方法,其中,在上述研磨墊進行研磨之後,使用硬度較上述硬質的樹脂層低的第2研磨墊研磨上述樹脂塗裝面。
- 如申請專利範圍第1項或第2項記載的研磨方法,其中,使用包含氧化鋁磨粒的泥漿作為研磨劑。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014-172977 | 2014-08-27 | ||
JP2014172977A JP6426403B2 (ja) | 2014-08-27 | 2014-08-27 | 研磨方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201628773A TW201628773A (zh) | 2016-08-16 |
TWI693983B true TWI693983B (zh) | 2020-05-21 |
Family
ID=55399063
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW104127177A TWI693983B (zh) | 2014-08-27 | 2015-08-20 | 具有曲面形狀之構件的研磨加工方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10434622B2 (zh) |
EP (1) | EP3187306B1 (zh) |
JP (1) | JP6426403B2 (zh) |
CN (1) | CN106660189A (zh) |
TW (1) | TWI693983B (zh) |
WO (1) | WO2016031142A1 (zh) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018169041A1 (ja) * | 2017-03-17 | 2018-09-20 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 研磨パッド、研磨工具、及び研磨方法 |
TW202030050A (zh) * | 2018-09-14 | 2020-08-16 | 日商福吉米股份有限公司 | 研磨墊、研磨工具及研磨方法 |
TW202023805A (zh) * | 2018-09-28 | 2020-07-01 | 日商福吉米股份有限公司 | 研磨墊及使用其的研磨方法 |
US11850695B2 (en) * | 2019-11-27 | 2023-12-26 | 3M Innovative Properties Company | Robotic paint repair |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5212910A (en) * | 1991-07-09 | 1993-05-25 | Intel Corporation | Composite polishing pad for semiconductor process |
TW380078B (en) * | 1997-11-25 | 2000-01-21 | Speedfam Co Ltd | Surface polishing pad |
JP2002283220A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-10-03 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス物品の研磨装置 |
TW200603944A (en) * | 2004-06-16 | 2006-02-01 | Cabot Microelectronics Corp | Continuous contour polishing of a multi-material surface |
CN101080305A (zh) * | 2004-12-16 | 2007-11-28 | 3M创新有限公司 | 弹性构造的砂磨物品 |
JP5292958B2 (ja) * | 2007-07-18 | 2013-09-18 | 東レ株式会社 | 研磨パッド |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4263755A (en) * | 1979-10-12 | 1981-04-28 | Jack Globus | Abrasive product |
US5222331A (en) | 1990-04-10 | 1993-06-29 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrading assembly |
JPH07328935A (ja) * | 1994-06-01 | 1995-12-19 | Minnesota Mining & Mfg Co <3M> | 研磨パッドおよびそれを用いる研磨方法 |
US5807161A (en) * | 1996-03-15 | 1998-09-15 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Reversible back-up pad |
JPH09277159A (ja) * | 1996-04-16 | 1997-10-28 | Nippon Steel Corp | 研磨方法及び研磨装置 |
ATE445230T1 (de) * | 1997-04-30 | 2009-10-15 | Minnesota Mining & Mfg | Verfahren zum planarisieren der oberfläche eines halbleiterwafers |
JPH11300630A (ja) * | 1998-04-21 | 1999-11-02 | Achilles Corp | バフ材 |
WO2001078125A1 (fr) * | 2000-04-12 | 2001-10-18 | Shin-Etsu Handotai Co.,Ltd. | Procede de production de tranches de semi-conducteur et tranches ainsi obtenues |
US20030022604A1 (en) | 2001-05-07 | 2003-01-30 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive product and method of making and using the same |
US20020090901A1 (en) | 2000-11-03 | 2002-07-11 | 3M Innovative Properties Company | Flexible abrasive product and method of making and using the same |
US20030207659A1 (en) | 2000-11-03 | 2003-11-06 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive product and method of making and using the same |
US20050020189A1 (en) | 2000-11-03 | 2005-01-27 | 3M Innovative Properties Company | Flexible abrasive product and method of making and using the same |
JP2004202668A (ja) * | 2002-12-26 | 2004-07-22 | Rodel Nitta Co | 研磨クロス |
US20050084221A1 (en) * | 2003-10-16 | 2005-04-21 | 3M Innovative Properties Company | Apparatus and method for transitioning fiber optic cables |
JP2005131720A (ja) * | 2003-10-29 | 2005-05-26 | Toray Ind Inc | 研磨パッドの製造方法 |
US7261625B2 (en) * | 2005-02-07 | 2007-08-28 | Inoac Corporation | Polishing pad |
JP2007260891A (ja) * | 2006-02-28 | 2007-10-11 | Hitachi Chem Co Ltd | 樹脂成形品の仕上げ方法およびこれを用いてなる樹脂成形品 |
JP2008062367A (ja) * | 2006-09-11 | 2008-03-21 | Nec Electronics Corp | 研磨装置、研磨パッド、研磨方法 |
CN101668825B (zh) * | 2007-01-23 | 2013-10-16 | 圣戈本磨料股份有限公司 | 包含聚集体的涂布研磨产品 |
US8323072B1 (en) * | 2007-03-21 | 2012-12-04 | 3M Innovative Properties Company | Method of polishing transparent armor |
KR20120112662A (ko) * | 2009-12-30 | 2012-10-11 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 유기 미립자 로딩된 폴리싱 패드 및 이를 제조 및 사용하는 방법 |
JP5911674B2 (ja) | 2011-06-06 | 2016-04-27 | 石原ケミカル株式会社 | バフ研磨方法、バフ研磨組成物及び自動車塗装面補修用の水性乳化バフ研磨組成物 |
US20130291323A1 (en) * | 2011-08-19 | 2013-11-07 | Total Import Solutions, Inc. | Surface cleaning system and method |
JP6279309B2 (ja) * | 2013-12-20 | 2018-02-14 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 研磨用クッション、研磨装置、研磨方法、及び当該研磨方法により研磨された対象物を含む物品 |
-
2014
- 2014-08-27 JP JP2014172977A patent/JP6426403B2/ja active Active
-
2015
- 2015-07-30 EP EP15835235.1A patent/EP3187306B1/en active Active
- 2015-07-30 CN CN201580044747.XA patent/CN106660189A/zh active Pending
- 2015-07-30 WO PCT/JP2015/003853 patent/WO2016031142A1/ja active Application Filing
- 2015-07-30 US US15/504,772 patent/US10434622B2/en active Active
- 2015-08-20 TW TW104127177A patent/TWI693983B/zh active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5212910A (en) * | 1991-07-09 | 1993-05-25 | Intel Corporation | Composite polishing pad for semiconductor process |
TW380078B (en) * | 1997-11-25 | 2000-01-21 | Speedfam Co Ltd | Surface polishing pad |
JP2002283220A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-10-03 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス物品の研磨装置 |
TW200603944A (en) * | 2004-06-16 | 2006-02-01 | Cabot Microelectronics Corp | Continuous contour polishing of a multi-material surface |
CN101080305A (zh) * | 2004-12-16 | 2007-11-28 | 3M创新有限公司 | 弹性构造的砂磨物品 |
JP5292958B2 (ja) * | 2007-07-18 | 2013-09-18 | 東レ株式会社 | 研磨パッド |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20170252890A1 (en) | 2017-09-07 |
JP6426403B2 (ja) | 2018-11-21 |
CN106660189A (zh) | 2017-05-10 |
TW201628773A (zh) | 2016-08-16 |
US10434622B2 (en) | 2019-10-08 |
JP2016047565A (ja) | 2016-04-07 |
WO2016031142A1 (ja) | 2016-03-03 |
EP3187306A1 (en) | 2017-07-05 |
EP3187306B1 (en) | 2023-01-25 |
EP3187306A4 (en) | 2017-09-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI693983B (zh) | 具有曲面形狀之構件的研磨加工方法 | |
US10759075B2 (en) | Blade sharpening system for a log saw machine | |
JP5843958B2 (ja) | 板ガラスのエッジ仕上げ方法 | |
JP6100541B2 (ja) | 研磨方法 | |
US11498182B2 (en) | Polishing method and polishing pad | |
WO2016031143A1 (ja) | 研磨パッド | |
EP1139397A1 (en) | Method of manufacturing semiconductor wafer | |
WO2018169041A1 (ja) | 研磨パッド、研磨工具、及び研磨方法 | |
JP7420728B2 (ja) | 研磨パッド、及びそれを用いた研磨方法 | |
JP6693768B2 (ja) | 研磨方法 | |
US9687964B2 (en) | Polishing pad with hybrid cloth and foam surface | |
JP6354432B2 (ja) | 研磨パッド | |
US8360831B2 (en) | Sanding tool | |
JP3222849U (ja) | 包丁の地金曇り出し砥石 | |
KR102078035B1 (ko) | 기능성 사포적층 사포벨트 | |
CN102626896A (zh) | 一种定盘边缘抛光布割布的硅片抛光方法 | |
JP3223236U (ja) | 包丁の地金曇り出し砥石 | |
JP2010076080A (ja) | 研磨装置および研磨方法 | |
WO2013080885A1 (ja) | ガラス板の研磨装置 | |
JP3189076U (ja) | 平面式刃物研ぎ器 | |
JP2015199170A (ja) | 研磨工具 | |
JP2004136438A (ja) | 圧延用ロールの研磨方法 | |
JP2014039993A (ja) | 円い砥石 | |
JP2008093779A (ja) | スムージング工具及びスムージング方法 |