TWI681066B - 真空蒸鍍裝置 - Google Patents

真空蒸鍍裝置 Download PDF

Info

Publication number
TWI681066B
TWI681066B TW104126707A TW104126707A TWI681066B TW I681066 B TWI681066 B TW I681066B TW 104126707 A TW104126707 A TW 104126707A TW 104126707 A TW104126707 A TW 104126707A TW I681066 B TWI681066 B TW I681066B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
film thickness
evaporation
organic material
crystal
film
Prior art date
Application number
TW104126707A
Other languages
English (en)
Chinese (zh)
Other versions
TW201627514A (zh
Inventor
田村博之
Original Assignee
日商佳能特機股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商佳能特機股份有限公司 filed Critical 日商佳能特機股份有限公司
Publication of TW201627514A publication Critical patent/TW201627514A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI681066B publication Critical patent/TWI681066B/zh

Links

Images

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Length Measuring Devices Characterised By Use Of Acoustic Means (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
TW104126707A 2014-09-30 2015-08-17 真空蒸鍍裝置 TWI681066B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014200860A JP6448279B2 (ja) 2014-09-30 2014-09-30 真空蒸着装置
JP2014-200860 2014-09-30

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201627514A TW201627514A (zh) 2016-08-01
TWI681066B true TWI681066B (zh) 2020-01-01

Family

ID=55601530

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW104126707A TWI681066B (zh) 2014-09-30 2015-08-17 真空蒸鍍裝置

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6448279B2 (enExample)
KR (1) KR101968798B1 (enExample)
CN (1) CN105463377B (enExample)
TW (1) TWI681066B (enExample)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI701641B (zh) * 2019-10-01 2020-08-11 龍翩真空科技股份有限公司 無線傳輸薄膜厚度監控裝置

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180067463A (ko) * 2016-10-25 2018-06-20 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 증착 레이트를 측정하기 위한 측정 조립체, 증발 소스, 증착 장치, 및 이를 위한 방법
US10763143B2 (en) * 2017-08-18 2020-09-01 Applied Materials, Inc. Processing tool having a monitoring device
KR101870581B1 (ko) * 2017-09-29 2018-06-22 캐논 톡키 가부시키가이샤 수정진동자의 수명 판정방법, 막두께 측정장치, 성막방법, 성막장치, 및 전자 디바이스 제조방법
JP7301578B2 (ja) * 2019-03-29 2023-07-03 キヤノントッキ株式会社 成膜装置及び成膜方法
CN109930112A (zh) * 2019-04-15 2019-06-25 湖畔光电科技（江苏）有限公司 一种蒸镀腔体结构
CN113302332B (zh) * 2019-10-21 2023-09-08 株式会社爱发科 成膜装置
CN111829428B (zh) * 2020-06-17 2022-02-15 华中科技大学 一种双石英晶振膜厚控制仪及误差校正方法
KR20220011924A (ko) * 2020-07-22 2022-02-03 주식회사 엘지화학 실리콘계 코팅 조성물 및 이를 포함하는 실리콘계 이형필름
JP2023072407A (ja) * 2021-11-12 2023-05-24 キヤノントッキ株式会社 成膜量測定装置、成膜装置、成膜量測定方法、成膜方法、及び電子デバイスの製造方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005325400A (ja) * 2004-05-13 2005-11-24 Seiko Epson Corp 真空蒸着装置及び薄膜形成方法
KR20120023273A (ko) * 2010-09-01 2012-03-13 (주)알파플러스 셔터를 이용하는 진공증착막의 두께 모니터링 방법 및 이 방법을 채용하는 진공증착장치
TW201250039A (en) * 2010-11-04 2012-12-16 Canon Kk Film formation apparatus
CN103469172A (zh) * 2013-08-31 2013-12-25 上海膜林科技有限公司 石英晶体镀膜厚度控制方法及石英晶体镀膜装置
JP2014065942A (ja) * 2012-09-26 2014-04-17 Hitachi High-Technologies Corp 真空蒸着装置
JP2014070238A (ja) * 2012-09-28 2014-04-21 Hitachi High-Technologies Corp 真空蒸着装置及びその蒸着方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4233644B2 (ja) 1998-09-22 2009-03-04 株式会社アルバック 膜厚モニター用水晶振動子
TW201337013A (zh) * 2012-03-12 2013-09-16 Hitachi High Tech Corp 蒸發源裝置及真空蒸鍍裝置及有機ｅｌ顯示裝置之製造方法
JP6223275B2 (ja) * 2014-05-15 2017-11-01 キヤノントッキ株式会社 水晶発振式膜厚計

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005325400A (ja) * 2004-05-13 2005-11-24 Seiko Epson Corp 真空蒸着装置及び薄膜形成方法
KR20120023273A (ko) * 2010-09-01 2012-03-13 (주)알파플러스 셔터를 이용하는 진공증착막의 두께 모니터링 방법 및 이 방법을 채용하는 진공증착장치
TW201250039A (en) * 2010-11-04 2012-12-16 Canon Kk Film formation apparatus
JP2014065942A (ja) * 2012-09-26 2014-04-17 Hitachi High-Technologies Corp 真空蒸着装置
JP2014070238A (ja) * 2012-09-28 2014-04-21 Hitachi High-Technologies Corp 真空蒸着装置及びその蒸着方法
CN103469172A (zh) * 2013-08-31 2013-12-25 上海膜林科技有限公司 石英晶体镀膜厚度控制方法及石英晶体镀膜装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI701641B (zh) * 2019-10-01 2020-08-11 龍翩真空科技股份有限公司 無線傳輸薄膜厚度監控裝置

Also Published As

Publication number Publication date
CN105463377A (zh) 2016-04-06
CN105463377B (zh) 2019-08-23
KR101968798B1 (ko) 2019-04-12
KR20160038746A (ko) 2016-04-07
JP2016069694A (ja) 2016-05-09
JP6448279B2 (ja) 2019-01-09
TW201627514A (zh) 2016-08-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI681066B (zh) 真空蒸鍍裝置
JP6223275B2 (ja) 水晶発振式膜厚計
JP6641649B2 (ja) 水晶振動子の寿命判定方法、膜厚測定装置、成膜方法、成膜装置、及び電子デバイス製造方法
JP4844867B2 (ja) 真空蒸着装置の運転方法および真空蒸着装置
CN107805783B (zh) 蒸发源、蒸镀设备及蒸镀控制方法
KR102184356B1 (ko) 성막장치, 성막방법, 및 전자 디바이스 제조방법
JP2020033620A (ja) 成膜装置及び成膜装置の制御方法
JP5932867B2 (ja) 基板をコーティングするための装置
CN118308701B (zh) 用于磁控溅射的薄膜精确沉积方法以及沉积薄膜
CN104513951B (zh) 掠角反应沉积设备及其运行方法
JP2014065958A (ja) 成膜装置
JP2015069859A (ja) 有機ｅｌ製造装置及び有機ｅｌ製造方法
JP2014070238A (ja) 真空蒸着装置及びその蒸着方法
JP2013257174A (ja) 電極膜を有する素子の製造方法及び成膜装置
KR102193817B1 (ko) 박막 제조 장치, 박막 제조 방법
CN204385286U (zh) 掠角反应沉积设备
JP2016130336A (ja) 蒸着膜の製造方法及び蒸着装置
JP2014065942A (ja) 真空蒸着装置
JPWO2008012921A1 (ja) 化学気相蒸着装置及び化学気相蒸着方法
JP2014055335A (ja) 真空成膜装置とその蒸発源の温度制御方法及び装置
KR20180027140A (ko) 인라인 타입 박막 증착 공정 시 박막 두께 제어 방법 및 장치
TW201720945A (zh) 用以測量一沈積率之偵測元件及測量組件及其之方法
CN111378945A (zh) 成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法
KR100729096B1 (ko) 유기물 증발 증착방법 및 이를 위한 유기 증발 증착 장치
CN111684103A (zh) 用于沉积蒸发材料的沉积设备及其方法