TWI677883B - 透明導電膜積層用薄膜以及透明導電薄膜 - Google Patents

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Abstract

本發明係關於一種透明導電膜積層用薄膜，其係積層有圖案化的透明導電膜的透明導電膜積層用薄膜1，具有透明塑膠基材2，與積層於透明塑膠基材2的至少一面的功能層3，功能層3的折射率為1.52~2.00，功能層3含有著色劑，於透明導電膜積層用薄膜1積層圖案化的透明導電膜時，使透明導電薄膜存在的部分，與透明導電薄膜不存在的部分之L*a*b*表色系統的b*各為-2~2。透過這種透明導電膜積層用薄膜1，即使簡化層的構成，透明導電膜的圖案仍然難以判讀。

Description

透明導電膜積層用薄膜以及透明導電薄膜
本發明是關於一種透明導電膜積層用薄膜、以及利用其製造的透明導電薄膜。
透過直接觸碰圖像顯示單元，輸入資訊的觸控面板，是將透光的輸入裝置配置於各種顯示器上，作為具有代表性的形式，可以列舉電阻式觸控面板以及電容式觸控面板。
這些觸控面板中，有使用由氧化銦錫(ITO)等構成的透明導電膜積層於透明塑膠基材上的透明導電薄膜的情況。
在電容式觸控面板中，為了檢測手指觸碰的位置，在透明導電膜積層後，例如：將兩片線形圖案化的透明導電薄膜以使所述透明導電膜相互交叉成為格子狀之形態配置。如此得到的電容式觸控面板中，存在透明導電膜積層的地方和沒有積層的地方，由於透明導電膜的有無，反射率以及色感度不同，因此通過兩片透明導電薄膜形成的透明導電膜的格子狀圖案會被識別，其結果，有降低作為顯示器的視認性的問題。
為了使該格子狀圖案，即，透明導電膜積層部分的判讀變得困難，有研究提出了在透明基材薄膜(透明塑膠基材)上積層硬塗層，並按順序積層高折射率層、低折射率層以 及透明導電膜所構成的透明導電薄膜(參照專利文獻1)。
【先前技術文獻】 【專利文獻】
【專利文獻1】日本專利公開第2011-134482號公報
但是，若如上述形成硬鍍層、高折射率層與低折射率層的多層，則有製造工程繁複、生產費用高的問題。再者，若想要省略硬鍍層，高折射率層與低折射率層具有會發生光學干涉的膜厚(例如：數十nm)，利用其光學干涉使透明導電薄膜圖案難以判讀，而該薄膜厚度很難具有可耐受實際使用的硬度。
本發明係有鑒於上述狀況而完成，目的在於提供一種在簡化層次構成的情況之下，透明導電薄膜圖案難以判讀的透明導電薄膜，以及其製造時所使用的透明導電膜積層用薄膜。
為了達成上述目的，第一，本發明提供一種透明導電膜積層用薄膜，本發明係積層有圖案化的透明導電薄膜的透明導電膜積層用薄膜，其特徵在於：具備透明塑膠基材和在所述透明塑膠基材的至少一面上積層的功能層，所述功能層的折射率為1.52~2.00，於上述透明導電膜積層用薄膜上積層圖案化的透明導電薄膜時，上述功能層含有著色劑，使上述透明 導電薄膜存在部分，以及上述透明導電薄膜不存在的部分之L*a*b*表色系的b*各為-2~2(發明1)。
根據上述發明(發明1)，如上述控制功能層折射率的同時，功能層由於含有所定量的著色劑，不需形成原來所需之高折射率層與低折射率層，便可使透明導電薄膜的圖案難以判讀。
上述發明(發明1)中，較佳係上述功能層直接積層於上述透明塑膠基材，上述透明導電膜直接積層於上述功能層。
上述發明(發明1，2)中，功能層的厚度係0.05~10μm為佳(發明3)。
上述發明(發明1~3)中，功能層係硬鍍層為佳(發明4)。
第二，本發明提供一種透明導電薄膜，其特徵在於：其具備上述透明導電膜積層用薄膜(發明1~4)，與積層於上述透明導電膜積層用薄膜的上述功能層上的圖案化的透明導電膜(發明5)。
根據本發明所有關的透明導電膜積層用薄膜，即使簡化層的構成，亦可使透明導電薄膜的圖案難以判讀。又，本發明所有關的透明導電薄膜，即使在簡單的層構成情況下，亦可使透明導電薄膜的圖案難以被判讀。
1‧‧‧透明導電膜積層用薄膜
2‧‧‧透明塑膠基材
3‧‧‧功能層
10‧‧‧透明導電薄膜
4‧‧‧透明導電膜
(圖1)本發明之其一實施形態所有關的透明導電膜積層用薄膜的剖面圖。
(圖2)本發明之其一實施形態所有關的透明導電薄膜的剖面圖。
以下說明本發明的實施形態。
〔透明導電膜積層用薄膜〕
圖1為本發明之其一實施形態所有關的透明導電膜積層用薄膜的剖面圖，本實施形態所有關的透明導電膜積層用薄膜1，是由透明塑膠基材2，與透明塑膠基材2的單面(圖1的上側)積層的功能層3所構成。
本實施形態所有關的透明導電膜積層用薄膜1中，功能層3直接積層於透明塑膠基材2，透明導電薄膜直接積層於功能層3較佳。如此一來，便不需形成原來所需的高折射率層與低折射率層，可簡化層的構成，透過簡便的製程，可節省透明導電膜積層用薄膜1的生產費用。又，所謂「直接積層於透明塑膠基材」，意指透明塑膠基材的透明薄膜本體，或於該塑膠薄膜本體一體化後所形成的層(例如，易黏接層等的層，高折射率層與低折射率層除外)，免除原來所需乘載的高折射率層與低折射率層而直接積層。
<功能層>
本實施形態所有關的透明導電膜積層用薄膜1的功能層3，折射率係1.52~2.00，較佳係1.55~1.90，更加係1.65~1.85。功能層3的折射率於此範圍內時，與透明導電薄膜的折 射率差異會變小。因此，透明導電薄膜存在部分的反射光強度，以及透明導電薄膜不存在部分的反射光強度變得相近，會使透明導電薄膜圖案判讀變得困難。又，本發明專利說明書的折射率係以JIS K7142：2008為依據，透過橢圓儀所測量的數值。
此外，本實施形態所有關的透明導電膜積層用薄膜1的功能層3，圖案化的透明導電薄膜積層於該透明導電膜積層用薄膜1時，其透明導電薄膜存在部分，與透明導電薄膜不存在部分含有著色劑，使L*a*b*表色系統之b*各為-2~2，由於一般透明導電薄膜呈黃色，使透明導電薄膜存在部分，與透明導電薄膜不存在的部分，因為色彩的關係，外觀差異明顯。但，如同上述功能層3含有著色劑，b*在-2~2的狀態下，透明導電薄膜存在的部分黃色變弱，透明導電薄膜存在的部分色彩，與透明導電薄膜不存在的部分色彩間的色差變小，因此，再加上上述因折射率所產生之效果，透明導電薄膜的圖案變得更為難以判讀。
上述b*如上所述係-2~2，較佳係-1.9~1.9，更佳係-1.8~1.8，特佳係-1.7~1.7，另外，b*的數值以JIS Z8722為基準。
對著色劑而言，滿足上述b*的數值，此外，只要不會對透明導電膜產生負面影響，使用時不需特別設限。以b*為所定值的觀點來看，係青色著色劑為佳。又，青色著色劑雖可使用顏料或染料，但就透明導電薄膜形成時等的熱穩定性觀點來看，使用顏料較佳。
青色顏料，例如：靛藍、鈷藍、鹼藍色澱、維多利亞藍色澱、酞菁藍、無機金屬酞菁藍(例如，銅酞菁藍)、酞菁藍部分氯化、耐曬湖藍、陰丹士林藍BC等，可單獨使用1種或混合2種以上使用。上述內容中，從耐熱性與硬度的觀點來看，以鈷藍或銅酞菁藍為佳。
功能層3的著色劑含量以含有0.01~30質量%為佳，較佳係0.05~25質量%，更佳係0.4~18%質量，特佳係5~18質量%。功能層3的著色劑含量介於此範圍時，上述b*便可容易地進入上述範圍內，亦可確保功能層3的薄膜強度。
這裡的功能層3係硬鍍層為佳，藉此，本實施形態所有關的透明導電膜積層用薄膜1便不需要另外形成硬鍍層。
功能層3係以活性能量線固化性成份、熱固化性成份等的固化性成份，以及含有著色劑的組合物固化而成的固化物構成為佳，特別係活性能量線固化性成份，與含有著色劑的組合物(以下稱為「組合物C」)，以活性能量線固化而成的固化物構成為佳。藉此，功能層3便可成為硬鍍層。
這裡所謂的活性能量線，指的是電磁波，或帶電粒子束中具有能量量子，詳言之，紫外線或電子束等皆為活性能量線，活性能量線中又以容易操控的紫外線為佳。
對於活性能量線固化性成份，適當選擇可賦予功能層3所需折射率與硬度的成份即可。詳言之，活性能量線固化性成份可列舉：多官能(甲基)丙烯酸酯單體、(甲基)丙烯酸酯預聚合物、具活性能量線固化性的聚合物等，其中較佳 係多官能(甲基)丙烯酸酯單體與/或(甲基)丙烯酸酯預聚合物。多官能(甲基)丙烯酸酯單體與多官能(甲基)丙烯酸酯系預聚合物可個別單獨使用，亦可兩種並用，此外，本發明專利說明書中所謂的(甲基)丙烯酸酯，指的是所有丙烯酸酯與丙烯酸甲酯，其他類似用語亦同。
作為多官能(甲基)丙烯酸酯單體，可列舉：1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、羥基新戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二環戊二(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性二環戊烯基二(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性磷酸二(甲基)丙烯酸酯、烯丙基化環己基二(甲基)丙烯酸酯、異氰脲酸酯二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、丙酸改性二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改性的三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三(丙烯醯氧基乙基)異氰脲酸酯、丙酸改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、金剛烷二(甲基)丙烯酸酯、9,9-雙[4-(2-丙烯醯氧基乙氧基)苯基]芴的多官能(甲基)丙烯酸酯等。上述成份可以單獨使用，也可以混合2種以上使用。
另一方面，作為(甲基)丙烯酸酯預聚合物，可列舉：聚酯丙烯酸酯、環氧丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯，和多元醇丙烯酸酯等預聚合物。
作為聚酯丙烯酸酯類預聚合物，例如，透過多元 羧酸和多元醇縮聚後，所獲得的兩末端具有羥基的聚酯低聚物的羥基，以(甲基)丙烯酸使其酯化而得到，或者，於多元羧酸中添加環氧烷後獲得的低聚物之末端羥基，以(甲基)丙烯酸酯化後即可獲得。
環氧丙烯酸酯預聚合物，例如：在相對低分子量的雙酚型環氧樹脂，與酚醛清漆型環氧樹脂的環氧乙烷中，與(甲基)丙烯酸反應後，使其酯化而獲得，可舉例：酚醛清漆丙烯酸酯預聚物。
聚氨酯丙烯酸酯預聚合物，例如：聚醚多元醇與聚酯多元醇，以及聚異氰酸酯反應後所獲得之聚氨酯低聚物，可藉由(甲基)丙烯酸使其酯化而獲得。
多元醇丙烯酸酯類的預聚合物，例如：聚醚多元醇的羥基可藉由(甲基)丙烯酸使其酯化而獲得。
以上預聚合物可以單獨使用，也可以混合2種以上使用。
上述活性能量線固化性成份中，使用芳香環或具有多環芳烴骨架的單體或預聚合物較佳，更佳係使用具有芳香環或多環芳烴骨架的預聚合物。由於這些化合物具有高折射率，所獲得的功能層3容易滿足上述的折射率，亦具有較佳的硬度。
具有芳香環的預聚合物中，較佳係具有芳香環2個以上的預聚合物。例如：苯酚酚醛清漆丙烯酸酯預聚合物、甲酚酚醛丙烯酸酯類的預聚合物等。
具有多環芳烴骨架的預聚合物，例如：具有芴骨 架、萘骨架、蒽骨架、苯骨架、丁苯骨架、四苯骨架、屈骨架、芘骨架、並五苯骨架、並六苯骨架、並七苯骨架、蔻骨架、凱庫勒烯骨架等的預聚合物，其中以具芴骨架的預聚合物較佳，詳言之，具有芴骨架的丙烯酸酯基的預聚合物較佳。
上述組合物C，含有光聚合起始劑較佳。藉由含有此種光聚合起始劑，可有效率地使活性能量線固化性成份固化，亦可減少聚合固化時間與活性能量線的照射量。
作為這樣的光聚合起始劑，可舉例：安息香、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙醚、偶姻異丙基醚、安息香-N-丁基醚、偶姻異丁基醚、苯乙酮、二甲基氨基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮、2-羥基-2-甲基、1-羥基己基苯基酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉-丙-1-酮、4-(2-羥基乙氧基)苯基-2-(羥甲基-2-丙基)酮、二苯甲酮、對苯二苯甲酮、4,4'-二乙基氨基二苯甲酮、二氯苯甲酮、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2叔-丁基蒽醌、2-氨基蒽醌、甲基噻噸酮、2-乙基噻噸酮、2-氯噻噸酮、2,4-二甲基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、芐基二甲基、苯乙酮二甲基縮、對二甲基氨基苯甲酸乙酯、低聚[2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙酮]、2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-氧化膦等。以上可以單獨使用，也可以混合2種以上使用。
活性能量線固化性成份定為100質量份時，使用光聚合起始劑0.5~15質量份較佳，更佳係1~10質量份。
功能層3(組合物C)，根據需求，亦可含有為調整折射率的調整劑，例如含有金屬氧化物。這種金屬氧化物可舉 例：氧化鈦、氧化鋯、氧化鉭、氧化鋅、氧化銦、氧化鉿、氧化鈰、氧化錫、氧化鈮、銦錫摻雜氧化物(ITO)、氧化錫銻(ATO)等，這些金屬氧化物可以單獨使用，也可以結合2種以上使用，以折射率與透明度的觀點看來，使用氧化鋯較佳。
上述金屬氧化物，以微粒的形態包含於功能層3為佳。這樣的狀況下，金屬氧化物微粒的平均粒徑，較佳係1~150nm，更佳係5~40nm。此外，本發明專利說明書的金屬氧化物微粒的平均粒徑，是透過Zeta電位測量法所使用的測量方式測得的數值。
對於功能層3的折射率調整劑(金屬氧化物)的混合比例，使功能層3的折射率介於上述範圍適當地設定。詳言之，活性能量線固化性成份定為100質量份時，較宜係50~1000質量份，更佳係80~800質量份，特佳係100~500質量份。
功能層3(組合物C)在不妨礙本發明的效果範圍內，可含有所需添加的各種添加劑。作為各種添加劑，例如：分散劑、架橋劑、固化劑、抗氧化劑等。
功能層3的厚度較佳係0.05~10μm，更佳係0.1~7μm，特佳係0.2~5μm。功能層3的厚度介於上述範圍內，便降低著色劑的濃度，使透明導電薄膜的圖案難以判讀，此外，增加硬鍍層的同時，在真空條件下，以較低的層級抑制功能層3的揮發成份的觀點看來，功能層3的厚度係0.4~3μm最佳。
根據功能層3的JIS K5600-5-4為基準，所測量的 鉛筆硬度較佳係HB以上，更佳係F以上，特佳係H以上。可滿足功能層3所有關的條件的透明導電膜積層用薄膜1，具有高表面硬度，亦具有優越的耐磨損性。
<透明塑膠基材>
本實施形態中所使用的透明塑膠基材2，沒有特別的限制，作為原來的光學用基材，可在已知的塑膠薄膜中適當選擇具有透明性的基材而使用。作為所述塑膠薄膜，例如，可以舉出聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等的聚酯薄膜、聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、玻璃紙、二乙醯纖維素薄膜、三醋酸纖維素薄膜、纖維素乙醯丁酸薄膜、聚氯乙烯薄膜、聚偏二氯乙烯薄膜、聚乙烯醇薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚碸薄膜、聚醚酮薄膜、聚醚碸薄膜、聚醚醯亞胺薄膜、聚醯亞胺薄膜、氟樹脂薄膜、聚醯胺薄膜、丙烯酸樹脂薄膜、降冰片烯樹脂薄膜、環烯烴樹脂薄膜等的塑膠薄膜、或者這些的積層薄膜。
其中，具有適宜於觸控面板等的強度，較佳係聚酯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚醯亞胺薄膜、降冰片烯樹脂薄膜、環烯烴樹脂薄膜等。其中，從透明性以及厚度精密度等的觀點考慮，更佳係聚酯薄膜。其中，特佳係與高折射率層3中的熱可塑性樹脂密合性優異的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)。
再者，透明塑膠基材2，就改善與功能層3的密合性的觀點來看，至少需一面具備易黏接層(塑膠薄膜本體中，至少一側的面積層易黏接層而成的透明塑膠基材)為佳。該易 黏接層雖無特別限制，但較佳係丙烯酸類樹脂、聚氨酯樹脂、酯樹脂等熱塑性樹脂中，混合所定量的有機或無機微粒所組成者為佳。又，為了不使易黏接層的厚度影響功能層3的光學特性，並具備充分的密合性，較佳厚度係數nm至1μm，更佳係10nm至300nm。此外，易黏接層可存在於透明塑膠基材2的功能層3側，或存在於其相反側，亦可兩側同存。
透明塑膠基材2的厚度，沒有特別的限制，可根據用途適當選定，但通常係15μm~300μm，較佳係30μm~250μm的範圍。另外，該透明塑膠基材2，以提高與其表面設置的層的密合性的目的，可在一面或者兩面根據氧化法以及凹凸化法等進行表面處理。作為上述氧化法，例如可以利用電暈放電處理、鉻酸鹽處理(濕式)、火焰處理、熱空氣處理、臭氧‧紫外線照射處理等，作為凹凸化法，例如可以利用噴砂法、溶劑處理法等。這些表面處理法，可根據透明塑膠基材2的種類適當選擇，一般利用在效果和操作性等方面優秀的電暈放電處理法。
<透明導電膜積層用薄膜的物理性能>
本實施形態所有關的透明導電膜積層用薄膜1，全光線透光率(以JIS K7361為基準所測量的數值)達80%以上為佳，更佳係83%以上，特佳係85%以上。此外，本實施形態所有關的透明導電膜積層用薄膜1，霧度(Haze)值(以JIS K7136為基準所測量的數值)達3.0%以下為佳，更佳係2.0%以下，特佳係1.0%以下。藉由滿足上述物理特性，透明導電膜積層用薄膜1即具高透明性，適合用於光學用途。
<透明導電膜積層用薄膜之製造>
本實施形態所有關的透明導電膜積層用薄膜1，依下列方法製造較佳。本方法中，以上述組合物C(含有活性能量線固化性成份與著色劑的組合物)舉例說明。
詳言之，首先，於透明塑膠基材2的一側主面形成組合物C的塗佈層，此時，可將包含組合物C的塗佈劑直接塗佈於透明塑膠基材2的一側主面，形成塗佈層，亦可將包含組合物C的塗佈劑塗佈於護片上形成塗佈層後，將貼附於護片的塗佈層與透明塑膠基材2的一側主面貼合。
作為護片，可使用上述列舉的塑膠薄膜，此外，塑膠薄膜的單面或雙面，亦可使用透過剝離劑剝離處理過的剝離片。
上述塗佈層由組合物C，與根據所需含有溶劑的塗佈劑調製後，將其於透明塑膠基材2，或護片上塗佈後，使其乾燥而成。塗佈劑的塗佈法使用一般方法即可，例如：棒塗佈法、刮刀塗佈法、繞線棒塗佈法、輥塗法、刮塗法、模塗法、凹版塗佈法。乾燥的方法，例如，以40~150℃加熱30秒~5分鐘即可。
接著，針對上述塗佈層照射紫外線、電子束等活性能量線，使組合物C固化，以形成功能層3。此時，為了提高固化的效率，上述塗佈層在與氧氣隔絕的狀況下照射活性能量線為佳。若想將上述塗佈層與氧氣隔絕，在上述塗佈層上貼附著護片的情況下，維持該護片貼附的狀態；上述塗布層沒有貼附於護片的情況下，可在上述塗佈層上新積層一層護片，抑 或是將透明塑膠基材2，與塗佈層的積層體放置於低氧濃度的狀態下，較佳的情況係放置於氮氣的狀態下。
紫外線照射可使用高壓汞燈、Fusion H燈、氙氣燈等。紫外線照射量較佳係照度50~1000mW/cm2，光量50~1000mJ/cm2左右。另一方面，電子束照射可使用電子束加速器等，電子束的照射量以10~1000krad左右為佳。
以上說明的透明導電膜積層用薄膜1，係後述的透明導電薄膜的適宜製造材料。
〔透明導電薄膜〕
圖2係本發明其一實施形態所有關的透明導電薄膜的剖面圖，本實施形態所述透明導電薄膜10，係於上述透明導電膜積層用薄膜1的功能層3上，積層圖案化的透明導電薄膜4而成，該透明導電薄膜10，因功能層3存在，使透明導電薄膜4的圖案難以被判讀。
<透明導電膜>
作為本實施形態所述透明導電薄膜10中透明導電薄膜4的材料，只要係同時兼具透明性與導電性的材料即可，使用上沒有特別的限制。例如：氧化銦錫(ITO)、氧化銥(IrO2)、氧化銦(In2O3)、氧化錫(SnO2)、摻氟二氧化錫(FTO)、氧化銦鋅(IZO)、氧化鋅(ZnO)、氧化鎵鋅(GZO)、氧化鋁鋅(AZO)、氧化鉬(MoO3)、氧化鈦(TiO2)等的透明導電性金屬氧化物。這些金屬氧化物的薄膜，透過採用適當的成膜條件，可成為兼具透明性與導電性的透明導電薄膜。
透明導電膜4的膜厚度，較佳係4nm~800nm，更 佳係5nm~500nm，特佳係10nm~100nm。透明導電膜4的膜厚度在所述範圍內，則成為連續的薄膜，可獲得穩定的導電性，同時，沒有透明性降低之虞。
<透明導電薄膜的物理性質>
透明導電薄膜10中，透明導電膜4存在部分的反射率(%)，以及透明導電膜4不存在的部分的反射率(%)差(反射率差)之絕對值，較佳係波長380~780nm時10.0百分點(反射率%的差)，更佳係9.5百分點以下，特佳係9.0百分點以下。藉此，透明導電膜4的圖案會變得難以被判讀，上述反射率差因上述功能層3存在而可達成。
<透明導電薄膜之製造>
本實施形態所述透明導電薄膜10，例如，可按照以下所示的方法製造。首先，如上所述製造透明導電膜積層用薄膜1後，對於功能層3採用真空蒸鍍法、濺射法、CVD法、離子電鍍法、噴塗法、溶膠凝膠法等已知的方法，根據上述的材料的種類或需求膜厚，適當選用後製成透明導電膜4。
如上述形成的透明導電膜4，如上所述制膜後，根據光刻法，形成所定圖案的抗蝕劑掩模，用已知的方法進行蝕刻處理，例如，可形成線狀圖形等。藉此獲得具有圖案的透明導電膜4的透明導電薄膜10。此外，雖然圖案化透明導電膜的線寬度和間隔沒有特別的限制，較佳的情況係各為0.01~100mm，更佳係0.1~50mm。
本實施形態的所述透明導電薄膜10，即使如上所述，沒有高折射率層與低折射率層，在層的構成簡化的情況 下，透明導電膜4的圖案仍然很難判讀。
以上說明的實施形態，係為了便於理解本發明而記載，當不能以此限定本發明實施之範圍，因此，屬於上述實施形態中記載的各元素之技術性範圍內的所有設計變更或均等物，皆應仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。
例如，可於透明導電膜積層用薄膜1的功能層3側相反側的表面積層其他層。
【實施例】
以下，透過實施例等進一步對本發明進行具體說明，但是本發明的範圍並不受這些實施例等的限定。
〔調製例1〕(功能層塗佈劑F1之調製)
作為活性能量線固化性成份的酚醛清漆丙烯酸預聚合物(HITACHI CHEMICAL CO.,LTD.製，商品名「HITALOID7663」)20質量份(以固體成份計；以下相同)；作為折射率調整劑的氧化鋯微粒(CIK NANOTEK公司製，商品名「ZRMIBK15WT %-F85」，平均粒徑20nm)80質量份；以及作為青色著色劑的鈷藍色(CIK NANOTEK公司製，商品名「CBDMIBK15WT %-R13」)7.5質量份；以及作為光聚合起始劑的1-羥基己基苯基酮(BASF公司製，商品名「IRGACURE184」)1質量份；作為稀釋溶劑，將甲基乙基酮均勻混合後，製成固體成份濃度7.5%的功能層塗佈劑F1。
〔調製例2〕(功能層塗佈劑F2之調製)
作為活性能量線固化性成份的芴骨架導入丙烯酸預聚合物(TAISEI FINE CHEMICAL CO.,LTD.製，商品名「ACRYT 8DK-3000」)100質量份；以及作為青色著色劑的鈷藍色(CIK NANOTEK公司製，商品名「CBDMIBK15WT%-R13」)15質量份；以及作為光聚合起始劑的1-羥基己基苯基酮(BASF公司製，商品名「IRGACURE184」)5質量份；作為稀釋溶劑，將甲基乙基酮均勻混合後，製成固體成份濃度7.5%的功能層塗佈劑F2。
〔調製例3〕(功能層塗佈劑F3之調製)
作為活性能量線固化性成份的雙季戊四醇六丙烯酸酯100質量份；以及作為折射率調整劑的氧化鋯微粒(CIK NANOTEK公司製，商品名「ZRMIBK15WT%-F85」，平均粒徑20nm)300質量份；以及作為青色著色劑的銅酞菁藍(NIKKO BICS CO.,LTD.製，商品名「NSP-CZ9664Blue」)2質量份；以及作為光聚合起始劑的1-羥基己基苯基酮(BASF公司製，商品名「IRGACURE184」)6質量份；作為稀釋溶劑，將甲基乙基酮均勻混合後，製成固體成份濃度7.5%的功能層塗佈劑F3。
〔調製例4〕(功能層塗佈劑F4之調製)
作為活性能量線固化性成份的含氟丙烯酸預聚合物(JSR公司製，商品名「OPSTAR TU1001」；光聚合起始劑含有物)100質量份；作為稀釋溶劑，將甲基乙基酮均勻混合後，製成固體成份濃度7.5%的功能層塗佈劑F4。
〔調製例5〕(功能層塗佈劑F5之調製)
作為活性能量線固化性成份的含氟丙烯酸預聚合物(JSR公司製，商品名「OPSTAR TU1001」；光聚合起始劑含有物)100質量份；以及作為青色著色劑的鈷藍色(CIK NANOTEK公司 製，商品名「CBDMIBK15WT%-R13」)15質量份；作為稀釋溶劑，將甲基乙基酮均勻混合後，製成固體成份濃度7.5%的功能層塗佈劑F5。
〔調製例6〕(功能層塗佈劑F6之調製)
作為活性能量線固化性成份的雙季戊四醇六丙烯酸酯100質量份；以及作為青色著色劑的鈷藍色(CIK NANOTEK公司製，商品名「CBDMIBK15WT%-R13」)15質量份；以及作為光聚合起始劑的1-羥基己基苯基酮(BASF公司製，商品名「IRGACURE184」)5質量份；作為稀釋溶劑，將甲基乙基酮均勻混合後，製成固體成份濃度7.5%的功能層塗佈劑F6。
〔調製例7〕(功能層塗佈劑F7之調製)
作為活性能量線固化性成份的芴骨架導入丙烯酸預聚合物(TAISEI FINE CHEMICAL CO.,LTD.製，商品名「ACRYT 8DK-3000」)20質量份；以及作為折射率調整劑的氧化鋯微粒(CIK NANOTEK公司製，商品名「ZRMIBK15WT%-F85」，平均粒徑20nm)80質量份；以及作為光聚合起始劑的1-羥基己基苯基酮(BASF公司製，商品名「IRGACURE184」)1質量份；作為稀釋溶劑，將甲基乙基酮均勻混合後，製成固體成份濃度7.5%的功能層塗佈劑F7。
〔實施例1~3，比較例1~5〕 (1)透明導電膜積層用薄膜之製造
在透明塑膠基材的一個面，與具有易粘接層的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜(TOYOBO CO.,LTD.製，商品名：COSMO SHINEA4100，厚度50μm)的易粘接層相反側的面上，將表1 所示的功能層塗佈劑(F1~F7)以邁耶棒進行塗工後，將其置於70℃的烘箱乾燥1分鐘，形成塗層。對於此塗層，根據以下條件照射紫外線，形成表1所示膜厚的功能層，得到透明導電膜積層用薄膜。
<紫外線照射條件>
紫外線照射裝置：GS YUASA INTERNAIONAL LTD.製，氮氣吹掃式小型輸送機UV照射裝置CSN2-40
光源：高壓汞燈
燈泡功率：1.4kW
輸送速度：1.2m/分鐘
照度：100mW/cm2
光量：240mJ/cm2
(2)透明導電薄膜之製造
上述所獲得的透明導電膜積層用薄膜的功能層上使用ITO靶材(氧化錫10質量%)，實施濺鍍，形成膜厚30nm的透明導電膜，獲得透明導電薄膜。
〔實驗例1〕(折射率之測量) (1)功能層的折射率
將實施例與比較例中製作的透明導電膜積層用薄膜的透明塑膠基材之易黏接層(功能層的反側面)，以砂紙擦拭去除後，於該面以油性筆(ZEBRA CO.,LTD.製，商品名「MACKEE黑色」)塗黑，接著對功能層側的面使用光譜橢偏儀(J.A.WOOLLAM公司製，商品名「M-2000」)，功能層的589nm折射率以JIS K7142：2008為基準測量，同時測量功能層的膜厚，結果如表1 所示。
(2)透明導電膜之折射率
將實施形態與比較例中使用的透明塑膠基材的易黏接層反側面，在實施例與比較例中統一進行濺鍍，形成膜厚係30nm的透明導電膜。之後，與測量功能層折射率的情況一樣，去除易黏接層後，將該面塗黑，接著對透明導電膜側的面，使用光譜橢偏儀(J.A.WOOLLAM公司製，商品名「M-2000」)，功能層的589nm折射率以JIS K7142：2008為基準測量。結果，透明導電膜的折射率為1.95。
〔實驗例2〕(光學性能之測量)
對於在實施例與比較例中獲得的透明導電膜積層用薄膜，使用霧度計(NIPPON DENSHOKU INDUSTRIES CO.,LTD.製，商品名「NDH2000」)，以JIS K7361為基準，測量整體透光率(%)。與此同時，以JIS K7136為基準測量霧度數值(%)。結果如表1所示。
〔實驗例3〕(反射率之測量)
在實施例與比較例中獲得的透明導電薄膜的透明導電膜上，將多個聚醯亞胺膠帶(幅寬5cm)，以每5cm為間距，將其平行排列黏貼。
將獲得的積層體，浸漬於調為1mol/l的鹽酸中2分鐘，上述未黏貼聚醯亞胺膠帶的透明導電薄膜部分已被蝕刻。接著，將積層體置於離子交換水中充分洗滌，放置於120℃中乾燥10分鐘後，自透明導電膜摘除聚醯亞胺膠帶。藉此，將幅寬5cm的透明導電薄膜部分，與幅寬5cm的透明導電薄膜 不存在的部分，反覆相互交疊，則可得到透明導電膜圖案化的透明導電薄膜。
對於上述圖案化的透明導電薄膜之透明導電膜存在的部分(圖案部分)，以及透明導電膜不存在的部分(非圖案部分)，以分光光度計(SHIMADZU CORPORATION.製，商品名「UV-3600」)測量波長係380nm、550nm與780nm的反射率(%)。此外，依據其結果，透明導電膜存在部分的反射率(%)中，扣除透明導電膜不存在部分的反射率(%)後，算出反射率差(百分點)，結果如表1所示。
〔實驗例4〕(b*之測量)
對於與實驗例3透過同一方法獲得的圖案化透明導電薄膜，在透明導電膜存在的部分(圖案部分)，以及透明導電膜不存在的部分(非圖案部分)，以JIS Z8722為標準，作為量測裝置，且同時測量方式分光式色差計(NIPPON DENSHOKU INDUSTRIES CO.,LTD.製，SQ-2000)，作為光源，使用C光源2°視角(C/2)，根據透過測定法測量表色系統的b*，結果如圖1所示。
〔實驗例5〕(圖案非可視性之評價)
在實施例與比較例中所獲得的透明導電薄膜之透明導電薄膜上，將多個聚醯亞胺膠帶(幅寬1cm)，以每1cm為間距，將其平行排列黏貼。
將獲得的積層體浸漬於調為1mol/l的鹽酸中2分鐘，上述未黏貼聚醯亞胺膠帶的透明導電膜部分已被蝕刻。接著，將積層體置於離子交換水中充分洗滌，放置於120℃中乾 燥10分鐘後，自透明導電薄膜摘除聚醯亞胺膠帶。藉此，將幅寬1cm的透明導電薄膜，與幅寬1cm的透明導電薄膜不存在的部分，反覆相互交疊，則可得到透明導電膜圖案化的透明導電薄膜。
之後，將上述圖案化透明導電薄膜置於白紙上，使透明導電膜成為白色熒光燈側，將其設置於距離白色熒光燈(27W；3波長)1m處。在此狀態下，以肉眼觀察是否可看見透明導電膜的圖案，按照以下所示基準評價圖案的非可視性。結果如表1所示。
=圖案非可視度評價=
3：透明導電膜的圖案難以看出。
2：透明導電薄膜的有無造成色調或反射強度的差異，可判讀透明導電膜的圖案。
1：透明導電薄膜的有無造成色調與反射強度的差異，可判讀透明導電薄膜的圖案。
〔實驗例6〕(鉛筆硬度之評價)
對於實施例與比較例中所獲得的透明導電膜積層用薄膜之功能層，依據JIS K5600為基準，評價鉛筆的硬度。結果如表1所示。
如表1所示，實施例中所製成的透明導電薄膜，即使透明導電膜積層用薄膜僅於透明塑膠基材上積層功能層，如此簡單的構成亦會使透明導電膜的圖案難以判讀，並擁有高表面硬度。
(產業上之可利用性)
本發明在以低費用生產難以視認透明導電膜圖案的透明導電薄膜上非常有用。

Claims (4)

  1. 一種透明導電膜積層用薄膜，係積層有圖案化的透明導電薄膜的透明導電膜積層用薄膜，其特徵在於：具有透明塑膠基材，以及積層於上述透明塑膠基材至少一面之功能層；上述功能層的折射率為1.52~2.00；上述功能層含有著色劑，於上述透明導電膜積層用薄膜積層圖案化的透明導電膜時，使上述透明導電膜存在的部分，與上述透明導電膜不存在的部分的L*a*b*表色系統之b*各為-2~2，上述功能層，直接積層於上述透明塑膠基材，上述透明導電膜，直接積層於上述功能層。
  2. 根據申請專利範圍第1項所述之透明導電膜積層用薄膜，其中上述功能層的厚度係0.05~10μm。
  3. 根據申請專利範圍第1項所述之透明導電膜積層用薄膜，其中上述功能層係硬鍍層。
  4. 一種透明導電薄膜，其特徵在於：具備申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述透明導電膜積層用薄膜，以及積層於上述透明導電膜積層用薄膜的上述功能層上的圖案化透明導電膜。
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080239488A1 (en) * 2007-03-20 2008-10-02 Tetsuya Asakura Antireflection film, polarizing plate and image display device
TW201304953A (zh) * 2011-04-06 2013-02-01 Teijin Ltd 透明導電性層合體及透明觸控面板
TW201314246A (zh) * 2011-09-16 2013-04-01 Toray Advanced Film Co Ltd 透明導電性薄膜及觸控面板
WO2014059411A1 (en) * 2012-10-12 2014-04-17 Corning Incorporated Laminate articles with moderate adhesion and retained strength

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003080624A (ja) * 2001-09-07 2003-03-19 Nof Corp 透明導電材料およびタッチパネル
JP2003114764A (ja) * 2001-10-04 2003-04-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd タッチパネルおよびこれを用いた電子機器
TWI290328B (en) * 2002-05-23 2007-11-21 Nof Corp Transparent conductive laminated film and touch panel
JP4349794B2 (ja) * 2002-12-02 2009-10-21 株式会社ニデック 導電性を有する多層反射防止膜付透明基板の製造方法
JP2011175040A (ja) * 2010-02-23 2011-09-08 Panasonic Electric Works Co Ltd ハードコートフィルム

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080239488A1 (en) * 2007-03-20 2008-10-02 Tetsuya Asakura Antireflection film, polarizing plate and image display device
TW201304953A (zh) * 2011-04-06 2013-02-01 Teijin Ltd 透明導電性層合體及透明觸控面板
TW201314246A (zh) * 2011-09-16 2013-04-01 Toray Advanced Film Co Ltd 透明導電性薄膜及觸控面板
WO2014059411A1 (en) * 2012-10-12 2014-04-17 Corning Incorporated Laminate articles with moderate adhesion and retained strength

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