TWI669549B - 微影系統的連接配置 - Google Patents

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TWI669549B TW104140108A TW104140108A TWI669549B TW I669549 B TWI669549 B TW I669549B TW 104140108 A TW104140108 A TW 104140108A TW 104140108 A TW104140108 A TW 104140108A TW I669549 B TWI669549 B TW I669549B
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Abstract

本發明揭示一種用於一微影系統(100)的連接配置(200A、200B)，其具有一第一組件(212)、一第二組件(206)、一第一介面元件(210)，其以可釋放方式連接至一第一接合點(220)的該第一元件(212)，以及一第二介面元件(218)，其以可釋放方式連接至一第二接合點(222)的該第二元件(206)。該第一介面元件(210)具有一第一接觸表面(226)，該第二介面元件(218)具有一第二接觸表面(228)，並且至少該等兩接觸表面(226、228)之一者經過設置來對齊及/或選擇，以在該等兩接觸表面(226、228)於一第三接合點(224)連接之前，補償該第一組件(212)與該第二組件(206)之間的一位移。該第一介面元件(210)的該第一接觸表面(226)與該第二介面元件(218)的該第二接觸表面(228)於該第三接合點(224)上藉由一材料裝配連接來連接。

Description

微影系統的連接配置
本發明係關於連接配置、具有一連接配置的微影系統以及生產一連接配置的方法。
為了材料與製造因素，鏡頭由許多組件構成，尤其是承載結構與光學裝置。因此，該等承載結構透過連接點連接至該等光學裝置。根據生產該等接合點的方式會提高應變與變形，這對於光學裝置有決定性影響。尤其是因為有最小機械強度需求，所以迄今來說沒有裝配應變與變形幾乎是不可能的。
除了該方法所發生的應變與變形以外，裝配期間補償該等組件的形狀與位置公差，而未產生額外應變與變形，這也相當重要。WO2005/106557將由壓配(force-fit)連接所產生變形會由解耦(decoupling)元件所吸收之效果列入考慮。因為該解耦元件直接關於該機械硬度，因此限制此程序只適用於需要高機械硬度的系統。
針對此背景，本發明的目的之一在於改善一微影系統的連接配置，尤其是在一方面，該連接配置可釋放(releasable)，並且在另一方面，該等組件在該安裝位置內幾乎無應變與無變形地連接。尤其是，本發明的 目的之一為提供具有一連接配置的微影系統，以及生產一連接配置的方法。
利用一微影系統的連接配置可達成此目的，其中該配置具有一第一組件、一第二組件、一第一介面元件，其可釋放地連接至一第一接合點上的該第一組件，以及一第二介面元件，其以可釋放方式連接至一第二接合點上的該第二組件。該第一介面元件具有一第一接觸表面，並且該第二介面元件具有一第二接觸表面。在該等兩接觸表面連接在一第三接合點上之前，至少兩接觸表面之一者經過設置，以便對準及/或選擇，來補償該第一組件與該第二組件之間的位移。該第一介面元件的該第一接觸表面與該第二介面元件的該第二接觸表面在該第三接合點上藉由一材料裝配連接來連接。
該第一組件可為一承載結構，該第二組件可為一光學裝置。該光學裝置可具有一光學元件以及用於該光學元件的一框架。不過該等組件之一者也可為一測量介面、一參考結構或該微影系統的一結構組件。
該第一介面元件以可釋放方式連接至該第一組件，該第二介面元件以可釋放方式連接至該第二組件。該可釋放連接可為壓配(force-fit)及/或型配(form-fit)連接。一壓配連接預先假定在要與另一個連接的表面上之法線力量，壓配連接可用摩擦鎖定或磁力裝配來達成。只要由靜摩擦或磁力裝配引起的反作用力不超過，就可避免表面相互位移。
該第一介面元件的該第一接觸表面與該第二介面元件的該第二接觸表面藉由一材料裝配(material-fit)連接來連接。在材料裝配連接的案例中，用原子力或分子力將連接雙方拉在一起。材料裝配連接為不可釋放連接，只能用摧毀連接裝置的方式分離。材料裝配連接可例如由黏接、焊接、熔接或硫化來執行。
「在該等兩接觸表面連接在一第三接合點上之前，至少兩接觸表面之一者經過設置，以便對準及/或選擇，來補償該第一組件與該第二 組件之間的位移」的說法可解釋成至少兩接觸表面之一者可適合傾斜及/或介面元件可相應選取，如此至少兩接觸表面之一者適合在選擇之後對準。
在材料裝配連接的案例中，該連接發生在該等組件應變相對自由的狀態下。若該等組件在黏接期間以無接觸方式固接在該安裝位置上，則該黏接可補償該接合間隙內的公差，並且只產生因為該黏接的應變(stress)。
因為該連接配置具有兩個可釋放接合點，則可以非破壞方式取代該第一組件與該第二組件。因為該等介面元件的至少兩接觸表面之一者可調整，以補償該第一組件與該第二組件之間的位移，該連接配置可對齊，以因應要安裝在該微影系統的需要。透過在該第三接合點上的該材料裝配連接，即是在該第一與第二介面元件之間，確保了一無應變與無變形連接。因為該等介面元件的兩接觸表面彼此對齊，所以可在該第三接合點上產生非常薄的材料裝配連接。這導致高剛性連接配置。因為該等介面元件的兩接觸表面彼此對齊，所以可在該第三接合點上進一步產生一平行材料裝配連接。這導致例如將在黏著劑凝固期間產生的扭力(torque)最小化。
在該連接配置的一個具體實施例內，該等第一和第二介面元件的至少該等兩接觸表面之一者可相對於該最短連接路徑對齊，或相對於與該最短連接路徑垂直的該方向對齊，及/或相對於該等兩接觸表面彼此相關角度對齊。在此案例中，該可對準度可涵蓋所有方向與角度。具有優勢的是，如此該等兩接觸表面可用恆等短距離對齊。這允許薄的第三接合點，因此一高剛性連接配置，或至少一平行連接點，具有關於該接合應變效果的好處。
該至少兩接觸表面之一者可相對於該連接路徑對齊，即是可調整的該等兩接觸表面之間的該距離。該至少兩接觸表面之一者可相對於與該連接路徑垂直的方向對齊，即是從與該至少一個接觸表面垂直的方向看起來，該至少一個接觸表面確切位於另一個接觸表面上來移動。該至少 兩接觸表面之一者可相對於該等兩接觸表面關於彼此的角度對齊，即是該等接觸表面可彼此平行對齊。
根據該連接配置的另一個較佳具體實施例，該等接觸表面彼此平行。也就是說，該等接觸表面彼此具有恆等的距離。如此，一材料裝配連接可實施的不錯，並且在該材料裝配連接建立期間的應變不會產生任何扭力。
根據該連接配置的另一個具體實施例，至少該等介面元件之一者具有不對稱形狀，以便補償該等組件之間的位移。具有優勢的是，該等接觸表面可因此平行定位並且彼此間具有短距離。
從複數個介面元件之中可選擇該至少兩介面元件之一者。因為至少該等介面元件之一者設置成一可替換元件(墊片(shim))，因此可根據需求使用該合適形狀的介面元件。
根據該連接配置的另一個具體實施例，該不對稱形狀為楔形。有利的是，一楔形介面元件可補償該等接觸表面彼此之間的傾斜定位。
根據該連接配置的另一個具體實施例，該第一介面元件具有一基座以及一可傾斜可固定(tiltable fixable)元件，以便相對於該基座傾斜該第一接觸表面。在此案例中，該基座可用一壓配及/或形配連接至該第一組件。該可傾斜可固定元件可相對於該基座傾斜。在該可傾斜可固定元件已經對齊之後，可藉由該基座固定。該第一接觸表面可由該第一介面元件的該可傾斜可固定元件的一邊來形成。
另外或此外，該第二介面元件具有一基座以及一可傾斜可固定元件，以便相對於該基座傾斜該第二接觸表面。在此案例中，該基座可用一壓配及/或形配連接至該第二組件。該可傾斜可固定元件可相對於該基座傾斜。在該可傾斜可固定元件已經對齊之後，可藉由該基座固定。該第二接觸表面可由該第二介面元件的該可傾斜可固定元件的一邊來形成。
根據該連接配置的另一個具體實施例，該第一介面元件的該 第一接觸表面為一平面，及/或該第二介面元件的該第二接觸表面為平面。因為該等介面元件的該等接觸表面為平面，所以該等接觸表面可用一材料裝配彼此相連。
根據該連接配置的另一個具體實施例，該第一介面元件及/或該第二介面元件的該可傾斜可固定元件設置成一球形蓋，並且其上固定該可傾斜可固定元件的該組件具有一對應凹槽。在此案例中，該球形蓋的平面側具有該等兩接觸表面之一者，並且該球形蓋的彎曲側可夾住該對應組件。
根據該連接配置的另一個具體實施例，該基座具有一固定元件，其夾住該可傾斜可固定元件抵住要固定的組件。在已經對齊該接觸表面之後，該固定元件可固定該可傾斜可固定元件。該固定元件可具有彎曲度。該可傾斜可固定元件可具有對應至該固定元件彎曲度的彎曲度。
根據該連接配置的另一個具體實施例，該第一組件具有一承載結構，並且該第二組件具有一光學裝置。較佳是，可以一承載結構以及一光學裝置產生該連接配置。
根據該連接配置的另一個具體實施例，該光學裝置具有一框架以及一反射鏡或一鏡頭元件。該光學裝置可具有用於該光學元件的一框架。該光學裝置可為一反射鏡或一鏡頭元件。
本發明也提供一微影系統，特別是一EUV微影系統，具有如所述的一或多個連接配置。
同時說明用於生產用於一微影系統的連接配置之方法。該方法具有下列步驟。在步驟a)內，一第一介面元件以可釋放方式連接至一第一組件，並且一第二介面元件以可釋放方式連接至一第二組件，如此該第一介面元件的一可傾斜可固定元件及/或該第二介面元件的一可傾斜可固定元件可相對於該第一組件及/或該第二組件傾斜。在步驟b)內，該第一介面元件的一第一接觸表面及/或該第二介面元件的一第二接觸表面已經對齊， 以補償該等第一和第二組件之間的位移。在步驟c)內，該第一介面元件的該可傾斜可固定元件相對於該第一組件固定，及/或該第二介面元件的該可傾斜可固定元件相對於該第二組件固定。在步驟d)內，該第一介面元件的該第一接觸表面以一材料配件連接至該第二介面元件的該第二接觸表面。
該方法產生具有兩可釋放接合點的連接配置。如此，該第一組件與該第二組件都可替換。使用一或多個可傾斜可固定元件可對齊該第一介面元件的一第一接觸表面及/或該第二介面元件的一第二接觸表面。接著，固定該(等)可傾斜可固定元件。接著利用黏著劑結合(adhesive bonding)，可在該等介面元件之間產生非常薄的材料裝配連接。這導致高剛性連接配置。更進一步，執行在該第三接合點上的該材料裝配連接當成最終步驟。如此，可產生無應變與無變形的一連接配置。
應知順序並不受限於在此說明的方法步驟指定。
根據該方法的另一個具體實施例，步驟b)包含：將該第一介面元件的該第一接觸表面與該第二介面元件的該第二接觸表面接觸來傾斜該第一介面元件的該第一接觸表面，已經傾斜該第一介面元件的該可傾斜可固定元件，如此該第一介面元件的該第一接觸表面與該第二介面元件的該第二接觸表面彼此之間具有一恆等距離，及/或將該第二介面元件的該第二接觸表面與該第一介面元件的該第一接觸表面接觸來傾斜該第二介面元件的該第二接觸表面，傾斜該第二介面元件的該可傾斜可固定元件，使該第二介面元件的該第二接觸表面與該第一介面元件的該第一接觸表面彼此之間具有一恆等距離。具有優勢的是，藉由一可傾斜可固定元件可對齊一接觸表面。
進一步說明產生用於一微影系統的連接配置之方法。該方法具有下列步驟。在步驟a)內，選擇及/或產生一第一介面元件以及一第二介面元件。在步驟b)內，該第一介面元件以可釋放方式連接至一第一組件。在步驟c)內，該第二介面元件以可釋放方式連接至一第二組件。在步驟d) 內，該第一介面元件的該第一接觸表面用一材料配件連接至該第二介面元件的該第二接觸表面。
該方法產生具有兩可釋放接合點的連接配置。如此，該第一組件與該第二組件都可替換。利用該等介面元件的選擇及/或產生，可提供該等合適的介面元件，以便補償該等組件之間的位移。如此，該等介面元件的該等接觸表面彼此平行對齊。接著利用黏著劑結合，可在該等介面元件之間產生非常薄的材料裝配連接。這導致高剛性連接配置。更進一步，執行在該第三接合點上的該材料裝配連接當成最終步驟。如此，可產生無應變與無變形的一連接配置。
應知順序並不受限於在此說明的方法步驟指定。
根據該方法的另一個具體實施例，首先測量在該第一組件與該第二組件之間可用的該空間，以便選擇具有合適形狀的該等介面元件。具有優勢的是，該等介面元件的該等接觸表面在該選擇與連接至該等組件之後彼此平行對齊。
根據該方法的另一個具體實施例，步驟a)包含：從一組介面元件中選擇該第一介面元件及/或該第二介面元件，該組介面元件內含具有不同幾何形狀的複數個介面元件。有利的是，該等合適的介面元件可從一組介面元件當中選取。
根據該方法的另一個具體實施例，步驟a)包含：藉由研磨、銑削或切割來生產該第一介面元件及/或該第二介面元件。有利的是，該等介面元件可直接從一基本形狀製備。
根據該方法的另一個具體實施例，步驟d)包含以下步驟：在步驟d1)內，該第一接觸表面與該第二接觸表面彼此移動遠離，讓該黏著劑可塗抹於至少該等兩接觸表面之一者上。在步驟d2)內，將黏著劑塗抹於至少該等兩接觸表面之一者上。在步驟d3)內，將該等接觸表面放在一起並用黏著劑結合。有利的是，藉由該材料裝配連接可生產無應變與變形的一 連接配置。
針對所提出設備說明的具體實施例與特色相應套用至所提出的方法。
本發明的其他可能實施也包含上面或底下相關於示範具體實施例所描述的特色或具體實施例之組合(未明確提及)。在此案例中，熟此技藝者也可新增個別態樣，改善或強化本發明個別基本形式。
100‧‧‧EUV微影系統
102‧‧‧光束成形系統
104‧‧‧照明系統
106‧‧‧投影系統
108‧‧‧EUV光源
110‧‧‧準直器
112‧‧‧單光器
114‧‧‧EUV輻射
116‧‧‧第一反射鏡
118‧‧‧第二反射鏡
120‧‧‧光罩
122‧‧‧晶圓
124‧‧‧第三反射鏡
200‧‧‧連接配置
200A‧‧‧根據第一具體實施例的連接配置
200B‧‧‧根據第二具體實施例的連接配置
202‧‧‧第四反射鏡
204‧‧‧框架
206‧‧‧光學裝置
208‧‧‧框架上的突出物
208-1‧‧‧框架上的楔形突出物
208-2‧‧‧框架上的突出物
210‧‧‧第一介面元件
210-1‧‧‧面向該楔形突出物的第一介面元件
210-2‧‧‧面向該突出物的第一介面元件
212‧‧‧承載結構
214‧‧‧間隙
216‧‧‧可釋放的連接
218‧‧‧第二介面元件
218-1‧‧‧楔形第二介面元件
218-2‧‧‧第二介面元件
220‧‧‧第一接合點
222‧‧‧第二接合點
224‧‧‧第三接合點
226‧‧‧第一接觸表面
228‧‧‧第二接觸表面
300‧‧‧可傾斜可固定元件
302‧‧‧基座
304‧‧‧接觸元件
306‧‧‧徑向或熱解連結器
308‧‧‧螺蓋
310‧‧‧墊片
312‧‧‧固定元件
314‧‧‧軸向隔片
316‧‧‧螺絲
318‧‧‧網
320‧‧‧體積元件
322‧‧‧該可傾斜可固定元件的開口
324‧‧‧該可傾斜可固定元件的凹槽
326‧‧‧該固定元件的下側
328‧‧‧該可傾斜可固定元件的凹槽之上側
330‧‧‧黏著劑
400‧‧‧第一定位裝置
402‧‧‧第一旋轉或球接點
404‧‧‧該承載結構的旋轉
410‧‧‧第二定位裝置
412‧‧‧第二旋轉或球接點
414‧‧‧框架的旋轉
416‧‧‧生產一連接配置的設備
418‧‧‧最短連接路徑
420‧‧‧與該最短連接路徑垂直的方向
本發明的其他優勢組態與態樣為附屬申請項的主題以及本發明示範具體實施例的主題，如底下所描述。更進一步，在參閱附圖的較佳具體實施例幫助之下，更詳細解釋本發明。
圖1顯示一EUV微影系統的示意圖；圖2A顯示一承載結構以及一光學裝置的示意圖；圖2B顯示具有圖2A中該承載結構與該光學裝置的一連接配置之第一具體實施例示意圖；圖3顯示一連接配置的第二具體實施例示意圖；圖4顯示圖3中該連接配置的詳細剖面圖；圖5顯示用於產生圖3和圖4中該連接配置的設備示意圖；以及圖6顯示使用5中的設備，產生圖3和圖4中該連接配置的方法之示意流程圖。
除非另外指示，否則圖式內相同的參考編號代表相同或功能相等的元件。更進一步，請注意，圖式內所呈現並不必然按照實際的比例。
圖1顯示包含一光束成形系統102以及照明系統104和投影 系統106的的一EUV微影系統100之示意圖。光束成形系統102、照明系統104和投影系統106分別提供於一真空外殼內，其借助於排放設備(未詳細顯示)抽真空。該等真空外殼由一機器空間(未詳細顯示)所包覆，其中提供用於機械移動或光學元件調整的設備。在該機械空間內進一步提供電控制器等等。
光束成形系統102具有一EUV光源108、一準直器110以及一單光器(monochromator)112。例如：可提供一電漿源或一同步輻射源，其發出在該EUV範圍(超高紫外線範圍)內的輻射，即是波長範圍從5nm至20nm，當成EUV光源108。EUV光源108所發出的輻射首先由準直器110準直，在此由單光器112過濾出所要的操作波長。因此光束成形系統102調整EUV光源108所發出光線的波長以及空間分佈。由EUV光源108所產生的EUV輻射114具有相對低的空氣穿透率，因此抽掉光束成形系統102內、照明系統104內以及該投影系統106或投影鏡頭內該光束引導空間的空氣。
在所呈現的範例中，照明系統104具有一第一反射鏡116以及一第二反射鏡118。這些反射鏡116、118可例如設置成用於光瞳成形的分面鏡，並且用於引導EUV輻射114至光罩120上。
光罩120可能設置為一反射光學元件，並且可配置在系統102、104、106之外。光罩120具有一結構，藉由投影系統106縮小比例成像於一晶圓122等等上。為此，投影系統106在該光束引導空間內具有例如一第三反射鏡124以及一第四反射鏡202。請注意，EUV微影系統100的反射鏡數量並不受限於所呈現的數量，可提供更多或更少反射鏡。更進一步，該等反射鏡的正面一般都為曲線，用於光束成形。
圖2A藉由範例顯示第四反射鏡202。第四反射鏡202安置於一框架204上(反射鏡支撐框架)，第四反射鏡202和框架204可一起形成一光學裝置206。框架204具有一楔形突出物208-1以及一突出物208-2， 在此案例中此楔形突出物208-1代表框架204的一任意形狀接觸元件。在楔形突出物208-1的對面有一第一介面元件210-1，並且類似地在突出物208-2對面有一第一介面元件210-2，第一介面元件210-1、210-2分別以一可釋放連接216，例如一壓配連接及/或形配連接，尤其是螺絲，固定在一承載結構212上。在楔形突出物208-1與對面的第一介面元件210-1之間，並且在突出物208-2與對面的第一介面元件210-2之間，可分別看見一間隙214。間隙214代表一第二介面元件218以及該組裝間隙所需的空間。
圖2B顯示具有圖2A中承載結構212和光學裝置206的一連接配置200A之第一具體實施例。間隙214以一楔形第二介面元件218-1並且以一第二介面元件218-2封閉。以一可釋放連接，將與楔形突出物208-1面對的承載結構212和第一介面元件210-1連接於一第一接合點220上。框架204的楔形突出物208-1以可釋放方式，在一第二接合點222上連接至楔形第二介面元件218-1。與楔形突出物208-1面對的第一介面元件210-1具有一第一接觸表面226，其面向第二介面元件218-1的方向。楔形第二介面元件218-1具有一第二接觸表面228，其面向第一介面元件210-1的方向。第一介面元件210-1以及楔形第二介面元件218-1都以一材料裝配在一第三接合點224上彼此相連，該第三接合點224位於第一接觸表面226與第二接觸表面228之間。
第一接觸表面226與第二接觸表面228之間的該直接連接路徑或該間隙尺寸(即是兩接觸表面226、228之間的距離)，可受到不同厚度介面元件210-1、218-1的選擇所影響。關於與該直接連接路徑垂直的該等方向，執行兩接觸表面226、228相對於彼此的調整，及/或利用選擇合適的介面元件210-1、218-1，來執行同樣大的接觸表面226、228之選擇。兩接觸表面226、228相對於彼此的角度會受到楔形介面元件218-1的角度選擇所影響，為此，可從多個具有不同楔形角度的楔形介面元件當中選擇介面元件218-1。利用一介面元件的加工處理，例如研磨，可形成一楔形介面元 件218-1。
類似地，突出物208-2、第二介面元件218-2、面對突出物208-2的第一介面元件210-2以及承載結構212可彼此相連。
在圖2B內，顯示含兩突出物208-1、208-2的連接配置200A。另外，也可有複數個突出物208或只有一個突出物208。在此案例中，較佳為三個突出物分佈在該連接區域上。在進一步替代方案中，並無突出物208。在此案例中，第二介面元件218以可釋放方式直接連接至框架204。
因為承載結構212和第一介面元件210以及含突出物208的框架204和第二介面元件218都用可釋放方式彼此相連，因此可取代承載結構212和光學裝置206。因為間隙214可以具有第二介面元件218的一精確配件封閉，因此第一接觸表面226和第二接觸表面228可彼此平行對齊。這允許非常薄的第三連接點224，然後導致高剛性連接配置200A。
圖2B內顯示的第二介面元件218-1為楔形，另外若需要，可以具有任意所要不對稱或對稱形狀的介面元件，來取代楔形第二介面元件218-1或第一介面元件210-1，若此第一接觸表面226可藉此平行對齊第二接觸表面228的話。
圖3顯示具有一承載結構212和一光學裝置206的一連接配置200B之第二具體實施例。光學裝置206具有圖1的第四反射鏡202以及一框架204。承載結構212以可釋放方式，在一第一接合點上220連接至第一介面元件210。光學裝置206藉由框架204，以可釋放方式在一第二接合點222上連接至第二介面元件218。第一介面元件210具有一第一接觸表面226，其面向第二介面元件218的方向。第二介面元件218具有一第二接觸表面228，其面向第一介面元件210的方向。第一介面元件210以及第二介面元件218都以一材料裝配在一第三接合點224上彼此相連，該第三接合點位於第一接觸表面226與第二接觸表面228之間。
第二介面元件218可相對於光學裝置206旋轉。如此，第二 接觸表面228可與第一接觸表面226平行對齊。接著第二介面元件218可固定在光學裝置206上，如此就不可能旋轉。接觸表面226、228的平行對齊允許非常薄的第三接合點224，然後導致高剛性連接配置200B。因為承載結構212和第一介面元件210以及光學裝置206的框架204和第二介面元件218都以可釋放方式彼此相連，因此可取代承載結構212和光學裝置206。
第二介面元件218可具有一基座(圖3內未顯示)以及一可傾斜可固定元件300。該基座以可釋放方式連接至光學裝置206的框架204。第二介面元件218的可傾斜可固定元件300可包含第二接觸表面228，接著第二接觸表面228可相對於該基座傾斜並相對於框架204傾斜。在已經對齊第二接觸表面228之後，可傾斜可固定元件300藉由該基座固定在框架204上。
承載結構212較佳由陶瓷構成。框架204也可由陶瓷或金屬構成。介面元件210、218較佳包含陶瓷或金屬。在金屬的案例中，較佳使用殷鋼，即是具備非常低熱膨脹行為的鐵鎳合金。在第三接合點224上可用多成分黏著劑進行黏著劑結合。
圖2A、圖2B和圖3分別顯示圖1中該EUV微影系統的第四反射鏡202。不過，連接配置200A、200B可用於EUV微影系統100的任何其他反射鏡，或用於EUV微影系統100的另一個光學裝置206。
圖4顯示圖3內示意的連接配置200B之詳細剖面圖。第一介面元件210用一螺絲316以可釋放方式固定至承載結構212。在第一介面元件210與承載結構212之間可插入一軸向隔片314。第二介面元件218具有一可傾斜可固定元件300和一基座302，如圖4內所見，可傾斜可固定元件300設置為一球形蓋。軸向隔片314補償該最短連接路徑，而可傾斜可固定元件300確保該傾斜補償。另外，介面元件210、218也可設置成複數個零件，以便滿足複數種不同功能。
光學裝置206具有一接觸元件304，用來接觸可傾斜可固定元件300。基座302可藉由一螺帽308以可釋放方式固定至光學裝置206，或其框架204。在螺帽308與接觸元件304之間可有一墊片310。接觸元件304在面向可傾斜可固定元件300的側面上具有一對應凹槽。當螺帽308放鬆時，可傾斜可固定元件300可傾斜並受該凹槽引導。當該螺帽旋緊時，基座302的一固定元件312抵住可傾斜可固定元件300，如此後者用一壓配抵住第二接合點222上的接觸元件304來夾住。接著，可傾斜可固定元件300固定在其位置內。藉由可傾斜可固定元件300之傾斜，第一接觸表面226和第二接觸表面228可彼此平行對齊。接著，在第三接合點224上執行第一接觸表面226與第二接觸表面228之間的該材料裝配連接。
該光學裝置就具有一徑向或熱解耦器306，用於熱補償。徑向或熱解連結器306可包含金屬，尤其是殷鋼(Invar)。圖4內所示的熱解連結器306包含接觸元件304、一網318以及一體積元件320，體積元件320藉由一黏著劑330，結合至光學裝置206或其框架204。
圖4內呈現的基座302具有凸緣中空圓柱形，基座302延伸通過可傾斜可固定元件300的一開口322。固定元件312由該中空圓柱的該凸緣所形成，固定元件312，即是該中空圓柱的該凸緣，沒入可傾斜可固定元件300的一凹槽324內。當螺帽308已旋緊時，該固定元件的下側326抵住可傾斜可固定元件300的凹槽324之上側328。可傾斜可固定元件300因此抵住元件304，並因此固定。
選擇性地或額外地，第一介面元件210可具有一基座302以及一可傾斜可固定元件300。接著，第一接觸表面226相對於承載結構212傾斜。
在介面元件210、218的球形幾何形狀案例中，對應的接觸元件304可具有盤狀球形幾何形狀。
較佳是，第一和第二接觸表面226、228為平面。接著，可 實現一薄第三接合點。
另外，介面元件210、218可具有一可傾斜可固定元件，其中該傾斜機構位於該介面元件內側，並且如圖3和圖4內所見，並不藉由鄰接組件206、212所實現。接著，可以一球接點或用一旋轉接點來實現該傾斜機構。
圖5顯示用於產生圖3和圖4中連接配置200B的一設備416。用於產生連接配置200B的設備416具有一第一定位裝置400以及一第二定位裝置410，第一定位裝置400固定承載結構212。藉由x、y和z方向內的定位裝置400，可移動承載結構212。更進一步，定位裝置400具有一第一旋轉或球接點402。因此，承載結構212可旋轉404。第二定位裝置410固定光學裝置206的框架204。藉由x、y和z方向內的定位裝置，可移動框架204。更進一步，定位裝置410具有一第二旋轉或球接點412。因此，框架204之旋轉414係可能的。
承載結構212和框架204在該安裝位置內可利用定位裝置400、410對齊，即是在後續使用所需的對齊狀態下。在此安裝位置內，連接配置200B組裝時並無應變與無變形。
圖6顯示使用圖5中設備416生產依照圖3和圖4中一連接配置200B的方法。在第一步驟S1內，第一介面元件210以可釋放方式連接至承載結構212，並且第二介面元件218以可釋放方式連接至光學裝置206的框架204。在此例中，第二介面元件218的可傾斜可固定元件300相對於光學裝置206的框架204傾斜。
在第二步驟S2內，第二介面元件218的第二接觸表面228已對齊，以補償承載結構212與光學裝置206的框架204間之位移。第一接觸表面226和第二接觸表面228會接觸，因此第二介面元件218的第二接觸表面228傾斜，而第二介面元件218的可傾斜可固定元件300同樣傾斜。在接觸之後，接觸表面226、228彼此之間具有恆定距離，即是平行對 齊。
在第三步驟S3內，第二介面元件218的可傾斜可固定元件300相對於光學裝置206的框架204固定。對齊之後，藉由基座302的固定元件312抵住光學裝置206的接觸元件304或其框架204，夾住第二介面元件218的可傾斜可固定元件300。因此，固定可傾斜可固定元件300。
在第四步驟S4內，已經平行對齊的第一和第二接觸表面226、228現在於第三接合點224上以一材料裝配連接。為此，第一和第二接觸表面226、228彼此遠離，直到黏著劑可塗抹於接觸表面226、228上。在塗抹黏著劑之後，將接觸表面226、228放在一起並彼此以黏著劑結合。
另外，可傾斜可固定元件300也應配置在第一介面元件210內。更進一步，介面元件210、218可具有一可傾斜可固定元件300。
選擇性地或額外地，在頭兩個步驟之後，可測量承載結構212與光學裝置260之間可用的空間。借助於此測量之結果，可選擇具有合適不對稱或對稱形狀以及正確密度的介面元件210、218，如連結圖2B的範例所描述。
微影系統100不需要一定為EUV微影系統，而是也可使用不同波長的光線(例如利用ArF準分子雷射的193nm)。更進一步，也可使用透鏡元件取代上述反射鏡，尤其是上述的投影系統106。
雖然已經借助於示範具體實施例說明本發明，不過可用許多方式來修改。

Claims (19)

  1. 一種微影系統(100)，包含一或多個連接配置(200A、200B)，該一或多個連接配置(200A、200B)包含：一第一組件(212)，一第二組件(206)，一第一介面元件(210)，其以可釋放方式連接至一第一接合點(220)上的該第一組件(212)，以及一第二介面元件(218)，其以可釋放方式連接至一第二接合點(222)上的該第二組件(206)，其中該第一介面元件(210)具有一第一接觸表面(226)，該第二介面元件(218)具有一第二接觸表面(228)，並且至少該等兩接觸表面(226、228)之一者經過設置來對齊及/或選擇，以便在該等兩接觸表面(226、228)在一第三接合點(224)上連接之前，補償該第一組件(212)與該第二組件(206)之間的一位移，其中該第一介面元件(210)的該第一接觸表面(226)與該第二介面元件(218)的該第二接觸表面(228)在該第三接合點(224)上藉由一材料裝配連接來連接。
  2. 如申請專利範圍第1項之微影系統，其中該等第一和第二介面元件(210、218)的至少該等兩接觸表面(226、228)之一者可相對於最短連接路徑(418)對齊，或相對於與該最短連接路徑垂直的方向(420)對齊，及/或相對於該等兩接觸表面(226、228)彼此相關角度對齊。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之微影系統，其中該等接觸表面(226、228)彼此平行。
  4. 如申請專利範圍第1或2項之微影系統，其中至少該等介面元件(210、218)之一者具有一不對稱形狀(218-1)，以便補償該等組件(206、212)之間的該位移。
  5. 如申請專利範圍第4項之微影系統，其中該不對稱形狀(218-1)為一楔形。
  6. 如申請專利範圍第1或2項之微影系統，其中該第一介面元件(210)具有一基座(302)以及一可傾斜可固定元件(300)，以便相對於該基座(302)傾斜該第一接觸表面(226)，及/或其中該第二介面元件(218)具有一基座(302)以及一可傾斜可固定元件(300)，以便相對於該基座(302)傾斜該第二接觸表面(228)。
  7. 如參請專利範圍第1或2項之微影系統，其中該第一介面元件(210)的該第一接觸表面(226)為一平面，及/或該第二介面元件(218)的該第二接觸表面(228)為一平面。
  8. 如申請專利範圍第6項之微影系統，其中該第一介面元件(210)及/或該第二介面元件(218)的該可傾斜可固定元件(300)設置成一球形蓋，並且其上固定該可傾斜可固定元件(300)的該組件(206、212)具有一對應凹槽。
  9. 如申請專利範圍第6項之微影系統，其中該基座(302)具有一固定元件(312)，其夾住該可傾斜可固定元件(300)抵住該等組件(206、212)用於固定。
  10. 如申請專利範圍第1或2項之微影系統，其中該第一組件具有一承載結構(212)並且該第二組件具有一光學裝置(206)。
  11. 如申請專利範圍第10項之微影系統，其中該光學裝置(206)具有一框架(204)以及一反射鏡(202)或一透鏡元件。
  12. 如申請專利範圍第1項之微影系統，其中該微影系統是EUV微影系統。
  13. 一種用於生產一微影系統(100)中一連接配置(200A、200B)之方法，包含步驟：a)以可釋放方式連接一第一介面元件(210)至一第一組件(212)，以及連接一第二介面元件(218)至一第二組件(206)，如此該第一介面元件(210)的一可傾斜可固定元件(300)及/或該第二介面元件(218)的一可傾斜可固定元件(300)可相對於該第一組件(212)及/或該第二組件(206)傾斜，b)對齊該第一介面元件(210)的一第一接觸表面(226)及/或該第二介面元件(218)的一第二接觸表面(228)，以補償該等第一和第二組件(206、212)之間的位移，c)該第一介面元件(210)的該可傾斜可固定元件(300)相對於該第一組件(212)固定，及/或該第二介面元件(218)的該可傾斜可固定元件(300)相對於該第二組件(206)固定，d)將該第一介面元件(210)的該第一接觸表面(226)材料裝配連接至該第二介面元件(218)的該第二接觸表面(228)，藉此生產該連接配置(200A、200B)，以及 e)將該連接配置(200A、200B)設置於該微影裝置之中。
  14. 如申請專利範圍第13項之方法，其中步驟b)包含：利用將該第一介面元件(210)的該第一接觸表面(226)與該第二介面元件(218)的該第二接觸表面(228)接觸，傾斜該第一介面元件(210)的該第一接觸表面(226)，該第一介面元件(210)的該可傾斜可固定元件(300)傾斜，使得該第一介面元件(210)的該第一接觸表面(226)與該第二介面元件(218)的該第二接觸表面(228)彼此具有恆定的距離，及/或利用將該第二介面元件(218)的該第二接觸表面(228)與該第一介面元件(210)的該第一接觸表面(226)接觸，傾斜該第二介面元件(218)的該第二接觸表面(228)，該第二介面元件(218)的該可傾斜可固定元件(300)傾斜，使得該第二介面元件(218)的該第二接觸表面(228)與該第一介面元件(210)的該第一接觸表面(226)彼此具有恆定的距離。
  15. 一種用於生產一微影系統(100)中一連接配置(200A、200B)之方法，包含步驟：a)選擇及/或產生一第一介面元件(210)以及一第二介面元件(218)，b)以可釋放方式將該第一介面元件(210)連接至一第一組件(212)，c)以可釋放方式將該第二介面元件(218)連接至一第二組件(206)，d)對齊該第一介面元件(210)的一第一接觸表面(226)及/或該第二介面元件(218)的一第二接觸表面(228)，以補償該等第一和第二組件(206、212)之間的位移，且將該第一介面元件(210)的該第一接觸表面 (226)材料裝配連接至該第二介面元件(218)的該第二接觸表面(228)，藉此生產該連接配置(200A、200B)，以及e)將該連接配置(200A、200B)設置於該微影裝置之中。
  16. 如申請專利範圍第13至15項任一項之方法，其中在步驟a)之前，測量在該第一組件(212)與該第二組件(206)之間可用的空間，以選擇具有合適形狀(218-1)的該等介面元件(210、218)。
  17. 如申請專利範圍第13至15項任一項之方法，其中步驟a)包含：從一組介面元件(210、218)中選擇該第一介面元件(210)及/或該第二介面元件(218)，該組介面元件(210、218)具有含不同幾何形狀的複數個介面元件。
  18. 如申請專利範圍第13至15項任一項之方法，其中步驟a)包含：藉由研磨、銑削或切割，產生該第一介面元件(210)及/或該第二介面元件(218)。
  19. 如申請專利範圍第13至15項任一項之方法，其中步驟d)包含：d1)移動該第一接觸表面(226)與該第二接觸表面(228)彼此遠離，讓黏著劑可塗抹於至少該等兩接觸表面(226、228)之一者上，d2)將該黏著劑塗抹到至少該等兩接觸表面(226、228)之一者上，以及d3)將該等接觸表面(226、228)放在一起並以該黏著劑結合。
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