KR20170093139A

KR20170093139A - 리소그래피 시스템용 연결 장치

Info

Publication number: KR20170093139A
Application number: KR1020177015304A
Authority: KR
Inventors: 디르크 섀퍼; 옌스 프로히나우; 안드레아스 부름브란드
Original assignee: 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
Priority date: 2014-12-09
Filing date: 2015-11-27
Publication date: 2017-08-14
Also published as: TW201632930A; TWI669549B; CN107003623B; KR102507693B1; CN107003623A; DE102014225199A1; WO2016091616A1

Abstract

제1 구성요소(212), 제2 구성요소(206), 제1 접합부(220)에서 제1 구성요소(212)에 해제가능하게 연결되는 제1 인터페이스 요소(210), 및 제2 접합부(222)에서 제2 구성요소(206)에 해제가능하게 연결되는 제2 인터페이스 요소(218)를 갖는 리소그래피 시스템(100)용 연결 장치(200A, 200B)가 개시된다. 제1 인터페이스 요소(210)는 제1 접촉면(226)을 갖고, 제2 인터페이스 요소(218)는 제2 접촉면(228)을 갖고, 2개의 접촉면(226, 228) 중 적어도 하나는 2개의 접촉면(226, 228)이 제3 접합부(224)에서 연결되기 전에 제1 구성요소(212)와 제2 구성요소(206) 사이의 오프셋을 보상하기 위해 정렬 및/또는 선택되게 하기 위해 구성된다. 제1 인터페이스 요소(210)의 제1 접촉면(226) 및 제2 인터페이스 요소(218)의 제2 접촉면(228)은 제3 접합부(224)에서 재료 끼워맞춤 연결에 의해 연결된다.

Description

리소그래피 시스템용 연결 장치 {CONNECTING ARRANGEMENT FOR A LITHOGRAPHY SYSTEM}

본 출원은 2014년 12월 9일 출원된 독일 특허 출원 제10 2014 225 199.0호를 우선권 주장한다. 이 독일 출원은 본 명세서에 그대로 참조로서 합체되어 있다.

본 발명은 연결 장치(connecting arrangement), 연결 장치를 갖는 리소그래피 시스템, 및 연결 장치를 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.

재료 및 제조의 이유로, 렌즈는 다양한 구성요소, 특히 지지 구조체 및 광학 디바이스로 이루어진다. 따라서, 지지 구조체는 접합부를 거쳐 광학 디바이스에 연결된다. 접합부가 제조되는 방식에 따라, 이들 접합부는 광학 디바이스에 해로운 영향을 미치는 응력 및 변형을 발생한다. 특히, 최소 기계적 강도에 대한 요구 때문에, 응력 및 변형이 없는 조립체는 종래 거의 가능하지 않고 있다.

이 방법에 기인하는 응력 및 변형의 발생 때문에, 조립 중에, 부가의 응력 및 변형이 이에 의해 발생되지 않고, 구성요소의 형상 및 위치 공차를 보상하는 것이 또한 중요하다. WO2005/106557호는 요소를 디커플링함으로써 흡수되는 가압 끼워맞춤 연결부에 의해 발생되는 변형에 의해 이 효과를 고려하고 있다. 디커플링 효과는 기계적 강성에 직접 관련되기 때문에, 이 절차는 단지 높은 기계적 강성을 요구하는 시스템에만 제한적으로 적합하다.

이러한 배경기술을 배경으로 하여, 본 발명의 목적은 리소그래피 시스템용 연결 장치를 향상시키는 것인데, 특히 한편으로는 연결 장치는 해제가능하고, 다른 한편으로는 구성요소가 설치된 위치에서 사실상 응력 및 변형 없이 연결되어 있다. 특히, 본 발명의 목적은 연결 장치를 갖는 리소그래피 시스템, 및 연결 장치를 제조하기 위한 방법을 제공하는 것이다.

이 목적은 제1 구성요소, 제2 구성요소, 제1 접합부에서 제1 구성요소에 해제가능하게 연결되는 제1 인터페이스 요소, 및 제2 접합부에서 제2 구성요소에 해제가능하게 연결되는 제2 인터페이스 요소를 갖는 리소그래피 시스템용 연결 장치에 의해 성취된다. 제1 인터페이스 요소는 제1 접촉면을 갖고, 제2 인터페이스 요소는 제2 접촉면을 갖는다. 2개의 접촉면 중 적어도 하나는 2개의 접촉면이 제3 접합부에서 연결되기 전에 제1 구성요소와 제2 구성요소 사이의 오프셋을 보상하기 위해 정렬 및/또는 선택되게 하기 위해 구성된다. 제1 인터페이스 요소의 제1 접촉면 및 제2 인터페이스 요소의 제2 접촉면은 제3 접합부에서 재료 끼워맞춤(material fit) 연결에 의해 연결된다.

제1 구성요소는 지지 구조체일 수도 있다. 제2 구성요소는 광학 디바이스일 수도 있다. 광학 디바이스는 광학 요소 및 광학 요소용 프레임을 가질 수도 있다. 그러나, 구성요소 중 하나는 또한 측정 인터페이스, 기준 구조체 또는 리소그래피 시스템이 구조적 구성요소일 수도 있다.

제1 인터페이스 요소가 제1 구성요소에 해제가능하게 연결된다. 제2 인터페이스 요소가 제2 구성요소에 해제가능하게 연결된다. 해제가능한 연결은 가압 끼워맞춤 및/또는 형상 끼워맞춤 연결일 수도 있다. 가압 끼워맞춤 연결은 서로 연결될 표면 상에 수직력을 전제로 한다. 가압 끼워맞춤 연결은 마찰 잠금에 의해 또는 자기력 끼워맞춤에 의해 성취될 수도 있다. 표면의 상호 변위는 정적 마찰 또는 자기력 끼워맞춤에 의해 발생된 대항력이 초과되지 않는 한 방지된다.

제1 인터페이스 요소의 제1 접촉면 및 제2 인터페이스 요소의 제2 접촉면은 재료 끼워맞춤 연결에 의해 연결된다. 재료 끼워맞춤 연결의 경우에, 연결 파트너는 원자력 또는 분자력에 의해 함께 보유된다. 재료 끼워맞춤 연결은 연결 수단을 파괴함으로써만 분리될 수 있는 해제불가능한 연결이다. 재료 끼워맞춤 연결은 예를 들어, 접착식 접합, 납땜, 용접 또는 가황에 의해 수행될 수도 있다.

표현 "2개의 접촉면 중 적어도 하나는 2개의 접촉면이 제3 접합부에서 연결되기 전에 제1 구성요소와 제2 구성요소 사이의 오프셋을 보상하기 위해 정렬 및/또는 선택되게 하기 위해 구성된다"라는 것은, 2개의 접촉면 중 적어도 하나가 적합하게 경사질 수 있고 그리고/또는 인터페이스 요소들이 대응적으로 선택될 수 있어, 2개의 접촉면 중 적어도 하나가 선택 후에 적합하게 정렬되게 된다는 것을 의미하는 것으로서 해석되어야 한다.

재료 끼워맞춤 연결의 경우에, 연결은 구성요소의 응력으로부터 상대 자유도의 상태로 발생할 수도 있다. 구성요소가 접착식 접합 중에 설치 위치에 무접촉식으로 장착되면, 접착식 접합은 접합 간극 내의 공차를 보상할 수 있고, 접착에 기인하는 응력만이 발생된다.

연결 장치는 2개의 해제가능한 접합부를 갖기 때문에, 제1 구성요소 및 제2 구성요소의 모두는 비파괴식으로 교체될 수 있다. 인터페이스 요소의 2개의 접촉면 중 적어도 하나는 제1 구성요소와 제2 구성요소 사이의 오프셋을 보상하기 위해 조정 가능하기 때문에, 연결 장치는 리소그래피 시스템 내에 설치되도록 의도되는 방식으로 정렬될 수 있다. 제3 접합부에서, 즉 제1 및 제2 인터페이스 요소 사이의 재료 끼워맞춤 연결은 이어서 궁극적으로 무응력 및 무변형 연결을 보장한다. 인터페이스 요소의 2개의 접촉면은 서로 정렬되기 때문에, 매우 얇은 재료 끼워맞춤 연결이 제3 접합부에서 생성될 수 있다. 이는 고도로 강성의 연결 장치로 이어진다. 인터페이스 요소의 2개의 접촉면은 서로 정렬되기 때문에, 평행한 재료 끼워맞춤 연결이 더욱이 제3 접합부에서 생성될 수 있다. 이는 예를 들어 접착제의 경화 중에 그렇지 않으면 발생할 수도 있는 토크의 최소화로 이어진다.

연결 장치의 일 실시예에서, 제1 및 제2 인터페이스 요소의 2개의 접촉면 중 적어도 하나는 최단 연결 경로에 관련하여 또는 최단 연결 경로에 수직인 방향에 관련하여 그리고/또는 서로에 관한 2개의 접촉면의 각도에 관련하여 정렬될 수 있다. 정렬 가능성은 이 경우에 모든 방향 및 각도를 포함할 수도 있다. 유리하게는, 2개의 접촉면은 따라서 일정한 짧은 거리를 갖고 정렬될 수도 있다. 이는 얇은 제3 접합부 및 따라서 고도로 강성의 연결 장치, 또는 인접하는 응력 효과에 관련하여 장점을 갖는 평행한 접합부를 허용한다.

2개의 접촉면 중 적어도 하나는 연결 경로에 관련하여 정렬될 수 있는데, 즉 2개의 접촉면 사이의 거리는 조정될 수 있다. 2개의 접촉면 중 적어도 하나는 연결 경로에 수직인 방향에 관련하여 정렬될 수 있는데, 즉 적어도 하나의 접촉면은 적어도 하나의 접촉면에 수직인 방향에서 볼 때, 다른 접촉면 위에 정확히 놓이는 이러한 방식으로 이동될 수 있다. 2개의 접촉면 중 적어도 하나는 서로에 관한 2개의 접촉면의 각도에 관련하여 정렬될 수 있는데, 즉 접촉면은 서로 평행하게 정렬될 수 있다.

연결 장치의 다른 바람직한 실시예에 따르면, 접촉면은 서로 평행하다. 즉, 접촉면은 서로로부터 일정한 거리를 갖는다. 이 방식으로, 재료 끼워맞춤 연결은 양호하게 구현될 수 있고, 재료 끼워맞춤 연결의 생성 중에 응력은 어떠한 토크도 발생하지 않을 수 있다.

연결 장치의 다른 실시예에 따르면, 인터페이스 요소 중 적어도 하나는 구성요소 사이의 오프셋을 보상하기 위해 비대칭 형상을 갖는다. 유리하게는, 접촉면들은 따라서 서로로부터 일정한 짧은 거리를 갖고 평행하게 위치될 수 있다.

2개의 인터페이스 요소 중 적어도 하나는 복수의 인터페이스 요소로부터 선택될 수도 있다. 인터페이스 요소 중 적어도 하나는 교체 가능한 요소(심)로서 구성되기 때문에, 적합하게 성형된 인터페이스 요소가 요구에 따라 사용될 수 있다.

연결 장치의 다른 실시예에 따르면, 비대칭 형상은 웨지 형상이다. 유리하게는, 웨지형 인터페이스 요소가 서로에 관한 접촉면의 경사 위치설정을 보상할 수 있다.

연결 장치의 다른 실시예에 따르면, 제1 인터페이스 요소는 기부 및 기부에 대해 제1 접촉면을 경사시키기 위한 경사형 고정 가능 요소를 갖는다. 이 경우에, 기부는 제1 구성요소에 가압 및/또는 형상 끼워맞춤으로 연결될 수도 있다. 경사형 고정 가능 요소는 기부에 대해 경사질 수 있다. 경사형 고정 가능 요소가 정렬된 후에, 이는 기부에 의해 고정될 수 있다. 제1 접촉면은 제1 인터페이스 요소의 경사형 고정 가능 요소의 측면에 의해 형성될 수도 있다.

대안으로서 또는 게다가, 제2 인터페이스 요소는 기부 및 기부에 대해 제2 접촉면을 경사시키기 위한 경사형 고정 가능 요소를 갖는다. 이 경우에, 기부는 제2 구성요소에 가압 및/또는 형상 끼워맞춤으로 연결될 수도 있다. 경사형 고정 가능 요소는 기부에 대해 경사질 수 있다. 경사형 고정 가능 요소가 정렬된 후에, 이는 기부에 의해 고정될 수 있다. 제2 접촉면은 제2 인터페이스 요소의 경사형 고정 가능 요소의 측면에 의해 형성될 수도 있다.

연결 장치의 다른 실시예에 따르면, 제1 인터페이스 요소의 제1 접촉면은 평면형이고, 그리고/또는 제2 인터페이스 요소의 제2 접촉면은 평면형이다. 인터페이스 요소들의 접촉면들은 평면형이기 때문에, 접촉면은 재료 끼워맞춤으로 서로 양호하게 연결될 수 있다.

연결 장치의 다른 실시예에 따르면, 제1 인터페이스 요소의 그리고/또는 제2 인터페이스 요소의 경사형 고정 가능 요소는 구형 캡으로서 구성되고, 경사형 고정 가능 요소가 고정되는 구성요소는 대응 리세스를 갖는다. 이 경우에, 구형 캡의 평면형 측면은 2개의 접촉면 중 하나를 갖고, 구형 캡의 만곡된 측면은 대응 구성요소에 대해 클램핑될 수 있다.

연결 장치의 다른 실시예에 따르면, 기부는 고정을 위해 구성요소에 대해 경사형 고정 가능 요소를 클램핑하는 고정 요소를 갖는다. 접촉면이 정렬된 후에, 고정 요소는 경사형 고정 가능 요소를 고정할 수 있다. 고정 요소는 곡률을 가질 수도 있다. 경사형 고정 가능 요소는 고정 요소의 곡률에 대응하는 곡률을 가질 수도 있다.

연결 장치의 다른 실시예에 따르면, 제1 구성요소는 지지 구조체를 갖고, 제2 구성요소는 광학 디바이스를 갖는다. 바람직하게는, 연결 장치는 지지 구조체 및 광학 디바이스를 갖고 제조될 수도 있다.

연결 장치의 다른 실시예에 따르면, 광학 디바이스는 프레임 및 미러 또는 렌즈 요소를 갖는다. 광학 디바이스는 광학 요소용 프레임을 가질 수도 있다. 광학 요소는 미러 또는 렌즈 요소일 수도 있다.

전술된 바와 같은 하나 이상의 연결 장치를 갖는 리소그래피 시스템, 특히 EUV 리소그래피 시스템이 또한 제공된다.

리소그래피 시스템용 연결 장치를 제조하기 위한 방법이 또한 설명된다. 방법은 이하의 단계를 갖는다. 단계 a)에서, 제1 인터페이스 요소의 경사형 고정 가능 요소 및/또는 제2 인터페이스 요소의 경사형 고정 가능 요소가 제1 구성요소 및/또는 제2 구성요소에 대해 경사 가능하도록, 제1 인터페이스 요소가 제1 구성요소에 해제가능하게 연결되고 제2 인터페이스 요소가 제2 구성요소에 해제가능하게 연결된다. 단계 b)에서, 제1 및 제2 구성요소 사이의 오프셋을 보상하기 위해 제1 인터페이스 요소의 제1 접촉면 및/또는 제2 인터페이스 요소의 제2 접촉면이 정렬된다. 단계 c)에서, 제1 인터페이스 요소의 경사형 고정 가능 요소는 제1 구성요소에 대해 고정되고 그리고/또는 제2 인터페이스 요소의 경사형 고정 가능 요소는 제2 구성요소에 대해 고정된다. 단계 d)에서, 제1 인터페이스 요소의 제1 접촉면은 제2 인터페이스 요소의 제2 접촉면에 재료 끼워맞춤으로 연결된다.

방법은 2개의 해제가능한 접합부를 갖는 연결 장치를 제조한다. 이 방식으로, 제1 구성요소 및 제2 구성요소의 모두는 교체될 수 있다. 하나 이상의 경사형 고정 가능 요소의 사용은 제1 인터페이스 요소의 제1 접촉면의 그리고/또는 제2 인터페이스 요소의 제2 접촉면의 정렬을 허용한다. 이후에, 경사형 고정 가능 요소가 고정되고, 또는 경사형 고정 가능 요소들이 고정된다. 매우 얇은 재료 끼워맞춤 연결이 이어서 접착 접합에 의해 인터페이스 요소 사이에 생성될 수 있다. 이는 고도로 강성의 연결 장치로 이어진다. 더욱이, 제3 접합부에서 재료 끼워맞춤 연결은 최종 단계로서 수행된다. 이 방식으로, 응력 및 변형이 없는 연결 장치가 제조될 수 있다.

어떠한 시퀀스도 개별 방법 단계의 지명에 의해 지정되지 않는다.

방법의 다른 실시예에 따르면, 단계 b)는 제1 인터페이스 요소의 제1 접촉면 및 제2 인터페이스 요소의 제2 접촉면을 접촉하게 하는 것에 의한 제1 인터페이스 요소의 제1 접촉면의 경사 단계로서, 제1 인터페이스 요소의 경사형 고정 가능 요소는 제1 인터페이스 요소의 제1 접촉면 및 제2 인터페이스 요소의 제2 접촉면이 서로로부터 일정한 거리를 갖도록 경사지는, 제1 접촉면의 경사 단계, 및/또는 제2 인터페이스 요소의 제2 접촉면 및 제1 인터페이스 요소의 제1 접촉면을 접촉하게 하는 것에 의한 제2 인터페이스 요소의 제2 접촉면의 경사 단계로서, 제2 인터페이스 요소의 경사형 고정 가능 요소는 제2 인터페이스 요소의 제2 접촉면 및 제1 인터페이스 요소의 제1 접촉면이 서로로부터 일정한 거리를 갖도록 경사지는, 제2 접촉면의 경사 단계를 포함한다. 유리하게는, 접촉면은 경사형 고정 가능 요소에 의해 정렬될 수도 있다.

리소그래피 시스템용 연결 장치를 제조하기 위한 방법이 더욱이 설명된다. 방법은 이하의 단계를 갖는다. 단계 a)에서, 제1 인터페이스 요소와 제2 인터페이스 요소가 선택되고 그리고/또는 제조된다. 단계 b)에서, 제1 인터페이스 요소가 제1 구성요소에 해제가능하게 연결된다. 단계 c)에서, 제2 인터페이스 요소가 제2 구성요소에 해제가능하게 연결된다. 단계 d)에서, 제1 인터페이스 요소의 제1 접촉면은 제2 인터페이스 요소의 제2 접촉면에 재료 끼워맞춤으로 연결된다.

방법은 2개의 해제가능한 접합부를 갖는 연결 장치를 제조한다. 이 방식으로, 제1 구성요소 및 제2 구성요소의 모두는 교체될 수 있다. 인터페이스 요소의 선택 및/또는 제조에 의해, 적합한 인터페이스 요소가 구성요소 사이의 오프셋을 보상하기 위해 제공될 수 있다. 이 방식으로, 인터페이스 요소의 접촉면은 서로 평행하게 정렬될 수 있다. 매우 얇은 재료 끼워맞춤 연결이 이어서 접착 접합에 의해 인터페이스 요소 사이에 생성될 수 있다. 이는 고도로 강성의 연결 장치로 이어진다. 더욱이, 제3 접합부에서 재료 끼워맞춤 연결은 최종 단계로서 수행된다. 이 방식으로, 응력 및 변형이 없는 연결 장치가 제조될 수 있다.

방법의 다른 실시예에 따르면, 적합한 형상을 갖는 인터페이스 요소를 선택하는 것을 가능하게 하기 위해, 제1 구성요소와 제2 구성요소 사이에 이용 가능한 공간의 측정이 행해진다. 유리하게는, 인터페이스 요소의 접촉면은 선택 및 구성요소로의 연결 후에 서로 평행하게 정렬된다.

방법의 다른 실시예에 따르면, 단계 a)는 인터페이스 요소의 세트로부터 제1 인터페이스 요소의 그리고/또는 제2 인터페이스 요소의 선택 단계를 포함하고, 인터페이스 요소의 세트는 상이한 기하학 형상을 갖는 복수의 인터페이스 요소를 갖는다. 유리하게는, 적합한 인터페이스 요소가 인터페이스 요소의 세트로부터 선택될 수 있다.

방법의 다른 실시예에 따르면, 단계 a)는 연삭, 밀링 또는 절삭에 의한 제1 인터페이스 요소의 그리고/또는 제2 인터페이스 요소의 제조 단계를 포함한다. 유리하게는, 인터페이스 요소는 기본 형상으로부터 간단하게 제조될 수 있다.

방법의 다른 실시예에 따르면, 단계 d)는 이하의 단계를 포함한다: 단계 d1)에서, 제1 접촉면 및 제2 접촉면은 접착제가 2개의 접촉면 중 하나 상에 적어도 도포될 수 있도록 서로로부터 이격하여 이동된다. 단계 d2)에서, 접착제는 2개의 접촉면 중 적어도 하나 상에 도포된다. 단계 d3)에서, 접촉면은 함께 모이고 접착식으로 접합된다. 유리하게는, 응력 및 변형이 없는 연결 장치가 재료 끼워맞춤 연결에 의해 제조될 수 있다.

제안된 장치에 대해 설명된 실시예 및 특징은 이에 따라 제안된 방법에 대해 적용된다.

본 발명의 다른 가능한 구현예는 예시적인 실시예에 관련하여 전술된 또는 후술된 특징 또는 실시예의 명시적으로 언급되지 않은 조합을 또한 포함한다. 이 경우에, 통상의 기술자는 또한 본 발명의 각각의 기본 형태의 개량 또는 향상으로서 개별 태양을 추가할 것이다.

본 발명의 다른 유리한 구성 및 태양은 후술되는 바와 같은 본 발명의 예시적인 실시예의 그리고 종속항의 주제이다. 더욱이, 본 발명은 첨부 도면을 참조하여 바람직한 실시예의 도움으로 더 상세히 설명될 것이다.
도 1은 EUV 리소그래피 시스템의 개략도를 도시하고 있다.
도 2a는 지지 구조체 및 광학 디바이스의 개략도를 도시하고 있다.
도 2b는 도 2a의 캐리어 구조체 및 광학 디바이스를 갖는 연결 장치의 제1 실시예의 개략도를 도시하고 있다.
도 3은 연결 장치의 제2 실시예의 개략도를 도시하고 있다.
도 4는 도 3의 연결 장치의 상세 단면도를 도시하고 있다.
도 5는 도 3 및 도 4의 연결 장치를 제조하기 위한 장치의 개략도를 도시하고 있다.
도 6은 도 5의 장치로, 도 3 및 도 4의 연결 장치를 제조하기 위한 방법의 개략 흐름도를 도시하고 있다.

달리 지시되지 않으면, 도면에서 동일한 도면 부호는 동일한 또는 기능적으로 등가인 요소를 나타내고 있다. 더욱이, 도면에서의 표현은 반드시 실제 축적대로 도시되어 있는 것은 아니라는 것이 주목되어야 한다.

도 1은 빔 성형 시스템(102), 조명 시스템(104) 및 투영 시스템(106)을 포함하는 EUV 리소그래피 시스템(100)의 개략도를 도시하고 있다. 빔 성형 시스템(102), 조명 시스템(104) 및 투영 시스템(106)은 진공배기 장치(상세히 표현되어 있지 않음)의 도움으로 진공배기되는 진공 하우징 내에 각각 제공된다. 진공 하우징은 광학 요소의 기계적 이동 또는 조정을 위한 구동 장치가 제공되어 있는 기계 공간(상세히 표현되어 있지 않음)에 의해 에워싸인다. 전기 제어부 등이 더욱이 기계 공간 내에 제공될 수도 있다.

빔 성형 시스템(102)은 EUV 광원(108), 시준기(110) 및 단색광 분광기(monochromator)(112)를 갖는다. 예를 들어, EUV 범위(극자외선 범위)의, 즉 5 nm 내지 20 nm의 파장 범위의 방사선을 방출하는 플라즈마 소스 또는 싱크로트론(synchrotron)이 EUV 광원(108)으로서 제공될 수도 있다. EUV 광원(108)에 의해 방출된 방사선은 먼저 시준기(110)에 의해 시준되고, 여기서 원하는 작동 파장이 단색광 분광기(112)에 의해 여과된다. 따라서, 빔 성형 시스템(102)은 EUV 광원(108)에 의해 방출된 광의 파장 및 공간 분포에 적응한다. EUV 광원(108)에 의해 발생된 EUV 방사선(114)은 공기를 통한 비교적 낮은 투과율을 갖고, 이 이유로 빔 성형 시스템(102) 내의, 조명 시스템(104) 내의 그리고 투영 시스템 또는 투영 렌즈(106) 내의 빔 안내 공간이 진공배기된다.

표현된 예에서, 조명 시스템(104)은 제1 미러(116) 및 제2 미러(118)를 갖는다. 이들 미러(116, 118)는 예를 들어, 동공 성형을 위한 파셋 미러(facet mirror)로서 구성될 수도 있고, EUV 방사선(114)을 포토마스크(120) 상에 안내한다.

포토마스크(120)는 마찬가지로 반사 광학 요소로서 구성되고, 시스템(102, 104, 106) 외부에 배열될 수도 있다. 포토마스크(120)는 웨이퍼(122) 등 상에 투영 시스템(106)에 의해 축소된 스케일로 촬상되는 구조를 갖는다. 이를 위해, 투영 시스템(106)은 빔 안내 공간 내에, 예를 들어 제3 미러(124) 및 제4 미러(202)를 갖는다. EUV 리소그래피 시스템(100)의 미러의 수는 표현되어 있는 수에 한정되는 것은 아니고, 더 많거나 더 적은 미러가 제공될 수도 있다는 것이 주목되어야 한다. 더욱이, 미러는 일반적으로 빔 성형을 위해 이들의 전방측에서 만곡된다.

도 2a는 제4 미러(202)를 예로서 도시하고 있다. 제4 미러(202)는 프레임(204)(미러 지지 프레임) 상에 적용된다. 제4 미러(202) 및 프레임(204)은 함께 광학 디바이스(206)를 형성할 수도 있다. 프레임(204)은 웨지형 돌출부(208-1) 및 돌출부(208-2)를 갖는다. 이 웨지형 돌출부(208-1)는 이 경우에 프레임(204)의 임의로 성형된 접촉 요소를 표현하고 있다. 웨지형 돌출부(208-1)에 대향하는 제1 인터페이스 요소(210-1), 및 마찬가지로 돌출부(208-2)에 대향하는 제1 인터페이스 요소(210-2)가 존재한다. 제1 인터페이스 요소(210-1, 210-2)는 해제가능한 연결부(216), 예를 들어, 가압- 및/또는 형상-끼워맞춤 연결부, 특히 나사 조임에 의해 지지 구조체(212) 상에 각각 체결된다. 웨지형 돌출부(208-1)와 그에 대향하여 놓인 제1 인터페이스 요소(210-1) 사이, 그리고 돌출부(208-2)와 그에 대향하여 놓인 제1 인터페이스 요소(210-2) 사이에는, 간극(214)이 각각 보여질 수 있다. 간극(214)은 제2 인터페이스 요소(218)를 위한 공간 요구 및 조립 간극을 표현하고 있다.

도 2b는 도 2a의 지지 구조체(212) 및 광학 디바이스(206)를 갖는 연결 장치(200A)의 제1 실시예를 도시하고 있다. 간극(214)은 웨지형 제2 인터페이스 요소(218-1)로 그리고 제2 인터페이스 요소(218-2)로 폐쇄되어 있다. 지지 구조체(212) 및 웨지형 돌출부(208-1)에 대향하는 제1 인터페이스 요소(210-1)는 해제가능한 연결부로 제1 접합부(220)에서 연결되어 있다. 프레임(204)의 웨지형 돌출부(208-1)는 제2 접합부(222)에서 웨지형 제2 인터페이스 요소(218-1)에 해제가능하게 연결된다. 웨지형 돌출부(208-1)에 대향하는 제1 인터페이스 요소(210-1)는 제2 인터페이스 요소(218-1)의 방향으로 지향하는 제1 접촉면(226)을 갖는다. 웨지형 제2 인터페이스 요소(218-1)는 제1 인터페이스 요소(210-1)의 방향으로 지향하는 제2 접촉면(228)을 갖는다. 제1 인터페이스 요소(210-1) 및 웨지형 제2 인터페이스 요소(218-1)는 제1 접촉면(226)과 제2 접촉면(228) 사이에 놓여 있는 제3 접합부(224)에서 재료 끼워맞춤에 의해 서로 연결된다.

제1 접촉면(226)과 제2 접촉면(228) 사이의 직접 연결 경로, 또는 간극 치수, 즉 2개의 접촉면(226, 228) 사이의 거리는 상이한 두께의 인터페이스 요소(210-1, 218-1)의 선택에 의해 영향을 받을 수 있다. 직접 연결 경로에 수직인 방향에 관련하여, 서로에 대한 2개의 접촉면(226, 228)의 조정이 수행되고, 동등하게 큰 접촉면(226, 228)의 선택이 적합한 인터페이스 요소(210-1, 218-1)의 선택에 의해 수행된다. 서로에 대한 2개의 접촉면(226, 228)의 각도는 웨지형 인터페이스 요소(218-1)의 각도의 선택에 의해 영향을 받을 수 있다. 이 때문에, 인터페이스 요소(218-1)는 상이한 웨지각을 갖는 다수의 웨지형 인터페이스 요소로부터 선택될 수도 있다. 인터페이스 요소의 기계 가공, 예를 들어 연삭에 의해, 웨지형 인터페이스 요소(218-1)가 구현될 수 있다.

유사하게, 돌출부(208-2), 제2 인터페이스 요소(218-2), 돌출부(208-2)에 대향하는 제1 인터페이스 요소(210-2) 및 지지 구조체(212)가 서로 연결될 수 있다.

도 2b에서, 연결 장치(200A)는 2개의 돌출부(208-1, 208-2)를 갖고 도시되어 있다. 대안으로서, 복수의 돌출부(208) 또는 단지 하나의 돌출부(208)만이 또한 존재할 수도 있다. 이 경우에, 연결 영역에 걸쳐 분포된 3개의 돌출부가 바람직하다. 다른 대안에서, 돌출부(208)가 존재하지 않는다. 이 경우에, 제2 인터페이스 요소(218)는 프레임(204)에 직접 해제가능하게 연결된다.

지지 구조체(212) 및 제1 인터페이스 요소(210) 뿐만 아니라 돌출부(208)를 갖는 프레임(204) 및 제2 인터페이스 요소(218)는 서로 해제가능하게 연결되기 때문에, 지지 구조체(212) 및 광학 디바이스(206)는 교체될 수 있다. 간극(214)은 제2 인터페이스 요소(218)와 정확한 끼워맞춤으로 폐쇄될 수 있기 때문에, 제1 접촉면(226) 및 제2 접촉면(228)은 서로 평행하게 정렬될 수 있다. 이는 매우 얇은 제3 접합부(224)를 허용하는데, 이는 이어서 고도로 강성인 연결 장치(200A)로 이어진다.

도 2b에 도시된 제2 인터페이스 요소(218-1)는 웨지 형상이다. 대안으로서, 필요하다면, 웨지형 제2 인터페이스 요소(218-1) 또는 제1 인터페이스 요소(210-1)는, 이 제1 접촉면(226)이 이에 의해 제2 접촉면(228)과 평행하게 정렬될 수 있는 경우, 임의의 원하는 비대칭 또는 대칭 형상을 갖는 인터페이스 요소로 대체될 수 있다.

도 3은 지지 구조체(212) 및 광학 디바이스(206)를 갖는 연결 장치(200B)의 제2 실시예를 도시하고 있다. 광학 디바이스(206)는 도 1의 제4 미러(202) 및 프레임(204)을 갖는다. 지지 구조체(212)는 제1 접합부(220)에서 제1 인터페이스 요소(210)에 해제가능하게 연결된다. 광학 디바이스(206)는 제2 접합부(222)에서 제2 인터페이스 요소(218)에 프레임(204)에 의해 해제가능하게 연결된다. 제1 인터페이스 요소(210)는 제2 인터페이스 요소(218)의 방향으로 지향하는 제1 접촉면(226)을 갖는다. 제2 인터페이스 요소(218)는 제1 인터페이스 요소(210)의 방향으로 지향하는 제2 접촉면(228)을 갖는다. 제1 인터페이스 요소(210) 및 제2 인터페이스 요소(218)는 제1 접촉면(226)과 제2 접촉면(228) 사이에 놓여 있는 제3 접합부(224)에서 재료 끼워맞춤에 의해 서로 연결된다.

제2 인터페이스 요소(218)는 광학 디바이스(206)에 대해 회전될 수 있다. 이 방식으로, 제2 접촉면(228)은 제1 접촉면(226)과 평행하게 정렬될 수 있다. 제2 인터페이스 요소(218)는 이어서 광학 디바이스(206) 상에 고정될 수도 있어 회전이 더 이상 가능하지 않게 된다. 접촉면(226, 228)의 평행 정렬은 매우 얇은 제3 접합부(224)를 허용하는데, 이는 이어서 고도로 강성인 연결 장치(200B)로 이어진다. 지지 구조체(212) 및 제1 인터페이스 요소(210) 뿐만 아니라 광학 디바이스(206)의 프레임(204) 및 제2 인터페이스 요소(218)는 서로 해제가능하게 연결되기 때문에, 지지 구조체(212) 및 광학 디바이스(206)는 교체될 수 있다.

제2 인터페이스 요소(218)는 기부(도 3에는 도시되어 있지 않음) 및 경사형 고정 가능 요소(300)를 가질 수도 있다. 기부는 광학 디바이스(206)의 프레임(204)에 해제가능하게 연결될 수도 있다. 제2 인터페이스 요소(218)의 경사형 고정 가능 요소(300)는 제2 접촉면(228)을 포함할 수도 있다. 제2 접촉면(228)은 이어서 기부에 대해 그리고 프레임(204)에 대해 경사질 수도 있다. 제2 접촉면(228)이 정렬된 후에, 경사형 고정 가능 요소(300)는 프레임(204) 상에 기부에 의해 고정될 수 있다.

지지 구조체(212)는 바람직하게는 세라믹으로 이루어진다. 프레임(204)은 또한 세라믹 또는 금속으로 이루어질 수도 있다. 인터페이스 요소(210, 218)는 바람직하게는 세라믹 또는 금속을 포함한다. 금속의 경우에, 인바(Invar), 즉 매우 낮은 열팽창 거동을 갖는 철-니켈 합금이 바람직하게 사용된다. 제3 접합부(224)에서의 접착식 접합은 다성분 접착제로 수행될 수도 있다.

도 2a, 도 2b 및 도 3은 각각 도 1의 EUV 리소그래피 시스템의 제4 미러(202)를 도시하고 있다. 그러나, 연결 장치(200A, 200B)는 EUV 리소그래피 시스템(100)의 임의의 다른 미러를 위해 또는 EUV 리소그래피 시스템(100)의 다른 광학 디바이스(206)를 위해 사용될 수도 있다.

도 4는 도 3에 단지 개략적으로만 표현되어 있는 연결 장치(200B)의 상세 단면도를 도시하고 있다. 제1 인터페이스 요소(210)는 나사(316)로 지지 구조체(212)에 해제가능하게 체결된다. 축방향 스페이서(314)가 제1 인터페이스 요소(210)와 지지 구조체(212) 사이에 삽입될 수도 있다. 제2 인터페이스 요소(218)는 경사형 고정 가능 요소(300) 및 기부(302)를 갖는다. 경사형 고정 가능 요소(300)는 도 4에서 볼 수 있는 바와 같이, 구형 캡으로서 구성된다. 축방향 스페이서(314)는 최단 연결 경로를 보상하고, 반면에 경사형 고정 가능 요소(300)는 경사 보상을 보장한다. 대안으로서, 인터페이스 요소(210, 218)는 또한 복수의 상이한 기능을 충족하는 것을 가능하게 하기 위해 복수의 부분으로 구성될 수도 있다.

광학 디바이스(206)는 경사형 고정 가능 요소(300)에 접촉하기 위한 접촉 요소(304)를 갖는다. 기부(302)는 광학 디바이스(206), 또는 그 프레임(204)에 너트(308)에 의해 해제가능하게 체결될 수도 있다. 너트(308)와 접촉 요소(304) 사이에는 와셔(310)가 존재할 수도 있다. 접촉 요소(304)는 경사형 고정 가능 요소(300)를 향해 놓인 그 측에, 그에 대응하는 리세스를 갖는다. 너트(308)가 느슨해질 때, 경사형 고정 가능 요소(300)는 리세스에 의해 안내되면서 경사질 수 있다. 너트가 조여질 때, 기부(302)의 고정 요소(312)는 경사형 고정 가능 요소(300)에 대해 가압되어 경사형 고정 가능 요소가 제2 접합부(222)에서 접촉 요소(304)에 대해 가압 끼워맞춤으로 클램핑되게 된다. 경사형 고정 가능 요소(300)는 이어서 제 위치에 고정된다. 경사형 고정 가능 요소(300)의 경사에 의해, 제1 접촉면(226) 및 제2 접촉면(228)은 서로 평행하게 정렬될 수 있다. 제1 접촉면(226)과 제2 접촉면(228) 사이의 재료 끼워맞춤 연결이 이어서 제3 접합부(224)에서 수행될 수도 있다.

광학 디바이스는 열 보상을 위한 반경방향 또는 열적 디커플러(306)를 가질 수도 있다. 반경방향 또는 열적 디커플러(306)는 금속, 특히 인바를 포함할 수도 있다. 도 4에 도시된 열적 디커플러(306)는 접촉 요소(304), 웨브(318) 및 체적 요소(320)를 포함한다. 체적 요소(320)는 접착제(330)에 의해 광학 디바이스(206) 내로, 또는 그 프레임(204) 내로 접착식으로 접합된다.

도 4에 표현된 기부(302)는 플랜지가 있는 중공 실린더의 형상을 갖는다. 기부(302)는 경사형 고정 가능 요소(300)의 개구(322)를 통해 연장한다. 고정 요소(312)는 중공 실린더의 플랜지에 의해 형성된다. 고정 요소(312), 즉 중공 실린더의 플랜지는 경사형 고정 가능 요소(300)의 리세스(324) 내에 함몰된다(sunk). 너트(308)가 조여질 때, 고정 요소의 하부측(326)은 경사형 고정 가능 요소(300)의 리세스(324)의 상부측(328)에 대해 가압된다. 경사형 고정 가능 요소(300)는 이에 의해 요소(304)에 대해 가압되고 따라서 고정된다.

대안으로서 또는 게다가, 제1 인터페이스 요소(210)는 기부(302) 및 경사형 고정 가능 요소(300)를 가질 수도 있다. 제1 접촉면(226)은 이어서 지지 구조체(212)에 대해 경사 가능하다.

인터페이스 요소(210, 218)의 구형 기하학 형상의 경우에, 대응 접촉 요소(304)는 팬형(pan-shaped) 구형 기하학 형상을 가질 수도 있다.

바람직하게는, 제1 및 제2 접촉면(226, 228)은 평면형이다. 얇은 제3 접합부가 이어서 양호하게 구현될 수 있다.

대안으로서, 인터페이스 요소(210, 218)는, 경사 기구가 인터페이스 요소 내부에 놓이고, 도 3 및 도 4에서와 같이, 인접 구성요소(206, 212)에 의해 구현되지 않는 경사형 고정 가능 요소를 가질 수도 있다. 경사 기구는 이어서 볼 조인트로 또는 회전형 조인트로 수행될 수도 있다.

도 5는 도 3 및 도 4의 연결 장치(200B)를 제조하기 위한 장치(416)를 도시하고 있다. 연결 장치(200B)를 제조하기 위한 장치(416)는 제1 위치설정 디바이스(400) 및 제2 위치설정 디바이스(410)를 갖는다. 제1 위치설정 디바이스(400)는 지지 구조체(212)를 보유한다. 지지 구조체(212)는 x, y 및 z 방향에서 위치설정 디바이스(400)에 의해 이동될 수 있다. 더욱이, 위치설정 디바이스(400)는 제1 회전형 또는 볼 조인트(402)를 갖는다. 따라서, 지지 구조체(212)의 회전(404)이 가능하다. 제2 위치설정 디바이스(410)는 광학 디바이스(206)의 프레임(204)을 보유한다. 프레임(204)은 x, y 및 z 방향에서 위치설정 디바이스에 의해 이동될 수 있다. 더욱이, 위치설정 디바이스(410)는 제2 회전형 또는 볼 조인트(412)를 갖는다. 따라서, 프레임(204)의 회전(414)이 가능하다.

지지 구조체(212) 및 프레임(204)은 설치 위치에서, 즉 후속의 사용에 의해 요구되는 정렬로 위치설정 디바이스(400, 410)에 의해 정렬될 수 있다. 이 설치 위치에서, 연결 장치(200B)는 응력 및 변형 없이 조립된다.

도 6은 도 3 및 도 4에 따른 연결 장치(200B)가 그에 의해 도 5의 장치(416)로 제조될 수 있는 방법을 도시하고 있다. 제1 단계(S1)에서, 제1 인터페이스 요소(210)는 지지 구조체(212)에 해제가능하게 연결되고, 제2 인터페이스 요소(218)는 광학 디바이스(206)의 프레임(204)에 해제가능하게 연결된다. 이 경우에, 제2 인터페이스 요소(218)의 경사형 고정 가능 요소(300)는 광학 디바이스(206)의 프레임(204)에 대해 경사 가능하다.

제2 단계(S2)에서, 제2 인터페이스 요소(218)의 제2 접촉면(228)은 광학 디바이스(206)의 프레임(204)과 지지 구조체(212) 사이의 오프셋을 보상하기 위해 정렬된다. 제1 접촉면(226) 및 제2 접촉면(228)은 접촉하게 된다. 제2 인터페이스 요소(218)의 제2 접촉면(228)은 이에 의해 경사진다. 제2 인터페이스 요소(218)의 경사형 고정 가능 요소(300)는 이에 의해 마찬가지로 경사진다. 접촉하게 된 후에, 접촉면(226, 228)은 서로로부터 일정한 거리를 갖는데, 즉 이들은 평행하게 정렬된다.

제3 단계(S3)에, 제2 인터페이스 요소(218)의 경사형 고정 가능 요소(300)는 광학 디바이스(206)의 프레임(204)에 대해 경사 가능하다. 정렬 후에, 제2 인터페이스 요소(218)의 경사형 고정 가능 요소(300)는 광학 디바이스(206)의 접촉 요소(304), 또는 그 프레임(204)에 대해 기부(302)의 고정 요소(312)에 의해 클램핑된다. 따라서, 경사형 고정 가능 요소(300)는 고정된다.

제4 단계(S4)에서, 미리 평행하게 정렬된 제1 및 제2 접촉면(226, 228)은 이제 제3 접합부(224)에서 재료 끼워맞춤으로 연결된다. 이를 위해, 제1 및 제2 접촉면(226, 228)은 접착제가 접촉면(226, 228) 상에 도포될 수 있을 때까지 서로로부터 이격하여 이동된다. 접착제가 도포된 후에, 접촉면(226, 228)은 함께 재차 모여지고, 서로 접착식으로 접합된다.

대안으로서, 경사형 고정 가능 요소(300)는 또한 제1 인터페이스 요소(210) 내에 배열될 수 있다. 더욱이, 양 인터페이스 요소(210, 218)는 경사형 고정 가능 요소(300)를 가질 수 있다.

대안으로서 또는 게다가, 처음 2개의 단계 전에, 지지 구조체(212)와 광학 디바이스(206) 사이에 이용 가능한 공간의 측정이 이루어질 수도 있다. 이 측정의 결과의 도움으로, 적합한 비대칭 또는 대칭 형상 및 정확한 밀도를 갖는 인터페이스 요소(210, 218)는 예를 들어, 도 2b와 관련하여 설명된 바와 같이, 선택될 수도 있다.

리소그래피 시스템(100)은 EUV 리소그래피 시스템일 필요는 없다. 오히려, 상이한 파장의 광이 또한 사용될 수도 있다(예를 들어, ArF 엑시머 레이저에 의해 193 nm). 더욱이, 전술된 미러 대신에, 렌즈 요소는 또한 특히 전술된 투영 시스템(106)에 사용될 수도 있다.

본 발명이 예시적인 실시예의 도움으로 설명되었지만, 광범위한 방식으로 수정될 수도 있다.

100: EUV 리소그래피 시스템
102: 빔 성형 시스템
104: 조명 시스템
106: 투영 시스템
108: EUV 광원
110: 시준기
112: 단색광 분광기
114: EUV 방사선
116: 제1 미러
118: 제2 미러
120: 포토마스크
122: 웨이퍼
124: 제3 미러
200: 연결 장치
200A: 제1 실시예에 따른 연결 장치
200B: 제2 실시예에 따른 연결 장치
202: 제4 미러
204: 프레임
206: 광학 디바이스
208: 프레임 상의 돌출부
208-1: 프레임 상의 웨지형 돌출부
208-2: 프레임 상의 돌출부
210: 제1 인터페이스 요소
210-1: 웨지형 돌출부에 대향하는 제1 인터페이스 요소
210-2: 돌출부에 대향하는 제1 인터페이스 요소
212: 지지 구조체
214: 간극
216: 해제가능한 연결부
218: 제2 인터페이스 요소
218-1: 웨지형 제2 인터페이스 요소
218-2: 제2 인터페이스 요소
220: 제1 접합부
222: 제2 접합부
224: 제3 접합부
226: 제1 접촉면
228: 제2 접촉면
300: 경사형 고정 가능 요소
302: 기부
304: 접촉 요소
306: 반경방향 또는 열적 디커플러
308: 너트
310: 와셔
312: 고정 요소
314: 축방향 스페이서
316: 나사
318: 웨브
320: 체적 요소
322: 경사형 고정 가능 요소의 개구
324: 경사형 고정 가능 요소의 리세스
326: 고정 요소의 하부측
328: 경사형 고정 가능 요소의 리세스의 상부측
330: 접착제
400: 제1 위치설정 디바이스
402: 제1 회전형 또는 볼 조인트
404: 지지 구조체의 회전
410: 제2 위치설정 디바이스
412: 제2 회전형 또는 볼 조인트
414: 프레임의 회전
416: 연결 장치를 제조하기 위한 장치
418: 최단 연결 경로
420: 최단 연결 경로에 수직인 방향

Claims

리소그래피 시스템(100)용 연결 장치(200A, 200B)이며,
제1 구성요소(212),
제2 구성요소(206),
제1 접합부(220)에서 상기 제1 구성요소(212)에 해제가능하게 연결된 제1 인터페이스 요소(210), 및
제2 접합부(222)에서 상기 제2 구성요소(206)에 해제가능하게 연결된 제2 인터페이스 요소(218)를 포함하고,
상기 제1 인터페이스 요소(210)는 제1 접촉면(226)을 갖고, 상기 제2 인터페이스 요소(218)는 제2 접촉면(228)을 갖고, 상기 2개의 접촉면(226, 228) 중 적어도 하나는 상기 2개의 접촉면(226, 228)이 제3 접합부(224)에서 연결되기 전에 상기 제1 구성요소(212)와 상기 제2 구성요소(206) 사이의 오프셋을 보상하기 위해 정렬 및/또는 선택되게 하기 위해 구성되고,
상기 제1 인터페이스 요소(210)의 제1 접촉면(226) 및 상기 제2 인터페이스 요소(218)의 제2 접촉면(228)은 제3 접합부(224)에서 재료 끼워맞춤 연결에 의해 연결되는 연결 장치.
제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2 인터페이스 요소(210, 218)의 2개의 접촉면(226, 228) 중 적어도 하나는 최단 연결 경로(418)에 관련하여 또는 상기 최단 연결 경로에 수직인 방향(420)에 관련하여 그리고/또는 서로에 관한 상기 2개의 접촉면(226, 228)의 각도에 관련하여 정렬될 수 있는 연결 장치.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 접촉면(226, 228)은 서로 평행한 연결 장치.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 인터페이스 요소(210, 218) 중 적어도 하나는 상기 구성요소(206, 212) 사이의 오프셋을 보상하기 위해 비대칭 형상(218-1)을 갖는 연결 장치.
제4항에 있어서, 상기 비대칭 형상(218-1)은 웨지 형상인 연결 장치.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 인터페이스 요소(210)는 기부(302) 및 상기 기부(302)에 대해 상기 제1 접촉면(226)을 경사시키기 위한 경사형 고정 가능 요소(300)를 갖고, 그리고/또는 상기 제2 인터페이스 요소(218)는 기부(302) 및 상기 기부(302)에 대해 상기 제2 접촉면(228)을 경사시키기 위한 경사형 고정 가능 요소(300)를 갖는 연결 장치.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 인터페이스 요소(210)의 제1 접촉면(226)은 평면형이고, 그리고/또는 상기 제2 인터페이스 요소(218)의 제2 접촉면(228)은 평면형인 연결 장치.
제6항 또는 제7항에 있어서, 상기 제1 인터페이스 요소(210)의 그리고/또는 상기 제2 인터페이스 요소(218)의 경사형 고정 가능 요소(300)는 구형 캡으로서 구성되고, 상기 경사형 고정 가능 요소(300)가 고정되는 상기 구성요소(206, 212)는 대응 리세스를 갖는 연결 장치.
제6항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기부(302)는 고정을 위해 상기 구성요소(206, 212)에 대해 상기 경사형 고정 가능 요소(300)를 클램핑하는 고정 요소(312)를 갖는 연결 장치.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 구성요소는 지지 구조체(212)를 갖고, 상기 제2 구성요소는 광학 디바이스(206)를 갖는 연결 장치.
제10항에 있어서, 상기 광학 디바이스(206)는 프레임(204) 및 미러(202) 또는 렌즈 요소를 갖는 연결 장치.
제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 따른 하나 이상의 연결 장치(200A, 200B)를 갖는 리소그래피 시스템, 특히 EUV 리소그래피 시스템(100).
리소그래피 시스템(100)용 연결 장치(200A, 200B)를 제조하기 위한 방법이며,
a) 제1 인터페이스 요소(210)의 경사형 고정 가능 요소(300) 및/또는 제2 인터페이스 요소(218)의 경사형 고정 가능 요소(300)가 제1 구성요소(212) 및/또는 제2 구성요소(206)에 대해 경사 가능하도록, 상기 제1 구성요소(212)로의 상기 제1 인터페이스 요소(210)의 그리고 상기 제2 구성요소(206)로의 상기 제2 인터페이스 요소(218)의 해제가능한 연결 단계,
b) 상기 제1 및 제2 구성요소(206, 212) 사이의 오프셋을 보상하기 위한 상기 제1 인터페이스 요소(210)의 제1 접촉면(226) 및/또는 상기 제2 인터페이스 요소(218)의 제2 접촉면(228)의 정렬 단계,
c) 상기 제1 구성요소(212)에 대한 상기 제1 인터페이스 요소(210)의 경사형 고정 가능 요소(300)의 고정 및/또는 상기 제2 구성요소(206)에 대한 상기 제2 인터페이스 요소(218)의 경사형 고정 가능 요소(300)의 고정 단계, 및
d) 상기 제2 인터페이스 요소(218)의 제2 접촉면(228)으로의 상기 제1 인터페이스 요소(210)의 제1 접촉면(226)의 재료 끼워맞춤 연결 단계를 포함하는 방법.
제13항에 있어서, 상기 단계 b)는
상기 제1 인터페이스 요소(210)의 제1 접촉면(226) 및 상기 제2 인터페이스 요소(218)의 제2 접촉면(228)을 접촉하게 하는 것에 의한 상기 제1 인터페이스 요소(210)의 제1 접촉면(226)의 경사 단계로서, 상기 제1 인터페이스 요소(210)의 경사형 고정 가능 요소(300)는 상기 제1 인터페이스 요소(210)의 제1 접촉면(226) 및 상기 제2 인터페이스 요소(218)의 제2 접촉면(228)이 서로로부터 일정한 거리를 갖도록 경사지는, 제1 접촉면의 경사 단계, 및/또는
상기 제2 인터페이스 요소(218)의 제2 접촉면(228) 및 상기 제1 인터페이스 요소(210)의 제1 접촉면(226)을 접촉하게 하는 것에 의한 상기 제2 인터페이스 요소(218)의 제2 접촉면(228)의 경사 단계로서, 상기 제2 인터페이스 요소(218)의 경사형 고정 가능 요소(300)는 상기 제2 인터페이스 요소(218)의 제2 접촉면(228) 및 상기 제1 인터페이스 요소(210)의 제1 접촉면(226)이 서로로부터 일정한 거리를 갖도록 경사지는, 제2 접촉면의 경사 단계를 포함하는 방법.
리소그래피 시스템(100)용 연결 장치(200A, 200B)를 제조하기 위한 방법이며,
a) 제1 인터페이스 요소(210) 및 제2 인터페이스 요소(218)를 선택하고 그리고/또는 제조하는 단계,
b) 제1 구성요소(212)로의 상기 제1 인터페이스 요소(210)의 해제가능한 연결 단계,
c) 제2 구성요소(206)로의 상기 제2 인터페이스 요소(218)의 해제가능한 연결 단계,
d) 상기 제2 인터페이스 요소(218)의 제2 접촉면(228)으로의 상기 제1 인터페이스 요소(210)의 제1 접촉면(226)의 재료 끼워맞춤 연결 단계를 포함하는 방법.
제13항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 단계 a) 전에, 적합한 형상(218-1)을 갖는 인터페이스 요소(210, 218)를 선택하는 것을 가능하게 하기 위해, 상기 제1 구성요소(212)와 상기 제2 구성요소(206) 사이에 이용 가능한 공간의 측정이 행해지는 방법.
제15항 또는 제16항에 있어서, 상기 단계 a)는
상기 인터페이스 요소(210, 218)의 세트로부터 상기 제1 인터페이스 요소(210)의 그리고/또는 상기 제2 인터페이스 요소(218)의 선택 단계를 포함하고, 상기 인터페이스 요소(210, 218)의 세트는 상이한 기하학 형상을 갖는 복수의 인터페이스 요소를 갖는 방법.
제15항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 단계 a)는 연삭, 밀링 또는 절삭에 의한 상기 제1 인터페이스 요소(210)의 그리고/또는 상기 제2 인터페이스 요소(218)의 제조 단계를 포함하는 방법.
제13항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 단계 d)는
d1) 접착제가 2개의 접촉면(226, 228) 중 하나 상에 적어도 도포될 수 있도록 서로로부터 이격하여 상기 제1 접촉면(226) 및 상기 제2 접촉면(228)을 이동시키는 단계,
d2) 상기 2개의 접촉면(226, 228) 중 적어도 하나 상의 접착제의 도포 단계, 및
d3) 상기 접촉면(226, 228)을 함께 모아 접착식으로 접합하는 단계를 포함하는 방법.