TWI653092B - 噴嘴洗滌方法、塗布裝置 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種噴嘴洗滌方法、塗布裝置。本發明的噴嘴洗滌方法包括如下工程：在對安裝於塗布裝置的安裝部位的噴嘴的噴出口進行了密封的狀態下，使黏度低於塗布液的洗滌液在從噴嘴的排出口出來並回到噴嘴的供給口的第1循環系統中循環；從安裝部位拆下藉由第1循環系統中的洗滌液的循環而洗滌的噴嘴，對噴嘴執行規定操作之後，將噴嘴安裝於安裝部位；以及在對執行規定操作而安裝於安裝部位的噴嘴的噴出口進行了密封的狀態下，使洗滌液在從排出口出來並回到供給口並且在排出口到供給口之間具有過濾器的第2循環系統中循環。

Description

噴嘴洗滌方法、塗布裝置

本發明是有關於一種對塗布裝置的噴嘴的內部進行洗滌的技術，所述塗布裝置是對液晶顯示裝置用玻璃基板、半導體晶片、等離子體顯示板（plasma display panel，PDP）用玻璃基板、光掩膜用玻璃基板、聚醯亞胺前體薄膜的支撐用的玻璃基板、彩色濾光片用基板、記錄磁盤用基板、太陽能電池用基板、電子紙用基板等精密電子裝置用基板（以下簡稱為“基板”）從噴嘴的噴出口噴出塗布液而進行塗布。

先前，已經知道了藉由使塗布液從噴嘴噴出，而將塗布液塗布於對象物的塗布裝置。所述噴嘴包括形成於其內部的空腔、以及分別與空腔連通的供給口及噴出口。而且，藉由使從供給口供給至空腔內的塗布液從噴出口噴出，而將塗布液塗布於對象物。並且，在專利文獻1中，記載有洗滌這種噴嘴的技術。所述洗滌技術是藉由在對噴嘴的噴出口進行了密封的狀態下，將從供給口（藥液導入部）供給至空腔的洗滌液從在噴嘴的兩側開口的排出口（藥液導出部）排出，而對噴嘴內部的空腔進行洗滌。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1] 日本專利第5258849號公報

[發明所要解決的問題]

然而，為了執行噴嘴的分解清掃或噴嘴的構成零件的調整等規定操作（手動操作），有時操作者會從塗布裝置適當拆下噴嘴。這時，操作者在進行所述噴嘴的洗滌之後拆下噴嘴，可以對塗布液的附著量少的比較潔淨的噴嘴執行規定操作。但是，在如上所述的規定操作的執行過程中，微粒（particle）可能會附著於噴嘴的內部空間（空腔）的內壁。因此，在將噴嘴安裝至塗布裝置之後所執行的塗布時，有可能使微粒與塗布液一同從噴出口噴出，而污染對象物。

本發明是鑒於所述問題而完成的，目的在於提供一種可以去除為了規定操作而從塗布裝置拆下的噴嘴上所附著的微粒的技術。 [解決問題的技術手段]

本發明的噴嘴洗滌方法包括如下工程：在對安裝於塗布裝置的安裝部位的噴嘴的噴出口進行了密封的狀態下，使黏度低於塗布液的洗滌液在從噴嘴的排出口出來並回到噴嘴的供給口的第1循環系統中循環，所述塗布裝置的噴嘴具有與內部空間連通的供給口、噴出口及排出口，噴嘴相對於安裝部位可拆裝，並藉由將塗布液從安裝於安裝部位的噴嘴的供給口供給至內部空間而將從噴嘴的噴出口噴出的塗布液塗布於對象物；從安裝部位拆下已藉由第1循環系統中的洗滌液的循環而洗滌的噴嘴，對噴嘴執行規定操作之後，將噴嘴安裝於安裝部位；以及在對執行規定操作而安裝於安裝部位的噴嘴的噴出口進行了密封的狀態下，使洗滌液在從排出口出來並回到供給口並且在排出口至供給口之間具有過濾器的第2循環系統中循環。

在如上所述構成的噴嘴洗滌方法中，在對噴嘴的噴出口進行了密封的狀態下，使洗滌液在從排出口出來並回到供給口的第1循環系統中循環之後，將噴嘴從塗布裝置的安裝部位拆下。由此，操作者可以對塗布液的附著量少的比較潔淨的噴嘴執行規定操作。並且，當將執行了規定操作的噴嘴安裝於塗布裝置的安裝部位時，在對噴嘴的噴出口進行了密封的狀態下，使洗滌液在從排出口出來並回到供給口的第2循環系統中循環。因此，可以利用在第2循環系統中循環的洗滌液從噴嘴的內部空間沖走微粒。而且，第2循環系統在排出口至供給口之間具有過濾器，所以可以利用過濾器收集被沖走的微粒，抑制所述微粒再次返回到噴嘴的內部空間。這樣一來，可以去除為了規定操作而從塗布裝置拆下的噴嘴上所附著的微粒。

此外，在本發明中，拆下噴嘴之前的噴嘴的洗滌是使洗滌液在不含過濾器的第1循環系統中循環，與此相對，安裝噴嘴後的噴嘴的洗滌是使洗滌液在含有過濾器的第2循環系統中循環。如上所述分開使用過濾器的理由之一如下。即，第1循環系統中的洗滌主要是為了沖走固著於噴嘴的內部空間的內壁等之上的塗布液的成分而執行。而且，第1循環系統中的洗滌的執行時機是在操作者執行規定操作之前，所以在第1循環系統中不存在微粒，本來就不需要過濾器。另一方面，第2循環系統中的洗滌主要是為了去除伴隨著噴嘴的拆下而附著於噴嘴的內部空間的內壁等之上的微粒而執行。如果所述微粒伴隨著洗滌液的循環回到噴嘴的內部空間，那麼後來的塗布受到的影響就大。因此，設為在第1循環系統中的洗滌中，不使用過濾器來抑制過濾器的消耗，並且在第2循環系統中的洗滌中，藉由使用過濾器來收集微粒。

此外，在本發明中，藉由一邊密封噴嘴的噴出口一邊使洗滌液循環來進行噴嘴的洗滌，換而言之在噴嘴洗滌中循環利用洗滌液。因此，可以抑制洗滌液的消耗。

因此，也可以如下方式構成噴嘴洗滌方法：使在第1循環系統中循環的洗滌液在第2循環系統中循環。藉由如上所述在第1循環系統中的洗滌及第2循環系統中的洗滌中共用洗滌液，可以更有效地抑制洗滌液的消耗。

並且，也可以如下方式構成噴嘴洗滌方法：更包括在第1循環系統中的洗滌液的循環之後，將噴嘴從安裝部位拆下之前，將氣體導入至第1循環系統的工程。在所述構成中，可以利用已導入至第1循環系統的氣體推出洗滌液之後，拆下噴嘴。其結果為，操作者可以對經乾燥的噴嘴進行規定操作。

並且，也可以如下方式構成噴嘴洗滌方法：更包括在第2循環系統中的洗滌液的循環之後，將氣體導入至第2循環系統的工程。在所述構成中，可以利用已導入至第2循環系統的氣體推出噴嘴的內部空間的洗滌液。其結果為，可以抑制殘留於噴嘴的內部空間的洗滌液對後來執行的塗布液的塗布造成影響。

並且，也可以如下方式構成噴嘴洗滌方法：塗布液包含聚醯亞胺前體及溶劑，洗滌液是溶劑。即，由於包含聚醯亞胺前體的塗布液具有高黏度，所以容易固著於噴嘴的內部空間的內壁。因此，只藉由如專利文獻1中所述的洗滌不夠，非常需要利用手動操作進行洗滌，從而容易產生微粒附著之類的問題。因此，如上所述，特別較佳的是在安裝噴嘴之後，使溶劑（洗滌液）在具有過濾器的第2循環系統中循環，來從噴嘴的內部空間去除微粒。

本發明的塗布裝置的第1形態包括：噴嘴，具有與內部空間連通的供給口、狹縫狀的噴出口及排出口，將從供給口供給至內部空間的塗布液從噴出口噴出；噴嘴支撐部，將噴嘴可拆裝地支撐於安裝部位；洗滌液循環元件，包括構成從排出口出來並回到供給口的循環路徑的配管、設置於配管並使黏度低於塗布液的洗滌液在循環路徑中循環的輸送部、及相對於配管可拆裝的過濾器；以及密封元件，可對噴嘴的噴出口進行密封；並且噴嘴藉由在密封元件對噴出口未進行密封的狀態下從噴出口噴出塗布液，而將塗布液塗布於對象物，洗滌液循環元件可以選擇性地執行如下動作，即，在噴出口被密封元件密封並且從配管拆下了過濾器的狀態下使洗滌液在循環路徑中循環的動作、以及在噴出口被密封元件密封並且在配管上安裝有過濾器的狀態下使洗滌液在循環路徑中循環的動作。

如上所述構成的塗布裝置藉由從安裝於噴嘴支撐體的拆裝位置的噴嘴噴出塗布液，而將塗布液塗布於對象物。即，噴嘴具有與其內部空間連通的供給口及狹縫狀的噴出口，將從供給口供給至內部空間的塗布液從噴出口噴出。此外，噴嘴具有與所述內部空間連通的排出口，洗滌液循環元件經由噴嘴的供給口及排出口使洗滌液循環而對噴嘴進行洗滌。所述洗滌液循環元件包括構成從排出口出來並回到供給口的循環路徑的配管、以及使洗滌液在所述循環路徑中循環的輸送部，過濾器相對於配管可拆裝。而且，洗滌液循環元件可以執行在噴出口被密封元件密封並且已從配管拆下過濾器的狀態下使洗滌液在循環路徑中循環的動作。因此，藉由洗滌液循環元件執行所述動作之後從塗布裝置的安裝部位拆下噴嘴，操作者可以對塗布液的附著量少的比較潔淨的噴嘴執行規定操作。並且，洗滌液循環元件可以執行在噴出口被密封元件密封並且在配管上安裝有過濾器的狀態下使洗滌液在循環路徑中循環的動作。因此，藉由將噴嘴安裝於塗布裝置的安裝部位之後洗滌液循環元件執行所述動作，可以利用在循環路徑中所循環的洗滌液從噴嘴的內部空間沖走微粒。而且，由於在循環路徑中安裝有過濾器，所以能夠利用過濾器收集被沖走的微粒，抑制所述微粒再次回到噴嘴的內部空間。這樣一來，可以去除為了規定操作而從塗布裝置拆下的噴嘴上所附著的微粒。

本發明的塗布裝置的第2形態包括：噴嘴，具有與內部空間連通的供給口、狹縫狀的噴出口及排出口，使從供給口供給至內部空間的塗布液從噴出口噴出；噴嘴支撐部，將噴嘴可拆裝地支撐於安裝部位；洗滌液循環元件，包括構成從排出口出來並回到供給口的循環路徑的配管、設置於配管而使黏度低於塗布液的洗滌液在循環路徑中循環的輸送部、及相對於配管而安裝的過濾器；以及密封元件，可對噴嘴的噴出口進行密封；並且噴嘴藉由在密封元件對噴出口未進行密封的狀態下從噴出口噴出塗布液，而將塗布液塗布於對象物，循環路徑包括從排出口出來並且不經由過濾器而回到供給口的第1路徑、以及從排出口出來並且穿過過濾器之後回到供給口的第2路徑，洗滌液循環元件可以選擇性地執行如下動作，即，在噴出口被密封元件密封的狀態下使洗滌液在第1路徑中循環的動作、以及在噴出口被密封元件密封的狀態下使洗滌液在第2路徑中循環的動作。

如上所述構成的塗布裝置藉由從安裝於噴嘴支撐體的拆裝位置的噴嘴噴出塗布液，而將塗布液塗布於對象物。即，噴嘴具有與所述內部空間連通的供給口及狹縫狀的噴出口，使從供給口供給至內部空間的塗布液從噴出口噴出。此外，噴嘴具有與所述內部空間連通的排出口，藉由洗滌液循環元件經由噴嘴的供給口及排出口使洗滌液循環而對噴嘴進行洗滌。所述洗滌液循環元件包括構成從排出口出來並回到供給口的循環路徑的配管、以及使洗滌液在所述循環路徑中循環的輸送部。並且，循環路徑包括從排出口出來並且不經由過濾器而回到供給口的第1路徑、以及從排出口出來並且穿過過濾器之後回到供給口的第2路徑。而且，洗滌液循環元件可以執行在噴出口被密封元件密封的狀態下使洗滌液在第1路徑中循環的動作。因此，操作者可以藉由洗滌液循環元件執行所述動作之後從塗布裝置的安裝部位拆下噴嘴，而對塗布液的附著量少的比較潔淨的噴嘴執行規定操作。並且，洗滌液循環元件可以執行在噴出口被密封元件密封的狀態下使洗滌液在第2路徑中循環的動作。因此，藉由將噴嘴安裝於塗布裝置的安裝部位之後洗滌液循環元件執行所述動作，可以利用在第2路徑中循環的洗滌液從噴嘴的內部空間沖走微粒。而且，由於在第2路徑中設置有過濾器，所以能夠利用過濾器收集被沖走的微粒，抑制所述微粒再次回到噴嘴的內部空間。這樣一來，可以去除為了規定操作而從塗布裝置拆下的噴嘴上所附著的微粒。 [發明的效果]

如上所述，根據本發明，可以去除為了規定操作而從塗布裝置拆下的噴嘴上所附著的微粒。

圖1是示意性地表示本發明的塗布裝置的立體圖。並且，圖2是示意性地表示圖1所示的塗布裝置的側視圖。此外，圖3是概略性地表示圖1所示的塗布裝置的各部的配置的俯視圖。再者，圖1、圖2、圖3及以後的各圖中，為了闡明它們的方向關係，適當標注將Z方向設為垂直方向，將XY平面設為水平面的XYZ正交坐標系，並且根據需要誇張或簡化地描繪各部的尺寸或數量。並且，在圖2及圖3中，省略了噴嘴支撐體等一部分的構成。

塗布裝置1是利用狹縫噴嘴2將塗布液塗布於基板3的表面31的被稱為狹縫塗布機的塗布裝置。塗布液分別包含聚醯亞胺前體即聚醯胺酸（polyamide acid；polyamic acid）作為溶質，包含N-甲基-2-吡咯烷酮（N-Methyl-2-Pyrrolidone，NMP）作為溶劑。並且，基板3是俯視時具有矩形狀的玻璃基板。再者，在本說明書中，所謂“基板3的表面31”是指基板3的兩主面之中塗布塗布液之側的主面。

塗布裝置1包括能夠以水平姿勢吸附保持基板3的平臺4、利用狹縫噴嘴2對保持於平臺4上的基板3實施塗布處理的塗布處理部5、對狹縫噴嘴2實施維護處理的噴嘴維護單元6、人機界面（man-machine interface）7、以及對所述各部進行控制的控制部100。

平臺4由具有大致長方體的形狀的花崗岩等石材所構成，在其上表面（+Z側）之中的-Y側，具有加工成大致水平的平坦面而保持基板3的保持面41。在保持面41上分散地形成有未圖示的多個真空吸附口。藉由利用這些真空吸附口吸附基板3，而在塗布處理時將基板3水平地保持於規定的位置。再者，基板3的保持形態並不限定於此，例如也可以構成為機械地保持基板3。並且，在平臺4上比保持面41所佔有的區域更靠+Y側的位置上設置有噴嘴調整區域RA，在所述噴嘴調整區域RA內配置有後述噴嘴維護單元6。

塗布處理部5包括對狹縫噴嘴2進行支撐的噴嘴支撐體51。所述噴嘴支撐體51包括在平臺4的上方沿X方向平行地延伸設置的支撐構件51a、以及對支撐構件51a從X方向上的兩側進行支撐而使支撐構件51a升降的兩個升降機構51b。支撐構件51a是由碳纖維強化樹脂等構成，具有矩形的截面的棒構件。所述支撐構件51a的下表面成為狹縫噴嘴2的安裝部位510，支撐構件51a將狹縫噴嘴2可拆裝地支撐於安裝部位510。再者，作為用於將狹縫噴嘴2相對於支撐構件51a的安裝部位510而拆裝的機構，可以適當使用閂鎖（latch）或螺釘等各種緊固機構。

兩個升降機構51b連結於固定構件51a的長度方向上的兩端部，分別具有交流電（alternating current，AC）伺服馬達及滾珠螺桿等。利用這些升降機構51b，使固定構件51a及固定於其上的狹縫噴嘴2沿垂直方向（Z方向）升降，對在狹縫噴嘴2的下端開口的噴出口21與基板3的間隔，即，對噴出口21相對於基板3的相對高度進行調整。再者，固定構件51a的垂直方向上的位置雖然例如省略了圖示，但是可以藉由線性編碼器（linear encoder）來檢測，所述線性編碼器包括設置於升降機構51b的側面的刻度（scale）部、以及與所述刻度部相對向地設置於狹縫噴嘴2的側面等的檢測傳感器。

如上所述構成的噴嘴支撐體51如圖1所示，具有沿X方向架設於平臺4的左右兩端部的跨越保持面41的跨接構造。塗布處理部5包括使所述噴嘴支撐體51沿Y方向移動的狹縫噴嘴移動部53。狹縫噴嘴移動部53作為使作為跨接構造體的噴嘴支撐體51與支撐於其上的狹縫噴嘴2，相對於保持於平臺4上的基板3沿Y方向相對移動的相對移動元件而發揮作用。具體而言，狹縫噴嘴移動部53分別在±X側，具有在Y方向上引導狹縫噴嘴2的移動的導軌（guide rail）52、作為驅動源的線性馬達54、以及用於對狹縫噴嘴2的噴出口21的位置進行檢測的線性編碼器55。

兩個導軌52分別設置於平臺4的X方向上的兩端部，並且以包含設置有噴嘴調整區域RA及保持面41的區間的方式在Y方向上延伸設置。而且，兩個導軌52分別在Y方向上引導兩個升降機構51b的移動。並且，兩個線性馬達54分別設置於平臺4的兩側，是具有定子54a及動子54b的AC無鐵芯線性馬達（coreless linear motor）。定子54a沿Y方向設置於平臺4的X方向上的側面。另一方面，動子54b固定設置於升降機構51b的外側。兩個線性馬達54分別藉由所述定子54a與動子54b之間所產生的磁力，沿Y方向對兩個升降機構51b進行驅動。

並且，各線性編碼器55分別包含刻度部55a及檢測部55b。刻度部55a沿Y方向設置在固定設置於平臺4上的線性馬達54的定子54a的下部。另一方面，檢測部55b固定設置於升降機構51b上所固定設置的線性馬達54的動子54b的更外側，與刻度部55a相對向而配置。線性編碼器55基於刻度部55a與檢測部55b的相對位置關係，對Y方向上的狹縫噴嘴2的噴出口21的位置進行檢測。

如上所述構成的狹縫噴嘴移動部53藉由在Y方向上對噴嘴支撐體51進行驅動，可以使狹縫噴嘴2在噴嘴調整區域RA的上方與保持於平臺4上的基板3的上方之間移動。而且，塗布裝置1藉由一邊從狹縫噴嘴2的噴出口21噴出塗布液，一邊使狹縫噴嘴2相對於基板3相對移動，而在基板3的表面31形成塗布層。再者，從基板3的各邊的端部起規定寬度的區域（邊框狀的區域）成為非塗布區域，不成為塗布液的塗布對象。因此，基板3之中除了所述非塗布區域以外的矩形區域成為應塗布塗布液的塗布區域RT（圖3）。因此，從在狹縫噴嘴2的移動區間之中基板3的塗布區域RT的上方區間移動的噴出口21噴出塗布液。

並且，在塗布裝置1與外部搬運機構的基板3的交接期間（基板3的搬入及搬出時間）等在平臺4上未進行塗布處理的期間，狹縫噴嘴2在從基板3的保持面41向+Y側偏離的噴嘴調整區域RA內進行避讓（圖1所示的狀態）。而且，噴嘴維護單元6對位於噴嘴調整區域RA的狹縫噴嘴2執行各種維護。

噴嘴維護單元6包括從遠離保持面41之側起依次在Y方向上排列的待機點61、密封構件62及噴嘴清掃裝置63。待機點61存積有洗滌液，將狹縫噴嘴2的下端部、即噴出口21的周邊浸漬於洗滌液中。因此，藉由使狹縫噴嘴2與待機點61相對向，可以抑制乾燥的塗布液的成分固著於狹縫噴嘴2的下端部。密封構件62藉由從下方抵接於狹縫噴嘴2的下端部而對狹縫噴嘴2的噴出口21進行密封。藉由所述密封構件62對噴出口21的密封，而禁止從噴出口21噴出塗布液。所述密封構件62主要用於使用洗滌液對狹縫噴嘴2進行洗滌的後述洗滌處理中。噴嘴清掃裝置63去除附著於狹縫噴嘴2的下端部即噴出口21的周邊的塗布液。即，噴嘴清掃裝置63具有與狹縫噴嘴2的下端部相對應的形狀的刮板（scraper）631，藉由使所述刮板631向X方向滑動至狹縫噴嘴2的下端部，而從狹縫噴嘴2的下端部刮下塗布液。

圖4是示意性地表示狹縫噴嘴的立體圖，圖5是示意性地表示圖4的狹縫噴嘴的分解構造的立體圖。狹縫噴嘴2包括兩個噴嘴主體23、噴嘴主體25、以及從Y方向夾於所述噴嘴主體23、噴嘴主體25之間的噴嘴墊片（nozzle shim）27。噴嘴主體23、噴嘴主體25分別在X方向上以相同的寬度延伸設置，在YZ截面中具有梯形狀的下端部23a、下端部25a及矩形狀的上端部23b、上端部25b。噴嘴主體23、噴嘴主體25的內側（噴嘴墊片27側）的面分別為與ZX平面平行的平面。另一方面，噴嘴主體23的下端部23a、噴嘴主體25的下端部25a的外側（噴嘴墊片27的逆側）的面分別是以越朝向下方越靠近噴嘴墊片27的方式傾斜的傾斜面。因此，由噴嘴主體23的下端部23a、噴嘴主體25的下端部25a構成的狹縫噴嘴2的下端部2a（噴嘴凸緣（nozzle lip）部）具有尖端越向下方越細的形狀。

並且，在噴嘴主體25的內側的面上，形成有塗布液的流路F。所述流路F包括與X方向平行地延伸設置的橫孔部Fa、以及從橫孔部Fa的中央與Z方向平行地延伸設置的縱孔部Fb。而且，橫孔部Fa的X方向上的兩端在噴嘴主體25的兩側面打開而分別構成側面開口A1、側面開口A2，縱孔部Fb的上端在噴嘴主體25的上表面打開而構成上表面開口A3。

噴嘴墊片27包括以與噴嘴主體23、噴嘴主體25相同的寬度在X方向上延伸設置的平板形狀的上邊部271、以及從上邊部271的兩端向Z方向下方延伸設置的平板形狀的側邊部272。而且，在上邊部271的下方即側邊部272之間的區域作為狹縫噴嘴2的空腔CV而發揮作用。對空腔CV的上端進行規定的上邊部271位於比流路F的橫孔部Fa更上方的位置，空腔CV與流路F的橫孔部Fa連通。並且，空腔CV的下端朝向外側打開而構成狹縫狀的噴出口21。所述空腔CV在X方向上具有與塗布區域RT（圖3）相同的寬度。如上所述，噴嘴墊片27作為對噴出口21的塗布寬度進行規定的塗布寬度規定構件而發揮作用。

而且，塗布裝置1包括用於將塗布液或洗滌液等處理液供給至狹縫噴嘴2的處理液供給系統S。圖6是示意性地表示塗布裝置所含的處理液供給系統的第1例的圖。如所述圖6所示，處理液供給系統S包括對狹縫噴嘴2供給處理液的供給機構8、及從狹縫噴嘴2排出處理液的排出機構9。

供給機構8具有分別經由閥V1、閥V2與附設於塗布裝置1上的存積槽即塗布液供給源U1及洗滌液供給源U2連接的除氣槽81。所述除氣槽81是暫時存積從塗布液供給源U1供給的塗布液或從洗滌液供給源U2供給的洗滌液的構件，去除塗布液中或洗滌液中的溶解氣體（dissolved gas）。再者，洗滌液是作為塗布液的溶劑的NMP，具有低於塗布液的黏度。所述洗滌液主要用於後述狹縫噴嘴2的洗滌處理中。

在所述除氣槽81內，經由閥V3連接有空氣供給源U3（動力）。因此，控制部100可以藉由打開閥V1將塗布液存積於除氣槽81之後打開閥V3將空氣壓送至除氣槽81內，而從除氣槽81的輸出部811壓出塗布液。並且，控制部100可以藉由打開閥V2將洗滌液存積於除氣槽81之後打開閥V3將空氣壓送至除氣槽81內，而從除氣槽81的輸出部811壓出洗滌液。

並且，供給機構8具有通過配管P1與除氣槽81的輸出部811連接的泵82。所述泵82是例如管式泵等定量噴出泵。泵82的輸入部821與除氣槽81的輸出部811藉由配管P1而連接，泵82將從除氣槽81壓出至配管P1的處理液從輸入部821吸入並從輸出部822輸出。

此外，供給機構8具有歧管（manifold）83，所述歧管83的輸入部831通過配管P2與泵82的輸出部822連接。並且，歧管83所具有的兩個輸出部832、輸出部833之中，輸出部832經由閥V4通過配管P3與狹縫噴嘴2的側面開口A1連接。因此，控制部100可以藉由在打開了閥V4的狀態下使泵82運轉，而經由歧管83將處理液供給至狹縫噴嘴2。

並且，在供給機構8中，將壓力計G1安裝於配管P1上，並且將壓力計G2安裝於歧管83上。壓力計G1是為了監視泵82的輸入側的負壓級別（level）而設置，壓力計G2是為了監視泵82的輸出側的正壓級別而設置。即，控制部100在所述負壓級別或正壓級別大於各自的閾值時，藉由使泵82的旋轉速度下降，來抑制施加至泵82的負荷。

排出機構9包括暫時存積從狹縫噴嘴2排出的處理液的回收槽91。回收槽91經由閥V5通過配管P4而與狹縫噴嘴2的側面開口A2連接，並且經由閥V6通過配管P5而與狹縫噴嘴2的上表面開口A3連接。再者，配管P4、配管P5的比閥V5、閥V6更靠回收槽91側的一部分為共同化。因此，控制部100藉由打開閥V5、閥V6，可以將從狹縫噴嘴2的側面開口A2及上表面開口A3排出的處理液排出至回收槽91。

並且，在回收槽91上，經由閥V7連結有空氣供給源U4（動力）。因此，控制部100藉由打開閥V7將空氣壓送至回收槽91內，可以從回收槽91的輸出部911壓出處理液。並且，回收槽91的輸出部911經由切換閥V8通過配管P6而與供給機構8的配管P1連接。切換閥V8是選擇性地打開兩個輸出部v81、輸出部v82之中的一者的三通閥。這些輸出部v81、輸出部v82之中，輸出部v81與供給機構8的配管P1連接，輸出部v82與排水口（drain）連接。因此，控制部100可以藉由打開切換閥V8的輸出部v81，而使從回收槽91壓出至配管P6的處理液回到供給機構8的除氣槽81，另一方面，可以藉由打開切換閥V8的輸出部v82，而從排水口廢棄所述處理液。

如上所述，在處理液供給系統S中，利用配管P1～配管P6來構成使從狹縫噴嘴2的側面開口A2及上表面開口A3出來的處理液回到狹縫噴嘴2的側面開口A1的循環路徑CR（循環系統）（即，在圖6中構成了使處理液沿順時針循環的循環路徑CR（循環系統））。並且，在配管P6上可拆裝地安裝有過濾器10，可以藉由從配管P6拆下過濾器10，來構成不含過濾器10的第1循環系統（循環路徑CR），並且可以藉由將過濾器10安裝於配管P6上，來構成包含過濾器10的第2循環系統（循環路徑CR）。

並且，處理液供給系統S具有經由閥V9將歧管83的輸出部833與回收槽91加以連接的配管P7。再者，配管P7的比閥V9更靠回收槽91側的一部分與配管P4、配管P5的比閥V5、閥V6更靠回收槽91側的一部分共同化。

而且，控制部100在將塗布液塗布於基板3時，在關閉了閥V5及閥V6的狀態下，對狹縫噴嘴2的側面開口A1供給塗布液。由此，在狹縫噴嘴2中，從側面開口A1供給的塗布液從流路F擴散至空腔CV，而從噴出口21噴出（塗布處理）。

並且，控制部100在塗布裝置1從長時間的停止狀態起再開始運轉時，在關閉了閥V1、閥V2的狀態下打開閥V3，由此將殘留於除氣槽81內的塗布液排出至配管P1。與此同時，控制部100在一邊關閉閥V4～閥V6一邊打開閥V9的狀態下使泵82運轉，借此將從配管P1抵達至歧管(manifold)83的塗布液經由配管P2、配管P7輸送至回收槽91。然後，控制部100藉由一邊打開閥V7一邊打開切換閥V8的輸出部v82，而從排水口廢棄送來至除氣槽81的塗布液。

此外，控制部100在未進行塗布處理期間，執行圖7所示的噴嘴洗滌處理。在這裡，圖7是表示利用塗布裝置而執行的噴嘴洗滌處理的一例的流程圖。在這裡，以在塗布處理結束後開始噴嘴洗滌處理的情況為例進行說明。因此，在噴嘴洗滌處理開始前，只打開閥V4，而關閉其它閥V2～閥V7、閥V9，並藉由切換閥V8而打開輸出部v81。並且，泵82停止。

當開始圖7的流程圖時，狹縫噴嘴2向密封構件62的上方移動，狹縫噴嘴2的噴出口21被密封構件62密封（步驟S101）。接著，打開閥V3，並且打開閥V5、閥V6。由此，在從塗布液供給源U1向除氣槽81的塗布液的供給停止的狀態下，執行對除氣槽81的空氣的壓送，因此在配管P1～配管P3及狹縫噴嘴2內所殘留的塗布液經由配管P4、配管P5而輸送至回收槽91（步驟S102）。與此同時，打開閥V7，並且打開切換閥V8的輸出部v82，將送來至回收槽91的塗布液從排水口廢棄。

接著，執行第1循環洗滌處理（步驟S103）。具體而言，開始泵82的運轉，並且打開閥V2，使來自洗滌液供給源U2的洗滌液經由配管P1～配管P3供給至狹縫噴嘴2的側面開口A1。而且，在狹縫噴嘴2中，從側面開口A1將洗滌液流入至流路F及空腔CV。這時，噴出口21被密封，所以所流入的洗滌液從側面開口A2及上表面開口A3流出，並經由配管P4、配管P5輸送至回收槽91。與此同時，打開切換閥V8的輸出部v81，而抵達至回收槽91的洗滌液經由配管P6回到配管P1。這樣一來，可以藉由在不含過濾器10的循環路徑CR中，即在第1循環系統中循環的洗滌液，來洗滌狹縫噴嘴2的流路F及空腔CV。

當所述第1循環洗滌處理完成時，使泵82停止，並且關閉閥V2、閥V7，一邊使在循環路徑CR中循環的洗滌液回收至回收槽91，一邊從空氣供給源U3將空氣（乾燥空氣）導入至配管P1～配管P5（空氣淨化（air purge））。而且，關閉閥V3而使空氣淨化停止之後，人機界面7進行通知可拆下狹縫噴嘴2的顯示（步驟S105）。

操作者收到所述通知，將狹縫噴嘴2從噴嘴支撐體51的安裝部位510拆下，對所述狹縫噴嘴2執行規定的手動操作（規定操作）（步驟S106）。所述手動操作的內容例如可舉出將狹縫噴嘴2分解成各部件21、部件23、部件25而分別對各部件進行洗滌的分解洗滌操作、對應於接下來執行的塗布處理中的塗布區域RT而更換噴嘴墊片27的墊片交換操作。當對狹縫噴嘴2的手動操作完成時，操作者將所述狹縫噴嘴2安裝於噴嘴支撐體51的安裝部位510（步驟S107）。當操作者將已安裝狹縫噴嘴2的內容輸入至人機界面7時，人機界面7進行請求將過濾器10安裝至循環路徑CR的顯示（步驟S108）。

當操作者將安裝有過濾器10的內容輸入至人機界面7時，執行第2循環洗滌處理（步驟S109）。具體而言，開始泵82的運轉，並且打開閥V7，將回收至回收槽91的洗滌液經由配管P6、配管P1～配管P3供給至狹縫噴嘴2的側面開口A1。而且，在狹縫噴嘴2中，從側面開口A1將洗滌液流入至流路F及空腔CV。這時，噴出口21被密封，因此所流入的洗滌液從側面開口A2及上表面開口A3流出，並輸送至回收槽91。這樣一來，可以藉由在具有過濾器10的循環路徑CR中，即在第2循環系統中循環的洗滌液，來洗滌狹縫噴嘴2的流路F及空腔CV。

當所述第2循環洗滌處理完成時，打開切換閥V8的輸出部v82，將回到回收槽91的洗滌液從排水口廢棄。接著，使泵82停止，並且打開切換閥V8的輸出部v81，從空氣供給源U4將空氣（乾燥空氣）導入（淨化）至配管P6、配管P1～配管P5（步驟S110）。接著，人機界面7進行請求從循環路徑CR拆下過濾器10的顯示（步驟S111）。然後，當操作者將已拆下過濾器10的內容輸入至人機界面7時，藉由一邊關閉閥V7，一邊打開閥V1、閥V3，將塗布液填充於配管P1～配管P5及狹縫噴嘴2（步驟S112）。

如以上所述，在圖7所示的噴嘴洗滌處理（噴嘴洗滌方法）中，在對狹縫噴嘴2的噴出口21進行了密封的狀態下，使洗滌液在從側面開口A2及上表面開口A3出來並回到側面開口A1的第1循環系統中循環之後（第1循環洗滌處理），從塗布裝置1的安裝部位510拆下狹縫噴嘴2。由此，操作者可以對塗布液的附著量少的比較潔淨的狹縫噴嘴2執行規定的手動操作（步驟S106）。並且，當將已執行手動操作的狹縫噴嘴2安裝於塗布裝置1的安裝部位510時，在對狹縫噴嘴2的噴出口21進行了密封的狀態下，使洗滌液在從側面開口A2及上表面開口A3出來並回到側面開口A1的第2循環系統中循環（第2循環洗滌處理）。因此，可以利用在第2循環系統中循環的洗滌液從狹縫噴嘴2的流路F及空腔CV中沖走微粒。而且，第2循環系統在側面開口A2及上表面開口A3至側面開口A1之間具有濾器10，因而可以利用過濾器10收集被沖走的微粒，從而抑制所述微粒再次回到狹縫噴嘴2的流路F或空腔CV。這樣一來，可以去除為了手動操作而從塗布裝置1拆下的狹縫噴嘴2上所附著的微粒。

此外，在所述實施方式中，在拆下狹縫噴嘴2之前的狹縫噴嘴2的洗滌（第1循環洗滌處理）中，是使洗滌液在不含過濾器10的第1循環系統中循環，與此相對，在安裝狹縫噴嘴2後的狹縫噴嘴2的洗滌（第2循環洗滌處理）中，是使洗滌液在含有過濾器10的第2循環系統中循環。如上所述分開使用過濾器10的理由之一如下。即，第1循環系統中的洗滌主要是為了利用洗滌液（溶劑）沖走固著於狹縫噴嘴2的流路F及空腔CV的內壁等之上的塗布液的成分（溶質）而執行。而且，第1循環系統中的洗滌的執行時機是在操作者執行規定操作之前，所以在第1循環系統中不存在微粒，本來就不需要過濾器10。另一方面，第2循環系統中的洗滌主要是為了去除伴隨著狹縫噴嘴2的拆下而附著於狹縫噴嘴2的流路F及空腔CV的內壁等之上的微粒而執行。如果所述微粒伴隨著洗滌液的循環而回到狹縫噴嘴2的流路F及空腔CV，那麼後來的塗布處理受到的影響就大。因此，在第1循環系統中的洗滌（第1循環洗滌處理）中藉由不使用過濾器10來抑制過濾器10的消耗，並且在第2循環系統中的洗滌（第2循環洗滌處理）中藉由使用過濾器10來收集微粒。

並且，在所述實施方式中，使黏度低於塗布液的洗滌液在循環路徑CR中循環。因此，可以使用網眼比較細的過濾器10，從而可以利用過濾器10有效率地收集微粒。

此外，在所述實施方式中，藉由一邊對狹縫噴嘴2的噴出口21進行密封，一邊使洗滌液循環而進行狹縫噴嘴2的洗滌，換言之，在噴嘴洗滌中循環利用洗滌液。因此，可以抑制洗滌液的消耗。

此外，使在第1循環洗滌處理（步驟S103）中循環的洗滌液在第2循環洗滌處理（步驟pS109）中循環。如上所述藉由在第1循環洗滌處理中的洗滌與第2循環洗滌處理中的洗滌中共用洗滌液，可以更有效地抑制洗滌液的消耗。

並且，包括在第1循環洗滌處理（步驟S103）之後，並且從安裝部位510拆下狹縫噴嘴2之前，將乾燥空氣導入至循環路徑CR的步驟S104。在所述構成中，可以在利用導入至循環路徑CR的氣體推出狹縫噴嘴2的流路F及空腔CV的洗滌液之後，拆下狹縫噴嘴2。其結果為，操作者可以對經乾燥的狹縫噴嘴2進行手動操作。

並且，包括在第2循環洗滌處理之後，將乾燥空氣導入至循環路徑CR的步驟S110。在所述構成中，可以藉由導入至循環路徑CR的乾燥空氣來推出狹縫噴嘴2的流路F及空腔CV的洗滌液。其結果為，可以抑制殘留於狹縫噴嘴2的流路F及空腔CV內的洗滌液對後來執行的塗布處理產生影響。

並且，在所述實施方式中，塗布液包含聚醯亞胺前體及溶劑，洗滌液是塗布液的溶劑。如上所述包含聚醯亞胺前體的塗布液具有高黏度，所以容易固著於狹縫噴嘴2的流路F及空腔CV的內壁上。因此，只藉由如專利文獻1中所述的洗滌還不夠，非常需要藉由手動操作進行洗滌。因此，容易產生手動操作時微粒附著之類的問題。因此，如圖7所示，特別較佳的是在安裝狹縫噴嘴2之後，使洗滌液（溶劑）在具有過濾器10的循環路徑CR（第2循環系統）中循環，借此從狹縫噴嘴2的流路F及空腔CV去除微粒。

圖8是示意性地表示塗布裝置所含的處理液供給系統的第2例的圖。以下，設為以與圖6所示的第1例的不同點為中心進行說明，關於共同點標注相同的符號並適當省略說明。但是，當然，因為具備與第1例共同的構成，所以獲得與第1例相同的效果。

圖8的第2例與圖6的第1例不同點在於循環路徑CR的構成。即，在第2例的循環路徑CR中，在切換閥V8與過濾器10之間在配管P6上安裝有切換閥V10。所述切換閥V10是選擇性地打開兩個輸出v101、輸出v102之中的一者的三通閥。而且，切換閥V10的兩個輸出v101、輸出v102之中，將輸出v101通過配管P8連接於過濾器10的輸出側，將輸出v102連接於過濾器10的輸入側。

因此，當打開切換閥V10的輸出v101時，從回收槽91壓出至配管P6的處理液繞開過濾器10而回到供給機構8的配管P1。另一方面，當打開切換閥V10的輸出v102時，從回收槽91壓出至配管P6的處理液穿過過濾器10之後回到供給機構8的配管P1。如上所述，循環路徑CR（循環系統）包含第1路徑CR1及第2路徑CR2，作為從狹縫噴嘴2的側面開口A2及上表面開口A3出來並回到狹縫噴嘴2的側面開口A1的路徑。在這裡，第1路徑CR1是從狹縫噴嘴2的側面開口A2及上表面開口A3出來並且不經由（繞開）過濾器10而回到狹縫噴嘴2的側面開口A1的路徑，第2路徑CR2是從狹縫噴嘴2的側面開口A2及上表面開口A3出來並且穿過過濾器10之後回到狹縫噴嘴2的側面開口A1的路徑。

在所述構成的處理液供給系統S中，可以不對過濾器10進行拆裝，而對切換閥V10的輸出在輸出v101與輸出v102之間進行切換，來執行圖7的噴嘴洗滌方法。即，在步驟S103的第1循環洗滌處理中，藉由打開切換閥V10的輸出v101，來使洗滌液在第1路徑CR1中循環。由此，可以使洗滌液在不含過濾器10的第1循環系統中循環，來對狹縫噴嘴2的流路F及空腔CV進行洗滌。並且，在步驟S109的第2循環洗滌處理中，藉由打開切換閥V10的輸出v102，來使洗滌液在第2路徑CR2中循環。由此，可以使洗滌液在包含過濾器10的第2循環系統中循環，來對狹縫噴嘴2的空腔CV進行洗滌。

圖9是示意性地表示塗布裝置所含的處理液供給系統的第3例的圖。以下，設為以與圖6所示的第1例的不同點為中心進行說明，關於共同點則標注相同符號並適當省略說明。但是，當然，因為具備與第1例共同的構成，所以獲得與第1例相同的效果。

圖9的第3例與圖6的第1例的不同點在於在閥V4與狹縫噴嘴2的側面開口A1之間，配管P3通過配管P9與狹縫噴嘴2的側面開口A2連接。並且，第1例中所設置的閥V5及配管P4在第3例中並不存在。即，從歧管83的輸出部832輸出的塗布液是經由閥V4供給至側面開口A1及側面開口A2。因此，在執行塗布處理時的狹縫噴嘴2中，從側面開口A1及側面開口A2流入至流路F的塗布液擴散至空腔CV，而從噴出口21噴出。另一方面，在執行圖7的第1循環洗滌處理（步驟S103）或第2循環洗滌處理（步驟S109）時的狹縫噴嘴2中，是從上表面開口A3排出從側面開口A1及側面開口A2流入至流路F的洗滌液。

如上所述在所述實施方式中，塗布裝置1相當於本發明的“塗布裝置”的一例，狹縫噴嘴2相當於本發明的“噴嘴”的一例，噴出口21相當於本發明的“噴出口”的一例，第1例（圖6）的側面開口A1、第2例（圖8）的側面開口A1、第3例（圖9）的側面開口A1及側面開口A2分別相當於本發明的“供給口”的一例，第1例（圖6）的側面開口A2、上表面開口A3、第2例（圖8）的側面開口A2、上表面開口A3及第3例（圖9）的上表面開口A3分別相當於本發明的“排出口”的一例，流路F及空腔CV相當於本發明的“內部空間”的一例，噴嘴支撐體51相當於本發明的“噴嘴支撐部”的一例，安裝部位510相當於本發明的“安裝部位”的一例，處理液供給系統S相當於本發明的“洗滌液循環元件”的一例，循環路徑CR相當於本發明的“循環路徑”的一例，第2例（圖8）的第1路徑CR1相當於本發明的“第1路徑”的一例，第2路徑CR2相當於本發明的“第2路徑”的一例，配管P1～配管P6相當於本發明的“配管”的一例，泵82相當於本發明的“輸送部”的一例，過濾器10相當於本發明的“過濾器”的一例，密封構件62相當於本發明的“密封元件”的一例，基板3相當於本發明的“對象物”的一例，乾燥空氣相當於本發明的“氣體”的一例。

再者，本發明並不限定於所述實施方式，只要不脫離其主旨，除了所述方式以外還可以進行各種變更。例如，在所述實施方式中，將在第1循環洗滌處理（步驟S103）中已使用的洗滌液在第2循環洗滌處理（步驟S109）中再利用。但是，也可以將在第1循環洗滌處理中已使用的洗滌液在第1循環洗滌處理結束後加以廢棄，在第2循環洗滌處理中使用新的洗滌液。

並且，使塗布液或處理液在循環路徑CR中循環的驅動源即泵82的具體構成可想到各種。因此，也可以將以上所例示的管式泵以外的種類的泵用作所述驅動源。

並且，在步驟S104、步驟S110中導入至循環路徑CR的氣體的種類並不限於乾燥空氣，還可以例如是氮氣等。

並且，可以用作洗滌液的液體並不限於塗布液的溶劑，即NMP。因此，還可以將例如稀釋劑（thinner）等其它液體用作洗滌液。

並且，能夠用作塗布液的液體並不限於包含聚醯亞胺前體及NMP的物質。因此，可以使用成為耐蝕刻被膜的光阻液、彩色濾光片用光阻液、包含矽、納米金屬油墨（nanometal ink）或導電性材料的漿料（漿糊）等各種塗布液。

此外，關於成為塗布對象的基板3，也可以使用液晶顯示裝置用玻璃基板、半導體基板、PDP用玻璃基板、光掩膜用玻璃基板、彩色濾光片用基板、記錄磁盤用基板、太陽能電池用基板、電子紙用基板等精密電子裝置用基板、矩形玻璃基板、薄膜液晶用柔性基板、有機EL用基板等各種基板。 [產業上的可利用性]

本發明可以應用於去除附著於噴嘴上的微粒的所有噴嘴清掃技術。

1‧‧‧塗布裝置

2‧‧‧狹縫噴嘴

2a‧‧‧下端部

3‧‧‧基板

4‧‧‧平臺

5‧‧‧塗布處理部

6‧‧‧噴嘴維護單元

7‧‧‧人機界面

8‧‧‧供給機構

9‧‧‧排出機構

10‧‧‧過濾器

21‧‧‧噴出口

23、25‧‧‧噴嘴主體

23a、25a‧‧‧下端部

23b、25b‧‧‧上端部

27‧‧‧噴嘴墊片

31‧‧‧表面

41‧‧‧保持面

51‧‧‧噴嘴支撐體

51a‧‧‧支撐構件

51b‧‧‧升降機構

52‧‧‧導軌

53‧‧‧狹縫噴嘴移動部

54‧‧‧線性馬達

54a‧‧‧定子

54b‧‧‧動子

55‧‧‧線性編碼器

55a‧‧‧刻度部

55b‧‧‧檢測部

61‧‧‧待機點

62‧‧‧密封構件

63‧‧‧噴嘴清掃裝置

81‧‧‧除氣槽

82‧‧‧減壓泵

83‧‧‧歧管（manifold）

91‧‧‧回收槽

100‧‧‧控制部

271‧‧‧上邊部

272‧‧‧側邊部

510‧‧‧安裝部位

631‧‧‧刮板

811、822、832、833、911‧‧‧輸出部

821、831‧‧‧輸入部

A1‧‧‧側面開口

A2‧‧‧側面開口

A3‧‧‧上表面開口

CR‧‧‧循環路徑

CR1‧‧‧第1路徑

CR2‧‧‧第2路徑

CV‧‧‧空腔

F‧‧‧流路

Fa‧‧‧橫孔部

Fb‧‧‧縱孔部

G1、G2‧‧‧壓力計

P1～P9‧‧‧配管

RA‧‧‧噴嘴調整區域

RT‧‧‧塗布區域

S‧‧‧處理液供給系統

U1、U2‧‧‧塗布液供給源

U3、U4‧‧‧空氣供給源

V1～V7、V9‧‧‧閥

V8、V10‧‧‧切換閥

v81、v82‧‧‧輸出部

v101、v102‧‧‧輸出

S101～S112‧‧‧步驟

圖1是示意性地表示本發明的塗布裝置的立體圖。 圖2是示意性地表示圖1所示的塗布裝置的側視圖。 圖3是概略性地表示圖1所示的塗布裝置的各部的配置的俯視圖。 圖4是示意性地表示狹縫噴嘴的立體圖。 圖5是示意性地表示圖4的狹縫噴嘴的分解構造的立體圖。 圖6是示意性地表示塗布裝置所含的處理液供給系統的第1例的圖。 圖7是表示塗布裝置中所執行的噴嘴洗滌處理的一例的流程圖。 圖8是示意性地表示塗布裝置所含的處理液供給系統的第2例的圖。 圖9是示意性地表示塗布裝置所含的處理液供給系統的第3例的圖。

Claims (7)

1. 一種噴嘴洗滌方法，其特徵在於包括如下工程： 在對安裝於塗布裝置的安裝部位的噴嘴的噴出口進行了密封的狀態下，使黏度低於塗布液的洗滌液在從所述噴嘴的排出口出來並回到所述噴嘴的供給口的第1循環系統中循環，所述塗布裝置的所述噴嘴具有與內部空間連通的所述供給口、所述噴出口、所述排出口，所述噴嘴相對於所述安裝部位可拆裝，從安裝於所述安裝部位的所述噴嘴的所述供給口向所述內部空間供給塗布液並將從所述噴嘴的所述噴出口噴出的所述塗布液塗布於對象物； 從所述安裝部位拆下藉由所述第1循環系統中的所述洗滌液的循環而洗滌的所述噴嘴，對所述噴嘴執行規定操作之後，將所述噴嘴安裝於所述安裝部位；以及 在對執行所述規定操作而安裝於所述安裝部位的所述噴嘴的所述噴出口進行了密封的狀態下，使所述洗滌液在從所述排出口出來並回到所述供給口並且在所述排出口到所述供給口之間具有過濾器的第2循環系統中循環。
2. 如申請專利範圍第1項所述的噴嘴洗滌方法，其中使已在所述第1循環系統中循環的洗滌液在所述第2循環系統中循環。
3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的噴嘴洗滌方法，其中更包括如下工程：所述洗滌液在所述第1循環系統中循環之後，從所述安裝部位拆下所述噴嘴之前，將氣體導入至所述第1循環系統。
4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的噴嘴洗滌方法，其中更包括如下工程：所述洗滌液在所述第2循環系統中循環之後，將氣體導入至所述第2循環系統。
5. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的噴嘴洗滌方法，其中所述塗布液包含聚醯亞胺前體及溶劑，所述洗滌液是所述溶劑。
6. 一種塗布裝置，其特徵在於包括： 噴嘴，具有與內部空間連通的供給口、狹縫狀的噴出口及排出口，使從所述供給口供給至所述內部空間的塗布液從所述噴出口噴出； 噴嘴支撐部，將所述噴嘴可拆裝地支撐於安裝部位； 洗滌液循環元件，包括構成從所述排出口出來並回到所述供給口的循環路徑的配管、設置於所述配管而使黏度低於所述塗布液的洗滌液在所述循環路徑中循環的輸送部、以及相對於所述配管可拆裝的過濾器；以及 密封元件，能夠對所述噴嘴的所述噴出口進行密封；並且 所述噴嘴藉由在所述密封元件未密封所述噴出口的狀態下從所述噴出口噴出所述塗布液，而將所述塗布液塗布於對象物， 所述洗滌液循環元件能夠選擇性地執行如下動作:在所述噴出口被所述密封元件密封並且從所述配管拆下了所述過濾器的狀態下使所述洗滌液在所述循環路徑中循環的動作、以及在所述噴出口被所述密封元件密封並且在所述配管上安裝有所述過濾器的狀態下使所述洗滌液在所述循環路徑中循環的動作。
7. 一種塗布裝置，其特徵在於包括： 噴嘴，具有與內部空間連通的供給口、狹縫狀的噴出口及排出口，使從所述供給口供給至所述內部空間的塗布液從所述噴出口噴出； 噴嘴支撐部，將所述噴嘴可拆裝地支撐於安裝部位； 洗滌液循環元件，包括構成從所述排出口出來並回到所述供給口的循環路徑的配管、設置於所述配管並使黏度低於所述塗布液的洗滌液在所述循環路徑中循環的輸送部、以及相對於所述配管而安裝的過濾器；以及 密封元件，能夠密封所述噴嘴的所述噴出口；並且 所述噴嘴藉由在所述密封元件未密封所述噴出口的狀態下從所述噴出口噴出所述塗布液，而將所述塗布液塗布於對象物， 所述循環路徑包括：第1路徑，從所述排出口出來並且不經由所述過濾器而回到所述供給口；以及第2路徑，從所述排出口出來並且穿過所述過濾器之後回到所述供給口； 所述洗滌液循環元件能夠選擇性地執行如下動作:在所述噴出口被所述密封元件密封的狀態下使所述洗滌液在所述第1路徑中循環的動作、以及在所述噴出口被所述密封元件密封的狀態下使所述洗滌液在所述第2路徑中循環的動作。