TWI647709B - Manufacturing method of connecting structure - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種可將焊料粒子有效率地配置於電極上，而可提高電極間之導通可靠性之連接構造體之製造方法。
本發明之連接構造體之製造方法包括：將含有複數個焊料粒子與熱硬化性成分之導電糊配置於第1連接對象構件之表面上之步驟；將第2連接對象構件以第1電極與第2電極相對向之方式配置於上述導電糊之與上述第1連接對象構件側相反之表面上之步驟；藉由對上述導電糊進行加熱，而利用上述導電糊形成連接上述第1連接對象構件與上述第2連接對象構件之連接部之步驟，並且於配置上述第2連接對象構件之步驟及形成上述連接部之步驟中，不進行加壓，而在上述導電糊上施加上述第2連接對象構件之重量。

Description

連接構造體之製造方法
本發明係關於一種利用焊料粒子將電極間進行電性連接之連接構造體之製造方法。
各向異性導電糊及各向異性導電膜等各向異性導電材料已廣為人知。在上述各向異性導電材料中，於黏合劑樹脂中分散有導電性粒子。
為了獲得各種連接構造體，而將上述各向異性導電材料用於例如軟性印刷基板與玻璃基板之連接(FOG(Film on Glass，鍍膜玻璃))、半導體晶片與軟性印刷基板之連接(COF(Chip on Film，薄膜覆晶))、半導體晶片與玻璃基板之連接(COG(Chip on Glass，玻璃覆晶))、以及軟性印刷基板與環氧玻璃基板之連接(FOB(Film on Board，鍍膜板))等。
於利用上述各向異性導電材料將例如軟性印刷基板之電極與環氧玻璃基板之電極進行電性連接時，係將含有導電性粒子之各向異性導電材料配置於環氧玻璃基板上。其次，積層軟性印刷基板，並進行加熱及加壓。藉此，使各向異性導電材料硬化，經由導電性粒子將電極間進行電性連接，而獲得連接構造體。
作為上述各向異性導電材料之一例，下述專利文獻1中揭示有包含含有熱硬化性樹脂之樹脂層、焊料粉、及硬化劑，且上述焊料粉與上述硬化劑存在於上述樹脂層中之接著帶。該接著帶為膜狀，而非糊 狀。
又，專利文獻1中揭示有使用上述接著帶之接著方法。具體而言，自下而上依序積層第一基板、接著帶、第二基板、接著帶、及第三基板而獲得積層體。此時，使設置於第一基板之表面之第一電極與設置於第二基板之表面之第二電極相對向。又，使設置於第二基板之表面之第二電極與設置於第三基板之表面之第三電極相對向。然後，以特定溫度對積層體進行加熱而接著。藉此，獲得連接構造體。
又，專利文獻1中記載有就擠壓焊料粉使其流至電極表面並效率良好地移動之觀點而言，較佳為於接著時以特定壓力進行加壓，且記載有就進一步確實地形成焊料區域之觀點而言，加壓壓力例如設為0MPa以上，較佳為設為1MPa以上，進而記載有對接著帶刻意施加之壓力可為0MPa，亦可藉由配置於接著帶上之構件之自身重量對接著帶施加特定之壓力。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]WO2008/023452A1
專利文獻1中所記載之接著帶為膜狀，而非糊狀。因此，難以將焊料粉有效率地配置於電極(線)上。例如，於專利文獻1中所記載之接著帶中，亦容易將焊料粉之一部分配置於未形成有電極之區域(間隔)。配置於未形成有電極之區域之焊料粉無助於電極間之導通。
又，專利文獻1中記載有對接著帶刻意施加之壓力可為0MPa，但關於賦予超過0MPa之壓力之情形與設為0MPa之情形之效果之差異，並無任何記載。
本發明之目的在於提供一種可將焊料粒子有效率地配置於電極 上，而可提高電極間之導通可靠性之連接構造體之製造方法。
根據本發明之廣義態樣，提供一種連接構造體之製造方法，其包括：使用含有複數個焊料粒子與熱硬化性成分之導電糊，於表面具有至少1個第1電極之第1連接對象構件之表面上配置上述導電糊之步驟；將表面具有至少1個第2電極之第2連接對象構件以上述第1電極與上述第2電極相對向之方式配置於上述導電糊之與上述第1連接對象構件側相反之表面上之步驟；藉由將上述導電糊加熱至上述焊料粒子之熔點以上且上述熱硬化性成分之硬化溫度以上，而利用上述導電糊形成連接上述第1連接對象構件與上述第2連接對象構件之連接部之步驟，並且於配置上述第2連接對象構件之步驟及形成上述連接部之步驟中，不進行加壓，而對上述導電糊施加上述第2連接對象構件之重量。
於本發明之連接構造體之製造方法之某特定態樣中，上述第2連接對象構件為樹脂膜、軟性印刷基板、軟性扁平電纜、或剛性軟性基板。
於本發明之連接構造體之製造方法之某特定態樣中，將上述第1電極與上述第2電極相對向之位置之上述連接部之距離設為3μm以上、40μm以下。
於本發明之連接構造體之製造方法之某特定態樣中，於上述連接部中，將上述第1電極與上述第2電極相對向之部分之大小設為上述第1電極與上述第2電極未對向之部分之大小之2倍以上、40倍以下。
於本發明之導電糊之某特定態樣中，25℃下之黏度為10Pa‧s以上、800Pa‧s以下。
於本發明之導電糊之某特定態樣中，於上述焊料粒子之熔點以下之溫度範圍條件下之黏度之最低值為0.1Pa‧s以上、10Pa‧s以 下。
於本發明之連接構造體之製造方法之某特定態樣中，上述連接部具有角部，上述第1連接對象構件於上述角部之內側具有位置對準用之第1電極作為上述第1電極，上述第2連接對象構件於上述角部之內側具有位置對準用之第2電極作為上述第2電極，上述位置對準用之第1電極及上述位置對準用之第2電極與上述角部之前端之最短距離為75μm以上、3000μm以下。
於本發明之連接構造體之製造方法之某特定態樣中，上述第1連接對象構件具有複數個具有長度方向與寬度方向之第1主電極作為上述第1電極，上述第2連接對象構件具有複數個具有長度方向與寬度方向之第2主電極作為上述第2電極，於將上述第1主電極之長度方向及寬度方向上之上述第1連接對象構件之線膨脹率與上述第2主電極之長度方向及寬度方向上之上述第2連接對象構件之線膨脹率的差設為C(ppm/℃)、將形成上述連接部時之上述導電糊之加熱溫度設為T(℃)、將上述第1主電極之寬度方向上複數個上述第1主電極整體之尺寸設為Yt(mm)、將複數個上述第1主電極之每個電極於寬度方向上之尺寸設為Ya(mm)時，滿足式：C×T/1000000×Yt<0.5×Ya。
本發明之連接構造體之製造方法包括：使用含有複數個焊料粒子與熱硬化性成分之導電糊，於表面具有至少1個第1電極之第1連接對象構件之表面上配置上述導電糊之步驟；將表面具有至少1個第2電極之第2連接對象構件以上述第1電極與上述第2電極相對向之方式配置於上述導電糊之與上述第1連接對象構件側相反之表面上之步驟；藉由將上述導電糊加熱至上述焊料粒子之熔點以上及上述熱硬化性成分之硬化溫度以上，而利用上述導電糊形成連接上述第1連接對象構件與上述第2連接對象構件之連接部之步驟；並且於配置上述第2連接 對象構件之步驟及形成上述連接部之步驟中，不進行加壓，而對上述導電糊施加上述第2連接對象構件之重量，因此可將焊料粒子有效率地配置於電極上，而可提高電極間之導通可靠性。
1‧‧‧連接構造體
1X‧‧‧連接構造體
2‧‧‧第1連接對象構件
2a‧‧‧第1電極
3‧‧‧第2連接對象構件
3a‧‧‧第2電極
4‧‧‧連接部
4A‧‧‧焊料部
4B‧‧‧硬化物部
4X‧‧‧連接部
4XA‧‧‧焊料部
4XB‧‧‧硬化物部
11‧‧‧導電糊
11A‧‧‧焊料粒子
11B‧‧‧熱硬化性成分
51‧‧‧連接構造體
51X‧‧‧連接構造體
51Y‧‧‧連接構造體
52‧‧‧第1連接對象構件
52a‧‧‧第1電極
52aa‧‧‧位置對準用之第1電極
52ab‧‧‧第1主電極
52X‧‧‧第1連接對象構件
52Y‧‧‧第1連接對象構件
53‧‧‧第2連接對象構件
53a‧‧‧第2電極
53aa‧‧‧位置對準用之第2電極
53ab‧‧‧第2主電極
53X‧‧‧第2連接對象構件
53Y‧‧‧第2連接對象構件
54‧‧‧連接部
54A‧‧‧焊料部
54B‧‧‧硬化物部
54X‧‧‧連接部
54XA‧‧‧焊料部
54XB‧‧‧硬化物部
54Y‧‧‧連接部
54YA‧‧‧焊料部
54YB‧‧‧硬化物部
C‧‧‧角部
Yt‧‧‧第1主電極整體之尺寸
Ya‧‧‧第1主電極之每個電極於寬度方向上之尺寸
圖1係模式性地表示藉由本發明之一實施形態之連接構造體之製造方法而獲得之連接構造體之部分缺欠正視剖面圖。
圖2(a)~(c)係用以說明本發明之一實施形態之連接構造體之製造方法之各步驟的剖視圖。
圖3(a)係表示連接構造體之變化例之俯視圖，圖3(b)係沿圖3(a)之I-I線之剖視圖。
圖4(a)係表示連接構造體之變化例之俯視圖，圖4(b)係沿圖4(a)之I-I線之剖視圖，圖4(c)係沿圖4(a)之II-II線之剖視圖。
圖5(a)係表示連接構造體之變化例之俯視圖，圖5(b)係沿圖5(a)之I-I線之剖視圖。
圖6係表示連接構造體之變化例之部分缺欠正視剖面圖。
圖7(a)、(b)及(c)係表示本發明之實施形態所包括之連接構造體之一例的圖像，圖7(a)及(b)為剖面圖像，圖7(c)為平面圖像。
圖8(a)、(b)及(c)係表示本發明之實施形態不包括之連接構造體之一例的圖像，圖8(a)及(b)為剖面圖像，圖8(c)為平面圖像。
以下，對本發明之詳細內容進行說明。
於本發明之連接構造體之製造方法中，使用導電糊、第1連接對象構件、及第2連接對象構件。本發明之連接構造體之製造方法所使用之導電材料為導電糊而非導電膜。上述導電糊含有複數個焊料粒子、與熱硬化性成分。上述第1連接對象構件於表面具有至少1個第1電極。上述第2連接對象構件於表面具有至少1個第2電極。
本發明之連接構造體之製造方法包括如下步驟：將上述導電糊配置於上述第1連接對象構件之表面上之步驟；將上述第2連接對象構件以上述第1電極與上述第2電極相對向之方式配置於上述導電糊之與上述第1連接對象構件側相反之表面上之步驟；藉由將上述導電糊加熱至上述焊料粒子之熔點以上及上述熱硬化性成分之硬化溫度以上，而利用上述導電糊形成連接上述第1連接對象構件與上述第2連接對象構件之連接部之步驟。於本發明之連接構造體之製造方法中，於配置上述第2連接對象構件之步驟及形成上述連接部之步驟中，不進行加壓，而對上述導電糊施加上述第2連接對象構件之重量。於本發明之連接構造體之製造方法中，於配置上述第2連接對象構件之步驟及形成上述連接部之步驟中，對於上述導電糊，不施加超過上述第2連接對象構件之重量之力之加壓壓力。
於本發明之連接構造體之製造方法中，由於採用上述構成，因此複數個焊料粒子容易聚集於第1電極與第2電極之間，而可將複數個焊料粒子有效率地配置於電極(線)上。又，難以使複數個焊料粒子之一部分配置於未形成有電極之區域(間隔)，而可使配置於未形成有電極之區域之焊料粒子之量非常少。因此，可提高第1電極與第2電極間之導通可靠性。並且可防止不可連接之橫向鄰接之電極間之電性連接，而可提高絕緣可靠性。
如上所述，本發明者等人發現，為了將複數個焊料粒子有效率地配置於電極上，且使配置於未形成有電極之區域之焊料粒子之量非常少，需使用導電糊而非導電膜。進而，本發明者等人發現，於配置上述第2連接對象構件之步驟及形成上述連接部之步驟中，若不進行加壓，而對上述導電糊施加上述第2連接對象構件之重量，則於形成連接部前配置於未形成有電極之區域(間隔)之焊料粒子變得進一步容易聚集於第1電極與第2電極之間，而可將複數個焊料粒子有效率地配 置於電極(線)上。於本發明中，組合採用使用導電糊而非導電膜的構成、及不進行加壓而對上述導電糊施加上述第2連接對象構件之重量之構成，對獲得本發明之效果而言具有較大之意義。
又，若使用導電糊而非導電膜，則亦可根據導電糊之塗佈量，而適當調整連接部之厚度。另一方面，導電膜存在如下問題：為了改變或調整連接部之厚度，必須準備不同厚度之導電膜，或者準備特定厚度之導電膜。
以下，一面參照圖式，一面對本發明之具體之實施形態及實施例進行說明，藉此使本發明變得明確。
首先，圖1中以部分缺欠正視剖面圖模式性地表示藉由本發明之一實施形態之連接構造體之製造方法而獲得之連接構造體。
圖1所示之連接構造體1具備第1連接對象構件2、第2連接對象構件3、及連接第1連接對象構件2與第2連接對象構件3之連接部4。連接部4係藉由含有複數個焊料粒子與熱硬化性成分之導電糊所形成。連接部4具有複數個焊料粒子聚集並互相接合而成之焊料部4A、及使熱硬化性成分進行熱硬化而成之硬化物部4B。
第1連接對象構件2於表面(上表面)具有複數個第1電極2a。第2連接對象構件3於表面(下表面)具有複數個第2電極3a。第1電極2a與第2電極3a利用焊料部4A而電性連接。因此，第1連接對象構件2與第2連接對象構件3利用焊料部4A而電性連接。再者，於連接部4，於與聚集於第1電極2a與第2電極3a間之焊料部4A不同之區域(硬化物部4B部分)不存在焊料。於與焊料部4A不同之區域(硬化物部4B部分)不存在與焊料部4A分離之焊料。再者，若為少量，則亦可於與聚集於第1電極2a與第2電極3a間之焊料部4A不同之區域(硬化物部4B部分)存在焊料。
如圖1所示，於連接構造體1中，複數個焊料粒子熔融後，焊料 粒子之熔融物於電極之表面潤濕擴散後固化，而形成焊料部4A。因此，焊料部4A與第1電極2a、及焊料部4A與第2電極3a之連接面積增大。即，藉由使用焊料粒子，與使用導電性外表面為鎳、金或銅等金屬之導電性粒子之情形相比，焊料部4A與第1電極2a、及焊料部4A與第2電極3a之接觸面積增大。因此，連接構造體1之導通可靠性及連接可靠性提高。再者，導電糊亦可含有助焊劑。於使用助焊劑之情形時，助焊劑通常會因加熱而逐漸失活。
再者，於圖1所示之連接構造體1中，焊料部4A全部位於第1、第2電極2a、3a間之相對向之區域。圖6所示之變化例之連接構造體1X中，僅連接部4X不同於圖1所示之連接構造體1。連接部4X具有焊料部4XA與硬化物部4XB。如連接構造體1X般，亦可為焊料部4XA之大部分位於第1、第2電極2a、3a相對向之區域，而焊料部4XA之一部分自第1、第2電極2a、3a相對向之區域向側向伸出。自第1、第2電極2a、3a相對向之區域向側向伸出之焊料部4XA係焊料部4XA之一部分，並非與焊料部4XA分離之焊料。再者，於本實施形態中，可使與焊料部分離之焊料之量較少，但與焊料部分離之焊料亦可存在於硬化物部中。
若減少焊料粒子之使用量，則變得容易獲得連接構造體1。若增多焊料粒子之使用量，則變得容易獲得連接構造體1X。
其次，對用以獲得圖1所示之連接構造體1的本發明之一實施形態之連接構造體之製造方法進行說明。
首先，準備表面(上表面)具有第1電極2a之第1連接對象構件2。其次，如圖2(a)所示，於第1連接對象構件2之表面上配置含有複數個焊料粒子11A與熱硬化性成分11B之導電糊11(第1步驟)。於第1連接對象構件2之設置有第1電極2a之表面上配置導電糊11。於配置導電糊11後，焊料粒子11A被配置於第1電極2a(線)上、及未形成有第1電極2a 之區域(間隔)上之兩者。
作為導電糊11之配置方法，並無特別限定，可列舉利用分注器所進行之塗佈、網版印刷、及利用噴墨裝置所進行之噴出等。
又，準備表面(下表面)具有第2電極3a之第2連接對象構件3。其次，如圖2(b)所示，於第1連接對象構件2之表面上之導電糊11中，於導電糊11之與第1連接對象構件2側相反之側之表面上配置第2連接對象構件3(第2步驟)。於導電糊11之表面上，自第2電極3a側起配置第2連接對象構件3。此時，使第1電極2a與第2電極3a相對向。
其次，將導電糊11加熱至焊料粒子11A之熔點以上及熱硬化性成分11B之硬化溫度以上(第3步驟)。即，將導電糊11加熱至焊料粒子11A之熔點及熱硬化性成分11B之硬化溫度中相對較低之溫度以上。於該加熱時，未形成有電極之區域所存在之焊料粒子11A會聚集於第1電極2a與第2電極3a之間(自凝集效應)。於本實施形態中，由於使用導電糊而非導電膜，因此焊料粒子11A有效地聚集於第1電極2a與第2電極3a之間。又，焊料粒子11A熔融而互相接合。又，熱硬化性成分11B發生熱硬化。其結果為，如圖2(c)所示，利用導電糊11而形成連接第1連接對象構件2與第2連接對象構件3之連接部4。利用導電糊11而形成連接部4，利用複數個焊料粒子11A進行接合而形成焊料部4A，利用熱硬化性成分11B進行熱硬化而形成硬化物部4B。若焊料粒子11A迅速移動，則自未位於第1電極2a與第2電極3a之間之焊料粒子11A開始移動起，直至第1電極2a與第2電極3a之間焊料粒子11A之移動結束為止，亦可不將溫度保持為固定。
又，亦可於第3步驟之前半段設置預加熱步驟。該所謂預加熱步驟係指於對導電糊11施加第2連接對象構件3之重量之狀態下，於焊料之熔融溫度以上、實質上熱硬化性成分11B不發生熱硬化之溫度下，進行5秒至60秒之加熱之步驟。藉由設置該步驟，使焊料粒子聚集於 第1電極與第2電極之間之作用進一步提高，同時可抑制有可能產生於第1連接對象構件與第2連接對象構件之間的孔隙。
於本實施形態中，於上述第2步驟及上述第3步驟中不進行加壓。於本實施形態中，係對導電糊11施加第2連接對象構件3之重量。因此，於形成連接部4時，焊料粒子11A有效地聚集於第1電極2a與第2電極3a之間。再者，若於上述第2步驟及上述第3步驟中之至少一者中進行加壓，則使焊料粒子聚集於第1電極與第2電極之間之作用受到阻礙。該情況係由本發明者等人所發現。
如此而獲得圖1所示之連接構造體1。再者，上述第2步驟與上述第3步驟可連續進行。又，亦可於進行上述第2步驟後，將所獲得之第1連接對象構件2與導電糊11與第2連接對象構件3之積層體移動至加熱部，再進行上述第3步驟。為了進行上述加熱，可將上述積層體配置於加熱構件上，亦可將上述積層體配置於經加熱之空間內。
就進一步提高導通可靠性之觀點而言，較佳為獲得如下所述之連接構造體1、1X，即於連接構造體1、1X中，於沿第1電極2a、連接部4及第2電極3a之積層方向觀察第1電極2a與第2電極3a之互相對向之部分時，於第1電極2a與第2電極3a之互相對向部分之面積100%中之50%以上配置有連接部4、4X中之焊料部4A、4XA。
上述第3步驟中之加熱溫度只要為焊料粒子之熔點以上及熱硬化性成分之硬化溫度以上，則並無特別限定。上述加熱溫度較佳為130℃以上，更佳為160℃以上，且較佳為450℃以下，更佳為250℃以下，進而較佳為200℃以下。
上述預加熱步驟之溫度較佳為100℃以上，更佳為120℃以上，進而較佳為140℃以上，且較佳為未達160℃，更佳為150℃以下。
再者，上述第1連接對象構件具有至少1個第1電極即可。上述第1連接對象構件較佳為具有複數個第1電極。上述第2連接對象構件具 有至少1個第2電極即可。上述第2連接對象構件較佳為具有複數個第2電極。
上述第1、第2連接對象構件並無特別限定。作為上述第1、第2連接對象構件，具體而言，可列舉：半導體晶片、電容器及二極體等電子零件；以及樹脂膜、印刷基板、軟性印刷基板、軟性扁平電纜、剛性軟性基板、環氧玻璃基板及玻璃基板等電路基板等電子零件等。上述第1、第2連接對象構件較佳為電子零件。
較佳為上述第1連接對象構件及上述第2連接對象構件中之至少一者為樹脂膜、軟性印刷基板、軟性扁平電纜或剛性軟性基板。較佳為上述第2連接對象構件為樹脂膜、軟性印刷基板、軟性扁平電纜或剛性軟性基板。樹脂膜、軟性印刷基板、軟性扁平電纜及剛性軟性基板具有柔軟性較高、相對輕量之性質。於將導電膜用於此種連接對象構件之連接之情形時，有焊料粒子難以聚集於電極上之傾向。相對於此，於本發明中由於使用導電糊，故而即便使用樹脂膜、軟性印刷基板、軟性扁平電纜或剛性軟性基板，亦可使焊料粒子有效率地聚集於電極上，而可充分提高電極間之導通可靠性。於使用樹脂膜、軟性印刷基板、軟性扁平電纜或剛性軟性基板之情形時，與使用半導體晶片等其他連接對象構件之情形相比，可更有效地獲得因不進行加壓引起之電極間之導通可靠性之提高效果。上述第1、第2連接對象構件可為樹脂膜、軟性印刷基板或軟性扁平電纜，亦可為剛性軟性基板。
作為設置於上述連接對象構件之電極，可列舉金電極、鎳電極、錫電極、鋁電極、銅電極、銀電極、鉬電極、SUS電極及鎢電極等金屬電極。於上述連接對象構件為軟性印刷基板或軟性扁平電纜之情形時，上述電極較佳為金電極、鎳電極、錫電極、銀電極或銅電極。於上述連接對象構件為玻璃基板之情形時，上述電極較佳為鋁電極、銅電極、鉬電極、銀電極或鎢電極。再者，於上述電極為鋁電極 之情形時，可為僅由鋁形成之電極，亦可為於金屬氧化物層之表面積層有鋁層之電極。作為上述金屬氧化物層之材料，可列舉摻雜有三價金屬元素之氧化銦及摻雜有三價金屬元素之氧化鋅等。作為上述三價金屬元素，可列舉Sn、Al及Ga等。
上述第1電極與上述第2電極相對向之位置之上述連接部之距離D1較佳為3μm以上，更佳為5μm以上，且較佳為40μm以下，更佳為30μm以下。若上述距離D1為上述下限以上，則連接部與連接對象構件之連接可靠性進一步提高。若上述距離D1為上述上限以下，則於形成連接部時焊料粒子變得更容易聚集於電極上，電極間之導通可靠性進一步提高。又，就進一步提高電極間之導通可靠性之觀點而言，上述距離D1較佳為10μm以上，更佳為12μm以上。
於上述連接部中，上述第1電極與上述第2電極相對向之部分之大小S1(例如，圖3(a)及圖4(a)之斜線部)較佳為上述第1電極與上述第2電極未對向之部分之大小S2(例如，圖3(a)及圖4(a)之點部)之2倍以上，更佳為10倍以上，且較佳為40倍以下，更佳為30倍以下。上述大小S1與上述大小S2係俯視連接構造體時之大小。上述大小S1係於俯視連接構造體時上述第1電極與上述第2電極重疊之區域之面積。上述大小S2係於俯視連接構造體時上述第1電極與上述第2電極未重疊之區域之面積。上述大小S2係自連接部整體之大小中去除上述大小S1而獲得之大小。
其次，對連接構造體之變化例進行說明。
圖3(a)及(b)表示作為變化例之連接構造體51。圖3(a)係俯視圖，圖3(b)係沿I-I線之剖視圖。
如圖3(a)及(b)所示之連接構造體51般，連接部54較佳為具有角部C。於圖3(a)及(b)中，連接部54於主面方向上具有4個角部C。角部C例如為連接部54之兩條邊相交之部分。較佳為第1連接對象構件52於 角部C之內側具有位置對準用之第1電極52aa作為第1電極52a。較佳為第2連接對象構件53於角部C之內側具有位置對準用之第2電極53aa作為第2電極53a。若設置此種位置對準用之電極，則於焊料粒子聚集於位置對準用之第1電極52aa與位置對準用之第2電極53aa之間而互相接合時，可發揮作用以防止位置對準用之第1電極52aa與位置對準用之第2電極53aa之位置偏移、進而消除所產生之位置偏移(例如，本發明之實施形態之圖7(a)與本發明之實施形態不包括之形態之圖8(a)之差異)。因此，電極間之導通可靠性提高。
於圖3(b)中，第1電極52a與第2電極53a包含1個以上之電極。第1電極52a與第2電極53a較佳為2根以上之具有梳形、鋸齒型、點或四角電極之面陣列之圖案之電極。於該情形時，第1電極52a與第2電極53a之圖案較佳為於相對向之情形時圖案一致。於為2根以上之電極之情形時，電極之間距較佳為75μm以上，更佳為100μm以上，且較佳為2mm以下，更佳為1mm以下。電極之長度較佳為200μm以上，更佳為1mm以上，且較佳為5mm以下，更佳為3mm以下。
再者，於圖3(a)及(b)中，第2連接對象構件53之一部分區域重疊於第1連接對象構件52。於第1連接對象構件52與第2連接對象構件53之重疊部分之中央區域，利用焊料部54A進行電性連接之第1電極52a(主電極)與第2電極53a(主電極)以相對向之方式配置。於圖3(a)中，於對應於第2連接對象構件53前端之2個角部之連接部54之2個角部C附近，2個位置對準用之第1電極52aa與2個位置對準用之第2電極53aa以相對向之方式配置。位置對準用之第1電極52aa與位置對準用之第2電極53aa利用焊料部54A進行電性連接。硬化物部54B位於焊料部54A周圍。
第1電極52aa與第2電極53aa之尺寸係一邊較佳為300μm以上、更佳為500μm以上之四角形，第1電極52aa與第2電極53aa之形狀可為正 方形、長方形、圓形、橢圓形。
第1電極52aa與第2電極53aa可僅用於對準，亦可用作需要較大電極面積之電源用之電極。
就使位置對準更容易之觀點而言，上述位置對準用之第1電極及上述位置對準用之第2電極與上述角部之前端之最短距離較佳為75μm以上、3000μm以下。
圖4(a)及(b)表示作為變化例之連接構造體51X。圖4(a)係俯視圖，圖4(b)係沿I-I線之剖視圖，圖4(c)係沿II-II線之剖視圖。
於圖4(a)及(b)中，於包括與第2連接對象構件53X前端之2個角部相對應之連接部54X之2個角部C及其餘2個角部C在內之4個角部C附近，4個位置對準用之第1電極52aa與4個位置對準用之第2電極53aa以相對向之方式配置。如上所述，亦可於4個角部C附近配置4個位置對準用之第1、第2電極52aa、53aa。位置對準用之第1電極52aa與位置對準用之第2電極53aa利用焊料部54XA進行電性連接。硬化物部54XB位於焊料部54XA周圍。
圖5(a)及(b)表示作為變化例之連接構造體51Y。圖5(a)係俯視圖，圖5(b)係沿I-I線之剖視圖。
於連接構造體51Y中，就抑制因對第1連接對象構件52Y與第2連接對象構件53Y進行加熱時之熱膨脹引起之上下電極間之位置偏移、使導通可靠性更良好之觀點而言，較佳為第1連接對象構件52Y具有複數個具有長度方向與寬度方向之第1主電極52ab作為第1電極52a，第2連接對象構件53Y具有複數個具有長度方向與寬度方向之第2主電極53ab作為第2電極53a，且於將第1主電極52ab之長度方向及寬度方向上之第1連接對象構件52Y之線膨脹率與第2主電極53ab之長度方向及寬度方向上之第2連接對象構件53Y之線膨脹率的差設為C(ppm/℃)、將形成連接部54Y時之上述導電糊之加熱溫度設為T(℃)、將第1 主電極52ab之寬度方向上複數個第1主電極52ab整體之尺寸設為Yt(mm)、將複數個第1主電極52ab之每個電極於寬度方向上之尺寸設為Ya(mm)時，滿足式：C×T/1000000×Yt<0.5×Ya。
複數個第1主電極52ab隔開特定間隔，以長度方向平行之方式並列配置。複數個第2主電極53ab隔開特定間隔，以長度方向平行之方式並列配置。
第1連接對象構件52Y具有位置對準用之第1電極52aa。第2連接對象構件53Y具有位置對準用之第2電極53aa。第1主電極52ab不包含位置對準用之第1電極52aa。第2主電極53ab不包含位置對準用之第2電極53aa。
第1主電極52ab與第2主電極53ab利用焊料部54YA進行電性連接。硬化物部54YB位於焊料部54YA周圍。
上述線膨脹率係使用TMA/SS6100(SII公司製造)，於升溫速度5℃/min、自25℃至形成上述連接部時之上述導電糊之加熱溫度之溫度範圍的條件下進行測定。上述線膨脹率係作為上述溫度範圍條件下之平均值而求出。
為了將焊料粒子有效率地配置於電極上，上述導電糊於25℃下之黏度較佳為10Pa‧s以上，更佳為50Pa‧s以上，進而較佳為100Pa‧s以上，且較佳為800Pa‧s以下，更佳為600Pa‧s以下，進而較佳為500Pa‧s以下。
上述黏度可藉由調配成分之種類及調配量而適當調整。又，藉由使用填料，可使黏度相對較高。
上述黏度例如可使用E型黏度計(東機產業公司製造)等，於25℃及5rpm之條件下進行測定。
25℃以上、上述焊料粒子(焊料)之熔點℃以下之溫度範圍條件下之上述導電糊之黏度之最低值(最低熔融黏度之值)較佳為0.1Pa‧s以 上，更佳為0.2Pa‧s以上，且較佳為10Pa‧s以下，更佳為1Pa‧s以下。若上述黏度之最低值為上述下限以上及上述上限以下，則可將焊料粒子更有效率地配置於電極上。
上述黏度之最低值可使用STRESSTECH(EOLOGICA公司製造)等，於應變控制1rad、頻率1Hz、升溫速度20℃/min、測定溫度範圍40~200℃(其中，於焊料粒子之熔點超過200℃之情形時將溫度上限設為焊料粒子之熔點)之條件下進行測定。根據測定結果，對焊料粒子之熔點℃以下之溫度範圍條件下之黏度之最低值進行評估。
上述導電糊含有熱硬化性成分與焊料粒子。上述熱硬化性成分較佳為含有可藉由加熱而硬化之硬化性化合物(熱硬化性化合物)、及熱硬化劑。上述導電糊較佳為含有助焊劑。上述導電糊較佳為含有填料。
以下，對本發明之其他詳細內容進行說明。
(焊料粒子)
上述焊料粒子於導電性之外表面具有焊料。關於上述焊料粒子，其中心部分及導電性之外表面均由焊料所形成。
上述焊料較佳為熔點為450℃以下之低熔點金屬。上述焊料粒子較佳為熔點為450℃以下之低熔點金屬粒子。上述低熔點金屬粒子係含有低熔點金屬之粒子。該所謂低熔點金屬表示熔點為450℃以下之金屬。低熔點金屬之熔點較佳為300℃以下，更佳為160℃以下。又，上述焊料粒子含有錫。於上述焊料粒子所含之金屬100重量%中，錫之含量較佳為30重量%以上，更佳為40重量%以上，進而較佳為70重量%以上，尤佳為90重量%以上。若上述焊料粒子中之錫之含量為上述下限以上，則焊料部與電極之連接可靠性進一步提高。
再者，上述錫之含量可使用高頻電感耦合電漿發射光譜分析裝置(堀場製作所公司製造之「ICP-AES」)、或螢光X射線分析裝置(島 津製作所公司製造之「EDX-800HS」)等進行測定。
藉由使用上述焊料粒子，焊料熔融而與電極接合，焊料部使電極間導通。例如，由於焊料部與電極容易進行面接觸而非點接觸，因此連接電阻變低。又，藉由使用焊料粒子，焊料部與電極之接合強度變高，結果變得更難以產生焊料部與電極之剝離，導通可靠性及連接可靠性有效地提高。
構成上述焊料粒子之低熔點金屬並無特別限定。該低熔點金屬較佳為錫、或含有錫之合金。該合金可列舉：錫-銀合金、錫-銅合金、錫-銀-銅合金、錫-鉍合金、錫-鋅合金、錫-銦合金等。其中，就對電極之潤濕性優異之方面而言，上述低熔點金屬較佳為錫、錫-銀合金、錫-銀-銅合金、錫-鉍合金、錫-銦合金。更佳為錫-鉍合金、錫-銦合金。
基於JIS Z3001：焊接用語，上述焊料粒子較佳為液相線為450℃以下之熔填材料。作為上述焊料粒子之組成，例如可列舉含有鋅、金、銀、鉛、銅、錫、鉍、銦等之金屬組成。其中，較佳為低熔點且無鉛之錫-銦系(117℃共晶)、或錫-鉍系(139℃共晶)。即，上述焊料粒子較佳為不含鉛，且較佳為含有錫與銦、或含有錫與鉍。
為了進一步提高上述焊料部與電極之接合強度，上述焊料粒子亦可含有磷、碲、或鎳、銅、銻、鋁、鋅、鐵、金、鈦、鍺、鈷、鉍、錳、鉻、鉬、鈀等金屬。又，就進一步提高焊料部與電極之接合強度之觀點而言，上述焊料粒子較佳為含有鎳、銅、銻、鋁或鋅。就更進一步提高焊料部與電極之接合強度之觀點而言，用以提高接合強度之該等金屬之含量於焊料粒子100重量%中，較佳為0.0001重量%以上，且較佳為1重量%以下。
上述焊料粒子之平均粒徑較佳為0.5μm以上，更佳為1μm以上，進而較佳為3μm以上，尤佳為5μm以上，且較佳為100μm以下，更 佳為40μm以下，進而較佳為30μm以下，進而更佳為20μm以下，尤佳為15μm以下，最佳為10μm以下。若上述焊料粒子之平均粒徑為上述下限以上及上述上限以下，則可將焊料粒子更有效率地配置於電極上。上述焊料粒子之平均粒徑尤佳為3μm以上、30μm以下。
上述焊料粒子之「平均粒徑」表示數量平均粒徑。焊料粒子之平均粒徑例如可藉由利用電子顯微鏡或光學顯微鏡觀察任意50個焊料粒子，計算出平均值而求出。
上述導電糊100重量%中，上述焊料粒子之含量較佳為1重量%以上，更佳為2重量%以上，進而較佳為10重量%以上，尤佳為20重量%以上，最佳為30重量%以上，且較佳為80重量%以下，更佳為60重量%以下，進而較佳為50重量%以下。若上述焊料粒子之含量為上述下限以上及上述上限以下，則可將焊料粒子更有效率地配置於電極上，容易於電極間大量配置焊料粒子，導通可靠性進一步提高。就進一步提高導通可靠性之觀點而言，上述焊料粒子之含量較佳為較多。
(可藉由加熱而硬化之化合物：熱硬化性成分)
作為上述熱硬化性化合物，可列舉氧雜環丁烷化合物、環氧化合物、環硫化合物、(甲基)丙烯酸系化合物、酚化合物、胺基化合物、不飽和聚酯化合物、聚胺基甲酸酯化合物、聚矽氧化合物及聚醯亞胺化合物等。其中，就使導電糊之硬化性及黏度更良好，進一步提高連接可靠性之觀點而言，較佳為環氧化合物。
上述導電糊100重量%中，上述熱硬化性化合物之含量較佳為20重量%以上，更佳為40重量%以上，進而較佳為50重量%以上，且較佳為99重量%以下，更佳為98重量%以下，進而較佳為90重量%以下，尤佳為80重量%以下。就進一步提高耐衝擊性之觀點而言，上述熱硬化性成分之含量較佳為較多。
(熱硬化劑：熱硬化性成分)
上述熱硬化劑係使上述熱硬化性化合物進行熱硬化。作為上述熱硬化劑，可列舉咪唑硬化劑、胺硬化劑、酚系硬化劑、多硫醇硬化劑、酸酐、熱陽離子起始劑及熱自由基產生劑等。上述熱硬化劑可僅使用一種，亦可併用兩種以上。
其中，由於可於低溫下使導電糊更迅速地硬化，故而較佳為咪唑硬化劑、多硫醇硬化劑或胺硬化劑。又，由於將可藉由加熱而硬化之硬化性化合物與上述熱硬化劑加以混合時保存穩定性變高，故而較佳為潛伏性硬化劑。潛伏性硬化劑較佳為潛伏性咪唑硬化劑、潛伏性多硫醇硬化劑或潛伏性胺硬化劑。再者，上述熱硬化劑亦可由聚胺基甲酸酯樹脂或聚酯樹脂等高分子物質所被覆。
作為上述咪唑硬化劑，並無特別限定，可列舉：2-甲基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑、1-氰乙基-2-苯基咪唑、偏苯三酸1-氰乙基-2-苯基咪唑鎓鹽、2,4-二胺基-6-[2'-甲基咪唑基-(1')]-乙基-均三及2,4-二胺基-6-[2'-甲基咪唑基-(1')]-乙基-均三異三聚氰酸加成物等。
作為上述多硫醇硬化劑，並無特別限定，可列舉：三羥甲基丙烷三(3-巰基丙酸酯)、季戊四醇四(3-巰基丙酸酯)及二季戊四醇六(3-巰基丙酸酯)等。
上述多硫醇硬化劑之溶解度參數較佳為9.5以上，且較佳為12以下。上述溶解度參數係藉由Fedors法進行計算。例如，三羥甲基丙烷三(3-巰基丙酸酯)之溶解度參數為9.6，二季戊四醇六(3-巰基丙酸酯)之溶解度參數為11.4。
作為上述胺硬化劑，並無特別限定，可列舉：己二胺、辛二胺、癸二胺、3,9-雙(3-胺基丙基)-2,4,8,10-四螺[5.5]十一烷、雙(4-胺基環己基)甲烷、間苯二胺及二胺基二苯基碸等。
作為上述熱陽離子硬化劑，可列舉錪系陽離子硬化劑、氧鎓系陽離子硬化劑及鋶系陽離子硬化劑等。作為上述錪系陽離子硬化劑， 可列舉六氟磷酸雙(4-第三丁基苯基)錪等。作為上述氧鎓系陽離子硬化劑，可列舉四氟硼酸三甲基氧鎓等。作為上述鋶系陽離子硬化劑，可列舉六氟磷酸三(對甲苯基)鋶等。
作為上述熱自由基產生劑，並無特別限定，可列舉偶氮化合物及有機過氧化物等。作為上述偶氮化合物，可列舉偶氮二異丁腈(AIBN)等。作為上述有機過氧化物，可列舉過氧化二第三丁基及過氧化甲基乙基酮等。
上述熱硬化劑之反應起始溫度較佳為50℃以上，更佳為70℃以上，進而較佳為80℃以上，且較佳為250℃以下，更佳為200℃以下，進而較佳為150℃以下，尤佳為140℃以下。若上述熱硬化劑之反應起始溫度為上述下限以上及上述上限以下，則可將焊料粒子更有效率地配置於電極上。上述熱硬化劑之反應起始溫度尤佳為80℃以上、140℃以下。
就將焊料更有效率地配置於電極上之觀點而言，較佳為上述熱硬化劑之反應起始溫度低於上述焊料粒子中之焊料之熔點，更佳為低5℃以上，進而較佳為低10℃以上。
上述熱硬化劑之反應起始溫度意指DSC(differential scanning calorimetry，示差掃描熱量測定)中之放熱峰開始上升之溫度。
上述熱硬化劑之含量並無特別限定。相對於上述熱硬化性化合物100重量份，上述熱硬化劑之含量較佳為0.01重量份以上，更佳為1重量份以上，且較佳為200重量份以下，更佳為100重量份以下，進而較佳為75重量份以下。若熱硬化劑之含量為上述下限以上，則容易使導電糊充分硬化。若熱硬化劑之含量為上述上限以下，則於硬化後不易殘存未參與硬化之多餘之熱硬化劑，且硬化物之耐熱性進一步提高。
(助焊劑)
上述導電糊較佳為含有助焊劑。藉由使用助焊劑，可將焊料更有效地配置於電極上。該助焊劑並無特別限定。作為助焊劑，可使用通常用於焊接等之助焊劑。作為上述助焊劑，例如可列舉：氯化鋅、氯化鋅與無機鹵化物之混合物、氯化鋅與無機酸之混合物、熔融鹽、磷酸、磷酸之衍生物、有機鹵化物、肼、有機酸及松脂等。上述助焊劑可僅使用一種，亦可併用兩種以上。
作為上述熔融鹽，可列舉氯化銨等。作為上述有機酸，可列舉乳酸、檸檬酸、硬脂酸、麩胺酸及戊二酸等。作為上述松脂，可列舉活化松脂及非活化松脂等。上述助焊劑較佳為具有2個以上羧基之有機酸、松脂。上述助焊劑可為具有2個以上羧基之有機酸，亦可為松脂。藉由使用具有2個以上羧基之有機酸、松脂，電極間之導通可靠性進一步提高。
上述松脂係以松香酸為主成分之松香類。助焊劑較佳為松香類，更佳為松香酸。藉由使用該較佳之助焊劑，電極間之導通可靠性進一步提高。
上述助焊劑之熔點較佳為50℃以上，更佳為70℃以上，進而較佳為80℃以上，且較佳為200℃以下，更佳為160℃以下，進而較佳為150℃以下，進而更佳為140℃以下。若上述助焊劑之熔點為上述下限以上及上述上限以下，則更有效地發揮出助焊劑效果，而可將焊料粒子更有效率地配置於電極上。上述助焊劑之熔點較佳為80℃以上、190℃以下。上述助焊劑之熔點尤佳為80℃以上、140℃以下。
作為熔點為80℃以上、190℃以下之上述助焊劑，可列舉：琥珀酸(熔點186℃)、戊二酸(熔點96℃)、己二酸(熔點152℃)、庚二酸(熔點104℃)、辛二酸(熔點142℃)等二羧酸；苯甲酸(熔點122℃)、蘋果酸(熔點130℃)等。
又，上述助焊劑之沸點較佳為200℃以下。
就將焊料更有效率地配置於電極上之觀點而言，較佳為上述助焊劑之熔點低於上述焊料粒子中之焊料之熔點，更佳為低5℃以上，進而較佳為低10℃以上。
就將焊料更有效率地配置於電極上之觀點而言，較佳為上述助焊劑之熔點低於上述熱硬化劑之反應起始溫度，更佳為低5℃以上，進而較佳為低10℃以上。
上述助焊劑可分散於導電糊中，亦可附著於焊料粒子之表面上。
上述導電糊100重量%中，上述助焊劑之含量較佳為0.5重量%以上，且較佳為30重量%以下，更佳為25重量%以下。上述導電糊亦可不含助焊劑。若助焊劑之含量為上述下限以上及上述上限以下，則於焊料及電極之表面變得更難以形成氧化覆膜，進而可更有效地去除於焊料及電極之表面所形成之氧化覆膜。
(填料)
上述導電糊較佳為含有填料。藉由使用填料，可抑制導電糊之硬化物之潛熱膨脹。上述填料可僅使用一種，亦可併用兩種以上。
作為上述填料，可列舉二氧化矽、滑石、氮化鋁及氧化鋁等無機填料等。上述填料可為有機填料，亦可為有機-無機複合填料。上述填料可僅使用一種，亦可併用兩種以上。
較佳為上述導電糊及上述填料分別含有無機填料。藉由使用無機填料，可將導電糊之比重及觸變性控制為更佳之範圍，焊料粒子之沈澱受到進一步抑制，連接構造體之導通可靠性進一步提高。
較佳為上述導電糊及上述填料分別含有二氧化矽。該二氧化矽為二氧化矽填料。藉由使用二氧化矽，可將導電糊之比重及觸變性控制為更佳之範圍，焊料粒子之沈澱受到進一步抑制，連接構造體之導通可靠性進一步提高。
上述導電糊100重量%中，上述填料之含量較佳為2重量%以上，更佳為5重量%以上，且較佳為60重量%以下，更佳為50重量%以下。若上述填料之含量為上述下限以上及上述上限以下，則可將焊料粒子更有效率地配置於電極上。
(其他成分)
上述導電糊亦可視需要含有例如填充劑、增量劑、軟化劑、塑化劑、聚合觸媒、硬化觸媒、著色劑、抗氧化劑、熱穩定劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、潤滑劑、抗靜電劑及阻燃劑等各種添加劑。
以下，列舉實施例及比較例對本發明進行具體說明。本發明並不僅限定於以下之實施例。
聚合物A：雙酚F與1,6-己二醇二縮水甘油醚、及雙酚F型環氧樹脂之反應物(聚合物A)之合成：將雙酚F(以重量比計以2：3：1含有4,4'-亞甲基雙酚、2,4'-亞甲基雙酚及2,2'-亞甲基雙酚)72重量份、1,6-己二醇二縮水甘油醚70重量份、雙酚F型環氧樹脂(DIC公司製造之「EPICLON EXA-830CRP」)30重量份裝入三口燒瓶中，於氮氣流動下，於150℃下使其溶解。其後，添加作為羥基與環氧基之加成反應觸媒之溴化四正丁基鋶0.1重量份，於氮氣流動下，於150℃下進行6小時之加成聚合反應，藉此獲得反應物(聚合物A)。
藉由NMR(nuclear magnetic resonance，核磁共振)，確認到已進行加成聚合反應，且確認到反應物(聚合物A)於主鏈上具有源自雙酚F之羥基與1,6-己二醇二縮水甘油醚及雙酚F型環氧樹脂之環氧基鍵結而成之結構單元，且於兩末端具有環氧基。
藉由GPC(gel permeation chromatography，凝膠滲透層析法)而獲得之反應物(聚合物A)之重量平均分子量為10000，數量平均分子量為 3500。
聚合物B：兩末端環氧基剛性骨架苯氧基樹脂，三菱化學公司製造之「YX6900BH45」，重量平均分子量16000
熱硬化性化合物1：間苯二酚型環氧化合物，Nagase chemteX公司製造之「EX-201」
熱硬化性化合物2：萘型環氧化合物，DIC公司製造之「HP-4032D」
熱硬化性化合物3：雙酚F型環氧樹脂，DIC公司製造之「EVA-830CRP」
熱硬化劑：季戊四醇四(3-巰基丁酸酯)，昭和電工公司製造之「Karenz MT PE1」
助焊劑：戊二酸，和光純藥工業公司製造
潛伏性環氧熱硬化劑：T&K TOKA公司製造之「Fujicure 7000」
潛伏性熱硬化劑：微膠囊型，旭化成E-MATERIALS公司製造之「HXA-3932HP」
焊料粒子1(Sn-58Bi焊料粒子，熔點139℃，三井金屬礦業公司製造之「DS10-25」，平均粒徑10μm)
焊料粒子2(Sn-58Bi焊料粒子，熔點139℃，三井金屬礦業公司製造之「10-25」，平均粒徑20μm)
焊料粒子3(Sn-58Bi焊料粒子，熔點139℃，三井金屬礦業公司製造之「DS20-38」，平均粒徑29μm)
焊料粒子4(Sn-58Bi焊料粒子，熔點139℃，平均粒徑45μm，篩選品)
導電性粒子1：於樹脂粒子之表面上形成有厚度1μm之銅層，且於該銅層之表面形成有厚度3μm之焊料層(錫：鉍=43重量%：57重量%)之導電性粒子
導電性粒子1之製作方法：對平均粒徑10μm之二乙烯基苯樹脂粒子(積水化學工業公司製造之「Micropearl SP-210」)進行無電解鍍鎳，而於樹脂粒子之表面上形成厚度0.1μm之基底鍍鎳層。繼而，對形成有基底鍍鎳層之樹脂粒子進行電解鍍銅，而形成厚度1μm之銅層。進而，使用含有錫及鉍之電鍍液進行電鍍，從而形成厚度3μm之焊料層。以上述方式，製作於樹脂粒子之表面上形成有厚度1μm之銅層，且於該銅層之表面形成有厚度3μm之焊料層(錫：鉍=43重量%：57重量%)之導電性粒子1。
苯氧基樹脂(新日鐵住金化學公司製造之「YP-50S」)
(實施例1~4)
(1)各向異性導電糊之製作
以下述表1所示之調配量調配下述表1所示之成分，而獲得各向異性導電糊。
(2)第1連接構造體(L/S=50μm/50μm)之製作
準備上表面具有L/S為50μm/50μm之銅電極圖案(銅電極厚度10 μm)之環氧玻璃基板(FR-4基板)(第1連接對象構件，線膨脹率12ppm/℃(第1主電極之長度方向及寬度方向上之線膨脹率(以下相同)))。又，準備L/S為50μm/50μm之下表面具有銅電極圖案(銅電極厚度10μm)之軟性印刷基板(第2連接對象構件，線膨脹率16ppm/℃(第2主電極之長度方向及寬度方向上之線膨脹率(以下相同)))。關於第1主電極，Yt=10mm，Ya=0.05mm。
環氧玻璃基板與軟性印刷基板之重疊面積係設為1.5cm×4mm，連接之電極數係設為100對。使用位置對準用之電極(合計4個)分別位於所獲得之第1連接構造體中之連接部之4個角部內側之環氧玻璃基板與軟性印刷基板。位置對準用之第1、第2電極與4個角部之前端之最短距離為500μm。
以厚度成為50μm之方式將剛製作後之各向異性導電糊塗佈於上述環氧玻璃基板之上表面，從而形成各向異性導電糊層。其次，以電極彼此相對向之方式將上述軟性印刷基板積層於各向異性導電糊層之上表面。此時，不進行加壓。上述軟性印刷基板之重量係施加於各向異性導電糊層。其後，一面以各向異性導電糊層之溫度成為185℃之方式進行加熱，一面使焊料熔融，且於185℃下使各向異性導電糊層硬化，從而獲得第1連接構造體。
(3)第2連接構造體(L/S=75μm/75μm)之製作
準備上表面具有L/S為75μm/75μm之銅電極圖案(銅電極厚度10μm)之環氧玻璃基板(FR-4基板)(第1連接對象構件，線膨脹率12ppm/℃)。又，準備下表面具有L/S為75μm/75μm之銅電極圖案(銅電極厚度10μm)之軟性印刷基板(第2連接對象構件，線膨脹率16ppm/℃)。關於第1主電極，Yt=10mm，Ya=0.075mm。
環氧玻璃基板與軟性印刷基板之重疊面積係設為1.5cm×4mm，連接之電極數係設為67對。除使用L/S不同之上述環氧玻璃基板及軟 性印刷基板以外，以與第1連接構造體之製作相同之方式，獲得第2連接構造體。
(4)第3連接構造體(L/S=100μm/100μm)之製作
準備上表面具有L/S為100μm/100μm之銅電極圖案(銅電極厚度10μm)之環氧玻璃基板(FR-4基板)(第1連接對象構件，線膨脹率12ppm/℃)。又，準備下表面具有L/S為100μm/100μm之銅電極圖案(銅電極厚度10μm)之軟性印刷基板(第2連接對象構件，線膨脹率16ppm/℃)。關於第1主電極，Yt=10mm，Ya=0.1mm。
環氧玻璃基板與軟性印刷基板之重疊面積係設為1.5cm×4mm，連接之電極數係設為50對。
除使用L/S不同之上述環氧玻璃基板及軟性印刷基板以外，以與第1連接構造體之製作相同之方式，獲得第3連接構造體。
(實施例5)
將第1連接構造體之電極數設為75對，將第2連接構造體之電極數設為50對，將第3連接構造體之電極數設為38對，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得連接構造體。
第1主電極之Yt及Ya如以下所述。
第1、第2、第3連接構造體：Yt=7.5mm
第1連接構造體：Ya=0.05mm
第2連接構造體：Ya=0.075mm
第3連接構造體：Ya=0.1mm
(實施例6)
使用不具備位置對準電極之環氧玻璃基板與不具備位置對準電極之軟性印刷基板，除此以外，以與實施例1相同之方式，製作第1、第2、第3連接構造體。
(實施例7)
使用電極尺寸/電極間距為100μm/100μm、75μm/75μm、50μm/50μm之具有5mm見方之半導體晶片(厚度400μm)及與其相對向之電極之環氧玻璃基板(尺寸30×30mm，厚度0.4mm)，除此以外，以與實施例1相同之方式，獲得第1、第2、第3連接構造體。
(實施例8~11)
以下述表1所示之調配量調配下述表1所示之成分，而獲得各向異性導電糊。使用所獲得之各向異性導電糊，除此以外，以與實施例1相同之方式，獲得第1、第2、第3連接構造體。
(比較例1)
於以電極彼此相對向之方式將上述軟性印刷基板積層於各向異性導電糊層之上表面時，對軟性印刷基板上賦予2MPa之壓力，除此以外，以與實施例1相同之方式，獲得第1、第2、第3連接構造體。
(比較例2)
於使各向異性導電糊層硬化時，對軟性印刷基板上賦予2MPa之壓力，除此以外，以與實施例1相同之方式，獲得第1、第2、第3連接構造體。
(比較例3)
於以電極彼此相對向之方式將上述軟性印刷基板積層於各向異性導電糊層之上表面時，對軟性印刷基板上賦予2MPa之壓力，且於以電極彼此相對向之方式將上述軟性印刷基板積層於各向異性導電糊層之上表面後維持加壓狀態，使各向異性導電糊層硬化時，對軟性印刷基板上賦予2MPa之壓力，除此以外，以與實施例1相同之方式，獲得第1、第2、第3連接構造體。
(比較例4)
以固形物成分成為50重量%之方式使苯氧基樹脂(新日鐵住金化學公司製造之「YP-50S」)10重量份溶解於甲基乙基酮(MEK)中，而 獲得溶解液。以下述表2所示之調配量將下述表2所示之除苯氧基樹脂以外之成分與上述溶解液之全部量進行調配，使用行星式攪拌機以2000rpm攪拌5分鐘後，使用棒式塗佈機，以乾燥後之厚度成為30μm之方式塗佈於脫模PET(聚對苯二甲酸乙二酯)膜上。藉由於室溫下進行真空乾燥而去除MEK，藉此獲得各向異性導電膜。
除使用各向異性導電膜以外，以與實施例1相同之方式，獲得第1、第2、第3連接構造體。
(比較例5)
使用電極尺寸/電極間距為100μm/100μm、75μm/75μm、50μm/50μm之具有5mm見方之半導體晶片(厚度400μm)及與其相對向之電極之環氧玻璃基板(尺寸30×30mm，厚度0.4mm)，且於使各向異性導電糊層硬化時賦予10MPa之壓力，除此以外，以與實施例7相同之方式，獲得第1、第2、第3連接構造體。
(比較例6)
以下述表2所示之調配量調配下述表2所示之成分，而獲得各向異性導電糊。使用所獲得之各向異性導電糊，除此以外，以與實施例1相同之方式，獲得第1、第2、第3連接構造體。
(評估)
(1)黏度
使用E型黏度計(東機產業公司製造)，於25℃及5rpm之條件下對各向異性導電糊之黏度進行測定。
(2)最低熔融黏度
對自25℃起至焊料粒子之熔點或導電性粒子表面之焊料之熔點為止之溫度範圍條件下之各向異性導電糊之最低熔融黏度進行測定。
(3)連接部之距離(電極間之間隔)
藉由對所獲得之第1連接構造體進行剖面觀察，而對上下電極相 對向之位置之連接部之距離D1(電極間之間隔)進行評估。
(4)電極之狀態
俯視所獲得之第1連接構造體，對第1、第2電極相對向之部分之大小S1與第1、第2電極未對向之部分之大小S2進行評估。求出比(大小S1/大小S2)。
(5)電極彼此之位置偏移之最大距離
藉由對所獲得之第1、第2、第3連接構造體進行剖面觀察，而對上下電極之位置偏移之最大距離進行評估。
(6)電極上之焊料之配置精度
於所獲得之第1、第2、第3連接構造體之剖面(圖1所示之方向之剖面)中，對焊料之總面積100%中自配置於電極間之焊料部分離而殘存於硬化物中之焊料之面積(%)進行評估。再者，計算出5個剖面之面積之平均值。按照下述基準判定電極上之焊料之配置精度。
[電極上之焊料之配置精度之判定基準]
○○：剖面所出現之焊料之總面積100%中，自配置於電極間之焊料部分離而殘存於硬化物中之焊料(焊料粒子)之面積為0%
○：剖面所出現之焊料之總面積100%中，自配置於電極間之焊料部分離而殘存於硬化物中之焊料(焊料粒子)之面積超過0%且為10%以下
△：剖面所出現之焊料之總面積100%中，自配置於電極間之焊料部分離而殘存於硬化物中之焊料(焊料粒子)之面積超過10%且為30%以下
×：剖面所出現之焊料之總面積100%中，自配置於電極間之焊料部分離而殘存於硬化物中之焊料(焊料粒子)之面積超過30%
(7)上下電極間之導通可靠性
藉由四端子法分別測定所獲得之第1、第2、第3連接構造體(n=15 個)中上下電極間之連接電阻。計算出連接電阻之平均值。再者，根據電壓=電流×電阻之關係，藉由測定流通恆定電流時之電壓，可求出連接電阻。按照下述基準判定導通可靠性。
[導通可靠性之判定基準]
○○：連接電阻之平均值為8.0Ω以下
○：連接電阻之平均值超過8.0Ω且為10.0Ω以下
△：連接電阻之平均值超過10.0Ω且為15.0Ω以下
×：連接電阻之平均值超過15.0Ω
(8)鄰接之電極間之絕緣可靠性
於所獲得之第1、第2、第3連接構造體(n=15個)中，於溫度85℃、及濕度85%之環境中放置100小時後，對鄰接之電極間施加5V電壓，於25個部位測定電阻值。按照下述基準判定絕緣可靠性。
[絕緣可靠性之判定基準]
○○：連接電阻之平均值為107Ω以上
○：連接電阻之平均值為106Ω以上且未達107Ω
△：連接電阻之平均值為105Ω以上且未達106Ω
×：連接電阻之平均值未達105Ω
將結果示於下述之表1、2。
根據實施例1~11與比較例1~5之結果之差異得知，藉由不進行加壓，可獲得提高導通可靠性之效果。
根據實施例1~5、8~11與實施例6之結果得知，若具有位置對準用之電極，則可抑制電極彼此之位置偏移。
根據實施例1與比較例1之結果之差異、以及實施例7與比較例5之結果之差異得知，於第2連接對象構件為軟性印刷基板之情形時，與第2連接對象構件為半導體晶片之情形相比，藉由不進行加壓，可更有效地獲得提高導通可靠性之效果。
於使用樹脂膜、軟性扁平電纜及剛性軟性基板代替軟性印刷基板之情形時亦相同。
再者，於實施例1~11所獲得之連接構造體中，於沿第1電極、連接部及第2電極之積層方向觀察第1電極與第2電極互相對向之部分時，於第1電極與第2電極互相對向之部分之面積100%中之50%以上配置有連接部中之焊料部。
又，圖7(a)、(b)及(c)表示本發明之實施形態所包括之連接構造體之一例。圖7(a)及(b)為剖面圖像，圖7(c)為平面圖像。於圖7(a)、(b)、(c)中，得知並不存在自配置於電極間之焊料部分離而殘存於硬化物中之焊料(焊料粒子)。
進而，圖8(a)、(b)及(c)表示本發明之實施形態不包括之連接構造體之一例。該連接構造體係藉由於配置第2連接對象構件之步驟中進行加壓而獲得之連接構造體。圖8(a)及(b)為剖面圖像，圖8(c)為平面圖像。於圖8(a)、(b)、(c)中，得知於焊料部之側面存在複數個自配置於電極間之焊料部分離而殘存於硬化物中之焊料(焊料粒子)。再者，確認到於形成連接部之步驟中進行加壓亦可獲得與圖8(a)、(b)及(c)所示之連接構造體相同之連接構造體。

Claims (7)

  1. 一種連接構造體之製造方法，其包括：使用含有複數個焊料粒子與熱硬化性成分之導電糊，於表面具有至少1個第1電極之第1連接對象構件之表面上配置上述導電糊之步驟；將表面具有至少1個第2電極之第2連接對象構件以上述第1電極與上述第2電極相對向之方式配置於上述導電糊之與上述第1連接對象構件側相反之表面上之步驟；及藉由將上述導電糊加熱至上述焊料粒子之熔點以上且上述熱硬化性成分之硬化溫度以上，而利用上述導電糊形成連接上述第1連接對象構件與上述第2連接對象構件之連接部之步驟；並且於配置上述第2連接對象構件之步驟及形成上述連接部之步驟中，不進行加壓，而在上述導電糊上施加上述第2連接對象構件之重量，上述第1連接對象構件具有複數個具有長度方向與寬度方向之第1主電極作為上述第1電極，上述第2連接對象構件具有複數個具有長度方向與寬度方向之第2主電極作為上述第2電極，於將上述第1主電極之長度方向及寬度方向上之上述第1連接對象構件之線膨脹率與上述第2主電極之長度方向及寬度方向上之上述第2連接對象構件之線膨脹率的差設為C(ppm/℃)、將形成上述連接部時之上述導電糊之加熱溫度設為T(℃)、將上述第1主電極之寬度方向上複數個上述第1主電極整體之尺寸設為Yt(mm)、將複數個上述第1主電極之每個電極於寬度方向上之尺 寸設為Ya(mm)時，滿足式：C×T/1000000×Yt<0.5×Y。
  2. 如請求項1之連接構造體之製造方法，其中上述第2連接對象構件為樹脂膜、軟性印刷基板、軟性扁平電纜、或剛性軟性基板。
  3. 如請求項1或2之連接構造體之製造方法，其係將上述第1電極與上述第2電極相對向之位置之上述連接部之距離設為3μm以上、40μm以下。
  4. 如請求項1或2之連接構造體之製造方法，其中於上述連接部中，將上述第1電極與上述第2電極相對向之部分之大小設為上述第1電極與上述第2電極未對向之部分之大小之2倍以上、40倍以下。
  5. 如請求項1或2之連接構造體之製造方法，其中於25℃下之黏度為10Pa‧s以上、800Pa‧s以下。
  6. 如請求項1或2之連接構造體之製造方法，其中於上述焊料粒子之熔點以下之溫度範圍條件下之黏度之最低值為0.1Pa‧s以上、10Pa‧s以下。
  7. 如請求項1或2之連接構造體之製造方法，其中上述連接部具有角部，上述第1連接對象構件於上述角部之內側具有位置對準用之第1電極作為上述第1電極，上述第2連接對象構件於上述角部之內側具有位置對準用之第2電極作為上述第2電極，上述位置對準用之第1電極及上述位置對準用之第2電極與上述角部之前端之最短距離為75μm以上、3000μm以下。
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