TWI644238B - 具有抗菌塗層之光學塗佈結構 - Google Patents

具有抗菌塗層之光學塗佈結構 Download PDF

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Abstract

一種光學塗佈結構，其包含：基板、抗反射塗層、基底塗層、抗菌塗層、以及保護塗層。抗反射塗層係設置於基板上。抗反射塗層覆蓋基板。基底塗層覆蓋抗反射塗層。抗菌塗層係設置於基底塗層上，以及抗菌塗層係為夾層。保護塗層覆蓋抗菌塗層。超疏水塗層或抗指紋塗層可覆蓋保護塗層。

Description

具有抗菌塗層之光學塗佈結構
本發明概念之實施例係關於一種光學塗佈結構。更具體而言，本發明概念之實施例係關於一種具有抗菌塗佈夾層之光學塗佈結構。
具有觸控螢幕面板的各種可攜式裝置以使用者的手指無數次的接觸該觸控螢幕面板的方式所使用。因此，觸控螢幕面板可能被來自使用者的手指的細菌或病毒或外部污染物而污染。為了避免細菌、病毒或外部污染物的滲透，觸控螢幕面板可包含設置於觸控螢幕面板上的抗菌層。
根據本公開的一種態樣，光學塗佈結構包含：基板、抗反射塗層、基底塗層、抗菌塗層、以及保護塗層。抗反射塗層設置於基板上。抗反射塗層覆蓋基板。基底塗層覆蓋抗反射塗層。抗菌塗層設置於基底塗層上，並且抗菌塗層係為夾層。保護塗層覆蓋抗菌塗層。光學塗佈結構可進一步包含超疏水塗層及抗指紋塗層的至少其中之一。
根據本發明的其他態樣，光學塗佈結構包含：基板、基底塗層、抗菌塗層、保護塗層、以及超疏水塗層或抗指紋塗層。基底塗層覆蓋基板。抗 菌塗層設置於基底塗層上。抗菌塗層係為夾層。保護塗層覆蓋抗菌塗層。超疏水塗層或抗指紋塗層設置於保護塗層上。
特定層可部分或完全覆蓋其他層。特定層可直接與其他層接觸，或可被一或多個中間層間隔。基板可包含化學強化玻璃。抗菌塗層可設置於基底塗層及保護塗層之間，並且抗菌塗層可藉由真空氣相沉積形成。抗菌塗層不需直接直接暴露於外部空氣及外部污染物的至少其中之一。抗菌塗層可包含高反射材料塗層。
抗反射塗層可包含高反射材料塗層及低反射材料塗層。高反射材料塗層及低反射材料塗層可交替設置於基板上。抗反射塗層可包含至少一對的高反射材料塗層及低反射材料塗層。基底塗層和保護塗層可包含低反射材料塗層。抗菌塗層、基底塗層、以及保護塗層之厚度在選定波長可具有預定反射率。
將理解的是，前文一般性描述以及後文詳細描述均為例示性以及解釋性，並且旨在提供如申請專利範圍的揭露的進一步解釋。
100、300‧‧‧光學塗佈結構
110‧‧‧高反射材料塗層
130‧‧‧低反射材料塗層
150‧‧‧基底塗層
170‧‧‧抗菌塗層
190‧‧‧保護塗層
200‧‧‧抗反射塗層
210‧‧‧超疏水塗層或抗指紋塗層
230‧‧‧基板
AR‧‧‧抗反射
藉由參考附圖而詳細描述例示性實施例，特徵對於本技術領域之人員將變得顯而易見，附圖中；第1圖係為根據本揭露的實施例顯示具有抗菌塗層之光學塗佈結構的剖面圖；第2圖係為具有第1圖之抗菌塗層之光學塗佈結構的製造過程之流程圖； 第3圖係為顯示其中有超疏水塗層或抗指紋塗層包含在第1圖之光學塗佈結構的例示性實施例的剖面圖；第4圖係為顯示第3圖之具有超疏水塗層或抗指紋塗層之光學塗佈結構的製造過程之流程圖；第5圖係為根據本公開的一些實施例顯示具有抗菌塗層之光學塗佈結構的剖面圖；以及第6圖係為顯示第5圖之具有抗菌塗層之光學塗佈結構的製造過程之流程圖。
現在例示性實施例將參照附圖在下文中被更加充分地敘述。然而，其可以不同型態實施且不應該被解釋為侷限於本文所闡述之實施例。於圖式中，為了清楚顯示，可誇大層和區域的尺寸。亦將理解的是，當層或元件被指為在另一層或基板「上(on)」時，其可直接於其他層或基板上，或亦可存在中間層。相反地，當一個元件被指為「直接地於其上(directly on)」、「直接地連接至(directly connected to)」或「直接地耦接至(directly coupled to)」另一元件或層時，其不存在中介元件或層。更進一步，將理解的是，當層被指為於另一層「下(under)」時，其可直接位於下，或亦可存在一或多個中間層。另外，亦將理解的是，當一層被指為兩層「之間(between)」時，其可為兩層之間的唯一層，或亦可存在一或多個中間層。全文中，相似參考符號係指相似元件。
將理解的是，雖然第一、第二、第三等用語可使用於本文中以描述各種元件、組件、區域、層、圖樣及/或部分，但這些元件、組件、區域、層、 圖樣及/或部分不應被這些用語所限制。這些用語僅用以區分一元件、組件、區域、層、圖樣或部分與另一區域、層、圖樣或部分。因此，下述討論之第一元件、組件、區域、層或部分，在不脫離任何給定的實施例之教示下，可被稱為第二元件、組件、區域、層或部分。
空間相關的用語，例如「在…下面(beneath)」、「以下(below)」、「低於(lower)」、「以上(above)」、「高於(upper)」等，可於本文使用以簡化如圖中所示之元件或特徵與其他元件或特徵之關係之敘述。應當理解的是，空間相關用語旨在包含除了在附圖中描述的方向外，裝置於使用或是操作中的不同方向。舉例說明，若在圖中的裝置被翻轉，則描述為在其他元件或特徵「以下(below)」或「在...下面(beneath)」的元件或特徵會被定向為於其他元件或特徵「以上(above)」。如此，範例用語「以下(below)」可包含以上和以下兩方向。裝置可被另外定向(旋轉90度或其他方向)且這裡所使用之空間相關描述據此解釋。
本文所使用之用語只用以描述特定實施例的目的且非旨在對本公開造成限制。如用於本文中，單數形「一(a)」、「一(an)」和「該(the)」也旨在包含複數形，除非文中另有明確說明。應當被進一步理解的是，當用語「包含(comprises)」及/或「包含(comprising)」被使用於本說明書裡時，特指所述特徵、整數、步驟、操作、元件且/或組件的存在，但不排除一或多個其他特徵、整數、步驟、操作、元件、組件且/或群組的存在或附加。如本文所使用，用語「及/或(and/or)」包含一或多個相關列出項目的任何和所有組合。
例示性實施例參照本發明概念的示意地理想化的例示性實施例(及中間結構)之示意性描繪之截面示意圖而描述於本文中。如此，例如製造技術 及/或公差導致之圖示的形狀的變異是可被預期的。如此，特定實施例不應該被解釋受限於這裡所描繪的特定形狀或區域，但要包含例如來自製造過程導致的形狀的偏差。在圖中所描繪之區域本質上為示意性，且其形狀並非旨在描述設備之區域之實際形狀，並且非旨在限制本發明概念之範疇。
除非另外定義，否則這裡所使用所有的用語(包含技術和科學性的用語)具有和本發明概念所屬領域之普通技術人員之通常理解相同的意思。應當進一步理解的是，像是定義在通用字典中之那些用語，應該被解釋為具有和其在相關領域的上下文中之意義一致之意義，且不應該以理想化或過度的意義解釋，除非本文明確地如此定義。
第1圖係為根據本揭露的一或多個實施例顯示具有抗菌塗層之光學塗佈結構的剖面圖，以及第2圖係為具有第1圖之抗菌塗層之光學塗佈結構的製造過程之流程圖。參照第1及2圖，光學塗佈結構100可包含基板230、抗反射塗層200、基底塗層150、抗菌塗層170、以及保護塗層190。
用於確保(即，維持)可能被外部衝擊而損傷的內部元件的安全性的基板230，可包含透明聚合樹脂、強化或半強化玻璃。透明聚合樹脂、強化或半強化玻璃可具有高強度、高穿透性、以及防刮的特性。基板230可包含化學強化玻璃。並且，基板230可設置於具有觸控螢幕面板的顯示設備上。
抗反射塗層200可包含高反射材料塗層110及低反射材料塗層130。抗反射(anti-reflective,AR)塗層200可藉由真空氣相沉積形成於基板230上(步驟S510)。例如，高反射材料塗層110可藉由真空氣相沉積形成於基板230上，並可完全或部分覆蓋基板230。低反射材料塗層130可藉由真空氣相沉積形成於高反射材料塗層110上，並可完全或部分覆蓋高反射材料塗層110。亦即，抗反 射塗層200可包含至少一對的高反射材料塗層110及低反射材料塗層130。進一步，高反射材料塗層110及低反射材料塗層130可彼此交替設置於基板230上。包含至少一對的高反射材料塗層110及低反射材料塗層130的抗反射塗層200可形成為複數層。
低反射材料塗層130可設置於基板230上，且高反射材料塗層110可設置於低反射材料塗層130上。低反射材料塗層130可包含二氧化矽(silicon dioxide,SiO2)等。二氧化矽可增加低反射材料塗層130及玻璃基底材料的基板230之間的黏著性，而二氧化矽可增加薄膜的特性。
高反射材料塗層110及低反射材料塗層130可形成以控制光學塗佈結構100的反射率。高反射材料塗層110可包含高反射無機氧化物。例如，高反射無機氧化物可包含二氧化鈦(titanium dioxide,TiO2)、二氧化鋯(zirconium dioxide,ZrO2)、鈮酸鋰(lithium niobate,LiNbO3)、鉭酸鋰(lithium tantalite,LiTaO3)、鈦酸鑭(lanthanum titanium,LaTiO3)等。高反射材料塗層110的反射率於選定波長可為約1.70至約2.80，以及可較佳為約1.90至約2.80。然而，根據其他實施例，高反射材料塗層110的反射率可小於約1.70或大於約2.80。
低反射材料塗層130的反射率於選定波長可為約1.20至約1.50。低反射材料塗層130可包含低反射氧化物。低反射材料塗層可包含矽樹脂(silicone resin)、矽石(silica,SiO2)等。然而，根據其他實施例，低反射材料塗層130的反射率可小於約1.20或大於約1.50。
因而，當光學塗佈結構100具有抗反射塗層200，可改善光學塗佈結構100的穿透性，以及可降低光學塗佈結構100的反射性。
基底塗層150可設置於抗反射塗層200上，並可完全或部分覆蓋抗反射塗層200。基底塗層150藉由真空氣相沉積形成於抗反射塗層200上(步驟S520)。基底塗層150可包含二氧化矽基底材料。當抗菌塗層170藉由真空氣相沉積形成於基底塗層150上時，基底塗層150可增加基底塗層150及抗菌塗層170之間的黏著性。
抗菌塗層170可選擇地形成於基底塗層150上。當抗菌塗層170直接形成於抗反射塗層200上時，可降低抗菌塗層170及抗反射塗層200之間的黏著性(例如，假如抗菌塗層170的粒子尺寸大)。抗菌塗層170可設置於基底塗層150上，並可完全或部分覆蓋基底塗層150。亦即，抗菌塗層170可為夾層。抗菌塗層170可藉由真空氣相沉積形成於基底塗層150上(步驟S530)。
抗菌塗層170可包含銀(Ag)基底材料、氧化鋅(zinc oxide,ZnO)基底材料等。抗菌塗層170可包含鋅離子或銀離子。銀離子可儲存於載體。於具有銀離子的載體，銀離子可藉由真空氣相沉積形成於基底塗層150。於此情況下，無色且透明的銀離子可形成為薄膜。當銀離子可形成於包含二氧化矽的基底塗層150上時，銀離子可與二氧化矽表面的小開口結合。然而，於部分情況下銀可能不被期望。因此，具有與銀相同或相似特性的氧化鋅(ZnO)基底材料可作為抗菌塗層170的主要材料而使用。抗菌塗層170可藉由利用鋅離子及/或銀離子與細胞膜、酶蛋白等結合，以及可破壞及固化細胞膜。結果，細菌繁殖可藉由干擾細胞的營養攝取而抑制。
保護塗層190可設置於抗菌塗層170上，並可完全或部分覆蓋抗菌塗層170。保護塗層190可藉由真空氣相沉積形成於抗菌塗層170上(步驟S540)。保護塗層190可包含二氧化矽基底材料。當抗菌塗層170藉由真空氣相沉積形成 於基底塗層150上時，保護塗層190可增加基底塗層150、抗菌塗層170、以及保護塗層190之間的黏著性。當保護塗層190設置於抗菌塗層170上時，保護塗層190可保護抗菌塗層170。結果，當抗菌塗層170設置於基底塗層150及保護塗層190之間時，抗菌塗層170不需直接暴露於外部環境。因此，抗菌塗層170的抗菌效果可持續性的維持。
第3圖係為顯示其中有超疏水塗層或抗指紋塗層包含在第1圖之光學塗佈結構的例示性實施例的剖面圖。第4圖係為顯示第3圖之具有超疏水塗層或抗指紋塗層之光學塗佈結構的製造過程之流程圖。參照第3及4圖，光學塗佈結構可包含基板230、抗反射塗層200、基底塗層150、抗菌塗層170、保護塗層190、以及超疏水塗層或抗指紋塗層210。
基板230可使用以確保(即，維持)可能被外部衝擊而損傷的內部元件的安全性。此基板230可包含透明聚合樹脂、強化玻璃、或半強化玻璃。透明聚合樹脂、強化玻璃、或半強化玻璃可表徵為具有高強度、高穿透性、以及防刮痕。基板230可包含化學強化玻璃。並且，基板230可設置於具有觸控螢幕面板的顯示設備上。
抗反射塗層200可包含高反射材料塗層110及低反射材料塗層130。抗反射塗層200係藉由真空氣相沉積形成於基板230上(步驟S610)。例如，高反射材料塗層110可藉由真空氣相沉積形成於基板230上，並可完全或部分覆蓋基板230。低反射材料塗層130可藉由真空氣相沉積形成於高反射材料塗層110上，並可完全或部分覆蓋高反射材料塗層110。亦即，抗反射塗層200可包含至少一對的高反射材料塗層110及低反射材料塗層130。進一步，高反射材料塗層 110及低反射材料塗層130可彼此交替設置於基板230上。包含至少一對的高反射材料塗層110及低反射材料塗層130的抗反射塗層200可形成為複數層。
低反射材料塗層130可設置於基板230上，及高反射材料塗層110可設置於低反射材料塗層130上。低反射材料塗層130可包含二氧化矽(SiO2)等。二氧化矽可增加低反射材料塗層130及玻璃基底材料的基板230之間的黏著性，且二氧化矽可增加薄膜的特性。
高反射材料塗層110及低反射材料塗層130可形成以控制光學塗佈結構於選定波長的反射率。高反射材料塗層110可包含高反射無機氧化物。例如，高反射無機氧化物可包含二氧化鈦(titanium dioxide,TiO2)、二氧化鋯(zirconium dioxide,ZrO2)、鈮酸鋰(lithium niobate,LiNbO3)、鉭酸鋰(lithium tantalite,LiTaO3)、鈦酸鑭(lanthanum titanium,LaTiO3)等。高反射材料塗層110的反射率可為約1.70至約2.80，以及於選定波長可較佳為約1.90至約2.80。然而，根據其他實施例，高反射材料塗層110的反射率可小於約1.70或大於約2.80。低反射材料塗層130的反射率於選定波長可為約1.20至約1.50。然而，根據其他實施例，低反射材料塗層130的反射率可小於約1.20或大於約1.50。低反射材料塗層130可包含低反射氧化物，例如，矽石(SiO2)等，及/或矽樹脂。因而，當光學塗佈結構具有抗反射塗層200時，可改善光學塗佈結構的透光率，以及可降低光學塗佈結構的反射率。
基底塗層150可設置於抗反射塗層200上，並可完全或部分覆蓋抗反射塗層200。基底塗層150可藉由真空氣相沉積形成於抗反射塗層200上(步驟S620)。基底塗層150可包含二氧化矽基底材料。當抗菌塗層170藉由真空氣相沉積形成於基底塗層150上時，基底塗層150可增加基底塗層150及抗菌塗層170之 間的黏著性。抗菌塗層170可選擇地形成於基底塗層150上。當抗菌塗層170直接形成於抗反射塗層200上時，可降低抗菌塗層170及抗反射塗層200之間的黏著性(例如，抗菌塗層170的粒子尺寸大)。抗菌塗層170可設置於基底塗層150上，並可完全或部分覆蓋基底塗層150。亦即，抗菌塗層170係為夾層。抗菌塗層170可藉由真空氣相沉積形成於基底塗層150上(步驟S630)。
抗菌塗層170可包含銀(Ag)基底材料、氧化鋅(ZnO)基底材料等。抗菌塗層170可包含鋅離子或銀離子。銀離子可儲存於載體。於具有銀離子的載體，銀離子可藉由真空氣相沉積形成於基底塗層150。於此情況下，無色且透明的銀離子可形成為薄膜。當銀離子可形成於包含二氧化矽的基底塗層150上時，銀離子可與二氧化矽表面的小開口結合。於部分情況下，可能不期望銀的使用。因此，具有與銀相同或相似特性的氧化鋅(ZnO)基底材料可作為抗菌塗層170的主要材料使用。抗菌塗層170可利用鋅離子及/或銀離子與細胞膜、酶蛋白等結合，以及可破壞及固化細胞膜。結果，細菌繁殖可藉由干擾細胞的營養攝取而抑制。
保護塗層190可設置於抗菌塗層170上，並可完全或部分覆蓋抗菌塗層170。保護塗層190可藉由真空氣相沉積形成於抗菌塗層170上(步驟S640)。保護塗層190可包含二氧化矽基底材料。當抗菌塗層170藉由真空氣相沉積形成於基底塗層150上時，保護塗層190可增加基底塗層150、抗菌塗層170、以及保護塗層190之間的黏著性。當保護塗層190設置於抗菌塗層170上時，保護塗層190可保護抗菌塗層170。
超疏水塗層或抗指紋塗層210可設置於保護塗層190上，並可完全或部分覆蓋保護塗層190。超疏水塗層或抗指紋塗層210可藉由真空氣相沉積形 成於保護塗層190上(步驟S650)。超疏水塗層或抗指紋塗層210可包含氟(F)基底材料。超疏水塗層的超疏水塗佈液體或抗指紋塗層210的抗指紋塗佈液體可藉由利用刷子和噴霧而形成，且接著藉由濕式塗佈(例如，熱硬化)或乾式塗佈(例如，沉積)而形成。並且，超疏水塗層或抗指紋塗層210可改善抗指紋功能(即，指紋、污染物等的雜質容易被移除)，並且化學強化光學玻璃的硬度、穿透性、及/或反射性可藉由超疏水塗層或抗指紋塗層210而影響。超疏水塗層或抗指紋塗層210可改善觸控螢幕的觸感。
結果，當抗菌塗層170設置於基底塗層150及保護塗層190之間時，抗菌塗層170不需直接暴露於外部環境，且因此抗菌塗層170的抗菌效果可持續性的維持。並且，當超疏水塗層或抗指紋塗層210設置於保護塗層190上時，光學塗佈結構可被保護免於水、指紋等的影響，且可改善觸控螢幕的觸感。
第5圖係為根據本公開顯示具有抗菌塗層之光學塗佈結構的剖面圖。第6圖係為具有第5圖之抗菌塗層之光學塗佈結構的製造過程之流程圖。參照第5及6圖，光學塗佈結構300可包含基板230、基底塗層150、抗菌塗層170、保護塗層190、以及超疏水塗層或抗指紋塗層210。
基板230可使用以確保(即，維持)可能被外部衝擊而損傷的內部元件的安全性，可包含透明聚合樹脂、強化玻璃、或半強化玻璃。透明聚合樹脂、強化玻璃、或半強化玻璃可表徵為具有高強度、高穿透性、以及防刮性質。基板230可包含化學強化玻璃。並且，基板230可設置於具有觸控螢幕面板的顯示設備上。
基底塗層150可設置於基板230上，並可完全或部分覆蓋基板230。基底塗層150可藉由真空氣相沉積形成於基板230上(步驟S710)。基底塗層 150可包含二氧化矽(SiO2)基底材料。二氧化矽可增加基底塗層150及玻璃基底材料的基板230之間的黏著性，以及二氧化矽可增加薄膜的特性。當抗菌塗層170藉由真空氣相沉積形成於基底塗層150上時，基底塗層150可增加基底塗層150及抗菌塗層170之間的黏著性。具體上，當基底塗層150包含二氧化矽等(即，低反射材料)時，基底塗層150可具有沒有低反射材料塗層的相同或相似的光學效果。為了產生相同或相似的光學效果，基底塗層150可具有預期厚度(即，適當厚度)。
抗菌塗層170可設置於基底塗層150上，並可完全或部分覆蓋基底塗層150。並且，抗菌塗層170可為夾層。抗菌塗層170可藉由真空氣相沉積形成於基底塗層150上(步驟S720)。抗菌塗層170可包含銀(Ag)基底材料、氧化鋅(ZnO)基底材料等。抗菌塗層170可包含鋅離子或銀離子。
銀離子可儲存於載體。於具有銀離子的載體，銀離子可藉由真空氣相沉積形成於基底塗層150。於此情況下，無色且透明的銀離子可形成為薄膜。當銀離子可形成於包含二氧化矽的基底塗層150上時，銀離子可與二氧化矽表面的小開口結合。於部分情況下，可能不期望銀的使用。因此，具有與銀相同或相似特性的氧化鋅(ZnO)基底材料可作為抗菌塗層170的主要材料使用。鑒於本文描述的主題內容中，氧化鋅可比銀便宜且易控制。抗菌塗層170可利用鋅離子及/或銀離子與細胞膜、酶蛋白、或其類似物結合，以及可破壞及固化細胞膜。結果，細菌繁殖可藉由干擾細胞的營養攝取而抑制。具體上，當抗菌塗層170包含二氧化鈦(titanium dioxide,TiO2)、二氧化鋯(zirconium dioxide,ZrO2)、鈮酸鋰(lithium niobate,LiNbO3)、鉭酸鋰(lithium tantalite,LiTaO3)、鈦酸鑭(lanthanum titanium,LaTiO3)等(即，高反射材料)時，抗菌塗層170可具有沒有高反射材料塗 層的相同或相似的光學效果。為了產生相同或相似的光學效果，抗菌塗層170可具有預期厚度(即，適當厚度)。
保護塗層190可設置於抗菌塗層170上，並可完全或部分覆蓋抗菌塗層170。保護塗層190可藉由真空氣相沉積形成於抗菌塗層170上(步驟S730)。保護塗層190可包含二氧化矽基底材料。當抗菌塗層170藉由真空氣相沉積形成於基底塗層150上時，保護塗層190可增加基底塗層150、抗菌塗層170、以及保護塗層190之間的黏著性。當保護塗層190設置於抗菌塗層170上時，保護塗層190可保護抗菌塗層170。具體上，當保護塗層190包含二氧化矽等(即，低反射材料)時，保護塗層190可具有沒有低反射材料塗層的相同或相似的光學效果。為了產生這種光學效果，保護塗層190可具有預期厚度(即，適當厚度)。
光學塗佈結構300可包含超疏水塗層或抗指紋塗層210的至少一個。超疏水塗層及/或抗指紋塗層210可設置於保護塗層190上，並可完全或部分覆蓋保護塗層190。超疏水塗層及/或抗指紋塗層210可藉由真空氣相沉積形成於保護塗層190上(步驟S740)。超疏水塗層及/或抗指紋塗層210可包含氟(F)基底材料。超疏水塗層的超疏水塗佈液體及/或抗指紋塗層210的抗指紋塗佈液體可藉由刷子或噴霧形成，且接著藉由濕式塗佈(例如，熱硬化)或乾式塗佈(例如，沉積)形成。並且，超疏水塗層及/或抗指紋塗層210可改善抗指紋功能(即，指紋、污染物等的雜質容易被移除)，並且化學強化光學玻璃的硬度、穿透性、及/或反射性可被超疏水塗層及/或抗指紋塗層210影響。超疏水塗層及/或抗指紋塗層210可改善觸控螢幕的觸感。
結果，當抗菌塗層170設置於基底塗層150及保護塗層190之間時，抗菌塗層170不需直接暴露於外部環境，且接著抗菌塗層170的抗菌效果可 持續性的維持。並且，當超疏水塗層及/或抗指紋塗層210設置於保護塗層190上時，光學塗佈結構300可被保護免於水、指紋等的影響，可改善觸控螢幕的觸感。
為了測試根據本發明的光學塗佈結構300的特性，而進行實驗。實驗包含有關抗菌評估的數值分析及光學塗佈結構300的可靠性評估。
表1提供光學塗佈結構的抗菌測試結果。參照表1，當抗菌塗層170設置於基底塗層150及保護塗層190之間時，抗菌塗層170的抗菌效果沒有受到超疏水塗層及/或抗指紋塗層210而降低。實質上，具有作為夾層的抗菌塗層170的光學塗佈結構300的抗菌力已證實超過約95%(實驗數值)。因而，當抗菌塗層170設置於基底塗層150及保護塗層190之間時，抗菌塗層170的抗菌特性可持續性的維持。
表2提供第5圖顯示光學塗佈結構的可靠性評估結果。參照表2，當超疏水塗層及/或抗指紋塗層210設置於保護塗層190上時，超疏水塗層及/或抗指紋塗層210的效果沒有降低。因而，超疏水塗層及/或抗指紋塗層210已滿足所有可靠性評估(耐磨測試、高溫及高溼度暴露、以及紫外線暴露)。
透過總結和回顧，由於抗菌層通常直接暴露於外部環境以及重複接觸，該層可能隨著時間而磨損或抗菌效果降低。本發明提供一種具有形成於相鄰層之間的抗菌塗層的光學塗佈結構，使抗菌塗層不需直接暴露於外部環境。根據揭露的光學塗佈結構，由於包含抗菌塗層的光學塗佈結構係形成於層之間，而未暴露於外部環境，觸控螢幕面板可持續性的具有抗菌效果。揭露的主題內容可應用於具有觸控螢幕面板的整體顯示裝置。例如，本發明可應用於行動電話、智慧型手機、筆記型電腦、桌上型電腦、個人數位助理(PDA)、攜帶 式多媒體播放器(PMP)、數位相機、音樂播放器、攜帶式遊戲機、導航裝置、或其類似物。
前述係描述性，且不被解釋為其之限制。雖然已描述一些示例性實施例，本領域之技術人員將容易理解的是，本發明的實施例中多種修飾是可行的，而不實質上背離於本文敘述之教示及優點。因而，所有諸如此類的修飾意圖旨在包含在如本發明的申請專利範圍內所定義的本發明之範疇之內。在本發明申請專利範圍，功能手段用語旨在覆蓋描述於本文中作為執行所述功能的結構，且並不僅結構均等物亦包含等價結構。因此，應當被理解的是，前述的係描述性，且不被解釋限於所揭露之具體實施例，且所揭露之示例性實施例的修改，以及其他示例性實施例，皆旨在包含於所附之申請專利範圍的範疇內。本發明概念係由下列申請專利範圍定義，且申請專利範圍之均等物被包含於其中。
於本文中已揭露的各種實施例，以及雖然使用特定用語，其僅於一般性和描述性的意義以使用及解釋，而目的並非為了限制。於部分情況下，自本申請的提交對於本領域之技術人員將顯而易見的是，結合特定實施例所描述的特徵、特性及/或元件可單獨使用，或結合與其他實施例所描述之特徵、特性、及/或元件使用，除非另有明確說明。因而，將被理解的是，本領域之技術人員可在不脫離本發明揭露的如下文之申請專利範圍的精神和範疇下，對形式及細節可進行各種變化。

Claims (9)

  1. 一種光學塗佈結構，其包含：一基板；一抗反射塗層，係設置於該基板上，且覆蓋該基板；一基底塗層，係覆蓋該抗反射塗層；一抗菌塗層，係設置於該基底塗層上，該抗菌塗層係為一夾層；一保護塗層，係覆蓋該抗菌塗層；以及一超疏水塗層及一抗指紋塗層之至少其中之一，設置於該保護塗層上。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之光學塗佈結構，其中該抗反射塗層包含至少一對的一高反射材料塗層以及一低反射材料塗層；以及其中，該高反射材料塗層及該低反射材料塗層係交替設置於該基板上。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之光學塗佈結構，其中：該抗反射塗層完全覆蓋該基板；該基底塗層完全覆蓋該抗反射塗層；以及該保護塗層完全覆蓋該抗菌塗層。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之光學塗佈結構，其中：該抗反射塗層直接與該基板接觸，兩者之間沒有中間層；該基底塗層直接與該抗反射塗層接觸，兩者之間沒有中間層； 以及該保護塗層完全直接與該抗菌塗層接觸，兩者之間沒有中間層。
  5. 一種光學塗佈結構，其包含：一基板；一基底塗層，係覆蓋該基板；一抗菌塗層，係設置於該基底塗層上，該抗菌塗層係為一夾層；一保護塗層，係覆蓋該抗菌塗層；以及一超疏水塗層或一抗指紋塗層，係設置於該保護塗層上。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之光學塗佈結構，其中該抗菌塗層包含一高反射材料塗層，以及其中該基底塗層及該保護塗層包含一低反射材料塗層。
  7. 如申請專利範圍第5項所述之光學塗佈結構，其中該抗菌塗層、該基底塗層、以及該保護塗層之厚度具有一預定反射率。
  8. 如申請專利範圍第5項所述之光學塗佈結構，其中：該基底塗層完全覆蓋該基板；該抗菌塗層完全覆蓋該基底塗層；該保護塗層完全覆蓋該抗菌塗層；以及該超疏水塗層或該抗指紋塗層完全覆蓋該保護塗層。
  9. 如申請專利範圍第5項所述之光學塗佈結構，其中：該基底塗層直接與該基板接觸，兩者之間沒有中間層； 該抗菌塗層直接與該基底塗層接觸，兩者之間沒有中間層；該保護塗層完全直接與該抗菌塗層接觸，兩者之間沒有中間層；以及該超疏水塗層或該抗指紋塗層直接與該保護塗層接觸，兩者之間沒有中間層。
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