CN105441880A - 一种过滤蓝光防炫的耐磨手机盖板及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种过滤蓝光防炫的耐磨手机盖板及其制备方法，该手机盖板包括基板，所述基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层和第八膜层；所述第一膜层、第四膜层和第六膜层均为五氧化三钛层，厚度均为10-100nm；所述第二膜层、第五膜层和第七膜层均为二氧化硅层，厚度均为50-100nm；所述第三膜层为金属层，厚度为5-20nm；所述第八膜层为高硬度层，厚度为10-50mm。其制造方法包括以下步骤：1）对基板的外表面进行清洗；2）对基板的外表面进行镀膜。本发明的手机盖板能有效地过滤33％以上有害蓝光，对有害蓝光、炫光的过滤能有效缓解视觉疲劳，采用的高硬度层能够显著提高手机盖板的耐磨性。

Description

一种过滤蓝光防炫的耐磨手机盖板及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种手机盖板技术领域，尤其是涉及一种过滤蓝光防炫的耐磨手机盖板及其制备方法。
背景技术
随着社会的进步和科技的发展，手机已广泛进入人们的工作和生活 中，目前市面上手机所带的屏幕所发出的蓝光、紫外线、炫目光对眼睛视力的伤害越来越严重。
蓝光是波长为 400-500nm 的高能量可见光，蓝光是可以直接穿透眼角膜、眼睛晶体、直达视网膜，蓝光会刺激视网膜产生大量自由基离子，使得视网膜色素上皮细胞的萎缩，并引起光敏感细胞的死亡，视网膜色素上皮细胞对蓝光区域的光辐射吸收作用很强，吸收了蓝光辐射会使视网膜色素上皮细胞萎缩，这也是产生黄斑病变的主要原因之一 ；蓝光辐射成分越高对视觉细胞伤害越大，视网膜色素上皮细胞的萎缩，会使视网膜的图像变得模糊，对模糊的影像睫状肌会在做不断的调节，加重睫状肌的工作强度，引起视觉疲劳。在紫外线和蓝光的作用下会引起人们的视觉疲劳，视力会逐渐下降，易引起眼睛视觉上的干涩、畏光、疲劳等早发性白内障、自发性黄斑部病变。因此，市场上出现了具有过滤有害蓝光的手机屏幕盖板，但是现有的手机屏幕盖板在使用过程中很容易被刮花或蹭花，影响美观，更严重的是，手机屏幕盖板的表面刮花或蹭花后，内层暴露在空气中，容易受腐蚀，影响使用寿命。另外，现有的手机屏幕盖板较少有杀菌功能，人们在使用过程中容易从手机屏幕盖板上感染细菌，给人体造成伤害。
发明内容
本发明的目的在于针对现有技术的不足，提供一种可有效防止蓝光对人体的伤害，具有高耐磨性和防炫目功能，适于夜间使用的过滤蓝光防炫的耐磨手机盖板及其制备方法。
为实现上述目的，本发明采用以下技术方案：
一种过滤蓝光防炫的耐磨手机盖板，包括基板，所述基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层和第八膜层；所述第一膜层、第四膜层和第六膜层均为五氧化三钛层，厚度均为10-100nm；所述第二膜层、第五膜层和第七膜层均为二氧化硅层，厚度均为50-100nm；所述第三膜层为金属层，厚度为5-20nm；所述第八膜层为高硬度层，厚度为10-50mm。
所述金属层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌或镍，并由电子枪蒸镀成型。
所述金属层的膜材为金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，并由电子枪蒸镀成型。
所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型。
所述基板由树脂或玻璃成型。
一种过滤蓝光防炫的耐磨手机盖板的制备方法，所述基板由树脂成型时，所述制备方法具体包括以下步骤：
1）对基板的外表面进行清洗；
2）对基板的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为5-20nm；其中，所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第五膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
F、镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第六膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
G、镀第七膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为7Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第七膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
H、镀第八膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为7Å/S，第八膜层最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第八膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，形成高硬度层；
所述的步骤1）中对基板的外表面进行清洗的具体方法如下：将基板放在真空腔内，用离子枪轰击基板的外表面2-3分钟进行清洗。
一种过滤蓝光防炫的耐磨手机盖板的制备方法，所述基板由玻璃成型时，所述制备方法具体包括以下步骤：
1）对基板的外表面进行清洗；
2）对基板的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为5-20nm；其中，所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第五膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
F、镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第六膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
G、镀第七膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为7Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第七膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
H、镀第八膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为7Å/S，第八膜层最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第八膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，形成高硬度层；
所述的步骤1）中对基板的外表面进行清洗的具体方法如下：将基板放在真空腔内，用离子枪轰击基板的外表面5-10分钟进行清洗。
本发明采用电子束真空蒸镀的原理，利用带电荷的粒子在电场中加速后具有一定动能的特点，将离子引向欲被镀膜的基板制成的电极，并通过电子枪高温轰击单质存在的高纯度金属、金属合金或其它氧化物，蒸发出来的纳米分子使其沿着一定的方向运动到基板并最终在基板上沉积成膜的方法。本项发明技术结合利用磁场的特殊分布控制电场中的电子运动轨迹，以此改进镀膜的工艺，使得镀膜厚度及均匀性可控，且制备的膜层致密性好、粘结力强及纯净度高。
本发明在基板上真空蒸镀有五氧化三钛层，充分利用了五氧化三钛晶体材料镀膜操作性好，膜层密集，均匀，稳定，应力小等性能，以及五氧化三钛晶体材料在可见光波段内具有最高的折射率，结晶性好，蒸镀稳定，无放气和喷溅等优点，使其适合在手机盖板基板上镀制增透性好的多层膜。
本发明在基板上真空蒸镀有二氧化硅层，主要起增加膜层附着力、耐磨性以及抗冲击性的作用，同时可以吸收有害光。
本发明的五氧化三钛层和二氧化硅层相互配合，主要起到控制过滤波长的效果，本发明在手机盖板基板外表面蒸镀若干交替设置的五氧化三钛层和二氧化硅层，不仅有效滤去了绝大部分紫光和蓝光，而且能有效反射有害光、强光、炫目光波、强闪动光波，减少对人眼视网膜的伤害以及短波眩光的刺激；本发明第三膜层的金属层，不仅提升了防蓝光效果和清晰度，而且也可以反射有害光、炫目光波、强闪动光波等；本发明通过上述膜层相互配合，起到吸收、反射、转化、过滤等功效，是手机盖板镀膜过滤蓝光防炫耐磨的核心技术；同时，通过调节上述各膜层的厚度，使得波长较长的可见光产生相干干涉，从而进一步产生防眩效果；在基板外表面的最外层设置高硬度层，有效提高了手机盖板的耐磨性，可以防止其刮花。
本发明的手机盖板基板由树脂成型时，通过本发明制备方法制得的手机盖板各膜层在零下20℃时的附着力为2-4hrs，在80℃时的附着力为2-4hrs；本发明的手机盖板基板由玻璃成型时，通过本发明制备方法制得的手机盖板各膜层在零下20℃时的附着力为6-9hrs，在80℃时的附着力为6-9hrs；本发明的手机盖板镀有的多个膜层能有效地过滤33％以上有害蓝光，同时金属层能够有效地提升清晰度和防蓝光效果，从而提高手机盖板的整体清晰度，对于视觉的清晰度和真实性有着很好的贡献，对有害蓝光、炫光的过滤能有效缓解视觉疲劳，采用的高硬度层能够显著提高手机盖板的耐磨性。
附图说明
以下结合附图和具体实施方式对本发明做进一步详细说明：
图1为本发明过滤蓝光防炫的耐磨手机盖板的分解图。
具体实施方式
如图1所示，本发明包括基板1，所述基板的外表面从里到外依序设有第一膜层2、第二膜层3、第三膜层4、第四膜层5、第五膜层6、第六膜层7、第七膜层8和第八膜层9；所述第一膜层2、第四膜层5和第六膜层7均为五氧化三钛层，厚度均为10-100nm；所述第二膜层3、第五膜层6和第七膜层8均为二氧化硅层，厚度均为50-100nm；所述第三膜层4为金属层，厚度为5-20nm；所述第八膜层9为高硬度层，厚度为10-50mm。
所述金属层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌或镍，并由电子枪蒸镀成型。
所述金属层的膜材为金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，并由电子枪蒸镀成型。
所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型。
所述基板由树脂或玻璃成型。
一种过滤蓝光防炫的耐磨手机盖板的制备方法，所述基板由树脂成型时，所述制备方法具体包括以下步骤：
1）对基板的外表面进行清洗；
2）对基板的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为5-20nm；其中，所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第五膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
F、镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第六膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
G、镀第七膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为7Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第七膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
H、镀第八膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为7Å/S，第八膜层最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第八膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，形成高硬度层；
所述的步骤1）中对基板的外表面进行清洗的具体方法如下：将基板放在真空腔内，用离子枪轰击基板的外表面2-3分钟进行清洗。
一种过滤蓝光防炫的耐磨手机盖板的制备方法，所述基板由玻璃成型时，所述制备方法具体包括以下步骤：
1）对基板的外表面进行清洗；
2）对基板的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为5-20nm；其中，所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第五膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
F、镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第六膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
G、镀第七膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为7Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第七膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
H、镀第八膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为7Å/S，第八膜层最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第八膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，形成高硬度层；
所述的步骤1）中对基板的外表面进行清洗的具体方法如下：将基板放在真空腔内，用离子枪轰击基板的外表面5-10分钟进行清洗。
本发明采用电子束真空蒸镀的原理，利用带电荷的粒子在电场中加速后具有一定动能的特点，将离子引向欲被镀膜的基板制成的电极，并通过电子枪高温轰击将高纯度金属或金属氧化物，蒸发出来的纳米分子使其沿着一定的方向运动到基板并最终在基板上沉积成膜的方法。本项发明技术结合利用磁场的特殊分布控制电场中的电子运动轨迹，以此改进镀膜的工艺，使得镀膜厚度及均匀性可控，且制备的膜层致密性好、粘结力强及纯净度高。
本发明在基板上真空蒸镀有五氧化三钛层，充分利用了五氧化三钛晶体材料镀膜操作性好，膜层密集，均匀，稳定，应力小等性能，以及五氧化三钛晶体材料在可见光波段内具有最高的折射率，结晶性好，蒸镀稳定，无放气和喷溅等优点，使其适合在手机盖板基板上镀制增透性好的多层膜。
本发明在基板上真空蒸镀有二氧化硅层，主要起增加膜层附着力、耐磨性以及抗冲击性的作用，同时可以吸收有害光。
本发明的五氧化三钛层和二氧化硅层相互配合，主要起到控制过滤波长的效果，本发明在手机盖板基板外表面蒸镀若干交替设置的五氧化三钛层和二氧化硅层，不仅有效滤去了绝大部分紫光和蓝光，而且能有效反射有害光、强光、炫目光波、强闪动光波，减少对人眼视网膜的伤害以及短波眩光的刺激；本发明第三膜层的金属层，不仅提升了防蓝光效果和清晰度，而且也可以反射有害光、炫目光波、强闪动光波等；本发明通过上述膜层相互配合，起到吸收、反射、转化、过滤等功效，是手机盖板镀膜过滤蓝光防炫耐磨的核心技术；同时，通过调节上述各膜层的厚度，使得波长较长的可见光产生相干干涉，从而进一步产生防眩效果；在基板外表面的最外层设置高硬度层，有效提高了手机盖板的耐磨性，可以防止其刮花。
本发明的手机盖板基板由树脂成型时，通过本发明制备方法制得的手机盖板各膜层在零下20℃时的附着力为2-4hrs，在80℃时的附着力为2-4hrs；本发明的手机盖板基板由玻璃成型时，通过本发明制备方法制得的手机盖板各膜层在零下20℃时的附着力为6-9hrs，在80℃时的附着力为6-9hrs；本发明的手机盖板镀有的多个膜层能有效地过滤33％以上有害蓝光，同时金属层能够有效地提升清晰度和防蓝光效果，从而提高手机盖板的整体清晰度，对于视觉的清晰度和真实性有着很好的贡献，对有害蓝光、炫光的过滤能有效缓解视觉疲劳，采用的高硬度层能够显著提高手机盖板的耐磨性。

Claims (9)

1.一种过滤蓝光防炫的耐磨手机盖板，包括基板，其特征在于：所述基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层和第八膜层；所述第一膜层、第四膜层和第六膜层均为五氧化三钛层，厚度均为10-100nm；所述第二膜层、第五膜层和第七膜层均为二氧化硅层，厚度均为50-100nm；所述第三膜层为金属层，厚度为5-20nm；所述第八膜层为高硬度层，厚度为10-50mm。
2.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光防炫的耐磨手机盖板，其特征在于：所述金属层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌或镍，并由电子枪蒸镀成型。
3.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光防炫的耐磨手机盖板，其特征在于：所述金属层的膜材为金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，并由电子枪蒸镀成型。
4.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光防炫的耐磨手机盖板，其特征在于：所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型。
5.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光防炫的耐磨手机盖板，其特征在于：所述基板由树脂或玻璃成型。
6.根据权利要求5所述过滤蓝光防炫的耐磨手机盖板的制备方法，其特征在于：所述基板由树脂成型时，所述制备方法具体包括以下步骤：
1）对基板的外表面进行清洗；
2）对基板的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为5-20nm；其中，所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第五膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
F、镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第六膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
G、镀第七膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为7Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第七膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
H、镀第八膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为7Å/S，第八膜层最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第八膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，形成高硬度层。
7.根据权利要求6所述的一种过滤蓝光防炫的耐磨手机盖板的制备方法，其特征在于：所述的步骤1）中对基板的外表面进行清洗的具体方法如下：将基板放在真空腔内，用离子枪轰击基板的外表面2-3分钟进行清洗。
8.根据权利要求5所述过滤蓝光防炫的耐磨手机盖板的制备方法，其特征在于：所述基板由玻璃成型时，所述制备方法具体包括以下步骤：
1）对基板的外表面进行清洗；
2）对基板的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为5-20nm；其中，所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第五膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
F、镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第六膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
G、镀第七膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为7Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第七膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
H、镀第八膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为7Å/S，第八膜层最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第八膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，形成高硬度层。
9.根据权利要求8所述的一种过滤蓝光防炫的耐磨手机盖板的制备方法，其特征在于：所述的步骤1）中对基板的外表面进行清洗的具体方法如下：将基板放在真空腔内，用离子枪轰击基板的外表面5-10分钟进行清洗。
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