CN108060390A - 一种防尘镜片镀膜方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种防尘镜片镀膜方法，制造方法是在高分子树脂材料成型的基片外表面和内表面分别蒸镀膜系形成防蓝光光学镜片，制造方法具体包括以下步骤：1）对基片进行清洗；2）基片清洗后的干燥：3）基片镀膜前在真空蒸镀机的真空舱内的再次清洗：4）基片的镀膜：基片的镀膜包括在基片的外表面镀膜系和在基片的内表面镀膜系。本发明可以达到减少镜片表面的反射从而增加光的透过率提高佩戴舒适度的良好效果，AR膜层中包括琥珀层，琥珀具有耐磨、抗腐蚀的特性，蒸镀琥珀层可以起到良好的防尘效果。
Description
技术领域
本发明涉及一种防尘镜片镀膜方法。
背景技术
人们已经知道紫外线对眼睛会造成伤害，长期的紫外线照射能引发白内障。同样，蓝光是波长为400-500nm的高能量可见光，蓝光是可以直接穿透眼角膜、眼睛晶体、直达视网膜，蓝光会刺激视网膜产生大量自由基离子，使得视网膜色素上皮细胞的萎缩，并引起光敏感细胞的死亡，视网膜色素上皮细胞对蓝光区域的光辐射吸收作用很强，吸收了蓝光辐射会使视网膜色素上皮细胞萎缩，这也是产生黄斑病变的主要原因之一；蓝光辐射成分越高对视觉细胞伤害越大，视网膜色素上皮细胞的萎缩，会使视网膜的图像变得模糊，对模糊的影像睫状肌会在做不断的调节，加重睫状肌的工作强度，引起视觉疲劳。在紫外线和蓝光的作用下会引起人们的视觉疲劳，视力会逐渐下降，易引起眼睛视觉上的干涩、畏光、疲劳等早发性白内障、自发性黄斑部病变。
现有技术中，减少蓝光伤害和增加透光率的要求往往不可兼得，顾此失彼，此消彼长，要想减少蓝光伤害，必须要以牺牲透光率作为代价。现有提案提出在诸如丙烯酸系基片前后表面镀膜，包括减反射膜或者增透膜等，以在防蓝光伤害的同时达到增透的效果。即采用这种前后表面膜系不同的结构，前表面膜层高效防止蓝光对人眼的伤害，后表面膜层增加镜片的透过率，达到增透的效果。
基于此，镜片表面清洁度将极大影响透过率，同时也会影响防有害蓝光效果，所以，位于镜片最外层的清洁膜也起到了非常关键的作用，该清洁膜反过来会对其他膜层产生反面影响，所以，在工艺上，关于清洁膜的研究也是一项重要课题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种防尘镜片镀膜方法，该方法制造出来的镜片具有具有防尘功能，同时还能防止有害蓝光和紫外线对人体的伤害。
为实现上述目的，本发明采用以下技术方案：
一种防尘镜片镀膜方法，其包括在基片外表面和内表面分别蒸镀膜系形成防尘光学镜片，其特征在于：所述镀膜方法具体包括以下步骤：
1）对基片进行清洗；
2）基片清洗后的干燥：将清洗后的基片用异丙醇脱干，脱干后的基片采用异丙醇慢拉干燥，再置于无尘镀膜恒温烤箱中于 60℃～ 75℃烘烤8 小时以上；
3）加硬处理：将镜片基片浸入甲基硅树脂强化溶液中，加硬处理温度115-125℃，2小时后将镜片基片取出并送至烘干箱内干燥固化，烘干温度120℃，固化时间60分钟；
4）退火处理：将加硬处理后的镜片进行退火处理：
5）二次清洗：将退火处理后的镜片基片置于真空镀膜舱内，用霍尔离子源对镜片基片进行离子轰击3-5分钟；
6）镀AR膜：采用真空蒸镀的方式对二次清洗后的镜片基片镀AR膜。
步骤6）镀AR膜的具体步骤如下：
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击二氧化硅，二氧化硅蒸发后以纳米级分子形式沉积于镜片基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为7Å/S，第一膜层形成后的厚度为5-15nm，最终形成二氧化硅层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击五氧化三钛，五氧化三钛蒸发后以纳米级分子形式沉积于第一膜层的外表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第二膜层形成后的厚度为10-20nm，最终形成五氧化三钛层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击二氧化硅，二氧化硅蒸发后以纳米级分子形式沉积于第二膜层的外表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为7Å/S，第三膜层形成后的厚度为20-50nm，最终形成二氧化硅层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击五氧化三钛，五氧化三钛蒸发后以纳米级分子形式沉积于第三膜层的外表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第四膜层形成后的厚度为60-100nm，最终形成五氧化三钛层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击二氧化锗，二氧化锗蒸发后以纳米级分子形式沉积于第四膜层的外表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S，第五膜层形成后的厚度为60-100nm，最终形成二氧化锗层。
所述步骤1）中，对基片的清洗具体步骤如下：
a、采用有机溶剂清洗剂对基片进行清洗，并以超声波辅助清洗；
b、采用水基清洗剂对经步骤a清洗的基片进行清洗，并以超声波辅助清洗；
c、将步骤b处理的基片依序进行自来水漂洗和蒸馏水漂洗。
所述基片为高分子树脂成型。
本发明采用电子束真空蒸镀的原理，利用带电荷的粒子在电场中加速后具有一定动能的特点，将离子引向欲被镀膜的基片制成的电极，并通过电子枪高温轰击将高纯度金属氧化物组分，蒸发出来的纳米分子使其沿着一定的方向运动到基片并最终在基片上沉积成膜的方法。本项发明技术结合利用磁场的特殊分布控制电场中的电子运动轨迹，以此改进镀膜的工艺，使得镀膜厚度及均匀性可控，且制备的膜层致密性好、粘结力强及纯净度高。
本发明再基片表面加镀AR膜层，可以达到减少镜片表面的反射从而增加光的透过率提高佩戴舒适度的良好效果，AR膜层中包括二氧化锗层、琥珀层，二氧化锗的有较高的折射率和色散性能，琥珀具有耐磨、抗腐蚀的特性，蒸镀琥珀层可以起到良好的防尘效果。
附图说明
以下结合附图和具体实施方式对本发明做进一步详细说明：
图1为本发明整体的分解图。
具体实施方式
如图1所示，本发明包括在基片1外表面和内表面分别蒸镀膜系形成防尘光学镜片，其特征在于：所述镀膜方法具体包括以下步骤：
1）对基片1进行清洗；
2）基片1清洗后的干燥：将清洗后的基片1用异丙醇脱干，脱干后的基片1采用异丙醇慢拉干燥，再置于无尘镀膜恒温烤箱中于 60℃～ 75℃烘烤8 小时以上；
3）加硬处理：将镜片基片1浸入甲基硅树脂强化溶液中，加硬处理温度115-125℃，2小时后将镜片基片1取出并送至烘干箱内干燥固化，烘干温度120℃，固化时间60分钟；
4）退火处理：将加硬处理后的镜片进行退火处理：
5）二次清洗：将退火处理后的镜片基片1置于真空镀膜舱内，用霍尔离子源对镜片基片1进行离子轰击3-5分钟；
6）镀AR膜：采用真空蒸镀的方式对二次清洗后的镜片基片1镀AR膜。
步骤6）镀AR膜的具体步骤如下：
A、镀第一膜层2：
将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击二氧化硅，二氧化硅蒸发后以纳米级分子形式沉积于镜片基片1的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为7Å/S，第一膜层形成后的厚度为5-15nm，最终形成二氧化硅层；
B、镀第二膜层3：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击五氧化三钛，五氧化三钛蒸发后以纳米级分子形式沉积于第一膜层的外表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第二膜层形成后的厚度为10-20nm，最终形成五氧化三钛层；
C、镀第三膜层4：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击二氧化硅，二氧化硅蒸发后以纳米级分子形式沉积于第二膜层的外表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为7Å/S，第三膜层形成后的厚度为20-50nm，最终形成二氧化硅层；
D、镀第四膜层5：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击五氧化三钛，五氧化三钛蒸发后以纳米级分子形式沉积于第三膜层的外表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第四膜层形成后的厚度为60-100nm，最终形成五氧化三钛层；
E、镀第五膜层6：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击二氧化锗，二氧化锗蒸发后以纳米级分子形式沉积于第四膜层的外表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S，第五膜层形成后的厚度为60-100nm，最终形成二氧化锗层。
F、镀第六膜层7：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击琥珀，琥珀蒸发后以纳米级分子形式沉积于第五膜层的外表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层形成后的厚度为60-100nm，最终形成琥珀层。
所述步骤1）中，对基片1的清洗具体步骤如下：
a、采用有机溶剂清洗剂对基片1进行清洗，并以超声波辅助清洗；
b、采用水基清洗剂对经步骤a清洗的基片1进行清洗，并以超声波辅助清洗；
c、将步骤b处理的基片1依序进行自来水漂洗和蒸馏水漂洗。
所述基片1为高分子树脂成型。
Claims (4)
1.一种防尘镜片镀膜方法，其包括在基片外表面和内表面分别蒸镀膜系形成防尘光学镜片，其特征在于：所述镀膜方法具体包括以下步骤：
1）对基片进行清洗；
2）基片清洗后的干燥：将清洗后的基片用异丙醇脱干，脱干后的基片采用异丙醇慢拉干燥，再置于无尘镀膜恒温烤箱中于 60℃～ 75℃烘烤8 小时以上；
3）加硬处理：将镜片基片浸入甲基硅树脂强化溶液中，加硬处理温度115-125℃，2小时后将镜片基片取出并送至烘干箱内干燥固化，烘干温度120℃，固化时间60分钟；
4）退火处理：将加硬处理后的镜片进行退火处理：
5）二次清洗：将退火处理后的镜片基片置于真空镀膜舱内，用霍尔离子源对镜片基片进行离子轰击3-5分钟；
6）镀AR膜：采用真空蒸镀的方式对二次清洗后的镜片基片镀AR膜。
2.根据权利要求1所述的一种镜片加工方法，其特征在于：步骤6）镀AR膜的具体步骤如下：
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击二氧化硅，二氧化硅蒸发后以纳米级分子形式沉积于镜片基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为7Å/S，第一膜层形成后的厚度为5-15nm，最终形成二氧化硅层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击五氧化三钛，五氧化三钛蒸发后以纳米级分子形式沉积于第一膜层的外表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第二膜层形成后的厚度为10-20nm，最终形成五氧化三钛层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击二氧化硅，二氧化硅蒸发后以纳米级分子形式沉积于第二膜层的外表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为7Å/S，第三膜层形成后的厚度为20-50nm，最终形成二氧化硅层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击五氧化三钛，五氧化三钛蒸发后以纳米级分子形式沉积于第三膜层的外表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第四膜层形成后的厚度为60-100nm，最终形成五氧化三钛层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击二氧化锗，二氧化锗蒸发后以纳米级分子形式沉积于第四膜层的外表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S，第五膜层形成后的厚度为60-100nm，最终形成二氧化锗层；
F、镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击琥珀，琥珀蒸发后以纳米级分子形式沉积于第五膜层的外表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层形成后的厚度为60-100nm，最终形成琥珀层。
3.根据权利要求1所述的一种防尘镜片镀膜方法，其特征在于：所述步骤1）中，对基片的清洗具体步骤如下：
a、采用有机溶剂清洗剂对基片进行清洗，并以超声波辅助清洗；
b、采用水基清洗剂对经步骤a清洗的基片进行清洗，并以超声波辅助清洗；
c、将步骤b处理的基片依序进行自来水漂洗和蒸馏水漂洗。
4.根据权利要求1所述的一种防尘镜片镀膜方法，其特征在于：所述基片为高分子树脂成型。
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