CN108363123A - 一种防水镜片镀膜方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种防水镜片镀膜方法，制造方法是在高分子树脂材料成型的基片外表面和内表面分别蒸镀膜系形成防蓝光光学镜片，制造方法具体包括以下步骤：1）对基片进行清洗；2）基片清洗后的干燥：3）基片镀膜前在真空蒸镀机的真空舱内的再次清洗：4）基片的镀膜：基片的镀膜包括在基片的外表面镀膜系和在基片的内表面镀膜系。本发明制造出来的防蓝光光学镜片具有防止有害蓝光和紫外线对人体的伤害，该防蓝光光学镜片同时还具有防水和自主光学调控的功能。

Description

一种防水镜片镀膜方法
技术领域
本发明涉及一种防水镜片镀膜方法。
背景技术
人们已经知道紫外线对眼睛会造成伤害，长期的紫外线照射能引发白内障。同样，蓝光是波长为400-500nm的高能量可见光，蓝光是可以直接穿透眼角膜、眼睛晶体、直达视网膜，蓝光会刺激视网膜产生大量自由基离子，使得视网膜色素上皮细胞的萎缩，并引起光敏感细胞的死亡，视网膜色素上皮细胞对蓝光区域的光辐射吸收作用很强，吸收了蓝光辐射会使视网膜色素上皮细胞萎缩，这也是产生黄斑病变的主要原因之一；蓝光辐射成分越高对视觉细胞伤害越大，视网膜色素上皮细胞的萎缩，会使视网膜的图像变得模糊，对模糊的影像睫状肌会在做不断的调节，加重睫状肌的工作强度，引起视觉疲劳。在紫外线和蓝光的作用下会引起人们的视觉疲劳，视力会逐渐下降，易引起眼睛视觉上的干涩、畏光、疲劳等早发性白内障、自发性黄斑部病变。
此外，人们的手触摸到触摸显示屏上时，手上的油污和水渍很容易在触摸显示屏上留下痕迹，这些痕迹又很不容易擦除掉，这样就会影响使用者观察事物的效果，给使用者带来不便。而且经常性的擦拭触摸显示屏又很容易将触摸显示屏刮花。
发明内容
本发明的目的在于提供一种防水镜片镀膜方法，该方法制造出来的镜片具有防水和自主光学调控的功能，同时还具有防止有害蓝光和紫外线对人体的伤害。
为实现上述目的，本发明采用以下技术方案：
一种防水镜片镀膜方法，所述制造方法是在基片外表面和内表面分别蒸镀膜系形成防蓝光光学镜片，所述制造方法具体包括以下步骤：
1）对基片进行清洗；
2）基片清洗后的干燥：将清洗后的基片用异丙醇脱干，脱干后的基片采用异丙醇慢拉干燥，再置于无尘镀膜恒温烤箱中于 60℃～ 75℃烘烤8 小时以上；
3）加硬处理：将镜片基片浸入甲基硅树脂强化溶液中，加硬处理温度115-125℃，2小时后将镜片基片取出并送至烘干箱内干燥固化，烘干温度120℃，固化时间60分钟；
4）退火处理：将加硬处理后的镜片进行退火处理：
5）二次清洗：将退火处理后的镜片基片置于真空镀膜舱内，用霍尔离子源对镜片基片进行离子轰击3-5分钟；
6）基片的镀膜：基片的镀膜包括在基片的外表面镀膜系和在基片的内表面镀膜系；
A、基片的外表面镀膜系依序包括镀抗冲击强化膜层、镀抗紫外线膜层、镀防蓝光膜层、镀光学调控膜层、镀防水膜层；
A1、镀抗冲击强化膜层：将真空舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，采用电子枪，将抗冲击强化膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于基片外表面，形成抗冲击强化膜层，抗冲击强化膜层的厚度为50-100纳米；所述抗冲击强化膜层的膜材为氧化硅；
A2、镀抗紫外线膜层：将真空舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，采用电子枪将抗紫外线膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤A1中抗冲击强化膜层的表面，形成抗紫外线膜层，抗紫外线膜层的厚度为10-50纳米；所述抗紫外线膜层的膜材包括以下重量比组分的混合物：氧化硅20%-80%；氧化锆20%-80%；
A3、镀防蓝光膜层：将真空舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，采用电子枪将防蓝光膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤A2中抗紫外线膜层的表面，形成防蓝光膜层，防蓝光膜层的厚度为5-20纳米；所述防蓝光膜层的膜材包括以下重量比组分的混合物：氧化锡30%-60%；铷10%-40%；铂10%-40%；
重复步骤A3至少一次以上，形成两层以上相互堆叠的防蓝光膜层；
A4、镀光学调控膜层：采用电子枪将光学调控膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤A3中防蓝光膜层的表面，形成光学调控膜层，光学调控膜层的厚度为20-100纳米；所述光学调控膜层的膜材包括以下重量比组分的混合物：铝40%-60%；氧化硅40%-60%；
A5、镀防水膜层：保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击蜜蜡，蜜蜡蒸发后以纳米级分子形式沉积于第五膜层的外表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层形成后的厚度为60-100nm，最终形成蜜蜡防水膜层；
防水膜层镀膜完成，基片的外表面镀膜系完成后，转入基片的内表面镀膜系；
B、基片的内表面镀膜系依序包括镀抗冲击强化膜层、镀抗紫外线膜层、镀防蓝光膜层、镀防水膜层；
B1、镀抗冲击强化膜层：采用电子枪，将抗冲击强化膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于基片内表面，形成抗冲击强化膜层，抗冲击强化膜层的厚度为50-100纳米；所述抗冲击强化膜层的膜材为氧化硅；
B2、镀抗紫外线膜层：采用电子枪将抗紫外线膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤A1中抗冲击强化膜层的表面，形成抗紫外线膜层，抗紫外线膜层的厚度为10-50纳米；所述抗紫外线膜层的膜材包括以下重量比组分的混合物：氧化硅20%-80%；氧化锆20-80%；
重复步骤B2至少一次以上，形成两层以上相互堆叠的抗紫外线膜层；
B3、镀防蓝光膜层：采用电子枪将防蓝光膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤B2中抗紫外线膜层的表面，形成防蓝光膜层，防蓝光膜层的厚度为5-20纳米；所述防蓝光膜层的膜材包括以下重量比组分的混合物：氧化锡30%-60%；铷10%-40%；铂10%-40%；
重复步骤B3至少一次以上，形成两层以上相互堆叠的防蓝光膜层；
B4、镀防水膜层：保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击蜜蜡，蜜蜡蒸发后以纳米级分子形式沉积于第五膜层的外表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层形成后的厚度为60-100nm，最终形成蜜蜡防水膜层。
所述步骤1）中，对基片的清洗具体步骤如下：
a、采用有机溶剂清洗剂对基片进行清洗，并以超声波辅助清洗；
b、采用水基清洗剂对经步骤a清洗的基片进行清洗，并以超声波辅助清洗；
c、将步骤b处理的基片依序进行自来水漂洗和蒸馏水漂洗。
所述基片为高分子树脂成型。
基片外表面和内表面的抗冲击强化膜层的作用：1、能使镜片的耐冲击性能提高，镜片不容易破碎避免伤害眼睛；2、提高镜片的附着力，可以作为镀下一层膜层的介质有着很好粘结作用使得膜层间不容易脱层。
基片外表面和内表面的抗紫外线膜层的作用：耐腐蚀、抗氧化、阻挡紫外线。
基片外表面和内表面的防蓝光膜层的作用：针对波长为380-500nm的蓝光吸收率达到达33%以上，以及各种对人体有害的射线，使视野更清晰明亮，而且还能有效保护眼睛，缓减视觉疲劳。
基片外表面光学调控膜层的作用：它利用了变焦相机镜头的原理，在光线昏暗或光线太强的环境中，光学调控膜层有一定的自主光学调控，起到光平衡的作用，使得用户更快适应环境；久视伤神，长时间对着电脑、液晶屏幕，眼睛会出现酸痛、干涩、眼胀、流泪等视觉疲劳现象，通过光学调控膜的处理可以缓解视觉疲劳。
基片外表面和内表面的防水膜层的作用：防水膜层将已镀上基片表面的膜层覆盖起来，并且能够将水和油与镜片的接触面积减少，使油和水滴不易粘附于镜片表面。
本发明采用电子束真空蒸镀的原理，利用带电荷的粒子在电场中加速后具有一定动能的特点，将离子引向欲被镀膜的基片制成的电极，并通过电子枪高温轰击将高纯度金属氧化物组分，蒸发出来的纳米分子使其沿着一定的方向运动到基片并最终在基片上沉积成膜的方法。本项发明技术结合利用磁场的特殊分布控制电场中的电子运动轨迹，以此改进镀膜的工艺，使得镀膜厚度及均匀性可控，且制备的膜层致密性好、粘结力强及纯净度高。
本发明在触摸显示屏的基板上镀有的五氧化三钛层、二氧化硅层和金属层能有效地过滤33％以上有害蓝光，同时金属层还能够有效地提升触摸显示屏的清晰度，对于视觉的清晰度和真实性有着很好的贡献，通过对有害蓝光的过滤能有效的缓解视觉疲劳，而且高硬度层能够显著提高触摸显示屏的耐磨性。另外，防水层具有很好的疏水性和防油污功能，本发明的触摸显示屏还能有效地防水和防油污，因此，使用者手上的油污和水渍就不会在触摸显示屏上留下痕迹。
附图说明
以下结合附图和具体实施方式对本发明做进一步详细说明：
图1为本发明整体的分解图。
具体实施方式
如图1所示，一种防水镜片镀膜方法，所述制造方法是在基片1外表面和内表面分别蒸镀膜系形成防蓝光光学镜片，所述制造方法具体包括以下步骤：
1）对基片1进行清洗；
2）基片1清洗后的干燥：将清洗后的基片1用异丙醇脱干，脱干后的基片采用异丙醇慢拉干燥，再置于无尘镀膜恒温烤箱中于 60℃～ 75℃烘烤8 小时以上；
3）加硬处理：将镜片基片1浸入甲基硅树脂强化溶液中，加硬处理温度115-125℃，2小时后将镜片基片取出并送至烘干箱内干燥固化，烘干温度120℃，固化时间60分钟；
4）退火处理：将加硬处理后的基片进行退火处理：
5）二次清洗：将退火处理后的镜片基片置于真空镀膜舱内，用霍尔离子源对镜片基片进行离子轰击3-5分钟；
6）基片1的镀膜：基片1的镀膜包括在基片1的外表面镀膜系和在基片1的内表面镀膜系；
A、基片1的外表面镀膜系依序包括镀抗冲击强化膜层、镀抗紫外线膜层、镀防蓝光膜层4、镀光学调控膜层5、镀防水膜层6；
A1、镀抗冲击强化膜层2：将真空舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，采用电子枪，将抗冲击强化膜层2的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于基片1外表面，形成抗冲击强化膜层2，抗冲击强化膜层2的厚度为50-100纳米；所述抗冲击强化膜层2的膜材为氧化硅；
A2、镀抗紫外线膜层3：将真空舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，采用电子枪将抗紫外线膜层3的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤A1中抗冲击强化膜层2的表面，形成抗紫外线膜层3，抗紫外线膜层3的厚度为10-50纳米；所述抗紫外线膜层3的膜材包括以下重量比组分的混合物：氧化硅20%-80%；氧化锆20%-80%；
A3、镀防蓝光膜层4：将真空舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，采用电子枪将防蓝光膜层4的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤A2中抗紫外线膜层3的表面，形成防蓝光膜层4，防蓝光膜层4的厚度为5-20纳米；所述防蓝光膜层4的膜材包括以下重量比组分的混合物：氧化锡30%-60%；铷10%-40%；铂10%-40%；
重复步骤A3至少一次以上，形成两层以上相互堆叠的防蓝光膜层4；
A4、镀光学调控膜层5：采用电子枪将光学调控膜层5的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤A3中防蓝光膜层4的表面，形成光学调控膜层5，光学调控膜层5的厚度为20-100纳米；所述光学调控膜层5的膜材包括以下重量比组分的混合物：铝40%-60%；氧化硅40%-60%；
A5、镀防水膜层6：保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击蜜蜡，蜜蜡蒸发后以纳米级分子形式沉积于第五膜层的外表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层形成后的厚度为60-100nm，最终形成蜜蜡防水膜层；
防水膜层6镀膜完成，基片1的外表面镀膜系完成后，转入基片1的内表面镀膜系；
B、基片1的内表面镀膜系依序包括镀抗冲击强化膜层7、镀抗紫外线膜层3、镀防蓝光膜层4、镀防水膜层6；
B1、镀抗冲击强化膜层7：采用电子枪，将抗冲击强化膜层7的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于基片1内表面，形成抗冲击强化膜层7，抗冲击强化膜层7的厚度为50-100纳米；所述抗冲击强化膜层7的膜材为氧化硅；
B2、镀抗紫外线膜层8：采用电子枪将抗紫外线膜层8的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤A1中抗冲击强化膜层7的表面，形成抗紫外线膜层8，抗紫外线膜层8的厚度为10-50纳米；所述抗紫外线膜层8的膜材包括以下重量比组分的混合物：氧化硅20%-80%；氧化锆20-80%；
重复步骤B2至少一次以上，形成两层以上相互堆叠的抗紫外线膜层8；
B3、镀防蓝光膜层9：采用电子枪将防蓝光膜层9的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤B2中抗紫外线膜层8的表面，形成防蓝光膜层9，防蓝光膜层9的厚度为5-20纳米；所述防蓝光膜层9的膜材包括以下重量比组分的混合物：氧化锡30%-60%；铷10%-40%；铂10%-40%；
重复步骤B3至少一次以上，形成两层以上相互堆叠的防蓝光膜层9；
B4、保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击蜜蜡，蜜蜡蒸发后以纳米级分子形式沉积于第五膜层的外表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层形成后的厚度为60-100nm，最终形成蜜蜡防水膜层。
所述步骤1）中，对基片1的清洗具体步骤如下：
a、采用有机溶剂清洗剂对基片1进行清洗，并以超声波辅助清洗；
b、采用水基清洗剂对经步骤a清洗的基片1进行清洗，并以超声波辅助清洗；
c、将步骤b处理的基片1依序进行自来水漂洗和蒸馏水漂洗。
所述基片1为高分子树脂成型。高分子树脂基片1是以树脂（多种高分子化合物的混合物）为原料经过精密的化学工艺进行加工合成的光学镜片；其材质优点有1、抗冲击力强，不易碎，抗冲击力为8-10公斤／平方厘米，2、透光性好，树脂镜片经过镀膜处理可以有效过滤有害光线对人体眼睛的伤害；3、质量轻，每平方厘米的重量在0.83-1.5克；4、便于加工，如高折射率(1.499-1.74)的光学镜片和非球面的光学镜片。
本发明镀膜过程中，采用多波长的全光谱终点分析技术监控280纳米至760纳米间的光波变化和透视率，采用石英晶体监控系统，利用石英晶体振荡频率的变化测量、监控镀膜材料蒸发速度频率，蒸发速度频率分辨率为每秒0.01纳米，石英晶体监控系统的6片旋转式水晶膜厚传感器，可以提高镀膜厚度的精度，使膜厚的精度误差在0.1纳米之间。
基片1外表面的膜系的实施例：
基片1外表面的抗紫外线膜层3膜材组分的实施例：
实施例1：氧化硅20%，氧化锆80%。
实施例2：氧化硅80%，氧化锆20%。
实施例3：氧化硅50%，氧化锆50%。
所述基片1外表面的防蓝光膜层4膜材组分的实施例：
实施例1：氧化锡30%；铷40%；铂40%。
实施例2：氧化锡60%，铷10%；铂30%。
实施例3：氧化锡55%，铷35%；铂10%。
所述基片1外表面的光学调控膜层5膜材组分的实施例：
实施例1：铝40%，氧化硅60%。
实施例2：铝60%，氧化硅40%。
实施例3：铝50%，氧化硅50%。
基片1内表面的膜系的实施例：
基片1内表面的抗紫外线膜层8膜材组分的实施例：
实施例1：氧化硅20%，氧化锆80%。
实施例2：氧化硅80%，氧化锆20%。
实施例3：氧化硅50%，氧化锆50%。
所述基片1内表面的防蓝光膜层9膜材组分的实施例：
实施例1：氧化锡30%；铷40%；铂40%。
实施例2：氧化硅60%，铷10%；铂30%。
实施例3：氧化硅55%，铷35%；铂10%。

Claims (3)

1.一种防水镜片镀膜方法，其包括在基片外表面和内表面分别蒸镀膜系形成防水光学镜片，其特征在于：所述镀膜方法具体包括以下步骤：
1）对基片进行清洗；
2）基片清洗后的干燥：将清洗后的基片用异丙醇脱干，脱干后的基片采用异丙醇慢拉干燥，再置于无尘镀膜恒温烤箱中于 60℃～ 75℃烘烤8 小时以上；
3）加硬处理：将镜片基片浸入甲基硅树脂强化溶液中，加硬处理温度115-125℃，2小时后将镜片基片取出并送至烘干箱内干燥固化，烘干温度120℃，固化时间60分钟；
4）退火处理：将加硬处理后的镜片进行退火处理：
5）二次清洗：将退火处理后的镜片基片置于真空镀膜舱内，用霍尔离子源对镜片基片进行离子轰击3-5分钟；
6）基片的镀膜：基片的镀膜包括在基片的外表面镀膜系和在基片的内表面镀膜系；
A、基片的外表面镀膜系依序包括镀抗冲击强化膜层、镀抗紫外线膜层、镀防蓝光膜层、镀光学调控膜层、镀防水膜层；
A1、镀抗冲击强化膜层：将真空舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，采用电子枪，将抗冲击强化膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于基片外表面，形成抗冲击强化膜层，抗冲击强化膜层的厚度为50-100纳米；所述抗冲击强化膜层的膜材为氧化硅；
A2、镀抗紫外线膜层：将真空舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，采用电子枪将抗紫外线膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤A1中抗冲击强化膜层的表面，形成抗紫外线膜层，抗紫外线膜层的厚度为10-50纳米；所述抗紫外线膜层的膜材包括以下重量比组分的混合物：氧化硅20%-80%；氧化锆20%-80%；
A3、镀防蓝光膜层：将真空舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，采用电子枪将防蓝光膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤A2中抗紫外线膜层的表面，形成防蓝光膜层，防蓝光膜层的厚度为5-20纳米；所述防蓝光膜层的膜材包括以下重量比组分的混合物：氧化锡30%-60%；铷10%-40%；铂10%-40%；
重复步骤A3至少一次以上，形成两层以上相互堆叠的防蓝光膜层；
A4、镀光学调控膜层：采用电子枪将光学调控膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤A3中防蓝光膜层的表面，形成光学调控膜层，光学调控膜层的厚度为20-100纳米；所述光学调控膜层的膜材包括以下重量比组分的混合物：铝40%-60%；氧化硅40%-60%；
A5、镀防水膜层：保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击蜜蜡，蜜蜡蒸发后以纳米级分子形式沉积于第五膜层的外表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层形成后的厚度为60-100nm，最终形成蜜蜡防水膜层；
防水膜层镀膜完成，基片的外表面镀膜系完成后，转入基片的内表面镀膜系；
B、基片的内表面镀膜系依序包括镀抗冲击强化膜层、镀抗紫外线膜层、镀防蓝光膜层、镀防水膜层；
B1、镀抗冲击强化膜层：采用电子枪，将抗冲击强化膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于基片内表面，形成抗冲击强化膜层，抗冲击强化膜层的厚度为50-100纳米；所述抗冲击强化膜层的膜材为氧化硅；
B2、镀抗紫外线膜层：采用电子枪将抗紫外线膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤A1中抗冲击强化膜层的表面，形成抗紫外线膜层，抗紫外线膜层的厚度为10-50纳米；所述抗紫外线膜层的膜材包括以下重量比组分的混合物：氧化硅20%-80%；氧化锆20-80%；
重复步骤B2至少一次以上，形成两层以上相互堆叠的抗紫外线膜层；
B3、镀防蓝光膜层：采用电子枪将防蓝光膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤B2中抗紫外线膜层的表面，形成防蓝光膜层，防蓝光膜层的厚度为5-20纳米；所述防蓝光膜层的膜材包括以下重量比组分的混合物：氧化锡30%-60%；铷10%-40%；铂10%-40%；
重复步骤B3至少一次以上，形成两层以上相互堆叠的防蓝光膜层；
B4、镀防水膜层：保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用霍尔离子源轰击蜜蜡，蜜蜡蒸发后以纳米级分子形式沉积于第五膜层的外表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层形成后的厚度为60-100nm，最终形成蜜蜡防水膜层。
2.根据权利要求1所述的一种防水镜片镀膜方法，其特征在于：所述步骤1）中，对基片的清洗具体步骤如下：
a、采用有机溶剂清洗剂对基片进行清洗，并以超声波辅助清洗；
b、采用水基清洗剂对经步骤a清洗的基片进行清洗，并以超声波辅助清洗；
c、将步骤b处理的基片依序进行自来水漂洗和蒸馏水漂洗。
3.根据权利要求1所述的一种防水镜片镀膜方法，其特征在于：所述基片为高分子树脂成型。
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