CN108107492A - 一种防辐射镜片镀膜方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种防辐射镜片镀膜方法，包括以下步骤：1）对基片进行清洗、干燥；2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜：分别对双面镀第一膜层、分别对双面镀第二膜层、分别对双面镀第三膜层、分别对双面镀第四膜层、分别对双面镀第五膜层、分别对双面镀第六膜层、分别对双面镀第七膜层、分别对双面镀第八膜层和分别对双面镀第九膜层。本发明的镜片镀有的多个膜层能有效防蓝光和防眩光，对于视觉的清晰度和真实性有着很好的贡献，采用的ITO层可以增强镜片的透明性和切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线。

Description

一种防辐射镜片镀膜方法

技术领域

本发明涉及一种镜片技术领域，尤其是涉及一种防辐射镜片镀膜方法。

背景技术

随着人们文化、生活水平的不断提高，视力保健工作的开展，眼镜作为矫正视力或保护眼睛而制作的简单光学器件，在人们生活领域中发挥了重要的作用。眼镜通常是由镜片和镜架组成，从镜片的功能上讲，它具有调节进入眼睛之光量，增加视力，保护眼睛安全和临床治疗眼病等作用。

目前镜片的种类繁多，如目前常见的TAC偏光镜片，其可100％阻隔有害光线，因此颇受消费者的青睐，特别适于户外运动使用，然而，在运动过程中镜片难免发生刮擦，因此镜片的耐磨程度也是消费者选购的一个考虑因素，目前市售的TAC 偏光镜片，其表面的硬度只能达到H，其耐磨性为1.5 级，很容易被硬物刮花或摔坏，影响使用者观察事物的效果，既给使用者带来不便，而且还需经常更换，增加使用成本，有待改进。

夜间行车时，对面行驶车辆若违规采用大功率的车灯，司机就会产生炫目的感觉，而且在较长一段时间内视觉难以恢复正常状态，极易造成交通事故。人在此情况下，产生炫目的机理是：当人从强光环境下进入暗处，或从暗处到明处，眼睛都需要经历一段适应时间才能看清周围物体，相应地称为暗适应和明适应。有关科学资料表明，这种适应需要的时间大约为5-10min，而完全适应新的亮度环境需要20^-30min。夜间行车过程中，当对面车辆迎面驶来时，司机就会有一个明适应的过程，而车辆驶过时，又有一个暗适应的过程，极易造成人眼疲劳。为解决此安全隐患，人们通常采用电子学与光学相结合的方法，例如ADS晶望镜，此产品是汽车遮阳板的升级换代产品，可以有效防止炫目，并且有随外界光强自动调整透射率的优点，但它是与车型相匹配的，其他车型若想采用此产品必须另行安装，大大降低了其通用性，而且此类产品的价格偏高。

此外，随着电脑、电视等广泛普及，近视人群的数量激增，其中影响眼睛视力的一个重要因素就是辐射。眼睛是人体中对电磁辐射非常敏感的器官之一。辐射会导致晶状体蛋白质凝固、浑浊，形成白内障，还会损害角膜，造成视疲劳、视力下降甚至丧失。因此，采用防辐射镜片的眼镜来保护眼睛免受辐射损伤是相对简单有效的一种方式。

发明内容

本发明的目的在于针对现有技术的不足，提供一种具有防辐射的防辐射镜片镀膜方法。

为实现上述目的，本发明采用以下技术方案：

一种防辐射镜片镀膜方法，所述镜片包括由树脂或玻璃成型的基片，所述基片的内、外两个表面从里到外对称依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层、第八膜层和第九膜层；所述第一膜层、第四膜层和第七膜层均为二氧化硅层，厚度均为60-90nm；所述第二膜层、第五膜层和第八膜层均为五氧化三钛层，厚度均为20-80nm；所述第三膜层为金属层，厚度为25-40nm；所述第六膜层和第九膜层均为ITO层，厚度均为30-80nm；所述基片由树脂成型时，所述镀膜方法具体包括以下步骤：

1）对基片进行清洗、干燥；

2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜；

A、分别对双面镀第一膜层：

将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10^-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为7Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第一膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；

B、分别对双面镀第二膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第二膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

C、分别对双面镀第三膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为1Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为25-40nm；其中，所述第七膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；

D、分别对双面镀第四膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第四膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；

E、分别对双面镀第五膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第五膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

F、分别对双面镀第六膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为1Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为30-80nm；其中，所述第六膜层的膜材为ITO材料,形成ITO层；

G、分别对双面镀第七膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为7Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第七膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；

H、分别对双面镀第八膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第八膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第八膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

I、分别对双面镀第九膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第九膜层的膜材，第九膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤H中第八膜层的表面，同时控制第九膜层蒸镀的速率为1Å/S，第九膜层最终形成后的厚度为30-80nm；其中，所述第九膜层的膜材为ITO材料，形成ITO层。

所述基片由玻璃成型时，所述镀膜方法具体包括以下步骤：

1）对基片进行清洗、干燥；

2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜；

A、分别对双面镀第一膜层：

将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10^-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为7Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第一膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；

B、分别对双面镀第二膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第二膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

C、分别对双面镀第三膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为1Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为25-40nm；其中，所述第七膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；

D、分别对双面镀第四膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第四膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；

E、分别对双面镀第五膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第五膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

F、分别对双面镀第六膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为1Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为30-80nm；其中，所述第六膜层的膜材为ITO材料,形成ITO层；

G、分别对双面镀第七膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为7Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第七膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；

H、分别对双面镀第八膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第八膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第八膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

I、分别对双面镀第九膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第九膜层的膜材，第九膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤H中第八膜层的表面，同时控制第九膜层蒸镀的速率为1Å/S，第九膜层最终形成后的厚度为30-80nm；其中，所述第九膜层的膜材为ITO材料，形成ITO层。

所述的步骤1）中对基片进行清洗、干燥的具体步骤如下：采用有机溶剂清洗剂对基片进行初次清洗，并以超声波辅助清洗，采用异丙醇干燥；在基片镀膜前，将基片放在真空舱内，用离子枪轰击基片的外表面2-3分钟进行再次清洗。

本发明在基片上真空蒸镀有若干层二氧化硅层，主要起增加膜层附着力、耐磨性以及抗冲击性的作用，同时可以吸收有害光。

本发明在基片上真空蒸镀有若干层五氧化三钛层，充分利用了五氧化三钛晶体材料镀膜操作性好，膜层密集，均匀，稳定，应力小等性能，以及五氧化三钛晶体材料在可见光波段内具有最高的折射率，结晶性好，蒸镀稳定，无放气和喷溅等优点，使其适合在镜片基片上镀制增透性好的多层膜。

本发明在镜片基片内、外表面蒸镀若干交替设置的五氧化三钛层和二氧化硅层，不仅有效滤去了绝大部分紫光和蓝光，而且能有效反射有害光、强光、炫目光波、强闪动光波，减少对人眼视网膜的伤害以及短波眩光的刺激。

本发明在基片上真空蒸镀的ITO层，作为纳米铟锡金属氧化物，具有很好的导电性、透明性和透光率，可以切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线；将其镀在镜片上，可以在增强透明性的同时切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线。

本发明通过调节上述各膜层的厚度以及在上述各膜层相互配合作用下，起到吸收、反射、转化、防辐射、过滤蓝光和眩光等功效，是镜片镀膜防辐射的核心技术。

本发明的镜片基片由树脂成型时，通过本发明制备方法制得的镜片各膜层在零下20℃时的附着力为2-4hrs，在80℃时的附着力为2-4hrs；本发明的镜片基片由玻璃成型时，通过本发明制备方法制得的镜片各膜层在零下20℃时的附着力为6-9hrs，在80℃时的附着力为6-9hrs；本发明的镜片镀有的多个膜层能有效防蓝光和防眩光，对于视觉的清晰度和真实性有着很好的贡献，采用的ITO层可以增强镜片的透明性和切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线。

附图说明

以下结合附图和具体实施方式对本发明做进一步详细说明：

图1为本发明防辐射镜片镀膜方法的分解图。

具体实施方式

如图1所示，本发明的防辐射镜片镀膜方法，所述镜片包括由树脂或玻璃成型的基片1，所述基片1的内、外两个表面从里到外对称依序设有第一膜层2、第二膜层3、第三膜层4、第四膜层5、第五膜层6、第六膜层7、第七膜层8、第八膜层9和第九膜层10；所述第一膜层2、第四膜层5和第七膜层8均为二氧化硅层，厚度均为60-90nm；所述第二膜层3、第五膜层6和第八膜层9均为五氧化三钛层，厚度均为20-80nm；所述第三膜层4为金属层，厚度为25-40nm；所述第六膜层7和第九膜层10均为ITO层，厚度均为30-80nm；所述基片由树脂成型时，所述镀膜方法具体包括以下步骤：

1）对基片进行清洗、干燥；

2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜；

A、分别对双面镀第一膜层：

将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10^-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为7Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第一膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；

B、分别对双面镀第二膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第二膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

C、分别对双面镀第三膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为1Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为25-40nm；其中，所述第七膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；

D、分别对双面镀第四膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第四膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；

E、分别对双面镀第五膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于55.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第五膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

F、分别对双面镀第六膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为1Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为30-80nm；其中，所述第六膜层的膜材为ITO材料,形成ITO层；

G、分别对双面镀第七膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为7Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第七膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；

H、分别对双面镀第八膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第八膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第八膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

I、分别对双面镀第九膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第九膜层的膜材，第九膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤H中第八膜层的表面，同时控制第九膜层蒸镀的速率为1Å/S，第九膜层最终形成后的厚度为30-80nm；其中，所述第九膜层的膜材为ITO材料，形成ITO层。

所述基片由玻璃成型时，所述镀膜方法具体包括以下步骤：

1）对基片进行清洗、干燥；

2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜；

A、分别对双面镀第一膜层：

将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10^-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为7Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第一膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；

B、分别对双面镀第二膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第二膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

C、分别对双面镀第三膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为1Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为25-40nm；其中，所述第七膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；

D、分别对双面镀第四膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第四膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；

E、分别对双面镀第五膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第五膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

F、分别对双面镀第六膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为1Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为30-80nm；其中，所述第六膜层的膜材为ITO材料,形成ITO层；

G、分别对双面镀第七膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为7Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第七膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；

H、分别对双面镀第八膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第八膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第八膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

I、分别对双面镀第九膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第九膜层的膜材，第九膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤H中第八膜层的表面，同时控制第九膜层蒸镀的速率为1Å/S，第九膜层最终形成后的厚度为30-80nm；其中，所述第九膜层的膜材为ITO材料，形成ITO层。

所述的步骤1）中对基片进行清洗、干燥的具体步骤如下：采用有机溶剂清洗剂对基片进行初次清洗，并以超声波辅助清洗，采用异丙醇干燥；在基片镀膜前，将基片放在真空舱内，用离子枪轰击基片的外表面2-3分钟进行再次清洗。

本发明在基片上真空蒸镀有若干层二氧化硅层，主要起增加膜层附着力、耐磨性以及抗冲击性的作用，同时可以吸收有害光。

本发明在基片上真空蒸镀有若干层五氧化三钛层，充分利用了五氧化三钛晶体材料镀膜操作性好，膜层密集，均匀，稳定，应力小等性能，以及五氧化三钛晶体材料在可见光波段内具有最高的折射率，结晶性好，蒸镀稳定，无放气和喷溅等优点，使其适合在镜片基片上镀制增透性好的多层膜。

本发明在镜片基片内、外表面蒸镀若干交替设置的五氧化三钛层和二氧化硅层，不仅有效滤去了绝大部分紫光和蓝光，而且能有效反射有害光、强光、炫目光波、强闪动光波，减少对人眼视网膜的伤害以及短波眩光的刺激。

本发明在基片上真空蒸镀的ITO层，作为纳米铟锡金属氧化物，具有很好的导电性、透明性和透光率，可以切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线；将其镀在镜片上，可以在增强透明性的同时切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线。

本发明通过调节上述各膜层的厚度以及在上述各膜层相互配合作用下，起到吸收、反射、转化、防辐射、过滤蓝光和眩光等功效，是镜片镀膜防辐射的核心技术。

本发明的镜片基片由树脂成型时，通过本发明制备方法制得的镜片各膜层在零下20℃时的附着力为2-4hrs，在80℃时的附着力为2-4hrs；本发明的镜片基片由玻璃成型时，通过本发明制备方法制得的镜片各膜层在零下20℃时的附着力为6-9hrs，在80℃时的附着力为6-9hrs；本发明的镜片镀有的多个膜层能有效防蓝光和防眩光，对于视觉的清晰度和真实性有着很好的贡献，采用的ITO层可以增强镜片的透明性和切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线。

以上描述不应对本发明的保护范围有任何限定。

Claims (3)

1.一种防辐射镜片镀膜方法，所述镜片包括由树脂或玻璃成型的基片，所述基片的内、外两个表面从里到外对称依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层、第八膜层和第九膜层；所述第一膜层、第四膜层和第七膜层均为二氧化硅层，厚度均为60-90nm；所述第二膜层、第五膜层和第八膜层均为五氧化三钛层，厚度均为20-80nm；所述第三膜层为金属层，厚度为25-40nm；所述第六膜层和第九膜层均为ITO层，厚度均为30-80nm，其特征在于：所述基片由树脂成型时，所述镀膜方法具体包括以下步骤：

1）对基片进行清洗、干燥；

2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜；

A、分别对双面镀第一膜层：

将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10^-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为7Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第一膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；

B、分别对双面镀第二膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第二膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

C、分别对双面镀第三膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为1Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为25-40nm；其中，所述第七膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；

D、分别对双面镀第四膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第四膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；

E、分别对双面镀第五膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第五膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

F、分别对双面镀第六膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为1Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为30-80nm；其中，所述第六膜层的膜材为ITO材料,形成ITO层；

G、分别对双面镀第七膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为7Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第七膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；

H、分别对双面镀第八膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第八膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第八膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

I、分别对双面镀第九膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第九膜层的膜材，第九膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤H中第八膜层的表面，同时控制第九膜层蒸镀的速率为1Å/S，第九膜层最终形成后的厚度为30-80nm；其中，所述第九膜层的膜材为ITO材料，形成ITO层。

2.根据权利要求1所述的一种防辐射镜片镀膜方法，其特征在于：所述基片由玻璃成型时，所述镀膜方法具体包括以下步骤：

1）对基片进行清洗、干燥；

2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜；

A、分别对双面镀第一膜层：

将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10^-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为7Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第一膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；

B、分别对双面镀第二膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第二膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

C、分别对双面镀第三膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为1Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为25-40nm；其中，所述第七膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；

D、分别对双面镀第四膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第四膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；

E、分别对双面镀第五膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第五膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

F、分别对双面镀第六膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为1Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为30-80nm；其中，所述第六膜层的膜材为ITO材料,形成ITO层；

G、分别对双面镀第七膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为7Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第七膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；

H、分别对双面镀第八膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第八膜层最终形成后的厚度为20-80nm；其中，所述第八膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

I、分别对双面镀第九膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第九膜层的膜材，第九膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤H中第八膜层的表面，同时控制第九膜层蒸镀的速率为1Å/S，第九膜层最终形成后的厚度为30-80nm；其中，所述第九膜层的膜材为ITO材料，形成ITO层。

3.根据权利要求1或者2所述的一种防辐射镜片镀膜方法，其特征在于：所述的步骤1）中对基片进行清洗、干燥的具体步骤如下：采用有机溶剂清洗剂对基片进行初次清洗，并以超声波辅助清洗，采用异丙醇干燥；在基片镀膜前，将基片放在真空舱内，用离子枪轰击基片的外表面2-3分钟进行再次清洗。