CN105463381A - 一种过滤蓝光防辐射增透的灯罩及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种过滤蓝光防辐射增透的灯罩及其制造方法,该灯罩包括基片,所述基片的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层、第八膜层和第九膜层;所述第一膜层、第四膜层和第六膜层均为五氧化三钛层,厚度均为10-100nm;所述第二膜层、第五膜层和第七膜层均为二氧化硅层,厚度均为50-100nm;所述第三膜层为金属层,厚度为5-20n;所述第八膜层为ITO层,第八膜层的厚度为10-100nm;所述第九膜层为丙烯酸层,厚度为5-15nm。所述灯罩的制造方法包括以下步骤:1)对基片进行清洗;2)对基片的外表面进行镀膜。本发明灯罩能过滤有害蓝光和炫光,能提高增透性,还具有防辐射性能。
Description
技术领域
本发明涉及一种灯罩技术领域,尤其是涉及一种过滤蓝光防辐射增透的灯罩及其制造方法。
背景技术
随着社会的进步和科技的发展,照明设备已广泛进入人们的工作和生活中,随着人们对照明设备(如灯具)的使用时间的日益增长,这些灯具所发出的蓝光、紫外线、炫目光对眼睛视力的伤害越来越严重。
蓝光是波长为 400-500nm 的高能量可见光,蓝光是可以直接穿透眼角膜、眼睛晶体、直达视网膜,蓝光会刺激视网膜产生大量自由基离子,使得视网膜色素上皮细胞的萎缩,并引起光敏感细胞的死亡,视网膜色素上皮细胞对蓝光区域的光辐射吸收作用很强,吸收了蓝光辐射会使视网膜色素上皮细胞萎缩,这也是产生黄斑病变的主要原因之一
;蓝光辐射成分越高对视觉细胞伤害越大,视网膜色素上皮细胞的萎缩,会使视网膜的图像变得模糊,对模糊的影像睫状肌会在做不断的调节,加重睫状肌的工作强度,引起视觉疲劳。在紫外线和蓝光的作用下会引起人们的视觉疲劳,视力会逐渐下降,易引起眼睛视觉上的干涩、畏光、疲劳等早发性白内障、自发性黄斑部病变。
目前,主要是通过在灯具外设置灯罩,用以聚光、防风雨以及解决上述问题,但是效果并不理想,人们长期暴露在灯光环境中,身体受到了极大的影响。另外,在寒冷的冬季,灯罩表面容易凝结水滴,从而影响灯罩的透光率,同时现有的灯罩也少有防辐射的功能。
因此,市场上迫切需要出现一种带有防蓝光、防炫目、防辐射、增透功能的灯罩来取代现有的传统灯罩。
发明内容
本发明的目的在于针对现有技术的不足,提供一种可有效防止蓝光对人体的伤害,具有防炫目功能,适于夜间使用的过滤蓝光防辐射增透的灯罩及其制造方法。
为实现上述目的,本发明采用以下技术方案:
一种过滤蓝光防辐射增透的灯罩,包括基片,所述基片的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层、第八膜层和第九膜层;所述第一膜层、第四膜层和第六膜层均为五氧化三钛层,厚度均为10-100nm;所述第二膜层、第五膜层和第七膜层均为二氧化硅层,厚度均为50-100nm;所述第三膜层为金属层,厚度为5-20nm;所述第八膜层为ITO层,第八膜层的厚度为10-100nm;所述第九膜层为丙烯酸层,厚度为5-15nm。
所述金属层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌或镍,并由电子枪蒸镀成型。
所述金属层的膜材为金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金,并由电子枪蒸镀成型。
所述基片由树脂或玻璃成型。
所述基片由树脂成型时,该过滤蓝光防辐射增透的灯罩制造方法具体包括以下步骤:
1)对基片进行清洗、干燥;
2)对基片的外表面进行镀膜;
A、镀第一膜层:
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕,并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第一膜层的膜材,第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面,同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5Å/S,第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm;其中,所述第一膜层的膜材为五氧化三钛,形成五氧化三钛层;
B、镀第二膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第二膜层的膜材,第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面,同时控制第二膜层蒸镀的速率为7Å/S,第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm;其中,所述第二膜层的膜材为二氧化硅,形成二氧化硅层;
C、镀第三膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第三膜层的膜材,第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面,同时控制第三膜层蒸镀的速率为1Å/S,第三膜层最终形成后的厚度为5-20nm;其中,所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金,形成金属层;
D、镀第四膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第四膜层的膜材,第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面,同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S,第四膜层最终形成后的厚度为10-100nm;其中,所述第四膜层的膜材为五氧化三钛,形成五氧化三钛层;
E、镀第五膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第五膜层的膜材,第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面,同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S,第五膜层最终形成后的厚度为50-100nm;其中,所述第五膜层的膜材为二氧化硅,形成二氧化硅层;
F、镀第六膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第六膜层的膜材,第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面,同时控制第六膜层蒸镀的速率为2.5Å/S,第六膜层最终形成后的厚度为10-100nm;其中,所述第六膜层的膜材为五氧化三钛,形成五氧化三钛层;
G、镀第七膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第七膜层的膜材,第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面,同时控制第七膜层蒸镀的速率为7Å/S,第七膜层最终形成后的厚度为50-100nm;其中,所述第七膜层的膜材为二氧化硅,形成二氧化硅层;
H、镀第八膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第八膜层的膜材,第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面,同时控制第八膜层蒸镀的速率为1Å/S,第八膜层最终形成后的厚度为10-100nm,其中第八膜层的膜材为ITO材料,形成ITO层;
I、镀第九膜层:
在上述步骤H中第八膜层的表面上,通过喷雾法涂覆水溶性丙烯酸树脂或聚丙烯酸材料,经若干次涂覆,最终形成厚度为5-15nm的第九膜层丙烯酸层。
所述的步骤1)中对基片进行清洗、干燥的具体步骤如下:将基片放在真空舱内,用离子枪轰击放在真空舱内,用离子枪轰击基片的外表面2-3分钟进行清洗。
所述基片由玻璃成型时,该过滤蓝光防辐射增透的灯罩的制造方法具体包括以下步骤:
1)对基片进行清洗、干燥;
2)对基片的外表面进行镀膜;
A、镀第一膜层:
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕,并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃,采用电子枪轰击第一膜层的膜材,第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面,同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5Å/S,第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm;其中,所述第一膜层的膜材为五氧化三钛,形成五氧化三钛层;
B、镀第二膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃,采用电子枪轰击第二膜层的膜材,第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面,同时控制第二膜层蒸镀的速率为7Å/S,第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm;其中,所述第二膜层的膜材为二氧化硅,形成二氧化硅层;
C、镀第三膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃,采用电子枪轰击第三膜层的膜材,第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面,同时控制第三膜层蒸镀的速率为1Å/S,第三膜层最终形成后的厚度为5-20nm;其中,所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金,形成金属层;
D、镀第四膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃,采用电子枪轰击第四膜层的膜材,第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面,同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S,第四膜层最终形成后的厚度为10-100nm;其中,所述第四膜层的膜材为五氧化三钛,形成五氧化三钛层;
E、镀第五膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃,采用电子枪轰击第五膜层的膜材,第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面,同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S,第五膜层最终形成后的厚度为50-100nm;其中,所述第五膜层的膜材为二氧化硅,形成二氧化硅层;
F、镀第六膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃,采用电子枪轰击第六膜层的膜材,第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面,同时控制第六膜层蒸镀的速率为2.5Å/S,第六膜层最终形成后的厚度为10-100nm;其中,所述第六膜层的膜材为五氧化三钛,形成五氧化三钛层;
G、镀第七膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃,采用电子枪轰击第七膜层的膜材,第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面,同时控制第七膜层蒸镀的速率为7Å/S,第七膜层最终形成后的厚度为50-100nm;其中,所述第七膜层的膜材为二氧化硅,形成二氧化硅层;
H、镀第八膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃,采用电子枪轰击第八膜层的膜材,第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面,同时控制第八膜层蒸镀的速率为1Å/S,第八膜层最终形成后的厚度为10-100nm,其中第八膜层的膜材为ITO材料,形成ITO层;
I、镀第九膜层:
在上述步骤H中第八膜层的表面上,通过喷雾法涂覆水溶性丙烯酸树脂或聚丙烯酸材料,经若干次涂覆,最终形成厚度为5-15nm的第九膜层丙烯酸层。
所述的步骤1)中对基片进行清洗、干燥的具体步骤如下:将基片放在真空舱内,用离子枪轰击放在真空舱内,用离子枪轰击基片的外表面5-10分钟进行清洗。
本发明采用电子束真空蒸镀的原理,利用带电荷的粒子在电场中加速后具有一定动能的特点,将离子引向欲被镀膜的基片制成的电极,并通过电子枪高温轰击将高纯度金属或金属氧化物,蒸发出来的纳米分子使其沿着一定的方向运动到基片并最终在基片上沉积成膜的方法。本项发明技术结合利用磁场的特殊分布控制电场中的电子运动轨迹,以此改进镀膜的工艺,使得镀膜厚度及均匀性可控,且制备的膜层致密性好、粘结力强及纯净度高。
本发明在基片上真空蒸镀有五氧化三钛层,充分利用了五氧化三钛晶体材料镀膜操作性好,膜层密集,均匀,稳定,应力小等性能,以及五氧化三钛晶体材料在可见光波段内具有最高的折射率,结晶性好,蒸镀稳定,无放气和喷溅等优点,使其适合在灯罩基片上镀制增透性好的多层膜,制得的灯罩具有优异的增透性能。
本发明在基片上真空蒸镀有氧化硅层,主要起增加膜层附着力、耐磨性以及抗冲击性的作用,同时可以吸收有害光。
本发明的五氧化三钛层和二氧化硅层相互配合,主要起到控制过滤波长的效果,本发明在灯罩基片外表面蒸镀若干交替设置的五氧化三钛层和二氧化硅层,不仅有效滤去了绝大部分紫光和蓝光,而且能有效反射有害光、强光、炫目光波、强闪动光波,减少对人眼视网膜的伤害以及短波眩光的刺激;本发明第三膜层的金属层,不仅提升了防蓝光效果和清晰度,而且也可以反射有害光、炫目光波、强闪动光波等;本发明通过上述膜层相互配合,起到吸收、反射、转化、过滤等功效,是灯罩镀膜过滤蓝光防炫的核心技术;同时,通过调节上述各膜层的厚度,使得波长较长的可见光产生相干干涉,从而进一步产生防眩效果。
本发明的ITO层的设置有效的切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线,起到了防辐射的效果。
本发明采用喷雾法在灯罩基片表面的最外层喷涂丙烯酸层,利用其极强的亲水性,降低了因水雾引起的反射和折射,从而达到防雾效果。
本发明的灯罩基片由树脂成型时,通过本发明制造方法制得的灯罩各膜层在零下20℃时的附着力为2-4hrs,在80℃时的附着力为2-4hrs;本发明的灯罩基片由玻璃成型时,通过本发明制造方法制得的灯罩各膜层在零下20℃时的附着力为6-9hrs,在80℃时的附着力为6-9hrs;本发明的灯罩镀有的多个膜层能有效地过滤33%以上有害蓝光,同时金属层能够有效地提升清晰度和防蓝光效果,从而提高灯罩的整体清晰度,对于视觉的清晰度和真实性有着很好的贡献,对有害蓝光、炫光的过滤能有效缓解视觉疲劳。
附图说明
以下结合附图和具体实施方式对本发明做进一步详细说明:
图1为本发明过滤蓝光防辐射增透的灯罩的分解图。
具体实施方式
如图1所示,本发明包括基片1,所述基片的外表面从里到外依序设有第一膜层2、第二膜层3、第三膜层4、第四膜层5、第五膜层6、第六膜层7和第七膜层8、第八膜层9和第九膜层10;所述第一膜层2、第四膜层5和第六膜层7均为五氧化三钛层,厚度均为10-100nm;所述第二膜层3、第五膜层6和第七膜层8均为二氧化硅层,厚度均为50-100nm;所述第三膜层4为金属层,厚度为5-20nm;所述第八膜层9为ITO层,第八膜层9的厚度为10-100nm;所述第九膜层10为丙烯酸层,厚度为5-15nm。
所述金属层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌或镍,并由电子枪蒸镀成型。
所述金属层的膜材为金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金,并由电子枪蒸镀成型。
所述基片1由树脂或玻璃成型。
实施例1:
所述基片1由树脂成型时,所述过滤蓝光防辐射增透的灯罩的制造方法具体包括以下步骤:
1)对基片1进行清洗、干燥:将基片放在真空舱内,用离子枪轰击放在真空舱内,用离子枪轰击基片的外表面2-3分钟进行清洗;
2)对基片1的外表面进行镀膜;
A、镀第一膜层2:
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕,并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第一膜层2的膜材,第一膜层2的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面,同时控制第一膜层2蒸镀的速率为2.5Å/S,第一膜层2最终形成后的厚度为10-100nm;其中,所述第一膜层2的膜材为五氧化三钛,形成五氧化三钛层;
B、镀第二膜层3:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第二膜层3的膜材,第二膜层3的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层2的表面,同时控制第二膜层3蒸镀的速率为7Å/S,第二膜层3最终形成后的厚度为50-100nm;其中,所述第二膜层3的膜材为二氧化硅,形成二氧化硅层;
C、镀第三膜层4:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第三膜层4的膜材,第三膜层4的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层3的表面,同时控制第三膜层4蒸镀的速率为1Å/S,第三膜层4最终形成后的厚度为5-20nm;其中,所述第三膜层4的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金,形成金属层;
D、镀第四膜层5:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第四膜层5的膜材,第四膜层5的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层4的表面,同时控制第四膜层5蒸镀的速率为2.5Å/S,第四膜层5最终形成后的厚度为10-100nm;其中,所述第四膜层5的膜材为五氧化三钛,形成五氧化三钛层;
E、镀第五膜层6:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第五膜层6的膜材,第五膜层6的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层5的表面,同时控制第五膜层6蒸镀的速率为7Å/S,第五膜层6最终形成后的厚度为50-100nm;其中,所述第五膜层6的膜材为二氧化硅,形成二氧化硅层;
F、镀第六膜层7:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第六膜层7的膜材,第六膜层7的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层6的表面,同时控制第六膜层7蒸镀的速率为2.5Å/S,第六膜层7最终形成后的厚度为10-100nm;其中,所述第六膜层7的膜材为五氧化三钛,形成五氧化三钛层;
G、镀第七膜层8:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第七膜层8的膜材,第七膜层8的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层7的表面,同时控制第七膜层8蒸镀的速率为7Å/S,第七膜层8最终形成后的厚度为50-100nm;其中,所述第七膜层8的膜材为二氧化硅,形成二氧化硅层;
所述的步骤1)中对基片1进行清洗、干燥的具体步骤如下:将基片1放在真空舱内,用离子枪轰击放在真空舱内,用离子枪轰击基片1的外表面2-3分钟进行清洗;
H、镀第八膜层9:
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第八膜层9的膜材,第八膜层9的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层8的表面,同时控制第八膜层9蒸镀的速率为1Å/S,第八膜层9最终形成后的厚度为10-100nm,其中第八膜层9的膜材为ITO材料,形成ITO层;
I、镀第九膜层10:
在上述步骤H中第八膜层9的表面上,通过喷雾法涂覆水溶性丙烯酸树脂或聚丙烯酸材料,经若干次涂覆,最终形成厚度为5-15nm的第九膜层10丙烯酸层;
通过上述方法制得的灯罩上的各膜层在零下20℃时的附着力为2-4hrs,在80℃时的附着力为2-4hrs,具有很强的附着能力,同时各膜层的致密性好、纯净度高,所述灯罩能有效地过滤33%以上有害蓝光,对有害蓝光、炫光的过滤能有效缓解视觉疲劳,能够显著的提高灯罩透光性和防雾性,还具有防辐射的功能。
实施例2:
所述基片1由玻璃成型时,所述过滤蓝光防辐射增透的灯罩的制造方法具体包括以下步骤:
1)对基片1进行清洗、干燥:将基片放在真空舱内,用离子枪轰击放在真空舱内,用离子枪轰击基片的外表面5-10分钟进行清洗;
2)对基片1的外表面进行镀膜;
A、镀第一膜层2:
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕,并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃,采用电子枪轰击第一膜层2的膜材,第一膜层2的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面,同时控制第一膜层2蒸镀的速率为2.5Å/S,第一膜层2最终形成后的厚度为10-100nm;其中,所述第一膜层2的膜材为五氧化三钛,形成五氧化三钛层;
B、镀第二膜层3:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃,采用电子枪轰击第二膜层3的膜材,第二膜层3的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层2的表面,同时控制第二膜层3蒸镀的速率为7Å/S,第二膜层3最终形成后的厚度为50-100nm;其中,所述第二膜层3的膜材为二氧化硅,形成二氧化硅层;
C、镀第三膜层4:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃,采用电子枪轰击第三膜层4的膜材,第三膜层4的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层3的表面,同时控制第三膜层4蒸镀的速率为1Å/S,第三膜层4最终形成后的厚度为5-20nm;其中,所述第三膜层4的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金,形成金属层;
D、镀第四膜层5:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃,采用电子枪轰击第四膜层5的膜材,第四膜层5的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层4的表面,同时控制第四膜层5蒸镀的速率为2.5Å/S,第四膜层5最终形成后的厚度为10-100nm;其中,所述第四膜层5的膜材为五氧化三钛,形成五氧化三钛层;
E、镀第五膜层6:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃,采用电子枪轰击第五膜层6的膜材,第五膜层6的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层5的表面,同时控制第五膜层6蒸镀的速率为7Å/S,第五膜层6最终形成后的厚度为50-100nm;其中,所述第五膜层6的膜材为二氧化硅,形成二氧化硅层;
F、镀第六膜层7:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃,采用电子枪轰击第六膜层7的膜材,第六膜层7的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层6的表面,同时控制第六膜层7蒸镀的速率为2.5Å/S,第六膜层7最终形成后的厚度为10-100nm;其中,所述第六膜层7的膜材为五氧化三钛,形成五氧化三钛层;
G、镀第七膜层8:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃,采用电子枪轰击第七膜层8的膜材,第七膜层8的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层7的表面,同时控制第七膜层8蒸镀的速率为7Å/S,第七膜层8最终形成后的厚度为50-100nm;其中,所述第七膜层8的膜材为二氧化硅,形成二氧化硅层;
H、镀第八膜层9:
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃,采用电子枪轰击第八膜层9的膜材,第八膜层9的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层8的表面,同时控制第八膜层9蒸镀的速率为1Å/S,第八膜层9最终形成后的厚度为10-100nm,其中第八膜层9的膜材为ITO材料,形成ITO层;
I、镀第九膜层10:
在上述步骤H中第八膜层9的表面上,通过喷雾法涂覆水溶性丙烯酸树脂或聚丙烯酸材料,经若干次涂覆,最终形成厚度为5-15nm的第九膜层10丙烯酸层。
所述的步骤1)中对基片1进行清洗、干燥的具体步骤如下:将基片1放在真空舱内,用离子枪轰击放在真空舱内,用离子枪轰击基片1的外表面5-10分钟进行清洗。
通过上述方法制得的灯罩上的各膜层在零下20℃时的附着力为6-9hrs,在80℃时的附着力为6-9hrs,具有很强的附着能力,同时各膜层的致密性好、纯净度高,所述灯罩能有效地过滤33%以上有害蓝光,对有害蓝光、炫光的过滤能有效缓解视觉疲劳,能够显著的提高灯罩透光性和防雾性,还具有防辐射的功能。
Claims (8)
1.一种过滤蓝光防辐射增透的灯罩,包括基片,其特征在于:所述基片的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层、第八膜层和第九膜层;所述第一膜层、第四膜层和第六膜层均为五氧化三钛层,厚度均为10-100nm;所述第二膜层、第五膜层和第七膜层均为二氧化硅层,厚度均为50-100nm;所述第三膜层为金属层,厚度为5-20nm;所述第八膜层为ITO层,第八膜层的厚度为10-100nm;所述第九膜层为丙烯酸层,厚度为5-15nm。
2.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光防辐射增透的灯罩,其特征在于:所述金属层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌或镍,并由电子枪蒸镀成型。
3.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光防辐射增透的灯罩,其特征在于:所述金属层的膜材为金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金,并由电子枪蒸镀成型。
4.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光防辐射增透的灯罩,其特征在于:所述基片由树脂或玻璃成型。
5. 根据权利要求4所述过滤蓝光防辐射增透的灯罩的制造方法,其特征在于:所述基片由树脂成型时,所述制造方法具体包括以下步骤:
1)对基片进行清洗、干燥;
2)对基片的外表面进行镀膜;
A、镀第一膜层:
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕,并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第一膜层的膜材,第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面,同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5Å/S,第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm;其中,所述第一膜层的膜材为五氧化三钛,形成五氧化三钛层;
B、镀第二膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第二膜层的膜材,第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面,同时控制第二膜层蒸镀的速率为7Å/S,第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm;其中,所述第二膜层的膜材为二氧化硅,形成二氧化硅层;
C、镀第三膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第三膜层的膜材,第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面,同时控制第三膜层蒸镀的速率为1Å/S,第三膜层最终形成后的厚度为5-20nm;其中,所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金,形成金属层;
D、镀第四膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第四膜层的膜材,第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面,同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S,第四膜层最终形成后的厚度为10-100nm;其中,所述第四膜层的膜材为五氧化三钛,形成五氧化三钛层;
E、镀第五膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第五膜层的膜材,第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面,同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S,第五膜层最终形成后的厚度为50-100nm;其中,所述第五膜层的膜材为二氧化硅,形成二氧化硅层;
F、镀第六膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第六膜层的膜材,第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面,同时控制第六膜层蒸镀的速率为2.5Å/S,第六膜层最终形成后的厚度为10-100nm;其中,所述第六膜层的膜材为五氧化三钛,形成五氧化三钛层;
G、镀第七膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第七膜层的膜材,第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面,同时控制第七膜层蒸镀的速率为7Å/S,第七膜层最终形成后的厚度为50-100nm;其中,所述第七膜层的膜材为二氧化硅,形成二氧化硅层;
H、镀第八膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第八膜层的膜材,第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面,同时控制第八膜层蒸镀的速率为1Å/S,第八膜层最终形成后的厚度为10-100nm,其中第八膜层的膜材为ITO材料,形成ITO层;
I、镀第九膜层:
在上述步骤H中第八膜层的表面上,通过喷雾法涂覆水溶性丙烯酸树脂或聚丙烯酸材料,经若干次涂覆,最终形成厚度为5-15nm的第九膜层丙烯酸层。
6.根据权利要求5所述的一种过滤蓝光防辐射增透的灯罩的制造方法,其特征在于:所述的步骤1)中对基片进行清洗、干燥的具体步骤如下:将基片放在真空舱内,用离子枪轰击放在真空舱内,用离子枪轰击基片的外表面2-3分钟进行清洗。
7. 根据权利要求4所述过滤蓝光防辐射增透的灯罩的制造方法,其特征在于:所述基片由玻璃成型时,所述制造方法具体包括以下步骤:
1)对基片进行清洗、干燥;
2)对基片的外表面进行镀膜;
A、镀第一膜层:
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕,并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃,采用电子枪轰击第一膜层的膜材,第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面,同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5Å/S,第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm;其中,所述第一膜层的膜材为五氧化三钛,形成五氧化三钛层;
B、镀第二膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃,采用电子枪轰击第二膜层的膜材,第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面,同时控制第二膜层蒸镀的速率为7Å/S,第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm;其中,所述第二膜层的膜材为二氧化硅,形成二氧化硅层;
C、镀第三膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃,采用电子枪轰击第三膜层的膜材,第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面,同时控制第三膜层蒸镀的速率为1Å/S,第三膜层最终形成后的厚度为5-20nm;其中,所述第三膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金,形成金属层;
D、镀第四膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃,采用电子枪轰击第四膜层的膜材,第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面,同时控制第四膜层蒸镀的速率为2.5Å/S,第四膜层最终形成后的厚度为10-100nm;其中,所述第四膜层的膜材为五氧化三钛,形成五氧化三钛层;
E、镀第五膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃,采用电子枪轰击第五膜层的膜材,第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面,同时控制第五膜层蒸镀的速率为7Å/S,第五膜层最终形成后的厚度为50-100nm;其中,所述第五膜层的膜材为二氧化硅,形成二氧化硅层;
F、镀第六膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃,采用电子枪轰击第六膜层的膜材,第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面,同时控制第六膜层蒸镀的速率为2.5Å/S,第六膜层最终形成后的厚度为10-100nm;其中,所述第六膜层的膜材为五氧化三钛,形成五氧化三钛层;
G、镀第七膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃,采用电子枪轰击第七膜层的膜材,第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面,同时控制第七膜层蒸镀的速率为7Å/S,第七膜层最终形成后的厚度为50-100nm;其中,所述第七膜层的膜材为二氧化硅,形成二氧化硅层;
H、镀第八膜层:
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃,采用电子枪轰击第八膜层的膜材,第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面,同时控制第八膜层蒸镀的速率为1Å/S,第八膜层最终形成后的厚度为10-100nm,其中第八膜层的膜材为ITO材料,形成ITO层;
I、镀第九膜层:
在上述步骤H中第八膜层的表面上,通过喷雾法涂覆水溶性丙烯酸树脂或聚丙烯酸材料,经若干次涂覆,最终形成厚度为5-15nm的第九膜层丙烯酸层。
8.根据权利要求7所述的一种过滤蓝光防辐射增透的灯罩的制造方法,其特征在于:所述的步骤1)中对基片进行清洗、干燥的具体步骤如下:将基片放在真空舱内,用离子枪轰击放在真空舱内,用离子枪轰击基片的外表面5-10分钟进行清洗。
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