CN105543783A - 一种多功能手机盖板及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种多功能手机盖板及其制备方法，该手机盖板包括基板，基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层、第八膜层、第九模层、第十膜层和第十一膜层；第一膜层、第三膜层和第五膜层均为五氧化三钛层，第二膜层、第四膜层和第六膜层均为二氧化硅层，第七膜层为金属层，第八膜层为纳米银层，第九膜层为ITO层，第十膜层为高硬度层，第十一膜层为氟化物层。其制备方法包括以下步骤：1）对基板的外表面进行清洗；2）对基板的外表面进行镀膜。本发明的手机盖板能有效地过滤有害蓝光，对炫光的过滤能有效缓解视觉疲劳，拥有杀菌能力，充足的耐磨性以及防水油污等功能。

Description

一种多功能手机盖板及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种手机盖板技术领域，尤其是涉及一种多功能手机盖板及其制备方法。
背景技术
随着社会的进步和科技的发展，手机的屏幕所发出的蓝光、紫外线、炫目光对眼睛视力的伤害越来越严重。
蓝光是波长为 400-500nm 的高能量可见光，蓝光是可以直接穿透眼角膜、眼睛晶体、直达视网膜，蓝光会刺激视网膜产生大量自由基离子，使得视网膜色素上皮细胞的萎缩，并引起光敏感细胞的死亡，视网膜色素上皮细胞对蓝光区域的光辐射吸收作用很强，吸收了蓝光辐射会使视网膜色素上皮细胞萎缩，这也是产生黄斑病变的主要原因之一 ；蓝光辐射成分越高对视觉细胞伤害越大，视网膜色素上皮细胞的萎缩，会使视网膜的图像变得模糊，对模糊的影像睫状肌会在做不断的调节，加重睫状肌的工作强度，引起视觉疲劳。在紫外线和蓝光的作用下会引起人们的视觉疲劳，视力会逐渐下降，易引起眼睛视觉上的干涩、畏光、疲劳等早发性白内障、自发性黄斑部病变。因此，现有技术中出现了一些能够过滤部分有害光线的手机屏幕盖板，然而现有的手机屏幕盖板在使用过程中很容易被刮花或蹭花，影响美观，更严重的是，手机屏幕盖板的表面刮花或蹭花后，内层暴露在空气中，容易受腐蚀，影响使用寿命。另外，现有的手机屏幕盖板较少有杀菌功能，人们在使用过程中容易从手机屏幕盖板上感染细菌，给人体造成伤害。
发明内容
本发明的目的在于针对现有技术的不足，提供一种可有效防止蓝光对人体的伤害，具有高耐磨性和防炫目功能，适于夜间使用的多功能手机盖板及其制备方法。
为实现上述目的，本发明采用以下技术方案：
一种多功能手机盖板，包括基板，所述基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层、第八膜层、第九模层、第十膜层和第十一膜层；所述第一膜层、第三膜层和第五膜层均为五氧化三钛层，厚度均为10-100nm；所述第二膜层、第四膜层和第六膜层均为二氧化硅层，厚度均为50-100nm；所述第七膜层为金属层，厚度为5-20nm；所述第八膜层为纳米银层，第八膜层的厚度为5-20nm；所述第九膜层为ITO层，第九膜层的厚度为10-100nm；所述第十膜层为高硬度层，厚度为10-50nm；所述第十一膜层为氟化物层，第十一膜层的厚度为3-10nm。
所述金属层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，并由电子枪蒸镀成型。
所述纳米银层的膜材为银的氧化物，并使用电子枪蒸镀成型，所述银的氧化物为AgO、Ag2O或Ag2O3。
所述氟化物层的膜材为氟化镁，并由电阻加热蒸镀成型。
所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型。
所述基板由树脂或玻璃成型。
本发明还公开一种多功能手机盖板的制备方法，所述手机盖板的基板由树脂成型时，所述制备方法具体包括以下步骤：
1）对基板的外表面进行清洗；
2）对基板的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第三膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第五膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
F、镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第六膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
G、镀第七膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为1Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为5-20nm，其中第七膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金,形成金属层；
H、镀第八膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，其中第八膜层的膜材为银的氧化物，在电子枪蒸镀的作用下，银的氧化物分解后以纳米银的形式附着于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为1Å/S，第八膜层最终形成厚度为5-20nm的纳米银层；其中所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3；
I、镀第九膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第九膜层的膜材，第九膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤H中第八膜层的表面，同时控制第九膜层蒸镀的速率为1Å/S，第九膜层最终形成后的厚度为10-100nm，其中第九膜层的膜材为ITO材料,形成ITO层；
J、镀第十膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第十膜层的膜材，第十膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤I中第九膜层的表面，同时控制第十膜层蒸镀的速率为7Å/S，第十膜层最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第十膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅高硬度晶体或者一氧化硅高硬度晶体，形成高硬度层；
K、镀第十一层膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电阻加热第十一膜层的膜材，第十一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤J中第十膜层的表面，同时控制第十一膜层蒸镀的速率为1.5Å/S，第十一膜层最终形成后的厚度为3-10nm，其中第十一膜层的膜材为氟化物,形成氟化物层。
所述的步骤1）中对基板的外表面进行清洗的具体步骤如下：将基板放在真空舱内，用离子枪轰击基板的外表面2-3分钟进行清洗。
当所述手机盖板的基板由玻璃成型时，所述制备方法具体包括以下步骤：
1）对基板的外表面进行清洗；
2）对基板的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第三膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第五膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
F、镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第六膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
G、镀第七膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为1Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为5-20nm，其中第七膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金,形成金属层；
H、镀第八膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，其中第八膜层的膜材为银的氧化物，在电子枪蒸镀的作用下，银的氧化物分解后以纳米银的形式附着于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为1Å/S，第八膜层最终形成厚度为5-20nm的纳米银层；其中所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3；
I、镀第九膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第九膜层的膜材，第九膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤H中第八膜层的表面，同时控制第九膜层蒸镀的速率为1Å/S，第九膜层最终形成后的厚度为10-100nm，其中第九膜层的膜材为ITO材料,形成ITO层；
J、镀第十膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第十膜层的膜材，第十膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤I中第九膜层的表面，同时控制第十膜层蒸镀的速率为7Å/S，第十膜层最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第十膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅高硬度晶体或者一氧化硅高硬度晶体，形成高硬度层；
K、镀第十一层膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电阻加热第十一膜层的膜材，第十一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤J中第十膜层的表面，同时控制第十一膜层蒸镀的速率为1.5Å/S，第十一膜层最终形成后的厚度为3-10nm，其中第十一膜层的膜材为氟化物,形成氟化物层。
所述的步骤1）中对基板的外表面进行清洗的具体步骤如下：将基板放在真空舱内，用离子枪轰击基板的外表面5-10分钟进行清洗。
本项发明的制备方法能够使得镀膜厚度及均匀性可控，且制备的膜层致密性好、粘结力强及纯净度高。
本发明在基板上真空蒸镀有五氧化三钛层，充分利用了五氧化三钛晶体材料镀膜操作性好，膜层密集，均匀，稳定，应力小等性能，以及五氧化三钛晶体材料在可见光波段内具有最高的折射率，结晶性好，蒸镀稳定，无放气和喷溅等优点，使其适合在手机盖板基板上镀制增透性好的多层膜。
本发明在基板上真空蒸镀有二氧化硅层，主要起增加膜层附着力、耐磨性以及抗冲击性的作用，同时可以吸收有害光。
本发明的五氧化三钛层和二氧化硅层相互配合，主要起到控制过滤波长的效果，本发明在手机盖板基板外表面蒸镀若干交替设置的五氧化三钛层和二氧化硅层，不仅有效滤去了绝大部分紫光和蓝光，而且能有效反射有害光、强光、炫目光波、强闪动光波，减少对人眼视网膜的伤害以及短波眩光的刺激；本发明第三膜层的金属层，不仅提升了防蓝光效果和清晰度，而且也可以反射有害光、炫目光波、强闪动光波等；本发明通过上述膜层相互配合，起到吸收、反射、转化、过滤等功效，是手机盖板镀膜过滤蓝光防炫耐磨的核心技术；同时，通过调节上述各膜层的厚度，使得波长较长的可见光产生相干干涉，从而进一步产生防眩效果；纳米银层对大肠杆菌、淋球菌、沙眼衣原体等数十种致病微生物都有强烈的抑制和杀灭作用，而且不会产生耐药性，保证了手机盖板具有足够的杀菌能力，ITO层的设置有效的切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线，起到了防辐射的效果，此外设置高硬度层能够有效提高了手机盖板的耐磨性，可以防止其刮花。在基板外表面的最外层设置氟化物层具有很好的疏水性和防油污功能，本发明的手机盖板还能有效地防水和防油污，因此，使用者手上的油污和水渍就不会在手机盖板上留下痕迹。
本发明的手机盖板基板由树脂成型时，通过本发明制备方法制得的手机盖板各膜层在零下20℃时的附着力为2-4hrs，在80℃时的附着力为2-4hrs；本发明的手机盖板基板由玻璃成型时，通过本发明制备方法制得的手机盖板各膜层在零下20℃时的附着力为6-9hrs，在80℃时的附着力为6-9hrs；本发明的手机盖板镀有的多个膜层能有效地过滤33％以上有害蓝光，同时金属层能够有效地提升清晰度和防蓝光效果，从而提高手机盖板的整体清晰度，对于视觉的清晰度和真实性有着很好的贡献，对有害蓝光、炫光的过滤能有效缓解视觉疲劳，纳米银层保证了手机盖板具有足够的杀菌能力，ITO层的设置有效的切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线，起到了防辐射的效果，此外设置高硬度层能够有效提高了手机盖板的耐磨性，可以防止其刮花。在基板外表面的最外层设置氟化物层具有很好的疏水性和防油污功能。
附图说明
以下结合附图和具体实施方式对本发明做进一步详细说明：
图1为本发明多功能手机盖板的分解图。
具体实施方式
如图1所示，本发明包括基板1，包括基板1，所述基板1的外表面从里到外依序设有第一膜层2、第二膜层3、第三膜层4、第四膜层5、第五膜层6、第六膜层7、第七膜层8、第八膜层9、第九模层10、第十膜层11和第十一膜层12；所述第一膜层2、第三膜层4和第五膜层6均为五氧化三钛层，厚度均为10-100nm；所述第二膜层3、第四膜层5和第六膜层7均为二氧化硅层，厚度均为50-100nm；所述第七膜层8为金属层，厚度为5-20nm；所述第八膜层9为纳米银层，第八膜层9的厚度为5-20nm；所述第九膜层10为ITO层，第九膜层10的厚度为10-100nm；所述第十膜层11为高硬度层，厚度为10-50nm；所述第十一膜层12为氟化物层，第十一膜层12的厚度为3-10nm。
所述金属层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，并由电子枪蒸镀成型。
所述纳米银层的膜材为银的氧化物，并使用电子枪蒸镀成型，所述银的氧化物为AgO、Ag2O或Ag2O3。
所述氟化物层的膜材为氟化镁，并由电阻加热蒸镀成型。
所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型。
所述基板1由树脂或玻璃成型。
实施例1，所述手机盖板的基板1由树脂成型时，所述多功能手机盖板的制备方法具体包括以下步骤：
1）对基板1的外表面进行清洗；
2）对基板1的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层2：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层2的膜材，第一膜层2的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板1的外表面，同时控制第一膜层2蒸镀的速率为2.5Å/S，第一膜层2最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层2的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层3：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层3的膜材，第二膜层3的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层2的表面，同时控制第二膜层3蒸镀的速率为7Å/S，第二膜层3最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层3的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层4：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层4的膜材，第三膜层4的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层3的表面，同时控制第三膜层4蒸镀的速率为2.5Å/S，第三膜层4最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第三膜层4的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
D、镀第四膜层5：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层5的膜材，第四膜层5的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层4的表面，同时控制第四膜层5蒸镀的速率为7Å/S，第四膜层5最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第四膜层5的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
E、镀第五膜层6：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层6的膜材，第五膜层6的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层5的表面，同时控制第五膜层6蒸镀的速率为2.5Å/S，第五膜层6最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第五膜层6的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
F、镀第六膜层7：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第六膜层7的膜材，第六膜层7的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层6的表面，同时控制第六膜层7蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层7最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第六膜层7的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
G、镀第七膜层8：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第七膜层8的膜材，第七膜层8的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层7的表面，同时控制第七膜层8蒸镀的速率为1Å/S，第七膜层8最终形成后的厚度为5-20nm，其中第七膜层8的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金,形成金属层；
H、镀第八膜层9：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，其中第八膜层的膜材为银的氧化物，在电子枪蒸镀的作用下，银的氧化物分解后以纳米银的形式附着于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为1Å/S，第八膜层最终形成厚度为5-20nm的纳米银层；其中所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3；
I、镀第九膜层10：
将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第九膜层10的膜材，第九膜层10的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤H中第八膜层9的表面，同时控制第九膜层10蒸镀的速率为1Å/S，第九膜层10最终形成后的厚度为10-100nm，其中第九膜层10的膜材为ITO材料,形成ITO层；
J、镀第十膜层11：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第十膜层的膜材11，第十膜层11的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤I中第九膜层10的表面，同时控制第十膜层11蒸镀的速率为7Å/S，第十膜层11最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第十膜层11的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅高硬度晶体或者一氧化硅高硬度晶体，形成高硬度层；
K、镀第十一层膜层12：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电阻加热第十一膜层12的膜材，第十一膜层12的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤J中第十膜层11的表面，同时控制第十一膜层12蒸镀的速率为1.5Å/S，第十一膜层12最终形成后的厚度为3-10nm，其中第十一膜层12的膜材为氟化物,形成氟化物层。
所述的步骤1）中对基板1的外表面进行清洗的具体步骤如下：将基板1放在真空舱内，用离子枪轰击基板1的外表面2-3分钟进行清洗。
通过上述方法制得的手机盖板上的各膜层在零下20℃时的附着力为2-4hrs，在80℃时的附着力为2-4hrs，具有很强的附着能力，同时各膜层的致密性好、纯净度高。而且，该手机盖板能有效地过滤33％以上有害蓝光，同时金属层能够有效地提升清晰度和防蓝光效果，从而提高手机盖板的整体清晰度，对于视觉的清晰度和真实性有着很好的贡献，对有害蓝光、炫光的过滤能有效缓解视觉疲劳，纳米银层的膜材为银的氧化物，如Ag2O、AgO或Ag2O3，银的氧化物经过电子枪蒸镀后氧离子从银的氧化物中分离出来，并形成纳米银薄层，ITO层的设置有效的切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线，起到了防辐射的效果，此外设置高硬度层能够有效提高了手机盖板的耐磨性，可以防止其刮花。在基板外表面的最外层设置氟化物层具有很好的疏水性和防油污功能。
实施例2，当所述手机盖板的基板1由玻璃成型时，所述多功能手机盖板制备方法具体包括以下步骤：
1）对基板1的外表面进行清洗；
2）对基板1的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层2：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第一膜层2的膜材，第一膜层2的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板1的外表面，同时控制第一膜层2蒸镀的速率为2.5Å/S，第一膜层2最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层2的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层3：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第二膜层3的膜材，第二膜层3的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层2的表面，同时控制第二膜层3蒸镀的速率为7Å/S，第二膜层3最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层3的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层4：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第三膜层4的膜材，第三膜层4的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层3的表面，同时控制第三膜层4蒸镀的速率为2.5Å/S，第三膜层4最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第三膜层4的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
D、镀第四膜层5：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第四膜层5的膜材，第四膜层5的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层4的表面，同时控制第四膜层5蒸镀的速率为7Å/S，第四膜层5最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第四膜层5的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
E、镀第五膜层6：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第五膜层6的膜材，第五膜层6的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层5的表面，同时控制第五膜层6蒸镀的速率为2.5Å/S，第五膜层6最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第五膜层6的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
F、镀第六膜层7：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第六膜层7的膜材，第六膜层7的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层6的表面，同时控制第六膜层7蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层7最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第六膜层7的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
G、镀第七膜层8：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第七膜层8的膜材，第七膜层8的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层7的表面，同时控制第七膜层8蒸镀的速率为1Å/S，第七膜层8最终形成后的厚度为5-20nm，其中第七膜层8的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金,形成金属层；
H、镀第八膜层9：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，其中第八膜层的膜材为银的氧化物，在电子枪蒸镀的作用下，银的氧化物分解后以纳米银的形式附着于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为1Å/S，第八膜层最终形成厚度为5-20nm的纳米银层；其中所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3；
I、镀第九膜层10：
将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第九膜层10的膜材，第九膜层10的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤H中第八膜层9的表面，同时控制第九膜层10蒸镀的速率为1Å/S，第九膜层10最终形成后的厚度为10-100nm，其中第九膜层10的膜材为ITO材料,形成ITO层；
J、镀第十膜层11：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第十膜层的膜材11，第十膜层11的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤I中第九膜层10的表面，同时控制第十膜层11蒸镀的速率为7Å/S，第十膜层11最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第十膜层11的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅高硬度晶体或者一氧化硅高硬度晶体，形成高硬度层；
K、镀第十一层膜层12：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电阻加热第十一膜层12的膜材，第十一膜层12的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤J中第十膜层11的表面，同时控制第十一膜层12蒸镀的速率为1.5Å/S，第十一膜层12最终形成后的厚度为3-10nm，其中第十一膜层12的膜材为氟化物,形成氟化物层。
所述的步骤1）中对基板1的外表面进行清洗的具体步骤如下：将基板1放在真空舱内，用离子枪轰击基板1的外表面5-10分钟进行清洗。
通过上述方法制得的手机盖板上的各膜层在零下20℃时的附着力为6-9hrs，在80℃时的附着力为6-9hrs，具有很强的附着能力，同时各膜层的致密性好、纯净度高。而且，该手机盖板能有效地过滤33％以上有害蓝光，同时金属层能够有效地提升清晰度和防蓝光效果，从而提高手机盖板的整体清晰度，对于视觉的清晰度和真实性有着很好的贡献，对有害蓝光、炫光的过滤能有效缓解视觉疲劳，纳米银层的膜材为银的氧化物，如AgO、Ag2O或Ag2O3，银的氧化物经过电子枪蒸镀后氧离子从银的氧化物中分离出来，并形成纳米银薄层，ITO层的设置有效的切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线，起到了防辐射的效果，此外设置高硬度层能够有效提高了手机盖板的耐磨性，可以防止其刮花。在基板外表面的最外层设置氟化物层具有很好的疏水性和防油污功能。
本发明在基板上真空蒸镀有五氧化三钛层，充分利用了五氧化三钛晶体材料镀膜操作性好，膜层密集，均匀，稳定，应力小等性能，以及五氧化三钛晶体材料在可见光波段内具有最高的折射率，结晶性好，蒸镀稳定，无放气和喷溅等优点，使其适合在手机盖板基板上镀制增透性好的多层膜。
本发明在基板上真空蒸镀有二氧化硅层，主要起增加膜层附着力、耐磨性以及抗冲击性的作用，同时可以吸收有害光。
本发明的五氧化三钛层和二氧化硅层相互配合，主要起到控制过滤波长的效果，本发明在手机盖板基板外表面蒸镀若干交替设置的五氧化三钛层和二氧化硅层，不仅有效滤去了绝大部分紫光和蓝光，而且能有效反射有害光、强光、炫目光波、强闪动光波，减少对人眼视网膜的伤害以及短波眩光的刺激；本发明第三膜层的金属层，不仅提升了防蓝光效果和清晰度，而且也可以反射有害光、炫目光波、强闪动光波等；本发明通过上述膜层相互配合，起到吸收、反射、转化、过滤等功效，是手机盖板镀膜过滤蓝光防炫耐磨的核心技术；同时，通过调节上述各膜层的厚度，使得波长较长的可见光产生相干干涉，从而进一步产生防眩效果；纳米银层对大肠杆菌、淋球菌、沙眼衣原体等数十种致病微生物都有强烈的抑制和杀灭作用，而且不会产生耐药性，保证了手机盖板具有足够的杀菌能力，ITO层的设置有效的切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线，起到了防辐射的效果，此外设置高硬度层能够有效提高了手机盖板的耐磨性，可以防止其刮花。在基板外表面的最外层设置氟化物层具有很好的疏水性和防油污功能，本发明的手机盖板还能有效地防水和防油污，因此，使用者手上的油污和水渍就不会在手机盖板上留下痕迹。
本发明的手机盖板能有效地过滤33％以上有害蓝光，同时金属层能够有效地提升清晰度和防蓝光效果，从而提高手机盖板的整体清晰度，对于视觉的清晰度和真实性有着很好的贡献，对有害蓝光、炫光的过滤能有效缓解视觉疲劳，设置纳米银层，保证了手机盖板足够的杀菌能力，ITO层的设置有效的切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线，起到了防辐射的效果，此外设置高硬度层能够有效提高了手机盖板的耐磨性，可以防止其刮花。在基板外表面的最外层设置氟化物层具有很好的疏水性和防油污功能。

Claims (10)

1.一种多功能手机盖板，包括基板，其特征在于：所述基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层、第八膜层、第九模层、第十膜层和第十一膜层；所述第一膜层、第三膜层和第五膜层均为五氧化三钛层，厚度均为10-100nm；所述第二膜层、第四膜层和第六膜层均为二氧化硅层，厚度均为50-100nm；所述第七膜层为金属层，厚度为5-20nm；所述第八膜层为纳米银层，第八膜层的厚度为5-20nm；所述第九膜层为ITO层，第九膜层的厚度为10-100nm；所述第十膜层为高硬度层，厚度为10-50nm；所述第十一膜层为氟化物层，第十一膜层的厚度为3-10nm。
2.根据权利要求1所述的一种多功能手机盖板，其特征在于：所述金属层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，并由电子枪蒸镀成型。
3.根据权利要求1所述的一种多功能手机盖板，其特征在于：所述纳米银层的膜材为银的氧化物，并使用电子枪蒸镀成型，所述银的氧化物为AgO、Ag2O或Ag2O3。
4.根据权利要求1所述的一种多功能手机盖板，其特征在于：所述氟化物层的膜材为氟化镁，并由电阻加热蒸镀成型。
5.根据权利要求1所述的一种多功能手机盖板，其特征在于：所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型。
6.根据权利要求1所述的一种多功能手机盖板，其特征在于：所述基板由树脂或玻璃成型。
7. 根据权利要求6所述多功能手机盖板的制备方法，其特征在于：所述基板由树脂成型时，所述制备方法具体包括以下步骤：
1）对基板的外表面进行清洗；
2）对基板的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第三膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第五膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
F、镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第六膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
G、镀第七膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为1Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为5-20nm，其中第七膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金,形成金属层；
H、镀第八膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，其中第八膜层的膜材为银的氧化物，在电子枪蒸镀的作用下，银的氧化物分解后以纳米银的形式附着于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为1Å/S，第八膜层最终形成厚度为5-20nm的纳米银层；其中所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3；
I、镀第九膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第九膜层的膜材，第九膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤H中第八膜层的表面，同时控制第九膜层蒸镀的速率为1Å/S，第九膜层最终形成后的厚度为10-100nm，其中第九膜层的膜材为ITO材料,形成ITO层；
J、镀第十膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第十膜层的膜材，第十膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤I中第九膜层的表面，同时控制第十膜层蒸镀的速率为7Å/S，第十膜层最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第十膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅高硬度晶体或者一氧化硅高硬度晶体，形成高硬度层；
K、镀第十一层膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电阻加热第十一膜层的膜材，第十一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤J中第十膜层的表面，同时控制第十一膜层蒸镀的速率为1.5Å/S，第十一膜层最终形成后的厚度为3-10nm，其中第十一膜层的膜材为氟化物,形成氟化物层。
8.根据权利要求7所述的一种多功能手机盖板的制备方法，其特征在于：所述的步骤1）中对基板的外表面进行清洗的具体步骤如下：将基板放在真空舱内，用离子枪轰击基板的外表面2-3分钟进行清洗。
9. 根据权利要求6所述多功能手机盖板的制备方法，其特征在于：所述基板由玻璃成型时，所述制备方法具体包括以下步骤：
1）对基板的外表面进行清洗；
2）对基板的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第三膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第五膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
F、镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第六膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
G、镀第七膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为1Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为5-20nm，其中第七膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金,形成金属层；
H、镀第八膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，其中第八膜层的膜材为银的氧化物，在电子枪蒸镀的作用下，银的氧化物分解后以纳米银的形式附着于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为1Å/S，第八膜层最终形成厚度为5-20nm的纳米银层；其中所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3；
I、镀第九膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第九膜层的膜材，第九膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤H中第八膜层的表面，同时控制第九膜层蒸镀的速率为1Å/S，第九膜层最终形成后的厚度为10-100nm，其中第九膜层的膜材为ITO材料,形成ITO层；
J、镀第十膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第十膜层的膜材，第十膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤I中第九膜层的表面，同时控制第十膜层蒸镀的速率为7Å/S，第十膜层最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第十膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅高硬度晶体或者一氧化硅高硬度晶体，形成高硬度层；
K、镀第十一层膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电阻加热第十一膜层的膜材，第十一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤J中第十膜层的表面，同时控制第十一膜层蒸镀的速率为1.5Å/S，第十一膜层最终形成后的厚度为3-10nm，其中第十一膜层的膜材为氟化物,形成氟化物层。
10.根据权利要求9所述的一种多功能手机盖板的制备方法，其特征在于：所述的步骤1）中对基板的外表面进行清洗的具体步骤如下：将基板放在真空舱内，用离子枪轰击基板的外表面5-10分钟进行清洗。
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