CN105970213A - 一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗及其制造方法 - Google Patents

一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗及其制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN105970213A
CN105970213A CN201511028527.6A CN201511028527A CN105970213A CN 105970213 A CN105970213 A CN 105970213A CN 201511028527 A CN201511028527 A CN 201511028527A CN 105970213 A CN105970213 A CN 105970213A
Authority
CN
China
Prior art keywords
layer
film layer
film
substrate
film material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201511028527.6A
Other languages
English (en)
Inventor
吴晓彤
方俊勇
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ott Road (zhangzhou) Optical Technology Co Ltd
Original Assignee
Ott Road (zhangzhou) Optical Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ott Road (zhangzhou) Optical Technology Co Ltd filed Critical Ott Road (zhangzhou) Optical Technology Co Ltd
Priority to CN201511028527.6A priority Critical patent/CN105970213A/zh
Publication of CN105970213A publication Critical patent/CN105970213A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
    • C23C14/30—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C23C14/081—Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C23C14/083—Oxides of refractory metals or yttrium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C23C14/086—Oxides of zinc, germanium, cadmium, indium, tin, thallium or bismuth
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/10—Glass or silica
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/06—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/32—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
    • C23C28/322—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer only coatings of metal elements only
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • C23C28/345—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one oxide layer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • C23C28/345—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one oxide layer
    • C23C28/3455—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one oxide layer with a refractory ceramic layer, e.g. refractory metal oxide, ZrO2, rare earth oxides or a thermal barrier system comprising at least one refractory oxide layer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

本发明公开了一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗及其制造方法，仪表盘或照相机视窗包括基板，基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层和第三膜层，第一膜层为纳米银层，第二膜层为ITO层，第三膜层为高硬度层。其制造方法包括以下步骤：1）对基板进行清洗；2）对基板的外表面进行镀膜。本发明的仪表盘或照相机视窗利用纳米银层使其拥有杀菌能力，保证了仪表盘或照相机视窗足够的杀菌能力，利用ITO层的设置有效的切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线，起到了防辐射的效果，其高硬度层能够显著提高仪表盘或照相机视窗的耐磨性。

Description

一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗及其制造方法
技术领域
本发明涉及一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗及其制造方法。
背景技术
现有的仪表盘或照相机视窗较少有杀菌功能，人们在使用过程中通过触摸的需要容易从仪表盘或照相机视窗上感染细菌，或带给仪表盘或照相机视窗外表面细菌，给人体造成交叉感染，影响使用者身心健康。
现有的仪表盘或照相机视窗也不具有防辐射、防紫外线等功能。
另外，现有的仪表盘或照相机视窗在使用过程中很容易被刮花或蹭花，影响美观，更严重的是，仪表盘或照相机视窗的表面刮花或蹭花后，内层暴露在空气中，容易受腐蚀，影响使用寿命。因此市场上迫切需要出现具有杀菌、防辐射、耐磨等多功能的仪表盘或照相机视窗来取代现有的仪表盘或照相机视窗。
发明内容
本发明的目的在于提供一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗及其制造方法，该方法制造出来的仪表盘或照相机视窗具有防止细菌或辐射对人体的伤害，而且具有高度耐磨性。
为实现上述目的，本发明采用以下技术方案：
一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗, 包括基板，其特征在于：所述基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层和第三膜层，所述第一膜层为纳米银层，第一膜层的厚度为5-20nm；所述第二膜层为ITO层，第二膜层的厚度为10-100nm；第三膜层为高硬度层，第三膜层的厚度为10-50nm。
所述纳米银层的膜材为银的氧化物，并由电子枪蒸镀成型。
所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3。
所述ITO层的膜材为ITO，并由电子枪蒸镀成型。
所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型。
所述基板为树脂或玻璃成型。
所述仪表盘或照相机视窗的基板为树脂成型时，所述杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗的制造方法具体包括以下步骤：
1）对基板的外表面进行清洗；
2）对基板的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材银的氧化物，第一膜层的膜材银的氧化物蒸发后分解，以纳米银形式在基板的外表面形成薄层，同时控制第一膜层蒸镀的速率为1Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为5-20nm；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为1Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为10-100nm，其中第二膜层的膜材为ITO；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为7Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为10-50nm，其中第三膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体。
所述步骤1）中，对基板清洗的具体方法如下：将基板放在真空腔内，用离子枪轰击基板的外表面3分钟。
所述仪表盘或照相机视窗的基板为玻璃成型时，所述杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗制造方法具体包括以下步骤：
1）对基板的外表面进行清洗；
2）对基板的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材银的氧化物，第一膜层的膜材银的氧化物蒸发后分解，以纳米银形式在基板的外表面形成薄层，同时控制第一膜层蒸镀的速率为1Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为5-20nm；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为1Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为10-100nm，其中第二膜层的膜材为ITO；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为7Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为10-50nm，其中第三膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体。
所述步骤1）中，对基板清洗的具体方法如下：将基板放在真空腔内，用离子枪轰击基板的外表面5-10分钟。
本发明采用电子束真空蒸镀的原理，利用带电荷的粒子在电场中加速后具有一定动能的特点，将离子引向欲被镀膜的基板制成的电极，并通过电子枪高温轰击将高纯度膜材，蒸发出来的纳米分子使其沿着一定的方向运动到基板并最终在基板上沉积成膜的方法。本项发明技术结合利用磁场的特殊分布控制电场中的电子运动轨迹，以此改进镀膜的工艺，使得镀膜厚度及均匀性可控，且制备的膜层致密性好、附着力强。
本发明在仪表盘或照相机视窗的基板上镀有的多个膜层，第一膜层为纳米银层，对大肠杆菌、淋球菌、沙眼衣原体等数十种致病微生物都有强烈的抑制和杀灭作用，而且不会产生耐药性，第一膜层的膜材为银的氧化物，如Ag2O、AgO或Ag2O3，银的氧化物经过电子枪蒸镀过程氧离子从银的氧化物中分离得到纳米银，纳米银在基板表面形成薄层；第一膜层的厚度为5-20nm，保证了仪表盘或照相机视窗足够的杀菌能力；ITO层的设置有效的切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线，起到了防辐射的效果；此外设置高硬度层能够显著提高仪表盘或照相机视窗外表面的耐磨性。因此本发明产品表面通过多层镀膜实现多种功能效果，设计合理，实用性强。
附图说明
以下结合附图和具体实施方式对本发明做进一步详细说明：
图1为本发明杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗的分解图。
具体实施方式
如图1所示，本发明包括基板1，基板1的外表面从里到外依序设有第一膜层2、第二膜层3和第三膜层4，第一膜层2为纳米银层，第一膜层2的厚度为5-20nm；第二膜层3为ITO层，第二膜层3的厚度为10-100nm；第三膜层4为高硬度层，第三膜层4的厚度为10-50nm。
其中，所述纳米银层的膜材为银的氧化物，并由电子枪蒸镀成型。
所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3。
所述ITO层的膜材为ITO，并由电子枪蒸镀成型。
所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型。
另外，基板1为树脂或玻璃成型。
仪表盘或照相机视窗的基板1为树脂成型时，该仪表盘或照相机视窗的制造方法具体包括以下步骤：
1）对基板1的外表面进行清洗；
2）对基板1的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层2：
将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材银的氧化物，第一膜层的膜材银的氧化物蒸发后分解，以纳米银形式在基板的外表面形成薄层，同时控制第一膜层蒸镀的速率为1Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为5-20nm；
B、镀第二膜层3：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层3的膜材，第二膜层3的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层2的表面，同时控制第二膜层3蒸镀的速率为1Å/S，第二膜层3最终形成后的厚度为10-100nm，其中第二膜层3的膜材为ITO；
C、镀第三膜层4：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层4的膜材，第三膜层4的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层3的表面，同时控制第三膜层4蒸镀的速率为7Å/S，第三膜层4最终形成后的厚度为10-50nm，其中第三膜层4的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体。
步骤1）中，对基板1的清洗具体方法如下：将基板1放在真空腔内，用离子枪轰击基板1的外表面3分钟。
通过上述方法制得的仪表盘或照相机视窗上的各膜层在零下20℃时的附着力为2-4hrs，在80℃时的附着力为2-4hrs，具有很强的附着能力，同时各膜层的致密性好、附着力强。纳米银层保证了仪表盘或照相机视窗足够的杀菌能力，利用ITO层的设置有效的切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线，起到了防辐射的效果，其高硬度层能够显著提高仪表盘或照相机视窗的耐磨性。
仪表盘或照相机视窗的基板1为玻璃成型时，该仪表盘或照相机视窗的制造方法具体包括以下步骤：
1）对基板1的外表面进行清洗；
2）对基板1的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层2：
将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材银的氧化物，第一膜层的膜材银的氧化物蒸发后分解，以纳米银形式在基板的外表面形成薄层，同时控制第一膜层蒸镀的速率为1Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为5-20nm；
B、镀第二膜层3：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第二膜层3的膜材，第二膜层3的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层2的表面，同时控制第二膜层3蒸镀的速率为1Å/S，第二膜层3最终形成后的厚度为10-100nm，其中第二膜层3的膜材为ITO；
C、镀第三膜层4：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第三膜层4的膜材，第三膜层4的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层3的表面，同时控制第三膜层4蒸镀的速率为7Å/S，第三膜层4最终形成后的厚度为10-50nm，其中第三膜层4的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体。
步骤1）中，对基板1的清洗具体方法如下：将基板1放在真空腔内，用离子枪轰击基板1的外表面5-10分钟。
通过上述方法制得的仪表盘或照相机视窗上的各膜层在零下20℃时的附着力为6-9hrs，在80℃时的附着力为6-9hrs，具有很强的附着能力，同时各膜层的致密性好、附着力强。纳米银层保证了仪表盘或照相机视窗足够的杀菌能力，利用ITO层的设置有效的切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线，起到了防辐射的效果，其高硬度层能够显著提高仪表盘或照相机视窗的耐磨性。

Claims (10)

1.一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗，包括基板，其特征在于：所述基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层和第三膜层，所述第一膜层为纳米银层，第一膜层的厚度为5-20nm；所述第二膜层为ITO层，第二膜层的厚度为10-100nm；第三膜层为高硬度层，第三膜层的厚度为10-50nm。
2.根据权利要求1所述的一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗，其特征在于：所述纳米银层的膜材为银的氧化物，并由电子枪蒸镀成型。
3.根据权利要求2所述的一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗，其特征在于：所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3。
4.根据权利要求1所述的一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗，其特征在于：所述ITO层的膜材为ITO，并由电子枪蒸镀成型。
5.根据权利要求1所述的一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗，其特征在于：所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型。
6.根据权利要求1所述的一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗，其特征在于：所述基板为树脂或玻璃成型。
7. 根据权利要求6所述一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗的制造方法，其特征在于：所述仪表盘或照相机视窗的基板为树脂成型时，所述制造方法具体包括以下步骤：
1）对基板的外表面进行清洗；
2）对基板的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材银的氧化物，第一膜层的膜材银的氧化物蒸发后分解，以纳米银形式在基板的外表面形成薄层，同时控制第一膜层蒸镀的速率为1Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为5-20nm；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为1Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为10-100nm，其中第二膜层的膜材为过ITO；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为7Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为10-50nm，其中第三膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体。
8.根据权利要求7所述的一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗的制造方法，其特征在于：所述步骤1）中，对基板清洗的具体方法如下：将基板放在真空腔内，用离子枪轰击基板的外表面3分钟。
9. 根据权利要求6所述的一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗的制造方法，其特征在于：所述仪表盘或照相机视窗的基板为玻璃成型时，所述制造方法具体包括以下步骤：
1）对基板的外表面进行清洗；
2）对基板的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材银的氧化物，第一膜层的膜材银的氧化物蒸发后分解，以纳米银形式在基板的外表面形成薄层，同时控制第一膜层蒸镀的速率为1Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为5-20nm；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为1Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为10-100nm，其中第二膜层的膜材为ITO；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为7Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为10-50nm，其中第三膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体。
10.根据权利要求9所述的一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗的制造方法，其特征在于：所述步骤1）中，对基板清洗的具体方法如下：将基板放在真空腔内，用离子枪轰击基板的外表面5-10分钟。
CN201511028527.6A 2015-12-31 2015-12-31 一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗及其制造方法 Pending CN105970213A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201511028527.6A CN105970213A (zh) 2015-12-31 2015-12-31 一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗及其制造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201511028527.6A CN105970213A (zh) 2015-12-31 2015-12-31 一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗及其制造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN105970213A true CN105970213A (zh) 2016-09-28

Family

ID=56988295

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201511028527.6A Pending CN105970213A (zh) 2015-12-31 2015-12-31 一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗及其制造方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN105970213A (zh)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN201878491U (zh) * 2010-11-30 2011-06-22 中国乐凯胶片集团公司 一种防辐射屏
CN103984120A (zh) * 2014-05-30 2014-08-13 奥特路（漳州）光学科技有限公司 一种防蓝光光学镜片的制造方法
CN104339749A (zh) * 2013-08-06 2015-02-11 三星显示有限公司 具有抗菌涂层的多层光学涂覆结构

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN201878491U (zh) * 2010-11-30 2011-06-22 中国乐凯胶片集团公司 一种防辐射屏
CN104339749A (zh) * 2013-08-06 2015-02-11 三星显示有限公司 具有抗菌涂层的多层光学涂覆结构
CN103984120A (zh) * 2014-05-30 2014-08-13 奥特路（漳州）光学科技有限公司 一种防蓝光光学镜片的制造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Kuzminova et al. Antibacterial nanocomposite coatings produced by means of gas aggregation source of silver nanoparticles
US20200276019A1 (en) Three dimensionally printed and nanocoated medical implants
US20050003019A1 (en) Ionic plasma deposition of anti-microbial surfaces and the anti-microbial surfaces resulting therefrom
US20140008324A1 (en) Method for making plastic articles having an antimicrobial surface
JP2009524479A5 (zh)
TWI496911B (zh) 抗菌鍍膜件及其製備方法
CN111357768B (zh) 抗菌膜及其应用
KR100666261B1 (ko) 스퍼터링 공정을 이용한 은 나노 증착 방법
CN110144561A (zh) 一种持久耐用具有抗菌功能的硬质涂层的制备方法
CN105624673A (zh) 一种杀菌防辐射的耐磨手机盖板及其制造方法
CN105970213A (zh) 一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗及其制造方法
CN105445957A (zh) 一种杀菌防辐射耐磨镜片及其制备方法
CN216033003U (zh) 抗菌膜体构造
CN105543786A (zh) 一种杀菌防炫增透的耐磨手机盖板及其制备方法
JP2009143841A (ja) 抗菌性材料及びその製造方法
CN105441944A (zh) 一种杀菌的耐磨仪表盘或照相机视窗及其制造方法
CN105624674A (zh) 一种杀菌防辐射的耐磨触摸显示屏及其制造方法
CN105624675A (zh) 一种杀菌防水油污的耐磨手机盖板及其制造方法
CN105700739A (zh) 一种杀菌防水油污的耐磨触摸显示屏及其制造方法
CN108690952A (zh) 一种真空镀杀菌膜
CN105487255A (zh) 一种杀菌耐磨镜片及其制备方法
CN105543785A (zh) 一种杀菌的耐磨手机盖板及其制造方法
CN105441874A (zh) 一种杀菌防水油污的耐磨仪表盘或照相机视窗及其制造方法
CN105671493A (zh) 一种杀菌防强光的耐磨手机盖板及其制造方法
CN105624613A (zh) 一种杀菌防炫增透的耐磨触摸显示屏及其制造方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20160928