CN107992222A - 一种抗菌触摸屏及其制备方法和煮食设备 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及电热电器技术领域，公开了一种抗菌触摸屏及其制备方法和煮食设备，该抗菌触摸屏包括基板(1)和设置于基板(1)的至少部分区域的外表面上的抗菌层，所述抗菌层包括二氧化钛层(2)和/或银层(3)，所述至少部分区域包括按键区(5)。本发明的抗菌触摸屏具有优异的抗菌效果，且制备工艺简单，成本低，容易大规模生产。
Description
技术领域
本发明涉及电热电器技术领域，具体地，涉及一种抗菌触摸屏及其制备方法和包括该抗菌触摸屏的煮食设备。
背景技术
煮食设备的触摸屏及功能按键表面易残留食物，这些食物很容易滋生细菌，长期和人手接触，会导致人体感染细菌。尤其是触摸功能按键的频繁使用，会增加细菌感染的机会。银是最早被应用的无机类长效抗菌生物涂层材料之一，因具有较好的环境协调性和抗菌生物涂层持久性而获得广泛应用。然而，在现有的煮食设备中具有抗菌功能的触摸功能按键很少，随着智能电饭煲等煮食设备的频繁使用，人们在使用过程中极易从触摸屏上感染细菌。
发明内容
本发明的目的是为了克服现有技术中的上述缺陷，提供一种抗菌触摸屏及其制备方法和包括该抗菌触摸屏的煮食设备。
为了实现上述目的，第一方面，本发明提供了一种抗菌触摸屏，该抗菌触摸屏包括基板和设置于基板的至少部分区域的外表面上的抗菌层，所述抗菌层包括二氧化钛层和/或银层，所述至少部分区域包括按键区。
第二方面，本发明提供了一种抗菌触摸屏的制备方法，该方法包括：在基板的至少部分区域的外表面上形成抗菌层，所述抗菌层包括二氧化钛层和/或银层，所述至少部分区域包括按键区。
第三方面，本发明提供了一种煮食设备，该煮食设备包括本发明所述的抗菌触摸屏。
本发明的抗菌触摸屏具有优异的抗菌效果，且制备工艺简单，成本低，容易大规模生产。
根据本发明的一种优选的实施方式，在基板的至少包括按键区的区域的外表面上由里到外依次设置一定厚度的二氧化钛层、银层和保护层，采用纳米银单质为主、光触媒TiO2为辅的抗菌机理进行抗菌，其中，二氧化钛层可以起到增加附着力和辅助杀菌的作用、纳米单质银能够发挥广谱杀菌作用，保护层能够使得触摸屏防刮耐划耐磨，并使得二氧化钛层和银层具有长效抗菌性，同时，触摸屏中的银层不易被氧化。
本发明的其它特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。
附图说明
图1是本发明的一种实施方式的抗菌触摸屏的结构示意图。
图2是本发明的另一种实施方式的抗菌触摸屏的结构示意图。
图3是本发明的另一种实施方式的抗菌触摸屏的结构示意图。
图4是本发明的另一种实施方式的抗菌触摸屏的结构示意图。
附图标记说明
1为基板，2为二氧化钛层，3为银层，4为保护层，5为按键区。
具体实施方式
以下将结合图1-4对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。
在本文中所披露的范围的端点和任何值都不限于该精确的范围或值，这些范围或值应当理解为包含接近这些范围或值的值。对于数值范围来说，各个范围的端点值之间、各个范围的端点值和单独的点值之间，以及单独的点值之间可以彼此组合而得到一个或多个新的数值范围，这些数值范围应被视为在本文中具体公开。
第一方面，如图1-4所示，本发明提供了一种抗菌触摸屏，该抗菌触摸屏包括基板1和设置于基板1的至少部分区域的外表面上的抗菌层，所述抗菌层包括二氧化钛层2和/或银层3，所述至少部分区域包括按键区5。
本领域技术人员应该理解的是，本发明的抗菌触摸屏中，基板1对应于设置有电路的一面为内表面，相对的另一面为外表面。
本发明的抗菌触摸屏中，为了提高触摸屏的防刮耐划耐磨性，并延长抗菌层(包括二氧化钛层2和/或银层3)的抗菌性，优选情况下，在抗菌层的外表面上还设置有保护层4；进一步优选地，所述保护层4为SiO2层、ZrO2层或Al2O3层。
本发明的抗菌触摸屏中，优选情况下，抗菌层包括由里到外依次设置的二氧化钛层2和银层3。
也即，本发明的抗菌触摸屏中，优选情况下，在基板1的前述至少部分区域的外表面上由里到外依次设置有二氧化钛层2和保护层4，或者在基板1的前述至少部分区域的外表面上由里到外依次设置有银层3和保护层4，或者在基板1的前述至少部分区域的外表面上由里到外依次设置有二氧化钛层2、银层3和保护层4。
本发明的抗菌触摸屏中，为了进一步提高触摸屏的抗菌性和附着力，提高触摸屏的防刮耐划耐磨性，优选情况下，在基板1的前述至少部分区域的外表面上由里到外依次设置有二氧化钛层2、银层3和保护层4。
本发明的抗菌触摸屏中，为了使制备工艺简单方便，优选情况下，在基板1的全部外表面上设置有二氧化钛层2和/或银层3以及可选的保护层4；进一步优选地，在基板1的全部外表面上由里到外依次设置有二氧化钛层2、银层3和保护层4。
本发明的抗菌触摸屏中，为了进一步提高触摸屏的抗菌性和附着力，优选情况下，二氧化钛层2的厚度为20-80nm。
本发明的抗菌触摸屏中，为了进一步提高触摸屏的抗菌性，优选情况下，银层3的厚度为40-80nm。
本发明的抗菌触摸屏中，为了进一步提高触摸屏的防刮耐划耐磨性，并延长二氧化钛层2和银层3的抗菌性，优选情况下，保护层4的厚度为100-200nm。
本发明的抗菌触摸屏中，基板1可以为本领域常用的各种基材，优选情况下，基板1为玻璃基板或塑料基板，其中，塑料基板可以为透明聚丙烯(PP)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯(PC)等塑料基板。优选地，所述基板1的厚度为0.5-2mm，进一步优选为1-1.5mm。
第二方面，本发明提供了一种抗菌触摸屏的制备方法，该方法包括：在基板1的至少部分区域的外表面上形成抗菌层，所述抗菌层包括二氧化钛层2和/或银层3，所述至少部分区域包括按键区5。
本发明的方法中，优选情况下，该方法还包括：在抗菌层的外表面上形成保护层4；进一步优选地，所述保护层4为SiO2层、ZrO2层或Al2O3层。
本发明的方法中，优选情况下，形成抗菌层的方法包括：在基板1的至少部分区域的外表面上由里到外依次形成二氧化钛层2和银层3。
也即，本发明的方法中，优选情况下，在基板1的至少部分区域的外表面上由里到外依次形成二氧化钛层2和保护层4，或者在基板1的至少部分区域的外表面上由里到外依次形成银层3和保护层4，或者在基板1的至少部分区域的外表面上由里到外依次形成二氧化钛层2、银层3和保护层4。
本发明的方法中，为了进一步提高制备得到的触摸屏的抗菌性和附着力，提高制得的触摸屏的防刮耐划耐磨性，优选情况下，在基板1的至少部分区域的外表面上由里到外依次形成二氧化钛层2、银层3和保护层4。
本发明的方法中，为了使制备工艺简单方便，优选情况下，在基板1的全部外表面上形成二氧化钛层2和/或银层3以及可选的保护层4；进一步优选地，在基板1的全部外表面上由里到外依次形成二氧化钛层2、银层3和保护层4。
本发明的方法中，还包括：在进行步骤(1)之前将基板1进行清洗，具体的清洗方法可以为：用清洗剂进行清洗，然后用氮气吹干。
本发明的方法中，还可以包括形成按键区5的步骤，对于形成按键区5的方法没有特别的限定，可以为本领域常用的各种方法，例如可以通过印刷的方式形成按键区5，具体的印刷的步骤为本领域技术人员所熟知，在此不再赘述。
本发明的方法中，优选情况下，通过镀膜的方式形成二氧化钛层2，所述镀膜的条件包括：靶材为钛，真空度为0.001-0.01Pa，溅射功率为5-10kW，氩气流量为200-300sccm，氧气流量为100-200sccm，镀膜时间为5-10分钟，控制膜厚为20-80nm。
本发明的方法中，优选情况下，通过镀膜的方式形成银层3，所述镀膜的条件包括：靶材为银，真空度为0.001-0.01Pa，溅射功率为4-8kW，氩气流量为200-300sccm，镀膜时间为3-6分钟，控制膜厚为40-80nm。
本发明的方法中，优选情况下，通过镀膜的方式形成保护层4，所述镀膜的条件包括：靶材为Si、Zr或Al，真空度为0.001-0.01Pa，氩气流量为200-300sccm，氧气流量为100-200sccm，溅射功率为6-12kW，镀膜时间为4-8分钟，控制膜厚为100-200nm。
第三方面，本发明提供了上述方法制备得到的抗菌触摸屏。
第四方面，本发明提供了一种煮食设备，该煮食设备包括本发明所述的抗菌触摸屏。
对于煮食设备没有特别的限定，可以为其上设置有触摸显示屏的所有煮食设备，例如，煮食设备可以为饭煲、压力锅、水壶、豆浆机或煎烤机等。
实施例
以下将通过实施例对本发明作进一步的说明，但并不因此限制本发明。
以下实施例中，膜层的厚度用透射光谱法进行测定。
清洗剂购自深圳宏达威化工有限公司，牌号为HDW-700。
实施例1
本实施例用于说明本发明的抗菌触摸屏及其制备方法。
(1)将厚度为1.5mm的PP基板用清洗剂HDW-700进行清洗，然后用氮气吹干；
(2)在PP基板的内表面上印刷形成按键区；
(3)在PP基板的全部外表面上由里到外通过镀膜的方法依次形成二氧化钛层、银层和SiO2保护层，即得抗菌触摸屏。
其中，二氧化钛层的镀膜条件包括：靶材为钛，真空度为0.006Pa，溅射功率为8kW，氩气流量为250sccm，氧气流量为150sccm，镀膜时间为8分钟，经测定，二氧化钛层的厚度为60nm。
银层的镀膜条件包括：靶材为银，真空度为0.005Pa，溅射功率为6kW，氩气流量为250sccm，镀膜时间为4分钟，经测定，银层的厚度为60nm。
SiO2保护层的镀膜条件包括：靶材为Si，真空度为0.006Pa，氩气流量为250sccm，氧气流量为160sccm，溅射功率为9kW，镀膜时间为6分钟，经测定，SiO2保护层的厚度为150nm。
本实施例得到的抗菌触摸屏如图1所示，该抗菌触摸屏包括基板1和由里到外依次设置在基板1全部外表面上的二氧化钛层2、银层3和保护层4，基板1包括按键区5，其中，保护层4为SiO2保护层，基板1厚度为1.5mm，二氧化钛层2的厚度为60nm，银层3的厚度为60nm，保护层4的厚度为150nm。
实施例2
本实施例用于说明本发明的抗菌触摸屏及其制备方法。
(1)将厚度为1.0mm的PP基材用清洗剂HDW-700进行清洗，然后用氮气吹干；
(2)在PP基材的内表面上印刷形成按键区；
(3)在PP基材的全部外表面上由里到外通过镀膜的方法依次形成二氧化钛层、银层和ZrO2保护层，即得抗菌触摸屏。
其中，二氧化钛层的镀膜条件包括：靶材为钛，真空度为0.002Pa，溅射功率为10kW，氩气流量为200sccm，氧气流量为100sccm，镀膜时间为10分钟，经测定，二氧化钛层的厚度为80nm。
银层的镀膜条件包括：靶材为银，真空度为0.001Pa，溅射功率为8kW，氩气流量为200sccm，镀膜时间为6分钟，经测定，银层的厚度为80nm。
ZrO2保护层的镀膜条件包括：靶材为Zr，真空度为0.001Pa，氩气流量为200sccm，氧气流量为100sccm，溅射功率为12kW，镀膜时间为8分钟，经测定，ZrO2保护层的厚度为200nm。
本实施例得到的抗菌触摸屏如图1所示，该抗菌触摸屏包括基板1和由里到外依次设置在基板1全部外表面上的二氧化钛层2、银层3和保护层4，基板1包括按键区5，其中，保护层4为ZrO2保护层，基板1厚度为1.0mm，二氧化钛层2的厚度为80nm，银层3的厚度为80nm，保护层4的厚度为200nm。
实施例3
本实施例用于说明本发明的抗菌触摸屏及其制备方法。
(1)将厚度为0.8mm的PP基材用清洗剂HDW-700进行清洗，然后用氮气吹干；
(2)在PP基材的内表面上印刷形成按键区；
(3)在PP基材的全部外表面上由里到外通过镀膜的方法依次形成二氧化钛层、银层和Al2O3保护层，即得抗菌触摸屏。
其中，二氧化钛层的镀膜条件包括：靶材为钛，真空度为0.01Pa，溅射功率为6kW，氩气流量为300sccm，氧气流量为200sccm，镀膜时间为5.5分钟，经测定，二氧化钛层的厚度为65nm。
银层的镀膜条件包括：靶材为银，真空度为0.01Pa，溅射功率为4kW，氩气流量为300sccm，镀膜时间为3分钟，经测定，银层的厚度为40nm。
Al2O3保护层的镀膜条件包括：靶材为Al，真空度为0.01Pa，氩气流量为300sccm，氧气流量为180sccm，溅射功率为6kW，镀膜时间为4分钟，经测定，Al2O3保护层的厚度为100nm。
本实施例得到的抗菌触摸屏如图1所示，该抗菌触摸屏包括基板1和由里到外依次设置在基板1全部外表面上的二氧化钛层2、银层3和保护层4，基板1包括按键区5，其中，保护层4为Al2O3保护层，基板1厚度为0.8mm，二氧化钛层2的厚度为65nm，银层3的厚度为40nm，保护层4的厚度为100nm。
实施例4
按照实施例1的方法，不同的是，步骤(3)中，仅仅在按键区的外表面上由里到外通过镀膜的方法依次形成二氧化钛层、银层和SiO2保护层，其中，相应的镀膜的条件均与实施例1相同。
本实施例得到的抗菌触摸屏如图2所示，该抗菌触摸屏包括：包括按键区5的基板和由里到外依次设置在按键区5全部外表面上的二氧化钛层2、银层3和保护层4，其中，保护层4为SiO2保护层，二氧化钛层2的厚度为60nm，银层3的厚度为60nm，保护层4的厚度为150nm。
实施例5
按照实施例1的方法，不同的是，步骤(3)中，在PP基材的全部外表面上由里到外通过镀膜的方法依次形成二氧化钛层和SiO2保护层，其中，相应的镀膜的条件均与实施例1相同。
本实施例得到的抗菌触摸屏如图3所示，该抗菌触摸屏包括基板1和由里到外依次设置在基板1全部外表面上的二氧化钛层2和保护层4，基板1包括按键区5，其中，保护层4为SiO2保护层，基板1厚度为1.5mm，二氧化钛层2的厚度为60nm，保护层4的厚度为150nm。
实施例6
按照实施例1的方法，不同的是，步骤(3)中，在PP基材的全部外表面上由里到外通过镀膜的方法依次形成银层和SiO2保护层，其中，相应的镀膜的条件均与实施例1相同。
本实施例得到的抗菌触摸屏如图4所示，该抗菌触摸屏包括基板1和由里到外依次设置在基板1全部外表面上的银层3和保护层4，基板1包括按键区5，其中，保护层4为SiO2保护层，基板1厚度为1.5mm，银层3的厚度为60nm，保护层4的厚度为150nm。
对比例1
按照实施例1的方法，不同的是，不进行步骤(3)的镀膜处理。
试验例
1、耐刮擦：按照GB/T 6739-1996，将硬度测试仪分别轻放在实施例1-6、对比例1得到的触摸屏表面，用手抓住滑轮两侧，以10cm/s的速度向前推10mm，观察触摸屏表面是否被刮伤，依铅笔硬度的顺序，由硬到软逐步测试，记录铅笔完全不会划伤触摸屏表面的最高硬度，作为耐刮擦硬度，结果见表1。
2、附着力：按照GB/T 9286-1998，用刀片分别在实施例1-6、对比例1得到的触摸屏表面划1mm2的正方形小格100格，在同一45°对角位置用“3M610测试胶带”粘紧抗菌层，然后以90°角快速拉起胶布，重复3次，根据GB/T 9286-1998中表1的分级标准，记录形成层与基板之间的附着力等级，结果见表1。
3、抗菌性：按照中华人民共和国轻工行业标准QB/T 2591-2003进行实验，将金黄色葡萄球菌的菌液、大肠埃希氏菌的菌液各自分别滴加在实施例1-6、对比例1得到的触摸屏表面，起始滴加量记为“0”接触时间试样上的菌落数，培养24小时后的菌量记为24小时培养后试样上的菌落数，抗菌率＝(“0”接触时间试样上的菌落数-24小时培养后试样上的菌落数)/“0”接触时间试样上的菌落数×100％，结果见表3。
表1
| 耐刮擦硬度 | 附着力 | |
| 实施例1 | 3H | 0级 |
| 实施例2 | 4H | 0级 |
| 实施例3 | 3H | 0级 |
| 实施例4 | 3H | 0级 |
| 实施例5 | 3H | 0级 |
| 实施例6 | 3H | 2级 |
| 对比例1 | H | / |
表2
| 大肠埃希氏菌抗菌率 | 金黄色葡萄球菌抗菌率 | |
| 实施例1 | 99.99％ | 99.99％ |
| 实施例2 | 99.99％ | 98.83％ |
| 实施例3 | 99.99％ | 99.99％ |
| 实施例4 | 99.99％ | 99.99％ |
| 实施例5 | 50％ | 45.55％ |
| 实施例6 | 90.05％ | 91.75％ |
| 对比例1 | 15.86％ | 13.43％ |
从表1可以看出，本发明的抗菌触摸屏中，在基板的至少包括按键区的区域的外表面上由里到外依次设置一定厚度的二氧化钛层、银层和保护层，二氧化钛层与基板之间具有较高的结合强度，且触摸屏具有优异的耐磨性，同时形成层中的银不易被氧化。
从表2可以看出，本发明的抗菌触摸屏具有优异的抗菌性。
以上详细描述了本发明的优选实施方式，但是，本发明并不限于上述实施方式中的具体细节，在本发明的技术构思范围内，可以对本发明的技术方案进行多种简单变型，这些简单变型均属于本发明的保护范围。
另外需要说明的是，在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何合适的方式进行组合，为了避免不必要的重复，本发明对各种可能的组合方式不再另行说明。
此外，本发明的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合，只要其不违背本发明的思想，其同样应当视为本发明所公开的内容。
Claims (17)
1.一种抗菌触摸屏，其特征在于，该抗菌触摸屏包括基板(1)和设置于基板(1)的至少部分区域的外表面上的抗菌层，所述抗菌层包括二氧化钛层(2)和/或银层(3)，所述至少部分区域包括按键区(5)。
2.根据权利要求1所述的抗菌触摸屏，其中，在所述抗菌层的外表面上还设置有保护层(4)；
优选地，所述保护层(4)为SiO2层、ZrO2层或Al2O3层。
3.根据权利要求1或2所述的抗菌触摸屏，其中，所述抗菌层包括由里到外依次设置的二氧化钛层(2)和银层(3)。
4.根据权利要求1-3中任意一项所述的抗菌触摸屏，其中，在基板(1)的全部外表面上设置有二氧化钛层(2)和/或银层(3)；
优选地，在基板(1)的全部外表面上由里到外依次设置有二氧化钛层(2)、银层(3)和保护层(4)。
5.根据权利要求1-4中任意一项所述的抗菌触摸屏，其中，所述二氧化钛层(2)的厚度为20-80nm。
6.根据权利要求1-5中任意一项所述的抗菌触摸屏，其中，所述银层(3)的厚度为40-80nm。
7.根据权利要求2所述的抗菌触摸屏，其中，所述保护层(4)的厚度为100-200nm。
8.根据权利要求1-7中任意一项所述的抗菌触摸屏，其中，所述基板(1)为玻璃基板或塑料基板；
优选地，所述基板(1)的厚度为0.5-2mm。
9.一种抗菌触摸屏的制备方法，其特征在于，该方法包括：在基板(1)的至少部分区域的外表面上形成抗菌层，所述抗菌层包括二氧化钛层(2)和/或银层(3)，所述至少部分区域包括按键区(5)。
10.根据权利要求9所述的方法，其中，该方法还包括：在所述抗菌层的外表面上形成保护层(4)；
优选地，所述保护层(4)为SiO2层、ZrO2层或Al2O3层。
11.根据权利要求9或10所述的方法，其中，形成抗菌层的方法包括：在基板(1)的至少部分区域的外表面上由里到外依次形成二氧化钛层(2)和银层(3)。
12.根据权利要求9-11中任意一项所述的方法，其中，在基板(1)的全部外表面上形成二氧化钛层(2)和/或银层(3)；
优选地，在基板(1)的全部外表面上由里到外依次形成二氧化钛层(2)、银层(3)和保护层(4)。
13.根据权利要求9-12中任意一项所述的方法，其中，通过镀膜的方式形成二氧化钛层(2)，所述镀膜的条件包括：靶材为钛，真空度为0.001-0.01Pa，溅射功率为5-10kW，氩气流量为200-300sccm，氧气流量为100-200sccm，镀膜时间为5-10分钟，控制膜厚为20-80nm。
14.根据权利要求9-12中任意一项所述的方法，其中，通过镀膜的方式形成银层(3)，所述镀膜的条件包括：靶材为银，真空度为0.001-0.01Pa，溅射功率为4-8kW，氩气流量为200-300sccm，镀膜时间为3-6分钟，控制膜厚为40-80nm。
15.根据权利要求10所述的方法，其中，通过镀膜的方式形成保护层(4)，所述镀膜的条件包括：靶材为Si、Zr或Al，真空度为0.001-0.01Pa，氩气流量为200-300sccm，氧气流量为100-200sccm，溅射功率为6-12kW，镀膜时间为4-8分钟，控制膜厚为100-200nm。
16.一种煮食设备，其特征在于，该煮食设备包括抗菌触摸屏，所述抗菌触摸屏为权利要求1-8中任意一项所述的抗菌触摸屏。
17.根据权利要求16所述的煮食设备，其中，所述煮食设备为饭煲、压力锅、水壶、豆浆机或煎烤机。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201610947090.4A CN107992222A (zh) | 2016-10-26 | 2016-10-26 | 一种抗菌触摸屏及其制备方法和煮食设备 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN201610947090.4A CN107992222A (zh) | 2016-10-26 | 2016-10-26 | 一种抗菌触摸屏及其制备方法和煮食设备 |
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Citations (4)
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|---|---|---|---|---|
| CN1892678A (zh) * | 2005-07-06 | 2007-01-10 | 宸鸿光电科技股份有限公司 | 具有抗菌层的触控面板及其制造方法 |
| CN202632240U (zh) * | 2012-01-14 | 2012-12-26 | 宸鸿科技(厦门)有限公司 | 触控面板 |
| CN104339749A (zh) * | 2013-08-06 | 2015-02-11 | 三星显示有限公司 | 具有抗菌涂层的多层光学涂覆结构 |
| CN206584326U (zh) * | 2016-10-26 | 2017-10-24 | 佛山市顺德区美的电热电器制造有限公司 | 一种抗菌触摸屏和煮食设备 |
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2016
- 2016-10-26 CN CN201610947090.4A patent/CN107992222A/zh active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1892678A (zh) * | 2005-07-06 | 2007-01-10 | 宸鸿光电科技股份有限公司 | 具有抗菌层的触控面板及其制造方法 |
| CN202632240U (zh) * | 2012-01-14 | 2012-12-26 | 宸鸿科技(厦门)有限公司 | 触控面板 |
| CN104339749A (zh) * | 2013-08-06 | 2015-02-11 | 三星显示有限公司 | 具有抗菌涂层的多层光学涂覆结构 |
| CN206584326U (zh) * | 2016-10-26 | 2017-10-24 | 佛山市顺德区美的电热电器制造有限公司 | 一种抗菌触摸屏和煮食设备 |
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