CN105603368A - 一种杀菌防炫增透的耐磨仪表盘或照相机视窗及其制备方法 - Google Patents

一种杀菌防炫增透的耐磨仪表盘或照相机视窗及其制备方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种杀菌防炫增透的耐磨仪表盘或照相机视窗及其制备方法，该仪表盘或照相机视窗包括基片，所述基片的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层和第六膜层；所述第一膜层和第三膜层均为五氧化三钛层，厚度均为10-100nm；所述第二膜层和第四膜层均为二氧化硅层，厚度均为50-100nm；所述第五膜层为纳米银层，第五膜层的厚度为5-20nm；所述第六膜层为高硬度层，厚度为10-50nm。其制备方法包括以下步骤：1）对基片进行清洗；2）对基片的外表面进行镀膜。本发明的仪表盘或照相机视窗对炫光的过滤能有效缓解视觉疲劳，拥有杀菌能力，充足的耐磨性以及杀菌功能。

Description

一种杀菌防炫增透的耐磨仪表盘或照相机视窗及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种仪表盘或照相机视窗技术领域，尤其是涉及一种杀菌防炫增透的耐磨仪表盘或照相机视窗及其制备方法。
背景技术
现有的仪表盘或照相机视窗较少有杀菌功能，人们在使用过程中通过触摸的需要容易从仪表盘或照相机视窗上感染细菌，或带给仪表盘或照相机视窗外表面细菌，给人体造成交叉感染，影响使用者身心健康。
现有的仪表盘或照相机视窗的透光性能不好，容易炫目。
另外，现有的仪表盘或照相机视窗在使用过程中很容易被刮花或蹭花，影响美观，更严重的是，仪表盘或照相机视窗的表面刮花或蹭花后，内层暴露在空气中，容易受腐蚀，影响使用寿命。
因此市场上迫切需要出现杀菌、防炫增透、耐磨的仪表盘或照相机视窗来取代现有的仪表盘或照相机视窗。
发明内容
本发明的目的在于针对现有技术的不足，提供一种表面带多层镀膜层的杀菌防炫增透的耐磨仪表盘或照相机视窗及其制备方法。
为实现上述目的，本发明采用以下技术方案：
一种杀菌防炫增透的耐磨仪表盘或照相机视窗，包括基片，所述基片的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层和第六膜层；所述第一膜层和第三膜层均为五氧化三钛层，厚度均为10-100nm；所述第二膜层和第四膜层均为二氧化硅层，厚度均为50-100nm；所述第五膜层为纳米银层，第五膜层的厚度为5-20nm；所述第六膜层为高硬度层，厚度为10-50nm。
所述的五氧化三钛层的膜材为五氧化三钛，并由电子枪蒸镀成型，二氧化硅层的膜材为二氧化硅，并由电子枪蒸镀成型。
所述纳米银层的膜材为银的氧化物，并使用电子枪蒸镀成型。
所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3。
所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型。
所述基片由树脂或玻璃成型。
本发明公开一种杀菌防炫增透的耐磨仪表盘或照相机视窗的制备方法，在所述基片由树脂成型时，所述制备方法具体包括以下步骤：
1）对基片进行清洗、干燥；
2）对基片的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7?/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第三膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第三膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7?/S，第四膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材银的氧化物，银的氧化物蒸发后分解，以纳米银形式在步骤D中第四膜层的表面形成薄层，同时控制第五膜层蒸镀的速率为1?/S，第五膜层最终形成后的厚度为5-20nm；
F、镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7?/S，第六膜层最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第六膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅高硬度晶体或者一氧化硅高硬度晶体，形成高硬度层。
所述的步骤1）中对基片进行清洗、干燥的具体步骤如下：将基片放在真空腔内，用离子枪轰击基片的外表面2-3分钟进行清洗。
本发明公开一种杀菌防炫增透的耐磨仪表盘或照相机视窗的制备方法，在所述基片由玻璃成型时，所述制备方法具体包括以下步骤：
1）对基片进行清洗、干燥；
2）对基片的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7?/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第三膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第三膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7?/S，第四膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材银的氧化物，银的氧化物蒸发后分解，以纳米银形式在步骤D中第四膜层的表面形成薄层，同时控制第五膜层蒸镀的速率为1?/S，第五膜层最终形成后的厚度为5-20nm；
F、镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7?/S，第六膜层最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第六膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅高硬度晶体或者一氧化硅高硬度晶体，形成高硬度层。
所述的步骤1）中对基片进行清洗、干燥的具体步骤如下：将基片放在真空腔内，用离子枪轰击基片的外表面5-10分钟进行清洗。
本发明采用电子束真空蒸镀的原理，利用带电荷的粒子在电场中加速后具有一定动能的特点，将离子引向欲被镀膜的基片制成的电极，并通过电子枪高温轰击将高纯度膜材，蒸发出来的纳米分子使其沿着一定的方向运动到基片并最终在基片上沉积成膜的方法。本项发明技术结合利用磁场的特殊分布控制电场中的电子运动轨迹，以此改进镀膜的工艺，使得镀膜厚度及均匀性可控，且制备的膜层致密性好、附着力强。
本发明在基片上真空蒸镀有五氧化三钛层，充分利用了五氧化三钛晶体材料镀膜操作性好，膜层密集，均匀，稳定，应力小等性能，以及五氧化三钛晶体材料在可见光波段内具有最高的折射率，结晶性好，蒸镀稳定，无放气和喷溅等优点，使其适合在仪表盘或照相机视窗基片上镀制增透性好的多层膜。
本发明在基片上真空蒸镀有二氧化硅层，主要起增加膜层附着力、耐磨性以及抗冲击性的作用，同时可以吸收有害光。
本发明的五氧化三钛层和二氧化硅层相互配合，主要起到控制过滤波长的效果。本发明通过上述膜层相互配合，起到吸收、反射、转化、过滤等功效，是仪表盘或照相机视窗镀膜杀菌防炫耐磨的核心技术；同时，通过调节上述各膜层的厚度，使得波长较长的可见光产生相干干涉，从而进一步产生防眩效果；设置纳米银层，对大肠杆菌、淋球菌、沙眼衣原体等数十种致病微生物都有强烈的抑制和杀灭作用，而且不会产生耐药性，纳米银层的膜材为银的氧化物，如Ag2O、AgO或Ag2O3，银的氧化物经过电子枪蒸镀过程氧离子从银的氧化物中分离得到纳米银，纳米银在第四层膜的表面形成薄层；此外设置高硬度层能够有效提高了仪表盘或照相机视窗的耐磨性，可以防止其刮花，因此本发明产品表面通过多层镀膜实现多种功能效果，设计合理，实用性强。
附图说明
以下结合附图和具体实施方式对本发明做进一步详细说明：
图1为本发明杀菌防炫增透的耐磨仪表盘或照相机视窗的分解图。
具体实施方式
如图1所示，本发明包括基片1，包括基片1，所述基片1的外表面从里到外依序设有第一膜层2、第二膜层3、第三膜层4、第四膜层5、第五膜层6和第六膜层7；所述第一膜层2和第三膜层4均为五氧化三钛层，厚度均为10-100nm；所述第二膜层3和第四膜层5均为二氧化硅层，厚度均为50-100nm；所述第五膜层6为纳米银层，第五膜层6的厚度为5-20nm；所述第六膜层7为高硬度层，厚度为10-50nm。
所述纳米银层的膜材为银的氧化物，并使用电子枪蒸镀成型。
所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3。
所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型。
所述基片1由树脂或玻璃成型。
实施例1：
所述仪表盘或照相机视窗的基片1由树脂成型时，所述杀菌防炫增透的耐磨仪表盘或照相机视窗的制备方法具体包括以下步骤：
1）对基片1进行清洗、干燥；
2）对基片1的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层2：
将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层2的膜材，第一膜层2的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片1的外表面，同时控制第一膜层2蒸镀的速率为2.5?/S，第一膜层2最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层2的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层3：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层3的膜材，第二膜层3的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层2的表面，同时控制第二膜层3蒸镀的速率为7?/S，第二膜层3最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层3的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层4：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层4的膜材，第三膜层4的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层3的表面，同时控制第三膜层4蒸镀的速率为2.5?/S，第三膜层4最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第三膜层4的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
D、镀第四膜层5：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层5的膜材，第四膜层5的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层4的表面，同时控制第四膜层5蒸镀的速率为7?/S，第四膜层5最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第四膜层5的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
E、镀第五膜层6：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材银的氧化物，银的氧化物蒸发后分解，以纳米银形式在步骤D中第四膜层的表面形成薄层，同时控制第五膜层蒸镀的速率为1?/S，第五膜层最终形成后的厚度为5-20nm；
F、镀第六膜层7：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材11，第六膜层7的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层6的表面，同时控制第六膜层7蒸镀的速率为7?/S，第六膜层7最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第六膜层7的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅高硬度晶体或者一氧化硅高硬度晶体，形成高硬度层。
所述的步骤1）中对基片1进行清洗、干燥的具体步骤如下：将基片1放在真空腔内，用离子枪轰击基片1的外表面2-3分钟进行清洗。
通过上述方法制得的仪表盘或照相机视窗上的各膜层在零下20℃时的附着力为2-4Hrs，在80℃时的附着力为2-4Hrs，具有很强的附着能力，同时各膜层的致密性好、附着力强。而且，该仪表盘或照相机视窗能使得波长较长的可见光产生相干干涉，从而进一步产生防眩效果；设置纳米银层，对大肠杆菌、淋球菌、沙眼衣原体等数十种致病微生物都有强烈的抑制和杀灭作用，而且不会产生耐药性，纳米银层的膜材为银的氧化物，如Ag2O、AgO或Ag2O3，银的氧化物经过电子枪蒸镀过程氧离子从银的氧化物中分离得到纳米银，纳米银在第四层膜的表面形成薄层；此外设置高硬度层能够有效提高了仪表盘或照相机视窗的耐磨性，可以防止其刮花。
实施例2：
当所述仪表盘或照相机视窗的基片1由玻璃成型时，所述制备方法具体包括以下步骤：
1）对基片1进行清洗、干燥；
2）对基片1的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层2：
将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第一膜层2的膜材，第一膜层2的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片1的外表面，同时控制第一膜层2蒸镀的速率为2.5?/S，第一膜层2最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层2的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层3：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第二膜层3的膜材，第二膜层3的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层2的表面，同时控制第二膜层3蒸镀的速率为7?/S，第二膜层3最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层3的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层4：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第三膜层4的膜材，第三膜层4的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层3的表面，同时控制第三膜层4蒸镀的速率为2.5?/S，第三膜层4最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第三膜层4的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
D、镀第四膜层5：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第四膜层5的膜材，第四膜层5的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层4的表面，同时控制第四膜层5蒸镀的速率为7?/S，第四膜层5最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第四膜层5的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
E、镀第五膜层6：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材银的氧化物，银的氧化物蒸发后分解，以纳米银形式在步骤D中第四膜层的表面形成薄层，同时控制第五膜层蒸镀的速率为1?/S，第五膜层最终形成后的厚度为5-20nm；
F、镀第六膜层7：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材11，第六膜层7的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层6的表面，同时控制第六膜层7蒸镀的速率为7?/S，第六膜层7最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第六膜层7的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅高硬度晶体或者一氧化硅高硬度晶体，形成高硬度层。
所述的步骤1）中对基片1进行清洗、干燥的具体步骤如下：将基片1放在真空腔内，用离子枪轰击基片1的外表面5-10分钟进行清洗。
通过上述方法制得的仪表盘或照相机视窗上的各膜层在零下20℃时的附着力为6-9Hrs，在80℃时的附着力为6-9Hrs，具有很强的附着能力，同时各膜层的致密性好、附着力强。而且，该仪表盘或照相机视窗能使得波长较长的可见光产生相干干涉，从而进一步产生防眩效果；设置纳米银层，对大肠杆菌、淋球菌、沙眼衣原体等数十种致病微生物都有强烈的抑制和杀灭作用，而且不会产生耐药性，纳米银层的膜材为银的氧化物，如Ag2O、AgO或Ag2O3，银的氧化物经过电子枪蒸镀过程氧离子从银的氧化物中分离得到纳米银，纳米银在第四层膜的表面形成薄层；此外设置高硬度层能够有效提高了仪表盘或照相机视窗的耐磨性，可以防止其刮花。
综上所述，本发明采用电子束真空蒸镀的原理，利用带电荷的粒子在电场中加速后具有一定动能的特点，将离子引向欲被镀膜的基片制成的电极，并通过电子枪高温轰击将高纯度金属或金属氧化物，蒸发出来的纳米分子使其沿着一定的方向运动到基片并最终在基片上沉积成膜的方法。本项发明技术结合利用磁场的特殊分布控制电场中的电子运动轨迹，以此改进镀膜的工艺，使得镀膜厚度及均匀性可控，且制备的膜层致密性好、粘结力强及附着力强。
本发明在基片上真空蒸镀有五氧化三钛层，充分利用了五氧化三钛晶体材料镀膜操作性好，膜层密集，均匀，稳定，应力小等性能，以及五氧化三钛晶体材料在可见光波段内具有最高的折射率，结晶性好，蒸镀稳定，无放气和喷溅等优点，使其适合在仪表盘或照相机视窗基片上镀制增透性好的多层膜。
本发明在基片上真空蒸镀有二氧化硅层，主要起增加膜层附着力、耐磨性以及抗冲击性的作用，同时可以吸收有害光。
本发明的五氧化三钛层和二氧化硅层相互配合，主要起到控制过滤波长的效果。本发明通过上述膜层相互配合，起到吸收、反射、转化、过滤等功效，是仪表盘或照相机视窗镀膜杀菌防炫耐磨的核心技术；同时，通过调节上述各膜层的厚度，使得波长较长的可见光产生相干干涉，从而进一步产生防眩效果；设置纳米银层，对大肠杆菌、淋球菌、沙眼衣原体等数十种致病微生物都有强烈的抑制和杀灭作用，而且不会产生耐药性，纳米银层的膜材为银的氧化物，如Ag2O、AgO或Ag2O3，银的氧化物经过电子枪蒸镀过程氧离子从银的氧化物中分离得到纳米银，纳米银在第四层膜的表面形成薄层；此外设置高硬度层能够有效提高了仪表盘或照相机视窗的耐磨性，可以防止其刮花。
本发明的仪表盘或照相机视窗镀有的多个膜层能有效地对炫光的过滤能有效缓解视觉疲劳，设置纳米银层，对大肠杆菌、淋球菌、沙眼衣原体等数十种致病微生物都有强烈的抑制和杀灭作用，而且不会产生耐药性，纳米银层的膜材为银的氧化物，如Ag2O、AgO或Ag2O3，银的氧化物经过电子枪蒸镀过程氧离子从银的氧化物中分离得到纳米银，纳米银在第四层膜的表面形成薄层；此外设置高硬度层能够有效提高了仪表盘或照相机视窗的耐磨性，可以防止其刮花。

Claims (10)

1.一种杀菌防炫增透的耐磨仪表盘或照相机视窗，包括基片，其特征在于：所述基片的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层和第六膜层；所述第一膜层和第三膜层均为五氧化三钛层，厚度均为10-100nm；所述第二膜层和第四膜层均为二氧化硅层，厚度均为50-100nm；所述第五膜层为纳米银层，第五膜层的厚度为5-20nm；所述第六膜层为高硬度层，厚度为10-50nm。
2.根据权利要求1所述的一种杀菌防炫增透的耐磨仪表盘或照相机视窗，其特征在于：所述的五氧化三钛层的膜材为五氧化三钛，并由电子枪蒸镀成型，二氧化硅层的膜材为二氧化硅，并由电子枪蒸镀成型。
3.根据权利要求1所述的一种杀菌防炫增透的耐磨仪表盘或照相机视窗，其特征在于：所述纳米银层的膜材为银的氧化物，并使用电子枪蒸镀成型。
4.根据权利要求3所述的一种杀菌防炫增透的耐磨仪表盘或照相机视窗，其特征在于：所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3。
5.根据权利要求1所述的一种杀菌防炫增透的耐磨仪表盘或照相机视窗，其特征在于：所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型。
6.根据权利要求1所述的一种杀菌防炫增透的耐磨仪表盘或照相机视窗，其特征在于：所述基片由树脂或玻璃成型。
7.根据权利要求6所述杀菌防炫增透的耐磨仪表盘或照相机视窗的制备方法，其特征在于：所述基片由树脂成型时，所述制备方法具体包括以下步骤：
1）对基片进行清洗、干燥；
2）对基片的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7?/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第三膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第三膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7?/S，第四膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材银的氧化物，银的氧化物蒸发后分解，以纳米银形式在步骤D中第四膜层的表面形成薄层，同时控制第五膜层蒸镀的速率为1?/S，第五膜层最终形成后的厚度为5-20nm；
F、镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7?/S，第六膜层最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第六膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅高硬度晶体或者一氧化硅高硬度晶体，形成高硬度层。
8.根据权利要求7所述的一种杀菌防炫增透的耐磨仪表盘或照相机视窗的制备方法，其特征在于：所述的步骤1）中对基片进行清洗、干燥的具体步骤如下：将基片放在真空腔内，用离子枪轰击基片的外表面2-3分钟进行清洗。
9.根据权利要求6所述杀菌防炫增透的耐磨仪表盘或照相机视窗的制备方法，其特征在于：所述基片由玻璃成型时，所述制备方法具体包括以下步骤：
1）对基片进行清洗、干燥；
2）对基片的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7?/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第三膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第三膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7?/S，第四膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材银的氧化物，银的氧化物蒸发后分解，以纳米银形式在步骤D中第四膜层的表面形成薄层，同时控制第五膜层蒸镀的速率为1?/S，第五膜层最终形成后的厚度为5-20nm；
F、镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7?/S，第六膜层最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第六膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅高硬度晶体或者一氧化硅高硬度晶体，形成高硬度层。
10.根据权利要求9所述的一种杀菌防炫增透的耐磨仪表盘或照相机视窗的制备方法，其特征在于：所述的步骤1）中对基片进行清洗、干燥的具体步骤如下：将基片放在真空腔内，用离子枪轰击基片的外表面5-10分钟进行清洗。
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CN104339749A (zh) * 2013-08-06 2015-02-11 三星显示有限公司 具有抗菌涂层的多层光学涂覆结构

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