CN105543787A - 一种过滤蓝光增透的耐磨手机盖板及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种手机盖板技术领域，尤其是涉及一种过滤蓝光增透的耐磨手机盖板及其制备方法，该手机盖板包括基板，基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层、第八膜层和第九膜层；所述第一膜层、第三膜层和第五膜层均为五氧化三钛层，厚度均为10-100nm；所述第二膜层、第四膜层和第六膜层均为二氧化硅层，厚度均为50-100nm；所述第七膜层为金属层，厚度为5-20nm；所述第八膜层为高硬度层，厚度为10-50nm；所述第九膜层为丙烯酸层，厚度为5-15nm。该制造方法包括以下步骤：1）对基板进行清洗；2）对基板的外表面进行镀膜；3）对基板的内表面进行镀膜。本发明手机盖板能过滤有害蓝光和炫光，能提高耐磨性和增透性。

Description

一种过滤蓝光增透的耐磨手机盖板及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种手机盖板技术领域，尤其是涉及一种过滤蓝光增透的耐磨手机盖板及其制备方法。
背景技术
随着现代生活手机的普遍使用，而且人们的生活越来越离不开手机，有很多人经常性的使用手机带来的结果是眼睛出现酸涩、疼痛、流泪等不舒服症状，更严重的出现视力下降，这些不舒服的症状是因为眼睛长时间对手机屏幕，由手机屏幕所散发出来的有害光线所致，手机屏幕发出的光是眼睛的大敌，普遍手机屏幕供应商为了体现手机屏幕的色彩对比度及饱和度，会提高手机屏幕背后的灯光亮度，这样会使屏幕表面像装了一片玻璃一样显得有质感，提高了清晰度，同样它也会像玻璃一样反射光线，但光线照向屏幕时会增加光线反射，尤其是晚上的时候消费者在使用手机时，LED灯光照向手机屏幕会增加光线反射，这样很容易被这些光线伤害到眼睛，并产生视觉疲劳的症状，慢慢的会引起视力下降和头痛的健康问题，手机屏幕产生的“不舒服的光”持续照射我们的眼睛还会引起视觉系统失调，手机屏幕发出的光让我们眼睛不舒服是因为这些光线里面含有大量不规则频率的高能短波蓝光，这些短波蓝光具有能量能穿透我们的眼球晶体直达视网膜，短波蓝光持续照射视网膜会产生大量自由基离子，这些自由基离子会使得视网膜的色素上皮细胞衰亡，上皮细胞的衰会使感光细胞缺少养分而引起视力损伤；这些短波蓝光也是引起黄斑部病变的主要起因，我们每天长时间面对手机屏幕产生的蓝光刺激，殊不知蓝光波长短能量高，易引起眼睛视觉上的干涩、畏光、疲劳等早发性白内障、自发性黄斑部病变。蓝光约占可见光的50~60%，而蓝光也是引起黄斑部病变的主要原因之一，严重可能导致失明。蓝光会刺激视网膜产生大量自由基离子，使得视网膜色素上皮的萎缩，再引起光敏感细胞的衰亡，这是因为我们所处的是信息时代，人们的工作与学习都离不开手机, 面对手机屏幕的时间越来越长, 用眼的频率也越来越高。眼睛开始酸涩、疼痛、流泪，它凄切的告诉我们：我们的眼睛已经受到了伤害，需要在使用手机时得到保护。因此，现有技术中出现了手机屏幕盖板，手机屏幕盖板能够过滤部分的有害光线，但是现有的手机盖板在使用过程中缺少增透的功能，在寒冷的冬季，人们携带手机从屋外进入室内，手机盖板表面都会凝结大量水滴，从而影响手机盖板的透光率，降低了人们的视线，不仅给生活带来极大不便，甚至会发生危险。
发明内容
本发明的目的在于针对现有技术的不足，提供一种可有效防止蓝光对人体的伤害，具有较好的耐磨性、增透性和防雾性的过滤蓝光增透的耐磨手机盖板及其制备方法。
为实现上述目的，本发明采用以下技术方案：
一种过滤蓝光增透的耐磨手机盖板，包括基板，所述基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层、第八膜层和第九膜层；所述第一膜层、第三膜层和第五膜层均为五氧化三钛层，厚度均为10-100nm；所述第二膜层、第四膜层和第六膜层均为二氧化硅层，厚度均为50-100nm；所述第七膜层为金属层，厚度为5-20nm；所述第八膜层为高硬度层，厚度为10-50nm；所述第九膜层为丙烯酸层，厚度为5-15nm。
所述金属层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌或镍，并由电子枪蒸镀成型。
所述金属层的膜材为金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，并由电子枪蒸镀成型。
所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型。
所述基板由树脂或玻璃成型。
一种过滤蓝光增透的耐磨手机盖板的制备方法，所述基板由树脂成型时，所述制备方法具体包括以下步骤：
1）对基板的外表面进行清洗；
2）对基板的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第三膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第五膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
F、镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第六膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
G、镀第七膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为1Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为5-20nm；其中，所述第七膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
H、镀第八膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为7Å/S，第八膜层最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第八膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或者一氧化硅晶体，形成高硬度层；
I、镀第九膜层：
在上述步骤H中第八膜层的表面上，通过喷雾法涂覆水溶性丙烯酸树脂或聚丙烯酸材料，经若干次涂覆，最终形成厚度为5-15nm的第九膜层丙烯酸层。
所述的步骤1）中对基板的外表面进行清洗的具体步骤如下：将基板放在真空腔内，用离子枪轰击基板的外表面2-3分钟。
一种过滤蓝光增透的耐磨手机盖板的制备方法，所述基板由玻璃成型时，所述制备方法具体包括以下步骤：
1）对基板的外表面进行清洗；
2）对基板的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第三膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第五膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
F、镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第六膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
G、镀第七膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为1Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为5-20nm；其中，所述第七膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
H、镀第八膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为7Å/S，第八膜层最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第八膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或者一氧化硅晶体，形成高硬度层；
I、镀第九膜层：
在上述步骤H中第八膜层的表面上，通过喷雾法涂覆水溶性丙烯酸树脂或聚丙烯酸材料，经若干次涂覆，最终形成厚度为5-15nm的第九膜层丙烯酸层。
所述的步骤1）中对基板的外表面进行清洗的具体步骤如下：将基板放在真空腔内，用离子枪轰击基板的外表面5-10分钟。
本发明采用电子束真空蒸镀的原理，利用带电荷的粒子在电场中加速后具有一定动能的特点，将离子引向欲被镀膜的基板制成的电极，并通过电子枪高温轰击单质存在的高纯度金属、金属合金或其它氧化物，蒸发出来的纳米分子使其沿着一定的方向运动到基板并最终在基板上沉积成膜的方法。本项发明技术结合利用磁场的特殊分布控制电场中的电子运动轨迹，以此改进镀膜的工艺，使得镀膜厚度及均匀性可控，且制备的膜层致密性好、粘结力强及纯净度高。
本发明在基板上真空蒸镀有若干层五氧化三钛层，充分利用了五氧化三钛晶体材料镀膜操作性好，膜层密集，均匀，稳定，应力小等性能，以及五氧化三钛晶体材料在可见光波段内具有最高的折射率，结晶性好，蒸镀稳定，无放气和喷溅等优点，使其适合在手机盖板基板上镀制增透性好的多层膜，制得的手机盖板具有优异的增透性能。
本发明在基板上真空蒸镀有若干层二氧化硅层，主要起增加膜层附着力、耐磨性以及抗冲击性的作用，同时可以吸收有害光。
本发明的五氧化三钛层和二氧化硅层相互配合，不仅起到控制过滤波长的效果，而且增透性非常好；本发明在手机盖板基板外表面蒸镀若干交替设置的五氧化三钛层和二氧化硅层，不仅有效滤去了绝大部分紫光和蓝光，而且能有效反射有害光、强光、炫目光波、强闪动光波，减少对人眼视网膜的伤害以及短波眩光的刺激。
本发明采用喷雾法在手机盖板表面的最外层喷涂丙烯酸层，利用其极强的亲水性，降低了因水雾引起的反射和折射，从而达到防雾效果。
本发明的金属层，不仅提升了防蓝光效果和清晰度，而且也可以反射有害光、炫目光波、强闪动光波等；本发明通过上述膜层相互配合，起到吸收、反射、转化、过滤、增透等功效，是手机盖板镀膜过滤蓝光增透耐磨的核心技术；同时，通过调节上述各膜层的厚度，使得波长较长的可见光产生相干干涉，从而进一步产生防眩效果；在基板外表面的最外层设置高硬度层，降低因摩擦、刮蹭造成表面擦伤、划伤的可能性，有效提高手机盖板的耐磨性，保证表面的光滑性，从而延迟其使用寿命。
本发明的手机盖板基板由树脂成型时，通过本发明制备方法制得的手机盖板各膜层在零下20℃时的附着力为2-4hrs，在80℃时的附着力为2-4hrs；本发明的手机盖板基板由玻璃成型时，通过本发明制备方法制得的手机盖板各膜层在零下20℃时的附着力为6-9hrs，在80℃时的附着力为6-9hrs；本发明的手机盖板镀有的多个膜层能有效过滤33％以上有害蓝光，同时金属层能够有效地提升手机盖板的清晰度、增透性和防蓝光效果，对有害蓝光、炫光的过滤能有效缓解视觉疲劳，能够显著提高手机盖板的耐磨性、透光性和防雾性。
附图说明
以下结合附图和具体实施方式对本发明做进一步详细说明：
图1为本发明过滤蓝光增透的耐磨手机盖板的分解图。
具体实施方式
如图1所示，本发明包括基板1，所述基板1的外表面从里到外依序设有第一膜层2、第二膜层3、第三膜层4、第四膜层5、第五膜层6、第六膜层7、第七膜层8、第八膜层9和第九膜层10；所述第一膜层2、第三膜层4和第五膜层6均为五氧化三钛层，厚度均为10-100nm；所述第二膜层3、第四膜层5和第六膜层7均为二氧化硅层，厚度均为50-100nm；所述第七膜层8为金属层，厚度为5-20nm；所述第八膜层9为高硬度层，厚度为10-50nm；所述第九膜层10为丙烯酸层，厚度为5-15nm。
所述金属层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌或镍，并由电子枪蒸镀成型。
所述金属层的膜材为金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，并由电子枪蒸镀成型。
所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型。
所述基板由树脂或玻璃成型。
实施例1,一种过滤蓝光增透的耐磨手机盖板的制备方法，所述基板由树脂成型时，所述制备方法具体包括以下步骤：
1）对基板的外表面进行清洗；
2）对基板的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第三膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第五膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
F、镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第六膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
G、镀第七膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为1Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为5-20nm；其中，所述第七膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
H、镀第八膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为7Å/S，第八膜层最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第八膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或者一氧化硅晶体，形成高硬度层；
I、镀第九膜层：
在上述步骤H中第八膜层的表面上，通过喷雾法涂覆水溶性丙烯酸树脂或聚丙烯酸材料，经若干次涂覆，最终形成厚度为5-15nm的第九膜层丙烯酸层。
所述的步骤1）中对基板的外表面进行清洗的具体步骤如下：将基板放在真空腔内，用离子枪轰击基板的外表面2-3分钟。
实施例2，一种过滤蓝光增透的耐磨手机盖板的制备方法，所述基板由玻璃成型时，所述制备方法具体包括以下步骤：
1）对基板的外表面进行清洗；
2）对基板的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第三膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第五膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
F、镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第六膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
G、镀第七膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为1Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为5-20nm；其中，所述第七膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
H、镀第八膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为7Å/S，第八膜层最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第八膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或者一氧化硅晶体，形成高硬度层；
I、镀第九膜层：
在上述步骤H中第八膜层的表面上，通过喷雾法涂覆水溶性丙烯酸树脂或聚丙烯酸材料，经若干次涂覆，最终形成厚度为5-15nm的第九膜层丙烯酸层。
所述的步骤1）中对基板的外表面进行清洗的具体步骤如下：将基板放在真空腔内，用离子枪轰击基板的外表面5-10分钟。
本发明的手机盖板基板由树脂成型时，通过本发明制备方法制得的手机盖板各膜层在零下20℃时的附着力为2-4hrs，在80℃时的附着力为2-4hrs；本发明的手机盖板基板由玻璃成型时，通过本发明制备方法制得的手机盖板各膜层在零下20℃时的附着力为6-9hrs，在80℃时的附着力为6-9hrs；本发明的手机盖板镀有的多个膜层能有效过滤33％以上有害蓝光，同时金属层能够有效地提升手机盖板的清晰度、增透性和防蓝光效果，对有害蓝光、炫光的过滤能有效缓解视觉疲劳，能够显著提高手机盖板的耐磨性、透光性和防雾性。
以上描述不应对本发明的保护范围有任何限定。

Claims (9)

1.一种过滤蓝光增透的耐磨手机盖板，包括基板，其特征在于：所述基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层、第八膜层和第九膜层；所述第一膜层、第三膜层和第五膜层均为五氧化三钛层，厚度均为10-100nm；所述第二膜层、第四膜层和第六膜层均为二氧化硅层，厚度均为50-100nm；所述第七膜层为金属层，厚度为5-20nm；所述第八膜层为高硬度层，厚度为10-50nm；所述第九膜层为丙烯酸层，厚度为5-15nm。
2.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光增透的耐磨手机盖板，其特征在于：所述金属层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌或镍，并由电子枪蒸镀成型。
3.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光增透的耐磨手机盖板，其特征在于：所述金属层的膜材为金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，并由电子枪蒸镀成型。
4.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光增透的耐磨手机盖板，其特征在于：所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型。
5.根据权利要求1所述的一种过滤蓝光增透的耐磨手机盖板，其特征在于：所述基板由树脂或玻璃成型。
6.根据权利要求5所述过滤蓝光增透的耐磨手机盖板的制备方法，其特征在于：所述基板由树脂成型时，所述制备方法具体包括以下步骤：
1）对基板的外表面进行清洗；
2）对基板的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第三膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第五膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
F、镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第六膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
G、镀第七膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为1Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为5-20nm；其中，所述第七膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
H、镀第八膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为7Å/S，第八膜层最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第八膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或者一氧化硅晶体，形成高硬度层；
I、镀第九膜层：
在上述步骤H中第八膜层的表面上，通过喷雾法涂覆水溶性丙烯酸树脂或聚丙烯酸材料，经若干次涂覆，最终形成厚度为5-15nm的第九膜层丙烯酸层。
7.根据权利要求6所述的一种过滤蓝光增透的耐磨手机盖板的制备方法，其特征在于：所述的步骤1）中对基板的外表面进行清洗的具体步骤如下：将基板放在真空腔内，用离子枪轰击基板的外表面2-3分钟。
8.根据权利要求5所述过滤蓝光增透的耐磨手机盖板的制备方法，其特征在于：所述基板由玻璃成型时，所述制备方法具体包括以下步骤：
1）对基板的外表面进行清洗；
2）对基板的外表面进行镀膜；
A、镀第一膜层：
将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基板的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
B、镀第二膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
C、镀第三膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第三膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
D、镀第四膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第四膜层的膜材，第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面，同时控制第四膜层蒸镀的速率为7Å/S，第四膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第四膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
E、镀第五膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第五膜层的膜材，第五膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤D中第四膜层的表面，同时控制第五膜层蒸镀的速率为2.5Å/S，第五膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第五膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；
F、镀第六膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第六膜层的膜材，第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面，同时控制第六膜层蒸镀的速率为7Å/S，第六膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第六膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；
G、镀第七膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第七膜层的膜材，第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面，同时控制第七膜层蒸镀的速率为1Å/S，第七膜层最终形成后的厚度为5-20nm；其中，所述第七膜层的膜材为金、银、铂、钕、铜、锌、镍、金合金、银合金、铂合金、钕合金、铜合金、锌合金或镍合金，形成金属层；
H、镀第八膜层：
保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第八膜层的膜材，第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面，同时控制第八膜层蒸镀的速率为7Å/S，第八膜层最终形成后的厚度为10-50nm；其中，所述第八膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或者一氧化硅晶体，形成高硬度层；
I、镀第九膜层：
在上述步骤H中第八膜层的表面上，通过喷雾法涂覆水溶性丙烯酸树脂或聚丙烯酸材料，经若干次涂覆，最终形成厚度为5-15nm的第九膜层丙烯酸层。
9.根据权利要求8所述的一种过滤蓝光增透的耐磨手机盖板的制备方法，其特征在于：所述的步骤1）中对基板的外表面进行清洗的具体步骤如下：将基板放在真空腔内，用离子枪轰击基板的外表面5-10分钟。
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