TWI643830B - 近紅外線截止濾光片及其製造方法 - Google Patents
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Abstract
本發明涉及一種近紅外線截止濾光片及其製造方法，近紅外線截止濾光片包括玻璃基材及鍍於該玻璃基材的至少一個表面的至少一層無機紅外線吸收層，每一層無機紅外線吸收層的材料爲吸收近紅外線的RCuPO
4陶瓷晶體粉末，其中R爲鹼金金屬或鹼土金屬，鹼金金屬是選自鋰、鈉、鉀及銣中一者，鹼土金屬是選自鈹、鎂、鈣、鍶、鋇及鋅中一者。每一層無機紅外線吸收層的厚度介於500nm與5000nm間。本發明的無機紅外線吸收層通過PVD製程直接鍍於玻璃基材，以利近紅外線截止濾光片的生産，提升近紅外線截止濾光片的量産性，也使近紅外線截止濾光片符合薄型化的需求。
Description
本發明涉及一種濾光片的技術領域，尤其涉及一種近紅外線截止濾光片及其製造方法。
近紅外線截止濾光片已廣泛應用於影像傳感器(CCD & CMOS)等攝影組件，其基材可分爲無機材(玻璃)、有機材(塑膠)及與有機無機複合材(玻璃+有機染料塗布)等。
使用無機材爲基材的近紅外線截止濾光片是如使用含銅的磷酸鹽玻璃或含銅的氟磷酸鹽玻璃爲基材的近紅外線截止濾光片，其基材的缺點具有薄化製程易碎與不耐酸鹼之性質。然目前濾光片的厚度趨向薄型化，基材厚度需小於0.1 mm，有一定的製程難度。
使用有機材爲基材的近紅外線截止濾光片是如以COC樹脂添加近紅外光吸收型染料形成近紅外線截止濾光片，其具有較玻璃輕薄化優勢。但此濾光片的缺點爲其所添加的近紅外光吸收型染料只能吸收特定波段之光線(如波段介於700nm與800nm間)，如須達到700nm與1200nm間的全近紅外光波段吸收，仍需藉由PVD鍍膜方式於近紅外線截止濾光片的表面鍍上一層紅外線截止膜，已達到全近紅外光波段吸收效果。但必須控制PVD鍍膜的溫度，避免有機材料不耐高溫而産生質變的問題。
使用有機無機複合材爲基材的近紅外線截止濾光片是如以在玻璃基材上塗布有機紅外線吸收層的近紅外線截止濾光片，其玻璃基材可選用强度高且厚度薄(50um與200um間)的透明硼矽酸鹽或鋁矽酸鹽玻璃。但此濾光片的缺點是有機紅外線吸收層所使用的有機染料仍無法達到700nm與1200nm間的全近紅外光波段吸收。
本發明的一目的，在於提供一種近紅外線截止濾光片及其製造方法，紅外線截止濾光片具有爲玻璃基材及至少一層無機紅外線吸收層，無機紅外線吸收層主要通過PVD製程將RCuPO
4陶瓷晶體直接鍍於玻璃基材的至少一個表面，如此可大量生産近紅外線截止濾光片，同時讓近紅外線截止濾光片符合薄型化的需求。
本發明提供一種近紅外線截止濾光片，其包括一玻璃基材及鍍於該玻璃基材的至少一個表面的至少一層無機紅外線吸收層，每一層無機紅外線吸收層的材料爲吸收近紅外線的RCuPO
4陶瓷晶體粉末，其中R爲鹼金金屬或鹼土金屬，該鹼金金屬是選自鋰、鈉、鉀及銣中一者，該鹼土金屬是選自鈹、鎂、鈣、鍶、鋇及鋅中一者；其中該每一層無機紅外線吸收層的厚度介於500nm與5000nm間。
根據本發明的一實施例，上述至少一層無機紅外線吸收層包括一層無機紅外線吸收層，該無機紅外線吸收層鍍於該玻璃基材的一表面。
根據本發明的一實施例，上述更包括二層抗反射層，該二層抗反射層分別鍍於該無機紅外線吸收層及該玻璃基材的另一表面，並相互對應。
根據本發明的一實施例，上述至少一層無機紅外線吸收層包括二層無機紅外線吸收層，該二層無機紅外線吸收層分別鍍於該玻璃基材的相對二表面。
根據本發明的一實施例，上述更包括二層抗反射層，該二層抗反射層分別鍍於該二層無機紅外線吸收層。
根據本發明的一實施例，上述每一層抗反射層包括至少一個第一折射膜及至少一個第二折射膜，該至少一個第一折射膜與該至少一個第二折射膜交錯堆疊，每一個第一折射膜的折射率大於每一個第二折射膜，該每一個第一折射膜的材料選自TiO
2、Nb
2O
5、Ta
2O
5、ZrO
2及Y
2O
3中一者，該每一個第二折射膜的材料選自SiO
2、MgF
2、MgO及Al
2O
3中一者；其中該每一層抗反射層的厚度介於50nm與3000nm間。
本發明提供一種近紅外線截止濾光片的製造方法，其步驟包括製備一RCuPO
4陶瓷晶體粉末；製備一RCuPO
4陶瓷錠；以及以該RCuPO
4陶瓷錠爲靶材，並通過PVD製程將RCuPO
4陶瓷晶體鍍於一玻璃基材，並於該玻璃基材的至少一個表面上形成至少一層無機紅外線吸收層；其中製備該RCuPO
4陶瓷晶體粉末的步驟更包括製備一RCuPO
4前驅物，該RCuPO
4前驅物混合攪拌銅源、鹼源、磷酸源及該檸檬酸水溶液形成，其中該銅源、該鹼源及該磷酸源的比例爲1:1:1；去除該RCuPO
4前驅物的水分而獲得一RCuPO
4溶膠；去除該RCuPO
4溶膠的水分而獲得一RCuPO
4起始粉末；研磨該RCuPO
4起始粉末成一細粉狀RCuPO
4起始粉末；加熱該細粉狀RCuPO
4起始粉末而得到一RCuPO
4陶瓷晶體粉末；其中R爲鹼金金屬或鹼土金屬，該鹼金金屬是選自鋰、鈉、鉀及銣中一者，該鹼土金屬是選自鈹、鎂、鈣、鍶、鋇及鋅中一者；其中每一層無機紅外線吸收層的厚度介於500nm與5000nm間。
根據本發明的一實施例，上述銅源選自銅粉、氯化銅、硝酸銅及硫酸銅中一者；該鹼源選自氫氧化物、檸檬酸化合物及硝酸化合物中一者；該磷酸源選自磷酸、磷酸二氫銨及含鹼磷酸鹽化合物中一者。
根據本發明的一實施例，上述混合攪拌該銅源、該鹼源、該磷酸源及該檸檬酸水溶液的溫度介於攝氏45度與攝氏90度間，其時間介於4小時與96小時間。
根據本發明的一實施例，上述去除該RCuPO
4前驅物的水分的溫度介於攝氏70度與攝氏90度間，較佳的溫度爲攝氏80度。
根據本發明的一實施例，上述去除該RCuPO
4溶膠的水分的溫度介於攝氏100度與攝氏110度間，較佳的溫度爲攝氏105度。
根據本發明的一實施例，上述加熱該細粉狀RCuPO
4起始粉末包括將該細粉狀RCuPO
4起始粉末放於一陶瓷坩堝中，並多階段加熱該陶瓷坩堝，加熱完成後爐冷降溫，得到該RCuPO
4陶瓷晶體粉末。
根據本發明的一實施例，上述多階段加熱包括三階段加熱，第一階段的加熱溫度介於攝氏140度與攝氏160度間，較佳的加熱溫度爲攝氏150度，並保持該第一階段的加熱溫度的時間爲4小時；第二階段的加熱溫度介於攝氏290度與攝氏310度間，較佳的加熱溫度爲攝氏300度，並保持該第二階段的加熱溫度的時間爲4小時；第三階段的加熱溫度介於攝氏600度與攝氏800度間，並保持在該第三階段的加熱溫度的時間爲24小時。
根據本發明的一實施例，上述製備該RCuPO
4陶瓷錠包括研磨該RCuPO
4陶瓷晶體粉末；乾壓成型經研磨的RCuPO
4陶瓷晶體粉末形成一生胚；加熱該生胚，其加熱溫度介於攝氏600度與攝氏800度間，保持該生胚的加熱溫度在攝氏600度與攝氏800度間的時間爲8小時；待完成該生胚的加熱後爐冷降溫得到該RCuPO
4陶瓷錠。
根據本發明的一實施例，上述PVD製程的真空度是1X10
-5torr以下。
根據本發明的一實施例，上述PVD製程的鍍膜功率是介於70W與200W間。
根據本發明的一實施例，上述通過PVD製程將該RCuPO
4陶瓷晶體鍍於該玻璃基材時，該玻璃基材的溫度為介於攝氏20度與攝氏50度間。
根據本發明的一實施例，上述通過PVD製程將該RCuPO
4陶瓷晶體鍍於該玻璃基材時通入氧氣。
爲對本發明的特徵及所達成之功效有更進一步之瞭解與認識，僅佐以實施例及配合詳細之說明，說明如後：
首先，請參閱圖1，其是本發明第一實施例的近紅外線截止濾光片1的示意圖；如圖所示，本實施例提供一種近紅外線截止濾光片1，近紅外線截止濾光片1包括玻璃基材10及鍍於玻璃基材10的一表面101的無機紅外線吸收層11。其中無機紅外線吸收層11的材料爲吸收近紅外線的陶瓷晶體粉末，陶瓷晶體粉末的材料爲RCuPO
4，其中R爲鹼金金屬或鹼土金屬，鹼金金屬是選自鋰、鈉、鉀及銣中一者，鹼土金屬是選自鈹、鎂、鈣、鍶、鋇及鋅中一者。無機紅外線吸收層11的厚度介於500nm與5000nm間。請一併參閱圖2，其是本發明第一實施例的陶瓷晶體粉末的反射圖譜；如圖所示，本實施例的無機紅外線吸收層11所使用的陶瓷晶體粉末於700nm與1200nm間波段的反射率低，證明陶瓷晶體粉末的吸收率高，可完全吸收波段介於700nm與1200nm間的近紅外線。
再一併參閱圖3，其是本發明第一實施例的近紅外線截止濾光片1的製造方法的流程圖；如圖所示，本實施例的近紅外線截止濾光片1的製造方法是先執行步驟S10，製備RCuPO
4陶瓷晶體粉末；接著執行步驟S11，製備RCuPO
4陶瓷錠；最後執行步驟S12，以RCuPO
4陶瓷錠爲靶材，並通過電子束或濺鍍等PVD製程將RCuPO
4陶瓷晶體鍍於玻璃基材10，且於玻璃基材10的一表面101上形成無機紅外線吸收層11，其中於PVD製程中控制設備功率、溫度與時間而調控無機紅外線吸收層11的厚度及其內陶瓷晶體顆粒大小，進而調整近紅外線截止濾光片1的近紅外線吸收率。
由上述可知，本實施例的紅外線截止濾光片1的無機紅外線吸收層11是直接鍍於玻璃基材10，並非藉由有機材混合無機紅外線吸收材料形成具有高粘性的有機無機複合紅外線吸收層，也因本實施例的玻璃基材10及無機紅外線吸收層11均使用無機材，如此可承受後續的高溫製程，避免於高溫製程中玻璃基材10及無機紅外線吸收層11産生質變的問題，此外本實施例的紅外線截止濾光片1也達到薄化效果。本實施例的無機紅外線吸收層11通過PVD製程鍍於玻璃基材10上，以利大量生産紅外線截止濾光片1，提高紅外線截止濾光片1的量産性。
請一併參閱圖4，其是本發明第一實施例的製備RCuPO
4陶瓷晶體粉末的製造方法的流程圖；如圖所示，製備RCuPO
4陶瓷晶體粉末的方法是先執行步驟S101，製備RCuPO
4前驅物，其主要藉由檸檬酸對陽離子的螯合性形成具有溶膠凝膠特性的RCuPO
4前驅物；製備RCuPO
4前驅物的方式先取銅源（Cu）、鹼源（R）、磷酸源（P）及檸檬酸水溶液，其中銅源（Cu）、鹼源（R）與磷酸源（P）的比例爲1：1：1，銅源（Cu）選自銅粉、氯化銅、硝酸銅及硫酸銅中一者，鹼源（R）選自氫氧化物、檸檬酸化合物及硝酸化合物中一者，例如氫氧化鋰、氫氧化鈉、氫氧化鉀、檸檬酸鋰、檸檬酸鈉、檸檬酸鉀、硝酸鎂、硝酸鈣或硝酸鍶，磷酸源（P）選自磷酸、磷酸二氫銨及含鹼磷酸鹽化合物中一者，例如磷酸鋰、磷酸二氫鋰、磷酸鈉、磷酸氫二鈉、磷酸二氫鈉、磷酸二氫鉀或磷酸氫二鉀。混合攪拌銅源（Cu）、鹼源（R）、磷酸源（P）及檸檬酸水溶液形成RCuPO
4前驅物，進行混合攪拌時的溫度控制於攝氏45度與攝氏90度間，其時間控制於4小時與96小時間。
然後執行步驟S102，去除RCuPO
4前驅物的水分而獲得藍綠色的RCuPO4溶膠，其主要通過加熱或其他方式提升RCuPO
4前驅物的溫度，使RCuPO
4前驅物內的水分揮發，進行水分揮發時RCuPO
4前驅物的溫度控制於攝氏70度與攝氏90度間，較佳的溫度爲攝氏80度。接著執行步驟S103，去除RCuPO
4溶膠的水分而獲得RCuPO
4起始粉末，其主要通過加熱方式提高RCuPO
4溶膠的溫度至攝氏100度與攝氏110度間，較佳的溫度爲攝氏105度，去除RCuPO
4溶膠內的水分而獲得RCuPO
4起始粉末。然後執行步驟S104，研磨RCuPO
4起始粉末成細粉狀RCuPO
4起始粉末，最後執行步驟S105，加熱細粉狀RCuPO
4起始粉末而得到RCuPO
4陶瓷晶體粉末，其將細粉狀起始粉末放於陶瓷坩堝中，並加熱陶瓷坩堝，於加熱過程中進行多階段加熱，加熱完成後爐冷降溫，得到RCuPO
4陶瓷晶體粉末。本實施例的多階段加熱爲三階段加熱，第一階段的加熱溫度可至攝氏140度與攝氏160度間，較佳的加熱溫度爲攝氏150度，並保持加熱溫度在攝氏140度與攝氏160度間的時間爲4小時；第二階段的加熱溫度可升至攝氏290度與攝氏310度間，較佳的加熱溫度爲攝氏300度，並保持加熱溫度在攝氏290度與攝氏310度間的時間爲4小時；第三階段的加熱溫度可升至攝氏600度與攝氏800度間，並保持加熱溫度在攝氏600度與攝氏800度間的時間爲24小時。
獲得RCuPO
4陶瓷晶體粉末後，研磨RCuPO
4陶瓷晶體粉末，乾壓成型經研磨的RCuPO
4陶瓷晶體粉末形成生胚，最後加熱生胚，生胚的加熱溫度升至攝氏600度與攝氏800度間，保持生胚的加熱溫度在攝氏600度與攝氏800度間的時間爲8小時。完成生胚的加熱後爐冷降溫，得到RCuPO
4陶瓷錠。
請一併參閱圖5，其是本發明第一實施方式的無機紅外線吸收層11的光譜圖；如圖所示，本實施方式所使用的玻璃基材10爲Schott D263T ，其尺寸76X76X0.21mm。玻璃基材10經過清洗與乾燥後置入磁控濺鍍機，並控制磁控濺鍍機的真空度（即進行PVD製程的真空度）需達1 X 10
-5torr以下，其鍍膜功率70W與200W間，玻璃基材10的溫度為介於攝氏20度與攝氏50度間，較佳的溫度為室溫，於濺鍍過程（PVD製程）中通入氧氣，無機紅外線吸收層11的厚度為500nm與5000nm間。通過上述的濺鍍方式所形成的無機紅外線吸收層11的光譜圖如圖5所示，圖5包括第一光譜曲線21、第二光譜曲線22、第三光譜曲線23及第四光譜曲線24，第一光譜曲線21顯示厚度爲500nm的無機紅外線吸收層11的光譜，第二光譜曲線22顯示厚度爲1000nm的無機紅外線吸收層11的光譜，第三光譜曲線23顯示厚度爲3000nm的無機紅外線吸收層11的光譜，第四光譜曲線24顯示厚度爲5000nm的無機紅外線吸收層11的光譜，由上述光譜曲線可知，厚度爲500nm與5000nm間的無機紅外線吸收層11均能達到吸收紅外線的作用，其中厚度爲5000nm的無機紅外線吸收層11的吸收效果最好，所以利用本實施例的製造方法製造紅外線截止濾光片1，不但可以解决之前製造紅外線截止濾光片1的問題，也能保持紅外線截止濾光片1的功能。
請參閱圖6，其是本發明第二實施例的近紅外線截止濾光片1的示意圖；如圖所示，本實施例的近紅外線截止濾光片1 與第一實施例的近紅外線截止濾光片不同在於，本實施例的玻璃基材10的相對二表面101分別鍍上無機紅外線吸收層11，如此防止玻璃基材10於高溫的PVD製程中因熱膨脹而造成彎曲。
請參閱圖7，其是本發明第三實施例的近紅外線截止濾光片1的示意圖；如圖所示，本實施例的近紅外線截止濾光片1與第一實施例的近紅外線截止濾光片不同在於，本實施例的無機紅外線吸收層11的表面及與無機紅外線吸收層11相對的玻璃基材10的表面101分別鍍上抗反射層12，抗反射層12的厚度介於50nm與3000nm間，其包括至少一個第一折射膜121及至少一個第二折射膜122，至少一個第一折射膜121與至少一個第二折射膜122交錯堆疊，其中第一折射膜121的折射率大於第二折射膜122的折射率，第一折射膜121的材料爲高折射率材料，其選自TiO
2、Nb
2O
5、Ta
2O
5、ZrO
2及Y
2O
3中一者，第二低折射膜122的材料爲低折射率材料，其選自SiO
2、MgF
2、MgO及Al
2O
3中一者。另參閱圖8，其是本發明第四實施例的近紅外線截止濾光片1的示意圖；如圖所示，本實施例的近紅外線截止濾光片1與第二實施例的近紅外線截止濾光片不同在於，本實施例的二個無機紅外線吸收層11的表面分別鍍上抗反射層12，抗反射層12的結構與第三實施例的抗反射層12的結構相同，於此不再贅述。抗反射層12的設置可减少光源的反射並提高可見光的穿透率。
上述抗反射層12主要通過PVD製程鍍於玻璃基材10或無機紅外線吸收層11，因玻璃基材10及無機紅外線吸收層11均僅使用無機材，不具有不耐高溫的特性，因此進行PVD製程時所産生的高溫不會讓玻璃基材10及無機紅外線吸收層11産生質變的問題。
綜上所述，本發明揭示一種近紅外線截止濾光片及其製造方法，紅外線截止濾光片具有爲玻璃基材及至少一層無機紅外線吸收層，無機紅外線吸收層主要通過PVD製程將RCuPO
4陶瓷晶體直接鍍於玻璃基材的至少一個表面，如此可大量生産近紅外線截止濾光片。此外紅外線截止濾光片的玻璃基材與至少一層無機紅外線吸收層均使用具有耐溫性的無機材形成，如此紅外線截止濾光片有利於後續的高溫加工製程的進行，避免紅外線截止濾光片於高溫加工時産生質變的問題。另可於紅外線截止濾光片更包括鍍於玻璃基材或無機紅外線吸收層的抗反射層，抗反射層可减少光源的反射並提高紅外線截止濾光片的可見光的穿透率。
惟以上所述者，僅為本發明之實施例而已，並非用來限定本發明實施之範圍，舉凡依本發明申請專利範圍所述之形狀、構造、特徵及精神所爲之均等變化與修飾，均應包括於本發明之申請專利範圍內。
1‧‧‧近紅外線截止濾光片
10‧‧‧玻璃基材
101‧‧‧表面
11‧‧‧無機紅外線吸收層
12‧‧‧抗反射層
121‧‧‧第一折射膜
122‧‧‧第二折射膜
21‧‧‧第一光譜曲線
22‧‧‧第二光譜曲線
23‧‧‧第三光譜曲線
24‧‧‧第四光譜曲線
圖1：本發明第一實施例的近紅外線截止濾光片的示意圖。 圖2：本發明第一實施例的陶瓷晶體粉末的反射圖譜。 圖3：本發明第一實施例的近紅外線截止濾光片的製造方法的流程圖。 圖4：本發明第一實施例的製備RCuPO
4陶瓷晶體粉末的製造方法的流程圖。 圖5：本發明第一實施方式的無機紅外線吸收層的示意圖。 圖6：本發明第二實施例的近紅外線截止濾光片的示意圖。 圖7：本發明第三實施例的近紅外線截止濾光片的示意圖。 圖8：本發明第四實施例的近紅外線截止濾光片的示意圖。
Claims (18)
- 一種近紅外線截止濾光片，其包括一玻璃基材及鍍於該玻璃基材的至少一個表面的至少一層無機紅外線吸收層，每一層無機紅外線吸收層的材料為吸收近紅外線的RCuPO4陶瓷晶體粉末，其中R為鹼金金屬或鹼土金屬，該鹼金金屬是選自鋰、鈉、鉀及銣中一者，該鹼土金屬是選自鈹、鎂、鈣、鍶、鋇及鋅中一者；其中該每一層無機紅外線吸收層的厚度介於500nm與5000nm間。
- 如請求項1所述之近紅外線截止濾光片，其中該至少一層無機紅外線吸收層包括一層無機紅外線吸收層，該無機紅外線吸收層鍍於該玻璃基材的一表面。
- 如請求項2所述之近紅外線截止濾光片，更包括二層抗反射層，該二層抗反射層分別鍍於該無機紅外線吸收層及該玻璃基材的另一表面，並相互對應。
- 如請求項1所述之近紅外線截止濾光片，其中該至少一層無機紅外線吸收層包括二層無機紅外線吸收層，該二層無機紅外線吸收層分別鍍於該玻璃基材的相對二表面。
- 如請求項4所述之近紅外線截止濾光片，更包括二層抗反射層，該二層抗反射層分別鍍於該二層無機紅外線吸收層。
- 如請求項3或5所述之近紅外線截止濾光片，其中每一層抗反射層包括至少一個第一折射膜及至少一個第二折射膜，該至少一個第一折射膜與該至少一個第二折射膜交錯堆疊，每一個第一折射膜的折射率大於每一個第二折射膜，該每一個第一折射膜的材料選自TiO2、Nb2O5、Ta2O5、ZrO2及Y2O3中一者，該每一個第二折射膜的材料選自SiO2、MgF2、MgO及Al2O3中一者；其中該每一層抗反射層的厚度介於50nm與3000nm間。
- 一種近紅外線截止濾光片的製造方法，其步驟包括製備一RCuPO4陶瓷晶體粉末；製備一RCuPO4陶瓷錠；以及以該RCuPO4陶瓷錠為靶材，並通過PVD製程將RCuPO4陶瓷晶體鍍於一玻璃基材，且於該玻璃基材的至少一個表面上形成至少一層無機紅外線吸收層；其中製備該RCuPO4陶瓷晶體粉末的步驟更包括製備一RCuPO4前驅物，該RCuPO4前驅物是混合攪拌銅源、鹼源、磷酸源及檸檬酸水溶液形成，其中該銅源、該鹼源及該磷酸源的重量比例為1：1：1；去除該RCuPO4前驅物的水分而獲得一RCuPO4溶膠；去除該RCuPO4溶膠的水分而獲得一RCuPO4起始粉末；研磨該RCuPO4起始粉末成一細粉狀RCuPO4起始粉末；加熱該細粉狀RCuPO4起始粉末而得到一RCuPO4陶瓷晶體粉末；其中R為鹼金金屬或鹼土金屬，該鹼金金屬是選自鋰、鈉、鉀及銣中一者，該鹼土金屬是選自鈹、鎂、鈣、鍶、鋇及鋅中一者；其中每一層無機紅外線吸收層的厚度介於500nm與5000nm間。
- 如請求項7所述之近紅外線截止濾光片的製造方法，其中該銅源選自銅粉、氯化銅、硝酸銅及硫酸銅中一者；該鹼源選自氫氧化物、檸檬酸化合物及硝酸化合物中一者；該磷酸源選自磷酸、磷酸二氫銨及含鹼磷酸鹽化合物中一者。
- 如請求項7所述之近紅外線截止濾光片的製造方法，其中該混合攪拌該銅源、該鹼源、該磷酸源及該檸檬酸水溶液的溫度介於攝氏45度與攝氏90度間，其時間介於4小時與96小時間。
- 如請求項7所述之近紅外線截止濾光片的製造方法，其中去除該RCuPO4前驅物的水分的溫度介於攝氏70度與攝氏90度間。
- 如請求項7所述之近紅外線截止濾光片的製造方法，其中去除該RCuPO4溶膠的水分的溫度介於攝氏100度與攝氏110度間。
- 如請求項7所述之近紅外線截止濾光片的製造方法，其中加熱該細粉狀RCuPO4起始粉末包括將該細粉狀RCuPO4起始粉末放於一陶瓷坩堝中，並多階段加熱該陶瓷坩堝，加熱完成後爐冷降溫，得到該RCuPO4陶瓷晶體粉末。
- 如請求項12所述之近紅外線截止濾光片的製造方法，其中多階段加熱包括三階段加熱，第一階段的加熱溫度介於攝氏140度與攝氏160度間，較佳的加熱溫度為攝氏150度，並保持該第一階段的加熱溫度的時間為4小時；第二階段的加熱溫度介於攝氏290度與攝氏310度間，並保持該第二階段的加熱溫度的時間為4小時；第三階段的加熱溫度介於攝氏600度與攝氏800度間，並保持在該第三階段的加熱溫度的時間為24小時。
- 如請求項7所述之近紅外線截止濾光片的製造方法，其中製備該RCuPO4陶瓷錠包括研磨該RCuPO4陶瓷晶體粉末；乾壓成型經研磨的RCuPO4陶瓷晶體粉末形成一生胚；加熱該生胚，其加熱溫度介於攝氏600度與攝氏800度間，保持該生胚的加熱溫度在攝氏600度與攝氏800度間的時間為8小時；待完成該生胚的加熱後爐冷降溫得到該RCuPO4陶瓷錠。
- 如請求項7所述之近紅外線截止濾光片的製造方法，其中該PVD製程的真空度是1 X 10-5torr以下。
- 如請求項7所述之近紅外線截止濾光片的製造方法，其中該PVD製程的鍍膜功率是介於70W與200W間。
- 如請求項7所述之近紅外線截止濾光片的製造方法，其中該通過PVD製程將該RCuPO4陶瓷晶體鍍於該玻璃基材時，該玻璃基材的溫度為介於攝氏20度與攝氏50度間。
- 如請求項7所述之近紅外線截止濾光片的製造方法，其中該通過PVD製程將該RCuPO4陶瓷晶體鍍於該玻璃基材時通入氧氣。
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Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011164583A (ja) * | 2010-01-15 | 2011-08-25 | Asahi Glass Co Ltd | 撮像装置用レンズおよび撮像装置 |
| CN102575142A (zh) * | 2009-09-30 | 2012-07-11 | 旭硝子株式会社 | 近红外线吸收粒子、其制造方法、分散液及其物品 |
| TW201710715A (zh) * | 2015-07-28 | 2017-03-16 | Jsr Corp | 光學濾波器及具備光學濾波器的環境光感測器 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102006056536B9 (de) * | 2006-11-27 | 2008-06-05 | Schott Ag | Strahlungsselektive Absorberbeschichtung, Absorberrohr und Verfahren zu dessen Herstellung |
| WO2011073537A1 (fr) * | 2009-12-17 | 2011-06-23 | Arcelormittal Investigation Y Desarrollo Sl | Réflecteur infrarouge |
| CN102540313A (zh) * | 2012-03-12 | 2012-07-04 | 杭州麦乐克电子科技有限公司 | 7．6微米前截止红外滤光片及其制作方法 |
| CN103388917B (zh) * | 2013-07-10 | 2016-06-01 | 山东大学（威海） | 一种太阳能选择性吸收涂层及其制备方法 |
| KR101764084B1 (ko) * | 2015-01-14 | 2017-08-01 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 근적외선 커트 필터 및 고체 촬상 장치 |
-
2017
- 2017-09-11 CN CN201710811266.8A patent/CN109491003A/zh active Pending
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Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102575142A (zh) * | 2009-09-30 | 2012-07-11 | 旭硝子株式会社 | 近红外线吸收粒子、其制造方法、分散液及其物品 |
| JP2011164583A (ja) * | 2010-01-15 | 2011-08-25 | Asahi Glass Co Ltd | 撮像装置用レンズおよび撮像装置 |
| TW201710715A (zh) * | 2015-07-28 | 2017-03-16 | Jsr Corp | 光學濾波器及具備光學濾波器的環境光感測器 |
Also Published As
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