CN105068170B - 一种对红外光线过滤效果好的红外截止滤光片 - Google Patents
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- 230000000694 effects Effects 0.000 title claims abstract description 12
- 238000001914 filtration Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 31
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 20
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 20
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims abstract description 15
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 8
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 21
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 10
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 claims description 8
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 claims description 8
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titanium dioxide Inorganic materials O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 2
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 claims description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 claims description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 44
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 2
- 230000008447 perception Effects 0.000 description 2
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 2
- 241000790917 Dioxys <bee> Species 0.000 description 1
- 229910003978 SiClx Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- -1 argon ion Chemical class 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000005321 cobalt glass Substances 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- VDGJOQCBCPGFFD-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-) silicon(4+) titanium(4+) Chemical compound [Si+4].[O-2].[O-2].[Ti+4] VDGJOQCBCPGFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Blocking Light For Cameras (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
本发明公开的一种对红外光线过滤效果好的红外截止滤光片，包括基底层，所述基底层的两侧面上分别镀有复合膜层，所述复合膜层由高折射率材料膜层和低折射率材料膜层交替形成，其中高折射率材料膜层为采用二氧化钛镀膜形成的，低折射率材料膜层为采用二氧化硅镀膜形成的，其特征在于，所述二氧化钛镀膜速度为3‑3.5埃/秒，所述二氧化硅镀膜速度为10‑14埃/秒。本发明的红外截止滤光片可见光400～700nm的平均透过率大于99％，近红外波段800～1400nm的平均透过率为15‑20％。
Description
技术领域
本发明涉及滤光片技术领域，具体地说是一种对红外光线过滤效果好的红外截止滤光片。
背景技术
红外截止滤光片是利用精密光学镀膜技术在光学基片上交替镀上高低折射率的光学膜，实现可见光区(400-630nm)高透，近红外(700-1100nm)截止的光学滤光片，主要应用于可拍照手机摄像头、电脑内置摄像头、汽车摄像头等数码成像领域，用于消除红外光线对CCD/CMOS成像的影响。通过在成像系统中加入红外截止滤光片，阻挡该部分干扰成像质量的红外光，可以使所成影像更加符合人眼的最佳感觉。
在树脂镜片领域，近几年出现了一种具有抗红外作用的树脂镜片，例如中国专利公告号CN101866063A公开的一种具有抗红外作用的树脂镜片及其制备方法，其是在树脂镜片的基片的凹面镀有对近红外光具备高反射作用、对可见光具备减反射作用的光学薄膜层，所述光学薄膜层是由一种低折射率材料膜层和另一种高折射率材料膜层交替堆栈组成；基片的凸面镀有至少5层的可见光减反膜。该专利的具有抗红外作用的树脂镜片主要是利用了光学薄膜干涉原理。以此滤光片做成的抗红外树脂镜片，可以有效阻挡自然光或环境光中的近红外波段进入人眼，因为对可见光的透过率很高，所以该类型镜片在光照不足或者夜晚环境也能使用，不影响人眼的视物清晰度。
还例如在可拍照手机摄像头、电脑内置摄像头、汽车摄像头等数码成像领域，为了消除红外光线对CCD/CMOS成像的影响。申请人发明了一种红外截止滤光片(专利申请号201210231194.7)，其加入到成像系统中，阻挡该部分干扰成像质量的红外光，可以使所成影像更加符合人眼的最佳感觉。该红外截止滤光片包括基底层，在基底层的两侧面上分别镀有复合膜层，复合膜层由高折射率材料膜层和低折射率材料膜层交替形成。高折射率材料膜层是由二氧化钛、五氧化三钛、氧化锆、五氧化二钽、五氧化二铌、硫化锌中的一种或多种组成，低折射率材料膜层是由二氧化硅、氟化镁、三氧化二铝中的一种或多种组成。基底层两侧的复合膜层厚度为：100～10000nm。
但是在实践过程中，高折射率材料膜层和低折射率材料膜层的镀膜速度对红外截止滤光片光的近红外波段800～1400nm的平均透过率依然较高，接近54％。
发明内容
本发明的目的就是要解决上述的不足而提供一种对红外光线过滤效果好的红外截止滤光片，可进一步有效降低红外光线的透过率，提高成像质量。
为实现上述目的，本发明所采用的技术方案如下：
一种对红外光线过滤效果好的红外截止滤光片，包括基底层，所述基底层的两侧面上分别镀有复合膜层，所述复合膜层由高折射率材料膜层和低折射率材料膜层交替形成，其中高折射率材料膜层为采用二氧化钛镀膜形成的，低折射率材料膜层为采用二氧化硅镀膜形成的，其特征在于，所述二氧化钛镀膜速度为3-3.5埃/秒，所述二氧化硅镀膜速度为10-14埃/秒。
在本发明的一个优选实施例中，所述二氧化钛镀膜速度为3.5埃/秒，所述二氧化硅镀膜速度为12埃/秒。
在本发明的一个优选实施例中，所述基底层两侧的复合膜层厚度为：100～10000nm。
本发明同现有技术相比，结构简单、新颖，通过镀膜的方式来实现或接近蓝玻璃基底的使用效果，可进一步有效降低红外光线的透过率，提高成像质量。
附图说明
图1是本发明的结构示意图；
图中：100为基底层、200为复合膜层、210为高折射率材料膜层、220为低折射率材料膜层。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作以下进一步说明：
如附图1所示，本发明的红外截止滤光片包括基底层100，在基底层100的两侧面上分别镀有复合膜层200，该复合膜层200由高折射率材料膜层210和低折射率材料膜层220交替形成。高折射率材料膜层210是由二氧化钛镀膜形成的，低折射率材料膜层220是由二氧化硅镀膜组成。基底层100两侧的复合膜层厚度为：100～10000nm。
本发明的红外截止滤光片生产方法如下：
(1)基底层100镀膜前预处理：将基底层100放入清洗剂中辅以超声波振荡清洗，共4槽，每槽5分钟，经过淋洗后放入超纯水(10M以上)的去离子水溢流漂洗，并由红外热源进行干燥，从而使基底层100表面污渍被洗净，没有水迹和残留物；
(2)基底层100表面预处理：将基底层100固定在镀膜机的行星夹具上，在镀膜机的真空系统中通入氩气和氧气，以1.5KW功率将气体电离，氩原子和氧原子轰击树脂镜片表面产生清洗作用；
(3)真空镀膜：启动镀膜机真空系统，待本底真空降至2.0x10-3Pa以下；打开氩气气路，使硅靶在氩离子中放电1分钟，去除靶面的氧化物；向真空室通入氩气、氧气的混合气体，利用空气质量流量计控制气体流量，其中氩气流量为5SCCM，氧气流量为40SCCM，使工作压强稳定在2Pa左右，旋转工件架，温度保持在常温，溅射功率控制在1500W，沉积SiO2薄膜，沉积镀膜速度为12埃/秒并保持稳定；再向真空室通入氩气、氮气的混合气体，利用空气质量流量计控制气体流量，其中氩气流量为10SCCM，氮气流量为50SCCM，使压强稳定在2.5Pa左右，溅射功率控制在2000W，沉积TiO2薄膜，沉积镀膜速度为3.5埃/秒并保持稳定；交替沉积SiO2薄膜和TiO2薄膜，使得基底层100上两个相邻膜层系低折射率薄膜SiO2和高折射率薄膜TiO2的堆栈；为避免连续溅射中树脂镜片温度快速升高导致薄膜龟裂，在每沉积500nm左右的薄膜材料后，中断溅射进程，封闭真空系统并向其中通入氩气，使镜片上积累的热量快速向外传导，待冷却2分钟后重新启动溅射进程。
经过上述工艺过程，成品即为本发明的产品具有抗红外作用的红外截止滤光片。
经过检测，专利申请号201210231194.7的红外截止滤光片可见光400～700nm的平均透过率大于97％，近红外波段800～1400nm的平均透过率为50-54％。
本具体实施方式的红外截止滤光片可见光400～700nm的平均透过率大于99％，近红外波段800～1400nm的平均透过率为15-20％。
Claims (1)
1.一种对红外光线过滤效果好的红外截止滤光片，包括基底层，所述基底层的两侧面上分别镀有复合膜层，所述复合膜层由高折射率材料膜层和低折射率材料膜层交替形成，其中高折射率材料膜层为采用二氧化钛镀膜形成的，低折射率材料膜层为采用二氧化硅镀膜形成的，其特征在于，所述二氧化钛镀膜速度为3.5埃/秒，所述二氧化硅镀膜速度为12埃/秒；所述基底层两侧的复合膜层厚度为：100～10000nm；
所述对红外光线过滤效果好的红外截止滤光片生产方法如下：
(1)基底层100镀膜前预处理：将基底层100放入清洗剂中辅以超声波振荡清洗，共4槽，每槽5分钟，经过淋洗后放入10M以上的去离子水溢流漂洗，并由红外热源进行干燥，从而使基底层100表面污渍被洗净，没有水迹和残留物；
(2)基底层100表面预处理：将基底层100固定在镀膜机的行星夹具上，在镀膜机的真空系统中通入氩气和氧气，以1.5KW功率将气体电离，氩原子和氧原子轰击树脂镜片表面产生清洗作用；
(3)真空镀膜：启动镀膜机真空系统，待本底真空降至2.0x10-3Pa以下；打开氩气气路，使硅靶在氩离子中放电1分钟，去除靶面的氧化物；向真空室通入氩气、氧气的混合气体，利用空气质量流量计控制气体流量，其中氩气流量为5SCCM，氧气流量为40SCCM，使工作压强稳定在2Pa，旋转工件架，温度保持在常温，溅射功率控制在1500W，沉积SiO2薄膜，沉积镀膜速度为12埃/秒并保持稳定；再向真空室通入氩气、氮气的混合气体，利用空气质量流量计控制气体流量，其中氩气流量为10SCCM，氮气流量为50SCCM，使压强稳定在2.5Pa左右，溅射功率控制在2000W，沉积TiO2薄膜，沉积镀膜速度为3.5埃/秒并保持稳定；交替沉积SiO2薄膜和TiO2薄膜，使得基底层100上两个相邻膜层系低折射率薄膜SiO2和高折射率薄膜TiO2的堆栈；为避免连续溅射中树脂镜片温度快速升高导致薄膜龟裂，在每沉积500nm左右的薄膜材料后，中断溅射进程，封闭真空系统并向其中通入氩气，使镜片上积累的热量快速向外传导，待冷却2分钟后重新启动溅射进程；
经过上述工艺过程，成品即为所述对红外光线过滤效果好的红外截止滤光片；该对红外光线过滤效果好的红外截止滤光片可见光400～700nm的平均透过率大于99％，近红外波段800～1400nm的平均透过率为15-20％。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201510430714.0A CN105068170B (zh) | 2015-07-21 | 2015-07-21 | 一种对红外光线过滤效果好的红外截止滤光片 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201510430714.0A CN105068170B (zh) | 2015-07-21 | 2015-07-21 | 一种对红外光线过滤效果好的红外截止滤光片 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN105068170A CN105068170A (zh) | 2015-11-18 |
| CN105068170B true CN105068170B (zh) | 2017-06-30 |
Family
ID=54497582
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201510430714.0A Active CN105068170B (zh) | 2015-07-21 | 2015-07-21 | 一种对红外光线过滤效果好的红外截止滤光片 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN105068170B (zh) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106526733A (zh) * | 2016-12-27 | 2017-03-22 | 苏州思创源博电子科技有限公司 | 一种红外滤光片的制备方法 |
| CN108391034A (zh) * | 2018-03-12 | 2018-08-10 | 广东欧珀移动通信有限公司 | 摄像头的镜片及其制备方法、摄像头和电子设备 |
| CN110196466B (zh) * | 2019-05-24 | 2023-11-28 | 河南镀邦光电股份有限公司 | 一种低翘曲度红外截止滤光片及其镀膜方法 |
| CN110109209A (zh) * | 2019-06-05 | 2019-08-09 | 信阳舜宇光学有限公司 | 滤光片以及制造滤光片的方法 |
| CN110865433A (zh) * | 2019-12-27 | 2020-03-06 | 江西水晶光电有限公司 | 一种屏下指纹识别用滤光片及其制备方法 |
| CN111812762B (zh) * | 2020-07-16 | 2022-02-22 | 杭州美迪凯光电科技股份有限公司 | 改善眩光鬼影现象的红外截止滤光器及其制备方法 |
| CN112130232A (zh) * | 2020-09-25 | 2020-12-25 | 厦门美澜光电科技有限公司 | 一种能够提高颜色对比度的镜片及其制备方法 |
| CN113572937A (zh) * | 2021-07-28 | 2021-10-29 | 东莞市微科光电科技有限公司 | 一种红外截止滤光片、摄像模组、电子设备及制备方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5360659A (en) * | 1993-05-24 | 1994-11-01 | The Dow Chemical Company | Two component infrared reflecting film |
| TW201235762A (en) * | 2011-02-23 | 2012-09-01 | Asia Optical Co Inc | Infrared cut filter |
| WO2013069797A1 (ja) * | 2011-11-11 | 2013-05-16 | 住友化学株式会社 | 光学フィルム、面光源装置及び液晶表示装置 |
| CN202631773U (zh) * | 2012-07-05 | 2012-12-26 | 美德瑞光电科技（上海）有限公司 | 低角度效应的红外截止滤光片 |
| CN103576226B (zh) * | 2012-08-10 | 2017-07-11 | 赛恩倍吉科技顾问（深圳）有限公司 | 红外截止滤光膜、红外截止滤光片及镜头模组 |
| CN103207424B (zh) * | 2013-04-01 | 2015-09-09 | 中国船舶重工集团公司第七一七研究所 | 一种超宽波段截止长波通滤光膜及其制造方法 |
-
2015
- 2015-07-21 CN CN201510430714.0A patent/CN105068170B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN105068170A (zh) | 2015-11-18 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
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| TR01 | Transfer of patent right |
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