CN203287550U - 一种近红外减反射增透膜 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种近红外减反射增透膜，包括PMMA板材，所述PMMA板材上沉积有二氧化钛膜，所述二氧化钛膜上沉积有二氧化硅膜。本实用新型通过采用逐层沉积二氧化钛膜和二氧化硅膜的结构，并通过优化各层膜的厚度，使近红外入射光在经过增透膜减反射后的反射率值维持在2%以下，使790nm～910nm之间的入射光透过率大于94%。本实用新型对手机镜头和数码镜头表面特别适用。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种减反射膜，特别是涉及一种近红外减反射增透膜。
背景技术
随着3D技术的发展以及体感游戏机的盛行，使近红外技术的应用变得更加广泛。各种设计的近红外成像设备以及近红外遥感技术越来越广泛地应用于数码家电产品。目前市场上见到的近红外成像数码产品透过率基本在90%左右，由于人们对成像清晰度的要求越来越高，近红外减反射增透膜的应用也被越来越多的厂商所采用。
发明内容
本实用新型为解决公知技术中存在的技术问题而提供一种近红外减反射增透膜，该增透膜能够得到近红外波段较好的减反射增透薄膜。
本实用新型为解决公知技术中存在的技术问题所采取的技术方案是：一种近红外减反射增透膜，包括PMMA板材，所述PMMA板材上沉积有二氧化钛膜，所述二氧化钛膜上沉积有二氧化硅膜。
所述二氧化钛膜的厚度为10.26～11.34nm。
所述二氧化硅膜的厚度为115.33～130.62nm。
本实用新型具有的优点和积极效果是：通过采用逐层沉积二氧化钛膜和二氧化硅膜的结构，并通过优化各层膜的厚度，使近红外入射光在经过增透膜减反射后的反射率值维持在2%以下，使790nm～910nm之间的入射光透过率大于94%。本实用新型对手机镜头和数码镜头表面特别适用。
附图说明
图1为本实用新型近红外减反射增透膜的结构示意图。
图中：1、PMMA板材，2、二氧化钛膜，3、二氧化硅膜。
具体实施方式
为能进一步了解本实用新型的发明内容、特点及功效，兹例举以下实施例，并配合附图详细说明如下：
请参阅图1，一种近红外减反射增透膜，包括PMMA板材1，所述PMMA板材1上沉积有二氧化钛膜2，所述二氧化钛膜2上沉积有二氧化硅膜3。
在本实施例中，所述二氧化钛膜2的厚度为10.26～11.34nm。所述二氧化硅膜3的厚度为115.33～130.62nm。
上述近红外减反射增透膜的制作方法：
一）PMMA板材清洗除尘
将PMMA板材进行超声波清洗处理，以去除表面影响膜层性能的脏污及颗粒。将清洗后的板材装入设备规定的基片架上，并进行静电除尘。
二）真空镀减反射膜
1）将清洗除尘后的PMMA板材装入镀膜机真空室内；
2）镀膜机真空室进行高真空抽气，启动配备在真空室内的深冷低温机，使其设定温度低于-120℃，这样可以将PMMA板材1的水分和真空室内的水分彻底清除。
3）对PMMA板材1的上表面进行清洁和活化
当镀膜机真空室内真空度低于5×10-5torr后，打开镀膜机真空室上的无阴极离子源，并向镀膜机真空室内通入流量为10～30sccm的氧气，通气时间为30～180s，以对PMMA板材1的上表面进行清洁处理和表面活化。
4）对镀膜机真空室进行加热
打开镀膜机真空室上的加热器，加热镀膜机真空室，使镀膜机真空室内温度达到并保持在60～80℃。
5）镀减反射膜
关闭镀膜机真空室上的无阴极离子源，对镀膜机真空室进行持续真空抽气，当镀膜机真空室内真空度低于3×10-5torr时，打开镀膜机上的电子枪和电子枪上的无阴极离子源，打开镀膜机真空室上的无阴极离子源，向镀膜机真空室内通入流量为8～20sccm的氧气，向镀膜机的电子枪内通入流量为5～15sccm的氧气，逐层在PMMA基材1的上表面上沉积厚度为10.26～11.34nm的二氧化钛膜2和厚度为115.33～130.62nm二氧化硅膜3。
三）从镀膜机真空室中取出镀完减反射膜的PMMA板
镀膜完成之后自动关闭无阴极离子源和电子枪，同时深冷低温机停止工作，对镀膜机真空室进行充气，待镀膜机真空室内真空度到达大气状态时，真空室门自动打开。这是就可以从镀膜机真空室中取出基片架，将镀有减反射膜的PMMA板从基片架上取下。
采用分光光度计对采用上述方法制作的三个减反射增透膜进行测试，透过率的数值如下：
上表中的数据表明：采用本实用新型制作的减反射增透膜近红外入射光的透过率比现有同类产品的透过率高，波长在790nm～910nm之间的入射光透过率大于94%。
尽管上面结合附图对本实用新型的优选实施例进行了描述，但是本实用新型并不局限于上述的具体实施方式，上述的具体实施方式仅仅是示意性的，并不是限制性的，本领域的普通技术人员在本实用新型的启示下，在不脱离本实用新型宗旨和权利要求所保护的范围情况下，还可以作出很多形式，这些均属于本实用新型的保护范围之内。
Claims (3)
1.一种近红外减反射增透膜，其特征在于，包括PMMA板材，所述PMMA板材上沉积有二氧化钛膜，所述二氧化钛膜上沉积有二氧化硅膜。
2.根据权利要求1所述的近红外减反射增透膜，其特征在于，所述二氧化钛膜的厚度为10.26～11.34nm。
3.根据权利要求2所述的近红外减反射增透膜，其特征在于，所述二氧化硅膜的厚度为115.33～130.62nm。
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| CN2013203225807U CN203287550U (zh) | 2013-06-05 | 2013-06-05 | 一种近红外减反射增透膜 |
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Cited By (2)
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|---|---|---|---|---|
| CN105334552A (zh) * | 2015-11-04 | 2016-02-17 | 苏州大学 | 基于阻抗匹配的可见光波段宽角度无反射复合材料 |
| WO2017215016A1 (zh) * | 2016-06-14 | 2017-12-21 | 苏州大学张家港工业技术研究院 | 一种钛薄膜的应用以及使用该钛薄膜的硅基光波导 |
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2013
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105334552A (zh) * | 2015-11-04 | 2016-02-17 | 苏州大学 | 基于阻抗匹配的可见光波段宽角度无反射复合材料 |
| CN105334552B (zh) * | 2015-11-04 | 2017-09-26 | 苏州大学 | 基于阻抗匹配的可见光波段宽角度无反射复合材料 |
| WO2017215016A1 (zh) * | 2016-06-14 | 2017-12-21 | 苏州大学张家港工业技术研究院 | 一种钛薄膜的应用以及使用该钛薄膜的硅基光波导 |
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