TWI640360B - Denitration catalyst regeneration method and denitration catalyst regeneration system and denitration catalyst detergent - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種可有效除去附著在觸媒表面的附著物，且可大幅恢復觸媒性能之脫硝觸媒之再生方法及脫硝觸媒之再生系統以及脫硝觸媒之洗淨劑。前述再生方法包括：將脫硝觸媒水洗之預洗步驟(S12)；將水洗後的前述脫硝觸媒浸漬於含無機酸與氟化合物的藥液之藥液洗淨步驟(S14)；由前述藥液將前述脫硝觸媒取出之步驟；及以水或含磺胺酸的水作為完工洗淨液清洗由前述藥液取出的前述脫硝觸媒的完工清洗步驟(S16)。
Description
本發明關於一種脫硝觸媒之再生方法及脫硝觸媒之再生系統，以及脫硝觸媒之洗淨劑。尤其關於一種燃煤鍋爐用的劣化脫硝觸媒之再生方法及再生系統，以及洗淨劑。本申請基於2015年7月10日申請的日本特願2015-138939號而主張優先權，援用其全部的記載內容。
使化石燃料、生質量等的燃料燃燒的設備具備了除去燃料燃燒所產生的排氣中所含的氮氧化物的脫硝設備。脫硝設備已有具備促進氮氧化物的除去的脫硝觸媒的設備。脫硝觸媒會隨著使用而性能劣化。因此，脫硝設備在保養時，需進行脫硝觸媒的交換、或補充。另外還有文獻提出為了再利用脫硝觸媒，而進行恢復性能用的再生。
日本特許第4870217號公報記載了一種使用於鍋爐的排氣的排煙脫硝裝置的觸媒活性改良方法，其中預先將因為二氧化矽．氧化鋁．硫酸鈣系的毒化物質而活性
降低的脫硝觸媒水洗，而使其含水，然後使用有機酸與氟化物的混合液，將同物質在常溫下洗淨除去的排煙脫硝裝置的觸媒活性改良方法。日本特開平10-235209號公報記載了觸媒性能降低的脫硝觸媒的再生之時，將洗淨液中的氫氟酸濃度定為0.3~3質量%，並將前述洗淨液的溫度維持在40~80℃，而將觸媒洗淨。
如上述專利文獻所記載，藉由將有機酸與氟化物等的氟化合物使用於脫硝觸媒的洗淨，可大幅恢復觸媒性能。然而，因為再生處理，會有鈣等的觸媒劣化成分附著於觸媒表面的情形。若附著了觸媒劣化成分的鈣，則會有再生處理後的觸媒性能不足的顧慮。另外還會有因為再生處理，脫硝觸媒的抗壓強度降低的問題。
本發明是解決上述課題的發明，目的為提供一種可有效除去附著在觸媒表面的附著物，大幅恢復觸媒性能，且可抑制抗壓強度降低之脫硝觸媒之再生方法及脫硝觸媒之再生系統，以及脫硝觸媒之洗淨劑。
為了達成上述目的，本發明的一個態樣所關連的脫硝觸媒之再生方法，至少包括：將脫硝觸媒水洗之預洗步驟；將水洗後的前述脫硝觸媒浸漬於含無機酸與氟化合物的藥液的藥液洗淨步驟；由前述藥液取出前述脫硝觸媒的步驟；及以水或含磺胺酸的水作為完工洗淨液清洗由前述藥液取出的前述脫硝觸媒的完工清洗步驟。
前述藥液宜進一步含有界面活性劑。另外，界面活性劑係以非離子系界面活性劑或陰離子系界面活性劑為較佳。藉由此界面活性劑，可使溶於洗淨液中的鈣、或粉塵中的鈣高度分散，會有抑制再附著於觸媒的效果。
另外，前述無機酸宜含有鹽酸。前述無機酸希望因應必要在鹽酸中含有硼酸。另外，無機酸宜含有磺胺酸。
另外，在前述界面活性劑為非離子系界面活性劑的情況，前述非離子系界面活性劑宜為以聚氧乙烯聚氧丙二醇、聚氧乙烯衍生物或聚烷二醇衍生物為主成分的界面活性劑。另外，在前述界面活性劑為陰離子系界面活性劑的情況，前述陰離子系界面活性劑宜為以聚氧化烯烷基醚磷酸酯為主成分的界面活性劑。
另外，前述藥液洗淨步驟宜藉由將前述脫硝觸媒浸漬於前述藥液而將觸媒表面的二氧化矽濃度設定在6質量%以下。
另外，前述預洗步驟，宜將前述脫硝觸媒浸漬於水槽內的水，使前述水槽密閉，並吸取前述水槽內的空氣。
另外，前述藥液洗淨步驟宜重覆使用前述藥液。
為了達成上述目的，本發明的另一個態樣所關連的脫硝觸媒之再生系統，至少具備：將脫硝觸媒水洗之預洗部、將水洗後的前述脫硝觸媒浸漬於含無機酸與氟
化合物的藥液之藥液洗淨部、及以水或含磺胺酸的水作為完工洗淨液清洗由前述藥液取出的前述脫硝觸媒的完工清洗部。
只要利用至少一態樣所關連的脫硝觸媒之再生方法及脫硝觸媒之再生系統，即可有效除去附在觸媒表面的附著物，大幅恢復觸媒性能，且可抑制抗壓強度降低。
另外，為了達成上述目的，本發明的另一個態樣所關連的洗淨液，是將燃煤鍋爐用的劣化脫硝觸媒洗淨之洗淨液，並且至少含有含無機酸與氟化合物的水溶液。
前述洗淨液進一步含有界面活性劑，前述界面活性劑宜為非離子系界面活性劑或陰離子系界面活性劑。
另外，前述無機酸宜含有鹽酸。前述無機酸希望因應必要在鹽酸中含有作為防銹劑的硼酸。另外，除了鹽酸以外，無機酸還宜含有磺胺酸。
另外，在前述界面活性劑為非離子系界面活性劑的情況，前述非離子系界面活性劑宜為以聚氧乙烯聚氧丙二醇、聚氧乙烯衍生物或聚烷二醇衍生物為主成分的界面活性劑。另外，在前述界面活性劑為陰離子系界面活性劑的情況，前述陰離子系界面活性劑宜為以聚氧化烯烷基醚磷酸酯為主成分的界面活性劑。
10‧‧‧燃煤粉鍋爐
50‧‧‧脫硝設備
82a、84a、86a‧‧‧脫硝觸媒
100、100a‧‧‧脫硝觸媒再生系統
102、102a‧‧‧預洗部
104、104a‧‧‧藥液洗淨部
106、106a‧‧‧完工清洗部
108、108a‧‧‧乾燥部
112‧‧‧觸媒搬運裝置
114‧‧‧預備水洗槽
116‧‧‧供水裝置
118‧‧‧抽真空槽
120‧‧‧真空幫浦
122‧‧‧藥洗槽
130‧‧‧完工水洗槽
圖1表示第1實施形態的脫硝觸媒再生系統的概略構造模式圖。
圖2表示第1實施形態的脫硝觸媒再生方法的一例的流程圖。
圖3表示第2實施形態的脫硝觸媒再生系統的概略構造模式圖。
圖4表示第2實施形態的脫硝觸媒再生方法的一例的流程圖。
圖5表示再生方法實施例的觸媒的性能恢復率的測量結果圖。
圖6表示再生方法實施例的觸媒表面二氧化矽濃度的測量結果圖。
圖7表示再生方法實施例的觸媒表面鈣的測量結果圖。
圖8表示再生方法實施例的觸媒的性能恢復率的測量結果圖。
圖9表示再生方法實施例的觸媒表面二氧化矽濃度的測量結果圖。
圖10表示再生方法實施例的觸媒表面鈣的測量結果圖。
圖11表示藥洗洗淨處理時間與觸媒表面附著物濃度的關係的測量結果圖。
圖12表示藥洗洗淨處理時間與脫硝觸媒性能恢復率的關係的測量結果圖。
圖13表示藥液使用次數與脫硝觸媒性能恢復率的關係的測量結果圖。
圖14A及圖14B表示完工洗淨液使用次數與脫硝觸媒性能恢復率的關係的測量結果圖。
圖15A及圖15B表示完工洗淨液使用次數與脫硝觸媒性能恢復率的關係的測量結果圖。
以下參考附加的圖式對適合的實施形態詳細說明。本發明並不受此實施形態所限定，另外，在多種實施形態的情況，將各實施形態組合或一部分取代所構成的形態也包括在本發明內。
針對第1實施形態的洗淨劑作說明。本實施形態的洗淨劑是至少含有氟化合物與無機酸的水溶液之洗淨劑。
氟化合物可例示氟化氫銨(NH4HF2)、氟化銨(NH4F)。氟化合物宜為氟化氫銨。氟化氫銨的量可定在例如相對於洗淨劑全體為1~10質量%，宜為1~5質量%的範圍。
無機酸可例示磺胺酸(H3NSO3)、鹽酸
(HCl)、硫酸(H2SO4)、硼酸(H3BO3)。無機酸宜為鹽酸或鹽酸與硼酸。硼酸可發揮防銹劑的功能。硼酸的量可定在例如相對於洗淨劑為0.001~10質量%。另外，無機酸亦適合為磺胺酸。
無機酸的量，宜添加成使例如洗淨劑的pH值在pH1~6的範圍，以pH1~3的範圍為較佳。只要酸的量是使洗淨劑的pH值在前述範圍內的量，則亦可添加上述以外的無機酸。
洗淨劑宜進一步含有界面活性劑。界面活性劑係以非離子系或陰離子系界面活性劑為較佳。
非離子系界面活性劑宜為以聚氧乙烯聚氧丙二醇、聚氧乙烯衍生物、聚烷二醇衍生物為主成分的非磷酸系界面活性劑。聚氧乙烯聚氧丙二醇的氧乙烯(EO)含量可定在例如39質量%。聚氧乙烯聚氧丙二醇為主成分的非磷酸系界面活性劑可例示Blaunon P-101M(青木油脂工業公司製)、Emulgen PP-220(花王公司製)、Newpol PE-61、Newpol PE-62、Newpol PE-64、Newpol PE-68、Newpol PE-71、Newpol PE-74、Newpol PE-75、Newpol PE-78、Newpol PE-108等(三洋化成公司製)、Epan 410、Epan 420、Epan 450、Epan 485、Epan 680、Epan 710、Epan 720、Epan 740、Epan 750、Epan 785、Epan U-103、Epan U-105、Epan U-108等(第一工業製藥公司製)、Pronon(註冊商標)#056、Pronon #101P、Pronon #105、Pronon #124、Pronon #124P、Pronon
#154、Pronon #188P、Pronon #201、Pronon #202、Pronon #204、Pronon #208、Pronon #235、Pronon #235P、Pronon #237P、Pronon #238、Pronon #407P、Unilube(註冊商標)70DP-950B、Unilube 75DE-2620R等(日油股份有限公司製)、Pristol EM-440、Pristol EM-640、Pristol RM-183等(MIYOSHI油脂公司製)。另外，聚烷二醇衍生物為主成分的非磷酸系界面活性劑，可列舉MasterAir 404(BASF公司製)、FOAMKILLER M-14(青木油脂工業公司製)、Dispanol WI-115(日油股份有限公司製)、Unilube 50MB-2、Unilube 50MB-5、Unilube 50MB-11、Unilube 50MB-26、Unilube 50MB-72、Unilube 60MB-2B、Unilube 60MB-16、Unilube 60MB-26、Unilube 75DE-15、Unilube 75DE-25、Unilube 75DE-60、Unilube 75DE-170、Unilube 75DE-2620、Unilube 75DE-3800、Unilube 80DE-40U、Unilube AX-22、Unilube MB-7、Unilube MB-19、Unilube MB-700、Unilube MB-7X、Unilube MB-11X、Unilube 10MS-250KB等(日油股份有限公司製)、Trimin DF-300、Trimin 610等(MIYOSHI油脂公司製)、RIKEI RK-95(理系化學工業公司製)。
陰離子系界面活性劑宜為以聚氧化烯烷基醚磷酸酯等的磷酸酯或其鹽為主成分的磷酸酯系界面活性劑。磷酸酯系界面活性劑宜為以聚氧乙烯烷基醚磷酸酯等的磷酸酯為主成分的界面活性劑，以聚氧乙烯烷基(C8)醚磷酸酯．單乙醇胺鹽為主成分的界面活性劑為較佳。磷
酸酯或其鹽為主成分的磷酸酯系界面活性劑，可列舉Antox EHD-PNA、Newcol 100-FCP、Antox EHD-400等(日本乳化劑公司製)、Plysurf A208F、Plysurf A208N、Plysurf A210D、Plysurf M208F等(第一工業公司製)等。
界面活性劑的量可定在例如相對於洗淨劑全體為0.001~10質量%。
圖1表示第1實施形態的脫硝觸媒再生系統的概略構造。圖1所示的脫硝觸媒再生系統100中，實行了恢復脫硝觸媒的觸媒性能的處理。作為對象的脫硝觸媒為例如使用於由燃煤鍋爐產生的含有二氧化矽、鈣、磷、砷、鈉、鉀等的毒化物質的排氣的脫硝，毒化而觸媒性能降低之使用過後的脫硝觸媒。作為對象的脫硝觸媒，包括格子狀(蜂巢狀)觸媒、板狀觸媒、波形觸媒。另外，脫硝觸媒是例如以二氧化鈦(TiO2)作為擔體，活性成分含有釩(V)、鎢(W)、鉬(Mo)的至少一種。
如圖1所示般，脫硝觸媒再生系統100具備預洗部102、藥液洗淨部104、完工清洗部106、及乾燥部108。預洗部102是以將脫硝觸媒水洗，除去附著於脫硝觸媒的異物、灰或可溶性的鈣等的方式構成。預洗部102可使用具有水槽與對水槽供給水的機構，貯存水的水槽中加入脫硝觸媒，使脫硝觸媒浸漬於水中的裝置。預洗
部102亦可使用具有淋浴噴嘴等，對脫硝觸媒添加水，而使脫硝觸媒浸漬於水中的裝置。預洗部102只要能夠以水洗淨脫硝觸媒而將異物除去即可，可使用混有能夠洗淨脫硝觸媒的成分的液體。
藥液洗淨部104是以將脫硝觸媒浸漬於藥液(洗淨劑)，除去附著於脫硝觸媒的異物的方式構成。本實施形態的藥液至少含有無機酸與氟化合物。亦即，藥液適合採用無機酸與氟化合物的混合液，本實施形態的洗淨劑。
藥液洗淨部104，與預洗部102同樣地，可使用具有水槽與對水槽供給藥液的機構，在貯存藥液的水槽中加入脫硝觸媒，使脫硝觸媒浸漬於藥液中的裝置。另外，藥液洗淨部104亦可使用具有淋浴噴嘴等，對脫硝觸媒添加藥液，使脫硝觸媒浸漬於藥液中的裝置。
完工清洗部106是以藉由完工洗淨液將在藥液洗淨部104被藥液浸漬的脫硝觸媒完工清洗，而除去或減少附著於脫硝觸媒的藥液的方式構成。完工清洗部106可使用具有水槽與對水槽供給完工洗淨液的機構，在貯存完工洗淨液的水槽中加入脫硝觸媒，使脫硝觸媒浸漬於完工洗淨液，而除去或減少附著於脫硝觸媒的藥液的裝置。完工清洗部106亦可採用具有淋浴噴嘴等，對脫硝觸媒添加完工洗淨液，而除去或減少附著於脫硝觸媒的藥液的裝置。
完工洗淨液可例示水(H2O)、磺胺酸
(H3NSO3)、該等的混合液。完工洗淨液宜含有磺胺酸。亦即，完工洗淨液宜為水與既定濃度的磺胺酸的混合液(以後亦稱為含磺胺酸的水)。磺胺酸的量為例如相對於水為0.5mol/l~5mol/l。
乾燥部108是以在完工清洗部106將水分由完工清洗的脫硝觸媒除去的方式構成。乾燥部108是以藉由對脫硝觸媒通入加熱至100℃以上的氣體，例如1~30℃的氣體，將附著於脫硝觸媒的水分除去的方式構成。乾燥部108只要可將水分除去即可，可對脫硝觸媒吹送乾燥空氣以將水分吹走。另外，在乾燥部108中，亦可藉由加熱至100℃以上的空間使脫硝觸媒乾燥。
圖2表示第1實施形態的脫硝觸媒再生方法的一例的流程圖。圖2所示的脫硝觸媒再生方法，可藉由在脫硝觸媒再生系統100的各部實行處理來實現。本實施形態的脫硝觸媒再生方法，包括：預洗步驟、藥液洗淨步驟、取出脫硝觸媒之步驟、及完工清洗步驟。
如圖2所示般，預洗步驟是在脫硝觸媒再生系統100中，以預洗部102將脫硝觸媒水洗(步驟S12)。在脫硝觸媒再生系統100中，藉由在預洗部102內將脫硝觸媒水洗，除去附著於表面的異物，而成為液體容易滲入脫硝觸媒內部的狀態。
藥液洗淨步驟是在脫硝觸媒再生系統100
中，將脫硝觸媒預洗，然後在藥液洗淨部104內，將水洗後的脫硝觸媒浸漬於含無機酸與氟化合物的藥液(步驟S14)。在脫硝觸媒再生系統100中，將脫硝觸媒浸漬於藥液15分鐘以上60分鐘以下。在脫硝觸媒再生系統100中，藉由將脫硝觸媒浸漬於藥液，除去附著於脫硝觸媒的物質，具體而言，二氧化矽(SiO2)等。
取出脫硝觸媒的步驟是在脫硝觸媒再生系統100中，將脫硝觸媒浸漬於藥液，然後將脫硝觸媒由藥液取出。然後，完工清洗步驟是在脫硝觸媒再生系統100中，將由藥液取出的脫硝觸媒，在完工清洗部106內，使用完工洗淨液進行完工清洗(步驟S16)。在脫硝觸媒再生系統100中，藉由在完工清洗部106進行完工清洗，除去附著於脫硝觸媒的藥液。
接下來，在脫硝觸媒再生系統100中，在完工清洗部106內使用完工洗淨液進行完工清洗，然後在乾燥部108內使附著於脫硝觸媒的水蒸發，而使脫硝觸媒乾燥。
依據本實施形態，藉由藥液採用含無機酸與氟化合物的混合液，可抑制釩等活性成分由脫硝觸媒溶出，同時有效除去難溶性的二氧化矽，可提高脫硝觸媒的性能的恢復率。亦即，可再生為高觸媒性能的脫硝觸媒。藉此，在完工清洗部進行完工清洗，然後即使不進行浸漬觸媒活性成分的處理，也能夠提高觸媒性能。若與例如藥液採用鹼性的氫氧化鈉(NaOH)的再生方法作比較，則
可省略利用硫酸等的中和步驟；將溶出的釩浸漬於硫酸氧釩(VOSO4)水溶液，再度擔持的浸漬步驟；浸漬步驟後的乾燥步驟等的步驟。藉此可抑制因為活性成分浸漬處理造成的再生處理工時增加。
另外，再生處理時可減少附著的鈣等。藉此，在再生處理時，即使重覆使用藥液，也能夠提高脫硝觸媒的性能的恢復率。亦即藥液可多次使用。
藥液係以含有鹽酸作為無機酸為特佳。藉由無機酸採用鹽酸，可使鈣溶解，而能夠抑制再生處理時鈣附著於脫硝觸媒。
藥液中，作為無機酸的鹽酸係以進一步含有硼酸為特佳。藉由在藥液中添加硼酸，可抑制鐵由脫硝觸媒的包裝框架溶出，而能夠抑制藥液中的SO2氧化率上昇。
藥液的氟化合物宜採用氟化氫銨。藉此，不需使用毒物的氟化氫水溶液即可提高脫硝觸媒的觸媒性能恢復率。
另外，依據本實施形態，藥液宜進一步含有界面活性劑。藥液宜為無機酸、氟化合物與界面活性劑的混合液。藥液藉由含有界面活性劑，可抑制再生處理時鈣附著於脫硝觸媒。其結果，能夠更提高脫硝觸媒的性能的恢復率，且可抑制脫硝觸媒的抗壓強度降低。亦即，可再生成為較高觸媒性能的脫硝觸媒，能夠增加藥液的使用次數。另外，還可降低藥洗步驟所需要的溫度、或縮短藥洗
步驟所需要的時間。其結果，可削減再生處理的處理成本。
界面活性劑可例示磷酸系界面活性劑、非磷酸系界面活性劑。磷酸系界面活性劑可例示聚氧化烯烷基醚磷酸酯等的磷酸酯或其鹽。非磷酸界面活性劑可例示聚氧乙烯聚氧丙二醇、聚氧乙烯衍生物、聚氧乙烯衍生物。
含無機酸與氟化合物的藥液可例示將作為無機酸的鹽酸及硼酸與作為氟化合物的氟化氫銨混合而成的混合液；作為無機酸的磺胺酸與作為氟化合物的氟化氫銨混合而成的混合液；或作為無機酸的鹽酸與作為氟化合物的氟化氫銨混合而成的混合液。
另外，含有無機酸、氟化合物與界面活性劑的藥液可例示作為無機酸的磺胺酸與作為界面活性劑的磷酸酯與作為氟化合物的氟化氫銨混合而成的混合液；作為無機酸的磺胺酸、作為界面活性劑的聚氧乙烯衍生物與作為氟化合物的氟化氫銨混合而成的混合液；作為無機酸的鹽酸及硼酸與作為界面活性劑的磷酸酯與作為氟化合物的氟化氫銨混合而成的混合液；或作為無機酸的鹽酸及硼酸、作為界面活性劑的聚氧乙烯衍生物與作為氟化合物的氟化氫銨混合而成的混合液。
此外，依據本實施形態，完工洗淨液宜含有磺胺酸。亦即，完工洗淨液宜為水與磺胺酸的混合液。藉由使用含有磺胺酸的完工洗淨液，可減少再生處理後的觸媒表面上的鈣、氧化鋁。因此，能夠更提高觸媒性能恢復
率。藉此，即使重覆使用藥液或完工洗淨液，也能夠維持高脫硝觸媒性能恢復率。亦即可增加藥液的使用次數。
圖3表示第2實施形態的脫硝觸媒再生系統的概略構造。圖3所示的第2實施形態的脫硝觸媒再生系統100a可與脫硝觸媒再生系統100或其他實施形態組合。在這點其他實施形態也同樣，並且各實施形態為一例，其一部分可與其他實施形態組合。
如圖3所示般，脫硝觸媒再生系統100a具備預洗部102a、藥液洗淨部104a、完工清洗部106a、乾燥部108、及觸媒搬運裝置112。觸媒搬運裝置112是由設置有脫硝觸媒的脫硝設備將脫硝觸媒取下，並且搬運取下的脫硝觸媒的裝置。觸媒搬運裝置112可含有搬運觸媒的起重機、車輛、以人力移動的台車等。
預洗部102a具備預備水洗槽114、供水裝置116、廢液槽117、抽真空槽118、廢液槽119、及真空幫浦120。預備水洗槽114為大於再生處理對象的脫硝觸媒並且可貯存液體的容器。供水裝置116具有貯存水的槽體及控制水的供給的閥等，是以將預洗、抽真空所使用的水分別供給至預備水洗槽114、抽真空槽118的方式構成。廢液槽117是貯存由預備水洗槽114排出的水的容器。抽真空槽118是大於再生處理對象的脫硝觸媒，並且可貯存
液體的容器。本實施形態的抽真空槽118具有蓋子等，是以可使脫硝觸媒進出，且能夠使內部密閉狀態的方式構成。廢液槽119是貯存由抽真空槽118排出的水的容器。在預洗部102a，可將廢液槽117與廢液槽119設計為一個槽體。真空幫浦120是以將抽真空槽118內的空氣吸走的方式構成。
藥液洗淨部104a具備藥洗槽122、藥液供給裝置123、及廢液槽129。藥洗槽122是大於再生處理對象的脫硝觸媒，並且可貯存液體的容器。藥液供給裝置123具有貯存藥液的槽體及控制藥液供給的閥等，是以將藥液洗淨所使用的藥液供給至藥洗槽122的方式構成。廢液槽129是貯存由藥洗槽122排出的藥液的容器。
完工清洗部106a具備完工水洗槽130、供給裝置132、及廢液槽134。完工水洗槽130是大於再生處理對象的脫硝觸媒，並且可貯存液體的容器。供給裝置132具有貯存本說明書所記載的完工洗淨液的槽體及控制完工洗淨液的供給的閥等，是以對完工水洗槽130供給完工洗淨液的方式構成。廢液槽134是貯存由完工水洗槽130排出的完工洗淨液的容器。
乾燥部108具有與脫硝觸媒再生系統100的乾燥部108同樣的構造。
圖4表示第2實施形態的脫硝觸媒再生方法的一例的
流程圖。圖4所示的脫硝觸媒之再生方法，可藉由在脫硝觸媒再生系統100a的各部實行處理來實現。本實施形態的脫硝觸媒再生方法，包括預洗步驟、藥液洗淨步驟、完工清洗步驟、及乾燥步驟。
如圖4所示般，預洗步驟，是在脫硝觸媒再生系統100a中，以觸媒搬運裝置112由脫硝設備取出脫硝觸媒，使取出的脫硝觸媒移動至預備水洗槽114(步驟S22)。接下來，在脫硝觸媒再生系統100a中，在預備水洗槽114內將脫硝觸媒以水洗淨(步驟S24)。在脫硝觸媒再生系統100a中，可將脫硝觸媒搬運至空的預備水洗槽114，然後以供水裝置116對預備水洗槽114供給水，或以供水裝置116對預備水洗槽114供給水，並將脫硝觸媒加入貯存水的狀態的預備水洗槽114。
接下來，在脫硝觸媒再生系統100a中，將脫硝觸媒在預備水洗槽114內以水洗淨，然後以觸媒搬運裝置112使脫硝觸媒移動至抽真空槽118(步驟S26)。在脫硝觸媒再生系統100a中，使脫硝觸媒移動至抽真空槽118，然後以真空幫浦120將抽真空槽118內的空氣吸走，產生真空狀態(步驟S28)。在脫硝觸媒再生系統100a中，藉由使抽真空槽118內產生真空狀態，在異物塞住脫硝觸媒內部時，可吸走異物。在脫硝觸媒再生系統100a中，使抽真空槽118內成為真空狀態，然後將抽真空槽118開放而恢復到大氣壓力，以觸媒搬運裝置112使脫硝觸媒由抽真空槽118移動至藥液槽122(步驟
S30)。在脫硝觸媒再生系統100a中，在步驟S24至S28的處理實行預洗，除去附著於表面的異物，而成為液體容易滲入脫硝觸媒內部的狀態。
藥液洗淨步驟，是在脫硝觸媒再生系統100a中，使脫硝觸媒移動至藥洗槽122，然後在藥洗槽122內將脫硝觸媒浸漬於藥液(步驟S32)。在脫硝觸媒再生系統100a中，使脫硝觸媒移動至藥洗槽122，然後對藥洗槽122內供給藥液，而使配置於藥洗槽122內的脫硝觸媒浸漬於藥液，或使脫硝觸媒移動至貯存藥液的藥洗槽122，並將配置於藥洗槽122內的脫硝觸媒浸漬於藥液。在脫硝觸媒再生系統100a中，步驟S32的處理為藥液洗淨。
完工清洗步驟是在脫硝觸媒再生系統100a中，將脫硝觸媒浸漬於藥液，然後以觸媒搬運裝置112使脫硝觸媒由藥洗槽122移動至完工水洗槽130(步驟S34)。在脫硝觸媒再生系統100a中，使脫硝觸媒移動至完工水洗槽130，然後在完工水洗槽130內將脫硝觸媒洗淨(進行完工清洗)(步驟S36)。具體而言，由供給裝置132對完工水洗槽130內供給完工洗淨液，以完工洗淨液來洗淨脫硝觸媒。此時，在脫硝觸媒再生系統100a中，將完工水洗槽130內的完工洗淨液排出，同時進行處理，或在完工水洗槽130內貯存完工洗淨液。
接下來，在脫硝觸媒再生系統100a中，進行脫硝觸媒的完工洗淨，然後移動至乾燥部108，在乾燥部
108使脫硝觸媒乾燥(步驟S38)。
依據本實施形態，在脫硝觸媒再生系統100a中，在預洗時將抽真空槽118內的空氣吸走，降低抽真空槽118內的氣壓，而接近真空。藉此，將殘留在脫硝觸媒內的空氣吸走，能夠更確實地除去塞住脫硝觸媒間隙的異物。在脫硝觸媒再生系統100a中，以預洗時將抽真空槽118內的空氣吸走，使抽真空槽118內的氣壓降低至-600mmHg以下為佳。藉由使水槽內的氣壓降低至-600mmHg以下，能夠除去塞住脫硝觸媒的異物，使全部的脫硝觸媒浸漬於水中。
依據本實施形態，在脫硝觸媒再生系統100a中，藉由重覆使用藥液，可有效地使用藥液。另外，如上述般，含有無機酸與氟化合物的藥液可抑制鈣的再附著，因此即使多次使用，也能夠維持二氧化矽的除去性能。具體而言，在脫硝觸媒再生系統100a中，在藥洗槽122將脫硝觸媒浸漬於藥液，然後由藥洗槽122取出脫硝觸媒，然後不將浸漬脫硝觸媒的藥液排至廢液槽129，而貯存在藥洗槽122。然後，使接下來的脫硝觸媒移動至貯存藥液的藥洗槽122。藉此，在脫硝觸媒再生系統100a中，可重覆使用藥液。脫硝觸媒再生系統100a，在重覆使用藥液的情況，在第二次以後的藥液使用時，亦即，在第二次之後浸漬脫硝觸媒時，亦可調整藥液的成分。例如亦可補充加入無機酸或氟化合物。
依據本實施形態，在脫硝觸媒再生系統100a
中，將脫硝觸媒由藥液取出，然後不將藥液由藥洗槽122排至廢液槽129，維持貯存的狀態，加入接下來的脫硝觸媒，而重覆使用藥液，然而重覆使用的方法並不受此限。藥液洗淨部104a設置了暫時貯存藥液的槽體，或使藥液循環的循環機構，將藥液暫時由藥洗槽122排放至槽體，使用時，可藉由循環機構，將藥液由槽體再度加入藥洗槽122內。另外，此情況下，亦可在循環機構設置過濾器等以除去藥液中的異物。
另外，依據本實施形態，在脫硝觸媒再生系統100a中，以水作為完工洗淨液的情況，藉由重覆使用進行預洗或完工清洗時所使用的水，也能夠有效地使用水。藉由有效地利用水，可減少廢液的量。具體而言，與藥液洗淨部104a同樣地，可將水洗後的脫硝觸媒由預備水洗槽114、抽真空槽118、完工水洗槽130取出，然後在維持貯存水的狀態下，使接下來的脫硝觸媒移動至預備水洗槽114、抽真空槽118、完工水洗槽130，進行水洗。此外，為了更提高再生處理時的觸媒性能恢復率，亦能夠以含磺胺酸的水作為完工洗淨液，並且只在完工水洗槽130內維持貯存含磺胺酸的水的狀態。另外，還可對預備水洗槽114、抽真空槽118、完工水洗槽130設置暫時貯存水的槽體或使水循環的循環機構，將水由預備水洗槽114、抽真空槽118、完工水洗槽130暫時排放至槽體，使用時，藉由循環機構，將水由槽體再度加入預備水洗槽114、抽真空槽118、完工水洗槽130。另外，此情況下，
亦可在循環機構設置過濾器等以除去水中所含的異物。此外，為了更提高再生處理時的觸媒性能恢復率，亦能夠以含磺胺酸的水作為完工洗淨液，並且只對完工水洗槽130設置暫時貯存含磺胺酸的水的槽體或使含磺胺酸的水循環的循環機構，將含磺胺酸的水由完工水洗槽130暫時排放至槽體，使用時，藉由循環機構，將含磺胺酸的水再度由槽體加入完工水洗槽130。另外，此情況下，可在循環機構設置過濾器等以除去含磺胺酸的水的中所含的異物，或在循環機構設置濃度計，因應完工洗淨液中的磺胺酸濃度補充含磺胺酸的水。
另外，脫硝觸媒再生系統100a具備各個不同水槽以作為進行預洗、抽真空、藥液洗淨、及完工清洗處理的水槽，然而亦可設置能夠進行各步驟的同一個水槽。另外，在上述處理方法中，是以由脫硝設備將脫硝觸媒取下而進行處理的情況作說明，然而亦可在設置脫硝觸媒的狀態直接進行脫硝觸媒的再生處理。此情況下，對脫硝設備供給水或藥液，並由脫硝設備回收廢液。
另外，在脫硝觸媒再生系統100a亦可進一步設置調整藥液溫度的藥液溫度調整機構。藉由設置藥液溫度調整機構，可控制浸漬脫硝觸媒的藥液洗淨的溫度。藉此，浸漬脫硝觸媒的藥液洗淨的溫度，可藉由藥液溫度調整機構維持在常溫，或將藥液加熱而高於常溫。
以下藉由實施例對本發明較具體地說明。本發明所關連的脫硝觸媒之再生方法及脫硝觸媒之再生系統，以及脫硝觸媒之洗淨劑並不受以下的實施例所限定。
首先，以改變混合的無機酸與氟化合物的多種藥液實施脫硝觸媒之再生方法，測量使用各藥液的情況下的脫硝觸媒的觸媒性能恢復率(再生處理後的觸媒性能/全新品時的觸媒性能=K/K0)、脫硝觸媒表面的二氧化矽濃度(質量%)、脫硝觸媒表面的鈣濃度(質量%)。觸媒性能的指標採用觸媒的反應速率常數。另外，為了作比較，對於藉由混合了有機酸與氟化合物的藥液進行再生處理的例子(比較例1)、藉由混合了有機酸、氟化合物與界面活性劑的藥液進行再生處理的例子(比較例2)也進行同樣的測量。另外，為了作比較，也對於全新品、再生前的脫硝觸媒測量各值。
在實施例1中，使用了以作為無機酸的鹽酸(HCl)0.8質量%、作為氟化合物的氟化氫銨(NH4HF2)的氟化氫成分成為0.9質量%的比例混合而成的藥液。在實施例2中，使用了以作為無機酸的鹽酸0.8質量%、作為無機酸的硼酸(H3BO3)0.15質量%、作為氟化合物的氟化氫銨的氟化氫成分成為0.9質量%的比例混合而成的藥液。
在實施例3中，使用了以作為無機酸的磺胺酸3.5質量%、作為氟化合物的氟化氫銨的氟化氫成分成為1質量%的比例混合而成的藥液。
在比較例1中，使用了以作為有機酸的草酸(C2H2O4)2.0質量%、作為氟化合物的氟化氫銨的氟化氫成分成為1質量%的比例混合而成的藥液。在比較例2中，使用了以作為有機酸的草酸2.0質量%、作為界面滑性劑的磷酸酯0.05質量%、作為氟化合物的氟化氫銨的氟化氫成分成為1質量%的比例混合而成的藥液。
圖5至7表示對於實施例1至3、比較例1及2的再生脫硝觸媒、全新品脫硝觸媒、再生前的脫硝觸媒進行測量的結果。圖5表示再生方法實施例的觸媒的觸媒性能恢復率(K/K0)的測量結果。圖6表示再生方法實施例的觸媒表面二氧化矽濃度(質量%)的測量結果。圖7表示再生方法實施例的觸媒表面鈣濃度(質量%)的測量結果。
如圖5所示般，實施例1至3、比較例1及2的任一情況與再生前相比，觸媒的性能恢復率較高。亦即可知，與再生前相比，觸媒性能較高。另外可知，如圖6所示般，實施例1至3、比較例1及2的任一情況，與再生前相比，脫硝觸媒表面的二氧化矽濃度皆較低，藉由再生處理可除去二氧化矽。另外，如圖7所示般，藉由使用實施例1至3的藥液，使用比較例1及2的藥液相比，較
能夠降低鈣濃度。可知藉此能夠抑制鈣的再附著。
此外，如實施例1及2所示般，可知藉由無機酸採用鹽酸，與比較例1、2及實施例3相比，較能夠提高觸媒的性能恢復率，且可巨幅減少鈣的附著。
接下來實施使用混合了界面活性劑的多種藥液的脫硝觸媒再生方法，測量使用各藥液的情況下脫硝觸媒的觸媒性能恢復率(再生處理後的觸媒性能/全新品時的觸媒性能；K/K0)、脫硝觸媒表面的二氧化矽濃度(質量%)、脫硝觸媒表面的鈣濃度(質量%)。
在實施例4中，使用了以將鹽酸0.8質量%、硼酸0.15質量%、作為界面活性劑的磷酸酯0.05質量%、氟化氫銨的氟化氫成分成為0.9質量%的比例混合而成的藥液。在實施例5中，使用了以鹽酸0.8質量%、作為界面活性劑的磷酸酯0.05質量%、氟化氫銨的氟化氫成分成為0.9質量%的比例混合而成的藥液。在實施例6中，使用了以將鹽酸0.8質量%、硼酸0.15質量%、作為界面活性劑的聚氧乙烯衍生物0.05質量%、氟化氫銨的氟化氫成分成為0.9質量%的比例混合而成的藥液。在實施例7中，使用了以磺胺酸3.5質量%、作為界面活性劑的磷酸酯0.05質量%、氟化氫銨的氟化氫成分成為1質量%的比例
混合而成的藥液。在實施例8中，使用了以磺胺酸3.5質量%、作為界面活性劑而且與實施例7不同種類的磷酸酯0.05質量%、氟化氫銨的氟化氫成分成為1質量%的比例混合而成的藥液。在實施例9中，使用了以磺胺酸3.5質量%、作為界面活性劑的聚氧乙烯衍生物0.05質量%、氟化氫銨的氟化氫成分成為1質量%的比例混合而成的藥液。
圖8至10表示對於實施例4至9、比較例1及2的再生脫硝觸媒、全新品脫硝觸媒、再生前的脫硝觸媒進行測量的結果。圖8表示再生方法實施例的觸媒的觸媒性能恢復率的測量結果。圖9表示再生方法實施例的觸媒表面二氧化矽濃度的測量結果。圖10表示再生方法實施例的觸媒表面鈣濃度的測量結果。
如圖8至10所示般，可知在實施例4至9中，藉由使藥液含有界面活性劑，與比較例1、2相比，較能夠提高觸媒的性能恢復率，且可巨幅減少鈣的附著。另外，如實施例4至9所示般，可知無機酸僅使用鹽酸的情況，使用鹽酸與硼酸的情況，使用磺胺酸的任一情況，皆可巨幅減少鈣的附著。亦即可知，在無機酸採用鹽酸的情況，與不使用含有界面活性劑的藥液的實施例1相比，使用含有界面活性劑的藥液的實施例4，可巨幅減少鈣的附著。另外可知，在無機酸採用鹽酸與硼酸的情況，與不
使用含有界面活性劑的藥液的實施例2相比，使用含有界面活性劑的藥液的實施例5較能夠巨幅減少鈣的附著。另外可知，在無機酸採用磺胺酸的情況，與不使用含有界面活性劑的藥液的實施例3相比，使用含有界面活性劑的藥液的實施例6、7、8較能夠巨幅減少鈣的附著。由以上可知，藉由使用界面活性劑，無關於無機酸的種類，可巨幅減少鈣的附著。另外可知，磷為觸媒的劣化成分，如實施例4、5、7、8所示般，即使界面活性劑使用含磷的藥劑，也能夠提高觸媒性能，可巨幅減少鈣的附著。
接下來測量1次再生處理之中，將脫硝觸媒浸漬於藥液的時間(處理時間；分鐘)與脫硝觸媒的觸媒性能恢復率(再生處理後的觸媒性能/全新品時的觸媒性能；K/K0)、脫硝觸媒表面的二氧化矽濃度(質量%)、脫硝觸媒表面的鈣濃度(質量%)的關係。
將測量結果表示於圖11及12。圖11表示處理時間與觸媒表面附著物濃度的關係的測量結果。圖12表示處理時間與脫硝觸媒性能恢復率的關係的測量結果。如圖11及12所示般，可知藉由將處理時間定在15分鐘以上，可維持鈣濃度低，同時可使脫硝觸媒性能恢復率恢復至0.8，亦即全新品的80%以上。另外，藉由將處理時間
定在60分鐘以下，可抑制處理時間變長。另外可知，可抑制觸媒所含的玻璃纖維的溶出，而能夠抑制觸媒強度降低。由以上可知，藉由將處理時間定在15分鐘以上60分鐘以下，可抑制處理時間變得過長，藉由將觸媒表面二氧化矽濃度定在6質量%以下，可提高脫硝觸媒性能恢復率。
接下來，重覆使用藥液，測量使用次數與脫硝觸媒的觸媒性能恢復率(再生處理後的觸媒性能/全新品時的觸媒性能：K/K0)的關係。重覆利用藥液的情況，在每次使用時，也以相當於前次再生處理反應掉的部分的量來補充無機酸及氟化物。在實施例10中，使用了以作為無機酸的磺胺酸3.5質量%、作為界面活性劑而且與實施例8相同的磷酸酯0.05質量%、作為氟化合物的氟化氫銨的氟化氫成分成為1質量%的比例混合而成的藥液。在實施例11中，使用與實施例10相同的藥液，並將每次使用時補充的無機酸及氟化合物的量定為2倍。在實施例12中，使用了以作為無機酸的鹽酸0.8質量%、作為無機酸的硼酸0.15質量%、作為氟化合物的氟化氫銨的氟化氫成分成為0.9質量%的比例混合而成的藥液。
將測量結果表示於圖13。圖13表示實施例10至12
的藥液使用次數與脫硝觸媒的觸媒性能恢復率的關係的測量結果。如圖13所示般，可知即使重覆使用藥液，也能夠使觸媒性能恢復至相同程度。所以可知，能夠降低藥液的使用量及廢棄量。
接下來，以實際規模，使用含有界面活性劑的藥液，並以改變成分的多種完工洗淨液，重覆實施脫硝觸媒的再生方法，測量洗淨液的重覆使用次數與脫硝觸媒的觸媒性能恢復率(再生處理後的觸媒性能/全新品時的觸媒性能)的關係。在實施例13中，完工洗淨液採用了將磺胺酸調製成0.5mol/l的洗淨液。另外，在實施例13中，藥液採用了與實施例10同樣的藥液。在實施例14中，完工洗淨液採用了將磺胺酸調製成1mol/l的洗淨液。另外，在實施例14中，使用了以作為無機酸的磺胺酸5.3質量%、作為界面活性劑的磷酸酯0.075質量%、作為氟化合物的氟化氫銨的氟化氫成分為1.5質量%的比例混合而成的藥液。
將測量結果表示於圖14A及14B。圖14A表示實施例13重覆使用洗淨液2次與8次時的觸媒性能恢復率，並將以水作為完工洗淨液的情況定為1。圖14B表示實施例13及實施例14重覆使用洗淨液1次與5次時的脫硝觸
媒的觸媒性能恢復率。如圖14A所示般，可知含有磺胺酸的實施例13，與只以水作為完工洗淨液的情況相比，即使重覆使用洗淨液2次，也能夠維持脫硝觸媒性能恢復率高達15%以上，重覆使用洗淨液8次，也能夠維持脫硝觸媒性能恢復率高達10%以上。另外，如圖14B所示般，可知含有磺胺酸1mol/l的實施例14，即使重覆使用洗淨液5次，也能夠維持與實施例13相同程度的觸媒性能恢復率。由結果可知，完工洗淨液中的磺胺酸的濃度只要至少為0.5mol，則即使重覆使用洗淨液，也能夠使脫硝觸媒維持高觸媒性能恢復率。
接下來，以實驗室規模，使用改變界面活性劑的多種藥液(洗淨劑)實施脫硝觸媒的再生方法，測量使用各藥液的情況下的脫硝觸媒的抗壓強度與性能恢復率。脫硝觸媒是以在實際發電廠50,000小時脫硝處理後的脫硝觸媒作為待測試樣。另外，脫硝觸媒是設定為以二氧化鈦(TiO2)為主成分，並在其上擔持五氧化釩(V2O5)與氧化鎢(WO3)的蜂巢觸媒。
在實施例15中，使用了以磺胺酸3.2質量%、作為非離子系界面活性劑且以聚氧乙烯聚氧丙二醇為主成分的市售界面活性劑A 0.05質量%、氟化氫銨的氟化氫成分成為
1.75質量%的比例混合而成的藥液。在實施例16中，使用了以鹽酸2.4質量%、硼酸0.15質量%、作為非離子系界面活性劑的界面活性劑A 0.05質量%、氟化氫銨的氟化氫成分成為1.26質量%的比例混合而成的藥液。在實施例17中，使用了以鹽酸2.4質量%、硼酸0.15質量%、作為非離子系界面活性劑且以聚烷二醇衍生物為主成分的市售界面活性劑B 0.05質量%、氟化氫銨的氟化氫成分成為1.26質量%的比例混合而成的藥液。在實施例18中，使用了以鹽酸2.4質量%、硼酸0.15質量%、作為陰離子系界面活性劑且以聚氧乙烯烷基(C8)醚磷酸酯.單乙醇胺鹽為主成分的市售界面活性劑C 0.05質量%、氟化氫銨的氟化氫成分成為1.26質量%的比例混合而成的藥液。
在比較例3中，使用了以磺胺酸3.2質量%、氟化氫銨的氟化氫成分成為1.75質量%的比例混合而成的藥液。在比較例4中，使用了以鹽酸2.4質量%、硼酸0.15質量%、氟化氫銨的氟化氫成分成為1.26質量%的比例混合而成的藥液。
使用管式流動反應測試裝置，以下述表1所揭示的性質的氣體測量各觸媒的觸媒性能。
[表1]
首先，藉由上述觸媒性能的測量，求得未實際使用的脫硝觸媒(全新品時的脫硝觸媒)的反應速率常數K0。接下來使用各例的洗淨液，對於因為脫硝處理觸媒性能降低的各觸媒進行洗淨處理。洗淨處理是將各觸媒預洗3分鐘，然後在洗淨液中浸漬60分鐘，進行藥洗。然後，將藥洗後的各觸媒完工水洗30分鐘，並使其在110℃下乾燥一晚。藉由與上述觸媒性能的測量同樣的方法，對於乾燥後的再生處理後的各觸媒求得反應速率常數K。然後，與實施例1至15同樣地，對於各觸媒求得觸媒性能恢復率(再生處理後的觸媒性能/全新品時的觸媒性能：K/K0)。
藉由木屋式硬度計，依照下述表2的要領，對於洗淨處理後的各觸媒測量抗壓強度。如表2所示般，觸媒的壁方向抗壓強度的值是分別準備5個同樣的觸媒，測量抗壓強度，並取其平均值(N/cm2)。觸媒的壁方向抗壓強
度，是設定為由蜂巢狀觸媒中沒有流通孔的壁面側壓縮的強度。
將測量結果揭示於下述表3。另外，表中揭示了實施上述洗淨處理前的使用過後的觸媒(未洗淨的觸媒)的壁方向抗壓強度及觸媒性能恢復率作為參考例。
[表3]
如表3所示般，可知含有非離子系界面活性劑的界面活性劑A的實施例15，壁方向抗壓強度為109.2N/cm2，相對於未洗淨的觸媒為74%左右，能夠抑制降低。另外可知，在實施例15中，相對於全新品脫硝觸媒，觸媒性能可恢復至98%左右。另一方面，可知不含界面活性劑的比較例3，壁方向抗壓強度為75.1N/cm2，相對於未洗淨的觸媒，降低至51%左右。另外可知，在比較例3中，相對於全新品脫硝觸媒，觸媒性能降低至81%左右。所以可知，含有非離子系界面活性劑的界面活性劑A的實施例15，與比較例3相比，較能夠改善壁方向抗壓強度降低，而且還能夠提高觸媒性能恢復率。另外可知，含有非離子系界面活性劑的界面活性劑A的實施例16，壁方向抗壓強度為114.4N/cm2，相對於未洗淨的觸媒為77%左右，能夠抑制降低。另一方面可知，含有作為無機
酸的鹽酸而且不含界面活性劑的比較例3，壁方向抗壓強度為94.6N/cm2，相對於未洗淨的觸媒，降低至64%左右。所以可知，含有非離子系界面活性劑的界面活性劑A的實施例15及16，雖然含有同樣的無機酸與氟化合物，然而與不含界面活性劑的比較例3及比較例4相比，較能夠改善壁方向抗壓強度降低。
另外可知，含有非離子系界面活性劑的界面活性劑B的實施例17，壁方向抗壓強度為136.6N/cm2，相對於未洗淨的觸媒，壁方向抗壓強度為92%左右，能夠抑制降低。另外可知，在實施例17中，相對於全新品脫硝觸媒，觸媒性能可恢復至108%左右。所以可知，含有非離子系界面活性劑的界面活性劑B的實施例17，與比較例3及比較例4相比，較能夠改善壁方向抗壓強度降低，而且還能夠提高觸媒性能恢復率。
可知含有陰離子系界面活性劑的界面活性劑C的實施例18，壁方向抗壓強度為122.4N/cm2，相對於未洗淨的觸媒為83%左右，能夠抑制降低。所以可知，含有陰離子系界面活性劑的界面活性劑C的實施例18，與比較例3及4相比，較能夠改善壁方向抗壓強度降低。
接下來，使用相同的藥液與相同的完工洗淨液，重覆實施脫硝觸媒之再生方法，測量洗淨液使用次數與脫硝觸媒的觸媒性能恢復率(K/K0)的關係。在實施例19中，
完工洗淨液採用與實施例14同樣的完工洗淨液，並使用與實施例15同樣的藥液。
將測量結果表示於圖15A及15B。圖15A表示實施例19的洗淨液使用1次與重覆使用5次時的脫硝觸媒的觸媒性能恢復率，並將以水作為完工洗淨液的情況定為1。圖15B表示實施例19的洗淨液使用次數與脫硝觸媒的觸媒性能恢復率的關係。如圖15A所示般，可知含有磺胺酸的實施例19，與只以水作為完工洗淨液的情況相比，即使重覆使用洗淨液5次，也能夠提高脫硝觸媒的觸媒性能恢復率5%以上。另外，如圖15B所示般，可知測定數值雖然有誤差，然而即使重覆使用洗淨液3次，也能夠使脫硝觸媒維持高達90%以上的觸媒性能恢復率，即使重覆使用洗淨液6次，也能夠使脫硝觸媒維持高達90%左右的觸媒性能恢復率。
只要利用本發明所關連的脫硝觸媒之再生方法及脫硝觸媒之再生系統以及脫硝觸媒的洗淨液，即可有效除去附著在觸媒表面的附著物、大幅恢復觸媒性能，且可抑制抗壓強度降低。
Claims (12)
- 一種脫硝觸媒之再生方法，其係包括：將脫硝觸媒水洗之預洗步驟；將水洗後的前述脫硝觸媒浸漬於含無機酸與氟化合物的藥液之藥液洗淨步驟；由前述藥液取出前述脫硝觸媒的步驟；及以水或含磺胺酸的水作為完工洗淨液清洗由前述藥液取出的前述脫硝觸媒的完工清洗步驟，前述無機酸含有鹽酸、鹽酸及硼酸、或磺胺酸。
- 如申請專利範圍第1項之脫硝觸媒之再生方法，其中前述藥液進一步含有界面活性劑，前述界面活性劑為非離子系界面活性劑或陰離子系界面活性劑。
- 如申請專利範圍第2項之脫硝觸媒之再生方法，其中前述非離子系界面活性劑為以聚氧乙烯聚氧丙二醇、聚氧乙烯衍生物或聚烷二醇衍生物為主成分的界面活性劑。
- 如申請專利範圍第2項之脫硝觸媒之再生方法，其中前述陰離子系界面活性劑為以聚氧化烯烷基醚磷酸酯為主成分的界面活性劑。
- 如申請專利範圍第1~4項中任一項之脫硝觸媒之再生方法，其中使前述脫硝觸媒再生後的表面二氧化矽濃度成為6質量%以下。
- 如申請專利範圍第1~4項中任一項之脫硝觸媒之再生方法，其中在前述預洗步驟中，將前述脫硝觸媒浸漬於水槽內的水中，使前述水槽密閉，並吸取前述水槽內的空氣。
- 如申請專利範圍第1~4項中任一項之脫硝觸媒之再生方法，其中在前述藥液洗淨步驟中重覆使用前述藥液。
- 一種脫硝觸媒的再生系統，其係具備：將脫硝觸媒水洗之預洗部；將水洗後的前述脫硝觸媒浸漬於含有前述無機酸為含有鹽酸、鹽酸及硼酸、或磺胺酸的無機酸與氟化合物的藥液之藥液洗淨部；及以水或含磺胺酸的水作為完工洗淨液，將由前述藥液取出的前述脫硝觸媒完工清洗之完工清洗部。
- 一種洗淨劑，其係將燃煤鍋爐用的劣化脫硝觸媒洗淨之洗淨劑，並且含有含無機酸與氟化合物之水溶液，而前述無機酸含有鹽酸、鹽酸及硼酸、或磺胺酸。
- 如申請專利範圍第9項之洗淨劑，其中進一步含有界面活性劑，前述界面活性劑為非離子系界面活性劑或陰離子系界面活性劑。
- 如申請專利範圍第10項之洗淨劑，其中前述非離子系界面活性劑為以聚氧乙烯聚氧丙二醇、聚氧乙烯衍生物或聚烷二醇衍生物為主成分的界面活性劑。
- 如申請專利範圍第10項之洗淨劑，其中前述陰離子系界面活性劑為以聚氧化烯烷基醚磷酸酯為主成分的界面活性劑。
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