TWI617955B - Ultra-fine copper mesh wire of display and touch panel and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種顯示器與觸控面板的超細銅質網線，包括一透明基板，具有一上表面及相對於上表面之一下表面；以及一第一銅質電極層，包括：一第一純銅鍍膜，具有一頂面及相對於頂面之一底面，第一純銅鍍膜的底面是配置於透明基板的上表面上；以及一第一抗反射導電薄膜，配置於第一純銅鍍膜的頂面上，第一抗反射導電薄膜包括氧化亞銅。於第一抗反射導電薄膜進行一曝光顯影製程之後，第一銅質電極層的第一純銅鍍膜及第一抗反射導電薄膜同時藉由一過蝕刻製程而於透明基板上一併形成至少一網線圖案。

Description

顯示器與觸控面板的超細銅質網線及其製造方法
本發明涉及一種銅質網線，尤指一種兼具高透光、低反射特性而可應用於顯示器與觸控面板領域的超細銅質網線。
於西元1960年代，美商RCA公司(Radio Corporation of America Corporation)的Heilmeier等人開發出了液晶顯示器，開創了數位化顯示的新紀元，由於液晶顯示器具有輕薄、便攜、低功耗等優點，故隨著各類數位電子產品的蓬勃發展而被一併地大量製造。到了西元1970年代，人們發展出了可以判斷位置的觸控技術，讓人們可以藉由按壓位置來輸入特定資訊；請參閱美國專利證字第US3662105號的Electrical sensor of plane coordinates，其揭示了透過交錯配置兩個呈相互垂直方向的電場，可在觸控感應時藉由交錯位置的訊號差異辨識出觸控所指的位置，藉由以達到觸控的效果；此後，隨著顯示與觸控技術的進步，人們發覺可借助液晶顯示器之輕薄的特點將其與觸控技術作結合；尤其於西元1994年時，美商IBM(International Business Machines Corporation)發表了具有觸控顯示螢幕的手機，進一步帶動了具觸控功能的顯示面板於各類可攜式電子產品中的發展。
然而，習知技術之觸控顯示螢幕，其顯示器模組(LCM)或觸控面板(TP)所採用的不透明電極將影響整體透明出光的開口率(Aperture Ratio)，使其達成所需照度的功率難以降低；並且，其電極的線徑寬度與從事半導體生產製造的黃光微影製程(Lithography)有關係，由於線徑寬度越小所需的曝光光源與模具等裝置之精密度越高，故生產設備與成本越高，且越精密所相差的成本級距越高，對於生產製造觸控顯示螢幕的業者而言必須於開口率及生產製造成本中取一平衡；另一方面，不透明電極的材料一般為金屬材料所構成，其對於自然光線具有相當程度的反射率，尤其是在 其線徑寬度不夠小及/或於大角度視角使用時，容易造成使用前述之觸控顯示螢幕時受到不透明電極的反光影響觀賞及觸控操作上的舒適度。
因此，提出一超細銅質網線，其透過低成本的製造方式而獲致與高成本之生產品質相同的線徑寬度，且其具有防止反射自然光線於人眼的功能，實為目前各界亟欲解決之技術問題。
鑒於前述之習知技術的缺點，本發明之主要目的係提供一種顯示器與觸控面板的超細銅質網線及其製造方法，其透過低成本的製造方式而獲致與高成本之生產品質相同的線徑寬度，且其具有防止反射自然光線於人眼的功能，以達到兼顧低成本與高生產品質，且提升使用舒適度之目的。
為了達到前述目的及其他目的，本發明之顯示器與觸控面板的超細銅質網線包括：一透明基板，係具有一上表面及相對於該上表面之一下表面；以及一第一銅質電極層，係包括：一第一純銅鍍膜，係具有一頂面及相對於該頂面之一底面，其中，該第一純銅鍍膜的該底面是配置於該透明基板的該上表面上；以及一第一抗反射導電薄膜，係配置於該第一純銅鍍膜的該頂面上，其中，該第一抗反射導電薄膜包括氧化亞銅；其中，於該第一抗反射導電薄膜進行一曝光顯影製程之後，該第一銅質電極層的該第一純銅鍍膜及該第一抗反射導電薄膜同時藉由一過蝕刻製程而於該透明基板上一併形成至少一網線圖案。
較佳地，該第一抗反射導電薄膜是在該第一純銅鍍膜表面上形成一氧化層，並藉由一表面處理去除該氧化層中氧化亞銅以外之物質而形成。
較佳地，該第一銅質電極層復包括一氧化銅複合物薄膜，該氧化銅複合物薄膜包括氧化銅與氧化亞銅，且配置於該第一純銅鍍膜的該底面與該透明基板的該上表面之間，以及該氧化銅複合物薄膜、該第一純銅鍍膜及該第一抗反射導電薄膜同時藉由該過蝕刻製程而於該透明基板上一併形成該網線圖案。
較佳地，復包括一第二銅質電極層，該第二銅質電極層係包括：一第二純銅鍍膜及一第二抗反射導電薄膜，其中，該第二純銅鍍膜具有一頂面及相對於該頂面之一底面，該第二純銅鍍膜的該底面是配置於該透明基板的該下表面上；該第二抗反射導電薄膜是配置於該第二純銅鍍膜的頂面上，並包括氧化亞銅，且與該第二純銅鍍膜電性連接，其中，該第一銅質電極層的該第一純銅鍍膜、該第一抗反射導電薄膜及該第二銅質電極層的該第二純銅鍍膜、該第二抗反射導電薄膜同時藉由該過蝕刻製程而於該透明基板上一併形成該網線圖案。
較佳地，該透明基板包括玻璃、聚對苯二甲酸乙二酯(Polyethylene terephthalate,PET)、聚碳酸酯(Polycarbonate,PC)、聚酸甲酯(Polymethylmethacrylate,PMMA)、藍寶石(Sapphire)、三醋酸纖維素(Tri-cellulose Acetate,TCA)、環烯烴聚合物(Cyclo Olefin Copolymer,COC)、聚亞醯胺(Polyimide,PI)之其中一者。
較佳地，該純銅鍍膜是藉由蒸鍍法、濺鍍法、濺鍍後電鍍之其中一者而沉積於該透明基板上。
為了達到前述目的及其他目的，本發明之顯示器與觸控面板的超細銅質網線的製造方法包括：一純銅鍍膜步驟，係於一透明基板上鍍上一純銅鍍膜；一純銅氧化步驟，係使該純銅鍍膜的表面上形成一氧化層；一表面處理步驟，係將該氧化層進行一表面處理以去除該氧化層中氧化亞銅以外物質，而形成一抗反射導電薄膜；一曝光顯影步驟，係於該抗反射導電薄膜上塗佈一光阻(PR)，且對該光阻(PR)曝光顯影，以形成一網線圖案；一過度蝕刻步驟，係藉由一過蝕刻製程使該純銅鍍膜及該抗反射導電薄膜於該透明基板上一併形成該網線圖案；以及一光阻(PR)去除步驟，係將該抗反射導電薄膜上的該光阻(PR)去除。
較佳地，在該純銅鍍膜步驟中，於該透明基板上的相對兩表面上分別鍍上該純銅鍍膜，且兩表面上之該純銅鍍膜同時進行該純銅氧化步驟、該表面處理步驟、該曝光顯影步驟、該過度蝕刻步驟及該光阻(PR)去除步驟。
較佳地，復包括一接面氧化步驟，係在該純銅鍍膜步驟之前，於該純銅鍍膜與該透明基板之間配置一氧化銅複合物薄膜。
較佳地，該透明基板包括玻璃、聚對苯二甲酸乙二酯(Polyethylene terephthalate,PET)、聚碳酸酯(Polycarbonate,PC)、聚酸甲酯(Polymethylmethacrylate,PMMA)、藍寶石(Sapphire)、三醋酸纖維素(Tri-cellulose Acetate,TCA)、環烯烴聚合物(Cyclo Olefin Copolymer,COC)、聚亞醯胺(Polyimide,PI)之其中一者。
本發明之超細銅質網線的該第一銅質電極層是透過該過蝕刻製成而形成於該透明基板上，由於該過蝕刻製程可獲得較曝光顯影時較細且較薄的網線圖案，而不受限於該曝光顯應製程時之光罩的特徵尺寸(feature size)，因此可使用成本較低廉的曝光顯影製程而獲得與高成本曝光顯影製程相同生產品質的線徑寬度；另一方面，由於該第一純銅鍍膜的頂面上配置有該第一抗反射導電薄膜，其具有導電性且具有防止反射自然光線於人眼的功能；藉此，本發明之超細銅質網線可應用於顯示器與觸控面板，以達到藉由低成本獲得與高成本相同之生產品質，且降低使用時之反光而提升使用舒適度之目的。
20‧‧‧透明基板
30‧‧‧第一銅質電極層
31‧‧‧第一純銅鍍膜
31’‧‧‧氧化層
32‧‧‧第一抗反射導電膜薄膜
40‧‧‧氧化銅複合物薄膜
圖1與圖2係依據本發明之顯示器與觸控面板的超細銅質網線的第一實施例，顯示超細銅質網線的製造流程示意圖；圖3與圖4係依據本發明之顯示器與觸控面板的超細銅質網線的第二實施例，顯示超細銅質網線的製造流程示意圖；以及圖5與圖6係依據本發明之顯示器與觸控面板的超細銅質網線的第三實施例，顯示超細銅質網線的製造流程示意圖。
以下係藉由特定的具體實施例說明本發明之實施方式，熟悉此技藝之人士可由本說明書所揭示之內容輕易地瞭解本發明之其他優點及功效。本發明亦可藉由其他不同的具體實例加以施行或應用，本發明說明書中的各項細節亦可基於不同觀點與應用在不悖離本發明之精神下進行各種修飾與變更。
須知，本說明書所附圖式繪示之結構、比例、大小等，均僅用以配合說明書所揭示之內容，以供熟悉此技藝之人士瞭解與閱讀，並非用以限定本發明可實施之限定條件，故不具技術上之實質意義，任何結構之修飾、比例關係之改變或大小之調整，在不影響本發明所能產生之功效及所能達成之目的下，均應落在本發明所揭示之技術內容得能涵蓋之範圍內。
以下依據本發明的一實施例，描述一顯示器與觸控面板的超細銅質網線。
請參閱圖1至圖2所示，為本發明之顯示器與觸控面板的超細銅質網線的第一實施例，係包括：一透明基板20及一第一銅質電極層30。其中，透明基板20具有一上表面及相對於上表面之一下表面。依據本發明之第一實施例所述，透明基板20包括玻璃、聚對苯二甲酸乙二酯(Polyethylene terephthalate,PET)、聚碳酸酯(Polycarbonate,PC)、聚酸甲酯(Polymethylmethacrylate,PMMA)、藍寶石(Sapphire)、三醋酸纖維素(Tri-cellulose Acetate,TCA)、環烯烴聚合物(Cyclo Olefin Copolymer,COC)、聚亞醯胺(Polyimide,PI)之其中一者，是藉由以兼顧超細銅質網線的機械強度並維持其透光度，而可應用於顯示器與觸控面板上。
第一銅質電極層30包括：一第一純銅鍍膜31及一第一抗反射導電薄膜32，其中，第一純銅鍍膜31具有一頂面及相對於頂面之一底面，第一純銅鍍膜31的底面是配置於透明基板20的上表面上。依據本發明之第一實施例所述，第一純銅鍍膜31可藉由蒸鍍法(如坩堝蒸鍍、離子束蒸鍍、雷射蒸鍍等)、濺鍍法(離子束濺鍍、磁控濺鍍等)之其中一者而沉積於透明基板20上，用以於蝕刻後形成以銅(Cu)為基材之金屬網線(Metal Mesh)。此外，亦可透過濺鍍一層銅晶種後再進行電鍍。換言之，純銅箔膜之各種製程皆可採用。
第一抗反射導電薄膜32配置於第一純銅鍍膜31的頂面上，其中，第一抗反射導電薄膜32包括氧化亞銅(Cu2O)，且與第一純銅鍍膜31構成電性連接。依據本發明之第一實施例所述，第一抗反射導電薄膜32是在第一純銅鍍膜31表面上形成一氧化層31’，並藉由一表面處理去除氧化層31’中氧化亞銅(Cu2O)以外之物質而形成，在一般大氣環境中，純銅表面容易與大氣中的氧氣(O2)進行反應而生成多種銅氧化合物，如氧化銅 (CuO)、氧化亞銅(Cu2O)、過氧化銅(CuO2)等，其中尤以氧化銅(CuO)、氧化亞銅(Cu2O)為多數；在一般大氣環境中，純銅(Cu)遇到氧氣(O2)會先氧化為紅褐色且具有導電性的氧化亞銅(Cu2O)，此時分子中的銅為一價銅(Cu+)，如氧化亞銅(Cu2O)繼續處於潮濕的含氧環境中，會慢慢轉變為黑色且不具有導電性的氧化銅(CuO)，此時分子中的銅為二價銅(Cu2+)，無論是黑色的氧化銅(CuO)或紅褐色的氧化亞銅(Cu2O)其對自然光線的反射率皆較第一純銅鍍膜31表面來得低，因此皆具有抗反射之效果。然而，在同時混有氧化銅(CuO)與氧化亞銅(Cu2O)的情況下，將影響抗反射導電薄膜的導電性能，故於本發明之第一實施例中，是透過前述之表面處理以選擇性地去除第一純銅鍍膜31表面氧化層31’中之不具有導電性的的氧化銅(CuO)，而保留具有導電性的氧化亞銅(Cu2O)，以保障第一抗反射導電薄膜32具有較佳的導電性能。
在製造前述之本發明的第一實施例時，包括下列步驟：一純銅鍍膜步驟(步驟S1)，係於一透明基板上鍍上第一純銅鍍膜31；一純銅氧化步驟(步驟S2)，係使第一純銅鍍膜31的表面上形成一氧化層；一表面處理步驟(步驟S3)，係將氧化層進行一表面處理以去除氧化層中氧化亞銅以外物質，而形成第一抗反射導電薄膜32；一曝光顯影步驟(步驟S4)，係於第一抗反射導電薄膜32上塗佈一光阻(PR)，且對光阻(PR)曝光顯影，以形成一網線圖案；一過蝕刻步驟(步驟S5)，係藉由一過蝕刻製程使第一純銅鍍膜31及第一抗反射導電薄膜32於透明基板上一併形成網線圖案；以及一光阻(PR)去除步驟(步驟S6)，係將抗反射導電薄膜上的光阻(PR)去除。
請參閱圖3至圖4所示，為本發明之顯示器與觸控面板的超細銅質網線的第二實施例，其與前述之第一實施例大致相同，復包括一接面氧化步驟(步驟S7)，係在純銅鍍膜步驟之前，於第一純銅鍍膜31與透明基板20之間配置氧化銅複合物薄膜40。依據本發明之第二實施例所述，氧化銅複合物薄膜40包括氧化銅(CuO)與氧化亞銅(Cu2O)，且配置於第一純銅鍍膜31的底面與透明基板20的上表面之間，以及氧化銅複合物薄膜40、第一純銅鍍膜31及第一抗反射導電薄膜32同時透過過蝕刻製程而於透明基板20上一併形成網線圖案(步驟S5’)。在本發明之第二實施例中，氧化銅複合物薄膜40可藉由蒸鍍或濺鍍純銅(Cu)時，通入氧氣(O2)及/或高頻電 壓之氧電漿所構成。
請參閱圖5至圖6所示，為本發明之顯示器與觸控面板的超細銅質網線的第三實施例，其與前述之第一實施例大致相同，唯純銅鍍膜步驟(步驟S1)中，是於透明基板20上的上表面及下表面分別鍍上第一純銅鍍膜31(步驟S1’)，且上下表面的第一純銅鍍膜31同時進行純銅氧化步驟(步驟S2’)、表面處理步驟(步驟S3’)、曝光顯影步驟(步驟S4’)、過蝕刻步驟(步驟S5”)及光阻(PR)去除步驟(步驟S6’)，而最後使得透明基板20的相對兩面皆形成一網線圖案，而一次構成兩個金屬網線(Metal Mesh)電極。
本發明之超細銅質網線的該第一銅質電極層30是透過過蝕刻製成而形成於透明基板20上，由於過蝕刻製程可獲得較曝光顯影時較細且較薄的網線圖案，而不受限於曝光顯應製程時之光罩的特徵尺寸(feature size)；例如，可以使用特徵尺寸為5微米的曝光顯影製程，藉由過蝕刻製程而可達到特徵尺寸為3微米的線徑寬度；因此可使用成本較低廉的曝光顯影製程而獲得與高成本曝光顯影製程相同生產品質的線徑寬度；另一方面，由於第一純銅鍍膜31的頂面上配置有第一抗反射導電薄膜32，其具有導電性且具有防止反射自然光線於人眼的功能；藉此，本發明之超細銅質網線可應用於顯示器與觸控面板，以達到藉由低成本獲得與高成本相同之生產品質，且降低使用時之反光而提升使用舒適度之目的。總括來說，本發明之超細銅質網線的線徑寬度介於0.5微米至20微米之間。
儘管已參考本申請的許多說明性實施例描述了實施方式，但應瞭解的是，本領域技術人員能夠想到多種其他改變及實施例，這些改變及實施例將落入本公開原理的精神與範圍內。尤其是，在本公開、圖式以及所附申請專利範圍的範圍內，對主題結合配置的組成部分及/或配置可作出各種變化與修飾。除對組成部分及/或配置做出的變化與修飾之外，可替代的用途對本領域技術人員而言將是顯而易見的。

Claims (9)

  1. 一種顯示器與觸控面板的超細銅質網線的製造方法，係包括：一純銅鍍膜步驟，係於一透明基板的相對兩表面上鍍上一純銅鍍膜；一純銅氧化步驟，係同時使該透明基板的相對兩表面上的該純銅鍍膜的表面上同時形成一氧化層，該氧化層包含氧化銅與氧化亞銅；一表面處理步驟，係同時將該透明基板的相對兩表面上的該純銅鍍膜的表面的該氧化層進行一表面處理以去除該氧化層中氧化銅，而形成只有氧化亞銅之一抗反射導電薄膜；一曝光顯影步驟，係同時於該抗反射導電薄膜上塗佈一光阻(PR)，且對該光阻(PR)曝光顯影，以形成一網線圖案；一過蝕刻步驟，係同時藉由一過蝕刻製程使該純銅鍍膜及該抗反射導電薄膜於該透明基板上一併形成該網線圖案；以及一光阻(PR)去除步驟，係同時將該抗反射導電薄膜上的該光阻(PR)去除。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之顯示器與觸控面板的超細銅質網線的製造方法，復包括一接面氧化步驟，係在該純銅鍍膜步驟之前，於該純銅鍍膜與該透明基板之間配置一氧化銅複合物薄膜。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之顯示器與觸控面板的超細銅質網線的製造方法，其中，該透明基板包括玻璃、聚對苯二甲酸乙二酯(Polyethylene terephthalate,PET)、聚碳酸酯(Polycarbonate,PC)、聚酸甲酯(Polymethylmethacrylate,PMMA)、藍寶石(Sapphire)、三醋酸纖維素(Tri-cellulose Acetate,TCA)、環烯烴聚合物(Cyclo Olefin Copolymer,COC)、聚亞醯胺(Polyimide,PI)之其中一者。
  4. 一種顯示器與觸控面板的超細銅質網線，係包括：一透明基板，係具有一上表面及相對於該上表面之一下表面；以及一第一銅質電極層，係包括： 一第一純銅鍍膜，係具有一頂面及相對於該頂面之一底面，其中，該第一純銅鍍膜的該底面是配置於該透明基板的該上表面上；以及一第一抗反射導電薄膜，係配置於該第一純銅鍍膜的該頂面上，其中，該第一抗反射導電薄膜是在該第一純銅鍍膜表面上形成一氧化層，該氧化層包含氧化銅與氧化亞銅，並藉由一表面處理去除該氧化層中氧化銅而形成只有氧化亞銅之該第一抗反射導電薄膜；其中，於該第一抗反射導電薄膜進行一曝光顯影製程之後，該第一銅質電極層的該第一純銅鍍膜及該第一抗反射導電薄膜同時藉由一過蝕刻製程而於該透明基板上一併形成至少一網線圖案。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之顯示器與觸控面板的超細銅質網線，其中，該第一銅質電極層復包括一第一氧化銅複合物薄膜，該第一氧化銅複合物薄膜包括氧化銅與氧化亞銅，且配置於該第一純銅鍍膜的該底面與該透明基板的該上表面之間，以及該第一氧化銅複合物薄膜、該第一純銅鍍膜及該第一抗反射導電薄膜同時藉由該過蝕刻製程而於該透明基板上一併形成該網線圖案。
  6. 如申請專利範圍第4項所述之顯示器與觸控面板的超細銅質網線，復包括一第二銅質電極層，該第二銅質電極層係包括：一第二純銅鍍膜及一第二抗反射導電薄膜，其中，該第二純銅鍍膜具有一頂面及相對於該頂面之一底面，該第二純銅鍍膜的該底面是配置於該透明基板的該下表面上；該第二抗反射導電薄膜是配置於該第二純銅鍍膜的頂面上，並包括氧化亞銅，且與該第二純銅鍍膜電性連接，其中，該第一銅質電極層的該第一純銅鍍膜、該第一抗反射導電薄膜及該第二銅質電極層的該第二純銅鍍膜、該第二抗反射導電薄膜同時藉由該曝光顯影製程與該過蝕刻製程而於該透明基板上一併形成該網線圖案。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之顯示器與觸控面板的超細銅質網線，其中，該第二銅質電極層復包括一第二氧化銅複合物薄膜，該第二氧化 銅複合物薄膜包括氧化銅與氧化亞銅，且配置於該第二純銅鍍膜的該底面與該透明基板的該上表面之間，其中，該第一銅質電極層的該第一純銅鍍膜、第一氧化銅複合物薄膜、第一抗反射導電薄膜及該第二銅質電極層的該第二純銅鍍膜、第二氧化銅複合物薄膜、該第二抗反射導電薄膜同時藉由該曝光顯影製程與該過蝕刻製程而於該透明基板上一併形成該網線圖案。
  8. 如申請專利範圍第4項所述之顯示器與觸控面板的超細銅質網線，其中，該透明基板包括玻璃、聚對苯二甲酸乙二酯(Polyethylene terephthalate,PET)、聚碳酸酯(Polycarbonate,PC)、聚酸甲酯(Polymethylmethacrylate,PMMA)、藍寶石(Sapphire)、三醋酸纖維素(Tri-cellulose Acetate,TCA)、環烯烴聚合物(Cyclo Olefin Copolymer,COC)、聚亞醯胺(Polyimide,PI)之其中一者。
  9. 如申請專利範圍第4項所述之顯示器與觸控面板的超細銅質網線，其中該至少一網線圖案之線徑寬度介於0.5微米至20微米之間。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108287430A (zh) * 2018-02-05 2018-07-17 深圳市华星光电技术有限公司 阵列基板及其制备方法、液晶显示面板
KR102218695B1 (ko) * 2018-09-17 2021-02-19 동우 화인켐 주식회사 터치 센서 및 이의 제조 방법
CN109656099B (zh) * 2018-11-07 2020-07-10 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 减反阵列基板的制备方法及其制备的减反阵列基板
CN113064517A (zh) * 2021-03-31 2021-07-02 牧东光电科技有限公司 一种触摸屏铜制程方法及触摸屏

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201405749A (zh) * 2012-04-18 2014-02-01 Lg Chemical Ltd 導電結構體及其製備方法
TWM488050U (zh) * 2014-01-24 2014-10-11 Wintek Corp 觸控面板
TW201603127A (zh) * 2014-07-09 2016-01-16 Kingdom Co Ltd T 觸控用導電電極的製造方法及其構造
US20160044778A1 (en) * 2013-03-26 2016-02-11 Kaneka Corporation Conductive film substrate, transparent conductive film, and method for producing transparent conductive film

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3662105A (en) 1970-05-21 1972-05-09 Univ Kentucky Res Found Electrical sensor of plane coordinates
JPH05243219A (ja) * 1992-03-02 1993-09-21 Nec Corp 半導体装置の製造方法
KR20120138287A (ko) * 2011-06-14 2012-12-26 삼성전기주식회사 터치패널 및 그 제조방법
JP2014197163A (ja) * 2013-01-17 2014-10-16 株式会社ダイセル 半透明拡散型偏光積層体及びその用途
CN104559628A (zh) * 2013-10-15 2015-04-29 介面光电股份有限公司 黑化涂料及使用该黑化涂料的电极结构
EP3245668B1 (en) * 2015-01-13 2021-06-30 CMC Materials, Inc. Cleaning composition and method for cleaning semiconductor wafers after cmp
CN105302367B (zh) * 2015-10-08 2018-11-27 业成光电（深圳）有限公司 触控模组及应用该触控模组的触控显示装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201405749A (zh) * 2012-04-18 2014-02-01 Lg Chemical Ltd 導電結構體及其製備方法
US20160044778A1 (en) * 2013-03-26 2016-02-11 Kaneka Corporation Conductive film substrate, transparent conductive film, and method for producing transparent conductive film
TWM488050U (zh) * 2014-01-24 2014-10-11 Wintek Corp 觸控面板
TW201603127A (zh) * 2014-07-09 2016-01-16 Kingdom Co Ltd T 觸控用導電電極的製造方法及其構造

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