CN105807351B - 滤色片的制作方法、滤色片以及液晶显示装置 - Google Patents

Abstract

一种滤色片的制作方法、滤色片和液晶显示装置，所述滤色片的制作方法包括：在基板上形成第一金属网格层，所述第一金属网格层包括多个第一金属网格电极；在所述第一金属网格层上覆盖绝缘层；在所述绝缘层中形成凹槽；在所述凹槽中形成第二金属网格层，所述第二金属网格层包括多个第二金属网格电极，所述第二金属网格电极与所述第一金属网格电极用于构成进行触控检测的互电容，第一金属网格电极和第二金属网格电极的材料为金属，与ITO材料的触控检测电极相比阻抗较低，降低了触控检测的噪声，有利于提高触控监测的灵敏度，本发明滤色片的制作方法与现有滤色片的制作技术兼容性好，制作而成的滤色片良率较高，并且能降低滤色片的成本。

Description

滤色片的制作方法、滤色片以及液晶显示装置

技术领域

本发明涉及显示领域，具体涉及一种滤色片的制作方法、滤色片和液晶显示装置。

背景技术

液晶显示装置以体积小，重量轻，低辐射等优点广泛应用于各种领域。

液晶显示面板是液晶显示装置中最主要的组成部分。所述液晶显示面板包括阵列基板(即TFT基板)、与所述阵列基板相对的滤色片(CF基板)以及填充于阵列基板和滤色片之间的液晶。其中，所述阵列基板和滤色片上的电极通过控制液晶分子的偏转，以调节外界光的通过率，进而达到显示的目的。

参考图1，示出了现有技术一种滤色片的剖面示意图，所述滤色片包括：第一玻璃基板10、位于所述第一玻璃基板10上的黑色矩阵(Black Matrix，BM)层11、位于黑色矩阵之间的彩色光阻层(RGB层)12、覆盖在所述黑色矩阵和彩色光阻层12上的平坦层(OC层)13、设置于所述平坦层13上的间隔柱(Photo Spacer，PS)14。其中，彩色光阻层12包括：蓝色(B)光阻121、红色(R)光阻122和绿色(G)123，用于分别透过白光中的蓝光、红光和绿光。

参考图2，示出了现有技术一种液晶显示面板的剖面示意图，所述液晶显示面板的TFT基板包括：第二玻璃基板17、位于所述第二玻璃基板17上的电极层16，所述电极层16包括多条栅极线和多条数据线以及位于栅极线和数据线交界处的薄膜晶体管(Thin FilmTransistor，TFT)，栅极线和数据线围成一个子像素(Sub Pixel)，薄膜晶体管的栅极与所述栅极线相连，薄膜晶体管的源极与所述数据线相连，所述薄膜晶体管的漏极连接有像素电极。

滤色片上的B光阻121、R光阻122和G光阻123与TFT基板上的子像素一一对应，三个子像素构成一个像素18。TFT基板上像素电极和CF基板上公共电极之间形成的电场可以控制液晶分子15的翻转的角度，进而改变从B光阻121、R光阻122和G光阻123出射的不同色彩的光量，再基于加法混色原理使像素18可以得到丰富的色彩表现。

近年来，触控技术取得重大技术突破，并已广泛的应用于我们日常生活的各个领域，特别是应用在手机、平板电脑等手持式移动显示终端上。传统的，为了实现此类产品源源不断的小型轻量化要求，触控感应电极(TP Sensor)与液晶显示面板整合的技术始终是业内研发的重点。根据触控感应电极与液晶盒的相对位置，此技术又可分为In-cell、On-cell两种。In-cell技术是指至少有一层触控感应电极设在液晶盒内。现有技术有两种比较成熟的In-cell的技术方案，一种是两层触控感应电极均设置在TFT基板上，另一种是采用一层触控感应电极在滤色片上，一层触控感应电极在TFT基板上。相比而言，前者技术难度更高，特别是在信号处理方面难度较大，显示信号与触控信号互相影响，噪声较大，良率也较差。而后者由于两层触控感应电极设置在不同两块基板上，因此触控感应电极的驱动难度较高。此外，现有技术的触控感应电极的材料通常选用氧化铟锡(ITO)，ITO的透明度较高，有较好的视觉体验，也容易驱动，但是ITO的阻抗较大，因此触控信号的噪声较大，影响触控感应的反应速度。

为降低触控感应电极的阻抗，现有技术正在尝试采用金属网格电极替代ITO电极，作为触控感应电极。金属网格电极是由铜线、银线等金属线围绕而成的镂空图形，与ITO相比，金属线的阻抗较低，并且人眼能够通过金属网格电极的镂空区域观察到液晶显示装置像素形成的画面。通常在液晶显示装置中集成金属网格的触控感应电极的方法为：先在一基片的一个表面或正反两面压印形成金属网格的触控感应电极，再将形成有触控感应电极的基片压合于滤色片上，然后将滤色片与TFT基板真空贴合以形成液晶显示装置。这样形成滤色片的制程较为复杂，成本较高，与传统的滤色片生产工艺相比，增加了额外的压合基片的工艺，基片与滤色片的结合性不强，容易出现不良。

因此，业内一直在寻找一种噪声较低并且制作工艺较简单，良率较高的In-cell触控检测技术。

发明内容

本发明解决的问题是提供一种滤色片的制作方法、滤色片和液晶显示装置，制作集成有触控检测功能的滤色片，简化集成有触控检测功能的滤色片的制作工艺，提高滤色片的良率，并使滤色片以及设有滤色片液晶显示装置在进行触控感应时噪声较低，触控检测较为灵敏。

为解决上述问题，本发明提供一种滤色片的制作方法，包括：

提供基板；

在所述基板上形成第一金属网格层，所述第一金属网格层包括多个第一金属网格电极；

在所述第一金属网格层上覆盖绝缘层；

在所述绝缘层中形成凹槽；

在所述凹槽中形成第二金属网格层，所述第二金属网格层包括多个第二金属网格电极，所述第二金属网格电极与所述第一金属网格电极在垂直于基板的方向上具有重叠区域，用于构成进行触控检测的互电容；

在所述绝缘层和第二金属网格层上形成黑色矩阵和彩色光阻。

可选的，在所述基板上形成第一金属网格层的步骤包括：

在所述基板上形成第一导电材料层，对所述第一导电材料层进行光刻，去掉部分第一导电材料层至露出基板表面，以形成第一金属网格层。

可选的，在所述第一金属网格层上覆盖绝缘层的步骤包括：通过涂布的方法在所述第一金属网格层上形成绝缘层，涂布方式包括旋涂、狭缝式涂布，或者刮涂，所述绝缘层的厚度在5到15微米的范围内。

可选的，在所述绝缘层中形成凹槽的步骤包括：

对绝缘层进行曝光显影，去掉部分绝缘层，在绝缘层中形成凹槽，所述凹槽的深度在1到5微米的范围内，宽度在3到5微米的范围内。

可选的，在所述绝缘层的凹槽中形成第二金属网格层的步骤包括：

在所述绝缘层上涂布第二导电材料层，使第二导电材料层填充在绝缘层的凹槽中，所述凹槽中的第二导电材料层形成所述第二金属网格层，使所述第二金属网格层上表面与所述绝缘层的上表面齐平。

可选的，在所述绝缘层上涂布第二导电材料层之后，在所述绝缘层的凹槽中形成第二金属网格层的步骤还包括：对所述第二导电材料层进行固化处理。

可选的，在所述绝缘层上涂布第二导电材料层的方式包括：旋涂，或狭缝式涂布，或者刮涂。

可选的，在所述基板上形成第一金属网格层之前，在所述基板上形成防反射层，在所述基板上形成第一金属网格层的步骤包括：在所述防反射层上形成所述第一金属网格层。

可选的，在形成所述黑色矩阵和彩色光阻的步骤之后，所述形成方法还包括：

在所述黑色矩阵和彩色光阻上覆盖平坦层，所述绝缘层与所述平坦层的材料相同。

可选的，在所述彩色光阻和黑色矩阵上覆盖平坦层的步骤之后，所述形成方法还包括：

在所述平坦层上形成间隔柱；

或者，在所述平坦层上覆盖透明导电层，在所述透明导电层上形成间隔柱。

可选的，所述第一金属网格层和第二金属网格层的材料相同或不同，所述第一金属网格层和第二金属网格层的材料包括铜、银、铝、铌、钼中的一种或多种。

本发明还提供一种滤色片，包括：

基板；

位于所述基板上的第一金属网格层，所述第一金属网格层包括多个第一金属网格电极；

形成于所述第一金属网格层上的绝缘层；

形成于所述绝缘层中且与所述第一金属网格层相绝缘的第二金属网格层，所述第二金属网格层包括多个第二金属网格电极；所述第二金属网格电极与所述第一金属网格电极在垂直于基板的方向上具有重叠区域，用于构成进行触控检测的互电容；

位于所述绝缘层和第二金属网格层上的黑色矩阵和彩色光阻。

可选的，所述绝缘层采用涂布方式形成于第一金属网格层上，所述第二金属网格层上表面与所述绝缘层上表面齐平，所述第一金属网格层和第二金属网格层的材料相同或不同，所述第一金属网格层和第二金属网格层的材料包括铜、银、铝、铌、钼中的一种或多种。

可选的，所述第一金属网格电极、第二金属网格电极的网格呈多边形。

可选的，所述第一金属网格电极为沿第一方向延伸的条状电极，所述第二金属网格电极为沿第二方向延伸的条状电极，所述条状的第一金属网格电极与条状的第二金属网格电极相互交叉形成所述重叠区域；

或者，所述第一金属网格电极包括沿第一方向排布的多个第一子电极，所述多个第一子电极之间电连接，所述第二金属网格电极包括沿第二方向排布的多个第二子电极，所述多个第二子电极之间电连接，所述第一子电极与所述第二子电极在垂直于基板的方向上具有重叠区域。

可选的，所述第一金属网格层的厚度在1到5微米的范围内，所述绝缘层的厚度在5到15微米的范围内，所述第二金属网格层的厚度在1到5微米的范围内，所述第一金属网格电极和第二金属网格电极的网格线宽在3到5微米的范围内。

可选的，所述互电容通过一触控检测电路进行检测，所述滤色片还包括设置于所述基板上的多条第一引线，所述多条第一引线与多个第一金属网格电极对应连接，用于实现所述第一金属网格电极与所述触控检测电路的电连接；

所述滤色片还包括设置于所述基板上的多条第二引线，所述多条第二引线与多个第二金属网格电极对应连接，用于实现所述第二金属网格电极与所述触控检测电路的电连接。

可选的，所述基板与所述第一金属网格层之间还设有防反射层，所述防反射层的材料为金属氧化物。

可选的，在所述彩色光阻以及黑色矩阵上覆盖有平坦层，所述平坦层上设有间隔柱；

或者，在所述彩色光阻以及黑色矩阵上覆盖有依次形成的平坦层和透明导电层，所述透明导电层上设有间隔柱。

本发明还提供一种液晶显示装置，包括：

采用本发明提供的制作方法形成的滤色片；

与所述滤色片相对设置的阵列基板；

位于滤色片和阵列基板之间的液晶层；

触控检测电路，与所述多个第一金属网格电极和第二金属网格电极电连接，用于检测第一金属网格电极和第二金属网格电极重叠区域形成的互电容，以实现触控检测。

与现有技术相比，本发明的技术方案具有以下优点：在制作滤色片的过程中，在基板上形成第一金属网格层，所述第一金属网格层包括多个第一金属网格电极；在所述第一金属网格层上覆盖绝缘层；在所述绝缘层中形成凹槽；在所述凹槽中形成第二金属网格层，所述第二金属网格层包括多个第二金属网格电极，所述第二金属网格电极与所述第一金属网格电极在垂直于基板的方向上具有重叠区域，用于构成进行触控检测的互电容，在所述第二金属网格层和绝缘层上形成用于滤色的黑色矩阵和彩色光阻。本发明的制作方法形成的第一金属网格层和第二金属网格层用于触控检测，由于金属网格组成的第一金属网格电极和第二金属网格电极的材料为金属，与ITO材料的触控检测电极相比阻抗较低，进而降低了触控检测的噪声，有利于提高触控监测的灵敏度。在本发明的制作方法中，用于进行触控检测的第一金属网格电极和第二金属网格电极直接在基板上形成，生产工艺简单，与现有滤色片的制作技术兼容性好，制作而成的滤色片良率较高。

进一步可选的，在制作滤色片的过程中，通过涂布的方法在所述第一金属网格层上形成绝缘层，涂布方式包括旋涂、狭缝式涂布，或者刮涂。采用涂布的方式形成绝缘层具有平整的表面，不会在第一金属网格的网格线或引线所在位置上形成凸起，使得在接下来的在绝缘层上形成第二金属网格层的步骤能够顺利进行，并且所形成的第二金属网格层形貌较好，不容易产生缺陷。

附图说明

图1是现有技术一种滤色片的剖面示意图；

图2是现有技术一种液晶显示面板的剖面示意图；

图3是本发明滤色片的制作方法的流程示意图；

图4至图12是本发明滤色片的制作方法一实施例的示意图；

图13是本发明液晶显示装置一实施例的示意图。

具体实施方式

如背景技术所述，现有技术的触控感应电极的材料通常选用ITO，但是ITO的阻抗较大，因此噪声较大，影响触控感应的灵敏度；而金属网格的触控感应电极生产工艺较复杂，成本较高，良率较低。

为解决上述技术问题，本发明提供一种滤色片的制作方法，直接在基板上形成用于互电容触控检测的多个第一金属网格电极和第二金属网格电极，在所述第一金属网格电极和第二金属网格电极上方形成用于滤色的黑色矩阵和彩色光阻。本发明的制作方法中，用于触控检测的电极与现有滤色片的制作技术兼容性好，制作而成的滤色片良率较高，并且节省了滤色片的成本。由于金属网格组成的第一金属网格电极和第二金属网格电极的材料为金属，与ITO材料的触控检测电极相比阻抗较低，进而降低了触控检测的噪声，有利于提高触控检测的灵敏度。

请参考图3，图3为本发明所提供的滤色片的制作方法的流程示意图。本发明所提供的滤色片的制作方法包括以下基本步骤：

步骤S1：提供基板；

步骤S2：在所述基板上形成第一金属网格层，所述第一金属网格层包括多个第一金属网格电极；

步骤S3：在所述第一金属网格层上覆盖绝缘层；

步骤S4：在所述绝缘层中形成凹槽；

步骤S5：在所述凹槽中形成第二金属网格层，所述第二金属网格层包括多个第二金属网格电极，所述第二金属网格电极与所述第一金属网格电极在垂直于基板的方向上具有重叠区域，用于构成进行触控检测的互电容；

步骤S6：在所述绝缘层和第二金属网格层上形成黑色矩阵和彩色光阻。

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。

参考图4至图12，示出了本发明滤色片制作方法一实施例的示意图。

参考图4，执行步骤S1，提供基板100。在本实施例中，所述基板100为玻璃基板，但是本发明对所述基板100的材料不做限制，在其他实施例中，所述基板100还可以为透明塑料基板。

需要说明的是，在本实施例中，在提供基板100之后，在基板100上形成抗反射层101，所述抗反射层101采用金属氧化物形成，其作用在于在形成金属网格的触控检测电极之后，使触控检测电极反射光的光强减小，进而使触控检测电极不容易被肉眼看见，改善视觉体验。但是本发明对是否形成抗反射层101不做限制。

继续参考图4，执行步骤S2，在所述基板100上形成第一金属网格层102，所述第一金属网格层102包括多个第一金属网格电极。

具体地，在本实施例中，先在所述抗反射层101上形成第一导电材料层(未示出)。形成第一导电材料层的方法可以为物理气相沉积法，或者是测控溅射法，或是电镀，本发明对形成第一导电材料层的方法不做限制。

在本实施例中，所述第一导电材料层的材料是银，但是本发明对所述第一导电材料层的具体材料不做限制，在其他实施例中，所述第一导电材料层的材料可以是铜、银、铝、铌、钼中的一种或多种，

在本实施例中，形成第一导电材料层之后，在所述第一导电材料层上形成光刻胶，以一具有对应第一金属网格层图形的掩膜版对所述第一导电材料层进行光刻，去掉部分第一导电材料层至露出抗反射层101表面(当不形成抗反射层101时，露出基板100表面)，剩余的第一导电材料层形成第一金属网格层102。

在本实施例中，所述第一导电材料层的厚度在1到5微米的范围内，也就是说，第一金属网格层102的厚度在1到5微米的范围内。

请参考图5，图5示出了本实施例中，第一金属网格层102包括的多个第一金属网格电极201的立体示意图(为图示简洁，忽略了第一金属网格层102的厚度)。

参考图5，在本实施例中，所述多个第一金属网格电极201为多个沿基板100上的第一方向(图5中AA`线所示方向)延伸的条状电极，每个第一金属网格电极201均与第一引线202电连接，多条所述第一引线202与基板100上的触控检测电路(未示出)电连接，以为多个第一金属网格电极201提供驱动电压，并向触控检测电路输出触控信号。

需要说明的是，在本实施例中，所述条状的第一金属网格电极201平行排列，分别从基板100的一端延伸至另一端，但是本发明对第一金属网格电极201的形状不做限制，在其他实施例中，所述第一金属网格电极201还可以为其他形状。

请参考图6，图6出了本实施例中，第一金属网格层102包括的多个第一金属网格电极201在基板100上的局部放大图。

本实施例中，第一金属网格电极201由多个六边形的金属网格组成，每个金属网格是由网格线围成，在网格线围出的镂空区域露出所述抗反射层101。由于第一金属网格电极201的材料是银，与ITO相比，银的电阻率大大降低，因此第一金属网格电极201的阻抗远小于现有技术控检测电极的阻抗。

需要说明的是，本发明对第一金属网格电极201中网格的形状不做限制，在其他实施例中，所述网格的形状还可以为三角形、四边形、八边形等其他多边形。

由于本实施例中，第一金属网格层102为采用光刻工艺形成，所述网格线的线宽可以为光刻工艺的特征尺寸，即光刻所能够获得的最小线宽，根据曝光机的精度不同，所述网格线的最小线宽可以在3到5微米的范围内，与现有技术压印在基片上的金属网格相比，本发明采用光刻工艺形成的网格线更细，镂空区域占第一金属网格电极201的比例更大，使得肉眼更不容易察觉第一金属网格电极201，有利于改善视觉体验。

需要说明的是，在本实施例中，所述第一金属网格层102不仅包括多个第一金属网格电极201，还包括第一引线202，也就是说，所述第一引线202也是在步骤S2中对第一导电材料层光刻形成，在其他实施例中，所述第一金属网格层102还可以包括其他金属线路或对第一导电材料层光刻形成的辅助性器件。

参考图7，执行步骤S3，在所述第一金属网格层102上覆盖绝缘层103。在本实施例中，所述绝缘层103的材料为光阻性质材料，具体地，可以为传统滤色片生产工艺中的平坦层(OC)材料。所述平坦层(OC)材料通常为感光树脂材料，平坦层材料具有较好的绝缘性，能够使得第一金属网格层102与第二金属网格层之间不容易发生短路。在其他实施例中，所述绝缘层103的材料还可为其他光阻性质材料。

采用光阻性质材料的好处在于，在形成绝缘层103的步骤中，可以采用涂布的方法，在所述第一金属网格层102上形成绝缘层103。

在本实施例中，采用涂布的方法，在所述第一金属网格层102上形成绝缘层103，具体地，在旋涂设备中，将所述平坦层材料旋涂于第一金属网格层102上。采用涂布的方式形成绝缘层103具有平整的表面，不会在第一金属网格层102的网格线或引线所在位置上形成凸起，使得在接下来的在绝缘层103上形成第二金属网格层的步骤能够顺利进行，并且所形成的第二金属网格层形貌较好，不容易产生缺陷。在其他实施例中，所述涂布方式还可以为狭缝式涂布或刮涂等常见涂布方式。所述狭缝式涂布是将需要涂布的材料放置入相对设置且相对距离很小的两刮板之间的狭缝里，采用所述两个刮板在待涂布的物体表面上移动，将需要涂布的材料均匀的徒步在物体表面上。所述刮涂是将需要涂布的材料放置于待涂布的物体表面上，采用一刮板将所述需要涂布的材料在物体表面涂布均匀。

需要说明的是，在本实施例中，将所述平坦层材料旋涂于第一金属网格层102上之后，还对所述平坦层材料进行固化，可选的，可以采用烘烤的方式固化。固化后的平坦层材料形成绝缘层103。

还需要说明的是，当所述绝缘层103的厚度过小时，不利于第一金属网格电极和第二金属网格电极之间的相互绝缘，当所述绝缘层103的厚度过大时，生产成本较高，在本实施例中，可选的，所述绝缘层103的厚度在5到15微米的范围内。

但是本发明对绝缘层103的具体材料不做限制，对形成绝缘层103的方式也不做限制，在其他实施例中，所述绝缘层103的材料还可以为氧化硅或氮化硅，形成绝缘层103的方式还可以为化学气相沉积或物理气相沉积。

参考图8，执行步骤S4，在所述绝缘层103中形成凹槽104。

具体地，在本实施例中，采用具有对应第二金属网格层的图形的掩膜板(未示出)，对绝缘层103进行曝光工艺。

由于在本实施例中，所述绝缘层103采用了平坦层材料，所述平坦层材料是一种负性光阻材料，经过曝光工艺后，在掩膜板对应第二金属网格电极的图形下露出的绝缘层103发生反应，能够被显影液去除。

这样对绝缘层103进行显影，去除部分绝缘层103，在绝缘层103中形成对应第二金属网格层的凹槽104。

需要说明的是，在本实施例中，由于凹槽104为曝光显影工艺制成，所述凹槽104的宽度可以为曝光工艺的特征尺寸，可选的，随着曝光设备的精度不同，所述凹槽104的最小宽度在3到5微米的范围内，这样在凹槽104形成的第二金属网格电极的网格线的最小线宽在3到5微米的范围内。

由于在本实施例中，所述绝缘层的厚度在5到15微米的范围内，为保证第一金属网格电极与第二金属网格电极之间的绝缘性，凹槽104的深度不能过大，可选的，所述凹槽104的深度在1到5微米的范围内。

需要说明的是，本发明对第一金属网格层102、绝缘层103的厚度以及凹槽104的深度均不做限制，在其他实施例中，可以以保证第一金属网格层102与第二金属网格层之间的绝缘性为准，调节第一金属网格层102、绝缘层103的厚度以及凹槽104的深度。

还需要说明的是，可选的，具有对应第二金属网格层的图形的掩膜板可以为半色调掩膜(Half Tone Mask)，采用半色调掩膜，可以控制基板100上不同位置处，绝缘层103接受曝光的深度，进而控制基板100上不同位置处凹槽104的深度，但是本发明对采用何种掩膜板不做限制，例如也可以为灰阶掩膜(Gray Tone Mask)。

结合参考图9、图10，图10示出了在基板100上第二金属网格电极与第一金属网格电极位置关系的立体示意图(为图示简洁，忽略了第二金属网格电极与第一金属网格电极的厚度，以及绝缘层103)。执行步骤S5，在所述凹槽104中形成第二金属网格层105，所述第二金属网格层105包括多个第二金属网格电极301，所述第二金属网格电极301与所述第一金属网格电极201在垂直于基板100的方向上具有重叠区域400，用于构成进行触控检测的互电容。

所述第二金属网格电极301为沿第二方向(图10中BB`线所示方向)延伸的条状电极，所述条状的第一金属网格电极201与条状的第二金属网格电极301相互交叉形成所述重叠区域400。需要说明的是，在本实施例中，所述第一方向(图10中AA`线所示方向)与第二方向正交，但是本发明对此不作限制，在其他实施例中，所述第一方向与第二方向的夹角还可以小于90度。

在本实施例中，每个第二金属网格电极301均与一条第二引线302电连接，多条所述第二引线302与基板100上的触控检测电路(未示出)电连接，以为多个第二金属网格电极301提供驱动电压，并向触控检测电路输出触控信号。

需要说明的是，在本实施例中，所述条状的第二金属网格电极301平行排列，分别从基板100的一端延伸至另一端，但是本发明对第二金属网格电极301的形状不做限制，在其他实施例中，所述第二金属网格电极301还可以为其他形状。

继续参考图9，在本实施例中，在所述凹槽104中形成第二金属网格层105的具体方法为:

在所述绝缘层103上涂布第二导电材料层(未示出)，使第二导电材料层填充在绝缘层103的凹槽104中，所述凹槽104中的第二导电材料层形成所述第二金属网格层105，使所述第二金属网格层105上表面与所述绝缘层103的上表面齐平。

需要说明的是，在本实施例中，所述第二导电材料层的材料为银，具体地，在所述绝缘层103上涂布第二导电材料层的步骤中，将熔融的银浆涂布在所述绝缘层103上。银浆能够自由流动并填充在凹槽104中，可以通过控制涂布量，使第二导电材料层上表面与所述绝缘层103的上表面齐平。

在本实施例中，在所述绝缘层103上涂布第二导电材料层的方式为旋涂，在其他实施例中，所述涂布方式还可以为狭缝式涂布或刮涂等常见涂布方式。

在所述绝缘层103上涂布第二导电材料层之后，对所述第二导电材料层进行固化处理，使得填充于凹槽104中的银浆固化，形成固态的银材料，进而形成第二金属网格层105。

需要说明的是，本发明对第二金属网格层105的材料不做限制，可选的，第二金属网格层105包括铜、银、铝、铌、钼中的一种或多种，相应地，在涂布第二导电材料层的步骤中，在所述绝缘层103上涂布熔融的铜、银、铝、铌、钼中的一种或多种。在本实施例中，所述第二金属网格层105的材料与第一金属网格层102的材料相同，在其他实施例中，所述第二金属网格层105的材料还可以与第一金属网格层102的材料不同。

还需要说明的是，本实施例中，所述第二金属网格层105上表面与所述绝缘层103的上表面齐平，这样能够为后续形成黑色矩阵层和彩色光阻的步骤提供平整的表面，但是本发明对此不做限制，在其他实施例中，所述第二金属网格层105上表面还可以略高或者略低于所述绝缘层103的上表面。

结合参考图11，示出了本实施例中，第二金属网格层105包括的多个第二金属网格电极301在基板100上的局部放大图。

本实施例中，第二金属网格电极301由多个六边形的金属网格组成，每个金属网格是由网格线围成，在网格线围出的镂空区域露出所述绝缘层103。由于第二金属网格电极301的材料是银，与ITO相比，银的电阻率大大降低，因此第二金属网格电极301的阻抗远小于现有技术控检测电极的阻抗。

需要说明的是，本发明对第二金属网格电极301中网格的形状不做限制，在其他实施例中，所述网格的形状还可以为三角形、四边形、八边形等其他多边形。

由于本实施例中，所述凹槽104的最小宽度在3到5微米的范围内，这样在凹槽104形成的第二金属网格电极301的网格线的最小线宽在3到5微米的范围内。与现有技术压印在基片上的金属网格相比，本发明形成的网格线更细，镂空区域占第二金属网格电极301的比例更大，使得肉眼更不容易察觉第二金属网格电极301，有利于改善视觉体验。

需要说明的是，在本实施例中，所述第二金属网格层102不仅包括多个第二金属网格电极301，还包括第二引线302，也就是说，所述第一引线202也是在步骤S5中，填充于凹槽104中的第二导电材料层形成，在其他实施例中，所述第二金属网格层105还可以包括其他金属线路或对第一导电材料层光刻形成的辅助性器件。

参考图12，执行步骤S6，在所述绝缘层103和第二金属网格层105上形成黑色矩阵106和彩色光阻107。

由于在本实施例中，所述第二金属网格层105上表面与所述绝缘层103的上表面齐平，为形成黑色矩阵层106和彩色光阻107的步骤提供平整的表面，使得黑色矩阵层106和彩色光阻107不容易产生缺陷。

形成黑色矩阵层106和彩色光阻107的方法为本领域惯用技术，本发明在此不再赘述。

本实施例中，在所述彩色光阻107以及黑色矩阵107上覆盖有平坦层108，所述平坦层108上设有间隔柱109。

在其他实施例中，在所述彩色光阻107以及黑色矩阵层106上还可以覆盖有依次形成的平坦层和透明导电层，所述透明导电层上设有间隔柱。

需要说明的是，本发明制作方法形成的第一金属网格电极和第二金属网格电极还可以为其他形状，在本发明另一实施例中，所述第一金属网格电极包括沿第一方向排布的多个第一子电极，所述多个第一子电极之间电连接，所述第二金属网格电极包括沿第二方向排布的多个第二子电极，所述多个第二子电极之间电连接，所述第一子电极与所述第二子电极在垂直于基板的方向上具有用于触控检测的重叠区域。

在本发明的制作方法中，用于进行触控检测的第一金属网格电极201和第二金属网格电极301直接在基板100上形成，比较容易驱动，与传统滤色片的制作技术兼容性好，形成第一金属网格电极201和第二金属网格电极301的步骤与形成黑色矩阵层和彩色光阻的步骤可以衔接紧密，制作而成的滤色片良率较高，并且能够完全采用现有滤色片的生产设备制作，节省了滤色片的成本。

本发明还提供一种滤色片，本发明滤色片可以采用上述实施例的制作方法形成。因此，本实施例滤色片的结构可以参考上述实施例中图5、图6、图10、图11、图12以及前述实施例相应内容。

参考图12，本发明滤色片包括：

基板100；

位于所述基板100上的第一金属网格层102，所述第一金属网格层102包括多个第一金属网格电极。

形成于所述第一金属网格层102上的绝缘层103。

形成于所述绝缘层103中且与所述第一金属网格层102相绝缘的第二金属网格层105，所述第二金属网格层105包括多个第二金属网格电极；所述第二金属网格电极与所述第一金属网格电极在垂直于基板的方向上具有重叠区域，用于构成进行触控检测的互电容。

位于所述绝缘层103和第二金属网格层105上的黑色矩阵106和彩色光阻107。

在本实施例中，所述基板100为玻璃基板，但是本发明对所述基板100的材料不做限制，在其他实施例中，所述基板100还可以为透明塑料基板。

需要说明的是，在本实施例中，在基板100与第一金属网格层102之间还设置有抗反射层101，所述抗反射层101采用金属氧化物形成，其作用在于在形成金属网格的触控检测电极之后，使触控检测电极反射光的光强减小，进而使触控检测电极不容易被肉眼看见，改善视觉体验。但是本发明对是否设置抗反射层101不做限制。

请参考图5，在本实施例中，所述互电容通过一触控检测电路(未示出)进行检测。所述第一金属网格电极201为沿基板100上的第一方向延伸的条状电极，每个第一金属网格电极201均与第一引线202电连接，多条所述第一引线202与基板100上的触控检测电路电连接，以为多个第一金属网格电极201提供驱动电压，并向触控检测电路输出触控信号。

需要说明的是，在本实施例中，所述条状的第一金属网格电极201平行排列，分别从基板100的一端延伸至另一端，但是本发明对第一金属网格电极201的形状不做限制，在其他实施例中，所述第一金属网格电极201还可以为其他形状。

请参考图6，本实施例中，第一金属网格电极201由多个六边形的金属网格组成，每个金属网格是由网格线围成，在网格线围出的镂空区域露出所述抗反射层101。由于第一金属网格电极201的材料是银，与ITO相比，银的电阻率大大降低，因此第一金属网格电极201的阻抗远小于现有技术控检测电极的阻抗。

需要说明的是，本发明对第一金属网格电极201中网格的形状不做限制，在其他实施例中，所述网格的形状还可以为三角形、四边形、八边形等其他多边形。

需要说明的是，本实施例中，第一金属网格层102为采用光刻工艺形成，所述网格线的线宽可以为光刻工艺的特征尺寸，即光刻所能够获得的最小线宽，根据曝光机的精度不同，所述网格线的最小线宽可以在3到5微米的范围内，与现有技术压印在基片上的金属网格相比，本发明采用光刻工艺形成的网格线更细，镂空区域占第一金属网格电极201的比例更大，使得肉眼更不容易察觉第一金属网格电极201，有利于改善视觉体验。

需要说明的是，在本实施例中，所述第一金属网格层102不仅包括多个第一金属网格电极201，还包括第一引线202。也就是说，第一引线202与第一金属网格电极201是由同一金属层形成。

在本实施例中，第一金属网格层102的厚度在1到5微米的范围内，也就是说第一金属网格电极201和第一引线202的厚度在1到5微米的范围内。但是本发明对第一金属网格层102的厚度不做限制。

请继续参考图11，在本实施例中，所述绝缘层103的材料为光阻性质材料，具体地，可以为传统滤色片生产工艺中的平坦层(OC)材料。平坦层材料具有较好的绝缘性，能够使得第一金属网格层102与第二金属网格层105之间不容易发生短路。在其他实施例中，所述绝缘层103的材料还可为其他光阻性质材料。

采用光阻性质材料的好处在于，在形成绝缘层103的过程中，可以采用涂布的方法，在所述第一金属网格层102上形成绝缘层103。采用涂布的方式形成绝缘层103具有平整的表面，不会在第一金属网格层102的网格线或引线所在位置上形成凸起，使得在接下来的在绝缘层103上形成第二金属网格层的步骤能够顺利进行，并且所形成的第二金属网格层形貌较好，不容易产生缺陷。

需要说明的是，当所述绝缘层103的厚度过小时，不利于第一金属网格电极和第二金属网格电极之间的相互绝缘，当所述绝缘层103的厚度过大时，生产成本较高，在本实施例中，可选的，所述绝缘层103的厚度在5到15微米的范围内。

请继续参考图12，在本实施例中，所述第二金属网格层105的材料为银。但是本发明对第二金属网格层105的材料不做限制，可选的，第二金属网格层105包括铜、银、铝、铌、钼中的一种或多种，相应地，在涂布第二导电材料层的步骤中，在所述绝缘层103上涂布熔融的铜、银、铝、铌、钼中的一种或多种。需要说明的是，在本实施例中，所述第二金属网格层105的材料与第一金属网格层102的材料相同，在其他实施例中，所述第二金属网格层105的材料还可以与第一金属网格层102的材料不同。

结合参考图10，在本实施例中，所述第二金属网格电极301为沿第二方向延伸的条状电极，所述条状的第一金属网格电极201与条状的第二金属网格电极301相互交叉形成所述重叠区域400。需要说明的是，在本实施例中，所述第一方向与第二方向正交，但是本发明对此不作限制，在其他实施例中，所述第一方向与第二方向的夹角还可以小于90度。

在本实施例中，每个第二金属网格电极301均与一条第二引线302电连接，多条所述第二引线302与基板100上的触控检测电路(未示出)电连接，以为多个第二金属网格电极301提供驱动电压，并向触控检测电路输出触控信号。

需要说明的是，在本实施例中，所述条状的第二金属网格电极301平行排列，分别从基板100的一端延伸至另一端，但是本发明对第二金属网格电极301的形状不做限制，在其他实施例中，所述第二金属网格电极301还可以为其他形状。

还需要说明的是，本实施例中，所述第二金属网格层105上表面与所述绝缘层103的上表面齐平，这样能够为后续形成黑色矩阵层和彩色光阻的步骤提供平整的表面，但是本发明对此不做限制，在其他实施例中，所述第二金属网格层105上表面还可以略高或者略低于所述绝缘层103的上表面。

结合参考图11，本实施例中，第二金属网格电极301由多个六边形的金属网格组成，每个金属网格是由网格线围成，在网格线围出的镂空区域露出所述绝缘层103。由于第二金属网格电极301的材料是银，与ITO相比，银的电阻率大大降低，因此第二金属网格电极301的阻抗远小于现有技术控检测电极的阻抗。

需要说明的是，本发明对第二金属网格电极301中网格的形状不做限制，在其他实施例中，所述网格的形状还可以为三角形、四边形、八边形等其他多边形。

在本实施例中，所述第二金属网格电极301在绝缘层103的凹槽中形成，所述绝缘层103的凹槽由曝光、显影工艺形成，因此与第一金属网格电极201相同，所述第二金属网格电极301的网格线的最小线宽在3到5微米的范围内。与现有技术压印在基片上的金属网格相比，本发明形成的网格线更细，镂空区域占第二金属网格电极301的比例更大，使得肉眼更不容易察觉第二金属网格电极301，有利于改善视觉体验。

需要说明的是，在本实施例中，所述第二金属网格层105不仅包括多个第二金属网格电极301，还包括第二引线302，也就是说，所述第一引线202也是由填充于凹槽104中的第二导电材料层形成，在其他实施例中，所述第二金属网格层102还可以包括其他金属线路或对第一导电材料层光刻形成的辅助性器件。

继续参考图12，由于在本实施例中，所述第二金属网格层105上表面与所述绝缘层103的上表面齐平，使得黑色矩阵层106和彩色光阻107形成于平整的表面上，不容易产生缺陷。

本实施例中，在所述彩色光阻107以及黑色矩阵107上覆盖有平坦层108，所述平坦层108上设有间隔柱109。

在其他实施例中，在所述彩色光阻107以及黑色矩阵层106上还可以覆盖有依次形成的平坦层和透明导电层，所述透明导电层上设有间隔柱。

本发明提供的滤色片具有第一金属网格电极201和第二金属网格电极301，所述第一金属网格电极201和第二金属网格电极301构成用于触控检测的互电容。所述第一金属网格电极201和第二金属网格电极301均采用与传统滤色片兼容的工艺直接在基板100上形成，比较容易驱动，与现有技术在基板上压合具有金属网格的触控检测电极的基片所形成的滤色片相比，本发明滤色片结构简单，易于生产，具有较高的良率。

需要说明的是，本发明滤色片的第一金属网格电极和第二金属网格电极还可以为其他形状，在本发明滤色片另一实施例中，所述第一金属网格电极包括沿第一方向排布的多个第一子电极，所述多个第一子电极之间电连接，所述第二金属网格电极包括沿第二方向排布的多个第二子电极，所述多个第二子电极之间电连接，所述第一子电极与所述第二子电极在垂直于基板100的方向上具有用于触控监测的重叠区域。

还需要说明的是，本发明滤色片还可以采用除本发明提供的制作方法外的其他制作方法形成，本发明对此不作限制。

本发明还提供一种液晶显示装置，参考图13，示意出了本发明液晶显示装置一实施例的示意图，所述液晶显示装置包括：

以本发明滤色片的制作方法所制作的滤色片21。

与所述滤色片21相对设置的阵列基板22。

位于滤色片21和阵列基板22之间的液晶层23。

触控检测电路(未示出)，与所述多个第一金属网格电极和第二金属网格电极电连接，用于检测第一金属网格电极和第二金属网格电极重叠区域形成的互电容，以实现触控检测。

在本实施例中，所述滤色片21包括:

基板100；

位于所述基板100上的第一金属网格层102，所述第一金属网格层包括多个第一金属网格电极。

形成于所述第一金属网格层102上的绝缘层103。

形成于所述绝缘层103中且与所述第一金属网格层102相绝缘的第二金属网格层105，所述第二金属网格层105包括多个第二金属网格电极；所述第二金属网格电极与所述第一金属网格电极在垂直于基板的方向上具有重叠区域，用于构成进行触控检测的互电容。

在本发明液晶显示装置中，在滤色片21中形成有第一金属网格电极和第二金属网格电极，所述第一金属网格电极和第二金属网格电极构成用于触控检测的互电容，使得本发明液晶显示装置具有触控检测功能。第一金属网格电极和第二金属网格电极均由镂空的金属网格组成，与现有技术中ITO材料的触控电极相比，具有较低的阻抗，进而使触控感应信号的噪声较小，提高了液晶显示装置的触控检测灵敏度。

由于本发明液晶显示装置中，在滤色片21中形成第一金属网格电极和第二金属网格电极与现有滤色片生产工艺兼容性好，生产工艺较简单，滤色片21的结构也较简单，因此本发明液晶显示装置结构简单，且具有较高的良率。

需要说明的是，在本实施例中，在滤色片21的基板100与第一金属网格层102之间还设置有抗反射层101，所述抗反射层101采用金属氧化物形成，其作用在于在形成金属网格的触控检测电极之后，使触控检测电极反射光的光强减小，进而使触控检测电极不容易被肉眼看见，改善视觉体验。但是本发明对是否设置抗反射层101不做限制。

虽然本发明披露如上，但本发明并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。

Claims (20)

1.一种滤色片的制作方法，其特征在于，包括：

提供基板；

在所述基板上形成第一金属网格层，所述第一金属网格层包括多个第一金属网格电极；

在所述第一金属网格层上覆盖绝缘层，所述绝缘层为感光树脂材料；

对所述感光树脂材料的绝缘层进行曝光和显影，去除部分绝缘层，在所述感光树脂材料的绝缘层中形成凹槽；

在所述感光树脂材料的绝缘层中形成的凹槽中形成第二金属网格层，所述第二金属网格层包括多个第二金属网格电极，所述第二金属网格电极与所述第一金属网格电极在垂直于基板的方向上具有重叠区域，用于构成进行触控检测的互电容；

在所述感光树脂材料的绝缘层和第二金属网格层上形成黑色矩阵和彩色光阻。

2.根据权利要求1所述的滤色片的制作方法，其特征在于，在所述基板上形成第一金属网格层的步骤包括：

在所述基板上形成第一导电材料层，对所述第一导电材料层进行光刻，去掉部分第一导电材料层至露出基板表面，以形成第一金属网格层。

3.根据权利要求1所述的滤色片的制作方法，其特征在于，在所述第一金属网格层上覆盖绝缘层的步骤包括：通过涂布的方法在所述第一金属网格层上形成绝缘层，涂布方式包括旋涂、狭缝式涂布，或者刮涂，所述绝缘层的厚度在5到15微米的范围内。

4.根据权利要求1所述的滤色片的制作方法，其特征在于，所述凹槽的深度在1到5微米的范围内，宽度在3到5微米的范围内。

5.根据权利要求1所述的滤色片的制作方法，其特征在于，在所述绝缘层的凹槽中形成第二金属网格层的步骤包括：

在所述绝缘层上涂布第二导电材料层，使第二导电材料层填充在绝缘层的凹槽中，所述凹槽中的第二导电材料层形成所述第二金属网格层，使所述第二金属网格层上表面与所述绝缘层的上表面齐平。

6.根据权利要求5所述的滤色片的制作方法，其特征在于，在所述绝缘层上涂布第二导电材料层之后，在所述绝缘层的凹槽中形成第二金属网格层的步骤还包括：对所述第二导电材料层进行固化处理。

7.根据权利要求5所述的滤色片的制作方法，其特征在于，在所述绝缘层上涂布第二导电材料层的方式包括：旋涂，或狭缝式涂布，或者刮涂。

8.根据权利要求1所述的滤色片的制作方法，其特征在于，在所述基板上形成第一金属网格层之前，在所述基板上形成防反射层，在所述基板上形成第一金属网格层的步骤包括：在所述防反射层上形成所述第一金属网格层。

9.根据权利要求1所述的滤色片的制作方法，其特征在于，在形成所述黑色矩阵和彩色光阻的步骤之后，所述形成方法还包括：

在所述黑色矩阵和彩色光阻上覆盖平坦层，所述绝缘层与所述平坦层的材料相同。

10.根据权利要求9所述的滤色片的制作方法，其特征在于，在所述彩色光阻和黑色矩阵上覆盖平坦层的步骤之后，所述形成方法还包括：

在所述平坦层上形成间隔柱；

或者，在所述平坦层上覆盖透明导电层，在所述透明导电层上形成间隔柱。

11.根据权利要求1所述的滤色片的制作方法，其特征在于，所述第一金属网格层和第二金属网格层的材料相同或不同，所述第一金属网格层和第二金属网格层的材料包括铜、银、铝、铌、钼中的一种或多种。

12.一种滤色片，其特征在于，包括：

基板；

位于所述基板上的第一金属网格层，所述第一金属网格层包括多个第一金属网格电极；

形成于所述第一金属网格层上的绝缘层，所述绝缘层为感光树脂材料，通过曝光和显影在在所述感光树脂材料的绝缘层中形成凹槽；

形成于所述绝缘层的凹槽中且与所述第一金属网格层相绝缘的第二金属网格层，所述第二金属网格层包括多个第二金属网格电极；所述第二金属网格电极与所述第一金属网格电极在垂直于基板的方向上具有重叠区域，用于构成进行触控检测的互电容；

位于所述感光树脂材料的绝缘层和第二金属网格层上的黑色矩阵和彩色光阻。

13.根据权利要求12所述的滤色片，其特征在于，所述绝缘层采用涂布方式形成于第一金属网格层上，所述第二金属网格层上表面与所述绝缘层上表面齐平，所述第一金属网格层和第二金属网格层的材料相同或不同，所述第一金属网格层和第二金属网格层的材料包括铜、银、铝、铌、钼中的一种或多种。

14.根据权利要求12所述的滤色片，其特征在于，所述第一金属网格电极、第二金属网格电极的网格呈多边形。

15.根据权利要求12所述的滤色片，其特征在于，所述第一金属网格电极为沿第一方向延伸的条状电极，所述第二金属网格电极为沿第二方向延伸的条状电极，所述条状的第一金属网格电极与条状的第二金属网格电极相互交叉形成所述重叠区域；

或者，所述第一金属网格电极包括沿第一方向排布的多个第一子电极，所述多个第一子电极之间电连接，所述第二金属网格电极包括沿第二方向排布的多个第二子电极，所述多个第二子电极之间电连接，所述第一子电极与所述第二子电极在垂直于基板的方向上具有重叠区域。

16.根据权利要求12所述的滤色片，其特征在于，所述第一金属网格层的厚度在1到5微米的范围内，所述绝缘层的厚度在5到15微米的范围内，所述第二金属网格层的厚度在1到5微米的范围内，所述第一金属网格电极和第二金属网格电极的网格线宽在3到5微米的范围内。

17.根据权利要求12所述的滤色片，其特征在于，所述互电容通过一触控检测电路进行检测，所述滤色片还包括设置于所述基板上的多条第一引线，所述多条第一引线与多个第一金属网格电极对应连接，用于实现所述第一金属网格电极与所述触控检测电路的电连接；

所述滤色片还包括设置于所述基板上的多条第二引线，所述多条第二引线与多个第二金属网格电极对应连接，用于实现所述第二金属网格电极与所述触控检测电路的电连接。

18.根据权利要求12所述的滤色片，其特征在于，所述基板与所述第一金属网格层之间还设有防反射层，所述防反射层的材料为金属氧化物。

19.根据权利要求12所述的滤色片，其特征在于，在所述彩色光阻以及黑色矩阵上覆盖有平坦层，所述平坦层上设有间隔柱；

或者，在所述彩色光阻以及黑色矩阵上覆盖有依次形成的平坦层和透明导电层，所述透明导电层上设有间隔柱。

20.一种液晶显示装置，其特征在于，包括：

采用权利要求1至11中任意一项所述的制作方法形成的滤色片；

与所述滤色片相对设置的阵列基板；

位于滤色片和阵列基板之间的液晶层；

触控检测电路，与所述多个第一金属网格电极和第二金属网格电极电连接，用于检测第一金属网格电极和第二金属网格电极重叠区域形成的互电容，以实现触控检测。