CN103033979B - 彩色滤光片及其制造方法、触摸液晶显示屏 - Google Patents

彩色滤光片及其制造方法、触摸液晶显示屏 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种彩色滤光片及其制造方法、触摸液晶显示屏,涉及液晶显示技术领域,为解决触摸液晶显示屏的厚度、重量比较大的问题而发明。所述彩色滤光片,包括基板,基板上设有彩色滤光膜,其中在所述基板上还设有触摸传感器,触摸传感器包括交叉的多行横向电极和多列纵向电极,所述横向电极和纵向电极借助所述彩色滤光膜彼此绝缘。本发明可用于实现液晶显示屏触摸输入与显示输出的一体化。

Description

彩色滤光片及其制造方法、触摸液晶显示屏
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域,尤其涉及一种彩色滤光片及其制造方法、触摸液晶显示屏。
背景技术
近来,液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)技术有了飞速的发展,从屏幕的尺寸到显示的质量都取得了极大的进步,LCD具有体积小、功耗低、无辐射等特点,现已占据了平面显示领域的主导地位。
触摸液晶显示屏是将输入、输出终端一体化的重要载体之一。近年来,随着小巧、轻盈的手持设备等一系列产品的问世,市场对触摸液晶显示屏的需求激增。
现有技术中的触摸液晶显示屏主要都以out cell和on cell为主,其中out cell是将触摸屏叠放到偏光板之外的技术,on cell是将触摸屏叠放到彩色滤光片和偏光板之间的技术。两者均是通过层叠的方法将触摸屏和液晶显示屏叠放在一起,从而将触摸输入和显示输出一体化,但这样也使得触摸液晶显示屏的厚度、重量都比较大。
发明内容
本发明的实施例提供一种彩色滤光片及其制造方法、触摸液晶屏,以解决触摸液晶显示屏的厚度、重量比较大的问题。
为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
本发明提供一种彩色滤光片,包括基板,基板上设有彩色滤光膜,其中,在所述基板上还设有触摸传感器,触摸传感器包括交叉的多行横向电极和多列纵向电极,所述横向电极和纵向电极借助所述彩色滤光膜彼此绝缘。
本发明提供一种彩色滤光片的制造方法,包括:
提供一基板;
在基板上形成黑矩阵;
在形成有黑矩阵的基板上形成触摸传感器和彩色滤光膜,触摸传感器包括交叉的多行横向电极和多列纵向电极,所述横向电极和纵向电极借助所述彩色滤光膜彼此绝缘。
本发明还提供一种彩色滤光片的制造方法,包括:
提供一基板;
在基板上形成触摸传感器、黑矩阵和彩色滤光膜,触摸传感器包括交叉的多行横向电极和多列纵向电极,所述横向电极和纵向电极借助所述彩色滤光膜彼此绝缘。
本发明进一步提供一种触摸液晶显示屏,包括阵列基板,其中,还包括与所述阵列基板对盒的上述的彩色滤光片,所述阵列基板与所述彩色滤光片之间滴注有液晶。
在本发明的各实施例中,将触摸屏的各层制作在彩色滤光片上,使彩色滤光片不仅具有显示的功能,而且具有触摸输入的功能,节省了对触摸屏的使用,使得触摸液晶显示屏的厚度、重量都有所减小。
附图说明
图1为本发明实施例1彩色滤光片的示意图;
图2为图1所示彩色滤光片的局部平面图;
图3为对图1所示彩色滤光片改进后的局部示意图;
图4为本发明实施例3彩色滤光片的示意图;
图5为本发明实施例5彩色滤光片制造方法的示意图;
图6为本发明实施例6彩色滤光片制造方法的示意图;
图7为本发明实施例一种触摸液晶显示屏的示意图;
图8为本发明实施例另一种触摸液晶显示屏的示意图。
附图标记:
1-基板,21-横向电极,211-横向电极的信号采集单元,22-纵向电极,23、24-孔,3-黑矩阵,4-彩色滤光膜,5-过孔,6-桥接部分,61-屏蔽层,62-连接点,7-横向信号线,8-绝缘层,9-异向导电材料
具体实施方式
下面结合附图对本发明实施例彩色滤光片及其制造方法和触摸液晶显示屏进行详细描述。
应当明确,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
本发明彩色滤光片的实施例,包括基板,基板上设有彩色滤光膜,在所述基板上还设有触摸传感器,触摸传感器包括交叉的多行横向电极和多列纵向电极,所述横向电极和纵向电极借助所述彩色滤光膜彼此绝缘。
对于上述的彩色滤光片而言,由于将触摸屏的各层制作在彩色滤光片上,使彩色滤光片不仅具有显示的功能,而且具有触摸输入的功能,节省了对触摸屏的使用,使得触摸液晶显示屏的厚度、重量都有所减小。因此与传统的out cell和on cell不同,本发明中的彩色滤光片采用的是in cell技术。其中,in cell是指将触摸屏的功能嵌入到彩色滤光片或阵列基板中的技术。
还需要说明的是,在上述彩色滤光片中,触摸传感器的横向电极和纵向电极借助彩色滤光片自身的彩色滤光膜彼此绝缘,而没有为其横向电极和纵向电极制作单独的绝缘层,因此该彩色滤光片的层数较少,结构较为简单。这样也使得在上述彩色滤光片中实现了传统的彩色滤光片结构与触摸屏结构的有机结合,而不是简单地将传统的彩色滤光片结构与触摸屏结构叠加在一起。
实施例1
图1为本发明实施例1彩色滤光片的示意图;图2为图1所示彩色滤光片的局部平面图;图3为对图1所示彩色滤光片改进后的局部示意图。
参见图1所示,基板1上设有触摸传感器。参见图2所示,基板1上的触摸传感器包括横向电极的信号采集单元211以及纵向电极22,即横向电极的信号采集单元211与纵向电极22在一次构图工艺中形成且位于同一层。再次参见图1可知,触摸传感器上设有黑矩阵3,黑矩阵3上设有彩色滤光膜4以及过孔5,彩色滤光膜4上设有借助过孔5桥接横向电极的信号采集单元211的桥接部分6。
其中,桥接部分6可以电性连通横向电极的各信号采集单元211以形成横向电极,借助彩色滤光膜4该横向电极与纵向电极22彼此绝缘。黑矩阵3的作用一方面是遮光,这与传统彩色滤光片中黑矩阵的作用相同;另一方面也可以使该横向电极与纵向电极22彼此绝缘。
作为本实施例的一种变换,基板1上的触摸传感器可以包括纵向电极的信号采集单元和横向电极,即纵向电极的信号采集单元与横向电极在一次构图工艺中形成且位于同一层。相应地,在彩色滤光膜4上设置的桥接部分电性连通纵向电极的各信号采集单元以形成纵向电极。这种将横向电极的信号采集单元(或纵向电极的信号采集单元)与纵向电极(或横向电极)设于同一层,并将桥接所述信号采集单元的桥接部分设于另一层的结构可以称之为1.5层结构。
参见图2所示,作为对本实施例的一种改进,在彩色滤光膜上还设有屏蔽层61,该屏蔽层61与桥接上述信号采集单元的桥接部分6可以在一次构图工艺中形成,且该屏蔽层61与桥接部分6彼此相互间隔地位于同一层,即屏蔽层61与桥接部分6不会电性连通。相对于桥接部分6而言,屏蔽层61的面积较大,能够很好地降低触摸传感器和与该彩色滤光片对盒的阵列基板之间的干扰。或者,所述屏蔽层可以单独地位于一层,而不与上述桥接部分6位于同一层。也就是说,可以首先在所述桥接部分6上形成一层绝缘层,然后在该绝缘层上形成屏蔽层。
参见图3所示,作为对本实施例的另一种改进,在横向电极的图形中可以开设有孔23,以及在纵向电极的图形中可以开设有孔24。开设孔之后能够减小触摸传感器与阵列基板之间的重叠面积,从而减小触摸传感器与阵列基板之间的电容,以降低二者之间的干扰。需要说明的是,作为对该改进的变换,可以仅在横向电极的图形中开设孔23;或者可以仅在纵向电极的图形中开设孔24。
进一步地,为了从更大程度上减小触摸传感器与阵列基板之间的电容,可以使开孔后的所述横向电极的图形与相应的黑矩阵形状保持一致,和/或,使开孔后的所述纵向电极的图形与相应的黑矩阵形状保持一致。因此,该开孔后的横向电极的图形可以形成网格状的横向电极,该开孔后的纵向电极可以形成网格状的纵向电极。
再次参见图1,作为对本实施例的进一步改进,可以同时制作出触摸传感器以及其周边电路,其周边电路可以包括横向信号线以及纵向信号线。例如,可以使与横向电极相连的横向信号线7位于横向电极所在的层,即可以在一次构图工艺中形成横向电极以及与之相连的横向信号线7。同样地,可以使与纵向电极相连的纵向信号线位于纵向电极所在的层,即可以在一次构图工艺中形成纵向电极以及与之相连的纵向信号线。
或者,作为对该进一步改进的变换,可以使与横向电极相连的横向信号线和与纵向电极相连的纵向信号线位于屏蔽层所在的层,即可以在一次构图工艺中形成屏蔽层以及横向信号线和纵向信号线。其中,该屏蔽层可以是与所述桥接部分在一次构图工艺中形成的屏蔽层,也可以是单独地形成的屏蔽层。
再或者,可以使与横向电极相连的横向信号线和与纵向电极相连的纵向信号线单独地位于一层。即可以再单独地增加一层金属层,并利用该金属层制作所述的横向信号线和所述的纵向信号线。其中,可以在上述的屏蔽层上形成一层绝缘层,并在该绝缘层上形成横向信号线和纵向信号线。当然,横向信号线和纵向信号线所在层和屏蔽层的次序可以更换。
使横向电极和纵向电极不与其周边电路位于同一层的结构可以减小周边电路的电阻,从而减小功耗。需要说明的是,当横向信号线与横向电极位于不同的层时,需要借助过孔实现二者的电性连通。同样,当纵向信号线与纵向电极位于不同的层时,也需要借助过孔实现二者的电性连通。
再次参见图1,作为对本实施例的再进一步改进,可以在形成有完整图形的彩色滤光片上设有绝缘层8,也就是可以在所述彩色滤光片的最外侧设有绝缘层8。该绝缘层8一方面可以将彩色滤光膜4的表面平坦化,也就是将该绝缘层8作为平坦层使用;另一方面可以使用具有低介电常数的材料,以便减小所述桥接部分6以及屏蔽层61对液晶电容的影响。
实施例2
本实施例中彩色滤光片的结构与上述实施例1中彩色滤光片的结构相似,二者的不同之处在于,本实施例中彩色滤光片上的触摸传感器与黑矩阵的次序互换。即,首先在基板上设置黑矩阵,然后在黑矩阵上设置触摸传感器。这样能够利用黑矩阵遮挡全部或者大部分的触摸传感器的图形,提高了显示质量。
与上述实施例1相同,该触摸传感器可以包括横向电极的信号采集单元以及纵向电极,也可以包括纵向电极的信号采集单元以及横向电极。
实施例3
图4为本发明实施例3彩色滤光片的示意图。
参见图4所示,基板1上设有触摸传感器的横向电极21,横向电极21上设有黑矩阵3,黑矩阵3上设有彩色滤光膜4,彩色滤光膜4上设有纵向电极22。
其中,横向电极21和纵向电极22位于不同的层,二者借助彩色滤光膜4彼此绝缘。黑矩阵3不仅可以遮光,也可以使横向电极21和纵向电极22彼此绝缘。
作为本实施例的一种变换,也可以首先在基板1上设置纵向电极22,然后再依次设置黑矩阵3、彩色滤光膜4和横向电极21。
这种将横向电极和纵向电极设于不同的层的结构可以称之为2层结构。除该2层结构外,本实施例中的彩色滤光片结构和功能与上述实施例1中的彩色滤光片的结构和功能相同或相似,可以根据本领域的技术知识通过简单的推理获得,在此不再赘述。
实施例4
本实施例中彩色滤光片的结构与上述实施例3中彩色滤光片的结构相似,二者的不同之处在于,本实施例中彩色滤光片上的触摸传感器的横向电极(或纵向电极)与黑矩阵的次序更换。即,首先在基板上设置黑矩阵,然后在黑矩阵上设置横向电极(或纵向电极)。这样能够利用黑矩阵遮挡全部或者大部分的触摸传感器的图形,提高了显示质量。
此外,本发明还提供了上述彩色滤光片制造方法的实施例。下面对彩色滤光片的制造方法进行详细说明。
本发明首先提供一种彩色滤光片的制造方法,该方法包括:
步骤1,提供一基板;
步骤2,在基板上形成触摸传感器、黑矩阵和彩色滤光膜,触摸传感器包括交叉的多行横向电极和多列纵向电极,所述横向电极和纵向电极借助所述彩色滤光膜彼此绝缘。
由上面实施例中对彩色滤光片的结构描述可知,所述彩色滤光片上的触摸传感器可以为1.5层结构或2层结构。在制造具有1.5层结构的触摸传感器时,所述步骤2可以包括:
步骤21,在基板上沉积透明电极,通过构图工艺形成横向电极的信号采集单元和纵向电极;
步骤22,在形成有横向电极的信号采集单元和纵向电极的基板上形成黑矩阵;
步骤23,在形成有黑矩阵的基板上形成彩色滤光膜和过孔;
步骤24,在形成有彩色滤光膜的基板上沉积透明电极,通过构图工艺形成借助过孔桥接横向电极的信号采集单元的桥接部分。
其中,在步骤21中形成横向电极的信号采集单元的同时还可以形成与横向电极相连的横向信号线,在形成纵向电极的同时还可以形成与纵向电极相连的纵向信号线。在步骤24中形成桥接部分的同时还可以形成屏蔽层,且所述屏蔽层与所述桥接部分彼此相互间隔地位于同一层。
当在步骤24中未形成屏蔽层时,还可以增加步骤25,在形成有所述桥接部分的基板上形成第一绝缘层(该第一以及后文中第二至第六的编号没有实际意义,仅仅是为了描述更加清楚),并在所述第一绝缘层上形成屏蔽层。当在步骤21中未形成横向信号线和纵向信号线时,可以在步骤24中或步骤25中形成屏蔽层的同时形成与横向电极相连的横向信号线和与纵向电极相连的纵向信号线;或者可以增加步骤26,在形成屏蔽层的基板上形成第二绝缘层,并在所述第二绝缘层上形成与横向电极相连的横向信号线和与纵向电极相连的纵向信号线。当然,屏蔽层的制作和横向信号线与纵向信号线的制作次序可以互换。
需要说明的是,在步骤21至步骤24中,也可以首先形成纵向电极的信号采集单元和横向电极,然后再形成桥接部分电性连通纵向电极的信号采集单元以形成纵向电极。其中,在形成纵向电极的信号采集单元的同时可以形成纵向信号线,在形成横向电极的同时可以形成横向信号线。
在制造具有2层结构的触摸传感器时,所述步骤2可以包括:
步骤21′,在基板上沉积透明电极,通过构图工艺形成横向电极;
步骤22′,在形成有横向电极的基板上形成黑矩阵;
步骤23′,在形成有黑矩阵的基板上形成彩色滤光膜;
步骤24′,在形成有彩色滤光膜的基板上沉积透明电极,通过构图工艺形成纵向电极。
其中,在步骤21′中形成横向电极的同时还可以形成与横向电极相连的横向信号线,在步骤24′中形成纵向电极的同时还可以形成与纵向电极相连的纵向信号线。或者,可以增加步骤25′,在形成有横向电极和纵向电极的基板上形成第三绝缘层,并在所述第三绝缘层上形成与横向电极相连的横向信号线和与纵向电极相连的纵向信号线。
需要说明的是,在步骤21′至步骤24′中,也可以首先形成纵向电极,然后再形成横向电极。
在通过上述步骤21至步骤24或步骤21′至步骤24′形成触摸传感器之后,所述方法还可以包括步骤3,在形成有触摸传感器、黑矩阵和彩色滤光膜的基板上形成绝缘层。
下面通过实施例5介绍具有1.5层结构触摸传感器的彩色滤光片的制造方法,并通过实施例6介绍具有2层结构触摸传感器的彩色滤光片的制造方法。
实施例5
如图5所示,本实施例中彩色滤光片的制造方法包括:
S51,采用磁控溅射的方法在基板1上沉积一层透明电极,使用掩模板进行曝光和显影处理,获得完全曝光区域和未曝光区域,所述未曝光区域对应横向电极的信号采集单元和纵向电极、以及与横向电极相连的横向信号线和与纵向电极相连的纵向信号线,所述完全曝光区域对应不需要触摸传感器图形及其周边电路的其他区域,对所述完全曝光区域蚀刻,在基板上形成横向电极的信号采集单元211和纵向电极22、以及横向信号线7和纵向信号线;
其中,所述的透明电极可以为氧化铟锡薄膜,或者也可以为石墨烯薄膜。
S52,在形成有横向电极的信号采集单元211和纵向电极22、以及横向信号线7和纵向信号线的基板上涂布一层黑矩阵树脂材料薄膜,使用掩模板进行曝光和显影处理,获得完全曝光区域和未曝光区域,所述未曝光区域对应黑矩阵图形,所述完全曝光区域对应黑矩阵中的过孔和不需要黑矩阵图形的其他区域,对所述完全曝光区域蚀刻,形成黑矩阵3以及黑矩阵中的过孔5;
在彩色滤光片的周边电路区域,借助黑矩阵中的过孔可以使横向信号线和纵向信号线与阵列基板中的相应线路连通。在彩色滤光片的显示区域,借助黑矩阵中的过孔可以使横向电极的信号采集单元连通。
需要说明的是,黑矩阵中的过孔5也可以暂时不作出,而是可以在S53中制作彩色滤光膜中的过孔时再作出。
S53,在形成有黑矩阵3和黑矩阵中的过孔5的基板上涂布一层红色树脂材料薄膜,使用掩模板进行曝光和显影处理,获得完全曝光区域和未曝光区域,所述未曝光区域对应红色滤光膜图形,所述完全曝光区域对应红色滤光膜中的过孔和不需要红色滤光膜图形的其他区域,对所述完全曝光区域蚀刻,形成红色滤光膜以及其中的过孔;
然后使用与形成红色滤光膜及其中过孔相同的方法,依次形成绿色滤光膜以及其中的过孔、蓝色滤光膜以及其中的过孔,最终形成了彩色滤光膜4以及其中的过孔5;
在彩色滤光片的显示区域,彩色滤光膜中的过孔位置与黑矩阵中的过孔位置相同,借助过孔可以使横向电极的信号采集单元连通。
S54,在形成有彩色滤光膜4和彩色滤光膜中的过孔5的基板上采用磁控溅射的方法沉积一层透明电极,使用掩模板进行曝光和显影处理,获得完全曝光区域和未曝光区域,所述未曝光区域对应桥接部分、屏蔽层和连接点,所述完全曝光区域对应桥接部分和屏蔽层之间间隔的区域以及其他不需要的区域,对所述完全曝光区域蚀刻,形成桥接部分6、屏蔽层61和连接点62;
在彩色滤光片的周边电路部分,该连接点62通过黑矩阵中的过孔连通横向信号线和纵向信号线,然后该连接点62再与阵列基板上的相应信号线连通,该连接点62的连接面积较大,连通的稳定性较好。当然,在其他的实施例(例如实施例6)中,也可以不制作连接点62,而使横向信号线和纵向信号线借助黑矩阵中的过孔直接与阵列基板上的相应信号线连通。
其中,所述的透明电极可以为氧化铟锡薄膜,或者也可以为石墨烯薄膜。
S55,在形成有桥接部分6、屏蔽层61和连接点62的基板上涂布一层树脂绝缘材料薄膜,形成绝缘层8。
实施例6
如图6所示,本实施例中彩色滤光片的制造方法与实施例5中彩色滤光片的制造方法基本上相同,具体为:
S61,采用磁控溅射的方法在基板1上沉积一层透明电极,使用掩模板进行曝光和显影处理,获得完全曝光区域和未曝光区域,所述未曝光区域对应横向电极以及与横向电极相连的横向信号线,所述完全曝光区域对应不需要横向电极图形及其周边电路的其他区域,对所述完全曝光区域蚀刻,在基板上形成横向电极21和横向信号线7;
其中,所述的透明电极可以为氧化铟锡薄膜,或者也可以为石墨烯薄膜。
S62,与S52相同,在形成有横向电极21以及横向信号线7的基板上形成黑矩阵3以及黑矩阵中的过孔5;
S63,与S53相似,在形成有黑矩阵3以及黑矩阵中的过孔5的基板上形成彩色滤光膜4,但并不需要在彩色滤光膜4中形成过孔;
S64,在形成有彩色滤光膜4的基板上采用磁控溅射的方法沉积一层透明电极,使用掩模板进行曝光和显影处理,获得完全曝光区域和未曝光区域,所述未曝光区域对应纵向电极和与纵向电极相连的纵向信号线,所述完全曝光区域对应不需要纵向电极及其周边电路的其他区域,对所述完全曝光区域蚀刻,形成纵向电极22和纵向信号线;
其中,所述的透明电极可以为氧化铟锡薄膜,或者也可以为石墨烯薄膜。
S65,与S55相同,在形成有纵向电极和纵向信号线的基板上涂布一层树脂绝缘材料薄膜,形成绝缘层8。
本发明其次提供了另一种彩色滤光片的制造方法,该方法包括:
步骤1,提供一基板;
步骤2,在基板上形成黑矩阵;
步骤3,在形成有黑矩阵的基板上形成触摸传感器和彩色滤光膜,触摸传感器包括交叉的多行横向电极和多列纵向电极,所述横向电极和纵向电极借助所述彩色滤光膜彼此绝缘。
由上面实施例中对彩色滤光片的结构描述可知,所述彩色滤光片上的触摸传感器可以为1.5层结构或2层结构。在制造具有1.5层结构的触摸传感器时,所述步骤3可以包括:
步骤31,在形成有黑矩阵的基板上沉积透明电极,通过构图工艺形成横向电极的信号采集单元和纵向电极;
步骤32,在形成有横向电极的信号采集单元和纵向电极的基板上形成彩色滤光膜和过孔;
步骤33,在形成有彩色滤光膜的基板上沉积透明电极,通过构图工艺形成借助过孔桥接横向电极的信号采集单元的桥接部分。
其中,在步骤31中形成横向电极的信号采集单元的同时还可以形成与横向电极相连的横向信号线,在形成纵向电极的同时还可以形成与纵向电极相连的纵向信号线。在步骤33中形成桥接部分的同时还可以形成屏蔽层,且所述屏蔽层与所述桥接部分彼此相互间隔地位于同一层。
当在步骤33中未形成屏蔽层时,还可以增加步骤34,在形成有所述桥接部分的基板上形成第四绝缘层,并在所述第四绝缘层上形成屏蔽层。当在步骤31中未形成横向信号线和纵向信号线时,可以在步骤33中或步骤34中形成屏蔽层的同时形成与横向电极相连的横向信号线和与纵向电极相连的纵向信号线;或者可以增加步骤35,在形成屏蔽层的基板上形成第五绝缘层,并在所述第五绝缘层上形成与横向电极相连的横向信号线和与纵向电极相连的纵向信号线。当然,屏蔽层的制作和横向信号线与纵向信号线的制作次序可以互换。
需要说明的是,在步骤31至步骤33中,也可以首先形成纵向电极的信号采集单元和横向电极,然后再形成桥接部分电性连通纵向电极的信号采集单元以形成纵向电极。其中,在形成纵向电极的信号采集单元的同时可以形成纵向信号线,在形成横向电极的同时可以形成横向信号线。
在制造具有2层结构的触摸传感器时,所述步骤3可以包括:
步骤31′,在形成有黑矩阵的基板上沉积透明电极,通过构图工艺形成横向电极;
步骤32′,在形成有横向电极的基板上形成彩色滤光膜;
步骤33′,在形成有彩色滤光膜的基板上沉积透明电极,通过构图工艺形成纵向电极;
其中,在步骤31′中形成横向电极的同时还可以形成与横向电极相连的横向信号线,在步骤33′中形成纵向电极的同时还可以形成与纵向电极相连的纵向信号线。
或者,可以增加步骤34′,在形成有横向电极和纵向电极的基板上形成第六绝缘层,并在所述第六绝缘层上形成与横向电极相连的横向信号线和与纵向电极相连的纵向信号线。
需要说明的是,在步骤31′至步骤33′中,也可以首先形成纵向电极,然后再形成横向电极。
在通过上述步骤31至步骤33或步骤31′至步骤33′形成触摸传感器之后,所述方法还可以包括步骤4,在形成有触摸传感器和彩色滤光膜的基板上形成绝缘层。
实施例7
与上述实施例5的步骤相似,不同之处在于,本实施例中首先进行S51的步骤,然后再进行S52的步骤。需要说明的是,由于S51和S52次序的更换,本实施例中彩色滤光片制造方法的一些细节会与实施例5中所述的略有不同,但是本领域技术人员可以根据已有的知识通过简单的推理来获取这些不同的细节。
实施例8
与上述实施例6的步骤相似,不同之处在于,本实施例中首先进行S61的步骤,然后再进行S62的步骤。需要说明的是,由于S61和S62次序的更换,本实施例中彩色滤光片制造方法的一些细节会与实施例6中所述的略有不同,但是本领域技术人员可以根据已有的知识通过简单的推理来获取这些不同的细节。
如图7或图8所示,本发明还提供了一种触摸液晶显示屏的实施例,本实施例中的触摸液晶显示屏包括阵列基板101以及与该阵列基板对盒的彩色滤光片102,阵列基板101和彩色滤光片102中滴注有液晶(未标示),其中所述彩色滤光片101为本发明上述各实施例中的彩色滤光片。因此,下面对触摸液晶显示屏进行说明时仍然采用上述彩色滤光片的各实施例中使用的术语以及附图标记。
本实施例中,彩色滤光片101上的屏蔽层61与阵列基板102上的接地线电连接。使屏蔽层61接地后,可以进一步降低彩色滤光片101上的触摸传感器和阵列基板102之间的干扰。具体而言,屏蔽层61与所述接地线可以通过异向导电材料9如金球(Au Ball)电连接。
此外,彩色滤光片101上的横向信号线7需要与阵列基板102上的相应信号线电性连接;彩色滤光片101上的纵向信号线也需要与阵列基板102上的相应信号线电性连接。其中,图7所示的触摸液晶显示屏中包括由实施例5获得的彩色滤光片101,该彩色滤光片101上制作有连接点62。图8所示的触摸液晶显示屏中包括由实施例6获得的彩色滤光片101,该彩色滤光片101上未制作连接点。
具体而言,所述横向信号线7可以通过异向导电材料9如金球与阵列基板102上的相应信号线电性连接;所述纵向信号线可以通过异向导电材料9如金球与所述阵列基板上的相应信号线电性连接。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (17)

1.一种彩色滤光片,包括基板,基板上设有彩色滤光膜,其特征在于,在所述基板上还设有触摸传感器,触摸传感器包括交叉的多行横向电极和多列纵向电极,所述横向电极和纵向电极借助所述彩色滤光膜彼此绝缘;
横向电极的信号采集单元和纵向电极位于同一层,且每行横向电极中的各信号采集单元桥接,纵向电极和桥接后形成的横向电极借助所述彩色滤光膜彼此绝缘;或纵向电极的信号采集单元和横向电极位于同一层,且每列纵向电极中的各信号采集单元桥接,横向电极和桥接后形成的纵向电极借助所述彩色滤光膜彼此绝缘;
所述彩色滤光片上设有屏蔽层,所述屏蔽层与桥接所述信号采集单元的桥接部分在一次构图工艺中形成且彼此相互间隔地位于同一层。
2.根据权利要求1所述的彩色滤光片,其特征在于,所述横向电极和/或所述纵向电极直接设在所述基板上;或
所述基板上设有黑矩阵,所述横向电极和/或所述纵向电极设在所述黑矩阵上。
3.根据权利要求2所述的彩色滤光片,其特征在于,所述横向电极的图形中开设有孔;和/或
所述纵向电极的图形中开设有孔。
4.根据权利要求3所述的彩色滤光片,其特征在于,开孔后的所述横向电极的图形与相应的黑矩阵形状一致;和/或
开孔后的所述纵向电极的图形与相应的黑矩阵形状一致。
5.根据权利要求2-4任一项所述的彩色滤光片,其特征在于,
与横向电极相连的横向信号线位于横向电极所在的层,与纵向电极相连的纵向信号线位于纵向电极所在的层;或
与横向电极相连的横向信号线和与纵向电极相连的纵向信号线位于屏蔽层所在的层;或
与横向电极相连的横向信号线和与纵向电极相连的纵向信号线单独地位于一层。
6.根据权利要求1-4任一项所述的彩色滤光片,其特征在于,在形成有完整图形的所述彩色滤光片上设有绝缘层。
7.一种彩色滤光片的制造方法,其特征在于,包括:
提供一基板;
在基板上沉积透明电极,通过构图工艺形成纵向电极的信号采集单元和横向电极;
在形成有纵向电极的信号采集单元和横向电极的基板上形成黑矩阵;
在形成有黑矩阵的基板上形成彩色滤光膜和过孔;
在形成有彩色滤光膜的基板上沉积透明电极,通过构图工艺形成借助过孔桥接纵向电极的信号采集单元的桥接部分;或
在基板上沉积透明电极,通过构图工艺形成横向电极的信号采集单元和纵向电极;
在形成有横向电极的信号采集单元和纵向电极的基板上形成黑矩阵;
在形成有黑矩阵的基板上形成彩色滤光膜和过孔;
在形成有彩色滤光膜的基板上沉积透明电极,通过构图工艺形成借助过孔桥接横向电极的信号采集单元的桥接部分;
在形成所述桥接部分的同时形成屏蔽层,所述屏蔽层与所述桥接部分彼此相互间隔地位于同一层。
8.根据权利要求7所述的彩色滤光片的制造方法,其特征在于,在形成横向电极的同时形成与横向电极相连的横向信号线,在形成纵向电极的信号采集单元的同时形成与纵向电极相连的纵向信号线;或
在形成横向电极的信号采集单元的同时形成与横向电极相连的横向信号线,在形成纵向电极的同时形成与纵向电极相连的纵向信号线;或
在形成屏蔽层的同时形成与横向电极相连的横向信号线和与纵向电极相连的纵向信号线;或
在形成有屏蔽层的基板上形成第二绝缘层,并在所述第二绝缘层上形成与横向电极相连的横向信号线和与纵向电极相连的纵向信号线。
9.根据权利要求7所述的彩色滤光片的制造方法,其特征在于,还包括:
在形成有触摸传感器、黑矩阵和彩色滤光膜的基板上形成绝缘层。
10.一种彩色滤光片的制造方法,其特征在于,包括:
提供一基板;
在基板上形成黑矩阵;
在形成有黑矩阵的基板上沉积透明电极,通过构图工艺形成纵向电极的信号采集单元和横向电极;
在形成有纵向电极的信号采集单元和横向电极的基板上形成彩色滤光膜和过孔;
在形成有彩色滤光膜的基板上沉积透明电极,通过构图工艺形成借助过孔桥接纵向电极的信号采集单元的桥接部分;或
在形成有黑矩阵的基板上沉积透明电极,通过构图工艺形成横向电极的信号采集单元和纵向电极;
在形成有横向电极的信号采集单元和纵向电极的基板上形成彩色滤光膜和过孔;
在形成有彩色滤光膜的基板上沉积透明电极,通过构图工艺形成借助过孔桥接横向电极的信号采集单元的桥接部分;
在形成所述桥接部分的同时形成屏蔽层,所述屏蔽层与所述桥接部分彼此相互间隔地位于同一层。
11.根据权利要求10所述的彩色滤光片的制造方法,其特征在于,在形成横向电极的同时形成与横向电极相连的横向信号线,在形成纵向电极的信号采集单元的同时形成与纵向电极相连的纵向信号线;或
在形成横向电极的信号采集单元的同时形成与横向电极相连的横向信号线,在形成纵向电极的同时形成与纵向电极相连的纵向信号线;或
在形成屏蔽层的同时形成与横向电极相连的横向信号线和与纵向电极相连的纵向信号线;或
在形成有屏蔽层的基板上形成第五绝缘层,并在所述第五绝缘层上形成与横向电极相连的横向信号线和与纵向电极相连的纵向信号线。
12.根据权利要求10所述的彩色滤光片的制造方法,其特征在于,还包括:
在形成有触摸传感器和彩色滤光膜的基板上形成绝缘层。
13.一种触摸液晶显示屏,包括阵列基板,其特征在于,还包括与所述阵列基板对盒的如权利要求1-6中任一项所述的彩色滤光片,所述阵列基板与所述彩色滤光片之间滴注有液晶。
14.根据权利要求13所述的触摸液晶显示屏,其特征在于,所述彩色滤光片上的屏蔽层与所述阵列基板上的接地线电连接。
15.根据权利要求14所述的触摸液晶显示屏,其特征在于,所述屏蔽层与所述接地线通过异向导电材料电连接。
16.根据权利要求13所述的触摸液晶显示屏,其特征在于,所述彩色滤光片上的横向信号线与所述阵列基板上的相应信号线电性连接;
所述彩色滤光片上的纵向信号线与所述阵列基板上的相应信号线电性连接。
17.根据权利要求16所述的触摸液晶显示屏,其特征在于,所述横向信号线通过异向导电材料与所述阵列基板上的相应信号线电性连接;
所述纵向信号线通过异向导电材料与所述阵列基板上的相应信号线电性连接。
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