TWI595282B - Manufacturing method of lens array, film supporting substrate used for the manufacturing method and jig for film sticking - Google Patents

Manufacturing method of lens array, film supporting substrate used for the manufacturing method and jig for film sticking Download PDF

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TWI595282B
TWI595282B TW102102448A TW102102448A TWI595282B TW I595282 B TWI595282 B TW I595282B TW 102102448 A TW102102448 A TW 102102448A TW 102102448 A TW102102448 A TW 102102448A TW I595282 B TWI595282 B TW I595282B
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Description

透鏡陣列之製造方法及用於該製造方法之薄膜載持基板以及薄膜貼設用治具
本發明係有關透鏡陣列之製造方法及用於該製造方法之薄膜載持基板及薄膜貼設用治具；特別是有關適合於製造貼設有黏合性光學薄膜之透鏡陣列的透鏡陣列之製造方法及用於該製造方法之薄膜載持基板及薄膜貼設用治具。
近年來，於系統裝置內或裝置之間或光模組之間廣泛地應用高速傳送信號之技術、亦即光學連線(Optical interconnection)。此處，光學連線係指將光學零件處理成如電氣零件，安裝於用於電腦、汽車或光收發器等之主機板或電路基板等之技術。
用於像這樣的光學連線之光模組，例如用於媒體轉換器(media converter)或交換集線器(switching hub)內部連接、光收發器、醫療機器、試驗裝置、影像系統、高速叢集電腦等之裝置內或裝置間的零件連接等之各種用途。
因此，做為用於該種光模組之光學零件，對於可有效地以小型構成實現多頻道光學通信，且使複數個小直徑之透鏡整列配置而成之透鏡陣列的需求正日益提高。
此處，自古以來透鏡陣列係可設置具有複數個發光元 件(例如VCSEL：Vertical Cavity Surface Emitting Laser，垂直空腔表面發光雷射)之光電變換裝置，並且可設置做為光傳導物之複數條光纖。
所以，透鏡陣列可以設置此等光電變換裝置及複數條光纖的狀態，藉由在各光纖端面上光學性結合自光電變換裝置之各發光元件所射出的光，以進行多頻道之光學傳送信息。
自古以來，於使用光纖之光學通信中，就通信規格或安全性等之理由而言，要求衰減結合於光纖上之光的光量，這樣的要求即使對透鏡陣列而言亦相同。
此處，於專利文獻1、2中揭示藉由將黏合性連接構件夾於其間之2個光學連接器彼此彼此相對，以黏合性連接構件之黏合力連接兩光學連接器之技術。更具體而言，於專利文獻1、2記載的技術中，使用在插入洞之底面上積層有剝離薄膜及黏合性連接構件之黏合性連接構件貼設治具。而且，對該黏合性連接構件貼設治具而言，將光學連接器插入插入洞中，以此等之黏合力將連接器前端面貼設於黏合性連接構件。然後，隨著自插入洞拔出光學連接器，自剝離薄膜剝離被貼設在光學連接器之黏合性連接構件。然後，藉由使於該前端面貼設有黏合性連接構件的光學連接器與對象側之光學連接器相對，以連接兩光學連接器。此時，可藉由相對的應力，於皺褶、氣泡、捲曲、乾斑等之貼設不良情形少的狀態適當地在兩光學連接器之間貼設黏合性連接構件。
其次，將該專利文獻1、2記載的技術應用於黏合性光衰減薄膜，且以對應透鏡陣列的方式貼設光衰減薄膜，可期待以低成本實現對透鏡陣列賦予特定的光學特性(此處為光衰減特性)。
〔習知技術文獻〕 〔專利文獻〕
〔專利文獻1〕日本專利第4644218號
〔專利文獻2〕國際公開WO2010/050183 A1
但是，為透鏡陣列時，有要求單獨將光衰減薄膜貼設於凹入具有一定程度深度之光學面上且與沒有與其他的光學零件接合的情況，在這樣的情況中，由於無法直接就這樣直接利用專利文獻1,2之光學零件(光學連接器)彼此相對的原理，故要求能在貼設不良(皺褶、氣泡、捲曲、乾斑等)情形少的狀態下貼設光衰減薄膜之其他方法。
而且，於透鏡陣列中，由於有互相不同的透鏡彼此貼近的位置關係，而有光衰減薄膜之貼設位置產生偏差的情形，故要求能以不需賦予透鏡具有光衰減特性的方式即可進行高精度貼設。另外，為進行高精度貼設時，必須進行繁雜的調整位置作業，反而導致成本增大的問題，所以也必須將貼設時之作業生產成本抑制為必要的最小值。
此外，於貼設光衰減薄膜時，為使光衰減薄膜之黏合力產生作用，必須將光衰減薄膜壓附於一定程度之光學面 側上，惟於貼設完成後，對光衰減薄膜而言徒增有應力作用，故必須確實地注意避免光衰減薄膜之光學特性伴隨顯著惡化情形。具體而言，於透鏡陣列中處理光衰減薄膜時，實際使用時預先考慮至設置光纖及光電變換裝置為止，於設置光纖或光電變換裝置時及設置狀態中，要求已貼設於光學面之光衰減薄膜不會因設置而受到應力作用。
因此，本發明係有鑑於該點而發明者，其目的在於提供可簡單、適當且以低成本實現賦予基於黏合性光學薄膜之特定的光學特性之透鏡陣列之製造方法、及用於該製造方法之薄膜載持基板及薄膜貼設用治具。
為達成前述目的時，有關透鏡陣列之製造方法的第1發明，其特徵在於用以製造具備：透鏡陣列本體(I)與黏合性光學薄膜(D)之透鏡陣列；該透鏡陣列本體(I)係具有：『在光軸方向(以下定義為「z方向」)互相隔著間隔所配置的第1面及第2面、在前述第1面上沿著垂直於z方向之指定的排列方向(以下定義為「x方向」)所整列形成的複數個透鏡面、通過此等複數個透鏡面之光應通過的前述第2面上的光學面，在前述第2面上形成包含自z方向投影前述複數個透鏡面時之全部投影區域的前述第2面中央的指定區域，且對該區域周邊之區域朝前述透鏡面側凹入而形成凹部，以垂直於z方向予以配置的平面狀光學面、與 夾住前述第2面之前述周邊區域上的前述光學面且在x方向彼此相對的位置平行配設於z方向之一對第1導孔或導針』
該黏合性光學薄膜(D)係在含有該透鏡陣列本體(I)之前述光學面的前述複數個透鏡面中之至少部分的透鏡面之前述投影區域的貼設區域(i)上，以本身的黏合力所貼設而成；做為載持有前述黏合性光學薄膜(D)之薄膜載持基板(II)，係使用如下之薄膜載持基板(II)：『在對應於基板本體(A)z方向的「z”方向」之一表面中與前述貼設區域(i)對應之載持區域(ii)上，自該載持區域(ii)側依序積層接合層(B)、非黏合性第1剝離薄膜(C)、前述黏合性光學薄膜(D)、非黏合性第2剝離薄膜(E)及黏合層(F)，作為前述第1剝離薄膜(C)與前述黏合性光學薄膜(D)之剝離強度的第1剝離強度f(C)-(D)被形成為較前述黏合性光學薄膜(D)與前述第2剝離薄膜(E)之剝離強度的第2剝離強度f(D)-(E)更小，前述基板本體(A)之前述一表面上的前述載持區域(ii)之外側區域上，在夾住前述載持區域(ii)且於對應於x方向之「x"方向」彼此相對的位置上，朝z"方向平行配設有分別對應於前述一對第1導孔/導針之一對第2導孔或導針的薄膜載持基板(II)』； 做為用以在前述貼設區域(i)上貼設前述黏合性光學薄膜(D)之薄膜貼設用治具(III)，係使用如下之薄膜貼設用治具(III)：『具備有與治具本體之z方向對應的「z’方向」之一端面即在應與前述薄膜載持基板(II)及前述透鏡陣列本體(I)臨接的端面上朝向前述薄膜載持基板(II)及前述透鏡陣列本體(I)之側平行突設於z'方向，於與其前端面之前述貼設區域(i)及前述載持區域(ii)對應之保持區域(iii)上使前述薄膜載持基板(II)及前述透鏡陣列本體(I)協作而可暫時保持前述黏合性光學薄膜(D)之薄膜保持用凸部，在前述治具本體之前述一端面上夾住前述薄膜保持用凸部且於對應於x方向之「x’方向」彼此相對的位置上平行配設於z’方向，分別對應於前述一對第1導孔/導針及分別對應前述一對第2導孔/導針之一對針或孔的薄膜貼設用治具(III)』；此外，前述透鏡陣列本體(I)、前述薄膜載持基板(II)及前述薄膜貼設用治具(III)係『在前述薄膜保持用凸部之前端面上確保位置、尺寸對應於前述載持區域(ii)之前述保持區域(iii)，且在前述光學面上確保對應於前述保持區域(iii)之位置、尺寸的前述貼設區域(i)，以及確保前述薄膜保持用凸部插入前述第2面之前述凹部，而設定以前述第1導孔/導針、前述第2導孔/導針及前述針/孔之各中心為基準的前述載持區域(ii)、前述薄膜保持用凸部、前述光學面及前述透鏡面之位置、尺寸』； 以上述為前提，依序實施：第1階段：在前述薄膜載持基板(II)之前述載持區域(ii)上的前述積層物(B)~(F)上，於臨接前述薄膜貼設用治具(III)之前述薄膜保持用凸部的前端面之狀態，使前述薄膜貼設用治具(III)的前述一對針/孔通過前述薄膜載持基板(II)之前述一對第2導孔/導針，以前述黏合層(F)之黏合力貼合前述薄膜保持用凸部的前述保持區域(iii)與最上層之前述黏合層(F)之上表面；第2階段：於該第1階段後，使前述一對針/孔自前述一對第2導孔/導針脫離，以前述第1剝離強度f(C)-(D)與前述第2剝離強度f(D)-(E)之大小關係，在前述第1剝離薄膜(C)與前述黏合性光學薄膜(D)之間產生剝離，以使上層側之3層(D)~(F)保持於前述薄膜保持用凸部之前述保持區域(iii)上的狀態，自殘留於基板本體(A)側之下層側的2層(B)、(C)分離；第3階段：於該第2階段後，在前述透鏡陣列本體(I)之前述光學面上以臨接被保持於前述薄膜保持用凸部之前述保持區域(iii)上的前述3層(D)~(F)之狀態，使前述一對針/孔通過前述透鏡陣列本體(I)之前述一對第1導孔/導針，並且將前述薄膜保持用凸部與前述3層(D)~(F)同時插入前述第2面之前述凹部，以前述黏合性光學薄膜(D)之黏合力使前述3層(D)~(F)中最下層之前述黏合性光學薄膜(D)的下表面貼附於前述光學面之前述貼設區域(i)上； 第4階段：於該第3階段後，使前述一對針/孔自前述一對第1導孔/導針脫離，在前述黏合性光學薄膜(D)與前述第2剝離薄膜(E)之間產生剝離，使上層側之2層(E)、(F)以直接保持於前述薄膜保持用凸部之前述保持區域(iii)上的狀態，自殘留於前述貼設區域(i)側之前述黏合性光學薄膜(D)脫離；藉此製得在前述貼設區域(i)上於較前述第2面之前述周邊的區域還為凹入前述透鏡面側的狀態貼設前述黏合性光學薄膜(D)的前述透鏡陣列。
此處，「剝離強度」係基於「JIS-0237、膠帶．黏合片試驗方法之90°剝離的黏合力」為基準的測定法者。
其次，有關該透鏡陣列之製造方法的第1發明，由於藉由薄膜貼設用治具(III)之薄膜保持用凸部，可使保持於該保持區域(iii)之黏合性光學薄膜(D)到達透鏡陣列本體(I)所凹入的光學面上，故可以貼設不良情形少的狀態將黏合性光學薄膜(D)適當地貼設於對應光學面上至少部分的透鏡面之貼設區域(i)上。而且，視欲剝離的順序而定，僅藉由使用巧妙地分配剝離強度的薄膜載持基板(II)，將黏合性光學薄膜(D)自薄膜載持基板(II)交接至薄膜貼設用治具(III)，然後將黏合性光學薄膜(D)自薄膜貼設用治具(III)交接至透鏡陣列本體(I)之單純步驟，可簡單地貼設黏合性光學薄膜(D)。另外，由於此時藉由薄膜載持基板(II)之第2導孔/導針及透鏡陣列本體(I)之第1導孔/導針引導薄膜貼設用治具(III)之針/孔，可順利地進行薄膜載持基 板(II)-薄膜貼設用治具(III)間之黏合性光學薄膜(D)交接，與薄膜貼設用治具(III)-透鏡陣列本體(I)間之黏合性光學薄膜(D)交接，故可更進一步順利地進行黏合性光學薄膜(D)之貼設作業。另外，此時以薄膜貼設用治具(III)之針/孔、薄膜載持基板(II)之第2導孔/導針及透鏡陣列本體(I)之第1導孔/導針的各中心為基準，確保符合載持區域(ii)、保持區域(iii)及貼設區域(i)之位置、尺寸的整合及將薄膜保持凸部插入第2面之凹部時，藉由設定載持區域(ii)、薄膜保持用凸部、光學面及透鏡面之位置、尺寸，可以單純的步驟且實現高精度地貼設黏合性光學薄膜(D)。而且，貼設於貼設區域(i)後之黏合性光學薄膜(D)，由於不會自第2面之周邊區域突出，故不會在貼設後的黏合性光學薄膜(D)上產生因設置光傳導物或光電變換裝置時之應力作用。因此，可確實地達成本發明所期望的目的。
另外，有關透鏡陣列之製造方法的第2發明，其特徵係於前述第1發明中，前述透鏡陣列本體(I)為『前述光學面自z方向觀察時，呈在x方向長且在垂直於x方向及z方向的方向(以下定義為「y方向」)短的矩形，與連結前述一對第1導孔/導針之中心彼此間的z方向垂直的第1假想線段，自z方向觀察時為平行於x方向，與前述光學面之y方向的中心線一致，與將前述第1假想線段分為二等分之y方向平行的垂直二等分線自z方向觀察時，係與前述光學面之x方向的中心線一致』； 前述薄膜載持基板(II)為『前述載持區域(ii)上之積層物(B)~(F)自z”方向觀察時，呈藉由沿著x”方向之外形線段與沿著垂直於x”方向及z”方向的「y”方向」之外形線段所構成的矩形狀，與連結前述一對第2導孔/導針之中心彼此間的z”方向垂直之第2假想線段為平行於x”方向』；前述薄膜貼設用治具(III)為『前述薄膜保持用凸部之前端面自z’方向觀察時，呈在x’方向上長且在垂直於x’方向及z’方向的「y’方向」上短的矩形，與連結前述一對針/孔之中心彼此間的z’方向垂直之第3假想線段自z’方向觀察時為平行於x’方向，與前述薄膜保持用凸部之前端面的y’方向的中心線一致，與將前述第3假想線段分成2等分之y’方向平行的垂直二等分線自z’方向觀察時，係與前述薄膜保持用凸部之前端面的x’方向之中心線一致』；此外，前述透鏡陣列本體(I)、前述薄膜載持基板(II)及前述薄膜貼設用治具(III)係『滿足下述之(1)~(8)所示的各條件式，(y、y’、y”方向側條件式)
a1+△y>a1’+△y’≧b”+△y” (1)
a2+△y>a2’+△y’≧|a”-b”|+△y” (2)
b”+△y”>b1+△y (3)
|a”-b”|+△y”>|b1-b2|+△y (4)
(x、x’、x”方向側條件式)
c1+△x>c1’+△x’≧d”+△x” (5)
c2+△x>c2’+△x’≧|c”-d”|+△x” (6)
d”+△x”>d1+△x (7)
|c”-d”|+△x”>|d1-d2|+△x (8)
其中，各條件式之參數如下所述。
<前述透鏡陣列本體(I)側之參數>
a1：自前述光學面之y方向的中心位置至沿著前述光學面外周端之x方向的一長邊部為止之y方向的距離
a2：自前述光學面之y方向的中心位置至於y方向與前述光學面外周端之前述一長邊部相對的另一長邊部為止之y方向的距離
b1：自前述光學面之y方向的中心位置至前述至少部分的透鏡面之前述投影區域的y方向之最遠一端為止的y方向之距離
b2：前述至少部分的透鏡面之前述投影區域的y方向之尺寸
c1：自前述光學面之x方向的中心位置至沿著前述光學面外周端之y方向的一短邊部為止的x方向之距離
c2：自前述光學面之x方向的中心位置至前述光學面外周端之前述一短邊部於x方向相對的另一短邊部為止的x方向之距離
d1：自前述光學面之x方向的中心位置至前述至少部分的透鏡面之前述投影區域的x方向之最遠一端為止的x方向之距離
d2：自前述至少部分的透鏡面之前述投影區域的x方向之尺寸
△y：以前述第1導孔/導針之中心為基準的前述透鏡面之y方向的位置公差、前述透鏡面之y方向的直徑公差及前述光學面的y方向的尺寸公差之總公差
△x：以前述第1導孔/導針之中心為基準的前述透鏡面之x方向的位置公差、前述透鏡面之x方向的直徑公差及前述光學面之x方向的尺寸公差之總公差
<前述薄膜貼設用治具(III)側之參數>
a1’：自前述薄膜保持用凸部之前端面的y’方向的中心位置至沿著該前端面外周端之x’方向的一長邊部為止的y’方向之距離
a2’：自前述薄膜保持用凸部之前端面的y’方向的中心位置至該前端面外周端之前述一長邊部與y’方向相對的另一長邊部為止的y’方向之距離
c1’：自前述薄膜保持用凸部之前端面的x’方向的中心位置至該前端面外周端之y’方向的一短邊部為止的x’方向之距離
c2’：自前述薄膜保持用凸部之前端面的x’方向的中心位置至該前端面外周端之前述一短邊部分與x’方向相對的另一短邊部為止的x’方向之距離
△y’：以前述針/孔之中心為基準的前述薄膜保持用凸部之前端面之y’方向的尺寸公差
△x’：以前述針/孔之中心為基準的前述薄膜保持用凸部之前端面的x’方向之尺寸公差
<前述薄膜載持基板(II)側之參數>
a”：前述載持區域(ii)上之前述積層物(B)~(F)之y”方向的尺寸
b”：自前述第2假想線段至前述積層物(B)~(F)之y”方向的最遠一端為止的y”方向之距離
c”：前述積層物(B)~(F)之x”方向的尺寸
d”：自與將前述第2假想線段分成二等分之y”方向平行的垂直二等分至前述積層物(B)~(F)之x”方向的最遠一端為止之x”方向的距離
△y”：以前述第2導孔/導針之中心為基準的前述積層物(B)~(F)之y”方向的尺寸公差
△x”：以前述第2導孔/導針之中心為基準的前述積層物(B)~(F)之x”方向的尺寸公差』。
其次，該請求項2之發明係藉由滿足(1)~(8)之各條件式，可更為高精度地將黏合性光學薄膜(D)貼設於貼設區域(i)上。
此外，有關透鏡陣列之製造方法的第3發明，其特徵係於前述第1或第2發明中，前述至少部分的透鏡面更包含以下情形：為沿著x方向整列的同列透鏡面中之部分透鏡面，及為沿著x方向整列的透鏡面列在y方向隔著間隔形成複數列時之部分列的全部透鏡面。
因此，藉由有關該透鏡陣列之製造方法的第3發明，可使僅對應部分透鏡面之黏合性光學薄膜(D)的貼設，能順應且實現透鏡面之排列變異。
此外，有關透鏡陣列之製造方法的第4發明，其特徵係於前述第1~第3發明中任一項之發明中，前述黏合性光學薄膜(D)為光衰減薄膜。
其次，有關該透鏡陣列之製造方法的第4發明，可以簡單且高精度地貼設光衰減薄膜，並且可確實地避免設置光傳導物時對光衰減薄膜之應力作用。
另外，有關透鏡陣列之製造方法的第5發明，其特徵係於前述第1~第4發明中任一項之發明中，前述黏合性光學薄膜(D)具有複數層構造。
因此，藉由有關該透鏡陣列之製造方法的第5發明，可輕易地進行調整黏合性光學薄膜(D)之光學特性及黏合性等機能。
而且，有關透鏡陣列之製造方法的第6發明，其特徵係於前述第1~第5發明中任一項之發明中，前述第1之導孔/導針係於前述透鏡陣列中設置光傳導物及/或前述光電變換裝置時用於決定前述光傳導物及/或前述光電變換裝置之位置者。
因此，藉由有關該透鏡陣列之製造方法的第6發明，由於可於貼設黏合性光學薄膜(D)時活用透鏡陣列之既存構造，故可更為削減低成本。
此外，有關薄膜載持基板(II)之第1發明，其係用於有關透鏡陣列之製造方法的第1~第6發明中任一項之發明。
其次，藉由有關該薄膜載持基板(II)之第1發明，可藉由使透鏡陣列本體(I)及薄膜貼設用治具(III)協作，簡單、適當且以低成本實現賦予基於黏合性光學薄膜(D)之特定的光學特性。
而且，有關薄膜載持基板(II)之第2發明，其特徵係於有關薄膜載持基板(II)之第1發明中，前述第1剝離薄膜(C)及前述第2剝離薄膜(E)之脫模處理面皆配置於前述黏合性光學薄膜(D)側，且於前述第2階段中，滿足下述(9)所示之條件式：f(C)-(D)<f(D)-(E)<f(A)-(B),f(B)-(C),f(E)-(F),f(F)-(III) (9)
其中，f(A)-(B)：第3剝離強度，其為前述透基板本體(A)與前述接合層(B)的剝離強度
f(B)-(C)：第4剝離強度，其為前述接合層(B)與前述第1剝離薄膜(C)的剝離強度
f(E)-(F)：第5剝離強度，其為前述第2剝離薄膜(E)與前述黏合層(F)的剝離強度
f(F)-(III)：第6剝離強度，其為前述黏合層(F)與前述薄膜貼設用治具(III)的剝離強度
此外，於前述第4階段中滿足下述(10)所示之條件式： f(D)-(E)<f(I)-(D),f(E)-(F),f(F)-(III) (10)
其中，f(I)-(D)：第7剝離強度，其為前述透鏡陣列本體(I)與前述黏合性光學薄膜(D)的剝離強度。
此處，以(9)式及(10)式之右邊所示的逗點區分的複數個剝離強度，係指與在此等剝離強度之間的大小關係無關(即使沒有規定大小關係，仍可適當地達成本請求項之作用效果)，不受有無實際的大小關係所限制(以下相同)。
其次，藉由有關該薄膜載持基板(II)之第2發明，可確實地實現分配視企求的剝離順序而定的剝離強度。
另外，本發明之薄膜貼設用治具(III)，其特徵係用於有關透鏡陣列之製造方法的第1~第6發明中任一項之發明。
因此，藉由本發明之薄膜貼設用治具(III)，可藉由使透鏡陣列本體(I)及薄膜載持基板(II)之協作，簡單、適當且以低成本實現賦予基於黏合性光學薄膜(D)之特定的光學特性。
藉由本發明，可簡單、適當且以低成本實現賦予基於黏合性光學薄膜之特定的光學特性。
1‧‧‧透鏡陣列
2‧‧‧透鏡面
2’‧‧‧投影區域
3‧‧‧凹部
3a‧‧‧底面
4‧‧‧光學面
5‧‧‧周邊區域
6‧‧‧凹部
7‧‧‧第1導孔
10‧‧‧第2導孔
12‧‧‧框體
12a‧‧‧貫通孔
14‧‧‧固定部
15‧‧‧薄膜保持用凸部
15a‧‧‧前端面
16‧‧‧針
17‧‧‧彈推手段
20‧‧‧光纖
21‧‧‧光學連接器
21a‧‧‧針
22‧‧‧發光元件
23‧‧‧受光元件
24‧‧‧光電變換裝置
24a‧‧‧針
25‧‧‧薄膜板
26‧‧‧光衰減薄膜
27‧‧‧剝離薄膜
28‧‧‧凹部
28a‧‧‧底面
70‧‧‧第1導針
100‧‧‧第2導針
160‧‧‧穿設孔
A‧‧‧基板本體
B‧‧‧接合層
Bi1‧‧‧y方向的垂直二等分線
Bi3‧‧‧y’方向的垂直二等分線
C‧‧‧非黏合性第1剝離薄膜
D‧‧‧黏合性光學薄膜
E‧‧‧非黏合性第2剝離薄膜
F‧‧‧黏合層
(i)‧‧‧貼設區域
(ii)‧‧‧載持區域
(iii)‧‧‧保持區域
(I)‧‧‧透鏡陣列本體
(II)‧‧‧薄膜載持基板
(III)‧‧‧薄膜貼設用治具
L1‧‧‧第1假想線段
L2‧‧‧第2假想線段
L3‧‧‧第3假想線段
OA‧‧‧光軸
S1‧‧‧第1面
S2‧‧‧第2面
圖1係表示本發明之透鏡陣列之製造方法的實施形態之透鏡陣列的截面圖。
圖2係圖1之俯視圖。
圖3係圖1之仰視圖。
圖4係圖1之透鏡陣列的透鏡陣列本體(I)之俯視圖。
圖5係表示本發明之透鏡陣列之製造方法的實施形態之薄膜載持基板(II)之構成典型圖。
圖6係圖5之薄膜載持基板(II)之俯視圖。
圖7(a)及(b)係表示圖5之薄膜載持基板(II)的黏合性光學薄膜(D)之具體構成例的典型圖。
圖8係表示本發明之透鏡陣列之製造方法的實施形態之薄膜貼設用治具(III)的前視圖。
圖9係圖8之右側視圖。
圖10係圖9之A-A截面圖。
圖11係圖8之B-B截面圖。
圖12係圖8之要部仰視圖。
圖13係說明本發明之透鏡陣列之製造方法的實施形態之條件式的透鏡陣列本體(I)側之參數的說明圖。
圖14係說明本發明之透鏡陣列之製造方法的實施形態之條件式的薄膜貼設用治具(III)側之參數的說明圖。
圖15係說明本發明之透鏡陣列之製造方法的實施形態之條件式的薄膜載持基板(II)側之參數的說明圖。
圖16(a)及(b)係說明本發明之透鏡陣列之製造方法的實施形態中第1階段的說明圖。
圖17(a)及(b)係說明本發明之透鏡陣列之製造方法的實施形態中第2階段的說明圖。
圖18(a)及(b)係說明本發明之透鏡陣列之製造方法的實施形態中第3階段的說明圖。
圖19(a)及(b)係說明本發明之透鏡陣列之製造方法的實施形態中第4階段的說明圖。
圖20係表示本發明之透鏡陣列之製造方法的實施形態之透鏡陣列於實際使用狀態的構成圖。
圖21係說明本發明之第1變形例時的說明圖。
圖22(a)至(c)係說明本發明之第2變形例時的說明圖。
圖23係於本發明之實施例中，為說明比較例之透鏡陣列之製造方法時的說明圖。
圖24係於本發明之實施例中，表示環境試驗之試驗結果圖。
圖25係表示本發明之第3變形例之透鏡陣列的截面圖。
圖26係圖25之俯視圖。
圖27係表示本發明第4變形例之透鏡陣列的俯視圖。
於下述中，參照圖1~圖27說明有關本發明之透鏡陣列之製造方法的實施形態。
<透鏡陣列之構成>
圖1係表示藉由本實施形態之透鏡陣列之製造方法所製造的透鏡陣列1之截面圖。而且，圖2係圖1之俯視圖。另外，圖3係圖1之仰視圖。此外，圖4係下述之透鏡陣列本體(I)之俯視圖。
如圖1~圖3所示，透鏡陣列1係藉由透鏡陣列本體 (I)與黏合性光學薄膜(D)所構成。
此處，透鏡陣列本體(I)係具有平面約略長方形之板狀外觀，將相當於板厚方向之方向設定為光學面之基準軸的軸方向之光學方向。於下述中，光軸方向定義為「z方向」。
如圖1所示，透鏡陣列本體(I)係具有在z方向互相隔著間隔所配置的彼此相對的第1面S1與第2面S2。第1面S1及第2面S2皆垂直於z方向。
其次，如圖1及圖3所示，在第1面S1上沿著透鏡陣列本體(I)之長度方向的指定排列方向，複數個互相相同直徑的平面圓形(於同圖中為12個)之透鏡面2(於圖1中為凸透鏡面)，以等間距形成1列整列。於下述中，該透鏡面2之排列方向定義為「x方向」。而且，如圖3所示，於x方向互相鄰接的透鏡面2彼此亦可以其外周端彼此互相連接的方式予以配置。而且，於圖3中各透鏡面2係形成於第1面S1中央的指定範圍之位置上朝向第2面S2側所凹入的平面約略長方形的凹部3之底面3a上。惟底面3a係平行於第1面S1之凹部3的周邊部位。另外，如圖1所示，各透鏡面2之光軸OA互相平行，當然亦平行於光軸方向之z方向。
此外，如圖1、圖2及圖4所示，第2面S2係沿著x方向呈長尺狀且沿著垂直於x方向及z方向之方向(以下定義為「y方向」)呈長尺狀之指定範圍的約略矩形之中央區域4，對包圍該區域之矩形框狀周邊區域5而言，做為凹 部6凹入於透鏡面2側。換言之，中央區域4係構成凹部6之底面4。其次，該中央區域4係使通過各透鏡面2之光於事後(傳送信息用)或事前(接受信息用)應通過之光學面4。如圖1所示，光學面4係形成對周邊區域5而言平行且垂直於z方向之平面。如圖4所示，光學面4包含全部使各透鏡面2自z方向投影於第2面S2上之投影區域(圖4之投影部)2’。
此外，如圖2及圖4所示，夾住周邊區域5上之光學面4，於x方向彼此相對的位置上，朝向第1面S1側且於z方向平行穿設有具互相相同直徑之圓形開口的一對第1導孔7。各第1導孔7如圖1及圖3所示可為貫穿孔，亦可為有底洞。如圖4所示，垂直於連結各第1導孔7之中心彼此的z方向之第1假想線段L1，自z方向觀察時平行於x方向，與光學面4之y方向的中心線(表示光學面4之y方向的中心位置之線)一致。而且，第1假想線段L1亦與有關透鏡面2之投影區域2’之y方向的中心線一致。此外，如圖4所示平行於將第1假想線段L1分為二等分之y方向的垂直二等分線Bi1，自z方向觀察時，與光學面4之x方向的中心線(表示光學面4之x方向的中心位置之線)一致。而且，垂直二等分線Bi1亦與有關全部透鏡面2之投影區域2’之x方向的中心線一致。
該透鏡陣列本體(I)，例如亦可藉由使用射出成型模具之聚醚醯亞胺等之透明樹脂材料的射出成形予以一體形成。
另外，如圖1及圖2所示，黏合性光學薄膜(D)係以本身之黏合力貼設於包含光學面4之各透鏡面2中僅部分透鏡面2之投影區域2’的貼設區域(i)。如圖1所示，黏合性光學薄膜(D)之露出側(非貼設側)面(圖1之上表面)，係較周邊區域5還為凹入透鏡面2側。該黏合性光學薄膜(D)之具體構成，如下所述。
<薄膜載持基板(II)之構成>
其次，圖5係表示用於本實施形態之透鏡陣列1之製造方法的薄膜載持基板(II)之構成的典型圖。而且，圖6係薄膜載持基板(II)之俯視圖。
下述於薄膜載持基板(II)中，被設計與x方向對應之方向(對應於x方向之方向)定義為「x”方向」，被設計與y方向對應之方向(對應於y方向之方向)定義為「y”方向」，被設計與z方向對應之方向(對應於z方向之方向)定義為「z”方向」。
如圖5所示，薄膜載持基板(II)係載持有黏合性光學薄膜(D)之基板，該薄膜載持基板(II)具有垂直於z”方向之基板本體(A)。其次，在該基板本體(A)之z”方向中的一表面(圖5為上表面)對應於貼設區域(i)之載持區域(ii)上，自載持區域(ii)側朝向上方依序積層接合層(B)、非黏合性第1剝離薄膜(C)、黏合性光學薄膜(D)、非黏合性第2剝離薄膜(E)及黏合層(F)。
此外，第1剝離薄膜(C)與黏合性光學薄膜(D)之剝離強度的第1剝離強度f(C)-(D)，以較前述黏合性光學薄膜(D) 與前述第2剝離薄膜(E)之剝離強度的第2剝離強度f(D)-(E)更小的方式而形成。該剝離強度之大小關係，亦可藉由調整下述之剝離薄膜(C)、(E)之形成材料等予以實現。另外，第1剝離薄膜(C)與黏合性光學薄膜(D)之間、或第2剝離薄膜(E)與黏合性光學薄膜(D)之間設置下述之剝離機能層，亦可調整剝離強度之大小關係。例如使第1剝離薄膜(C)為在下述基材上積層剝離機能層之構成，且使該剝離機能層鄰接黏合性光學薄膜(D)之構成；使第2剝離薄膜(E)為在下述基材上積層剝離機能層之構成，且使該剝離機能層鄰接黏合性光學薄膜(D)之構成。
此外，如圖7(a)所示黏合性光學薄膜(D)可形成單層構造，或如圖7(b)所示可形成複數層構造(於同圖中D1與D2二層)。此處，使黏合性光學薄膜(D)形成複數層構造時，由於可使黏合性光學薄膜(D)之機能以各層企求的形態分配，例如有關光衰減率等之支配層、有關黏合力等之支配層，故可容易進行調整黏合性光學薄膜(D)之機能。此時，下述之染料或顏料成分，可為複數層構造，或可全部加入。
而且，基板本體(A)可藉由無機材料及有機材料中任一種材料形成，沒有特別的限制，例如可使用玻璃板、金屬板、塑膠板、薄膜等。此等之材料可視使用的接合層(B)而定予以適當選擇。
此外，接合層(B)例如可使用苯酚樹脂、聚酯樹脂、環氧樹脂、尿素樹脂、蜜胺樹脂等之各種熱硬化性樹脂、或 聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂等之各種熱塑性樹脂。此等之樹脂可單獨使用，亦可2種以上混合使用。
另外，接合層(B)亦可使用感壓接合劑。感壓接合劑只要是於乾燥後仍具有不失接合性之自黏性，且藉由加壓黏接的黏接劑即可，特別是以自黏性乳液塗料為宜。
自黏性乳液塗料係以添加有天然橡膠系接合成分與具有平滑表面性之有機及無機填充劑等之非接合成分的構成較佳。
該天然橡膠系成分例如使生天然橡膠乳膠、硫化天然橡膠乳膠及甲基丙烯酸甲酯(MMA)接枝聚合的天然橡膠乳膠等。硫化天然橡膠乳膠之硫化劑例如硫、含硫化合物、有機過氧化物、金屬氧化物、有機多元胺、及改質苯酚樹脂等。
有機填充劑例如纖維素粉末、番薯澱粉、馬鈴薯澱粉、小麥澱粉、玉米澱粉、米澱粉、珍珠粉澱粉、苯乙烯珠、甲基丙烯酸甲酯珠等。此等之有機填充劑，由於平均粒子直徑為5~30μm之大值，添加於感壓接合劑中時，可賦予感壓接合劑層之表面具有凹凸，進行調整黏接力，且可提高耐黏連性，賦予平滑性。而且，此等之有機填充劑以粉末形狀的方式添加較佳。另外，就本發明之目的而言，此等粒子必須具有平滑的表面性。
無機填充劑係與有機填充劑相同地，只要是表面形狀平滑者即可，沒有特別的限制，可使用各種的微粒子，以球狀二氧化矽、玻璃珠較佳。另外，由於重質碳酸鈣、合 成二氧化矽、滑石、高嶺土、氧化鋅、氧化鋁、雲母等為不定形，而為不佳。
此外，於自黏性乳液塗料中，視其所需可添加分散劑、消泡劑、界面活性劑、抗老化劑、紫外線吸收劑等之添加劑。
另外，第1剝離薄膜(C)及第2剝離薄膜(E)，只要是在基材上積層有剝離機能層者即可，其成分與基材之種類沒有特別的限制。剝離機能層例如可使用含有矽成分或氟成分等者。矽成分為矽油、矽酮蠟及聚矽氧樹脂中任一種性質者皆可提供本發明使用。基材以具有約1μm~1000μm之厚度較佳。在該範圍內時，由於基材具有可撓性，有利於製造。基材之厚度的下限值，更佳者為10μm，最佳者為20μm。基材之厚度的上限值，更佳者為200μm，最佳者為50μm。此等基材之厚度的下限值及上限值，可適當組合較佳的範圍、更佳的範圍及最佳的範圍。基材以使用紙或樹脂薄膜較佳。此等之紙或樹脂薄膜具有可撓性。樹脂薄膜沒有特別的限制，具體而言可使用聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、丙烯酸樹脂、聚碳酸酯、聚醯亞胺、聚醯胺、聚醯胺醯亞胺、聚醚碸、聚苯硫、聚醚酮、聚醚醯亞胺、三乙醯基纖維素、聚矽氧橡膠、聚四氟乙烯、氟樹脂薄膜、聚乙烯醇薄膜等。
剝離薄膜(C)、(E)之種類，自剝離機能層中所含的矽成分或氟成分之量多者依序形成輕剝離薄膜、中剝離薄膜、重剝離薄膜，可使用任何一種。而且，亦可使用脫模紙 做為剝離薄膜。
另外，為在基材之表面上設置黏合層、剝離機能層、接合層等時，以在其表面上實施電暈表面處理、火焰處理、電漿處理等之物理性處理做為提高其塗布性之預備處理較佳。為亦藉由該物理性處理來提高剝離強度時，以在欲提高剝離強度的部分實施物理性處理較佳。
此外，黏合性光學薄膜(D)可藉由分散有染料或顏料之黏合劑(塗布黏合劑之溶液且予以乾燥者)予以構成。此時，染料例如可使用直接染料、酸性染料、鹼性染料等。而且，顏料例如可使用異吲哚酮系、蒽醌系、二噁嗪系、偶氮系、萘酚系、喹酞酮系、偶氮次甲基系、苯并咪唑酮系、芘酮(perinone)系、芘蒽酮系、苝系、酞菁系、陰丹士林染料、碳黑系等。另外，黏合劑亦可使用高分子材料、例如丙烯酸系、環氧系、乙烯系、矽氧系、橡膠系、胺基甲酸酯系、甲基丙烯酸系、耐隆系、雙酚系、二醇系、聚醯亞胺系，氟化環氧系、氟化丙烯酸系等之各種黏合劑，此外，視其所需可混合此等，並且加入硬化劑或氟樹脂。而且，如前述使黏合性光學薄膜(D)形成複數層構造時，藉由組合黏合劑與硬化劑或設計配合量等之差別，可以具有互相不同機能(例如光衰減率或黏合力等)的方式構成。
染料或顏料之配合量係視光吸收材料之形態而不同，以0.01重量%~10重量%較佳。
另外，黏合性光學薄膜(D)之膜厚，以形成較第2面S2之周邊區域5與光學面4之段差更薄者為宜。
而且，基本上黏合層(F)亦可藉由與黏合性光學薄膜(D)相同的材料予以構成，惟必須以第2剝離薄膜(E)與黏合層(F)之剝離強度的第5剝離強度較第2剝離強度更大的方式，形成較黏合性光學薄膜(D)之黏合力更大的黏合力。
此外，如圖6所示，在基板本體(A)上表面之載持區域(ii)的外側區域上，夾住載持區域(ii)且於x”方向彼此相對的位置，使分別對應前述一對第1導孔7之具有互相相同內徑的圓形開口之一對第2導孔10，朝向基板本體(A)之下表面側穿設於z”方向。各第2導孔10可為貫通孔，或可為有底洞。而且，各第2導孔10亦可與各第1導孔7具有相同的內徑。
另外，如圖6所示，在載持區域(ii)上之積層物(B)~(F)，自z”方向觀察時呈現藉由沿著x”方向之外形線段與沿著y”方向之外形線段所構成的矩形，該形狀與載持區域(ii)之形狀於z”方向一致(重疊)。
而且，如圖6所示，與連結各第2導孔10之中心彼此的z”方向垂直之第2假想線段L2，平行於x”方向。
<薄膜貼設用治具(III)之構成>
其次，圖8係表示用於本實施形態之透鏡陣列1之製造方法的薄膜貼設用治具(III)(治具本體)之前視圖。而且，圖9係圖8之右側視圖。另外，圖10係圖9之A-A截面圖。此外，圖11係圖8之B-B截面圖。而且，圖12係圖8之要部仰視圖。
於下述中，於薄膜貼設用治具(III)中，被設計與x方 向對應之方向(對應於x方向之方向)定義為「x’方向」，被設計與y方向對應之方向(對應於y方向之方向)定義為「y’方向」，被設計與z方向對應之方向(對應於z方向之方向)定義為「z’方向」。
如圖8~圖11所示，薄膜貼設用治具(III)具有約為正方體形之框體12，沿著z’方向之貫通孔12a穿設於該框體12之底壁部(參照圖10、圖11)。而且，如圖11所示，在框體12之背壁部前端面上之貫通孔12a附近的位置上設置搭載有治具之主要部分的固定部14，該固定部14之下端面係通過貫通孔12a，自框體12內部朝下方予以突出(露出)。其次，該固定部14之下端面相當於「z’方向之一端面，臨接於薄膜載持基板(II)及透鏡陣列本體(I)之端面」。如圖8~圖11所示，在固定部14之下端面上朝向薄膜載持基板(II)及透鏡陣列本體(I)側的下方，使薄膜保持用凸部15平行突設於z’方向。該薄膜保持用凸部15，係於對應其前端面15a(圖8~圖11中為下端面)之貼設區域(i)及載持區域(ii)的保持區域(iii)(參照圖12)上，使薄膜載持基板(II)及透鏡陣列本體(I)協調作用而可暫時保持黏合性光學薄膜(D)。薄膜保持用凸部15係藉由可適當黏合黏合層(F)之材質(例如聚苯基硫醚、環氧樹脂、聚碳酸酯、聚醚醯亞胺等)而形成。
另外，如圖8、圖10、圖12所示，夾住固定部14之下端面上薄膜保持用凸部15且於x’方向彼此相對的位置，使具有分別對應於一對第1導孔7且分別對應於一對第 2導孔10之互相同徑的圓形外周形狀之一對針16，朝向薄膜載持基板(II)及透鏡陣列本體(I)之側(下方)平行突設於z’方向。各針16之外徑以較各第1導孔7及各第2導孔10之內徑稍小的直徑方式形成。
此外，如圖12所示，薄膜保持用凸部15之前端面15a，自z’方向觀察時沿著x’方向呈長尺狀且沿著y’方向呈短尺狀矩形。
而且，如圖12所示，與連結一對針16之中心彼此的z’方向垂直之第3假想線段L3，自z’方向觀察時平行於x’方向，與薄膜保持用凸部15之前端面15a的y’方向之中心線一致。此外，如圖12所示，平行於使第3假想線段L3分成二等分的y’方向之垂直二等分線Bi3，自z’方向觀察時與薄膜保持用凸部15之前端面15a之x’方向的中心線一致。
另外，如圖10所示，一對針16係藉由配設於框體12內之線圈彈簧等之彈推構件予以彈推於下方。
<(I)、(II)、(III)之相關關係>
另外，透鏡陣列本體(I)、薄膜載持基板(II)及薄膜貼設用治具(III)，係各以第1導孔7、第2導孔10及針16之各中心為基準的載持區域(ii)(換言之，積層物(B)~(F))、薄膜保持用凸部15、光學面4及透鏡面2之位置、尺寸予以設定。該位置、尺寸設定，可確保載持區域(ii)上對應位置、尺寸之保持區域(iii)在薄膜保持用凸部15之前端面15a上，且確保保持區域(iii)上對應位置、尺寸之貼設區域(i) 在光學面4上，並可確保薄膜保持用凸部15插入第2面S2之凹部6中。
更具體而言，透鏡陣列本體(I)、薄膜載持基板(II)及薄膜貼設用治具(III)，設定為滿足下述(1)~(8)所示之各條件式。
(y、y’、y”方向側條件式)
a1+△y>a1’+△y’≧b”+△y” (1)
a2+△y>a2’+△y’≧|a”-b”|+△y” (2)
b”+△y”>b1+△y (3)
|a”-b”|+△y”>|b1-b2|+△y (4)
(x、x’、x”方向側條件式)
c1+△x>c1’+△x’≧d”+△x” (5)
c2+△x>c2’+△x’≧|c”-d”|+△x” (6)
d”+△x”>d1+△x (7)
|c”-d”|+△x”>|d1-d2|+△x (8)
其中，各條件式之參數如下所述，<透鏡陣列本體(I)側之參數>
a1：(1)式左邊所含的該參數，如圖13所示自光學面4之y方向的中心位置至沿著光學面4的外周端之x方向的一長邊部為止之y方向的距離。
a2：(2)式左邊所含的該參數，如圖13所示自光學面4之y方向的中心位置至光學面4的外周端上以a1所述之一長邊部於y方向相對的另一長邊部為止之y方向的距離。
b1：(3)式右邊及(4)式右邊所含的該參數，如圖13所示自光學面4之y方向的中心位置至前述僅部分的透鏡面2之投影區域2’的y方向之最遠一端為止的y方向之距離。
b2：(4)式右邊所含的該參數，如圖13所示自前述僅部分的透鏡面2之投影區域2’的y方向之尺寸(即透鏡面2之y方向的尺寸)。
c1：(5)式左邊所含的該參數，如圖13所示自光學面4之x方向的中心位置至沿著光學面4的外周端之y方向的一短邊部為止的x方向之距離。
c2：(6)式左邊所含的該參數，如圖13所示自光學面4之x方向的中心位置至光學面4的外周端上以c1所述的一短邊部於x方向相對的另一短邊部為止的x方向之距離。
d1：(7)式右邊及(8)式右邊所含的該參數，如圖13所示自光學面4之x方向的中心位置至前述僅部分的透鏡面2之投影區域2’的x方向之最遠一端為止的x方向之距離。
d2：(8)式右邊所含的該參數，如圖13所示自前述僅部分的透鏡面2之投影區域2’的x方向之合計尺寸(即前述部分的透鏡面2之x方向的合計尺寸)。
△y：(1)式及(2)式左邊、(3)式及(4)式右邊所含的該參數，以第1導孔7之中心為基準的前述透鏡面2之y方向的位置(中心位置)公差、透鏡面2之y方向的直徑公差及光學面4的y方向的尺寸公差之總公差。
△x：(5)式及(6)式左邊、(7)式及(8)式右邊所含的該參數，以第1導孔7之中心為基準的透鏡面2之x方向的位置公差、透鏡面2之x方向的直徑公差及光學面4之x方向的尺寸公差之總公差。
<薄膜貼設用治具(III)側之參數>
a1’：(1)式中間所含的該參數，如圖14所示自薄膜保持用凸部15之前端面15a的y’方向的中心位置至沿著前端面15a之外周端之x’方向的一長邊部為止的y’方向之距離。
a2’：(2)式中間所含的該參數，如圖14所示自薄膜保持用凸部15之前端面15a的y’方向之中心位置至前端面15a之外周端上以a1’所述之一長邊部的y’方向相對的另一長邊部為止的y’方向之距離。
c1’：(5)式中間所含的該參數，如圖14所示自薄膜保持用凸部15之前端面15a的x’方向之中心位置至前端面15a之外周端之y’方向的一短邊部為止的x’方向之距離。
c2’：(6)式中間所含的該參數，如圖14所示自薄膜保持用凸部15之前端面15a的x’方向的中心位置至前端面15a之外周端之前述一短邊部分與x’方向相對的另一短邊部為止的x’方向之距離。
△y’：(1)式及(2)式中間所含的該參數，以針16之中心為基準的前述薄膜保持用凸部15之前端面15a之y’方向的尺寸公差。
△x’：(5)式及(6)式中間所含的該參數，以針16之中心為基準的薄膜保持用凸部15之前端面15a的x’方向之尺寸公差。
<薄膜載持基板(11)側之參數>
a”：(2)式右邊及(4)式左邊所含的該參數，如圖15所示載持區域(ii)上之積層物(B)~(F)之y”方向的尺寸。換言之，此係載持區域(ii)之y”方向的尺寸。
b”：(1)式及(2)式右邊、(3)式及(4)式左邊所含的該參數，如圖15所示自前述第2假想線段L2至積層物(B)~(F)(即載持區域(ii))之y”方向的最遠一端為止的y”方向之距離。
c”：(6)式右邊及(8)式左邊所含的該參數，如圖15所示積層物(B)~(F)(即載持區域(ii))之x”方向的尺寸。
d”：(5)式及(6)式右邊、(7)式及(8)式左邊所含的該參數，如圖15所示自平行於將第2假想線段L2分成二等分之y”方向的垂直二等分至積層物(B)~(F)(即載持區域(ii))之x”方向的最遠一端為止之x”方向的距離。
△y”：(1)式及(2)式右邊、(3)式及(4)式左邊所含的該參數，以第2導孔10之中心為基準的積層物(B)~(F)(即載持區域(ii))之y”方向的尺寸公差。
△x”：(5)式及(6)式右邊、(7)式及(8)式左邊所含的該參數，以第2導孔10之中心為基準的積層物(B)~(F)(即載持區域(ii))之x”方向的尺寸公差。
<條件式之意義>
滿足全部(1)、(2)、(5)及(6)式之各中間與右邊的大小關係時，假定第2導孔10之中心與針16之中心一致時，可積層物(B)~(F)(即使載持區域(ii))在薄膜保持用凸部15之前端面15a上於y’方向及x’方向皆沒有露出重疊的情形。此係可確保載持區域(ii)上對應於位置、尺寸之保持區域(iii)在薄膜保持用凸部15之前端面15a上。
另外，滿足全部(1)、(2)、(5)及(6)式之各左邊與中間的大小關係時，假定使針16之中心與第1導孔7之中心一致時，可使薄膜保持用凸部15之前端面15a在光學面4上皆沒有於y方向及x方向露出重疊。此係可確保將薄膜保持用凸部15插入第2面S2之凹部6中。
此外，確保將薄膜保持用凸部15插入第2面S2之凹部6中，可使確保於薄膜保持用凸部15之前端面15a上的保持區域(iii)在光學面4上皆沒有於y方向及x方向露出重疊。
惟為使該重疊的保持區域(iii)相當於貼設區域(i)時，該區域(iii)必須包含前述僅部分透鏡面2之投影區域2’。其次，可藉由滿足(3)、(4)、(7)及(8)式予以實現。換言之，可確保保持區域(iii)上對應於位置、尺寸的貼設區域(i)在光學面4上。
<實際之製造步驟>
以上述為前提，於本實施形態中依序實施下述之階段。
<第1階段>
於第1階段中，如圖16所示對載置於水平作業面s上之薄膜載持基板(II)之載持區域(ii)上的積層物(B)~(F)而言，臨接薄膜貼設用治具(III)之薄膜保持用凸部15的一前端面15a。而且，本階段及下述之第2階段中，x’方向與x”方向一致，y’方向與y”方向一致，z’方向與z”方向一致。
其次，使薄膜貼設用治具(III)之一對針16以該狀態插入薄膜載持基板(II)之一對第2導孔10中，且使薄膜貼設用治具(III)移動至薄膜載持基板(II)側。此時，連接作業面s上(第2導孔10為貫通孔時)或第2導孔10之底部(為有底洞時)之一對針16，藉由在對抗彈推手段17(參照圖10)之彈推力的方向退縮，依序完成薄膜保持用凸部15與積層物(B)~(F)之間隔。
該薄膜貼設用治具(III)之操作，可以手動進行，亦可使用專用的活化器進行(以下相同)。
藉此，如圖16(b)所示，薄膜保持用凸部15之保持區域(iii)與積層物(B)~(F)之最上層的黏合層(F)上表面以黏合層(F)之黏合力予以貼合。
此時，積層物(B)~(F)亦可以藉由薄膜保持用凸部15押碎的方式，規定針16之退縮量的任何手段。該手段例如將為利用該接力限制針16之一定量以上的退縮量時之停止器設置於固定部14，或設定活化器上薄膜貼設用治具(III)之操作量等。
<第2階段>
然後，於第2階段中，如圖17(a)所示使一對針16自一對第2導孔10拔出，且將薄膜貼設用治具(III)移動至薄膜載持基板(II)之相反側。
此時，利用第1剝離強度f(C)-(D)與第2剝離強度f(D)-(E)之大小關係，在第1剝離薄膜(C)與黏合性光學薄膜(D)之間產生剝離，以如圖17(b)所示使上層側之3層(D)~(F)保持於薄膜保持用凸部15之保持區域(iii)上的狀態，自殘留於基板本體(A)側之下層側的2層(B)、(C)分離。
更具體而言，於第2階段中滿足下述之(9)式。
f(C)-(D)<f(D)-(E)<f(A)-(B),f(B)-(C),f(E)-(F),f(F)-(III) (9)
其中，f(A)-(B)係基板本體(A)與接合層(B)的剝離強度(以下稱為第3剝離強度)。而且，f(B)-(C)係接合層(B)與第1剝離薄膜(C)的剝離強度(以下稱為第4剝離強度)。另外，f(E)-(F)：係第2剝離薄膜(E)與黏合層(F)的剝離強度(以下稱為第5剝離強度)。此外，f(F)-(III)係黏合層(F)與薄膜貼設用治具(III)的剝離強度(以下稱為第6剝離強度)。
藉由滿足該第1~第6之剝離強度的大小關係，如圖17(b)所示可確實地形成剝離的狀態。
<第3階段>
其次，於第3階段中，如圖18(a)所示在透鏡陣列本體(I)之光學面4上臨接保持於薄膜保持用凸部15之保持區域(iii)上的3層(D)~(F)。而且，於本階段及下述之第4階段中，x’方向與x方向一致，y’方向與y方向一致，z’方向與z方向一致。
然後，該狀態係將薄膜貼設用治具(III)之一對針16插入透鏡陣列本體(I)之一對第1導孔7中，且將薄膜貼設用治具(III)移動至透鏡陣列本體(I)側。此時，將薄膜保持用凸部15與3層(D)~(F)同時插入第2面S2之凹部6。
藉此，如圖18(b)所示使3層(D)~(F)中最下層之黏合性光學薄膜(D)的下表面以黏合性光學薄膜(D)之黏合力貼設於光學面4之貼設區域(i)上。
<第4階段>
其次，於第4階段中，如圖19(a)所示使一對針16自一對第1導孔7拔出，且將薄膜貼設用治具(III)移動至透鏡陣列本體(I)之相反側。
此時，滿足下述之(10)式。
f(D)-(E)<f(I)-(D),f(E)-(F),f(F)-(III) (10)
其中，f(I)-(D)：第7剝離強度，透鏡陣列本體(I)與黏合性光學薄膜(D)的剝離強度。
如此，第2剝離強度利用較第5~第7之剝離強度更小的關係，在黏合性光學薄膜(D)與第2剝離薄膜(E)之間產生剝離，如圖19(b)所示使上層側之2層(E)、(F)以直接保持於薄膜保持用凸部15之保持區域(iii)上的狀態，自殘留於貼設區域(i)側之黏合性光學薄膜(D)分離。此時，當然貼設區域(i)與黏合性光學薄膜(D)之密接性更為堅固。
藉此製得在貼設區域(i)上以黏合性光學薄膜(D)較第2面S2之周邊區域5還為凹入透鏡面2側的狀態予以貼設的透鏡陣列1(參照圖1)。
本實施形態藉由薄膜貼設用治具(III)之薄膜保持用凸部15，由於可使保持於該保持區域(iii)之黏合性光學薄膜(D)到達凹入透鏡陣列本體(I)的光學面4上，可使黏合性光學薄膜(D)以貼設不良情形少的狀態貼設於光學面4之對應僅部分透鏡面2的貼設區域(i)上。而且，視企求的剝離的順序而定，藉由使用巧妙地分配剝離強度之薄膜載持基板(II)，使黏合性光學薄膜(D)自薄膜載持基板(II)轉接至薄膜貼設用治具(III)，與將黏合性光學薄膜(D)自薄膜貼設用治具(III)轉接至透鏡陣列本體(I)之單純步驟，可簡單地貼設黏合性光學薄膜(D)。另外，此時藉由薄膜載持基板(II)之第2導孔10及透鏡陣列本體(I)之第1導孔7導引薄膜貼設用治具(III)之針16，由於可平順地進行薄膜載持基板(II)-薄膜貼設用治具(III)間之黏合性光學薄膜(D)的轉接，與薄膜貼設用治具(III)-透鏡陣列本體(I)間之黏合性光學薄膜(D)的轉接，故可更為提高黏合性光學薄膜(D)之貼設作業。此外，此時藉由滿足(1)~(8)之各條件式，可實現簡單的步驟且貼設高精度的黏合性光學薄膜(D)。而且，由於沒有使貼設於貼設區域(i)後的黏合性光學薄膜(D)自周邊區域5突出，故於設置光傳導物或光電變換裝置時之應力沒有作用於貼設後之黏合性光學薄膜(D)。此外，圖20係表示收容做為光傳導物之複數條光纖20之光學連接器21，以連接於周邊區域5的方式設置於光學面4側，另外，所整列形成有VCSEL等之複數個發光元件22及光學感測器等之複數個受光元件23之光電變換裝置24，呈現設置 於透鏡面2側之狀態(實際使用狀態之一例)。由圖20可知，黏合性光學薄膜(D)不會受到來自光學連接器21之應力。而且，圖20之第1導孔7(貫通孔)，可用於藉由插入用以決定設置於光學連接器21之位置之針21a來決定光學連接器21之設置位置，並且可用於藉由插入用以決定設置於光電變換裝置24(半導體基板上)的位置之針24a來決定光電變換裝置24之設置位置。
<變形例>
除上述方法外，本發明中可使用各種之變形例。
(變形例1)
例如於前述實施形態中，對應黏合性光學薄膜(D)之貼設區域(i)的「部分透鏡面2」，係整列於x方向的同列透鏡面2中之部分(圖2中自左邊分為4個)透鏡面2，惟圖21所示之投影區域2’，沿著x方向整列的透鏡面2之列在y方向隔著間隔形成複數列(2列)時，部分全部列之透鏡面2做為「部分透鏡面2」。而且，圖中雖沒有表示，惟複數列之透鏡面2中各列之各部分透鏡面2做為「部分的透鏡面2」。
(變形例2)
此外，如圖22(a)所示在透鏡陣列本體(I)之同位置上突設第1導針70取代第1導孔7，且如圖22(b)所示在薄膜載持基板(II)之同位置上突設第2導針100取代第2導孔10，如圖22(c)所示在薄膜貼設用治具(III)之同位置上穿設孔160取代針16。
此時，第1導針70及第2導針100之外徑亦可為互相同徑者。而且，孔160之內徑以較第1導針70及第2導針100之外徑稍大的方式而形成。
另外，此時於前述實施形態中以第1導針70取代第1導孔7，以孔160取代針16，以第2導孔10取代第2導針100。
[實施例]
其次，於實施例中對藉由前述方法(第1~第4之階段)貼設有做為黏合性光學薄膜(D)之光衰減薄膜之透鏡陣列1，進行觀察光衰減薄膜之光結合損失的安定性之環境試驗。
而且，本環境試驗中使用的本發明之透鏡陣列1，有關(1)~(8)式之參數係如下述予以設定。
透鏡陣列參數
有關(1)式之參數a1+△y=0.35±0.03mm、a1’+△y’=0.3±0.015mm、b”+△y”=0.28-0.02mm
有關(2)式之參數a2+△y=0.35±0.03mm、a2’+△y’=0.3±0.015mm、| a”-b”|+△y”=0.28-0.02mm
有關(3)式之參數b”+△y”=0.28-0.02mm、b1+△y=0.25±0.005mm
有關(4)式之參數 | a”-b”|+△y”=0.28-0.02mm、| b1-b2 |+△y=0.25±0.005mm
有關(5)式之參數c1+△x=1.65±0.03mm、c1’+△x’=1.6±0.015mm、d”+△x”=1.58-0.02mm
有關(6)式之參數c2+△x=1.65±0.03mm、c2’+△x’=1.6±0.015mm、| c”-d”|+△x”=1.58-0.02mm
有關(7)式之參數d”+△x”=1.58-0.02mm、d1+△x=1.5±0.005mm
有關(8)式之參數| c”-d”|+△x”=1.58-0.02mm、| d1-d2 |+△x=1.5±0.005mm
該設定的透鏡陣列1，可滿足全部(1)~(8)式。
此外，於本環境試驗中，比較例之透鏡陣列係使用藉由圖23所示之製造方法所製造者。具體而言，於圖23所示之製造方法中，配置有光衰減薄膜26之薄膜板25係使用在平板本體之上表面中央部利用指定的空隙形成較透鏡陣列本體(I)之x,y方向尺寸更大的凹部28，並且在該凹部28之底面28a上以對應「部分透鏡面2」的方式積層配置有剝離薄膜27及光衰減薄膜26者。然後，對該薄膜板25而言，藉由使透鏡陣列本體(I)以其光學面4朝向下側的狀態插入凹部28內，將光衰減薄膜26貼設於光學面4上。
其次，於本環境試驗中，將上述之本發明及比較例之試料曝曬於溫度85℃、濕度85%之環境中，自試驗開始至經過1000小時後，求取自試驗開始前之變化量做為經過2000小時後之結合損失。測定結合損失時，使用圖20所示之設置有VCSEL與光纖之構成。
本環境試驗之結果，如圖24所示者。
由該圖24之結果可知，藉由本發明之製造方法所製造的透鏡陣列1，即使經過2000小時後幾乎完全沒有結合損失惡化的情形(未達-0.05dB)，在高溫高濕下長時間使用仍具有充分的耐性。對此而言，藉由圖23之製造方法所製造的透鏡陣列，經過2000小時後結合損失之變化超過-0.8dB，無法忍耐在高溫高濕下長時間使用。由結果可知，藉由本發明之製造方法，可以皺褶、氣泡、捲曲、乾斑等貼設不良的情形少之方式，將光衰減薄膜貼設於光學面4上。
而且，本發明不受前述之實施形態所限制，在不會損害本發明特徵之範圍內可做各種變更。
例如，於前述實施形態中，包含部分透鏡面2之投影區域2’之區域為貼設區域(i)，如圖25及圖26所示之第3變形例及圖27所示之變形例，包含全部透鏡面2之投影區域2’的區域亦可做為貼設區域(i)。
A‧‧‧基板本體
B‧‧‧接合層
C‧‧‧非黏合性第1剝離薄膜
D‧‧‧黏合性光學薄膜
E‧‧‧非黏合性第2剝離薄膜
F‧‧‧黏合層
(ii)‧‧‧載持區域
(II)‧‧‧薄膜載持基板

Claims (14)

  1. 一種透鏡陣列之製造方法，其特徵在於用以製造具備：透鏡陣列本體(I)與黏合性光學薄膜(D)之透鏡陣列；該透鏡陣列本體(I)係具有：『在光軸方向之z方向互相隔著間隔所配置的第1面及第2面；在前述第1面上沿著垂直於Z方向之指定的排列方向之x方向所整列形成的複數個透鏡面；通過此等複數個透鏡面之光應通過的前述第2面上的光學面，該光學面在前述第2面上形成包含自z方向投影前述複數個透鏡面時之全部投影區域的前述第2面中央的指定區域，且對該區域周邊之區域朝前述透鏡面側凹入而形成凹部，以垂直於z方向予以配置的平面狀光學面；以及於夾住前述第2面之前述周邊區域上的前述光學面且朝x方向彼此相對的位置，平行配設於z方向之一對第1導孔或導針』；該黏合性光學薄膜(D)係在含有該透鏡陣列本體(I)之前述光學面的前述複數個透鏡面中之至少部分的透鏡面之前述投影區域的貼設區域(i)上，以本身的黏合力所貼設而成；做為載持有前述黏合性光學薄膜(D)之薄膜載持基板(II)，係使用如下之薄膜載持基板(II)：『在對應於基板本體(A)z方向的「z”方向」之一表面中之與前述貼設區域(i)對應之載持區域(ii)上，自該載持區域(ii)側依序積層接合層(B)、非黏合性第1剝離薄膜(C)、 前述黏合性光學薄膜(D)、非黏合性第2剝離薄膜(E)及黏合層(F)；作為前述第1剝離薄膜(C)與前述黏合性光學薄膜(D)之剝離強度的第1剝離強度f(C)-(D)被形成為較前述黏合性光學薄膜(D)與前述第2剝離薄膜(E)之剝離強度的第2剝離強度f(D)-(E)更小；前述基板本體(A)之前述一表面上的前述載持區域(ii)之外側區域上，在夾住前述載持區域(ii)且於對應於x方向之「x"方向」彼此相對的位置上，朝z"方向平行配設有分別對應於前述一對第1導孔/導針之一對第2導孔或導針的薄膜載持基板(II)』；做為用以在前述貼設區域(i)上貼設前述黏合性光學薄膜(D)之薄膜貼設用治具(III)，係使用如下之薄膜貼設用治具(III)：『於具備有與治具本體之z方向對應的「z’方向」之一端面即在應與前述薄膜載持基板(II)及前述透鏡陣列本體(I)臨接的端面上朝向前述薄膜載持基板(II)及前述透鏡陣列本體(I)之側平行突設於z'方向，於與其前端面之前述貼設區域(i)及前述載持區域(ii)對應之保持區域(iii)上與前述薄膜載持基板(II)及前述透鏡陣列本體(I)協作而可暫時保持前述黏合性光學薄膜(D)之薄膜保持用凸部；在前述治具本體之前述一端面上夾住前述薄膜保持用凸部且於對應於x方向之「x’方向」彼此相對的位置上平行配設於z’方向，分別對應於前述一對第1導孔/導針及分別對應前述一對第2導孔/導針之一對針或孔的薄膜貼設用治具(III)』； 此外，前述透鏡陣列本體(I)、前述薄膜載持基板(II)及前述薄膜貼設用治具(III)係『在前述薄膜保持用凸部之前端面上確保位置、尺寸對應於前述載持區域(ii)之前述保持區域(iii)，且在前述光學面上確保對應於前述保持區域(iii)之位置、尺寸的前述貼設區域(i)，以及確保前述薄膜保持用凸部插入前述第2面之前述凹部，而設定以前述第1導孔/導針、前述第2導孔/導針及前述針/孔之各中心為基準的前述載持區域(ii)、前述薄膜保持用凸部、前述光學面及前述透鏡面之位置、尺寸』；以上述為前提，依序實施：第1階段：在前述薄膜載持基板(II)之前述載持區域(ii)上的前述積層物(B)~(F)上，於臨接前述薄膜貼設用治具(III)之前述薄膜保持用凸部的前端面之狀態，使前述薄膜貼設用治具(III)的前述一對針/孔通過前述薄膜載持基板(II)之前述一對第2導孔/導針，以前述黏合層(F)之黏合力貼合前述薄膜保持用凸部的前述保持區域(iii)與最上層之前述黏合層(F)之上表面；第2階段：於該第1階段後，使前述一對針/孔自前述一對第2導孔/導針脫離，以前述第1剝離強度f(C)-(D)與前述第2剝離強度f(D)-(E)之大小關係，在前述第1剝離薄膜(C)與前述黏合性光學薄膜(D)之間產生剝離，以使上層側之3層(D)~(F)保持於前述薄膜保持用凸部之前述保持區域(iii)上的狀態，自殘留於基板本體(A)側之下層側的2層(B)、(C)分離；第3階段：於該第2階段後，在前述透鏡陣列本體(I)之前述光學面上以臨接被保持於前述薄膜保持用凸部之前述 保持區域(iii)上的前述3層(D)~(F)之狀態，使前述一對針/孔通過前述透鏡陣列本體(I)之前述一對第1導孔/導針，並且將前述薄膜保持用凸部與前述3層(D)~(F)同時插入前述第2面之前述凹部，以前述黏合性光學薄膜(D)之黏合力使前述3層(D)~(F)中最下層之前述黏合性光學薄膜(D)的下表面貼附於前述光學面之前述貼設區域(i)上；第4階段：於該第3階段後，使前述一對針/孔自前述一對第1導孔/導針脫離，在前述黏合性光學薄膜(D)與前述第2剝離薄膜(E)之間產生剝離，使上層側之2層(E)、(F)以直接保持於前述薄膜保持用凸部之前述保持區域(iii)上的狀態，自殘留於前述貼設區域(i)側之前述黏合性光學薄膜(D)脫離；藉此製得在前述貼設區域(i)上於較前述第2面之前述周邊的區域還為凹入前述透鏡面側的狀態貼設有前述黏合性光學薄膜(D)的前述透鏡陣列。
  2. 如請求項1所記載的透鏡陣列之製造方法，其中前述透鏡陣列本體(I)係『前述光學面自z方向觀察時，呈在x方向上長且在垂直於x方向及z方向的y方向短的矩形；與連結前述一對第1導孔/導針之中心彼此間的z方向垂直的第1假想線段，自z方向觀察時平行於x方向，與前述光學面之y方向的中心線一致；與將前述第1假想線段分為二等分之y方向平行的垂直二等分線自z方向觀察時，係與前述光學面之x方向的中心線一致』； 前述薄膜載持基板(II)係『前述載持區域(ii)上之積層物(B)~(F)自z”方向觀察時，呈藉由沿著x”方向之外形線段與沿著垂直於x”方向及z”方向的「y”方向」之外形線段所構成的矩形狀；與連結前述一對第2導孔/導針之中心彼此間的z”方向垂直之第2假想線段為平行於x”方向』；前述薄膜貼設用治具(III)係『前述薄膜保持用凸部之前端面自z’方向觀察時，呈在x’方向上長且在垂直於x’方向及z’方向的「y’方向」上短的矩形；與連結前述一對針/孔之中心彼此間的z’方向垂直之第3假想線段自z’方向觀察時為平行於x’方向，與前述薄膜保持用凸部之前端面的y’方向的中心線一致；與將前述第3假想線段分成2等分之y’方向平行的垂直二等分線自z’方向觀察時，係與前述薄膜保持用凸部之前端面的x’方向之中心線一致』；此外，前述透鏡陣列本體(I)、前述薄膜載持基板(II)及前述薄膜貼設用治具(III)係『滿足下述之(1)~(8)所示的各條件式；(y、y’、y”方向側條件式)a1+Δy>a1’+Δy’≧b”+Δy” (1) a2+Δy>a2’+Δy’≧|a”-b”|+Δy” (2) b”+Δy”>b1+Δy (3) |a”-b”|+Δy”>|b1-b2|+Δy (4)(x、x’、x”方向側條件式)c1+Δx>c1’+Δx’≧d”+Δx” (5) c2+Δx>c2’+Δx’≧|c”-d”|+Δx” (6) d”+Δx”>d1+Δx (7) |c”-d”|+Δx”>|d1-d2|+Δx (8)其中，各條件式之參數如下所述；<前述透鏡陣列本體(I)側之參數>a1：自前述光學面之y方向的中心位置至沿著前述光學面外周端之x方向的一長邊部為止之y方向的距離；a2：自前述光學面之y方向的中心位置至於y方向與前述光學面外周端之前述一長邊部相對的另一長邊部為止之y方向的距離；b1：自前述光學面之y方向的中心位置至前述至少部分的透鏡面之前述投影區域的y方向之最遠一端為止的y方向之距離；b2：前述至少部分的透鏡面之前述投影區域的y方向之尺寸；c1：自前述光學面之x方向的中心位置至沿著前述光學面外周端之y方向的一短邊部為止的x方向之距離；c2：自前述光學面之x方向的中心位置至前述光學面外周端之前述一短邊部於x方向相對的另一短邊部為止的x方向之距離；d1：自前述光學面之x方向的中心位置至前述至少部分的透鏡面之前述投影區域的x方向之最遠一端為止的x方向之距離；d2：自前述至少部分的透鏡面之前述投影區域的x方向之尺寸； Δy：以前述第1導孔/導針之中心為基準的前述透鏡面之y方向的位置公差、前述透鏡面之y方向的直徑公差及前述光學面的y方向的尺寸公差之總公差；Δx：以前述第1導孔/導針之中心為基準的前述透鏡面之x方向的位置公差、前述透鏡面之x方向的直徑公差及前述光學面之x方向的尺寸公差之總公差；<前述薄膜貼設用治具(III)側之參數>a1’：自前述薄膜保持用凸部之前端面的y’方向的中心位置至沿著該前端面外周端之x’方向的一長邊部為止的y’方向之距離；a2’：自前述薄膜保持用凸部之前端面的y’方向的中心位置至該前端面外周端之前述一長邊部與y’方向相對的另一長邊部為止的y’方向之距離；c1’：自前述薄膜保持用凸部之前端面的x’方向的中心位置至該前端面外周端之y’方向的一短邊部為止的x’方向之距離；c2’：自前述薄膜保持用凸部之前端面的x’方向的中心位置至該前端面外周端之前述一短邊部分與x’方向相對的另一短邊部為止的x’方向之距離；Δy’：以前述針/孔之中心為基準的前述薄膜保持用凸部之前端面之y’方向的尺寸公差；Δx’：以前述針/孔之中心為基準的前述薄膜保持用凸部之前端面的x’方向之尺寸公差；<前述薄膜載持基板(II)側之參數>a”：前述載持區域(ii)上之前述積層物(B)~(F)之y”方向的尺寸； b”：自前述第2假想線段至前述積層物(B)~(F)之y”方向的最遠一端為止的y”方向之距離；c”：前述積層物(B)~(F)之x”方向的尺寸；d”：自與將前述第2假想線段分成二等分之y”方向平行的垂直二等分至前述積層物(B)~(F)之x”方向的最遠一端為止之x”方向的距離；Δy”：以前述第2導孔/導針之中心為基準的前述積層物(B)~(F)之y”方向的尺寸公差；Δx”：以前述第2導孔/導針之中心為基準的前述積層物(B)~(F)之x”方向的尺寸公差』。
  3. 如請求項1所記載的透鏡陣列之製造方法，其中前述至少部分的透鏡面包含以下情形：為沿著x方向整列的同列透鏡面中之部分透鏡面；以及為沿著x方向整列的透鏡面列在y方向隔著間隔形成複數列時之部分列的全部透鏡面。
  4. 如請求項2所記載的透鏡陣列之製造方法，其中前述至少部分的透鏡面包含以下情形：為沿著x方向整列的同列透鏡面中之部分透鏡面；以及為沿著x方向整列的透鏡面列在y方向隔著間隔形成複數列時之部分列的全部透鏡面。
  5. 如請求項1所記載的透鏡陣列之製造方法，其中前述黏合性光學薄膜(D)為光衰減薄膜。
  6. 如請求項2所記載的透鏡陣列之製造方法，其中前述黏合性光學薄膜(D)為光衰減薄膜。
  7. 如請求項3所記載的透鏡陣列之製造方法，其中前述黏合性光學薄膜(D)為光衰減薄膜。
  8. 如請求項4所記載的透鏡陣列之製造方法，其中前述黏合性光學薄膜(D)為光衰減薄膜。
  9. 如請求項1~8中任一項所記載的透鏡陣列之製造方法，其中前述黏合性光學薄膜(D)為具有複數層構造者。
  10. 如請求項1~8中任一項所記載的透鏡陣列之製造方法，其中前述第1導孔/導針係於前述透鏡陣列中設置光傳導物及/或光電變換裝置時用於決定前述光傳導物及/或前述光電變換裝置之位置者。
  11. 如請求項9所記載的透鏡陣列之製造方法，其中前述第1導孔/導針係於前述透鏡陣列中設置光傳導物及/或光電變換裝置時用於決定前述光傳導物及/或前述光電變換裝置之位置者。
  12. 一種薄膜載持基板(II)，其特徵係使用於如請求項1~11中任一項所記載的透鏡陣列之製造方法。
  13. 如請求項12所記載的薄膜載持基板(II)，其中前述第1剝離薄膜(C)及前述第2剝離薄膜(E)之脫模處理面皆配置於前述黏合性光學薄膜(D)側；且於前述第2階段中滿足下述(9)所示之條件式：f(C)-(D)<f(D)-(E)<f(A)-(B),f(B)-(C),f(E)-(F),f(F)-(III) (9)其中，f(A)-(B)：第3剝離強度，其為前述透基板本體(A)與前述接合層(B)的剝離強度；f(B)-(C)：第4剝離強度，其為前述接合層(B)與前述第1剝離薄膜(C)的剝離強度；f(E)-(F)：第5剝離強度，其為前述第2剝離薄膜(E)與前述黏合層(F)的剝離強度； f(F)-(III)：第6剝離強度，其為前述黏合層(F)與前述薄膜貼設用治具(III)的剝離強度；此外，於前述第4階段中滿足下述(10)所示之條件式：f(D)-(E)<f(I)-(D),f(E)-(F),f(F)-(III) (10)其中，f(I)-(D)：第7剝離強度，其為前述透鏡陣列本體(I)與前述黏合性光學薄膜(D)的剝離強度。
  14. 一種薄膜貼設用治具(III)，其特徵係使用於如請求項1~11中任一項所記載的透鏡陣列之製造方法。
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