TWI592750B - 光硬化性組成物 - Google Patents
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Description
本發明是有關於一種為了製造影像顯示裝置等光學機器而適宜使用之光硬化性組成物。更詳細而言,本發明是有關於一種適於光學部件(所述光學部件具有在背光單元等中所使用之微透鏡)等之光硬化性組成物。
於先前,形成於液晶顯示器用導光板上的微透鏡可藉由使用模具之射出成形而形成。該方法於每個產品設計中模具均是必要的,於少量多品種之生產中是非常花費成本之方法。近年來,作為廉價之製造方法,提出了藉由噴墨法而形成微透鏡之方法,但存在圖案尺寸、圖案高度之不均一變大之問題。為了改善該問題,提出了藉由噴墨法對基板進行撥水處理。該表面處理中可使用形成表面撥水性硬化膜之負型感光性組成物(例如參照專利文獻1:日本專利特開2008-209739號公報)等,但存在表面撥水性硬化膜之膜厚變為2μm以上,以及導光板泛黃之問題。
於上述狀況下,本發明之目的在於提供一種光硬化性組成物,所述光硬化性組成物可於藉由噴墨法而形成微透鏡時進行圖案直徑與高度之不均一變小的表面處理,且藉由噴墨法而進行塗佈、曝光所形成之撥水性硬化膜的膜厚成為1μm以下,更佳的是成為0.5μm以下。
本發明者等人發現如下之光硬化性組成物可用於形成
膜厚為1μm以下之撥水性硬化膜,基於該發現完成本發明:所述光硬化性組成物是含有溶劑(A)、具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)、界面活性劑(C)、光聚合起始劑(D)的光硬化性組成物,且溶劑(A)之含量為40wt%~98wt%。
亦即,本發明包含以下之項。
[1]一種光硬化性組成物,其是含有溶劑(A)、具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)、界面活性劑(C)、光聚合起始劑(D)的光硬化性組成物,且溶劑(A)之含量為40wt%~98wt%。
[2]如第[1]項所述之光硬化性組成物,其中,溶劑(A)是沸點為100℃~300℃之有機溶劑。
此處,1)較佳的是溶劑(A)之含量為60wt%~98wt%的第[1]項或第[2]項所述之光硬化性組成物。2)更佳的是溶劑(A)之含量為80wt%~98wt%的第[1]項或第[2]項所述之光硬化性組成物。3)進一步更佳的是溶劑(A)之含量為90wt%~98wt%的第[1]項或第[2]項所述之光硬化性組成物。
[3]如第[1]項或第[2]項所述之光硬化性組成物,其中,溶劑(A)是具有羥基之有機溶劑。
此處,1)較佳的是溶劑(A)含有溶劑整體之40wt%以上的選自丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單丙醚、丙二醇單丁醚、丙二醇單苯基醚、乙二醇單丁醚、乙二醇單苯基醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇
單丙醚、二乙二醇單丁醚、二乙二醇單苯基醚、二丙二醇單甲醚、二丙二醇單乙醚、二丙二醇單丙醚、二丙二醇單丁醚、二丙二醇單苯基醚、乙二醇、二乙二醇、丙二醇、二丙二醇、丙三醇、苯甲醇、環己醇、1,4-丁二醇之溶劑的第[1]項至第[3]項中任一項所述之光硬化性組成物。
2)更佳的是溶劑(A)含有溶劑整體之40wt%以上的選自丙二醇單甲醚、丙二醇單丁醚、丙二醇單苯基醚、乙二醇單苯基醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丁醚、二乙二醇單苯基醚、二丙二醇單甲醚之溶劑的第[1]項至第[3]項中任一項所述之光硬化性組成物。
[4]如第[1]項至第[3]項中任一項所述之光硬化性組成物,其中,具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)是多官能(甲基)丙烯酸酯、多官能環氧化合物、或多官能氧雜環丁烷(oxetane)化合物。
此處,1)較佳的是具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)是選自三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷環氧乙烷改性三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷環氧丙烷改性三(甲基)丙烯酸酯、丙三醇三(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性丙三醇三(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改性丙三醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯之化合物的第[1]項至第[4]
項中任一項所述之光硬化性組成物。
2)更佳的是具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)是選自季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯之化合物的第[1]項至第[4]項中任一項所述之光硬化性組成物。
[5]如第[1]項至第[3]項中任一項所述之光硬化性組成物,其中,具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)是式(B-1)所表示之化合物,
(式中,R1是二價之有機基,R2及R3分別獨立為碳數為1~20之伸烷基,R4及R5分別獨立為氫或碳數為1~6之烷基,m及n分別獨立為1~3之整數)。
[6]如第[1]項至第[3]項中任一項所述之光硬化性組成物,其中,具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)是式(B-2)所表示之化合物,
(式中,R1是由
所構成之二價基,R2及R3分別獨立為碳數為1~10之伸烷基,R4及R5分別獨立為氫或碳數為1~6之烷基,m及n分別獨立為1~3之整數)。
[7]如第[3]項所述之光硬化性組成物,其中,具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)含有氟。
[8]如第[1]項至第[7]項中任一項所述之光硬化性組成物,其中,界面活性劑(C)是氟系界面活性劑或矽系界面活性劑。
此處,1)較佳的是重量比(B):(C)為1000:1~1:5之範圍的第[1]項至第[8]項中任一項所述之光硬化性組成物。2)更佳的是重量比(B):(C)為100:1~1:3之範圍的第[1]項至第[8]項中任一項所述之光硬化性組成物。3)進一步更佳的是重量比(B):(C)為20:1~1:2之範圍的第[1]項至第[8]項中任一項所述之光硬化性組成物。4)特佳的是重量比(B):(C)為10:1~1:1之
範圍的第[1]項至第[8]項中任一項所述之光硬化性組成物。
[9]如第[1]項至第[8]項中任一項所述之光硬化性組成物,其中,界面活性劑(C)具有1個光反應性官能基。
[10]如第[9]項所述之光硬化性組成物,其中,界面活性劑(C)之光反應性官能基是(甲基)丙烯醯基、環氧基、氧雜環丁烷基(oxetanyl)之任一種。
[11]如第[9]項所述之光硬化性組成物,其中,具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)是多官能(甲基)丙烯酸酯,界面活性劑(C)之光反應性官能基是(甲基)丙烯醯基,光聚合起始劑(D)是光自由基產生劑。
[12]如第[9]項所述之光硬化性組成物,其中,具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)是多官能環氧化合物或多官能氧雜環丁烷化合物,界面活性劑(C)之光反應性官能基是環氧基或氧雜環丁烷基,光聚合起始劑(D)是光酸產生劑。
[13]如第[1]項至第[12]項中任一項所述之光硬化性組成物,其於25℃下之黏度為1.5mPa‧s~30mPa‧s。
[14]一種表面撥水性硬化膜,其是於塗佈如第[1]項至第[13]項中任一項所述之光硬化性組成物後,照射紫外線而獲得。
[15]一種表面撥水性硬化膜之形成方法,其包含藉由噴墨法而塗佈如第[13]項所述之光硬化性組成物之步驟。
[16]一種微透鏡,其形成於如第[14]項所述之表面撥水性硬化膜上。
[17]一種微透鏡之形成方法,其包含藉由噴墨法於如第[14]項所述之表面撥水性硬化膜上形成點圖案之步驟。
[18]一種光學部件,其具有如第[16]項所述之微透鏡。
[19]一種影像顯示裝置,其包含如第[18]項所述之光學部件。
若於由本發明之光硬化性組成物而所得之膜厚為1μm以下之撥水性硬化膜上,藉由噴墨法形成微透鏡,則可製造著色少之導光板等光學部件。因此,本組成物可用於製造高品質之影像顯示裝置。
為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯易懂,下文特舉較佳實施例,並配合所附圖式,作詳細說明如下。
[1.本發明之光硬化性組成物]
本發明之光硬化性組成物是含有溶劑(A)、具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)、界面活性劑(C)、光聚合起始劑(D)的光硬化性組成物,且溶劑(A)之含量為40wt%~98wt%。
本發明之光硬化性組成物可為無色亦可為有色。自透
射率之觀點考慮,較佳的是無色,亦可於不妨害發明效果之範圍內含有有色之化合物。而且,例如於檢查硬化膜之狀態時,為了使與基板之識別變容易,亦可含有著色劑。
於本說明書中,「(甲基)丙烯酸酯]是表示丙烯酸酯與甲基丙烯酸酯之兩者或其中一者而使用。「環氧化合物」表示環氧乙烷化合物,「環氧基」表示環氧乙烷基。
而且,本發明之光硬化性組成物可視需要含有聚合抑制劑、環氧化合物以外之熱硬化性化合物、阻燃劑等。首先,對本發明之較佳態樣加以說明。
本發明之第1態樣是一種光硬化性組成物,其是含有溶媒(A)、具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)、界面活性剤(C)、光重合開始剤(D)的光硬化性組成物,且溶媒(A)之含量為40wt%~98wt%。若使用該光硬化性組成物,則於藉由噴墨法進行塗佈後藉由光照射而所得之撥水性硬化膜之膜厚均一性良好。另外,可形成膜厚1μm以下之薄的膜。
本發明之第2態樣是一種光硬化性組成物,其是含有溶劑(A)、具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)、界面活性劑(C)、光聚合起始劑(D)的光硬化性組成物,且溶劑(A)之含量為40wt%~98wt%,而且具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)含有(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯。若使用該光硬化性組成物,則於藉由噴墨法進行塗佈後藉由光照射而所得之撥水性硬化膜之膜厚均一性良好。另外,可形成膜厚1μm以下之薄的膜。
本發明之第3態樣是一種光硬化性組成物,其是含有溶劑(A)、具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)、界面活性劑(C)、光聚合起始劑(D)的光硬化性組成物,而且溶劑(A)之含量為40wt%~98wt%,而且界面活性劑(C)含有具有光反應性官能基之界面活性劑。若使用該光硬化性組成物,則於藉由噴墨法進行塗佈後藉由光照射而所得之撥水性硬化膜之膜厚均一性良好。另外,可形成膜厚1μm以下之薄的膜,且可藉由較少之曝光量進行硬化(高感光度)。
本發明之第4態樣是一種光硬化性組成物,其是含有溶劑(A)、具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)、界面活性劑(C)、光聚合起始劑(D)的光硬化性組成物,且溶劑(A)之含量為40wt%~98wt%,而且具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)含有多官能環氧化合物或多官能氧雜環丁烷化合物,界面活性劑(C)含有光反應性官能基具有環氧或氧雜環丁烷基之界面活性劑(C),光聚合起始劑(D)含有光酸產生劑。若使用該光硬化性組成物,則於藉由噴墨法進行塗佈後藉由光照射而所得之撥水性硬化膜之膜厚均一性良好。另外,可形成膜厚1μm以下之薄的膜。
本發明之第5態樣是一種光硬化性組成物,其是含有溶劑(A)、具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)、界面活性劑(C)、光聚合起始劑(D)的光硬化性組成物,且溶劑(A)之含量為40wt%~98wt%,具有2個以上
光反應性官能基之化合物(B)含有具有氟之多官能丙烯酸酯。若使用該光硬化性組成物,則於藉由噴墨法進行塗佈後藉由光照射而所得之撥水性硬化膜之膜厚均一性良好,可形成膜厚1μm以下之薄的膜。另外,若使用該光硬化性組成物,則所形成之點圖案之高度/直徑之值變大,於製成微透鏡而使用之情形時較佳。
以下,對上述各成分及本發明之光硬化性組成物之黏度加以說明。
<1.1.本發明之光硬化性組成物之黏度>
本發明之光硬化性組成物之藉由E型黏度計而測定之於25℃下之黏度較佳的是1.0mPa‧s~30mPa‧s。若黏度為該範圍,則於藉由噴墨法塗佈本發明之光硬化性組成物之情形時,噴墨裝置之噴出性變良好。25℃下之本發明之光硬化性組成物之黏度更佳的是1.2mPa‧s~25mPa‧s,特佳的是1.5mPa‧s~20mPa‧s。
<1.2.溶劑(A)>
本發明之光硬化性組成物是含有40wt%~98wt%之溶劑(A)的光硬化性組成物。若溶劑之含量為40wt%~98wt%,則可藉由以噴墨法進行塗佈後照射紫外線而獲得膜厚度薄的撥水性硬化膜。溶劑之含量更佳的是60wt%~98wt%,進一步更佳的是80wt%~98wt%,進一步更佳的是90wt%~98wt%。
而且,若溶劑(A)是沸點為100℃~300℃之有機溶劑,則於以噴墨法進行塗佈時,於基板上之潤濕擴散性良
好,可獲得膜厚均一的撥水性硬化膜,因此較佳,另外更佳的是具有羥基之有機溶劑。
沸點為100℃~300℃之有機溶劑之具體例可列舉乙酸丁酯、丙酸丁酯、乳酸乙酯、氧化乙酸甲酯、氧化乙酸乙酯、氧化乙酸丁酯、甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯、3-氧基丙酸甲酯、3-氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、2-氧基丙酸甲酯、2-氧基丙酸乙酯、2-氧基丙酸丙酯、2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-氧基-2-甲基丙酸乙酯、2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、2-側氧基丁酸甲酯、2-側氧基丁酸乙酯、二噁烷、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單丙醚、丙二醇單丁醚、丙二醇單苯基醚、乙二醇單丁醚、乙二醇單苯基醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丙醚、二乙二醇單丁醚、二乙二醇單苯基醚、二丙二醇單甲醚、二丙二醇單乙醚、二丙二醇單丙醚、二丙二醇單丁醚、二丙二醇單苯基醚、乙二醇、二乙二醇、丙二醇、二丙二醇、丙三醇、苯甲醇、環己醇、1,4-丁二醇、三乙二醇、三丙二醇、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯、二丙二醇單乙醚乙酸酯、二丙二醇單丁醚乙酸酯、乙二醇
單丁醚乙酸酯、環己酮、環戊酮、二乙二醇單甲醚乙酸酯、二乙二醇單乙醚乙酸酯、二乙二醇單丁醚乙酸酯、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇甲基乙基醚、甲苯、二甲苯、苯甲醚、γ-丁內酯、N,N-二甲基乙醯胺、N-甲基-2-吡咯啶酮及二甲基咪唑啉酮等。
該些溶劑中,若溶劑(A)具有羥基,則於藉由噴墨法進行塗佈之情形時難以產生噴墨頭之堵塞而較佳。具有羥基之有機溶劑之具體例可列舉丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單丙醚、丙二醇單丁醚、丙二醇單苯基醚、乙二醇單丁醚、乙二醇單苯基醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丙醚、二乙二醇單丁醚、二乙二醇單苯基醚、二丙二醇單甲醚、二丙二醇單乙醚、二丙二醇單丙醚、二丙二醇單丁醚、二丙二醇單苯基醚、乙二醇、二乙二醇、丙二醇、二丙二醇、丙三醇、苯甲醇、環己醇、1,4-丁二醇等。
於該些具有羥基之有機溶劑中,若含有溶劑(A)整體之40%以上的選自丙二醇單甲醚、丙二醇單丁醚、丙二醇單苯基醚、乙二醇單苯基醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丁醚、二乙二醇單苯基醚、二丙二醇單甲醚之溶劑,則自所得之撥水性硬化膜之膜厚均一性變高等方面考慮較佳。
本發明之光硬化性組成物中所使用之溶劑可為1種,亦可為2種以上之混合物。
<1.3.具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)>
本發明之光硬化性組成物是含有具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)的光硬化性組成物。若光反應性官能基為(甲基)丙烯醯基、環氧基、氧雜環丁烷基之任一種,則所得之撥水性硬化膜之於基板上之密接性高而較佳。
具有2個以上(甲基)丙烯醯基作為光反應性官能基之化合物的具體例可列舉:三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷環氧乙烷改性三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷環氧丙烷改性三(甲基)丙烯酸酯、丙三醇三(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改性丙三醇三(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改性丙三醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯等。
該些化合物中,季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯由於所得之撥水性硬化膜之光硬化性高而特佳。
而且,若具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)為(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯,則於藉由噴墨法塗佈本發明之光硬化性組成物後藉由光照射而所得之撥水性硬化膜的膜厚均一性良好,因此特佳。(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯之具體例可列舉下述式(B-1)結構之化合物。
(式中,R1是碳數為1~20之二價有機基,R2及R3分別獨立為碳數為1~20之伸烷基,R4及R5分別獨立為氫或碳數為1~6之烷基,m及n分別獨立為1~3之整數。)
另外,自硬化性之方面考慮,m及n較佳的是2或3,更佳的是3。
若(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯為下述式所表示之結構,則膜厚均一性更進一步良好,因此更佳。
(式中,R1包括
等二價基,R2及R3分別獨立為碳數為1~10之伸烷基,R4及R5分別獨立為氫或碳數為1~6之烷基,m及n分別獨立為1~3之整數。)
另外,自硬化性之方面考慮,m及n較佳的是2或3,更佳的是3。
具有2個以上環氧基作為光反應性官能基之化合物的具體例可列舉酚系酚醛清漆型、甲酚清漆型、雙酚A型、雙酚F型、氫化雙酚A型、氫化雙酚F型、雙酚S型、三酚甲烷型、四酚乙烷型、聯二甲苯酚型或聯苯酚型環氧化合物;脂環式或雜環式環氧化合物;具有二環戊二烯型或萘型結構之環氧化合物、N,N,N',N'-四縮水甘油基-間二甲苯二胺、1,3-雙(N,N-二縮水甘油基胺甲基)環己烷、N,N,N',N'-四縮水甘油基-4,4’-二胺基二苯基甲烷。
該些環氧化合物可使用各種市售品,可列舉:TFCHMORE VG3101L(商品名;三井化學股份有限公司
製造)、jER828、jER834、jER1001、jER1004(商品名;三菱化學股份有限公司製造)、Epiclon 840、Epiclon 850、Epiclon 1050、Epiclon 2055、(商品名;迪愛生(DIC)公司製造)、Epotohto YD-011、Epotohto YD-013、Epotohto YD-127、Epotohto YD-128(商品名;新日鐵化學股份有限公司製造)、D.E.R.317、D.E.R.331、D.E.R.661、D.E.R.664(商品名;陶氏化學股份有限公司製造)、Araldite 6071、Araldite 6084、Araldite GY250、Araldite GY260(商品名;亨斯邁先進材料有限公司(Huntsman Advanced Materials,Inc.)製造)、Sumiepoxy ESA-011、Sumiepoxy ESA-014、Sumiepoxy ELA-115、Sumiepoxy ELA-128(商品名;住友化學股份有限公司製造)、A.E.R.330、A.E.R.331、A.E.R.661、A.E.R.664(商品名;旭化成股份有限公司製造)等雙酚A型環氧化合物;jER152、jER154(商品名;三菱化學股份有限公司製造)、D.E.R.431、D.E.R.438(商品名;陶氏化學股份有限公司製造)、Epiclon N-730、Epiclon N-770、Epiclon N-865(商品名;迪愛生(DIC)股份有限公司製造)、Epotohto YDCN-701、Epotohto YDCN-704(商品名;新日鐵化學股份有限公司製造)、Araldite ECN1235、Araldite ECN1273、Araldite ECN1299(商品名;亨斯邁先進材料有限公司(Huntsman Advanced Materials,Inc.)製造)、XPY307、EPPN-201、EOCN-1025、EOCN-1020、EOCN-104S、RE-306(商品名;日本化藥股份有限公司製造)、Sumiepoxy ESCN-195X、Sumiepoxy
ESCN-220(商品名;住友化學股份有限公司製造)、A.E.R.ECN-235、A.E.R.ECN-299(商品名;艾迪科(ADEKA)股份有限公司製造)等酚醛清漆型環氧化合物;Epiclon 830(商品名;迪愛生(DIC)股份有限公司製造)、jER807(商品名;三菱化學股份有限公司製造)、Epotohto YDF-170(商品名;新日鐵化學股份有限公司製造)、YDF-175、YDF-2001、YDF-2004、Araldite XPY306(商品名;亨斯邁先進材料有限公司(Huntsman Advanced Materials,Inc.)製造)等雙酚F型環氧化合物;Epotohto ST-2004、Epotohto ST-2007、Epotohto ST-3000(商品名;新日鐵化學股份有限公司製造)等氫化雙酚A型環氧化合物;Celloxide 2021(商品名;戴西爾化學工業股份有限公司(DAICEL CHEMICAL INDUSTRIES,LTD.)製造)、Araldite CY175、Araldite CY179(商品名;亨斯邁先進材料有限公司(Huntsman Advanced Materials,Inc.)製造)等脂環族環氧化合物;YL-933(商品名;三菱化學股份有限公司製造)、EPPN-501、EPPN-502(商品名;陶氏化學股份有限公司製造)等三羥苯基甲烷型環氧化合物;YL-6056、YX-4000、YL-6121(商品名;三菱化學股份有限公司製造)等聯二甲苯酚型或聯苯酚型環氧化合物或該些之混合物;EBPS-200(商品名;日本化藥股份有限公司製造)、EPX-30(商品名;艾迪科(ADEKA)股份有限公司製造)、EXA-1514(商品名;迪愛生(DIC)股份有限公司製造)等雙酚S型環氧化合物;jER157S(商品名;三菱化學股份
有限公司製造)等雙酚A酚醛清漆型環氧化合物;YL-931(商品名;三菱化學股份有限公司製造)、Araldite 163(商品名;亨斯邁先進材料有限公司(Huntsman Advanced Materials,Inc.)製造)等四羥苯基乙烷型環氧化合物;Araldite PT810(商品名;亨斯邁先進材料有限公司(Huntsman Advanced Materials,Inc.)製造)、TEPIC(商品名;日產化學工業股份有限公司製造)等雜環式環氧化合物;HP-4032、EXA-4750、EXA-4700(商品名;迪愛生(DIC)股份有限公司製造)等含萘環氧化合物;HP-7200、HP-7200H、HP-7200HH(商品名;迪愛生(DIC)股份有限公司製造)等具有二環戊二烯骨架之環氧化合物等。
於該些環氧化合物中,若使用TECHMORE VG3101L(商品名;三井化學股份有限公司製造),則由本發明之光硬化性組成物所獲得之皮膜於各種基板上之密接性高而較佳。
具有2個以上氧雜環丁烷基作為光反應性官能基之化合物的具體例可列舉苯二甲基雙氧雜環丁烷(東亞合成股份有限公司製造之ARONE OXETANE OXT-121(商品名))、3-乙基-3{[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基]甲基}氧雜環丁烷(東亞合成股份有限公司製造之ARONE OXETANE OXT-221(商品名))、二(3-乙基-3-氧雜環丁烷基)甲氧基乙基己二酸(宇部興產股份有限公司製造之己二酸雙氧雜環丁烷)、雙(3-乙基氧雜環丁烷-3-基甲基)碳酸酯(宇部興產股份有限公司製造之二氧雜環丁烷碳酸
酯)。
於該些具有2個以上氧雜環丁烷基之化合物中,若使用苯二甲基雙氧雜環丁烷(東亞合成股份有限公司製造之ARONE OXETANE OXT-121(商品名))、3-乙基-3{[(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲氧基]甲基}氧雜環丁烷(東亞合成股份有限公司製造之ARONE OXETANE OXT-221(商品名)),則由本發明之光硬化性組成物所獲得之皮膜於各種基板上之密接性高而較佳。
而且,具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)若具有氟,則於所得之硬化膜上所形成之點圖案的高度/直徑之值變大,於製成微透鏡而使用之情形時較佳。具有2個以上具有氟之光硬化性官能基的化合物可使用各種市售品,可列舉fluorite FA-16、fluorite FEA-16、fluorite FE-16、fluorite ART-4(商品名;共榮社化學股份有限公司製造)等。
本發明之光硬化性組成物中所使用之具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)可為1種,亦可為2種以上之混合物。
<1.4.界面活性劑(C)>
本發明之光硬化性組成物是含有界面活性劑(C)之光硬化性組成物。若含有界面活性劑,則所得之撥水性硬化膜之撥水性變高而較佳。
界面活性劑之具體例可列舉Polyflow No.45、Polyflow KL-245、Polyflow No.75、Polyflow No.90、Polyflow No.95
(以上均為商品名;共榮社化學工業股份有限公司製造)、Disperbyk 161、Disperbyk 162、Disperbyk 163、Disperbyk 164、Disperbyk 166、Disperbyk 170、Disperbyk 180、Disperbyk 181、Disperbyk 182、BYK300、BYK306、BYK310、BYK320、BYK330、BYK344、BYK346(以上均為商品名;BYK-CHEMIE JAPAN K.K.製造)、KP-341、KP-358、KP-368、KF-96-50CS、KF-50-100CS(以上均為商品名;信越化學工業股份有限公司製造)、Surflon SC-101、Surflon KH-40(以上均為商品名;清美化學股份有限公司(SEIMI CHEMICAL Co.,Ltd.)製造)、Ftergent 222F、Ftergent 251、FTX-218(以上均為商品名;Neos股份有限公司製造)、EFTOP EF-351、EFTOP EF-352、EFTOP EF-601、EFTOP EF-801、EFTOP EF-802(以上均為商品名;三菱材料股份有限公司(Mitsubishi Material Co.,Ltd.)製造)、Megafac F-171、Megafac F-177、Megafac F-475、Megafac R-08、Megafac R-30(以上均為商品名;迪愛生(DIC)股份有限公司製造)、氟烷基苯磺酸鹽、氟烷基羧酸鹽、氟烷基聚氧乙烯醚、氟烷基碘化銨、氟烷基甜菜鹼、氟烷磺酸鹽、二甘油四(氟烷基聚氧乙烯醚)、氟烷基三甲銨鹽、氟烷基胺基磺酸鹽、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯十三烷基醚、聚氧乙烯鯨蠟基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯月桂酸酯、聚氧乙烯油酸酯、聚氧乙烯硬脂酸酯、聚氧乙烯月桂基胺、山梨糖醇酐月桂
酸酯、山梨糖醇酐棕櫚酸酯、山梨糖醇酐硬脂酸酯、山梨糖醇酐油酸酯、山梨糖醇酐脂肪酸酯、聚氧乙烯山梨糖醇酐月桂酸酯、聚氧乙烯山梨糖醇酐棕櫚酸酯、聚氧乙烯山梨糖醇酐硬脂酸酯、聚氧乙烯山梨糖醇酐油酸酯、聚氧乙烯萘基醚、烷基苯磺酸鹽、或烷基二苯醚二磺酸鹽等。
而且,若界面活性劑(C)為氟系界面活性劑或矽系界面活性劑,則所得之硬化膜表面之撥水性變得更高而較佳。特別是若界面活性劑(C)為矽系界面活性劑,則藉由噴墨法於所得之撥水性硬化膜上形成微透鏡時,透鏡之大小之不均一較小而更佳。
於含有溶劑之本發明之組成物中,若重量比(B):(C)為1000:1~1:5之範圍,則可兼顧光硬化性與硬化膜表面之撥水性而較佳。另外,重量比(B):(C)較佳的是100:1~1:3之範圍,更佳的是20:1~1:2之範圍,進一步更佳的是16:1~1:1之範圍。
另外,若界面活性劑具有1個光反應性官能基,則即使於含有較多的溶劑之情形時,光硬化性亦高而較佳。光反應性官能基若為(甲基)丙烯醯基、環氧基、氧雜環丁烷基之任一種,則光硬化性更高而較佳。
具有(甲基)丙烯基作為光硬化性官能基之界面活性劑的具體例可列舉RS-72K(商品名;迪愛生(DIC)股份有限公司製造)、BYK UV 3500、BYK UV 3510、BYK UV 3570(以上均為商品名;BYK-CHEMIE JAPAN K.K.製造)、TEGO RAD 2220N、TEGO RAD 2250、TEGO RAD 3500、
TEGO RAD 3570(以上均為商品名;DEGUSSA製造)。
而且,具有環氧基之光硬化性官能基的界面活性劑可列舉迪愛生(DIC)股份有限公司製造之RS-211K(商品名)。
本發明之光硬化性組成物中所使用之界面活性劑可為1種化合物,亦可為2種以上化合物之混合物。
<1.5.光聚合起始劑(D)>
本發明之光硬化性組成物含有光聚合起始劑(D)。光聚合起始劑(D)若為可藉由照射紫外線或可見光線而產生自由基或酸之化合物則並無特別限定,自光硬化性、所得之硬化膜之透射率之觀點考慮,較佳的是α-羥基烷基酚系、氧基苯乙酸酯系、或醯基氧化膦系光聚合起始劑。
可藉由照射紫外線或可見光線而產生自由基之化合物之具體例可列舉:二苯甲酮、米其勒酮、4,4’-雙(二乙基胺基)二苯甲酮、氧雜蒽酮、噻噸酮、異丙基氧雜蒽酮、2,4-二乙基噻噸酮、2-乙基蒽醌、苯乙酮、2-羥基-2-甲基苯丙酮、2-羥基-2-甲基-4’-異丙基苯丙酮、1-羥基環己基苯基酮、異丙基安息香醚、異丁基安息香醚、2,2-二乙氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、樟腦醌、苯并蒽酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-N-嗎啉基丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-N-嗎啉基苯基)-丁酮-1、4-二甲基胺基苯甲酸乙酯、4-二甲基胺基苯甲酸異戊酯、4,4’-二(第三丁基過氧羰基)二苯甲酮、3,4,4’-三(第三丁基過氧羰基)二苯甲酮、3,3’,4,4’-四(第三丁基過氧羰基)二苯甲酮、3,3’,4,4’-四(第三己基過氧羰基)二苯甲酮、3,3’-
二(甲氧基羰基)-4,4’-二(第三丁基過氧羰基)二苯甲酮、3,4’-二(甲氧基羰基)-4,3’-二(第三丁基過氧羰基)二苯甲酮、4,4’-二(甲氧基羰基)-3,3’-二(第三丁基過氧羰基)二苯甲酮、2-(4’-甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(3’,4’-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(2’,4’-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(2’-甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(4’-戊基氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、4-[對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)]-2,6-二(三氯甲基)-均三嗪、1,3-雙(三氯甲基)-5-(2’-氯苯基)-均三嗪、1,3-雙(三氯甲基)-5-(4’-甲氧基苯基)-均三嗪、2-(對二甲基胺基苯乙烯基)苯并噁唑、2-(對二甲基胺基苯乙烯基)苯并噻唑、2-巰基苯并噻唑、3,3’-羰基雙(7-二乙基胺基香豆素)、2-(鄰氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-聯咪唑、2,2’-雙(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四(4-乙氧基羰基苯基)-1,2’-聯咪唑、2,2’-雙(2,4-二氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-聯咪唑、2,2’-雙(2,4-二溴苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-聯咪唑、2,2’-雙(2,4,6-三氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-聯咪唑、3-(2-甲基-2-二甲基胺基丙醯基)咔唑、3,6-雙(2-甲基-2-N-嗎啉基丙醯基)-9-正十二烷基咔唑、1-羥基環己基苯基酮、雙(η5-2,4-環戊二烯-1-基)-雙(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)鈦、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基氧化膦及2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦。
其中較佳的是2-羥基-2-甲基苯丙酮、2-羥基-2-甲基-4’-異丙基苯丙酮、1-羥基環己基苯基酮、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基氧化膦及2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦,最佳的是2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦。
可藉由照射紫外線或可見光線而產生酸之化合物之具體例可列舉:CPI-100P、CPI-100A、CPI-110P、CPI-210S、CPI-200K(以上均為商品名;三亞普羅(San-Apro)股份有限公司製造)、Cyracure光硬化起始劑UVI-6992、Cyracure光硬化起始劑UVI-6976(以上均為商品名;道化學日本股份有限公司製造)、Adeka Optomer SP-150、Adeka Optomer SP-152、Adeka Optomer SP-170、Adeka Optomer SP-172(以上均為商品名;艾迪科(ADEKA)股份有限公司製造)、CI-5102、CI-2855(以上均為商品名;日本曹達股份有限公司製造)、San-Aid SI-60L、San-Aid SI-80L、San-Aid SI-100L、San-Aid SI-110L、San-Aid SI-180L、San-Aid SI-110、San-Aid SI-180(以上均為商品名;三新化學工業股份有限公司製造)、Esacure 1064、Esacure 1187(以上均為商品名;Lamberti股份有限公司製造)、Omnicat 550(商品名;IGM樹脂股份有限公司製造)、Irgacure 250(商品名;巴斯夫日本(BASF Japan)股份有限公司製造)、Rhodorsil Photoinitiator 2074(商品名;羅迪亞日本(Rhodia Japan)股份有限公司製造)等。
光聚合起始劑(D)可為1種,亦可為2種以上之混合物。
相對於具有2個以上光硬化性官能基之化合物(B)而言,若光聚合起始劑(D)之含量為1wt%~100wt%,則對紫外線之光硬化性優異,且所得之撥水性硬化膜為高透射率而較佳,更佳的是5wt%~60wt%,進一步更佳的是10wt%~40wt%。
<1.6.聚合抑制劑>
為了使保存穩定性提高,本發明之光硬化性組成物亦可含有聚合抑制劑。聚合抑制劑之具體例可列舉4-甲氧基苯酚、對苯二酚及啡噻嗪。於該些化合物中,啡噻嗪即使於長期之保存下黏度之增加亦小,因此較佳。
本發明之光硬化性組成物中所使用之聚合抑制劑可為1種,亦可為2種以上之混合物。
相對於具有2個以上光硬化性官能基之化合物(B)而言,若聚合抑制劑之含量為0.01wt%~1wt%,則即使於長期之保存下黏度之增加亦小,因此較佳;若考慮與光硬化性之平衡,則聚合抑制劑之含量更佳的是0.01wt%~0.5wt%,進一步更佳的是0.01wt%~0.1wt%。
<1.7.環氧化合物以外之熱硬化性化合物>
本發明之光硬化性組成物亦可含有環氧化合物以外之熱硬化性化合物。於本發明中,所謂熱硬化性化合物,若為具有可熱硬化之官能基的化合物則並無特別之限定,可列舉雙馬來醯亞胺、酚樹脂、三聚氰胺樹脂、環氧硬化劑等。
本發明之硬化性組成物中所使用之熱硬化性化合物可
為1種,亦可為2種以上之混合物。
相對於具有2個以上光硬化性官能基之化合物(B)而言,若熱硬化性化合物之含量為2wt%~50wt%,則所得之硬化膜之耐熱性提高而較佳,更佳的是5wt%~30wt%,進一步更佳的是10wt%~20wt%。
1.7.1 雙馬來醯亞胺
雙馬來醯亞胺例如可列舉下述通式(1)所表示之化合物。下述通式(1)所表示之雙馬來醯亞胺例如為使二胺與酸酐反應而所得之化合物。
於式(1)中,R10及R12分別獨立為氫或甲基,R11是下述通式(2)所表示之二價基。
-R13-X-R14- (2)
於式(2)中,R13及R14分別獨立為並不連續之任意亞甲基亦可被氧取代之碳數為1~18之伸烷基、具有亦可具有取代基之芳香環的二價基、或亦可具有取代基之亞環烷基。所述芳香環及亞環烷基中之取代基例如可列舉羧
基、羥基、碳數為1~5之烷基、碳數為1~5之烷氧基。
於所得之硬化膜之耐熱性高之方面而言,較佳的是R13及R14分別獨立為下述任意式所表示之二價基。
於式(2)中,X為下述任意式所表示之二價基。
雙馬來醯亞胺可為1種,亦可為2種以上之混合物。
1.7.2 酚樹脂
酚樹脂可較佳地使用藉由使具有酚性羥基之芳香族化合物與醛類之縮合反應而所得之酚醛清漆樹脂、乙烯基苯酚之均聚物(包含氫化物)、乙烯基苯酚與可與其共聚之化合物的乙烯基苯酚系共聚物(包含氫化物)等。
具有酚性羥基之芳香族化合物可列舉苯酚、鄰甲酚、間甲酚、對甲酚、鄰乙基苯酚、間乙基苯酚、對乙基苯酚、
鄰丁基苯酚、間丁基苯酚、對丁基苯酚、鄰二甲苯酚、2,3-二甲苯酚、2,4-二甲苯酚、2,5-二甲苯酚、3,4-二甲苯酚、3,5-二甲苯酚、2,3,5-三甲基苯酚、3,4,5-三甲基苯酚、對苯基苯酚、間苯二酚、對苯二酚、對苯二酚單甲醚、鄰苯三酚、雙酚A、雙酚F、含有萜烯骨架之雙酚、沒食子酸、沒食子酸酯、α-萘酚、β-萘酚等。
醛類可列舉甲醛、三聚甲醛、糠醛、苯甲醛、硝基苯甲醛、乙醛等。
可與乙烯基苯酚共聚之化合物可列舉(甲基)丙烯酸或其衍生物、苯乙烯或其衍生物、馬來酸酐、乙酸乙烯酯、丙烯腈等。
酚樹脂之具體例可列舉:Resitop PSM-6200(商品名;群榮化學工業股份有限公司製造)、Shonol BRG-555(商品名;昭和電工股份有限公司製造)、MARUKA LYNCUR MS-2P、MARUKA LYNCUR CST70、MARUKA LYNCUR PHM-C(商品名;丸善石油化學股份有限公司製造)。
酚樹脂可為1種,亦可為2種以上之混合物。
1.7.3 三聚氰胺樹脂
三聚氰胺樹脂若為藉由三聚氰胺與甲醛之聚縮合而製造的樹脂則並無特別限定,可列舉羥甲基三聚氰胺、醚化羥甲基三聚氰胺、苯并胍胺、羥甲基苯并胍胺、醚化羥甲基苯并胍胺、及該些之縮合物等。於所得之硬化膜之耐化學品性良好之方面考慮,該些樹脂中較佳的是醚化羥甲基三聚氰胺。
三聚氰胺樹脂之具體例可列舉NIKALAC MW-30、MW-30HM、MW-390、MW-100LM、MX-750LM(商品名;三和化學股份有限公司製造)。
三聚氰胺樹脂可為1種,亦可為2種以上之混合物。
1.7.4 環氧硬化劑
為了使所得之硬化膜之耐化學品性進一步提高,本發明之光硬化性組成物亦可含有環氧硬化劑。環氧硬化劑較佳的是酸酐系硬化劑、多元胺系硬化劑等。
酸酐系硬化劑可列舉馬來酸酐、四氫鄰苯二甲酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐、甲基六氫鄰苯二甲酸酐、六氫偏苯三酸酐、鄰苯二甲酸酐、偏苯三酸酐、苯乙烯-馬來酸酐共聚物等。
多元胺系硬化劑可列舉二乙三胺、三乙四胺、四乙五胺、二氰基二醯胺、聚醯胺胺(聚醯胺樹脂)、氯胺酮化合物、異佛爾酮二胺、間二甲苯二胺、間苯二胺、1,3-雙(胺基甲基)環己烷、N-胺基乙基哌嗪、4,4’-二胺基二苯基甲烷、4,4’-二胺基-3,3’-二乙基二苯基甲烷、二胺基二苯基碸等。
環氧硬化劑可為1種,亦可為2種以上之混合物。
<1.8.阻燃劑>
本發明之光硬化性組成物亦可含有阻燃劑。若含有阻燃劑,則所得之硬化膜之阻燃性高而較佳。阻燃劑若為可賦予阻燃性之化合物則並無特別限定,自低毒性、低公害性、安全性之觀點考慮,較佳的是使用有機磷系阻燃劑。
有機磷系阻燃劑可列舉磷酸三苯酯、磷酸三甲苯酯、磷酸三(二甲苯)酯、磷酸甲苯基苯基酯、磷酸-2-乙基己基二苯基酯、9,10-二氫-9-氧雜-10-磷菲-10-氧化物、10-(2,5-二羥基苯基)-10H-9-氧雜-10-磷菲-10-氧化物、縮合9,10-二氫-9-氧雜-10-磷菲-10-氧化物等。
於阻燃劑中,於即使將所得之硬化膜暴露於高溫狀態下之情形時亦無阻燃劑之滲出(bleed out)之方面而言,較佳的是使用具有下述式(F-1)所表示之結構的化合物,亦即有機磷系阻燃劑。作為具有下述式(F-1)所表示之結構的化合物,更佳的是使用作為縮合9,10-二氫-9-氧雜-10-磷菲-10-氧化物之HFA-3003(商品名;昭和電工股份有限公司製造)等下述通式(F-2)所表示之化合物。
於式中,m為0~2之整數,n為1~3之整數,m+n為3。較佳的是m為1或2,n為1或2,m+n為3。
阻燃劑可為1種,亦可為2種以上之混合物。另外,以上所說明之阻燃劑可藉由公知之方法而製造,而且亦可如上述之昭和電工股份有限公司製造之HFA-3003那樣有所市售。
相對於具有2個以上光硬化性官能基之化合物(B)而言,若阻燃劑之含量為15wt%~30wt%,則所得之硬化膜之阻燃性提高而較佳,更佳的是20wt%~25wt%。
<1.9.本發明之光硬化性組成物之調製方法>
本發明之光硬化性組成物可藉由利用公知之方法對成為原料之各成分加以混合而調製。
特別是本發明之光硬化性組成物較佳的是藉由如下方式而調製:將上述(A)~(D)成分及視需要之其他成分加以混合,對所得之溶液進行過濾後脫氣。如此進行而調製之本發明之光硬化性組成物於噴墨塗佈時之噴出性優異。於所述過濾中,例如使用氟樹脂製之膜濾器(membrane filter)。
<1.10.本發明之光硬化性組成物之保存>
本發明之光硬化性組成物若於-20℃~25℃下進行保存,則保存中之黏度增加小,且保存穩定性良好。
[2.利用噴墨法之光硬化性組成物之塗佈]
本發明之光硬化性組成物可使用公知之噴墨塗佈方法而進行塗佈。噴墨塗佈方法例如有:使力學能量作用於墨水上而使墨水自噴墨頭噴出之壓電方式、以及使熱能量作用於墨水上而使墨水吐出之塗佈方法(所謂之氣泡噴墨(註
冊商標)方式)等。
藉由使用噴墨塗佈方法,可將光硬化性組成物塗佈為預先所定之圖案狀。
噴墨頭例如可列舉具有由金屬及/或金屬氧化物等所構成之發熱部之噴墨頭。作為金屬及/或金屬氧化物之具體例,例如可列舉Ta、Zr、Ti、Ni、Al等金屬以及該些金屬之氧化物等。
用以使用本發明之墨水而進行塗佈之較佳之塗佈裝置例如可列舉如下之裝置:對具有收容墨水之墨水收容部的噴墨頭內之墨水賦予與塗佈信號對應之能量,一面藉由所述能量而產生墨水液滴,一面進行與所述塗佈信號對應之塗佈(繪圖)的裝置。
噴墨塗佈裝置並不限定於噴墨頭與墨水收容部分離之裝置,亦可使用噴墨頭與墨水收容部不能分離地成為一體之裝置。而且,墨水收容部除了相對於噴墨頭而言可分離或者不能分離地一體化地搭載於托架上以外,亦可為設於裝置之固定部位,羥由墨水供給部件、例如管而將墨水供給至噴墨頭之形態。
[3.硬化膜之形成]
本發明之硬化膜可藉由如下方式而獲得:藉由噴墨法將上述本發明之光硬化性組成物塗佈於基板表面之後,照射紫外線或者可見光線等光而使其硬化。
於照射紫外線或可見光線等之情形時所照射之光之量(曝光量)依存於光硬化性組成物之組成,可藉由安裝有
Ushio Inc.製造之光偵檢器UVD-365PD的累計光量計UIT-201而測定,較佳的是100mJ/cm2~5,000mJ/cm2,更佳的是200mJ/cm2~4,000mJ/cm2,進一步更佳的是300mJ/cm2~3,000mJ/cm2。而且,所照射之紫外線或可見光線等之波長較佳的是200nm~500nm,更佳的是300nm~450nm。
另外,以下所記載之曝光量是藉由安裝有Ushio Inc.製造之光偵檢器UVD-365PD的累計光量計UIT-201而測定之值。
另外,曝光機若為搭載有高壓水銀燈、超高壓水銀燈、金屬鹵素燈、鹵素燈等,於250nm~500nm之範圍內照射紫外線或可見光線等之裝置,則並無特別限定。
塗佈本發明之光硬化性組成物的基板若為可成為塗佈光硬化性組成物之對象的基板,則並無特別限定,其形狀並不限於平板狀,亦可為曲面狀。
而且,基板之材質並無特別之限定,例如可列舉聚對苯二甲酸乙二酯(PET)及聚對苯二甲酸丁二酯(PBT)等聚酯系樹脂、聚乙烯及聚丙烯等聚烯烴樹脂、聚氯乙烯、氟樹脂、丙烯酸系樹脂、聚醯胺、聚碳酸酯及聚醯亞胺等之塑膠薄膜、賽珞凡(cellophane)、乙酸酯、金屬箔、聚醯亞胺與金屬箔之積層薄膜、具有填塞效果之玻璃紙、羊皮紙、以及聚乙烯、黏結料(clay binder)、聚乙烯醇、藉由澱粉或羧甲基纖維素(CMC)等進行了填塞處理之紙及玻璃等。
於構成該些基板之物質中,亦可於不對本發明之效果造成不良影響之範圍內進一步含有抗氧化劑、劣化抑制劑、填充劑、紫外線吸收劑、靜電防止劑及/或電磁波抑制劑等添加劑。而且,於基板表面之一部分,亦可視需要實施撥水處理、電暈處理、電漿處理、或噴射處理等易黏著處理,或者於表面設置易黏著層或彩色濾光片用保護膜、硬塗膜。
基板之厚度並無特別之限定,通常為10μm~10mm,可根據使用目的而適宜調整。
基板之用途並無特別限定,由本發明之光硬化性組成物所得之硬化膜對於基板之密接性優異,顯示出高透射率、高強度,因此特佳的是用於製造於背光單元等中所使用之微透鏡。
作為此種背光單元等中所使用之微透鏡而發揮作用的本發明之硬化膜之點之直徑並無特別限定,通常較佳的是10μm~100μm,更佳的是15μm~60μm,特佳的是20μm~50μm。而且,點之高度亦無特別限定,通常較佳的是0.5μm~30μm,更佳的是1μm~20μm,特佳的是2μm~10μm。
藉由對如上所述而使用本發明之硬化膜所製造的背光源進行封裝,可製作例如液晶顯示元件用液晶顯示器。
[實例]
以下,藉由實例對本發明進一步加以說明,但本發明並不限定於該些實例。而且,於以下中,有時將實例或比
較例中所得之光硬化性組成物簡稱為組成物。亦即,例如有時將光硬化性組成物1稱為組成物1。
[實例1](第1態樣之實例)
將作為溶劑(A)之二乙二醇甲基乙基醚(以後略稱為EDM)、作為具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)之季戊四醇三丙烯酸酯(以後略稱為M305)、作為界面活性劑(C)之BYK306(商品名;BYK-CHEMIE JAPAN K.K.製造、以後略稱為BYK306)、作為光聚合起始劑(D)之Irgacure 754(商品名;BASF Japan股份有限公司製造、以後略稱為I754)以下述組成加以混合、溶解後,藉由PTFE製之膜濾器(1μm)進行過濾,調製光硬化性組成物1。
該光硬化性組成物中含有50.0wt%之溶劑(A),重量比(B):(C)為4.61:1,光聚合起始劑(D)是具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)的15wt%。
使用E型黏度計(東機產業股份有限公司製造之TV-22、下同),測定25℃下之光硬化性組成物1之黏度的結果是5.1mPa‧s。
(硬化膜之形成)
準備利用低壓水銀燈進行紫外線照射而提高表面之濕潤性的4cm見方的玻璃基板(厚度:0.7mm),將光硬
化性組成物1注入至噴墨盒中,將噴墨盒安裝於噴墨裝置(富士軟片迪瑪提斯股份有限公司(FUJIFILM Dimatix Inc.)製造之DMP-2831)中,使用10pl用噴頭,於噴出電壓(壓電電壓)為16V、噴頭溫度為30℃、驅動頻率為5kHz、塗佈次數為1次之噴出條件下,將印刷解析度設定為256dpi而塗佈於整個面上。使用UV照射裝置(JAPAN TECHNOLOGY SYSTEM Corporation製造之J-CURE1500),以2000mJ/cm2之UV曝光量對該玻璃基板照射紫外線,藉此獲得形成有表面撥水性硬化膜之玻璃基板。其次,將印刷解析度變更為512dpi而進行同樣之操作,獲得形成有表面撥水性硬化膜之玻璃基板。進一步將印刷解析度變更為1024dpi而進行同樣之操作,獲得形成有表面撥水性硬化膜之玻璃基板。使用該些形成有表面撥水性硬化膜之玻璃基板,進行以下之測定。
(膜面之評價)
藉由目視對玻璃基板進行確認,結果於印刷解析度256dpi下,硬化膜之膜厚不均一,且觀察到斑點模樣。
於印刷解析度512dpi下,依然觀察到斑點模樣。於印刷解析度1024dpi下,形成均一之膜面。作為評價,若形成均一之膜面則記為○,若觀測到斑點模樣等膜厚不均一則記為×。
(膜厚)
藉由切割機削去以1024dpi之印刷解析度而形成之硬化膜之一部分,使用科磊日本(KLA-Tencor Japan)股份有
限公司製造之觸針式膜厚計P-15而測定階差部分之膜厚,結果為0.96μm。膜厚之值使用3處之測定平均值。
(色度b*)
使用透射率測定裝置V-670(日本分光股份有限公司製造)而測定該硬化膜之色度,結果表示黃色度之b*之值為0.0589。
(水接觸角)
關於硬化膜上之水(純水)接觸角之測定,使用DropMaster500(協和界面化學股份有限公司製造)而測量測定溫度(25℃)、水滴噴附1秒後之值,結果為95°。
將該些結果示於表1。
[比較例1]
與實例1同樣地進行,調製下述組成之光硬化性組成物2。於該光硬化性組成物中含有30.0wt%之溶劑(A),重量比(B):(C)為4.61:1,光聚合起始劑(D)是具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)的15wt%。
光硬化性組成物2之黏度為13.2mPa‧s。使用該光硬化性組成物而藉由與實例1同樣之方法進行硬化膜表面之觀察、膜厚、b*、水接觸角之測定。將結果示於表1。
與比較例1相比而言溶劑之含量更多的實例1可藉由噴墨法形成泛黃少(b*之值小)的表面撥水性硬化膜。
[實例2](第1態樣之實例)
與實例1同樣地進行,調製下述組成之光硬化性組成物3。於該光硬化性組成物中含有95.6wt%之溶劑(A),重量比(B):(C)為4.61:1,光聚合起始劑(D)是具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)的15wt%。
所得之光硬化性組成物3之黏度為1.7mPa‧s。使用該光硬化性組成物而藉由與實例1同樣之方法進行硬化膜表面之觀察、膜厚、b*、水接觸角之測定。將與實例1之比較示於表2。
[實例3](第1態樣之實例)
與實例1同樣地進行,調製下述組成之光硬化性組成
物4。其中,使用具有羥基之溶劑,亦即丙二醇單甲醚(以後略稱為PGME)作為溶劑(A)。於該光硬化性組成物中含有50.0wt%之溶劑(A),重量比(B):(C)為4.61:1,光聚合起始劑(D)是具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)的15wt%。
所得之光硬化性組成物4之黏度為5.3mPa‧s。使用該光硬化性組成物而藉由與實例1同樣之方法進行硬化膜表面之觀察、膜厚、b*、水接觸角之測定。將與實例1之比較示於表2。
[實例4](第2態樣之實例)
與實例1同樣地進行,調製下述組成之光硬化性組成物5。其中,於具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)中使用二季戊四醇六丙烯酸酯(以後略稱為M402。M402為商品名,由東亞合成股份有限公司製造)與下述結構之丙烯酸胺基甲酸酯(以後略稱為U6LPA。U6LPA為商品名,由新中村化學工業股份有限公司製造)。該光硬化性組成物中含有50.0wt%之溶劑(A),重量比(B):(C)為4.61:1,光聚合起始劑(D)是具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)的15wt%。
所得之光硬化性組成物5之黏度為5.1mPa‧s。使用該光硬化性組成物而藉由與實例1同樣之方法進行硬化膜表面之觀察、膜厚、b*、水接觸角之測定。將與實例1之比較示於表2。
溶劑多的實例2可藉由噴墨法而形成更薄之膜,因此膜之泛黃少。而且,於使用具有羥基之溶劑的實例3及於
具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)中使用丙烯酸胺基甲酸酯之實例4中,藉由形成更薄之膜的噴墨塗佈條件(亦即,印刷解析度為512dpi)而形成均一之表面撥水性硬化膜。
此處,對藉由噴墨法進行塗佈之情形時的印刷解析度與所得之膜厚之關係加以說明。印刷解析度之值越小,則每單位面積之噴出量越少,因此塗膜之膜厚變薄。印刷解析度之值越大,則每單位面積之噴出量變多,因此塗膜之膜厚變厚。為了使膜厚變薄而欲減小印刷解析度,但於此情形時,所噴出之點彼此並不均一地排列,難以獲得良好之均一膜面。
[實例5](第3態樣之實例)
與實例1同樣地進行,調製下述組成之光硬化性組成物6。於界面活性劑(C)中使用具有(甲基)丙烯基作為光硬化性官能基之界面活性劑,亦即迪愛生(DIC)股份有限公司製造之RS-72K(商品名;以後略稱為RS72K)。於該光硬化性組成物中含有50.0wt%之溶劑(A),重量比(B):(C)為4.61:1,光聚合起始劑(D)是具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)的15wt%。
光硬化性組成物6之黏度為5.2mPa‧s。
[實例6](第3態樣之實例)
與實例5同樣地進行,調製下述組成之光硬化性組成物7。其中,於界面活性劑(C)中使用具有(甲基)丙烯基作為光硬化性官能基之界面活性劑,亦即BYK-CHEMIE JAPAN K.K.製造之BYK UV 3500(商品名;以後略稱為BYK3500)。於該光硬化性組成物中含有53.0wt%之溶劑(A),重量比(B):(C)為15.4:1,光聚合起始劑(D)是具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)的15wt%。
光硬化性組成物7之黏度為5.3mPa‧s。
準備利用低壓水銀燈進行紫外線照射而提高表面之濕潤性的4cm見方的玻璃基板(厚度:0.7mm),將實例4中所得之光硬化性組成物5、實例5中所得之光硬化性組成物6、實例6中所得之光硬化性組成物7分別注入至噴墨盒中,將噴墨盒安裝於噴墨裝置(FUJIFILM Dimatix Inc.製造之DMP-2831)中,使用10pl用噴頭,於噴出電壓(壓電電壓)為16V、噴頭溫度為30℃、驅動頻率為5kHz、塗佈次數為1次之噴出條件下,將解析度設定為1024dpi而塗佈於整個面上。使用UV照射裝置(JAPAN
TECHNOLOGY SYSTEM Corporation製造之J-CURE1500),使紫外線之照射量為200mJ/cm2、500mJ/cm2、1000mJ/cm2、2000mJ/cm2而對該玻璃基板進行照射,觀察光硬化性。將於塗膜表面存在黏性之情形記為×,將有稍許黏性之情形記為△,將無黏性之情形記為○。
將結果示於表3。
可知:於界面活性劑(C)中使用具有光硬化性官能基之界面活性劑的組成物6(實例5)及組成物7(實例6),與使用並不具有光硬化性官能基之界面活性劑的組成物5(實例4)相比而言,光硬化性更優異。
[實例7](第4態樣之實例)
將作為溶劑(A)之EDM、作為具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)之TECHMORE VG3101L(商品名;三井化學股份有限公司製造、以後略稱為VG)、作為界面活性劑(C)之具有環氧基之界面活性劑RS-211K(商品名;迪愛生(DIC)股份有限公司製造、以後略稱為RS)、作為光聚合起始劑(D)之酸產生劑CPI-210S(商品名;San-Apro股份有限公司製造、以後略稱為CPI)以下述組
成加以混合、溶解後,藉由PTFE製之膜濾器(1μm)進行過濾,調製光硬化性組成物7。該光硬化性組成物中含有50.0wt%之溶劑(A),重量比(B):(C)為4.61:1,光聚合起始劑(D)佔具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)的15wt%。
所得之光硬化性組成物8之黏度為5.3mPa‧s。使用該光硬化性組成物而藉由與實例1同樣之方法進行硬化膜表面之觀察、膜厚、b*、水接觸角之測定。將結果示於表4。
[比較例2]
與實例1同樣地進行,調製下述組成之光硬化性組成物9。該光硬化性組成物中含有30.0wt%之溶劑(A),重量比(B):(C)為4.61:1,光聚合起始劑(D)是具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)之15wt%。
光硬化性組成物9之黏度為14.6mPa‧s。使用該光硬化性組成物而藉由與實例1同樣之方法進行硬化膜表面之
觀察、膜厚、b*、水接觸角之測定。將結果示於表4。
可知:使用作為具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)之環氧化合物、作為光聚合起始劑(D)之酸產生劑,亦可藉由噴墨法形成泛黃少之表面撥水性硬化膜,但若溶劑之含量少,則形成厚的膜而造成泛黃變強。
[實例8](微透鏡形成之基板評價)
於實例及比較例之硬化膜上形成微透鏡,進行作為各個硬化膜之基底膜之評價。
首先,將季戊四醇三丙烯酸酯(以下略稱為M305。
M305為商品名,由東亞合成股份有限公司製造)、作為單官能(甲基)丙烯酸酯之甲基丙烯酸正丁酯(東京化成工業股份有限公司製造)、作為光聚合起始劑之2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦亦即DAROCUR TPO(商品名;BASF Japan股份有限公司製造)、作為聚合抑制劑之啡噻嗪(東京化成工業股份有限公司製造)以下述組成加以混合、溶解後,藉由PTFE製之膜濾器(1μm)進行過濾,調製微透鏡形成用噴墨墨水。
測定25℃下之黏度,結果是12.3mPa‧s。
將該微透鏡形成用噴墨墨水注入至噴墨盒中,將噴墨盒安裝於噴墨裝置(DMP-2811、FUJIFILM Dimatix股份有限公司製造)中,使用10pl用噴頭,於噴出電壓(壓電電壓)為16V、噴頭溫度為30℃、驅動頻率為5kHz、塗佈次數為1次之噴出條件下,於以光硬化性組成物1~光硬化性組成物8所形成之表面撥水性硬化膜上每隔150μm之間隔噴出1點。
與實例1同樣地藉由2000mJ/cm2之UV曝光量,對等間隔地形成有該點圖案之玻璃基板照射紫外線,藉此獲得附有微透鏡之基板。藉由光學顯微鏡觀察微透鏡之形狀,將為良好之圓形且大小一致之情形記為○,將形狀變形或者大小不均一之情形記為×。將結果示於表5。
任意之組成物均作為微透鏡形成用基底膜而有效地發揮作用。
根據以上結果可知:本發明之光硬化性組成物可使用噴墨法而形成膜厚均一的表面撥水性硬化膜。因此,可減少膜泛黃,可較佳地用於高品質之液晶顯示器用導光板之製造中。
[實例9](第5態樣之實例)
與實例1同樣地進行,調製下述組成之光硬化性組成物10。其中,於具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)中使用具有氟之fluorite FA-16(商品名;共榮社化學股份有限公司製造、以後略稱為fluorite)與U6LPA。於該光硬化性組成物中,含有50.0wt%之溶劑(A),重量比(B):(C)為4.61:1,光聚合起始劑(D)是具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)的15wt%。
(A)EDM 7.000g
所得之光硬化性組成物10之黏度為4.2mPa‧s。使用該光硬化性組成物而藉由與實例1同樣之方法進行硬化膜表面之觀察、膜厚、b*、水接觸角之測定。
其次,藉由與實例8同樣之方法而於硬化膜上形成點圖案,藉由光學顯微鏡而觀察圖案形狀。進一步任意選擇10個點圖案,使用KLA-Tencor Japan股份有限公司製造之觸針式膜厚計P-15而測定直徑與高度,算出其平均值。
關於在由實例8之光硬化性組成物5而所得之硬化膜上所形成之點圖案,亦藉由同樣之方法算出直徑與高度。將該些之結果示於表6-1及表6-2中。
由使用具有氟之fluorite FA-16而作為具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)之組成物10而所得之硬化膜,與由並未使用具有氟之化合物之組成物5(實例4)所得之硬化膜相比而言,於該硬化膜上所形成之點圖案之高度/直徑之比大,可用作更高性能之導光板用微透鏡。
[產業上之可利用性]
如以上所說明,若藉由噴墨法於由本發明之光硬化性組成物而所得之硬化膜上形成微透鏡,則可用於製造泛黃少之高品質之光學部件。
雖然本發明已以較佳實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明,任何熟習此技藝者,在不脫離本發明之精神和範圍內,當可作些許之更動與潤飾,因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
Claims (10)
- 一種光硬化性組成物,其是含有溶劑(A)、具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)、界面活性劑(C)、光聚合起始劑(D)的光硬化性組成物,且溶劑(A)之含量為40wt%~98wt%,所述光硬化性組成物於25℃下之黏度為1.5mPa‧s~30mPa‧s,其中,具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)是選自下述結構之化合物,
- 如申請專利範圍第1項所述之光硬化性組成物,其中,溶劑(A)是沸點為100℃~300℃之有機溶劑。
- 如申請專利範圍第1項所述之光硬化性組成物,其中,溶劑(A)是具有羥基之有機溶劑。
- 如申請專利範圍第1項所述之光硬化性組成物,其中,具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)是多官能(甲基)丙烯酸酯。
- 如申請專利範圍第1項所述之光硬化性組成物,其中,R2及R3分別獨立為碳數為1~10之伸烷基。
- 如申請專利範圍第1項所述之光硬化性組成物,其中,界面活性劑(C)是氟系界面活性劑或矽系界面活性劑。
- 如申請專利範圍第1項所述之光硬化性組成物,其中,界面活性劑(C)具有1個光反應性官能基。
- 如申請專利範圍第7項所述之光硬化性組成物,其中,界面活性劑(C)之光反應性官能基是(甲基)丙烯醯基、環氧基、氧雜環丁烷基之任一種。
- 如申請專利範圍第7項所述之光硬化性組成物,其中,具有2個以上光反應性官能基之化合物(B)是多官能(甲基)丙烯酸酯,界面活性劑(C)之光反應性官能基是(甲基)丙烯醯基,光聚合起始劑(D)是光自由基產生劑。
- 一種表面撥水性硬化膜,其是於塗佈如申請專利範圍第1項至第9項中任一項所述之光硬化性組成物後, 照射紫外線而獲得。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010230918 | 2010-10-13 | ||
JP2011131235A JP5786475B2 (ja) | 2010-10-13 | 2011-06-13 | 光硬化性組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201216000A TW201216000A (en) | 2012-04-16 |
TWI592750B true TWI592750B (zh) | 2017-07-21 |
Family
ID=46393069
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW100122272A TWI592750B (zh) | 2010-10-13 | 2011-06-24 | 光硬化性組成物 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP5786475B2 (zh) |
TW (1) | TWI592750B (zh) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2013183445A1 (ja) * | 2012-06-06 | 2016-01-28 | 新日鉄住金化学株式会社 | インクジェットインクの受容層 |
JP6255695B2 (ja) * | 2012-10-05 | 2018-01-10 | 株式会社リコー | 非水系光重合性組成物、インクジェットインク、及びインクカートリッジ |
JP6065749B2 (ja) * | 2013-05-29 | 2017-01-25 | 住友ベークライト株式会社 | 感光性樹脂組成物および電子装置 |
CN112424296A (zh) | 2018-07-13 | 2021-02-26 | 太阳化学公司 | 包括多元醇的可能量固化组合物 |
WO2021177251A1 (ja) | 2020-03-04 | 2021-09-10 | Agc株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56861A (en) * | 1979-06-18 | 1981-01-07 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | Coating composition and production of synthetic resin molded article using it |
JPH01229024A (ja) * | 1988-03-08 | 1989-09-12 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 光硬化性被覆組成物 |
JP3660410B2 (ja) * | 1995-11-13 | 2005-06-15 | 三菱レイヨン株式会社 | エマルション被覆材組成物 |
JP2005352324A (ja) * | 2004-06-14 | 2005-12-22 | Nippon Kayaku Co Ltd | 低屈折率樹脂組成物、レンズ用樹脂組成物及びその硬化物 |
JP5252839B2 (ja) * | 2007-06-06 | 2013-07-31 | 日本合成化学工業株式会社 | 活性エネルギー線硬化型エマルジョン組成物、及び、コーティング剤組成物 |
JP5581566B2 (ja) * | 2007-08-24 | 2014-09-03 | 住友化学株式会社 | 着色硬化性組成物 |
JP2009203287A (ja) * | 2008-02-26 | 2009-09-10 | Fujifilm Corp | ナノインプリント用硬化性組成物、これを用いた硬化物およびその製造方法、並びに、液晶表示装置用部材 |
JP5560536B2 (ja) * | 2008-04-30 | 2014-07-30 | 凸版印刷株式会社 | ハードコート層用組成物およびハードコートフィルム |
JP5594147B2 (ja) * | 2008-12-05 | 2014-09-24 | 旭硝子株式会社 | 光硬化性組成物および表面に微細パターンを有する成形体の製造方法 |
JP2011222732A (ja) * | 2010-04-09 | 2011-11-04 | Fujifilm Corp | パターン形成方法及びパターン基板製造方法 |
-
2011
- 2011-06-13 JP JP2011131235A patent/JP5786475B2/ja active Active
- 2011-06-24 TW TW100122272A patent/TWI592750B/zh active
-
2015
- 2015-04-28 JP JP2015103203A patent/JP6094625B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6094625B2 (ja) | 2017-03-15 |
JP5786475B2 (ja) | 2015-09-30 |
JP2012102314A (ja) | 2012-05-31 |
JP2015187274A (ja) | 2015-10-29 |
TW201216000A (en) | 2012-04-16 |
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