TWI590112B - 帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法、觸控面板的製造方法及行動裝置的製造方法 - Google Patents

帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法、觸控面板的製造方法及行動裝置的製造方法 Download PDF

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Description

帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法、觸控 面板的製造方法及行動裝置的製造方法
本發明是有關於一種帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法、帶有裝飾材或透明保護層的基材、具備該帶有裝飾材或透明保護層的基材的觸控面板(touch panel)以及具備該觸控面板的行動裝置。
近年來,以智慧型手機(smartphone)為代表的行動通訊裝置不斷普及。於行動裝置的資訊顯示面側,為了不讓使用者看到顯示裝置的牽引電路等,另外為了改良美觀性,以包圍資訊顯示部(圖像顯示部)的框狀來形成裝飾材,進行裝飾。於行動裝置的感測器部位上以保護為目的而形成有透明保護層,進行保護。
膜或玻璃等基材的裝飾法或保護法中,可列舉:以絲網 版(silk screen)方式或噴墨(ink jet)方式印刷至基材上的方法、於暫時支撐體上形成裝飾層或透明保護層後轉印至膜等基材上的方法、利用嵌入(insert)或模內(in-mold)法於膜等基材上形成裝飾層或透明保護層的方法、利用熱轉印帶(thermal transfer ribbon)來熱轉印至基材上的方法等。
[先前技術文獻] [專利文獻]
日本專利特開2012-56193號公報
此處,於以智慧型手機為代表的行動通訊裝置中,外周形狀大多情況下是加工成帶有弧度等特徵性的任意形狀,故對於框狀裝飾材的外周側(框外部)的邊界而言,其形狀並不那麼容易成問題。另一方面,設置有裝飾材的框狀裝飾材的內周側(框內部)的邊界由於大多情況下接近圖像顯示部,故容易引人注目,對裝飾材的框內部的直線部要求銳利(sharp)的直線性。以覆蓋圖像顯示部的方式設置的透明保護層有時是將透明保護層的外周部對準框狀裝飾材的內周側(框內部)的位置而設置,即便為透明構件,若透明保護層的外周的直線性不銳利,則因折射率的變化而有圖像顯示的變形或外光的反射等影響,因此於將外周部與相當於裝飾材的框內部的部分對準來配置透明保護層的情形時,對透明保護層的外周部的直線部亦要求銳利的直線性。
進而,透明保護層有時亦設置得較顯示部更大,該情形時, 亦於直線性差的情況下無法遮蓋氧化銦錫(Indium Tin Oxide,ITO)等電極,可靠性成問題。
於此種狀況下,於以絲網版或噴墨方式來印刷裝飾層或透明保護層而形成裝飾層或透明保護層的情形時,有裝飾材或透明保護層的邊界(印刷部分的邊界)容易模糊之嫌。進而,於以絲網版或噴墨方式印刷保護層而形成透明保護層的情形時,必需透明保護層的設置、乾燥等步驟,因此形成作業煩雜。另外,期待使最外層的保護基材高功能化而欲用作靜電電容型等的觸控面板,但印刷方法的情況下有時裝飾材的邊界難以充分地變均質,難以形成電子電路。
實際上,本發明者等人藉由網版印刷於已設定為行動裝置的觸控面板的形狀的基材上形成裝飾材,並對所得的帶有裝飾材的基材的框內部的直線性進行了研究,結果得知,於裝飾材的框內部邊界的直線部分中凹凸多,直線性低。
另外,利用嵌入法或模內法來形成裝飾層或透明保護層時需要高熱,故於使用熱塑性膜等容易熱變形的膜、或使用具有容易熱變形的功能層的基材作為基材時,可能基材變形,上述嵌入法或模內法為伴隨著基材的變形而裝飾材的框內部或透明保護層的外周部的直線性亦變低的方法。
相對於此,專利文獻1等中記載的使用熱轉印帶來熱轉印裝飾層或透明保護層的方法中,準備於暫時支撐體上貼附有裝 飾材或透明保護層的熱轉印帶,自該帶上將裝飾材或透明保護層轉印至基材上,藉此來形成裝飾部或保護部。於利用熱轉印帶來製作裝飾材的情形時,一次製作所得的著色部的光學密度低,為了消除「透明性」而必須進行多次轉印,生產性低。於利用熱轉印帶來製作透明保護層的情形時,一次製作所得的透明保護層的厚度不足,必須進行多次轉印,生產性低。
本發明所欲解決的課題在於提供一種生產性高、裝飾材的框內部或透明保護層的外周部的直線性高的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法。
本發明者等人為了解決上述課題而反覆進行了努力研究,結果發現,藉由在含有著色層或透明樹脂層的轉印材料的著色層中切入直線切口,去除著色層或透明樹脂層的一部分,並將含有該剩餘的著色層或透明樹脂層的轉印材料轉印至基材上,能以良好的生產性來製造裝飾材的框內部或透明保護層的外周部的直線性高的帶有裝飾材或透明保護層的基材。
即,本發明等人發現藉由以下所示的構成的本發明可解決上述課題,從而完成了本發明。
[1]一種帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,其特徵在於包括:(A)對含有暫時支撐體、與著色層及透明樹脂層中的任一種 的轉印材料切入切口的步驟,上述切口為於厚度方向上至少貫穿著色層或透明樹脂層的深度,且於面內方向上具有直線部分;(B)自上述轉印材料的面內方向的一部分區域中將直至上述切口的深度為止的上述著色層或透明樹脂層去除的步驟;(C)將含有上述著色層或透明樹脂層中未被去除的剩餘區域的轉印材料貼附於基材上的步驟;(D)自貼附於上述基材上的上述轉印材料中去除上述暫時支撐體的步驟;以及(E)使貼附於上述基材上的上述著色層的剩餘區域硬化而形成裝飾材的步驟、或使貼附於上述基材上的上述透明樹脂層的剩餘區域硬化而形成透明保護層的步驟;並且上述著色層至少含有有色材料及黏合樹脂,上述透明樹脂層至少含有透明黏合樹脂。
[2]如[1]所記載的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,較佳為包括:(A)對含有暫時支撐體及著色層的轉印材料切入切口的步驟,上述切口為於厚度方向上至少貫穿著色層的深度,且於面內方向上具有直線部分;(B)自上述轉印材料的面內方向的一部分區域中將直至上述切口的深度為止的上述著色層去除的步驟;(C)將具有上述著色層中未被去除的剩餘區域的轉印材料貼 附於基材上的步驟;(D)自貼附於上述基材上的上述轉印材料中去除上述暫時支撐體的步驟;以及(E)使貼附於上述基材上的上述著色層的剩餘區域硬化而形成裝飾材的步驟;並且上述著色層至少含有有色材料及黏合樹脂。
[3]如[1]所記載的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,較佳為上述裝飾材的光學密度為2.6以上。
[4]如[1]至[3]中任一項所記載的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,較佳為上述裝飾材自基材側起具有吸收特定波長的可見光而呈色的層、及遍及可見光的整個波長範圍而吸收可見光的灰色層。
[5]如[1]所記載的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,較佳為包括:(A)對含有暫時支撐體及透明樹脂層的轉印材料切入切口的步驟,上述切口為於厚度方向上至少貫穿透明樹脂層的深度,且於面內方向上具有直線部分;(B)自上述轉印材料的面內方向的一部分區域中將直至上述切口的深度為止的上述透明樹脂層去除的步驟;(C)將具有透明樹脂層中未被去除的剩餘區域的轉印材料貼附於基材上的步驟; (D)自貼附於上述基材上的上述轉印材料中去除上述暫時支撐體的步驟;以及(E)使貼附於上述基材上的上述透明樹脂層的剩餘區域硬化而形成透明保護層的步驟;並且上述透明樹脂層至少含有透明黏合樹脂。
[6]如[1]或[2]所記載的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,較佳為更包括:(F)將包含形成有上述裝飾材或透明保護層的部分與未形成上述裝飾材或透明保護層的部分的區域的外周部切除的步驟。
[7]如[6]所記載的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,較佳為帶有裝飾材的基材是利用選自湯姆遜刀刃(Thomson blade)加工及雷射光加工中的方法將包含形成有上述裝飾材或透明保護層的部分與未形成上述裝飾材或透明保護層的部分的區域的外周部切除。
[8]如[1]至[7]中任一項所記載的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,較佳為上述轉印材料依序含有上述暫時支撐體、熱塑性樹脂層、以及上述著色層及透明樹脂層中的任一種。
[9]如[8]所記載的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,較佳為上述轉印材料依序含有上述暫時支撐體、熱塑性樹脂層、中間層、以及上述著色層及透明樹脂層中的任一種。
[10]如[1]至[9]中任一項所記載的帶有裝飾材或透明保護層 的基材的製造方法,較佳為上述轉印材料於上述著色層或透明樹脂層的與上述暫時支撐體側為相反側的面上,更具有保護剝離層。
[11]如[1]至[10]中任一項所記載的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,較佳為以於面內方向上具有4處以上的直線部分的方式來對上述轉印材料切入切口。
[12]如[1]至[11]中任一項所記載的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,較佳為對上述轉印材料切入切口直至在厚度方向上貫穿上述轉印材料的所有層的深度為止。
[13]如[1]至[12]中任一項所記載的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,較佳為利用選自湯姆遜刀刃加工或雷射光加工中的方法來對上述轉印材料切入切口。
[14]如[1]至[13]中任一項所記載的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,較佳為於將上述轉印材料貼附於基材上之前,包括於上述暫時支撐體的與上述著色層或透明樹脂層為相反之側進一步積層支撐體的步驟。
[15]如[1]至[14]中任一項所記載的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,較佳為上述裝飾材的膜厚為1.0μm~40.0μm,上述透明保護層的膜厚為1.0μm~100.0μm。
[16]如[1]至[15]中任一項所記載的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,較佳為上述基材的全光透射率為80%以上。
[17]如[1]至[16]中任一項所記載的帶有裝飾材或透明保護層 的基材的製造方法,較佳為上述基材是選自玻璃、三乙醯纖維素(TAC)、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚碳酸酯(PC)或環烯烴聚合物(COP)中。
[18]如[1]至[17]中任一項所記載的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,較佳為上述基材更具有導電性層。
[19]如[1]至[18]中任一項所記載的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,較佳為上述基材進一步至少具有耐損傷層及防眩層中的至少一種。
[20]如[1]至[19]中任一項所記載的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,較佳為上述基材的膜厚為40μm~2000μm。
[21]如[1]至[20]中任一項所記載的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,較佳為上述著色層或透明樹脂層更含有聚合性化合物。
[22]如[1]至[21]中任一項所記載的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,較佳為上述著色層或透明樹脂層更含有聚合起始劑。
[23]一種帶有裝飾材或透明保護層的基材,其特徵在於使用如[1]至[22]中任一項所記載的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法製造而成。
[24]如[23]所記載的帶有裝飾材或透明保護層的基材,較佳為上述裝飾材的光學密度為2.6以上。
[25]如[23]所記載的帶有裝飾材或透明保護層的基材,較佳為上述透明保護層於400nm下的光透射率為85%以上。
[26]如[23]至[25]中任一項所記載的帶有裝飾材或透明保護層的基材,較佳為上述裝飾材的膜厚為1.0μm~40.0μm,上述透明保護層的膜厚為1.0μm~100.0μm。
[27]一種觸控面板,其特徵在於具有如[23]至[26]中任一項所記載的帶有裝飾材或透明保護層的基材。
[28]一種行動裝置,其特徵在於具有如[27]所記載的觸控面板。
根據本發明,可提供一種生產性高、裝飾材的框內部或透明保護層的外周部的直線性高的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法。
1‧‧‧基材(前面板)
1'‧‧‧蓋玻璃
2‧‧‧裝飾材(遮罩層)/裝飾層
3‧‧‧第一透明電極圖案
4‧‧‧第二透明電極圖案
5‧‧‧絕緣層
6‧‧‧導電性要素
7‧‧‧透明保護層/透明樹脂層
10‧‧‧靜電電容型輸入裝置
21‧‧‧框內部
22‧‧‧框外部
23‧‧‧配線取出部
24、24a、24b‧‧‧著色層或透明樹脂層(未被去除的區域)
25‧‧‧去除了著色層或透明樹脂層的區域
26‧‧‧暫時支撐體
27‧‧‧熱塑性樹脂層
28‧‧‧中間層
29‧‧‧保護剝離層
30‧‧‧轉印材料
31‧‧‧框外部的縱寬
32‧‧‧框外部的橫寬
33‧‧‧上框寬
34‧‧‧下框寬
35‧‧‧左右框寬
41‧‧‧框內部的縱寬
42‧‧‧框內部的橫寬
X1~X1'、X2~X2'、X3~X3'‧‧‧剖面
圖1為本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法中所用的轉印材料的一例的概略圖。
圖2為表示本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法中所用的轉印材料的一例的剖面的概略圖。
圖3為表示本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法中所用的轉印材料的另一例的剖面的概略圖。
圖4為表示本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造 方法中所用的轉印材料的另一例的剖面的概略圖。
圖5為於本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法中衝壓框內部等所得的轉印材料的一例的概略圖。
圖6為表示於本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法中衝壓框內部等所得的轉印材料的一例的剖面的概略圖。
圖7為表示於本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法中衝壓框內部等所得的轉印材料的另一例的剖面的概略圖。
圖8為表示於本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法中衝壓框內部等所得的轉印材料的另一例的剖面的概略圖。
圖9為於本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法中,將衝壓框內部等所得的轉印材料轉印於基材上的實施方式的一例的概略圖。
圖10為於本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法中,將衝壓框內部等所得的轉印材料轉印於基材上的實施方式的另一例的概略圖。
圖11為於本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法中,將衝壓框內部等所得的轉印材料轉印於基材上後,去除暫時支撐體後的實施方式的一例的概略圖。
圖12為於本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方 法中,將衝壓框內部等所得的轉印材料轉印於基材上後,去除暫時支撐體後的實施方式的另一例的概略圖。
圖13為利用本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法所製造的帶有裝飾材的基材的一例的概略圖。
圖14為利用本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法所製造的帶有裝飾材的基材的另一例的概略圖。
圖15為利用本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法所製造的帶有裝飾材的基材的另一例的概略圖。
圖16為表示使用利用本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法所製造的帶有裝飾材的基材的觸控面板的一例的構成的剖面概略圖。
圖17為表示使用利用本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法所製造的帶有裝飾材的基材的觸控面板的另一例的構成的剖面概略圖。
圖18為利用本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法來製造帶有裝飾材的基材時經衝壓的轉印材料的另一例的概略圖。
圖19為實施例3的帶有裝飾材的基材的框內部的直線部的放大圖。
圖20為比較例2的帶有裝飾材的基材的框內部的直線部的放大圖。另外,省略記載直線性的評價方法及結果。
圖21為於本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法中,殘留框內部而衝壓框外部所得的轉印材料的一例的概略圖。
圖22為表示於本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法中,殘留框內部而衝壓框外部所得的轉印材料的一例的剖面的概略圖。
圖23為表示於本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法中,殘留框內部而衝壓框外部所得的轉印材料的另一例的剖面的概略圖。
圖24為表示於本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法中,殘留框內部而衝壓框外部所得的轉印材料的另一例的剖面的概略圖。
圖25為於本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法中,將殘留框內部而衝壓框外部所得的轉印材料轉印於基材上的實施方式的一例的概略圖。
圖26為於本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法中,將殘留框內部而衝壓框外部所得的轉印材料轉印於基材上的實施方式的另一例的概略圖。
圖27為於本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法中,將殘留框內部而衝壓框外部所得的轉印材料轉印於基材上後,去除暫時支撐體後的實施方式的一例的概略圖。
圖28為於本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方 法中,將殘留框內部而衝壓框外部所得的轉印材料轉印於基材上後,去除暫時支撐體後的實施方式的另一例的概略圖。
圖29為利用本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法所製造的帶有透明保護層的基材的一例的概略圖。
圖30為表示使用利用本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法所製造的帶有透明保護層的基材的觸控面板的一例的構成的剖面概略圖。
圖31為實施例301的帶有透明保護層的基材的框內部(透明保護層的外周部)的直線部的放大圖。
圖32為比較例301的帶有透明保護層的基材的框內部(透明保護層的外周部)的直線部的放大圖。
以下,對本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材及其製造方法、觸控面板以及行動裝置加以詳細說明。
以下記載的構成要件的說明有時是根據本發明的具代表性的實施方式來進行,但本發明不限定於此種實施方式。再者,本說明書中使用「~」表示的數值範圍是指包含「~」的前後所記載的數值作為下限值及上限值的範圍。
[帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法]
本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法(以下亦稱為本發明的製造方法)的特徵在於包括:(A)對含有暫時支 撐體、與著色層及透明樹脂層中的任一種的轉印材料切入切口的步驟,上述切口為於厚度方向上至少貫穿著色層或透明樹脂層的深度,且於面內方向上具有直線部分;(B)自上述轉印材料的面內方向的一部分區域中將直至上述切口的深度為止的上述著色層或透明樹脂層去除的步驟;(C)將含有上述著色層或透明樹脂層中未被去除的剩餘區域的轉印材料貼附於基材上的步驟;(D)自貼附於上述基材上的上述轉印材料中去除上述暫時支撐體的步驟;以及(E)使貼附於上述基材上的上述著色層的剩餘區域硬化而形成裝飾材的步驟、或使貼附於上述基材上的上述透明樹脂層的剩餘區域硬化而形成透明保護層的步驟;並且上述著色層至少含有有色材料及黏合樹脂,上述透明樹脂層至少含有透明黏合樹脂。
藉由此種構成,能以高生產性來製造裝飾材的框內部或透明保護層的外周部的直線性高的帶有裝飾材的基材。
於藉由本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法來製造帶有裝飾材的基材的情形時,較佳為包括:(A)對含有暫時支撐體及著色層的轉印材料切入切口的步驟,上述切口為於厚度方向上至少貫穿著色層的深度,且於面內方向上具有直線部分;(B)自上述轉印材料的面內方向的一部分區域中將直至上述 切口的深度為止的上述著色層去除的步驟;(C)將具有上述著色層中未被去除的剩餘區域的轉印材料貼附於基材上的步驟;(D)自貼附於上述基材上的上述轉印材料中去除上述暫時支撐體的步驟;以及(E)使貼附於上述基材上的上述著色層的剩餘區域硬化而形成裝飾材的步驟;並且上述著色層至少含有有色材料及黏合樹脂。
於藉由本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法來製造帶有透明保護層的基材的情形時,較佳為包括:(A)對含有暫時支撐體及透明樹脂層的轉印材料切入切口的步驟,上述切口為於厚度方向上至少貫穿透明樹脂層的深度,且於面內方向上具有直線部分;(B)自上述轉印材料的面內方向的一部分區域中將直至上述切口的深度為止的上述透明樹脂層去除的步驟;(C)將具有透明樹脂層中未被去除的剩餘區域的轉印材料貼附於基材上的步驟;(D)自貼附於上述基材上的上述轉印材料中去除上述暫時支撐體的步驟;以及(E)使貼附於上述基材上的上述透明樹脂層的剩餘區域硬化而形成透明保護層的步驟;並且上述透明樹脂層至少含有透明黏合樹脂。
<(A)步驟>
本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法包括(A)對含有暫時支撐體、與著色層及透明樹脂層中的任一種的轉印材料切入切口的步驟,上述切口為於厚度方向上至少貫穿著色 層或透明樹脂層的深度,且於面內方向上具有直線部分。
(轉印材料)
上述轉印材料含有暫時支撐體、與著色層及透明樹脂層中的任一種。
另外,上述轉印材料所含的上述著色層至少含有有色材料及黏合樹脂。上述轉印材料所含的上述透明樹脂層含有透明黏合樹脂。
於圖1~圖4中,具體地示出含有暫時支撐體以及著色層及透明樹脂層的轉印材料的構成。再者,於圖1~圖14中,對由圖1所示的含有暫時支撐體以及著色層及透明樹脂層的轉印材料來製造2片本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的情形加以說明,但本發明不受該些具體說明的限定。本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法中,可由含有暫時支撐體以及著色層及透明樹脂層的轉印材料來製造1片或多片帶有裝飾材或透明保護層的基材,就生產性的觀點而言,較佳為製造多片帶有裝飾材或透明保護層的基材。
圖1為自著色層或透明樹脂層24側觀察含有暫時支撐體以及著色層或透明樹脂層24的轉印材料30的概略圖。上述(A)步驟中,例如可於圖1的虛線部中切入切口,該切口為於厚度方向上貫穿著色層或透明樹脂層的深度,且於面內方向上具有直線部分。
於圖2~圖4中,示出圖1所示的轉印材料的X1-X1'的剖面 概略圖。圖2為於暫時支撐體26上僅積層有著色層或透明樹脂層24的轉印材料30的實施方式。
圖3為於暫時支撐體26上積層有後述熱塑性樹脂層27、中間層28、著色層或透明樹脂層24及保護剝離層29的轉印材料30的實施方式。
圖4為於暫時支撐體26上積層有後述熱塑性樹脂層27、中間層28、著色層或透明樹脂層24a、著色層或透明樹脂層24b及保護剝離層29的轉印材料30的實施方式,且為含有2層以上的著色層或透明樹脂層的實施方式。2層的著色層24a、著色層24b並無特別限制,例如較佳為設定為吸收特定波長的可見光而呈色的層、與遍及可見光的整個波長範圍而吸收可見光的灰色層的積層體。再者,著色層或透明樹脂層亦可為3層以上的積層體。
以下,對於本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法中所用的轉印材料,就轉印材料製作方法及構成轉印材料的各要素加以詳細說明。
-著色層-
藉由本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法來製造帶有裝飾材的基材的情形時所用的轉印材料含有至少1層著色層。
上述著色層至少含有有色材料及黏合樹脂。
上述著色層可為任意顏色,就以高生產性來製造裝飾材的框 內部的直線性高的帶有裝飾材的基材的觀點而言,較佳為白色層、彩色層、粉彩層(pastel layer)、灰色層、黑色層的任一種或該些層的積層體。根據本發明的帶有裝飾材的基材的製造方法,即便為使用含有此種各種實施方式的著色層的轉印材料的情形,亦能以高生產性來製造裝飾材的框內部的直線性高的帶有裝飾材的基材。
於製造裝飾材為白色層、彩色層、粉彩層、灰色層、黑色層的帶有裝飾材的基材時,大多情況下設定為薄層且使用顏料。於網版印刷的情況下,在製成此種裝飾材的情形時有框內部的直線性劣化的傾向,但根據本發明的帶有裝飾材的基材的製造方法,在此種情形時亦能以高生產性來製造裝飾材的框內部的直線性高的帶有裝飾材的基材。
藉由將上述轉印材料所含的上述著色層轉印至後述基材上,可形成利用本發明的製造方法所得的帶有裝飾材的基材的裝飾材。
於僅將白色層或彩色層轉印至基材上而製成裝飾材的情形時,光學密度低,將利用本發明的製造方法所得的帶有裝飾材的基材用作顯示裝置的基材時,有時可看到顯示裝置的漏光或電路的透明性。於該情形時,藉由自利用本發明的製造方法所得的帶有裝飾材的基材的基材(膜或玻璃)側起設定為彩色層-白色層/或彩色層-反射層的構成,可抑制漏光等。進而藉由將後述灰色層 追加至上述轉印材料上,可進一步抑制將該轉印材料轉印至基材上所得的裝飾材的漏光等。
灰色層較佳為自利用本發明的製造方法所得的帶有裝飾材的基材的基材面(膜面或玻璃面)起繼白色層之後、及繼彩色層-白色層之後使用。藉由如此般設定,可於將利用本發明的製造方法所得的帶有裝飾材的基材用作顯示裝置的基材時,於不使裝飾材增厚的情況下防止自顯示裝置側的漏光或配線的透明性。
於僅將黑色層轉印至基材上而製成裝飾材的情形時,即便僅為單層亦可充分提高光學密度,因而較佳。
作為將利用本發明的製造方法所得的帶有裝飾材的基材用作顯示裝置的基材時消除自顯示裝置側的漏光的方法,以下操作亦有效,即,於利用本發明的製造方法所得的帶有裝飾材的基材的裝飾層(白色層、彩色層、粉彩層)的基材側(裝置側)設置具有金屬光澤的反射層。作為設置反射層的方法,亦可製作設置有以下層的轉印材料、即含有具有金屬光澤的材料的層的轉印材料,並將其用於本發明的製造方法中,藉此於基材上轉印反射層。
再者,上述反射層亦可與本發明的製造方法無關,不使用上述轉印材料而於基材上藉由金屬蒸鍍或金屬濺鍍、鍍金來另行製作。
(1)著色層的材料
上述著色層含有上述有色材料及用以將上述有色材料形成為著色層的黏合樹脂材料。另外,根據所使用的環境、用途,上述著色層較佳為更含有聚合性化合物及聚合起始劑。此外,上述著色層可含有抗氧化劑、聚合抑制劑。
(1-1)有色材料
本發明的製造方法中所用的著色層中使用的有色材料可列舉用以構成以下描述的白色層、彩色層、粉彩層、灰色層、黑色層等的顏料,視情形亦可列舉染料。
另外,有色材料可使用染料。染料例如可列舉:顏色索引(Color Index,C.I.)直接紅2、C.I.直接紅28、C.I.酸性橙7、C.I.鹼性藍9、C.I.媒介紅11、C.I.媒介黑3、C.I.還原藍1、C.I.分散黃7、C.I.分散橙3、C.I.分散紅17、C.I.分散紫1、C.I.反應性紅1等。染料可單獨使用,亦能以與其他染料的混合物、與顏料的混合物的形式使用。
(1-1-1)白色層用的有色材料
白色層因特別容易表現出美觀性,故較佳為使用以下白色層用的有色材料。上述白色層用的有色材料較佳為白色無機顏料。
上述著色層中所用的上述白色無機顏料可使用日本專利特開2005-7765公報的段落[0015]或段落[0114]中記載的白色顏料。
具體而言,較佳為氧化鈦(金紅石型)、氧化鈦(銳鈦礦型)、氧化鋅、鋅鋇白、輕質碳酸鈣、白碳(white carbon)、氧化鋁、氫 氧化鋁、硫酸鋇。更佳為氧化鈦(金紅石型)、氧化鈦(銳鈦礦型)、氧化鋅,進而佳為氧化鈦(金紅石型)、氧化鈦(銳鈦礦型),進而更佳為金紅石型氧化鈦。
氧化鈦的表面可進行二氧化矽處理、氧化鋁(alumina)處理、氧化鈦(titania)處理、氧化鋯(zirconia)處理、有機物處理及併用該些處理。
藉此可抑制氧化鈦的觸媒活性,可改善耐熱性、退光性等。
就加熱時的裝飾層的白色度的觀點而言,較佳為氧化鋁處理、氧化鋯處理,尤佳為氧化鋁/氧化鋯併用處理。
上述白色無機顏料相對於上述著色層的總固體成分之含有率為20質量%~75質量%,藉此可形成亮度及白色度良好、且同時滿足其他要求特性的裝飾層。
上述白色無機顏料相對於上述裝飾層的總固體成分之含有率更佳為25質量%~60質量%,進而佳為30質量%~50質量%。
本說明書中所謂總固體成分,是指自上述著色層中去掉溶劑等所得的不揮發成分的總質量。
上述白色無機顏料(再者,後述遮罩層中所用的其他著色劑亦相同)理想的是製成分散液而使用。該分散液可藉由以下方式製備:將上述白色無機顏料及顏料分散劑預先混合而獲得組成物,將組成物添加至後述有機溶劑(或媒劑)中並使其分散。上述所謂媒劑,是指於塗料處於液體狀態時使顏料分散的介質的 部分,包含為液狀且與上述顏料結合而形成塗膜的成分(黏合劑)、及將其溶解稀釋的成分(有機溶劑)。
使上述白色無機顏料分散時所使用的分散機並無特別限制,例如可列舉:朝倉邦造編著的「顏料的事典」(第一版、朝倉書店、2000年)438項中記載的捏合機、輥磨機、自動磨機(autorider)、超級磨機(super mill)、分散攪拌機(dissolver)、均質混合機(homo-mixer)、砂磨機(sand mixer)等公知的分散機。進而,亦可藉由該文獻310頁記載的機械磨碎利用摩擦力來進行微粉碎。
就分散穩定性及遮蓋力(hiding power)的觀點而言,作為本發明中所用的上述白色無機顏料(白色層用的有色材料)的白色無機顏料較佳為一次粒子的平均粒徑為0.16μm~0.3μm,更佳為0.18μm~0.27μm。進而特佳為0.19μm~0.25μm。若一次粒子的平均粒徑為0.16μm,則有時遮蓋力急遽降低而容易看見遮罩層的底層,或引起黏度上升。另一方面,若一次粒子的平均粒徑超過0.3μm則白色度降低,同時遮蓋力急遽降低,另外塗佈時的面狀劣化。
另外,此處所謂「一次粒子的平均粒徑」,是指將粒子的電子顯微鏡照片圖像設定為同面積的圓時的直徑,另外,「數量平均粒徑」是指對多個粒子求出上述粒徑,是該100個粒徑的平均值。
另一方面,於以分散液、塗佈液中的平均粒徑來進行測定的 情形時,可使用雷射散射HORIBA H(堀場先進技術(Horiba-Advanced-Techno)股份有限公司製造)。
(1-1-2)彩色層用的有色材料
上述彩色層用的有色材料可使用先前公知的各種無機顏料、有機顏料或染料,就可靠性的觀點而言,較佳為使用有機顏料。上述彩色層用的有機顏料例如可列舉日本專利特開2009-256572號公報的段落0093中記載的有機顏料。
另外,尤其就色彩再現性的觀點而言,較佳為C.I.顏料紅177、C.I.顏料紅224、C.I.顏料紅242、C.I.顏料紅254、C.I.顏料紅255、C.I.顏料紅264、C.I.顏料黃138、C.I.顏料黃139、C.I.顏料黃150、C.I.顏料黃180、C.I.顏料黃185、C.I.顏料橙36、C.I.顏料橙38、C.I.顏料橙71、C.I.顏料綠7、C.L顏料綠36、C.I.顏料綠58、C.I.顏料藍15:6、C.I.顏料紫23,但本發明中不限定於該些顏料。該些有機顏料可單獨使用一種,或將各種有機顏料組合使用以提高色純度等。
另外,藉由將上述彩色層用的有機顏料添加至白色顏料中,可製備粉彩(pastel color)的彩色層。
(1-1-3)黑色層用的有色材料
黑色層用的有色材料較佳為黑色顏料。上述黑色顏料例如可 列舉:碳黑、鈦黑、鈦碳、氧化鐵、氧化鈦、石墨等,其中,較佳為碳黑。
(1-1-4)灰色層用的有色材料
灰色層較佳為於白色顏料中混合黑色顏料來製作。於白色顏料中使用上述金紅石型氧化鈦的情形時,就分散液或塗佈液的穩定性的觀點而言,黑色顏料較佳為使用鈦黑。其原因在於,例如於使用碳黑的情形時,有時由顏料的比重差導致碳黑隨時間經過而分離。可用於上述灰色層、黑色層中的黑色顏料分散物例如可使用日本專利特開2011-95701號公報中記載的分散物。
另外,灰色層可藉由在白色顏料中適當混合紅色、綠色、藍色的各有機顏料來製作。於該情形時,白色顏料較佳為使用比重接近有機顏料的高嶺土(kaolinite)或碳酸鈣。
(1-2)黏合樹脂
本發明的製造方法中所用的黏合樹脂只要可於暫時支撐體上形成著色層後轉印至基材上,則可使用任意黏合樹脂,理想的是著色層的色調不改變或變成理想的色調。
(1-2-1)白色層用的黏合樹脂
白色層因特別容易表現出美觀性,故較佳為使用以下白色層用的黏合樹脂。上述白色層用的黏合樹脂較佳為矽酮系樹脂。
矽酮系樹脂可使用公知者。可使用:甲基系直鏈(straight)矽酮樹脂、甲基苯基系直鏈矽酮樹脂、丙烯酸系樹脂改質矽酮樹 脂、聚酯樹脂改質矽酮樹脂、環氧樹脂改質矽酮樹脂、醇酸樹脂、改質矽酮樹脂及橡膠系的矽酮樹脂等。
更佳為甲基系直鏈矽酮樹脂、甲基苯基系直鏈矽酮樹脂、丙烯酸系樹脂改質矽酮樹脂,尤佳為甲基系直鏈矽酮樹脂、甲基苯基系直鏈矽酮樹脂。藉由將該些樹脂以任意的比率混合,可控制膜物性。
(1-2-2)彩色層、粉彩層、灰色層、黑色層用的黏合樹脂
上述著色層中所用的黏合樹脂尤其於應用於彩色層或粉彩層、灰色層、黑色層中的情形時,可使用彩色濾光片的紅色-綠色-藍色(Red-Green-Blue,RGB)層中所用的黏合樹脂。
於上述著色層為彩色層、粉彩層、灰色層、黑色層的情形時,適於構成該著色層的黏合樹脂例如可列舉:(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸甲酯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸甲酯/(甲基)丙烯酸乙酯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸甲酯/(甲基)丙烯酸丁酯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸甲酯/(甲基)丙烯酸環己酯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸甲酯/(甲基)丙烯酸異冰片酯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物等。
其中,就避免加熱壓接時的氣泡混入的方面而言,較佳為(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸甲酯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸甲酯/(甲基)丙烯酸乙酯共聚物。
上述黏合樹脂的玻璃轉移溫度Tg(b)較佳為70℃~140℃的範圍,更佳為80℃~110℃的範圍。若Tg(b)為70℃以上,則可抑制加熱壓接(層壓)時的空氣(氣泡)的捲入,若Tg(b)為140℃以下,則加熱壓接(層壓)時的空氣(氣泡)的捲入變充分,顯影亦可良好地進行。
另外,上述黏合樹脂的重量平均分子量Mw(b)較佳為10000~50000的範圍,更佳為15000~40000的範圍。若Mw(b)為10000以上,則可抑制加熱壓接(層壓)時的空氣(氣泡)的捲入,若Mw(b)為50000以下,則加熱壓接(層壓)時的空氣(氣泡)的捲入變充分,顯影亦可良好地進行。
關於上述黏合樹脂於上述著色層中的含量,較佳為相對於上述著色層的總固體成分而設定為30質量%以上。若黏合樹脂的量在上述範圍內,則可將加熱壓接(層壓)時的感光性樹脂層的熔融黏度維持於層不過於柔軟的程度,可保持某種程度的硬度而有效地抑制壓接時的氣泡的混入。
上述黏合樹脂的含量更佳為10質量%~40質量%,進而佳為20質量%~35質量%。
(1-3)聚合性化合物
本發明的製造方法中所用的上述轉印材料的上述著色層中,視需要可添加聚合性化合物並進行聚合,藉此來提高裝飾材的耐傷性等,賦予較佳的性質。上述著色層中所用的聚合性化合物例如可選擇使用日本專利特開2008-256735號公報中列舉的聚合性化合物。
聚合性化合物為具有至少一個乙烯性不飽和雙鍵的加成聚合性化合物,是自具有至少1個、較佳為2個以上的末端乙烯性不飽和鍵的化合物中選擇。此種化合物組群於該產業領域中已廣為人知,本發明中可無特別限定地使用該些化合物。該些化合物例如具有以下化學形態:單體,預聚物、即二聚物、三聚物及低聚物,或該等的混合物以及該等的共聚物等化學形態。單體及其共聚物的例子可列舉:不飽和羧酸(例如丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、丁烯酸、異丁烯酸、馬來酸等)或其酯類、醯胺類,較佳為可使用不飽和羧酸與脂肪族多元醇化合物的酯、不飽和羧酸與脂肪族多元胺化合物的醯胺類。另外,亦可較佳地使用以下反應產物:具有羥基或胺基、巰基等親核性取代基的不飽和羧酸酯或醯胺類與單官能或多官能異氰酸酯類或環氧類的加成反應產物,及與單官能或多官能的羧酸的脫水縮合反應產物等。另外,以下反應物亦較佳:具有異氰酸基或環氧基等親電子性取代基的不飽和羧酸酯或醯胺類與單官能或多官能的醇類、胺類、硫醇類 的加成反應物,進而具有鹵素基或甲苯磺醯氧基等脫離性取代基的不飽和羧酸酯或醯胺類與單官能或多官能的醇類、胺類、硫醇類的取代反應物。另外,作為其他例,亦可使用代替上述不飽和羧酸而替換成不飽和膦酸、苯乙烯、乙烯醚等而成的化合物組群。
關於脂肪族多元醇化合物與不飽和羧酸的酯的單體的具體例,丙烯酸酯有乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、1,3-丁二醇二丙烯酸酯、四亞甲基二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(丙烯醯氧基丙基)醚、三羥甲基乙烷三丙烯酸酯、己二醇二丙烯酸酯、1,4-環己二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇二丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、山梨糖醇三丙烯酸酯、山梨糖醇四丙烯酸酯、山梨糖醇五丙烯酸酯、山梨糖醇六丙烯酸酯、異三聚氰酸三(丙烯醯氧基乙基)酯、聚酯丙烯酸酯低聚物、異三聚氰酸環氧乙烷(Ethylene Oxide,EO)改質三丙烯酸酯等。
甲基丙烯酸酯有四亞甲基二醇二甲基丙烯酸酯、三乙二醇二甲基丙烯酸酯、新戊二醇二甲基丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三甲基丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、1,3-丁二醇二甲基丙烯酸酯、己二醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、季戊四醇四 甲基丙烯酸酯、二季戊四醇二甲基丙烯酸酯、二季戊四醇六甲基丙烯酸酯、山梨糖醇三甲基丙烯酸酯、山梨糖醇四甲基丙烯酸酯、雙[對-(3-甲基丙烯醯氧基-2-羥基丙氧基)苯基]二甲基甲烷、雙-[對-(甲基丙烯醯氧基乙氧基)苯基]二甲基甲烷等。
衣康酸酯有乙二醇二衣康酸酯、丙二醇二衣康酸酯、1,3-丁二醇二衣康酸酯、1,4-丁二醇二衣康酸酯、四亞甲基二醇二衣康酸酯、季戊四醇二衣康酸酯、山梨糖醇四-二衣康酸酯等。丁烯酸酯有乙二醇二丁烯酸酯、四亞甲基二醇二丁烯酸酯、季戊四醇二丁烯酸酯、山梨糖醇四-二丁烯酸酯等。異丁烯酸酯有乙二醇二異丁烯酸酯、季戊四醇二異丁烯酸酯、山梨糖醇四異丁烯酸酯等。馬來酸酯有乙二醇二馬來酸酯、三乙二醇二馬來酸酯、季戊四醇二馬來酸酯、山梨糖醇四馬來酸酯等。
關於其他酯的例子,例如亦可較佳地使用:日本專利特公昭51-47334、日本專利特開昭57-196231中記載的脂肪族醇系酯類,或日本專利特開昭59-5240、日本專利特開昭59-5241、日本專利特開平2-226149中記載的具有芳香族系骨架的酯,日本專利特開平1-165613中記載的含有胺基的酯等。進而,上述酯單體亦能以混合物的形式使用。
另外,脂肪族多元胺化合物與不飽和羧酸的醯胺的單體的具體例有亞甲基雙-丙烯醯胺、亞甲基雙-甲基丙烯醯胺、1,6-六亞甲基雙-丙烯醯胺、1,6-六亞甲基雙-甲基丙烯醯胺、二乙三胺三 丙烯醯胺、二甲苯雙丙烯醯胺、二甲苯雙甲基丙烯醯胺等。其他較佳的醯胺系單體的例子可列舉日本專利特公昭54-21726中記載的具有伸環己基結構的醯胺。
另外,使用異氰酸酯與羥基的加成反應所製造的胺基甲酸酯系加成聚合性化合物亦較佳,此種具體例例如可列舉日本專利特公昭48-41708號公報中記載的乙烯基胺基甲酸酯化合物等,上述乙烯基胺基甲酸酯化合物是使下述通式(V)所表示的含有羥基的乙烯系單體加成於一分子中具有2個以上的異氰酸基的聚異氰酸酯化合物上而成,於一分子中含有2個以上的聚合性乙烯基。
CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH…(V)
(其中,R4及R5表示H或CH3)
另外,日本專利特開昭51-37193號、日本專利特公平2-32293號、日本專利特公平2-16765號中記載般的丙烯酸胺基甲酸酯類或日本專利特公昭58-49860號、日本專利特公昭56-17654號、日本專利特公昭62-39417號、日本專利特公昭62-39418號記載的具有環氧乙烷系骨架的胺基甲酸酯化合物類亦較佳。進而,藉由使用日本專利特開昭63-277653號、日本專利特開昭63-260909號、日本專利特開平1-105238號中記載的於分子內具有胺基結構或硫醚結構的加成聚合性化合物類,可獲得感光速度非常優異的光聚合性組成物。
其他例子可列舉:日本專利特開昭48-64183號、日本專利特公昭49-43191號、日本專利特公昭52-30490號各公報中記載般的聚酯丙烯酸酯類,使環氧樹脂與(甲基)丙烯酸反應所得的環氧丙烯酸酯類等多官能的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。另外,亦可列舉日本專利特公昭46-43946號、日本專利特公平1-40337號、日本專利特公平1-40336號記載的特定的不飽和化合物,或日本專利特開平2-25493號記載的乙烯基膦酸系化合物等。另外,於某些情況下,可較佳地使用日本專利特開昭61-22048號記載的含有全氟烷基的結構。進而,亦可使用「日本接著協會會刊」vol.20、No.7、300頁~308頁(1984年)中作為光硬化性單體及低聚物而介紹的化合物。
關於該些聚合性化合物,其結構、單獨使用或併用、添加量等使用方法的詳細情況可根據最終的感光材料的性能設計來任意設定。例如根據如下觀點來選擇。
就感度的方面而言,較佳為每一分子的不飽和基含量多的結構,多的情況下較佳為二官能以上。另外,為了提高圖像部即硬化膜的強度,以三官能以上者為宜,進而,藉由併用官能數不同、聚合性基不同(例如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、苯乙烯系化合物、乙烯醚系化合物)者來調節感度與強度兩者的方法亦有效。就硬化感度的觀點而言,較佳為使用含有2個以上的(甲基)丙烯酸酯結構的化合物,更佳為使用含有3個以上的(甲基)丙烯酸酯結構的化 合物,最佳為使用含有4個以上的(甲基)丙烯酸酯結構的化合物。另外,就硬化感度及未曝光部的顯影性的觀點而言,較佳為含有EO改質物。另外,就硬化感度及曝光部強度的觀點而言,較佳為含有胺基甲酸酯鍵。
另外,對於與上述著色層中的其他成分(例如黏合樹脂、聚合起始劑、有色材料(顏料、染料等))的相容性、分散性而言,上述聚合性化合物的選擇、使用方法為重要的因素,例如有時可藉由使用低純度化合物或併用兩種以上來提高相容性。另外,亦可選擇特定的結構以提高基材或後述外塗層等的密接性。
根據以上觀點,可列舉以下化合物作為較佳者:雙酚A二丙烯酸酯、雙酚A二丙烯酸酯EO改質物、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(丙烯醯氧基丙基)醚、三羥甲基乙烷三丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、山梨糖醇三丙烯酸酯、山梨糖醇四丙烯酸酯、山梨糖醇五丙烯酸酯、山梨糖醇六丙烯酸酯、異三聚氰酸三(丙烯醯氧基乙基)酯、季戊四醇四丙烯酸酯EO改質物、二季戊四醇六丙烯酸酯EO改質物等,另外,市售品較佳為胺基甲酸酯低聚物UAS-10、UAB-140(山陽國策造紙(Sanyo-Kokusaku Pulp)公司製造)、DPHA(日本化藥公司製造)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(共榮 公司製造)。
其中,更佳為雙酚A二丙烯酸酯EO改質物、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、異三聚氰酸三(丙烯醯氧基乙基)酯、季戊四醇四丙烯酸酯EO改質物、二季戊四醇六丙烯酸酯EO改質物等,市售品更佳為DPHA(日本化藥公司製造)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(共榮公司製造)。
進而,上述聚合性化合物較佳為具有2個以上的乙烯性不飽和雙鍵、且藉由光的照射而進行加成聚合的單體或低聚物。
此種單體及低聚物可列舉:分子中具有至少一個可進行加成聚合的乙烯性不飽和基、且沸點於常壓下為100℃以上的化合物。其例子可列舉:聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇單(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯等單官能丙烯酸酯或單官能甲基丙烯酸酯;聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(丙烯醯氧基丙基)醚、異三聚氰酸三(丙烯醯氧基乙基)酯、三聚氰酸三(丙烯醯氧基乙基)酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯;在三羥甲基丙烷或甘油等多官能醇上加成環氧乙烷或 環氧丙烷後加以(甲基)丙烯酸酯化而成者等多官能丙烯酸酯或多官能甲基丙烯酸酯。
另外,酸性多官能光硬化性化合物作為上述聚合性化合物亦為較佳的化合物。
酸性多官能光硬化性化合物可使用:(1)利用二元酸酐對具有羥基與3個以上的光硬化性官能基的單體或低聚物進行改質,藉此導入羧基而成的化合物;(2)於具有羥基與3個以上的光硬化性官能基的單體或低聚物上,加成兼具縮水甘油基或異氰酸基與COOH基的化合物等,藉此導入羧基而成的化合物;或者(3)利用濃硫酸或發煙硫酸對具有3個以上的光硬化性官能基的芳香族化合物進行改質,藉此導入磺酸基而成的化合物等。另外,亦可將含有作為酸性多官能光硬化性化合物自身的單體作為重複單元的低聚物用作酸性多官能光硬化性化合物。
酸性多官能光硬化性化合物的例子較佳為下述通式(i)、通式(ii)所表示的化合物。再者,於通式(i)及通式(ii)中,於T或G為氧伸烷基的情形時,碳原子側的末端鍵結於R、X及W。
[化1]
上述通式(i)中,R表示(甲基)丙烯醯氧基,X表示-COOH基、-OPO3H2基。T表示氧伸烷基,此處伸烷基的碳數為1~4。n為0~20。
上述通式(ii)中,W表示通式(i)中的R或X,6個W中,3個以上的W為R。G與通式(i)中的T為相同含意。Z表示-O-或-OC=ONH(CH2)qNHCOO-。p為0~20,q為1~8。於一分子內存在多個的R、X、T、G可分別相同亦可不同。
上述通式(i)及通式(ii)所表示的酸性多官能光硬化性化合物的市售品例如可列舉:東亞合成股份有限公司製造的含羧基的三官能丙烯酸酯TO-756、及含羧基的五官能丙烯酸酯TO-1382等。
進而可列舉:日本專利特公昭48-41708號公報、日本專利特公昭50-6034號公報及日本專利特開昭51-37193號公報中記載的丙烯酸胺基甲酸酯類;日本專利特開昭48-64183號公報、日本專利特公昭49-43191號公報及日本專利特公昭52-30490號公 報中記載的聚酯丙烯酸酯類;作為環氧樹脂與(甲基)丙烯酸的反應產物的環氧丙烯酸酯類等多官能丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。
該等中,較佳為三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、上述含羧基的五官能丙烯酸酯等。另外,除此以外,亦可列舉日本專利特開平11-133600號公報中記載的「聚合性化合物B」作為較佳化合物。
關於上述聚合性化合物在用於形成上述著色層的組成物中的含量,相對於組成物的總固體成分,較佳為5質量%~50質量%,更佳為7質量%~40質量%,進而佳為10質量%~35質量%。
(1-4)聚合起始劑
於上述著色層中,於添加聚合性化合物的情形時,可添加用以使其積極地進行聚合的聚合起始劑。聚合起始劑有時於可見光範圍內具有吸收,而使裝飾材料發生非預期的著色。因此,於將聚合起始劑添加至裝飾材料中的情形時,必須根據其色調來選擇起始劑。
本發明中可使用的聚合起始劑可列舉光聚合起始劑(例如於日本專利特開2008-256735號中有記載的光聚合起始劑)或熱聚合起始劑。
(1-4-1)光聚合起始劑
光聚合起始劑例如可列舉:有機鹵化化合物、氧基二唑(oxydiazole)化合物、羰基化合物、縮酮化合物、安息香化合物、吖啶化合物、有機過氧化化合物、偶氮化合物、香豆素化合物、疊氮化合物、茂金屬化合物、六芳基聯咪唑化合物、有機硼酸鹽化合物、二碸化合物、肟酯化合物、鎓鹽化合物、醯基膦(氧化物)化合物。
有機鹵化化合物具體可列舉:若林等的「日本化學學會會刊(Bull Chem.Soc Japan)」(42、2924(1969))、美國專利第3,905,815號說明書、日本專利特公昭46-4605號、日本專利特開昭48-36281號、日本專利特開昭55-32070號、日本專利特開昭60-239736號、日本專利特開昭61-169835號、日本專利特開昭61-169837號、日本專利特開昭62-58241號、日本專利特開昭62-212401號、日本專利特開昭63-70243號、日本專利特開昭63-298339號、M.P.亨特(M.P.Hutt)的「雜環化學雜誌(Journal of Heterocyclic Chemistry)1(No3),(1970)」中記載的化合物,尤其可列舉經三鹵代甲基(trihalomethyl)取代的噁唑化合物、均三嗪化合物。
均三嗪化合物更佳為至少一個單鹵代甲基、二鹵代甲基或三鹵代甲基鍵結於均三嗪環而成的均三嗪衍生物,具體而言,例如可列舉:2,4,6-三(單氯甲基)-均三嗪、2,4,6-三(二氯甲基)-均三嗪、2,4,6-三(三氯甲基)-均三嗪、2-甲基-4,6-雙(三氯甲基)-均三 嗪、2-正丙基-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(α,α,β-三氯乙基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-苯基-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(對甲氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(3,4-環氧苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(對氯苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-[1-(對甲氧基苯基)-2,4-丁二烯基]-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-苯乙烯基-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(對甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(對異丙氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(對甲苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-(4-萘氧基萘基)-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-苯硫基-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、2-苄硫基-4,6-雙(三氯甲基)-均三嗪、4-(鄰溴-對-N,N-(二乙氧基羰基胺基)-苯基)-2,6-二(三氯甲基)-均三嗪、2,4,6-三(二溴甲基)-均三嗪、2,4,6-三(三溴甲基)-均三嗪、2-甲基-4,6-雙(三溴甲基)-均三嗪、2-甲氧基-4,6-雙(三溴甲基)-均三嗪等。
氧基二唑化合物可列舉:2-三氯甲基-5-苯乙烯基-1,3,4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(氰基苯乙烯基)-1,3,4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(萘-1-基)-1,3,4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(4-苯乙烯基)苯乙烯基-1,3,4-噁二唑等。
羰基化合物可列舉:二苯甲酮、米其勒酮(Michler's ketone)、2-甲基二苯甲酮、3-甲基二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、2-氯二苯甲酮、4-溴二苯甲酮、2-羧基二苯甲酮等二苯甲酮衍生物,2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、1-羥基環己基 苯基酮、α-羥基-2-甲基苯基丙酮、1-羥基-1-甲基乙基-(對異丙基苯基)酮、1-羥基-1-(對十二烷基苯基)酮、2-甲基-1-(4'-(甲硫基)苯基)-2-嗎啉基-1-丙酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮-1、2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-膦氧化物、1,1,1-三氯甲基-(對丁基苯基)酮、2-苄基-2-二甲基胺基-4-嗎啉基苯丁酮等苯乙酮衍生物,硫雜蒽酮、2-乙基硫雜蒽酮、2-異丙基硫雜蒽酮、2-氯硫雜蒽酮、2,4-二甲基硫雜蒽酮、2,4-二乙基硫雜蒽酮、2,4-二異丙基硫雜蒽酮等硫雜蒽酮衍生物,對二甲基胺基苯甲酸乙酯、對二乙基胺基苯甲酸乙酯等苯甲酸酯衍生物等。
縮酮化合物可列舉苯偶醯二甲基縮酮、苯偶醯-β-甲氧基乙基乙基乙縮醛(acetal)等。
安息香化合物可列舉:間安息香異丙醚、安息香異丁醚、安息香甲醚、甲基鄰苯甲醯基苯甲酸酯等。
吖啶化合物可列舉:9-苯基吖啶、1,7-雙(9-吖啶基)庚烷等。
有機過氧化化合物例如可列舉:過氧化三甲基環己酮、過氧化乙醯丙酮、1,1-雙(第三丁基過氧化)-3,3,5-三甲基環己烷、1,1-雙(第三丁基過氧化)環己烷、2,2-雙(第三丁基過氧化)丁烷、氫過氧化第三丁基、氫過氧化異丙苯、氫過氧化二異丙基苯、2,5-二氫過氧化-2,5-二甲基己烷、氫過氧化-1,1,3,3-四甲基丁基、過氧化第三丁基異丙苯、過氧化二異丙苯、2,5-二甲基-2,5-二(第三丁 基過氧化)己烷、過氧化-2,5-草醯、過氧化琥珀酸、過氧化苯甲醯、過氧化-2,4-二氯苯甲醯基、過氧化二碳酸二異丙酯、過氧化二碳酸二-2-乙基己酯、過氧化二碳酸二-2-乙氧基乙酯、過氧化碳酸二甲氧基異丙酯、過氧化二碳酸二(3-甲基-3-甲氧基丁基)酯、過氧化乙酸第三丁酯、過氧化三甲基乙酸第三丁酯、過氧化新癸酸第三丁酯、過氧化辛酸第三丁酯、過氧化月桂酸第三丁酯、甲苯磺醯基碳酸酯(carbonate)、3,3',4,4'-四-(第三丁基過氧化羰基)二苯甲酮、3,3',4,4'-四-(第三己基過氧化羰基)二苯甲酮、3,3',4,4'-四-(對異丙基異丙苯基過氧化羰基)二苯甲酮、羰基二(第三丁基過氧化二氫二鄰苯二甲酸酯)、羰基二(第三己基過氧化二氫二鄰苯二甲酸酯)等。
偶氮化合物例如可列舉日本專利特開平8-108621號公報中記載的偶氮化合物等。
香豆素化合物例如可列舉:3-甲基-5-胺基-((均三嗪-2-基)胺基)-3-苯基香豆素、3-氯-5-二乙基胺基-((均三嗪-2-基)胺基)-3-苯基香豆素、3-丁基-5-二甲基胺基-((均三嗪-2-基)胺基)-3-苯基香豆素等。
疊氮化合物可列舉:美國專利第2848328號說明書、美國專利第2852379號說明書及美國專利第2940853號說明書中記載的有機疊氮化合物,236-雙(4-疊氮亞苄基)-4-乙基環己酮(BAC-E)等。
茂金屬化合物可列舉:日本專利特開昭59-152396號公報、日本專利特開昭61-151197號公報、日本專利特開昭63-41484號公報、日本專利特開平2-249號公報、日本專利特開平2-4705號公報、日本專利特開平5-83588號公報記載的各種二茂鈦化合物,例如可列舉:二(環戊二烯基)-雙(苯基)鈦、二(環戊二烯基)-雙(2,6-二氟苯基-1-基)鈦、二(環戊二烯基)-雙(2,4-二氟苯基-1-基)鈦、二(環戊二烯基)-雙(2,4,6-三氟苯基-1-基)鈦、二(環戊二烯基)-雙(2,3,5,6-四氟苯基-1-基)鈦、二(環戊二烯基)-雙(2,3,4,5,6-五氟苯基-1-基)鈦、二(甲基環戊二烯基)-雙(2,6-二氟苯基-1-基)鈦、二(甲基環戊二烯基)-雙(2,4,6-三氟苯基-1-基)鈦、二(甲基環戊二烯基)-雙(2,3,5,6-四氟苯基-1-基)鈦、二(甲基環戊二烯基)-雙(2,3,4,5,6-五氟苯基-1-基)鈦,日本專利特開平1-304453號公報、日本專利特開平1-152109號公報記載的鐵-芳烴錯合物等。
六芳基聯咪唑化合物例如可列舉日本專利特公平6-29285號公報、美國專利第3,479,185號、美國專利第4,311,783號、美國專利第4,622,286號等的各說明書中記載的各種化合物,具體可列舉:2,2'-雙(鄰氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯咪唑、2,2'-雙(鄰溴苯基)4,4',5,5'-四苯基聯咪唑、2,2'-雙(鄰,對-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯咪唑、2,2'-雙(鄰氯苯基)-4,4',5,5'-四(間甲氧基苯基)聯咪唑、2,2'-雙(鄰,鄰'-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯咪唑、2,2'-雙(鄰硝基苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯咪唑、2,2'-雙(鄰甲基苯基)-4,4',5,5'-四 苯基聯咪唑、2,2'-雙(鄰三氟苯基)-4,4',5,5'-四苯基聯咪唑等。
有機硼酸鹽化合物例如可列舉以下化合物作為具體例:日本專利特開昭62-143044號、日本專利特開昭62-150242號、日本專利特開平9-188685號、日本專利特開平9-188686號、日本專利特開平9-188710號、日本專利特開2000-131837、日本專利特開2002-107916、日本專利第2764769號、日本專利特願2000-310808號等的各公報及庫茨,馬丁(Kunz,Martin)的「放射技術98公報(Rad Tech'98.Proceeding)」(四月(April)19-22,1998,芝加哥(Chicago))等中記載的有機硼酸鹽,日本專利特開平6-157623號公報、日本專利特開平6-175564號公報、日本專利特開平6-175561號公報中記載的有機硼鋶錯合物或有機硼氧代鋶錯合物,日本專利特開平6-175554號公報、日本專利特開平6-175553號公報中記載的有機硼錪錯合物,日本專利特開平9-188710號公報中記載的有機硼鏻錯合物,日本專利特開平6-348011號公報、日本專利特開平7-128785號公報、日本專利特開平7-140589號公報、日本專利特開平7-306527號公報、日本專利特開平7-292014號公報等的有機硼過渡金屬配位錯合物等。
二碸化合物可列舉日本專利特開昭61-166544號公報、日本專利特願2001-132318號說明書等中記載的化合物等。
肟酯化合物可列舉:「英國化學會志(Journal of the Chemical Society,J.C.S.)普爾金會刊(Perkin)II」(1979) 1653-1660、「英國化學會志(Journal of the Chemical Society,J.C.S.)普爾金會刊(Perkin)II」(1979)156-162、「光聚合物科學與技術期刊(Journal of Photopolymer Science and Technology)」(1995)202-232、日本專利特開2000-66385號公報中記載的化合物,日本專利特開2000-80068號公報、日本專利特表2004-534797號公報中記載的化合物等。具體例較佳為汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)公司製造的伊魯卡(Irgacure)OXE-01、伊魯卡(Irgacure)OXE-02、塔科馬(Tacoma)公司製造的魯那(LUNAR)6等。
鎓鹽化合物例如可列舉:S.I.史萊辛格(S.I.Schlesinger)的「光微影科技工程(Photogr.Sci.Eng.)」(18,387(1974))、T.S.巴爾(T.S.Bal)等人的「聚合物(Polymer)」(21,423(1980))中記載的重氮鎓鹽,美國專利第4,069,055號說明書、日本專利特開平4-365049號等中記載的銨鹽,美國專利第4,069,055號、美國專利第4,069,056號的各說明書中記載的鏻鹽,歐洲專利第104、143號、美國專利第339,049號、美國專利第410,201號的各說明書、日本專利特開平2-150848號、日本專利特開平2-296514號的各公報中記載的錪鹽等。
本發明中可較佳地使用的錪鹽為二芳基錪鹽,就穩定性的觀點而言,較佳為經2個以上的烷基、烷氧基、芳氧基等供電子基所取代。另外,其他較佳鋶鹽的形態較佳為三芳基鋶鹽的一 個取代基具有香豆素、蒽醌結構、且於300nm以上具有吸收的錪鹽等。
鋶鹽可列舉:歐洲專利第370,693號、歐洲專利第390,214號、歐洲專利第233,567號、歐洲專利第297,443號、歐洲專利第297,442號、美國專利第4,933,377號、美國專利第161,811號、美國專利第410,201號、美國專利第339,049號、美國專利第4,760,013號、美國專利第4,734,444號、美國專利第2,833,827號、德國專利第2,904,626號、德國專利第3,604,580號、德國專利第3,604,581號的各說明書中記載的鋶鹽,就穩定性的感度方面而言,較佳為以經電子吸引性基取代為宜。電子吸引性基較佳為哈米特(Hammett)值大於0。較佳的電子吸引性基可列舉鹵素原子、羧酸等。
另外,其他較佳的鋶鹽可列舉:三芳基鋶鹽的一個取代基具有香豆素、蒽醌結構、且於300nm以上具有吸收的鋶鹽。其他較佳的鋶鹽可列舉:三芳基鋶鹽於取代基中含有芳氧基、芳硫基且於300nm以上具有吸收的鋶鹽。
另外,鎓鹽化合物可列舉:J.V.科里韋羅(J.V.Crivello)等人的「巨單體(Macromolecules)」(10(6),1307(1977))、J.V.科里韋羅(J.V.Crivello)等人的「聚合物科技期刊(J.Polymer Sci.)、聚合物化學版(Polymer Chem.Ed.)」(17,1047(1979))中記載的硒鎓鹽,C.S.文(C.S.Wen)等人的「Teh,亞洲放射固化技術綜述 (Proc.Conf.Rad.Curing ASIA)」(p478,東京(Tokyo),十月(Oct)(1988))中記載的鉮鹽等鎓鹽等。
醯基膦(氧化物)化合物可列舉:汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)公司製造的伊魯卡(Irgacure)819、達羅卡(Darocure)4265、達羅卡(Darocure)TPO等。
就曝光感度的觀點而言,光聚合起始劑較佳為選自由三鹵化甲基三嗪系化合物、苯偶醯二甲基縮酮化合物、α-羥基酮化合物、α-胺基酮化合物、醯基膦系化合物、膦氧化物系化合物、茂金屬化合物、肟系化合物、三烯丙基咪唑二聚物、鎓系化合物、苯并噻唑系化合物、二苯甲酮系化合物、苯乙酮系化合物及其衍生物、環戊二烯-苯-鐵錯合物及其鹽、鹵化甲基噁二唑化合物、3-芳基取代香豆素化合物所組成的組群中的化合物。
更佳為三鹵化甲基三嗪系化合物、α-胺基酮化合物、醯基膦系化合物、膦氧化物系化合物、肟系化合物、三烯丙基咪唑二聚物、鎓系化合物、二苯甲酮系化合物、苯乙酮系化合物,最佳為選自由三鹵化甲基三嗪系化合物、α-胺基酮化合物、肟系化合物、三烯丙基咪唑二聚物、二苯甲酮系化合物所組成的組群中的至少一種化合物。
光聚合起始劑可單獨使用一種或併用兩種以上。
關於光聚合起始劑於感光性組成物中的含量,相對於組成物的總固體成分,較佳為0.1質量%~50質量%,更佳為0.5質量% ~30質量%,特佳為1質量%~20質量%。若為上述範圍內,則可獲得良好的感度及圖案形成性。
(1-4-2)熱聚合起始劑
上述著色層中,含有熱聚合起始劑亦有效。熱聚合起始劑例如可列舉各種偶氮系化合物、過氧化物系化合物,上述偶氮系化合物可列舉偶氮雙(azobis)系化合物,上述過氧化物系化合物可列舉過氧化酮、過氧化縮酮、氫過氧化物、二烷基過氧化物、二醯基過氧化物、過氧化酯、過氧化二碳酸酯等。
(1-5)抗氧化劑
上述著色層中亦可添加抗氧化劑。尤其於上述著色層為白色層的情形時,較佳為添加抗氧化劑。上述抗氧化劑可使用:受阻酚系、半受阻酚系、磷酸系、於分子內具有磷酸/受阻酚的混合型抗氧化劑。
較佳為以磷酸系、磷酸系與受阻酚系或半受阻酚系的併用、或者於分子內具有磷酸/受阻酚的混合型抗氧化劑為宜。
(2)著色層的厚度
就用以提高將含有上述著色層的轉印材料轉印至基材上後所得的裝飾層的遮蓋力的觀點而言,較佳為上述著色層的厚度為1μm~40μm。
上述著色層的厚度更佳為1.5μm~38μm,尤佳為1.8μm~35μm。
(3)著色層的光學密度(Optical Density,OD)
就用以提高將含有上述著色層的轉印材料轉印至基材上後所得的裝飾層的遮蓋力的觀點而言,較佳為上述著色層的光學密度(亦稱為OD)為2.6以上。
上述著色層的OD更佳為3.0~6.0,尤佳為3.6~5.5。
-透明樹脂層-
藉由本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法來製造帶有透明保護層的基材的情形時所用的轉印材料含有至少一層透明樹脂層。上述透明樹脂層至少含有透明黏合樹脂。上述透明樹脂層必須具有透明性,較佳為400nm下的光透射率為85%以上。另外,透明樹脂層較佳為含有(b)聚合性化合物,進而更佳為含有(c)聚合起始劑。
藉由將上述轉印材料所含的上述透明樹脂層轉印至後述基材上,可形成利用本發明的製造方法所得的帶有透明保護層的基材的透明保護層。
(11)透明樹脂層的材料
上述透明樹脂層含有用以形成透明樹脂層的透明黏合樹脂材。另外,根據所使用的環境、用途,上述透明樹脂層較佳為更含有聚合性化合物及聚合起始劑。除此以外,上述透明樹脂層可含有抗氧化劑、聚合抑制劑。
(11-2)透明黏合樹脂
本發明的製造方法中所用的透明黏合樹脂只要可於暫時支撐體上形成透明樹脂層後轉印至基材上且為透明,則可使用任意的樹脂,理想的是於熱處理等中保護層的色調不改變。
合適的透明黏合樹脂例如可列舉:(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸甲酯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸甲酯/(甲基)丙烯酸乙酯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸甲酯/(甲基)丙烯酸丁酯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸甲酯/(甲基)丙烯酸環己酯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸甲酯/(甲基)丙烯酸異冰片酯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物等。
其中,就避免加熱壓接時的氣泡的混入的方面而言,較佳為(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸甲酯共聚物、(甲基)丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸甲酯/(甲基)丙烯酸乙酯共聚物。
另外,就硬度的觀點而言,亦可於側鏈上具有「具有分支及/或脂環結構的基團」或「乙烯性不飽和基」。
以下,對「於側鏈上具有分支及/或脂環結構的基團」加以說明。
具有分支的基團表示碳原子數3個~12個的分支狀烷基,例如可列舉:異丙基、異丁基、第二丁基、第三丁基、異戊基 (isopentyl)、新戊基、2-甲基丁基、異己基、2-乙基己基、2-甲基己基、異戊基(isoamyl)、第三戊基、3-辛基、第三辛基等。該些基團中,較佳為異丙基、第二丁基、第三丁基、異戊基等,更佳為異丙基、第二丁基、第三丁基等。
具有脂環結構的基團表示碳原子數5個~20個的脂環式烴基,例如可列舉:環戊基、環己基、環庚基、環辛基、降冰片基、異冰片基、金剛烷基、三環癸基、二環戊烯基、二環戊基、三環戊烯基及三環戊基等。該些基團中,較佳為環己基、降冰片基、異冰片基、金剛烷基、三環癸基、三環戊烯基、三環戊基等,更佳為環己基、降冰片基、異冰片基、三環戊烯基等。
含有上述於側鏈上具有分支及/或脂環結構的基團的單體可列舉苯乙烯類、(甲基)丙烯酸酯類、乙烯醚類、乙烯酯類、(甲基)丙烯醯胺類等,較佳為(甲基)丙烯酸酯類、乙烯酯類、(甲基)丙烯醯胺類,更佳為(甲基)丙烯酸酯類。
含有上述於側鏈上具有分支結構的基團的單體的具體例可列舉:(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸第三戊酯、(甲基)丙烯酸第二異戊酯、(甲基)丙烯酸2-辛酯、(甲基)丙烯酸3-辛酯、(甲基)丙烯酸第三辛酯等,其中,較佳為(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸第三丁酯等,更佳為甲基丙烯酸異丙酯、甲基丙烯酸第三丁酯等。
繼而,含有上述於側鏈上具有脂環結構的基團的單體的具體例為具有碳原子數為5個~20個的脂環式烴基的(甲基)丙烯酸酯。具體例可列舉:(甲基)丙烯酸(雙環[2.2.1]庚基-2)酯、(甲基)丙烯酸-1-金剛烷酯、(甲基)丙烯酸-2-金剛烷酯、(甲基)丙烯酸-3-甲基-1-金剛烷酯、(甲基)丙烯酸-3,5-二甲基-1-金剛烷酯、(甲基)丙烯酸-3-乙基金剛烷酯、(甲基)丙烯酸-3-甲基-5-乙基-1-金剛烷酯、(甲基)丙烯酸-3,5,8-三乙基-1-金剛烷酯、(甲基)丙烯酸-3,5-二甲基-8-乙基-1-金剛烷酯、(甲基)丙烯酸2-甲基-2-金剛烷酯、(甲基)丙烯酸2-乙基-2-金剛烷酯、(甲基)丙烯酸3-羥基-1-金剛烷酯、(甲基)丙烯酸八氫-4,7-薄荷醇茚-5-基酯、(甲基)丙烯酸八氫-4,7-薄荷醇茚-1-基甲酯、(甲基)丙烯酸-1-薄荷酯、(甲基)丙烯酸三環癸酯、(甲基)丙烯酸-3-羥基-2,6,6-三甲基-雙環[3.1.1]庚酯、(甲基)丙烯酸-3,7,7-三甲基-4-羥基-雙環[4.1.0]庚酯、(甲基)丙烯酸(降)冰片酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸葑酯、(甲基)丙烯酸-2,2,5-三甲基環己酯、(甲基)丙烯酸環己酯等。
該些(甲基)丙烯酸酯中,較佳為(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸(降)冰片酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸-1-金剛烷酯、(甲基)丙烯酸-2-金剛烷酯、(甲基)丙烯酸葑酯、(甲基)丙烯酸1-薄荷酯、(甲基)丙烯酸三環癸酯等,尤佳為(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸(降)冰片酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸-2-金剛烷酯。
「於側鏈上具有分支及/或脂環結構的基團」較佳為10mol%(莫耳百分比)~70mol%,更佳為15mol%~65mol%,尤佳為20mol%~60mol%。若於側鏈上具有分支及/或脂環結構的基團為上述範圍內,則可獲得良好的硬度。
上述「乙烯性不飽和基」並無特別限制,較佳為(甲基)丙烯醯基。另外,若乙烯性不飽和基與單體的連結為酯基、醯胺基、胺甲醯基等二價連結基,則並無特別限制。於側鏈上導入乙烯性不飽和基的方法可自公知的方法中適當選擇,例如可列舉以下方法:於具有酸性基的化合物(例如丙烯酸、甲基丙烯酸、乙烯基苯甲酸、馬來酸、馬來酸單烷基酯、富馬酸、衣康酸、丁烯酸、肉桂酸、山梨酸、α-氰基肉桂酸等)上加成具有環氧基的(甲基)丙烯酸酯的方法、於具有羥基的基團(例如甲基丙烯酸-2-羥基乙酯、丙烯酸-2-羥基乙酯等)上加成具有異氰酸基的(甲基)丙烯酸酯的方法、於具有異氰酸基的基團上加成具有羥基的(甲基)丙烯酸酯的方法等。
於側鏈上具有「乙烯性不飽和基」的重複單元的含量較佳為10mol%~70mol%,更佳為20mol%~70mol%,尤佳為30mol%~70mol%。若於側鏈上具有乙烯性不飽和基的基團為上述範圍內,則硬化性亦良好。
除了上述3種重複單元以外,亦可含有來源於其他單體的重複單元。此種其他單體並無特別限制,例如可列舉:不具有 分支及/或脂環結構的(甲基)丙烯酸酯,苯乙烯,乙烯醚基,具有二元酸酐基、乙烯酯基、烴烯基等的單體等。
上述乙烯醚基並無特別限制,例如可列舉丁基乙烯醚基等。
上述二元酸酐基並無特別限制,例如可列舉馬來酸酐基、衣康酸酐基等。
上述乙烯酯基並無特別限制,例如可列舉乙酸乙烯酯基等。
上述烴烯基並無特別限制,例如可列舉丁二烯基、異戊二烯基等。
關於其他單體的含有率,莫耳組成比較佳為0mol%~30mol%,更佳為0mol%~20mol%。
具體例例如可列舉:日本專利特開2008-146018公報的段落編號[0057]~段落編號[0063]中記載的化合物P-1~化合物P-35所表示的化合物。
透明黏合樹脂是由單體的(共)聚合反應的步驟與導入乙烯性不飽和基的步驟這兩階段的步驟來製作。首先,關於(共)聚合反應,藉由各種單體的(共)聚合反應來製作,並無特別限制,可自公知的(共)聚合反應中適當選擇。例如關於聚合的活性種,可適當選擇自由基聚合、陽離子聚合、陰離子聚合、配位聚合等。該些聚合中,就合成容易且成本低的方面而言,較佳為自由基聚合。另外,聚合方法亦無特別限制,可自公知的方法中 適當選擇。例如可適當選擇塊狀(bulk)聚合法、懸浮聚合法、乳化聚合法、溶液聚合法等。該些聚合方法中,更理想的是溶液聚合法,
相對於用於形成透明樹脂層的組成物的總固體成分,上述透明黏合樹脂的含量較佳為5質量%~70質量%,更佳為10質量%~50質量%。
再者,此處所謂固體成分,是指在用於形成透明樹脂層的組成物中去掉溶劑所得的其他成分的合計量。
上述透明黏合樹脂的玻璃轉移溫度Tg(b)較佳為70℃~140℃的範圍,更佳為80℃~110℃的範圍。若Tg(b)為70℃以上,則可抑制加熱壓接(層壓)時的空氣(氣泡)的捲入,若Tg(b)為140℃以下,則加熱壓接(層壓)時的空氣(氣泡)的捲入變充分,顯影亦可良好地進行。
另外,上述透明黏合樹脂的重量平均分子量Mw(b)較佳為10000~50000的範圍,更佳為15000~40000的範圍。若Mw(b)為10000以上,則可抑制加熱壓接(層壓)時的空氣(氣泡)的捲入,若Mw(b)為50000以下,則加熱壓接(層壓)時的空氣(氣泡)的捲入變充分,顯影亦可良好地進行。
關於上述透明黏合樹脂在上述透明樹脂層中的含量,較佳為相對於上述透明樹脂層的總固體成分而設定為30質量%以上。若黏合樹脂的量為上述範圍內,則可將加熱壓接(層壓)時 的透明樹脂層的熔融黏度維持於層不過於柔軟的程度,可保持某種程度的硬度而有效地抑制壓接時的氣泡的混入。
上述透明黏合樹脂的含量更佳為10質量%~40質量%,進而佳為20質量%~35質量%。
(11-3)聚合性化合物
本發明的製造方法中所用的上述轉印材料的上述透明樹脂層中,視需要可添加聚合性化合物並進行聚合,藉此來提高透明樹脂層的耐傷性等,可賦予較佳的性質。上述透明樹脂層中所用的聚合性化合物例如可選擇使用日本專利特開2008-256735號公報中列舉的聚合性化合物。透明樹脂層中所用的聚合性化合物的較佳範圍與上述著色層中所用的聚合性化合物的較佳範圍相同。
關於上述聚合性化合物在用於形成上述透明樹脂層的組成物中的含量,相對於組成物的總固體成分,較佳為5質量%~50質量%,更佳為7質量%~40質量%,進而佳為10質量%~35質量%。
(1-4)聚合起始劑
於上述透明樹脂層中,於添加聚合性化合物的情形時,可添加用以使其積極地聚合的聚合起始劑。聚合起始劑有時於可見光範圍內具有吸收,使透明樹脂層或保護層發生非預期的著色。因此,於將聚合起始劑添加至透明樹脂層中的情形時,必須根據其色調來選擇起始劑。
透明樹脂層中所用的光聚合起始劑的較佳範圍與上述著色層中所用的光聚合起始劑的較佳範圍相同。
透明樹脂層中所用的熱聚合起始劑的較佳範圍與上述著色層中所用的熱聚合起始劑的較佳範圍相同。
(11-5)抗氧化劑
於上述透明樹脂層中,亦可添加抗氧化劑。透明樹脂層中所用的抗氧化劑的較佳範圍與上述著色層中所用的抗氧化劑的較佳範圍相同。
(12)透明樹脂層的厚度
就用以提高將含有上述透明樹脂層的轉印材料轉印至基材上後所得的保護層的遮蓋力的觀點而言,較佳為上述透明樹脂層的厚度為1μm~100μm。
上述透明樹脂層的厚度更佳為1.5μm~38μm,尤佳為1.8μm~35μm。
(13)透明樹脂層的光學特性
就用以提高將含有上述保護層的轉印材料轉印至基材上後所得的透明樹脂層的透明性的觀點而言,較佳為上述透明樹脂層於400nm下的光透射率為80%以上。
上述透明樹脂層於400nm下的光透射率尤佳為85%以上。
-暫時支撐體-
上述轉印材料具有暫時支撐體。
上述暫時支撐體較佳為具有可撓性,於加壓或者加壓及加熱下不發生明顯的變形、收縮或伸長。此種暫時支撐體的例子可列舉聚對苯二甲酸乙二酯膜、三乙酸纖維素膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜等,其中尤佳為雙軸延伸聚對苯二甲酸乙二酯膜。
暫時支撐體的厚度並無特別限定,較佳為5μm~300μm,更佳為20μm~200μm。
另外,暫時支撐體可為透明,亦可含有染料化矽、氧化鋁溶膠、鉻鹽、鋯鹽等。
另外,可藉由日本專利特開2005-221726號公報中記載的方法等對暫時支撐體賦予導電性。
-熱塑性樹脂層-
上述轉印材料亦可具有至少一層熱塑性樹脂層。該熱塑性樹脂層較佳為設置於上述暫時支撐體與上述著色層或透明樹脂層之間。即,上述轉印材料較佳為依序含有上述暫時支撐體、熱塑性樹脂層、以及上述著色層及透明樹脂層中的任一種。
上述熱塑性樹脂層中所用的成分較佳為日本專利特開平5-72724號公報中記載的有機高分子物質,特佳為選自利用維卡(Vicat)法(具體而言為利用美國材料試驗法(American Society for Testing and Materials,ASTM)D1235的聚合物軟化點測定法)所得的軟化點為約80℃以下的有機高分子物質中。
具體可列舉:聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴,乙烯與乙酸乙 烯酯或其皂化物般的乙烯共聚物、乙烯與丙烯酸酯或其皂化物,聚氯乙烯,氯乙烯與乙酸乙烯酯及其皂化物般的氯乙烯共聚物,聚偏二氯乙烯,偏二氯乙烯共聚物,聚苯乙烯,苯乙烯與(甲基)丙烯酸酯或其皂化物般的苯乙烯共聚物,聚乙烯基甲苯,乙烯基甲苯與(甲基)丙烯酸酯或其皂化物般的乙烯基甲苯共聚物,聚(甲基)丙烯酸酯,(甲基)丙烯酸丁酯與乙酸乙烯酯等的(甲基)丙烯酸酯共聚物,乙酸乙烯酯共聚物尼龍、共聚合尼龍、N-烷氧基甲基化尼龍、N-二甲基胺基化尼龍般的聚醯胺樹脂等有機高分子。
熱塑性樹脂層的厚度較佳為6μm~100μm,更佳為6μm~50μm。若熱塑性樹脂層的厚度為6μm~100μm的範圍,則即便於基材上具有凹凸的情形時亦可完全吸收該凹凸。
-中間層-
為了防止多個塗佈層的塗佈時、及塗佈後的保存時的成分的混合,上述轉印材料亦可具有至少一層中間層。該中間層較佳為設置於上述暫時支撐體與上述著色層或透明樹脂層之間(於具有上述熱塑性樹脂層的情形時,設置於該熱塑性樹脂層與上述著色層或透明樹脂層之間)。即,上述轉印材料較佳為依序含有上述暫時支撐體、熱塑性樹脂層、中間層、以及上述著色層及透明樹脂層中的任一種。
該中間層較佳為使用日本專利特開平5-72724號公報中作為「分離層」而記載的具有氧阻斷功能的氧阻斷膜,於該情形時, 曝光時感度提高,曝光機的時間負荷減少,生產性提高。
該氧阻斷膜較佳為顯示出低的氧透過性且分散或溶解於水或鹼性水溶液中者,可自公知的氧阻斷膜中適當選擇。該等中,尤佳為聚乙烯醇與聚乙烯基吡咯啶酮的組合。
中間層的厚度較佳為0.1μm~5.0μm,更佳為0.5μm~2.0μm。若中間層的厚度為0.1μm~5.0μm的範圍,則氧阻斷能力不會降低,顯影時或中間層去除時亦不會過度耗費時間。
-保護剝離層-
於上述轉印材料中,為了保護其不受到儲藏時的污染或損傷,較佳為以覆蓋上述著色層或透明樹脂層的方式設置保護剝離層(亦稱為覆蓋膜(cover film))。上述保護剝離層亦可包含與暫時支撐體相同或類似的材料,必須自上述著色層或透明樹脂層上容易地分離。上述保護剝離層的材料例如適當的是矽酮紙、聚烯烴或聚四氟乙烯片材。
上述保護剝離層的霧度的最大值較佳為3.0%以下,就更有效地抑制上述著色層於顯影後發生泛白的觀點而言,較佳為2.5%以下,更佳為2.0%以下,特佳為1.0%以下。
於本發明中,上述保護剝離層的厚度較佳為1μm~100μm,更佳為5μm~50μm,特佳為10μm~30μm。若該厚度為1μm以上,則上述保護剝離層的強度充分,故於著色層或透明樹脂層上貼合覆蓋膜時,上述保護剝離層不易破裂。若該厚度為100μm 以下,則上述保護剝離層的價格不會變得過高,另外層壓上述保護剝離層時不易產生皺褶。
此種保護剝離層的市售品例如可列舉:王子製紙(股)製造的阿爾法(Alphan)MA-410、阿爾法(Alphan)E-200C、阿爾法(Alphan)E-501,信越膜(股)製造等的聚丙烯膜,帝人(股)製造的PS-25等PS系列等的聚對苯二甲酸乙二酯膜等,但並不限定於此。另外,可藉由對市售的膜進行噴砂加工而簡單地製造。
本發明中,可使用聚乙烯膜等聚烯烴膜來作為上述保護剝離層。另外,通常用作上述保護剝離層的聚烯烴膜是將原材料熱熔融,並藉由混練、擠出、雙軸延伸、澆鑄或膨脹法來製造。
以上,對本發明的轉印材料進行了說明,但上述轉印材料視需要亦可為負型材料或正型材料。
<轉印材料的製造方法>
製造以上所說明的本發明的製造方法中所用的轉印材料的方法並無特別限定,例如可藉由日本專利特開2005-3861號公報的段落[0064]~段落[0066]中記載的步驟來製造。另外,本發明的製造方法中所用的轉印材料例如亦可藉由日本專利特開2009-116078號公報中記載的方法來製作。
本發明的製造方法中所用的轉印材料的製造方法的一例可列舉包括而構成的方法:於暫時支撐體上塗佈樹脂組成物並使其乾燥,形成著色層或透明樹脂層的步驟;以及利用上述保護剝離層 來覆蓋所形成的上述著色層或透明樹脂層的步驟。
此處,著色層或透明樹脂層亦可形成2層以上。另外,亦可於形成著色層或透明樹脂層之前,藉由塗佈形成熱塑性樹脂層及/或中間層(氧阻斷層)。
於暫時支撐體上塗佈上述著色層或透明樹脂層形成用組成物、上述熱塑性樹脂層形成用塗佈液、上述中間層形成用塗佈液的方法可使用公知的塗佈方法。例如可藉由以下方式來形成上述著色層或透明樹脂層、上述熱塑性樹脂層及上述中間層:使用旋轉器、旋轉烘版機(whirler)、輥塗機、簾幕式塗佈機、刮刀塗佈機、線棒塗佈機、擠出機(extruder)等塗佈機來塗佈該些塗液,並使其乾燥。
(溶劑)
用以形成上述轉印材料的著色層的著色層形成用組成物可與著色層形成用組成物所含的各成分一併使用溶劑而較佳地製備。用以形成上述轉印材料的透明樹脂層的透明樹脂層形成用組成物可與著色感光性組成物所含的各成分一併使用溶劑而較佳地製備。
溶劑可列舉:酯類,例如乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯、甲酸戊酯、乙酸異戊酯、丙酸丁酯、丁酸異丙酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、烷基酯類、乳酸甲酯、乳酸乙酯、氧基乙酸甲酯、氧基乙酸乙酯、氧基乙酸丁酯、甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙 酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯,以及3-氧基丙酸甲酯及3-氧基丙酸乙酯等3-氧基丙酸烷基酯類(例如3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯),以及2-氧基丙酸甲酯、2-氧基丙酸乙酯及2-氧基丙酸丙酯等2-氧基丙酸烷基酯類(例如2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-氧基-2-甲基丙酸乙酯、2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯),以及丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、2-氧代丁酸甲酯、2-氧代丁酸乙酯等;醚類,例如二乙二醇二甲醚、四氫呋喃、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丁醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯等;酮類,例如甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮、2-庚酮、3-庚酮等;芳香族烴類,例如甲苯、二甲苯等。
該些溶劑中,較佳為甲基乙基酮、甲基異丁基酮、二甲苯、環己酮、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯等。
溶劑可單獨使用,亦可組合使用兩種以上。
利用上述保護剝離層來覆蓋上述著色層或透明樹脂層 的方法並無特別限定,可使用在暫時支撐體上的著色層或透明樹脂層上重疊上述保護剝離層並進行壓接的方法。
壓接時,可使用層壓機、真空層壓機及可進一步提高生產性的自動切割層壓機(auto cut laminator)等公知的層壓機。
上述壓接的條件較佳為環境溫度為20℃~45℃、線壓為1000N/m~10000N/m。
(切入具有直線部分的切口的方法)
本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法中的上述(A)對含有暫時支撐體及著色層或透明樹脂層的轉印材料切入切口(該切口為於厚度方向上至少貫穿著色層或透明樹脂層的深度,且於面內方向上具有直線部分)的方法並無特別限制,切口的深度亦無特別限制。
本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法較佳為以於面內方向上具有4處以上的直線部分(本說明書中,所謂「直線部分」是指直線狀的部分,與線段為相同含意)的方式來對上述轉印材料切入切口。再者,對上述轉印材料的切口亦可由「大半徑的圓弧」或「正弦波」所構成,本發明的製造方法尤其於切入具有直線部分的切口時有用。
本發明的製造方法中,對上述轉印材料切入切口的方法並無特別限制,較佳為利用選自湯姆遜刀刃加工或雷射光加工中的方法來切入。
關於對上述轉印材料的切口的深度,(A-1)可對上述轉印材料切入切口直至在厚度方向上貫穿上述轉印材料全層的深度為止,(A-2)切入貫穿上述著色層或透明樹脂層、且不貫穿上述暫時支撐體的深度的切口。
將(A-1)對上述轉印材料切入切口直至在厚度方向上貫穿上述轉印材料的全層的深度為止的操作亦稱為衝壓。再者,於在(A)步驟中進行上述衝壓的情形時,較佳為亦同時進行後述的(B)自上述轉印材料的面內方向的一部分區域中將直至上述切口的深度為止的上述著色層或透明樹脂層去除的步驟。再者,將同時進行衝壓與著色層或透明樹脂層的去除的操作亦稱為鑿挖(mortising)。
另一方面,將(A-2)切入貫穿上述著色層或透明樹脂層、且不貫穿上述暫時支撐體的深度的切口的操作稱為半切割(half cut)。
該等中,本發明的帶有裝飾材的基材的製造方法較佳為(A-1)對上述轉印材料切入切口直至在厚度方向上貫穿上述轉印材料全層的深度為止。
(衝壓方法)
本發明的帶有裝飾材的基材的製造方法中的上述轉印材料的衝壓時,可使用公知的方法。
機械式衝壓方法例如可列舉:使用湯姆遜刀刃的平切、使用 模切輥(die cut roll)的圓筒切。
光學式衝壓方法可列舉CO2雷射切割機。
另外,可為單片式亦可為連續式(輥對輥式)。
機械式衝壓方法中所用的裝置例如可列舉登峰製造(Climb Products)股份有限公司製造的L-CPNC550等。
(半切割方法)
於上述半切割方法中切入切口的方法並無特別限制,可利用刀、雷射等任意方法來切入切口,較佳為利用刀來切入切口。另外,刀的構造並無特別限定。
於上述轉印材料例如是將暫時支撐體、熱塑性樹脂層、中間層、著色層或透明樹脂層、保護剝離層依序積層而構成時,例如藉由使用刀或雷射自保護剝離層上貫穿保護剝離層、著色層或透明樹脂層、中間層切入切口直至熱塑性樹脂層的一部分為止,可將轉印的著色層或透明樹脂層(圖像部)與不轉印的著色層或透明樹脂層(非圖像部)之間分離。
<(B)步驟>
本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法包括(B)自上述轉印材料的面內方向的一部分區域中將直至上述切口的深度為止的上述著色層或透明樹脂層去除的步驟。
於圖5中,示出進行(B)步驟之後的轉印材料的構成的概略圖。圖5為自著色層24側觀察含有暫時支撐體及著色層24的轉 印材料30的概略圖。於圖5中,藉由上述(B)步驟來形成去除了著色層的區域25、與著色層(上述著色層中未被去除的區域)24。圖21為自透明樹脂層24側觀察含有暫時支撐體及透明樹脂層24的轉印材料30的概略圖。於圖5中,藉由上述(B)步驟來形成去除了透明樹脂層的區域25、與透明樹脂層(上述透明樹脂層中未被去除的區域)24。
藉由自上述轉印材料的面內方向的一部分區域(該一部分區域是由上述(A)步驟中切入的切口(圖1的虛線部)所包圍,上述切口為於厚度方向上貫穿著色層的深度,且於面內方向上具有直線部分)中將直至上述切口的深度為止的上述著色層去除,可獲得圖5的形狀的轉印材料。根據本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,能以高生產性來製造圖5的框內部21的直線性高的帶有裝飾材的基材。另一方面,藉由自上述轉印材料的面內方向的一部分區域(該一部分區域為由上述(A)步驟中切入的切口(圖1的虛線部)所包圍的區域以外的區域,上述切口為於厚度方向上貫穿著色層的深度,且於面內方向上具有直線部分)中將直至上述切口的深度為止的上述著色層或透明樹脂層去除,可獲得圖21的形狀的轉印材料。根據本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,能以高生產性來製造圖21的框內部21(相當於透明樹脂層或透明保護層的外周部)的直線性高的帶有透明保護層的基材。
再者,於本發明中,於上述配線取出部23具有直線部分的情形時,亦可提高其直線性。
於圖6及圖7中,示出圖5所示的轉印材料的X2-X2'的剖面概略圖。另外,於圖22及圖23中,示出圖21所示的轉印材料的X2-X2'的剖面概略圖。圖6及圖22為使用在暫時支撐體26上僅積層有著色層或透明樹脂層24的轉印材料30時的上述<B步驟>後的轉印材料的實施方式。圖6及圖22中示出以下實施方式:於上述(A)步驟中藉由半切割來切入貫穿上述著色層或透明樹脂層24、且不貫穿上述暫時支撐體26的深度的切口的情形時,於上述(B)步驟後所得的轉印材料的實施方式。
圖7及圖23為使用在暫時支撐體26上積層有後述熱塑性樹脂層27、中間層28、著色層或透明樹脂層24及保護剝離層29的轉印材料30時的上述<B步驟>後的轉印材料的實施方式。再者,圖7及圖23中示出以下實施方式:於上述(A)步驟中藉由衝壓來對上述轉印材料切入切口直至在厚度方向上貫穿上述轉印材料全層的深度為止的情形時,為上述(B)步驟後所得的轉印材料的實施方式。
上述(B)步驟並無特別限制,較佳為藉由在上述(A)步驟中使用衝壓方法,而與上述(A)步驟同時進行上述(B)步驟。
另一方面,於藉由半切割方法進行預切割(precut)的情形時, 必須設法在將著色層或透明樹脂層的圖像部選擇性地轉印至基材上時使非圖像部不轉印。一個方法為於轉印前將非圖像部的著色層或透明樹脂層去除的方法,該方法為於去除保護剝離層後,將非圖像部的著色層或透明樹脂層與中間層同時剝離的方法。另一方法為剝離非圖像部上的保護膜,繼而將著色層或透明樹脂層與中間層同時剝離,進而剝離圖像部上的保護膜的方法。就保護著色層或透明樹脂層的圖像部直至即將轉印之前的觀點而言,較佳為後者的方法。
於上述轉印材料在上述著色層或透明樹脂層上具有上述保護剝離層的情形時,本發明的帶有裝飾材的基材的製造方法較佳為於將上述轉印材料貼附於基材上之前剝離上述保護剝離層。
剝離上述保護剝離層的方法並無特別限制,可列舉使用公知的膠帶(tape)進行去除的方法等。
於圖8中,示出自圖7的於著色層(上述著色層中未被去除的剩餘區域)24上具有保護剝離層29的轉印材料30中去除保護剝離層29後所得的轉印材料的剖面概略圖。於圖24中,示出自圖23的於透明樹脂層(上述透明樹脂層中未被去除的剩餘區域)24上具有保護剝離層29的轉印材料30中去除保護剝離層29後所得的轉印材料的剖面概略圖。
<(C)步驟>
本發明的帶有裝飾材的基材的製造方法包括(C)將含有上述著色層或透明樹脂層中未被去除的剩餘區域的轉印材料貼附至基材上的步驟。
於圖9中,示出使用圖6所示的上述(B)步驟後的轉印材料進行上述(C)步驟後的實施方式。於圖25中,示出使用圖22所示的上述(B)步驟後的轉印材料進行上述(C)步驟後的實施方式。
於圖10中,示出使用自圖8所示的上述(B)步驟後的轉印材料中去除上述保護剝離層後的轉印材料進行上述(C)步驟後的實施方式。於圖26中,示出使用圖24所示的上述(B)步驟後的轉印材料進行上述(C)步驟後的實施方式。
圖9及圖10中,基材1較佳為與上述著色層(未被去除的區域)24鄰接。圖25及圖26中,基材1較佳為與上述透明樹脂層(未被去除的區域)24鄰接。
(層壓方法)
上述(C)步驟較佳為使用公知的層壓方法。
著色層或透明樹脂層對基材表面的轉印(貼合)可藉由將著色層或透明樹脂層重疊於基材表面上並實施加壓、加熱來進行。貼合時,可使用層壓機、真空層壓機及可進一步提高生產性的自動切割層壓機(auto cut laminator)等公知的層壓機。
層壓方法因將經衝壓的著色層或透明樹脂層轉印至基材上, 故就可提高產率的觀點而言,較佳為單片式且精度良好、不於基材與著色層或透明樹脂層之間捲入氣泡的方法。
具體而言,可較佳地列舉使用真空層壓機。
層壓(連續式/單片式)時所用的裝置例如可列舉登峰製造(Climb Products)股份有限公司製造的V-SE340aaH等。
真空層壓機裝置例如可列舉:高野精機有限公司製造的真空層壓機裝置、或大成層壓裝置(Taisei-Laminator)股份有限公司製造的FVJ-540R、FV700等。
本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法於將上述轉印材料貼附於基材上之前,包括於上述暫時支撐體的與上述著色層或透明樹脂層為相反之側進一步積層支撐體的步驟的情況下,有時可獲得於層壓時不捲入氣泡的較佳效果。此時所用的支撐體並無特別限制,例如可列舉以下支撐體。
聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、三乙醯纖維素、環烯烴聚合物。
另外,膜厚可於50μm~2000μm的範圍內選擇,亦可於50μm~200μm的範圍內選擇。
(基材)
本發明中所用的基材可使用各種基材,上述基材較佳為玻璃、膜基材,更佳為使用光學上不變形的基材、或透明度高的基材。本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法中,上 述基材較佳為全光透射率為80%以上。
上述基材為膜基材的情形時的具體原材料可列舉:聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯(PC)、三乙醯纖維素(TAC)、環烯烴聚合物(COP)。
本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法中,上述基材較佳為選自玻璃、TAC、PET、PC或COP中。
另外,亦可對基材表面附加各種功能。具體可列舉:抗反射層、防眩層、相位差層、視角改善層、耐損傷層、自修復層、抗靜電層、防污層、防電磁波層、導電性層。
本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法中,上述基材較佳為更具有導電性層。上述導電性層可較佳地使用日本專利特表2009-505358號公報中記載者。
本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法中,上述基材較佳為至少具有耐損傷層及防眩層中的至少一種。
進而,作為藉由本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法來製造帶有透明保護層的基材時的基材,於後述靜電電容型輸入裝置中,亦較佳為使用具有前面板、及於上述前面板的非接觸側至少具有上述(1)~(5)的要素者總體作為基材,於其上形成透明保護層。
本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法中,上述基材較佳為膜厚為40μm~2000μm,更佳為40μm~1500 μm,特佳為50μm~1100μm。
另外,為了提高由轉印步驟中的層壓所得的著色層或透明樹脂層的密接性,可預先對基材(前面板)的非接觸面實施表面處理。上述表面處理較佳為實施使用矽烷化合物的表面處理(矽烷偶合處理)。矽烷偶合劑較佳為具有與感光性樹脂相互作用的官能基。例如藉由噴淋(shower)來噴附矽烷偶合液(N-β(胺基乙基)γ-胺基丙基三甲氧基矽烷0.3質量%水溶液,商品名:KBM603,信越化學(股)製造)20秒鐘,並進行純水噴淋清洗。其後,藉由加熱來進行反應。亦可使用加熱槽,層壓機的基材預加熱亦可促進反應。
<(D)步驟>
本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法包括(D)自貼附於上述基材上的上述轉印材料中去除上述暫時支撐體的步驟。
於圖11中,示出使用圖10所示的上述(C)步驟後的轉印材料及基材的積層體進行上述(D)步驟,去除上述暫時支撐體26後的實施方式。於圖28中,示出使用圖25所示的上述(C)步驟後的轉印材料及基材的積層體進行上述(D)步驟,去除上述暫時支撐體26後的實施方式。
於圖12中,示出使用圖9所示的上述(C)步驟後的轉印材料及基材的積層體進行上述(D)步驟,去除上述暫時支撐體26 後的實施方式。於圖27中,示出使用圖26所示的上述(C)步驟後的轉印材料及基材的積層體進行上述(D)步驟,去除上述暫時支撐體26後的實施方式。
<(E)步驟>
本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法包括(E)使貼附於上述基材上的上述著色層的剩餘區域硬化而形成裝飾材的步驟、或使貼附於上述基材上的上述透明樹脂層的剩餘區域硬化而形成透明保護層的步驟。
另外,於圖13中,示出使貼附於上述基材1上的上述轉印材料的上述著色層24的剩餘區域硬化而形成裝飾材2後的實施方式。利用本發明的製造方法所得的帶有裝飾材的基材中,圖13中的裝飾材2的框內部21的直線部分的直線性高。於圖29中,示出使貼附於上述基材1上的上述轉印材料的透明樹脂層24的剩餘區域硬化而形成透明保護層7後的實施方式。利用本發明的製造方法所得的帶有透明保護層的基材中,圖29中的透明保護層7的框內部21的直線部分的直線性高。
本發明的製造方法中所用的轉印材料中,著色層或透明樹脂層可含有光硬化性樹脂或聚合性單體,亦可不含光硬化性樹脂或聚合性單體,於任一情形時,均可使上述著色層或透明樹脂層的於上述(B)步驟中未被去除的剩餘區域(圖案)硬化而形成裝飾層或透明保護層。
於使用普通的轉印材料的情形時,只要著色層或透明樹脂層含有光硬化性樹脂或聚合性單體,則可藉由通常的光微影(photolithography)的方法來形成裝飾材或透明保護層,較佳為包括曝光步驟及顯影步驟。
上述曝光步驟為對轉印於基材上的上述著色層或透明樹脂層進行曝光的步驟。
具體可列舉:於形成於上述基材上的上述著色層或透明樹脂層的上方配置既定的遮罩,其後介隔該遮罩、熱塑性樹脂層及中間層自遮罩上方進行曝光的方法。
此處,上述曝光的光源只要可照射能使上述著色層或透明樹脂層硬化的波長範圍的光(例如365nm、405nm等),則可適當地選擇使用。具體可列舉:超高壓水銀燈、高壓水銀燈、金屬鹵化物燈等。曝光量通常為5mJ/cm2~200mJ/cm2左右,較佳為10mJ/cm2~100mJ/cm2左右。
另外,圖案化曝光可將暫時支撐體剝離後進行,亦可於剝離暫時支撐體之前進行曝光,其後剝離暫時支撐體。可為介隔遮罩的曝光,亦可為使用雷射等的數位曝光。
上述顯影步驟為對經曝光的上述著色層或透明樹脂層進行顯影的步驟。
上述顯影可使用顯影液來進行。上述顯影液並無特別限制,可使用日本專利特開平5-72724號公報中記載者等公知的顯影 液。另外,顯影液較佳為進行使上述著色層或透明樹脂層溶解的類型的顯影行為,例如較佳為以0.05mol/L~5mol/L的濃度含有pKa=7~13的化合物,亦可進一步少量添加與水具有混合性的有機溶劑。與水具有混合性的有機溶劑可列舉:甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單正丁醚、苄醇、丙酮、甲基乙基酮、環己酮、ε-己內酯、γ-丁內酯、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、六甲基磷醯胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己內醯胺、N-甲基吡咯啶酮等。該有機溶劑的濃度較佳為0.1質量%~30質量%。
另外,上述顯影液中可進一步添加公知的界面活性劑。界面活性劑的濃度較佳為0.01質量%~10質量%。
上述顯影的方式可為槳式(paddle)顯影、噴淋顯影、噴淋及旋轉顯影、浸漬顯影等的任一種。此處,若對上述噴淋顯影加以說明,則藉由利用噴淋對曝光後的上述著色層或透明樹脂層噴附顯影液,可去除未硬化部分。
於上述轉印材料含有熱塑性樹脂層或中間層的情形時,繼而可藉由顯影將熱塑性樹脂層與中間層去除,藉此形成裝飾層圖案或透明保護層圖案。視需要亦可組合刷(brush)或高壓噴射等公知的顯影設備。顯影後,亦可視需要而進行後曝光、後烘烤,較佳為進行後烘烤。
(去除熱塑性樹脂層的步驟、去除中間層的步驟)
進而,於上述轉印材料含有熱塑性樹脂層或中間層的情形時,較佳為於上述(E)步驟之後、上述(F)步驟之前,包括去除熱塑性樹脂層及中間層的步驟。
藉由該些步驟,可自如圖11或圖27般於基材1上具有著色層或透明樹脂層(未被去除的區域)24、熱塑性樹脂層27及中間層28的構成的積層體中,去除熱塑性樹脂層27及中間層28,形成如圖12或圖28般於基材1上積層有著色層或透明樹脂層24的剩餘區域(未被去除的區域)的實施方式。
上述去除熱塑性樹脂層及中間層的步驟通常可使用光微影(photolitho)方式中使用的鹼性顯影液來進行。上述鹼性顯影液並無特別限制,可使用日本專利特開平5-72724號公報中記載者等公知的顯影液。另外,顯影液較佳為進行使著色層或透明樹脂層溶解的類型的顯影行為,例如較佳為以0.05mol/L~5mol/L的濃度含有pKa=7~13的化合物,亦可進一步少量添加與水具有混合性的有機溶劑。與水具有混合性的有機溶劑可列舉:甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單正丁醚、苄醇、丙酮、甲基乙基酮、環己酮、ε-己內酯、γ-丁內酯、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、六甲基磷醯胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己內醯胺、N-甲基吡咯啶酮等。該有機溶劑的濃度較佳為0.1質量%~30質量%。
另外,上述鹼性顯影液中亦可進一步添加公知的界面活性 劑。界面活性劑的濃度較佳為0.01質量%~10質量%。
上述去除熱塑性樹脂層及中間層的步驟的方式可為槳式、噴淋、噴淋及旋轉、浸漬等的任一種。此處,若對上述噴淋加以說明,則藉由利用噴淋對熱塑性樹脂層或中間層噴附顯影液,可去除熱塑性樹脂層或中間層。另外,較佳為於顯影後藉由噴淋來噴附清洗劑等,一面利用毛刷等擦洗一面去除殘渣。溶液溫度較佳為20℃~40℃,另外,溶液的pH值較佳為8~13。
(後烘烤步驟)
較佳為於上述轉印步驟後包括後烘烤步驟,更佳為於上述去除熱塑性樹脂層及中間層的步驟後包括進行後烘烤的步驟。
就兼具白色度與生產性的觀點而言,本發明的製造方法較佳為將本發明的製造方法中所用的轉印膜的上述著色層於0.08atm~1.2atm的環境下加熱至180℃~300℃而形成上述(1)裝飾層。另一方面,就硬度的觀點而言,較佳為將本發明的製造方法中所用的轉印膜的上述透明樹脂層於0.08atm~1.2atm的環境下加熱至180℃~300℃而形成上述保護層。
上述後烘烤的加熱更佳為於0.5atm以上的環境下進行。另一方面,進而佳為於1.1atm以下的環境下進行,特佳為於1.0atm以下的環境下進行。進而,就不使用特殊的減壓裝置而可降低製造成本的觀點而言,進而特佳為於約1atm(大氣壓)環境下進行。此處,先前於藉由加熱進行硬化而形成上述(1)裝飾層的情形時, 藉由於壓力非常低的減壓環境下進行加熱且降低氧濃度來維持烘烤後的白色度,但藉由使用本發明的製造方法中所用的轉印膜,即便於上述壓力的範圍內進行烘烤後,亦可提高裝飾層的白色度。另一方面,於藉由加熱進行硬化而形成保護層的情形時,藉由在壓力非常低的減壓環境下進行加熱且降低氧濃度,可抑制烘烤後的著色。
上述後烘烤的溫度是由基板的耐熱溫度決定,更佳為130℃~280℃,特佳為140℃~260℃。
上述後烘烤的時間更佳為20分鐘~150分鐘,特佳為30分鐘~100分鐘。
上述後烘烤可於空氣環境下進行,亦可於氮氣置換環境下進行,就不使用特殊的減壓裝置而可降低製造成本的觀點而言,特佳為於空氣環境下進行。
(其他步驟)
本發明的製造方法亦可包括後曝光步驟等其他步驟。
於上述著色層或透明樹脂層具有光硬化性樹脂層的情形時,較佳為於形成上述裝飾層或透明保護層時包括後曝光步驟。上述後曝光步驟可僅自上述著色層或透明樹脂層的與上述基材接觸之側的表面方向進行,亦可僅自不與上述透明基材接觸之側的表面方向進行,亦可自兩面方向進行。
再者,關於上述曝光步驟、顯影步驟、上述去除熱塑性 樹脂層及中間層的步驟及其他步驟的例子,可將日本專利特開2006-23696號公報的段落編號[0035]~段落編號[0051]中記載的方法較佳地用於本發明中。
<(F)步驟>
本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法於製造帶有裝飾材的基材的情形時,較佳為更包括(F)將包含形成有上述裝飾材的部分及未形成上述裝飾材的部分的區域的外周部切除的步驟。
於上述(F)步驟中,例如可對圖13所記載的帶有裝飾材的基材實施以下操作:將虛線部所示的包含形成有上述裝飾材的部分與未形成上述裝飾材的部分的區域的外周部切除。
於圖14中,示出將圖13中記載的帶有裝飾材的基材的虛線部切除後的X3-X3'的剖面概略圖。於圖14中,藉由上述(F)步驟可獲得2片帶有裝飾材的基材。另外,於圖15中,示出自上述裝飾材側觀察上述(F)步驟後的各帶有裝飾材的基材的概略圖。
所謂形成有上述裝飾材的部分,表示圖13及圖14的裝飾材2。另外,所謂未形成上述裝飾材的部分,表示圖13中可看到基材1的部分。
藉由上述(F)步驟,能以成為與後述觸控面板的用途相對應的所需形狀的方式形成帶有裝飾材的基材的框外部22。
將包含形成有上述裝飾材的部分與未形成上述裝飾材 的部分的區域的外周部切除的方法並無特別限制,可使用公知的方法。
本發明的帶有裝飾材的基材的製造方法中,帶有裝飾材的基材較佳為利用選自湯姆遜刀刃加工及雷射光加工中的方法將包含形成有上述裝飾材的部分與未形成上述裝飾材的部分的區域的外周部切除。
另外,於帶有裝飾材料的基材的切出時,亦可使用與上述轉印材料的衝壓中的單片式的方法相同的方法。
[觸控面板]
本發明的觸控面板的特徵在於具有本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材。
此種觸控面板較佳為靜電電容型輸入裝置。
《靜電電容型輸入裝置、及具備靜電電容型輸入裝置作為構成要素的圖像顯示裝置》
上述靜電電容型輸入裝置為具有前面板及於上述前面板的非接觸側至少具有下述(1)~(5)的要素的靜電電容型輸入裝置,較佳為前面板與上述(1)裝飾層為本發明的帶有裝飾材的基材。
(1)裝飾層
(2)多個墊部分經由連接部分於第一方向上延伸而形成的多個第一透明電極圖案
(3)與上述第一透明電極圖案電性絕緣、且於與上述第一方 向交叉的方向上延伸而形成的包含多個墊部分的多個第二透明電極圖案
(4)將上述第一透明電極圖案與上述第二透明電極圖案電性絕緣的絕緣層
(5)與上述第一透明電極圖案及上述第二透明電極圖案的至少一者電性連接、且與上述第一透明電極圖案及上述第二透明電極圖案不同的導電性要素
另外,上述靜電電容型輸入裝置較佳為於「具有前面板及於上述前面板的非接觸側至少具有上述(1)~(5)的要素的基材」上進一步形成有透明保護層,且「具有前面板及於上述前面板的非接觸側至少具有上述(1)~(5)的要素的基材」與上述透明保護層為本發明的帶有透明保護層的基材。
<靜電電容型輸入裝置的構成>
首先,對藉由本發明的製造方法所形成的靜電電容型輸入裝置的構成加以說明。圖16及圖17為表示使用本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的本發明的靜電電容型輸入裝置中的較佳構成的剖面圖。進而,圖30為表示於使用本發明的帶有透明保護層的基材的本發明的靜電電容型輸入裝置中,對透明樹脂層7要求直線性的實施方式的構成的剖面圖。再者,於圖30的構成中,亦可進一步使用未圖示的其他保護層來覆蓋所有構件。於圖16及圖30中,靜電電容型輸入裝置10是由前面板1、裝飾層2、第一 透明電極圖案3、第二透明電極圖案4、絕緣層5、導電性要素6及透明保護層7所構成。
前面板1較佳為由膜基材等透光性基材所構成。另外,可於膜基材的電極的相反側進一步設置蓋玻璃1'。玻璃基材可使用康寧(Corning)公司的高麗雅(Gorilla)玻璃所代表的強化玻璃等。另外,於圖16及圖17中,將前面板1的設置有各要素之側稱為非接觸面1a。本發明的靜電電容型輸入裝置10中,使手指等與前面板1的接觸面(1a非接觸面的相反面)接觸等來進行輸入。以下,有時將前面板稱為「基材」。
另外,於前面板1的非接觸面上設置有裝飾層2。裝飾層2為形成於觸控面板前面板的非接觸側的顯示區域周圍的邊緣狀圖案,是為了不看見牽引配線等或為了進行裝飾而形成。
於本發明的靜電電容型輸入裝置10中,可設置未圖示的配線取出口。於形成具有配線取出部的靜電電容型輸入裝置的帶有裝飾材的基材的情形時,若欲使用裝飾層形成用液體抗蝕劑或網版印刷油墨來形成裝飾層2,則有時引起以下問題:產生抗蝕劑成分自配線取出部的漏出、或裝飾層中的抗蝕劑成分自玻璃端的滲出,污染基材背側,而於使用具有配線取出部的帶有裝飾材的基材的情形時,亦可解決此種問題。
於前面板1的非接觸面上,形成有多個墊部分經由連接部分於第一方向上延伸而形成的多個第一透明電極圖案3、與第一 透明電極圖案3電性絕緣且於與第一方向交叉的方向上延伸而形成的包含多個墊部分的多個第二透明電極圖案4、以及將第一透明電極圖案3與第二透明電極圖案4電性絕緣的絕緣層5。上述第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4及後述導電性要素6例如可利用氧化銦錫(Indium Tin Oxide,ITO)或氧化銦鋅(Indium Zinc Oxide,IZO)等透光性的導電性金屬氧化膜來製作。此種金屬膜可列舉:ITO膜;Al、Zn、Cu、Fe、Ni、Cr、Mo等的金屬膜;SiO2等的金屬氧化膜等。此時,各要素的膜厚可設定為10nm~200nm。另外,藉由煅燒將非晶性的ITO膜調整為多晶的ITO膜,故亦可降低電阻。另外,上述第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4及後述導電性要素6亦可使用如下轉印膜來製造,上述轉印膜具有使用上述導電性纖維的著色層或透明樹脂層。除此以外,於藉由ITO等來形成第一導電性圖案等的情形時,可參考日本專利第4506785號公報的段落[0014]~段落[0016]等。
另外,第一透明電極圖案3及第二透明電極圖案4的至少一者可橫跨前面板1的非接觸面及裝飾層2的與前面板1為相反側的面這兩個區域而設置。於圖16中示出以下的圖:第二透明電極圖案是橫跨前面板1的非接觸面及裝飾層2的與前面板1為相反側的面這兩個區域而設置。如此,即便於橫跨必需一定厚度的裝飾層2與前面板背面來層壓轉印膜的情形時,藉由使用本發明的具有特定的層構成的轉印膜,即便不使用真空層壓機等昂貴 的設備,亦可利用簡單的步驟來進行於裝飾層2的部分邊界不產生氣泡的層壓。
於圖16中,於裝飾材2的與前面板1為相反側的面側設置有導電性要素6。導電性要素6是與第一透明電極圖案3及第二透明電極圖案4的至少一者電性連接、且與第一透明電極圖案3及第二透明電極圖案4不同的要素。於圖16中,示出將導電性要素6連接於第二透明電極圖案4的圖。
另外,於圖1中,以將各構成要素全部覆蓋的方式設置有透明保護層7。透明保護層7亦可如圖30所示般以僅將各構成要素的一部分覆蓋的方式構成,該情形時,較佳為利用本發明的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法來形成外周部的直線性高的透明保護層作為透明保護層7。絕緣層5與透明保護層7可為相同材料,亦可為不同材料。構成絕緣層5的材料較佳為表面硬度、耐熱性高的材料,可使用公知的感光性矽氧烷樹脂材料、丙烯酸系樹脂材料等。
上述靜電電容型輸入裝置、及具備該靜電電容型輸入裝置作為構成要素的圖像顯示裝置可應用「最新觸控面板技術」(2009年7月6日發行,科技時代(Techno Times)(股))、三谷雄二主編的「觸控面板的技術與開發」(CMC出版,2004,12)、平板顯示器(Flat Panel Display,FPD)國際2009論壇T-11(International 2009 Forum T-11)演講教科書、賽普拉斯半導體公 司(Cypress Semiconductor Corporation)應用註解(application note)AN2292等中揭示的構成。
[行動裝置]
本發明的行動裝置的特徵在於具有本發明的觸控面板。
可使用本發明的觸控面板的行動裝置的例子例如可列舉以下行動裝置。
愛瘋(iPhone)4、愛拍(iPad)(以上為美國蘋果(Apple)公司製造),埃克斯派利亞(Xperia)(SO-01B)(索尼愛立信行動通訊(Sony Ericsson Mobile Communications)公司製造),蓋世(Galaxy)S(SC-02B)、蓋世(Galaxy)Tab(SC-01C)(以上為韓國三星(samsung)電子公司製造),黑莓(BlackBerry)8707h(加拿大動態研究(Research In Motion)公司製造),坎多爾(Kindle)(美國亞馬遜(Amazon)公司製造),科博塔基(Kobo Touch)(樂天股份有限公司製造)。
[實施例]
以下,列舉實施例對本發明加以更具體說明。下述實施例中所示的材料、試劑、比例、裝置、操作等只要不偏離本發明的範圍則可適當變更,因此本發明不限定於以下所示的實施例。再者,下述實施例中,只要無特別說明,則「%」及「份」均為質量基準,分子量表示重量平均分子量。
首先,製備以下顏料分散物。
[製備例1]
(黑色顏料分散物1:K1)
.碳黑(德固賽(Degussa)公司製造的Nipex35):13.1質量%
.下述分散劑1:0.65質量%
.聚合物:6.72質量%
(甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸=72/28莫耳比的無規共聚物,重量平均分子量為3.7萬)
.丙二醇單甲醚乙酸酯:79.53質量%
[製備例2]
(黑色顏料分散物2:K2)
使用FP Black GB4016(山陽色素股份有限公司製造)作為黑色顏料分散物2。再者,FP Black GB4016為以下組成。
黑色顏料(碳黑) 25.0質量%
分散劑 9.5質量%
分散溶劑(丙二醇單甲醚乙酸酯) 65.5質量%
[製備例3]
(黑色顏料分散物3:K3)
使用CDP-K106(富士膠片電子材料(FUJIFILM Electronic Materials)股份有限公司製造)作為黑色顏料分散物3。再者,CDP-K106為以下組成。
黑色顏料(二氧化鈦) 25.0質量%
分散劑 7.0質量%
分散溶劑(甲基乙基酮) 68.0質量%
[製備例4]
(紅色顏料分散物:R)
紅色顏料分散物R是以成為下述組成的方式將顏料、聚合物及溶劑混合,使用三根輥及珠磨機進行製備。
(紅色顏料分散物R的組成〉
.紅色顏料(C.I.顏料紅177):18質量%
.聚合物:12質量%
(甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸=72/28莫耳比的無規共聚物,重量平均分子量為3.7萬)
.丙二醇單甲醚乙酸酯:70質量%
[製備例5]
(白色顏料分散物:W)
將以下三種成分混合,使用三根輥及珠磨機來製備白色顏料分散劑W。
白色顏料:氧化鈦JR-805(帝化(Tayca)股份有限公司製造)853.5g
甲基乙基酮 336g
分散劑:索努帕斯(Solsperse)32000(日本路博潤(Lubrizol)股份有限公司製造) 25.5g
[製備例6]
(綠色顏料分散物:G)
關於綠色顏料分散物,除了使用綠色顏料C.I.顏料綠36來代替[製備例4]的紅色顏料以外,與[製備例4]同樣地製備綠色顏料分散物G。
[製備例7]
(黃色顏料分散物:Y)
關於黃色顏料分散物,除了使用黃色顏料C.I.顏料黃150來代替[製備例4]的紅色顏料以外,與[製備例4]同樣地製備黃色顏料分散物Y。
[製備例8]
(藍色顏料分散物:B)
關於藍色顏料分散物,除了使用藍色顏料C.I.顏料藍15:6來代替[製備例4]的紅色顏料以外,與[製備例4]同樣地製備藍色顏料分散物B。
使用製備例1~製備例8中製備的顏料分散物作為轉印材料的著色層形成用的塗佈液,製備以下塗佈液。
[製備例11]
(黑色塗佈液1:K的製備)
黑色顏料分散物1 312g
紅色顏料分散物R 33.2g
丙二醇單甲醚乙酸酯 61.9g
甲基乙基酮 340g
環己酮 85.1g
甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸無規共聚物(莫耳比為78/22,重量平均分子量為38,000)27質量%丙二醇單甲醚乙酸酯溶液108g
二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化藥股份有限公司製造)76質量%丙二醇單甲醚乙酸酯溶液 54.8g
吩噻嗪 0.057g
2,4-雙(三氯甲基)-6-(4'-N,N-(雙(乙氧基羰基甲基)胺基-3'-溴苯基)均三嗪 4.48g
美佳法(Megafac)F780F(大日本油墨化學工業股份有限公 司製造) 0.6g
[製備例12]
(粉紅色塗佈液:W/R=99/1(質量比)的製備)
白色顏料分散物W 310g
紅色顏料分散物R 12.2g
甲基乙基酮 147g
甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸無規共聚物(莫耳比為72/28,重量平均分子量為37,000)40.5質量%丙二醇單甲醚乙酸酯溶液376g
二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化藥股份有限公司製造)76質量%丙二醇單甲醚乙酸酯溶液 156g
魯那(LUNAR)6(DKSH公司製造) 0.4g
美佳法(Megafac)F780F(大日本油墨化學工業股份有限公司製造) 2.0g
[製備例13]
(灰色塗佈液:W/K=96/4(質量比)的製備)
白色顏料分散物W 388g
黑色顏料分散物3(CDP-K106) 48.5g
甲基乙基酮 483g
二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化藥股份有限公司製造)76質量%丙二醇單甲醚乙酸酯溶液 50.4g
甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸無規共聚物(莫耳比為78/22。重量平均分子量為38,000)27質量%丙二醇單甲醚乙酸酯溶液153g
伊魯卡(Irgacure)907(巴斯夫(BASF)公司製造) 4.11g
對苯二酚單甲醚 0.053g
美佳法(Megafac)F780F(大日本油墨化學工業股份有限公司製造) 1.61g
[製備例14]
(白色塗佈液的製備)
白色顏料分散物W 388g
甲基乙基酮 483g
二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化藥股份有限公司製造)76質量%丙二醇單甲醚乙酸酯溶液 50.4g
甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸無規共聚物(莫耳比為78/22,重量平均分子量為38,000)27質量%丙二醇單甲醚乙酸酯溶液153g
伊魯卡(Irgacure)907(巴斯夫(BASF)公司製造)4.11g
對苯二酚單甲醚 0.053g
美佳法(Megafac)F780F(大日本油墨化學工業股份有限公司製造) 1.61g
[製備例15]
(黑色塗佈液2的製備)
關於黑色塗佈液2,除了使用345g黑色顏料組成物2來代替[製備例11]的312g黑色顏料分散物1及33.2g紅色顏料分散物R 以外,與[製備例11]同樣地獲得黑色塗佈液2。
[製備例16]
(黑色塗佈液3的製備)
關於黑色塗佈液3,除了使用436g黑色顏料組成物3來代替[製備例11]的312g黑色顏料分散物1及33.2g紅色顏料分散物R以外,與[製備例11]同樣地獲得黑色塗佈液3。
[製備例17]
(紅色塗佈液的製備)
關於紅色塗佈液,除了使用345g紅色顏料組成物R來代替[製備例11]的312g黑色顏料分散物1及33.2g紅色顏料分散物R以外,與[製備例11]同樣地獲得紅色塗佈液。
[製備例18]
(綠色塗佈液的製備)
關於綠色塗佈液,除了使用207g綠色顏料組成物G及138g黃色顏料組成物Y來代替[製備例11]的312g黑色顏料分散物1及33.2g紅色顏料分散物R以外,與[製備例11]同樣地獲得綠色塗佈液。
[製備例19]
(藍色塗佈液的製備)
關於藍色塗佈液,除了使用345g藍色顏料組成物B來代替[製備例11]的312g黑色顏料分散物1及33.2g紅色顏料分散物R以 外,與[製備例11]同樣地獲得藍色塗佈液。
使用製備例11~製備例19中製備的塗佈液作為著色層形成用的塗佈液,製作轉印材料。
[製作例1]
<轉印材料黑1的製作>
於厚度為75μm的聚對苯二甲酸乙二酯膜暫時支撐體上,使用狹縫狀噴嘴來塗佈包含下述配方H1的熱塑性樹脂層用塗佈液並使其乾燥。繼而,塗佈包含下述配方P1的中間層用塗佈液並使其乾燥。進而,塗佈上述黑色塗佈液1並使其乾燥。如此而於暫時支撐體上設置乾燥膜厚為15.1μm的熱塑性樹脂層、乾燥膜厚為1.6μm的中間層及乾燥膜厚為2.2μm的著色層(黑色感光層),最後壓接保護膜(厚度為12μm的聚丙烯膜)作為保護剝離層。如此而製作暫時支撐體、熱塑性樹脂層、中間層(氧阻斷膜)、黑(K)的著色層及保護剝離層成一體的轉印材料,將樣品名設定為轉印材料黑1。
再者,轉印材料黑1的構成為圖3所示的構成。
(熱塑性樹脂層用塗佈液:配方H1)
.甲醇:11.1質量份
.丙二醇單甲醚乙酸酯:6.36質量份
.甲基乙基酮:52.4質量份
.甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸-2-乙基己酯/甲基丙烯酸苄酯/甲基 丙烯酸共聚物(共聚合組成比(莫耳比)=55/11.7/4.5/28.8,分子量=10萬,Tg≒70℃):5.83質量份
.苯乙烯/丙烯酸共聚物(共聚合組成比(莫耳比)=63/37,重量平均分子量=1萬,Tg≒100℃):13.6質量份
.2,2-雙[4-(甲基丙烯醯氧基聚乙氧基)苯基]丙烷(新中村化學工業(股)製造):9.1質量份
.氟系聚合物:0.54質量份
(C6F13CH2CH2OCOCH=CH240份、H(OCH(CH3)CH2)7OCOCH=CH2 55份及H(OCHCH2)7OCOCH=CH2 5份的共聚物,重量平均分子量為3萬,甲基乙基酮30質量%溶液,大日本油墨化學工業製造,商品名:美佳法(Megafac)F780F)
(中間層用塗佈液:配方P1)
.PVA205:32.2質量份
(聚乙烯醇,可樂麗(Kuraray)(股)製造,皂化度=88%,聚合度為550)
.聚乙烯基吡咯啶酮:14.9質量份
(日本ISP(ISP Japan)公司製造,K-30)
.蒸餾水:524質量份
.甲醇:429質量份
[製作例2]
<轉印材料白1的製作>
使用上述「白色塗佈液」代替製作例1中的黑色塗佈液1來形成乾燥膜厚為27.0μm的著色層,除此以外與製作例1同樣地製造轉印材料白1。
[製作例3]
<轉印材料粉紅的製作>
使用上述「粉紅色塗佈液」代替製作例1中的黑色塗佈液1來形成乾燥膜厚為10.0μm的著色層,除此以外,與製作例1同樣地製造轉印材料粉紅。
[製作例4]
<轉印材料灰色的製作>
使用上述「灰色塗佈液」代替製作例1中的黑色塗佈液1來形成乾燥膜厚為5.3μm的著色層,除此以外,與製作例1同樣地製造轉印材料灰色。
[製作例5]
<轉印材料黑2的製作>
使用上述「黑色塗佈液2」代替製作例1中的黑色塗佈液1來形成乾燥膜厚為1.8μm的著色層,除此以外,與製作例1同樣地製造轉印材料黑2。
[製作例6]
<轉印材料黑3的製作>
使用上述「黑色塗佈液3」代替製作例1中的黑色塗佈液1 來形成乾燥膜厚為1.1μm的著色層,除此以外,與製作例1同樣地製造轉印材料黑3。
[製作例7]
<轉印材料紅的製作>
使用上述「紅色塗佈液」代替製作例1中的黑色塗佈液1來形成乾燥膜厚為2.0μm的著色層,除此以外,與製作例1同樣地製造轉印材料紅。
[製作例8]
<轉印材料綠的製作>
使用上述「綠色塗佈液」代替製作例1中的黑色塗佈液1來形成乾燥膜厚為2.0μm的著色層,除此以外,與製作例1同樣地製造轉印材料綠。
[製作例9]
<轉印材料藍的製作>
使用上述「藍色塗佈液」代替製作例1中的黑色塗佈液1來形成乾燥膜厚為2.0μm的著色層,除此以外,與製作例1同樣地製造轉印材料藍。
[製作例10]
<轉印材料灰色/粉紅的製作>
以20mJ/cm2(高壓水銀燈,i射線,365nm)對上述製作例4中所得的轉印材料灰色進行曝光後,進而與製作例3同樣地製造 上述轉印材料粉紅,製作乾燥膜厚為灰色10.0μm及粉紅色5.3μm的著色層(轉印材料灰色/粉紅)。
再者,轉印材料灰色/粉紅的構成為圖4所示的構成。
[製作例11]
<轉印材料白2的製作>
使用上述「白色塗佈液」代替製作例1中的黑色塗佈液1來形成乾燥膜厚為13.5μm的著色層,除此以外,與製作例1同樣地製造轉印材料白2。
<轉印材料的膜厚/光學密度>
(轉印材料黑1的膜厚及光學密度的測定)
對於用作基材的無鹼玻璃基板(厚度為0.7mm),一面藉由噴淋來噴附經調整為25℃的玻璃清洗劑液體20秒鐘一面利用具有尼龍毛的旋轉刷進行清洗,繼而以純水進行噴淋清洗後,藉由噴淋來噴附矽烷偶合液(N-β(胺基乙基)γ-胺基丙基三甲氧基矽烷0.3質量%水溶液,商品名:KBM603,信越化學工業(股)製造)20秒鐘,其後以純水進行噴淋清洗。利用基材預加熱裝置將該基板(基材)於100℃下加熱2分鐘。自利用製作例1的製法所製作的轉印材料黑1中去除覆蓋膜,於所得的經矽烷偶合處理的玻璃基板(基材)上,以去除後所露出的著色層的表面與上述經矽烷偶合處理的玻璃基板(基材)的表面接觸的方式重合,使用層壓機(日立工業(Hitachi Industries)股份有限公司製造(Lamic II 型)),於上述在100℃下經2分鐘加熱的基板(基材)上,於橡膠輥溫度為130℃、線壓為100N/cm、搬送速度為2.2m/min的條件下進行層壓。繼而,將聚對苯二甲酸乙二酯的暫時支撐體於與熱塑性樹脂層的界面上剝離,去除暫時支撐體。剝離暫時支撐體後,利用具有超高壓水銀燈的近接式曝光機(日立高科技電子工程(Hitachi High-Tech Electronics Engineering)股份有限公司製造),於將基板(基材)垂直豎立的狀態下將曝光面與著色層之間的距離設定為200μm,以70mJ/cm2的曝光量進行曝光。
繼而,將三乙醇胺系顯影液(含有30質量%的三乙醇胺,以純水將商品名:T-PD2(富士膠片(股)製造)稀釋至12倍(以T-PD2 1份與純水11份的比例混合)所得的溶液)於30℃下以0.1MPa的扁平噴嘴壓力噴淋顯影20秒鐘,去除熱塑性樹脂層及中間層。繼而,對該玻璃基板(基材)的上表面噴附空氣而去除溶液後,藉由噴淋來噴附純水10秒鐘而進行純水噴淋清洗,噴附空氣來減少基板(基材)上的積液。
其後,使用碳酸鈉/碳酸氫鈉系顯影液(以純水將商品名:T-CD1(富士膠片(股)製造)稀釋至5倍(以T-CD1 1份與純水4份的比例混合)所得的溶液)於30℃下將噴淋壓力設定為0.1MPa而顯影30秒,以純水進行清洗。
繼而,使用含界面活性劑的清洗液(以純水將商品名:T-SD3(富士膠片(股)製造)稀釋至10倍所得的溶液),於33℃ 下藉由噴淋以0.1MPa的錐型噴嘴壓力噴附20秒鐘,進而藉由具有柔軟的尼龍毛的旋轉刷來擦洗所形成的膜,進行殘渣去除。進而,利用超高壓清洗噴嘴以9.8MPa的壓力噴射超純水來進行殘渣去除,獲得所需的膜。
繼而,將所得的膜連同玻璃基板(基材)一起於150℃下進行30分鐘加熱處理,對所得的物品測定膜厚及光學密度。
將結果示於以下的表1中。
膜厚測定是使用坦科儀器(Tencor Instruments)公司製造的P-10來進行。
光學密度是使用阪田油墨(Sakata Inx)股份有限公司製造的BMT-1來進行。
(其他轉印材料的膜厚及光學密度的測定)
除了使用製作例1~製作例9中製作的轉印材料代替轉印材料黑1以外,與上述方法同樣地獲得所需的膜,並進行其膜厚及光學密度的測定。將所得的結果示於下述表1中。
[實施例1]
<轉印材料的衝壓/層壓/樹脂及中間層去除/試樣完成>
(黑色)
以衝壓後形成圖5的具有直線部分的框內部21及具有直線部分的配線取出部23的形狀的方式,對A4大小的轉印材料黑1(於圖1中示出將其一部分放大的概略圖,於圖3中示出圖1的X1-X1'的剖面的概略圖)使用CO2雷射切割機(登峰製造(Climb Products)股份有限公司製造的L-CPNC550),自保護膜側將保護膜、著色層(黑色感光層)、中間層、熱塑性樹脂層及暫時支撐體全部貫穿,衝壓圖1所示的轉印材料黑1的虛線部分。藉由該衝壓,形成圖5的形狀的轉印材料,同時自圖5中的由四邊的框內部21包圍的部分(內側的白色部分)及配線取出部23中,將包含「暫時支撐體、熱塑性樹脂層、中間層、著色層(黑色感光層)及保護膜」的積 層體去除。衝壓後的圖5所示的形狀的轉印材料的X2-X2'的剖面形狀為圖7的形狀。
繼而,使用真空層壓機(登峰製造(Climb Products)股份有限公司製造的V-SE340aaH),將作為基材的A4大小的PET膜(魯米拉(Lumirror)(東麗)T60,100μm,全光透射率為89%)加熱至90℃。繼而,自轉印材料中使用膠帶將保護膜29剝離,製成圖8的形狀。其後,將含有上述經衝壓而被去除的區域以外的剩餘區域的轉印材料黑1的剝離保護膜29後露出的著色層24的表面、與上述於90℃下經預加熱的PET膜的表面重合,利用上述層壓機如圖10般貼附。
繼而,使用薄刃刮刀來去除轉印材料的暫時支撐體26,製成圖11的構成。其後,自轉印材料的熱塑性樹脂層27側利用UV(i射線,40mJ)進行全面曝光後,藉由在上述轉印材料黑1的膜厚及光學密度的測定中用於噴淋顯影時的PD2液體將熱塑性樹脂層27及中間層28去除,繼而以純水進行清洗,藉此獲得將轉印材料黑1的著色層轉印至PET膜上的圖12的形狀的帶有黑色的著色層24的基材(帶有裝飾材的基材)。所得的帶有裝飾材的基材的自著色層24(裝飾層2)側觀察的概略圖為圖13的形狀。
將其於150℃下加熱30分鐘(後烘烤)。
其後,進一步使用CO2雷射切割機(上述),將相當於圖13的虛線部的PET膜與著色層的積層體的框外部(外周部)衝壓, 藉此獲得圖14所示的形狀的多個帶有裝飾材黑的膜。將自裝飾材2側觀察到的對框外部衝壓所得的帶有裝飾材黑的膜的形狀示於圖15中。再者,圖15的形狀為框外部的縱寬:100mm、框外部的橫寬:60mm、上框寬:10mm、下框寬:12mm、左右框寬:3mm、四角半徑:6mm、配線取出部(縱×橫):3mm×5mm。
將所得的帶有裝飾材黑的膜設定為實施例1的帶有裝飾材的基材。
再者,上述後烘烤或框外部的成為所需形狀的衝壓於本發明中並非必需步驟。
[實施例2]
(粉紅色)
除了使用轉印材料粉紅代替實施例1中的轉印材料黑1以外,與實施例1同樣地衝壓,將所得的轉印材料粉紅轉印至PET膜上,進行UV曝光後,去除樹脂、中間層。於150℃下加熱30分鐘後,進一步使用CO2雷射切割機(上文所述),與實施例1同樣地以成為圖15的形狀的方式僅將PET膜與著色層的積層體的框外部(外周部)衝壓,藉此獲得圖15的帶有裝飾材粉紅的膜。
將所得的帶有裝飾材粉紅的膜設定為實施例2的帶有裝飾材的基材。
[實施例3]
(白色)
除了使用轉印材料白1代替實施例1中的轉印材料黑1以外,與實施例1同樣地衝壓,將所得的轉印材料白1轉印至PET膜上,進行UV曝光後,去除樹脂、中間層。於150℃下加熱30分鐘後,進一步使用CO2雷射切割機(上文所述),與實施例1同樣地以成為圖15的形狀的方式僅將PET膜與著色層的積層體的框外部(外周部)衝壓,藉此獲得圖15的帶有裝飾材白的膜。
將所得的帶有裝飾材白的膜設定為實施例3的帶有裝飾材的基材。
[實施例4]
(粉紅色、灰色、依序)
除了使用轉印材料粉紅代替實施例1中的轉印材料黑1以外,與實施例1同樣地衝壓,將所得的轉印材料粉紅色轉印至PET膜上,進行UV曝光後,去除樹脂、中間層。
其後,除了使用轉印材料灰代替實施例1中的轉印材料黑1以外,與實施例1同樣地衝壓,將所得的轉印材料灰色轉印至轉印材料粉紅的著色層上,進行UV曝光後,去除樹脂、中間層。於150℃下加熱30分鐘後,進一步使用CO2雷射切割機(上文所述),與實施例1同樣地以成為圖15的形狀的方式僅將PET膜與著色層的積層體的框外部(外周部)衝壓,藉此獲得圖15的帶有裝飾材粉紅/灰色的膜。
將所得的帶有裝飾材粉紅/灰色的膜設定為實施例4的帶有裝 飾材的基材。
[實施例5]
(粉紅色、灰色、一併)
除了使用轉印材料灰色/粉紅代替實施例1中的轉印材料黑1以外,與實施例1同樣地衝壓,將所得的轉印材料灰色/粉紅轉印至PET膜上,進行UV曝光後,去除樹脂、中間層。於150℃下加熱30分鐘後,進一步使用CO2雷射切割機(上文所述),與實施例1同樣地以成為圖15的形狀的方式僅將PET膜與著色層的積層體的框外部(外周部)衝壓,藉此獲得圖15的帶有裝飾材粉紅/灰色的膜。
將所得的帶有裝飾材粉紅/灰色的膜設定為實施例5的帶有裝飾材的基材。
[實施例6]
(白色、灰色依序:利用湯姆遜刀刃的衝壓實施例)
於模切裝置(MHA-300,MCK股份有限公司製造)中以對轉印材料以圖18的形狀衝壓框內部及配線取出部的方式設置湯姆遜刀刃,衝壓轉印材料白1。
利用層壓裝置(V-SE340aaH,登峰製造(Climb Products)股份有限公司製造)將經衝壓的轉印材料轉印至玻璃基板(基材)上。
繼而,利用高壓水銀燈進行UV曝光後,去除樹脂、中間層。
進而,與轉印材料白1同樣地利用湯姆遜刀刃對轉印材料灰色以圖18的形狀衝壓框內部及配線取出部。將經衝壓的轉印材料灰色轉印至轉印材料白1的著色層上,進行UV曝光後,去除樹脂、中間層。
於150℃下加熱30分鐘後,進一步使用CO2雷射切割機(上文所述),與實施例1同樣地以成為圖15的形狀的方式僅將PET膜與著色層的積層體的框外部(外周部)衝壓,藉此獲得圖15的帶有裝飾材白/灰色的膜。
[實施例7]
(黑色)
除了使用轉印材料黑2代替實施例1中的轉印材料黑1以外,與實施例1同樣地衝壓,將所得的轉印材料白轉印至PET膜上,進行UV曝光後,去除樹脂、中間層。於150℃下加熱30分鐘後,進一步使用CO2雷射切割機(上文所述),與實施例1同樣地以成為圖15的形狀的方式僅將PET膜與著色層的積層體的框外部(外周部)衝壓,藉此獲得圖15的帶有裝飾材黑的膜。
將所得的帶有裝飾材黑的膜設定為實施例7的帶有裝飾材的基材。
[實施例8]
(黑色)
除了使用轉印材料黑3代替實施例1中的轉印材料黑1以外, 與實施例1同樣地進行衝壓,將所得的轉印材料黑3轉印至PET膜上,進行UV曝光後,去除樹脂、中間層。於150℃下加熱30分鐘後,進一步使用CO2雷射切割機(上文所述),與實施例1同樣地以成為圖15的形狀的方式僅將PET膜與著色層的積層體的框外部(外周部)衝壓,藉此獲得圖15的帶有裝飾材黑的膜。
將所得的帶有裝飾材黑的膜設定為實施例8的帶有裝飾材的基材。
[實施例9]
(紅、白、灰色、依序)
除了使用轉印材料紅代替實施例1中的轉印材料黑1以外,與實施例1同樣地進行衝壓,將所得的轉印材料紅轉印至PET膜上,進行UV曝光後,去除樹脂、中間層。
其後,除了使用轉印材料白2代替實施例1中的轉印材料黑1以外,與實施例1同樣地進行衝壓,將所得的轉印材料白2轉印至轉印材料紅的著色層上,進行UV曝光後,去除樹脂、中間層。
其後,除了使用轉印材料灰色代替實施例1中的轉印材料黑1以外,與實施例1同樣地進行衝壓,將所得的轉印材料灰色轉印至轉印材料白2的著色層上,進行UV曝光後,去除樹脂、中間層。於150℃下加熱30分鐘後,進一步使用CO2雷射切割機(上文所述),與實施例1同樣地以成為圖15的形狀的方式僅將PET膜與著色層的積層體的框外部(外周部)衝壓,藉此獲得圖15的 帶有裝飾材紅/白/灰色的膜。
將所得的帶有裝飾材紅/白/灰色的膜設定為實施例9的帶有裝飾材的基材。
[實施例10]
(綠色、白色、灰色依序)
除了使用轉印材料綠代替實施例9中的轉印材料紅以外,與實施例9同樣地進行衝壓,將所得的轉印材料綠轉印至PET膜上,進行UV曝光後,去除樹脂、中間層。
其後,與實施例9同樣地於轉印材料綠的綠色著色層上依序積層白色著色層及灰色著色層,與實施例9同樣地以成為圖15的形狀的方式僅將PET膜與著色層的積層體的框外部(外周部)衝壓,藉此獲得圖15的帶有裝飾材綠/白/灰色的膜。
將所得的帶有裝飾材綠/白/灰色的膜設定為實施例10的帶有裝飾材的基材。
[實施例11]
(藍色、白色、灰色依序)
除了使用轉印材料藍代替實施例9中的轉印材料紅以外,與實施例9同樣地進行衝壓,將所得的轉印材料藍轉印至PET膜上,進行UV曝光後,去除樹脂、中間層。
其後,與實施例9同樣地於轉印材料藍的藍色著色層上依序積層白色著色層及灰色著色層,與實施例9同樣地以成為圖15的 形狀的方式僅將PET膜與著色層的積層體的框外部(外周部)衝壓,藉此獲得圖15的帶有裝飾材藍/白/灰色的膜。
將所得的帶有裝飾材藍/白/灰色的膜設定為實施例11的帶有裝飾材的基材。
[比較例1]
(白色(網版印刷))
於網版印刷機(DP-320,紐朗(Newlong)精密工業股份有限公司製造)中以25網目的遮罩來製作、設置圖15的模具,於玻璃基板(基材)上進行上述所製備的白色塗佈液的網版印刷。
將所得的帶有裝飾材白的玻璃基板設定為比較例1的帶有裝飾材的基材。
[比較例2]
(白色、灰色依序(網版印刷))
於網版印刷機(DP-320,紐朗(Newlong)精密工業股份有限公司製造)中以25網目的遮罩來製作、設置相當於圖15的形狀的模具,於玻璃基板上進行上述所製備的白色塗佈液的網版印刷。
其後,於經網版印刷的模具上進一步進行上述所製備的灰色塗佈液的網版印刷。
將所得的帶有裝飾材白/灰色的玻璃基板設定為比較例2的帶有裝飾材的基材。
<評價>
將上述所得的帶有裝飾材的基材(各實施例的帶有裝飾材的膜及各比較例的帶有裝飾材的玻璃基板)的特性的評價方法示於以下。
另外,將所得的結果分別記載於下述表2中。
(色度)
上述所製作的各實施例及比較例的帶有裝飾材的基材的色度是利用測色計(CM-700d,柯尼卡美能達(Konica Minolta Sensing)股份有限公司製造、包含鏡面正反射光(Specular Components Include,SCI)模式、D65光源、10°測定)來進行測定。
(交叉切割(密接性))
藉由交叉切割試驗(依據日本工業標準(Japanese Industrial Standards,JIS)K5600。其中,關於網格,以100網格來進行試驗)來評價上述所製作的各實施例及比較例的帶有裝飾材的基材的基材與裝飾材之間的密接性。
將100個網格中剝離的裝飾材的網格數的比例記載於下述表2中。
(鉛筆硬度(膜強度))
藉由鉛筆硬度試驗(依據JIS K5600)來評價上述所製作的各實施例及比較例的帶有裝飾材的基材的膜強度。
(透明性)
將上述所製作的帶有裝飾材的基材載置於愛拍(iPad)(蘋果 (Apple)公司製造)的初始畫面上,觀察裝飾材的「透明性」。 以下示出具體的觀察方法。
於愛拍(iPad)畫面上於白色上製作文字,於其上載置裝飾材,評價於裝飾材上是否可看到文字的陰影。
將自裝飾材上目測觀察時可清晰地觀察到文字的陰影、還是觀察不到文字的陰影的情況記載於下述表2中。
(直線性)
對於以圖15的形狀所得的帶有裝飾材的基材的裝飾材,以每1mm的凹凸數來評價框內部的(內側的)直線性。再者,凹凸是將凹部與凸部的高度差為60μm以上者作為對象來計數。測定是對圖15的上部的框內部、中央部分進行。
圖19:將實施例3的直線部放大的圖。
圖20:將比較例2的直線部放大的圖。另外,簡略記載直線性的評價方法及結果。
由上述表2得知,對於利用本發明的製造方法所製造的各實施例的帶有裝飾材的基材而言,裝飾材的框內部的直線性高。
另一方面得知,對於利用網版印刷所製造的比較例1及比較例2的帶有裝飾材的基材而言,裝飾材的框內部的直線性均差。
[實施例101]
<基材的變更(實施例)>
(對導電性PET膜的轉印)
依照日本專利特表2009-505358號公報的例1的記載來製備導電性層(銀奈米線,凱博瑞奧斯技術公司(Cambrios Technologies Corporation))作為導電性PET,製作將其積層於魯米拉(Lumirror)(東麗)T60、100μm上所得的積層體。所得的導電性PET的全光透射率為91%。
於所得的導電性PET的導電層側轉印轉印材料黑1,除此以外,與實施例1同樣地製造帶有裝飾材的膜。
所形成的實施例101的帶有裝飾材的膜與於PET上製作的實施例1相比較,並無變化。
[實施例102]
(對PC膜的轉印)
除了於PC(潘萊特(Panlite)(帝人),PC-2151,125μm,全光透射率為86%)上轉印轉印材料黑1以外,與實施例1同樣製造帶有裝飾材的膜。
所形成的實施例102的帶有裝飾材的膜與製作於PET上的實施例1相比較,並無變化。
[實施例103]
(對TAC防眩性膜的轉印)
除了於TAC(CV膜(富士膠片)防眩層,帶有CV,CV LU3,80μm,全光透射率為90%)的與防眩層為相反之側轉印轉印材料黑1以外,與實施例1同樣地製造帶有裝飾材的膜。
所形成的實施例103的帶有裝飾材的膜與製作於PET上者相比較,並無變化。
[實施例104]
(對COP膜的轉印)
除了於COP(瑞諾(Zeonor)(日本瑞翁(Zeon)),XF14-100,100μm,全光透射率為90%)上轉印轉印材料黑1以外,與實施例1同樣地製造帶有裝飾材的膜。
所形成的實施例104的帶有裝飾材的膜與製作於PET上的實施例1相比較,並無變化。
[實施例201]
<轉印材料黑201的製造方法(無中間層的實施例)>
準備PET(膜厚為75μm)作為暫時支撐體,於其上塗佈黑色塗佈液1,獲得轉印材料黑201(並未積層熱塑性樹脂層、中間層及保護剝離層)。將其轉印至玻璃基板(基材)上,於150℃下加熱30分鐘。所形成者的膜厚為2.0μm,光學密度為4.0。
除了對轉印材料黑201進行全面曝光及清洗以外,進行與實施例1相同的操作,獲得實施例201的帶有裝飾材黑201的膜。
與使用具有熱塑性樹脂層及中間層的轉印材料黑1的實施例1的帶有裝飾材的基材的情形相比較,所形成的實施例201的帶有裝飾材的基材並無變化。
[製備例301]
首先,製備以下的透明樹脂層用樹脂組成物、熱塑性樹脂層用塗佈液及中間層用塗佈液。
(透明樹脂層用樹脂組成物H1)
.1-甲氧基-2-丙基乙酸酯…599份
.甲基乙基酮.…238份
.索努帕斯(Solsperse)20000(路博潤(Lubrizol)製造)…1.88份
.聚合物45%溶液(日本專利特開2008-146018公報的段落編號[0058]中記載的結構式P-25:重量平均分子量=3.5萬,固體成分為45%,1-甲氧基-2-丙基乙酸酯15%,1-甲氧基-2-丙醇40%)[透明黏合樹脂]…114份
.聚合性化合物的混合物:DPHA液(二季戊四醇六丙烯酸酯:48%,二季戊四醇五丙烯酸酯:28%,1-甲氧基-2-丙基乙酸酯:24%)[(B)通式(b1)所表示的聚合性化合物]…16.3份
.下述聚合性化合物的混合物(n=1:三季戊四醇八丙烯酸酯含有率為85%,作為雜質的n=2及n=3的合計量為15%)[(B)通式(b2-1)所表示的聚合性化合物]
(上述式(b2-1)中,X全部為丙烯醯基、n=1~3的上述比率的混合物)…20.5份
.胺基甲酸酯系單體(N低聚UA-32P,新中村化學(股)製造:不揮發成分為75%,1-甲氧基-2-丙基乙酸酯:25%)[(B-2)其他 聚合性化合物]…7.72份
.2,4-雙-(三氯甲基)-6-[4-(N,N-二乙氧基羰基甲基胺基)-3-溴苯基]-均三嗪[(C)光聚合起始劑]…1.27份
.2-三氯甲基-5-(對苯乙烯基苯乙烯基)-1,3,4-噁二唑[(C)光聚合起始劑]…0.635份
.對苯二酚單甲醚[聚合抑制劑]…0.072份
.美佳法(Megafac)F-784-F(迪愛生(DIC)股份有限公司製造)[界面活性劑]…0.51份
[製備例302]
(透明樹脂層用樹脂組成物H2)
.1-甲氧基-2-丙基乙酸酯…599份
.甲基乙基酮…238份
.索努帕斯(Solsperse)20000(路博潤(Lubrizol)製造)…1.88份
.聚合物45%溶液(日本專利特開2008-146018公報的段落編號[0058]中記載的結構式P-25:重量平均分子量=3.5萬,固體成分為45%,1-甲氧基-2-丙基乙酸酯15%,1-甲氧基-2-丙醇40%)[透明黏合樹脂]…114份
.聚合性化合物的混合物:DPHA液(二季戊四醇六丙烯酸酯:48%,二季戊四醇五丙烯酸酯:28%,1-甲氧基-2-丙基乙酸酯:24%)[(B)通式(b1)所表示的聚合性化合物]…16.3份
.下述聚合性化合物的混合物(n=1:三季戊四醇八丙烯酸酯含有率為85%,作為雜質的n=2及n=3的合計量為15%)[(B)通式(b2-1)所表示的聚合性化合物]
(上述式(b2-1)中,X全部為丙烯醯基、n=1~3的上述比率的混合物)…20.5份
.胺基甲酸酯系單體(NK低聚UA-32P,新中村化學(股)製造:不揮發成分為75%、1-甲氧基-2-丙基乙酸酯:25%)[(B-2)其他聚合性化合物]…7.72份
.2-三氯甲基-5-(對苯乙烯基苯乙烯基)-1,3,4-噁二唑[(C)光聚合起始劑]…0.635份
.對苯二酚單甲醚[聚合抑制劑]…0.072份
.美佳法(Megafac)F-784-F(迪愛生(DIC)股份有限公司製造)[界面活性劑]…0.51份
[製備例303]
(熱塑性樹脂層用塗佈液的配方A)
.甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸-2-乙基己酯/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物(=55/11.7/4.5/28.8[莫爾比],重量平均分子量為90,000)…58.4份
.苯乙烯/丙烯酸共聚物(=63/37[莫爾比],重量平均分子量為8,000)…136份
.2,2-雙[4-(甲基丙烯醯氧基聚乙氧基)苯基]丙烷…90.7份
.界面活性劑1(下述組成)…5.4份
.甲醇…111份
.1-甲氧基-2-丙醇…63.4份
.甲基乙基酮…534份
.界面活性劑1的組成
-下述結構物1…30%
-甲基乙基酮…70%
[製備例303]
(中間層用塗佈液的配方B)
.聚乙烯醇(PVA-205,皂化度88%,可樂麗(Kuraray)(股)製造)…3.22份
.聚乙烯基吡咯啶酮(PVP K-30,日本ISP(ISP Japan)股份有限公司製造)…1.49份
.甲醇…42.9份
.蒸餾水…52.4份
[製作例301]
<轉印材料1的製作>
於厚度75μm的聚對苯二甲酸乙二酯膜(PET)暫時支撐體上,使用狹縫狀噴嘴來塗佈熱塑性樹脂層用塗佈液的配方A並使其乾燥。繼而,塗佈中間層用塗佈液的配方B並使其乾燥。進而,塗佈透明樹脂層用樹脂組成物H1並使其乾燥。如此而於暫時支撐體上設置乾燥膜厚為15.1μm的熱塑性樹脂層、乾燥膜厚為1.6μm的中間層及乾燥膜厚為10μm的透明樹脂層,最後壓接保護膜(厚度為12μm的聚丙烯膜)作為保護剝離層。如此而製作暫時支撐體、熱塑性樹脂層、中間層(氧阻斷膜)、透明樹脂層及保護剝離層成一體的轉印材料,將樣品名設定為轉印材料1。
再者,轉印材料1的構成為圖3所示的構成。
[製作例302]
於製作例301中,除了將透明樹脂層的厚度設定為5μm以 外,與製作例301同樣地製造轉印材料2。
[製作例303]
於製作例301中,除了將透明樹脂層的厚度設定為30μm以外,與製作例301同樣地製造轉印材料3。
[製作例304]
於製作例301中,於75μm的PET上直接塗佈配方H1,設置乾燥膜厚為20μm的透明樹脂層,除此以外,與製作例301同樣地製造轉印材料4。
[製作例305]
於製作例304中,除了將透明樹脂層的厚度設定為5μm以外,與製作例304同樣地製造轉印材料5。
[製作例306]
於製作例301中,除了使用透明樹脂層用樹脂組成物H2以外,與製作例301同樣地製造轉印材料6。
[製作例307]
於製作例304中,除了使用透明樹脂層用樹脂組成物H2以外,與製作例304同樣地製造轉印材料7。
<轉印材料的光透射性測定>
(轉印材料1的膜厚及光學密度的測定)
對於用作基材的無鹼玻璃基板(厚度為0.7mm),一面藉由噴淋來噴附經調整為25℃的玻璃清洗劑液20秒鐘,一面利用具有尼 龍毛的旋轉刷進行清洗,繼而利用純水進行噴淋清洗後,藉由噴淋來噴附矽烷偶合液(N-β(胺基乙基)γ-胺基丙基三甲氧基矽烷0.3質量%水溶液,商品名:KBM603,信越化學工業(股)製造)20秒鐘,其後利用純水進行噴淋清洗。利用基材預加熱裝置將該基板(基材)於100℃下加熱2分鐘。自利用製作例301的製法所製作的轉印材料1中去除覆蓋膜,於所得的經矽烷偶合處理的玻璃基板(基材)上,以去除後所露出的透明樹脂層的表面與上述經矽烷偶合處理的玻璃基板(基材)的表面接觸的方式重合,使用層壓機(日立工業(Hitachi Industries)股份有限公司製造(LamicII型)),於上述於100℃下經2分鐘加熱的基板(基材)上,於橡膠輥溫度為130℃、線壓為100N/cm、搬送速度為2.2m/min的條件下層壓。繼而,將聚對苯二甲酸乙二酯的暫時支撐體於與熱塑性樹脂層的界面上剝離,去除暫時支撐體。剝離暫時支撐體後,利用具有超高壓水銀燈的近接式曝光機(日立高科技電子工程(Hitachi High-Tech Electronics Engineering)股份有限公司製造),於將基板(基材)垂直豎立的狀態下,將曝光面與透明樹脂層之間的距離設定為200μm,以70mJ/cm2的曝光量進行曝光。
繼而,將三乙醇胺系顯影液(含有30質量%的三乙醇胺,以純水將商品名:T-PD2(富士膠片(股)製造)稀釋至12倍(以T-PD2 1份與純水11份的比例混合)的溶液)於30℃下以0.1MPa的扁平噴嘴壓力噴淋顯影20秒鐘,去除熱塑性樹脂層及 中間層。繼而,對該玻璃基板(基材)的上表面噴附空氣來去除溶液後,藉由噴淋來噴附純水10秒鐘,藉此進行純水噴淋清洗,其後噴附空氣來減少基板(基材)上的積液。
其後,使用碳酸鈉/碳酸氫鈉系顯影液(以純水將商品名:T-CD1(富士膠片(股)製造)稀釋至5倍(以T-CD1 1份與純水4份的比例混合)的溶液)於30℃下將噴淋壓力設定為0.1MPa來顯影30秒,以純水進行清洗。
繼而,使用含界面活性劑的清洗液(以純水將商品名:T-SD3(富士膠片(股)製造)稀釋至10倍所得的溶液),於33℃下以0.1MPa的錐型噴嘴壓力藉由噴淋來噴附20秒鐘,進而藉由具有柔軟的尼龍毛的旋轉刷,對所形成的膜進行擦拭而進行殘渣去除。繼而,利用超高壓清洗噴嘴以9.8MPa的壓力噴射超純水來進行殘渣去除,獲得所需的膜。
繼而,將所得的膜連同玻璃基板(基材)一起於150℃下進行30分鐘加熱處理,對所得的物品測定膜厚及400nm的光透射率。
將結果示於以下的表3中。
膜厚測定是使用坦科儀器(Tencor Instruments)公司製造的P-10來進行。
光透射率是使用日本分光UV2000來進行。
(其他轉印材料的膜厚及光透射性的測定)
使用製作例304、製作例305、製作例307來代替轉印材料1,除此以外與上述方法同樣地獲得所需的膜,並進行其膜厚及光透射性的測定。將所得的結果示於下述表3中。
另外,對於製作例304、製作例305、製作例307,除了不實施T-PD2顯影液處理以外,與實施例301同樣地獲得所需的膜,並進行其膜厚及光透射性的測定。將所得的結果示於下述表3中。
[實施例301]
<轉印材料的衝壓/層壓/樹脂及中間層去除/試樣完成>
以衝壓後形成圖21的具有直線部分的框內部21的形狀的方式,對A4大小的轉印材料1(於圖1中示出將其一部分放大的概略圖,於圖3中示出圖1的X1-X1'的剖面的概略圖)使用CO2雷射切割機(登峰製造(Climb Products)股份有限公司製造的L-CPNC550),沿著圖1所示的轉印材料1的虛線部分,自保護膜側起將保護膜、透明樹脂層、中間層、熱塑性樹脂層及暫時支撐 體全部貫穿,殘留框內部而衝壓框外部。藉由該衝壓而形成圖5的形狀的轉印材料,同時自圖21的由四邊的框內部21所包圍以外的部分(外側的白色部分)中,去除包含「暫時支撐體、熱塑性樹脂層、中間層、透明樹脂層及保護膜」的積層體。衝壓後的圖21所示的形狀的轉印材料的X2-X2'的剖面形狀為圖23的形狀。
繼而,使用真空層壓機(登峰製造(Climb Products)股份有限公司製造的V-SE340aaH),將作為基材的A4大小的玻璃與厚度1.1mm、線寬20μm的將ITO導電膜圖案化而成的基板加熱至90℃。繼而,自轉印材料中使用膠帶來剝離保護膜29,製成圖24的形狀。其後,將含有上述經衝壓而被去除的區域以外的剩餘區域的轉印材料1的剝離保護膜29後所露出的透明樹脂層24的表面、於上述於90℃下經預加熱的帶有ITO的玻璃基板的表面重合,利用上述層壓機如圖26般貼附。
繼而,使用薄刃刮刀來去除轉印材料的暫時支撐體26,製成圖27的構成。其後,自轉印材料的熱塑性樹脂層27側藉由UV(i射線,40mJ)進行全面曝光後,藉由在上述轉印材料1的膜厚及光學密度的測定中用於噴淋顯影時的PD2液體來去除熱塑性樹脂層27及中間層28,繼而利用純水進行清洗,藉此將轉印材料1的透明樹脂層轉印至PET膜上,獲得圖28的形狀的帶有透明保護層的基材(帶有來源於透明樹脂層24的透明保護層7的基材)。所得的帶有透明保護層的基材的自來源於透明樹脂層24的透明保 護層(透明保護層7)側觀察的概略圖為圖29的形狀。
將其於150℃下加熱30分鐘(後烘烤)。
將所得的帶有透明保護層的基材設定為實施例301的帶有透明保護層的基材。
[實施例302]
除了使用轉印材料2代替實施例301中的轉印材料1以外,與實施例301同樣地獲得帶有透明保護層的基材。
[實施例303]
除了使用轉印材料3來代替實施例301中的轉印材料1以外,與實施例301同樣地獲得帶有透明保護層的基材。
[實施例304]
使用轉印材料4來代替實施例301中的轉印材料1,且不實施T-PD2顯影液處理,除此以外,與實施例301同樣地獲得帶有透明保護層的基材。
[實施例305]
除了使用轉印材料5來代替實施例304中的轉印材料4以外,與實施例304同樣地獲得帶有透明保護層的基材。
[實施例306]
除了使用轉印材料6來代替實施例301中的轉印材料1以外,與實施例301同樣地獲得帶有透明保護層的基材。
[實施例307]
除了使用轉印材料7來代替實施例304中的轉印材料4以外,與實施例304同樣地獲得帶有透明保護層的基材。
[比較例301]
(網版印刷)
於網版印刷機(DP-320,紐朗(Newlong)精密工業股份有限公司製造)中,以25網目的遮罩來製作、設置與圖29的框內部21為相同大小的模具,於玻璃基板(基材)上進行上述所製備的配方H1的網版印刷,與上述實施例同樣地實施PB。厚度為4.5μm,400nm下的光透射率為95%。
將所得的基板設定為比較例301的帶有透明保護層的基材。
<評價>
以下示出上述所得的帶有透明保護層的基材的特性的評價方法。
另外,將所得的結果分別記載於下述表4中。
(交叉切割(密接性))
藉由交叉切割試驗(依據JIS K5600。其中,關於網格,以100個網格來進行試驗),對上述所製作的各實施例及比較例的帶有透明保護層的基材的基材與透明保護層之間的密接性進行評價。
將100個網格中剝離的透明保護層的網格數的比例記載於下述表4中。
(鉛筆硬度(膜強度))
藉由鉛筆硬度試驗(依據JIS K5600)對上述所製作的各實施例及比較例的帶有透明保護層的基材的膜強度進行評價。
(直線性)
對於以圖29的形狀獲得的帶有透明保護層的基材的透明保護層,以每1mm的凹凸數來評價透明保護層的外周部的(外側的)直線性。再者,凹凸是將凹部與凸部的高度差為60μm以上者作為對象來計數。測定是對圖29的上部的框內部21、中央部分來進行。
圖31:將實施例301的透明保護層的外周部的直線部放大的照片。
圖32:將比較例301的透明保護層的外周部的直線部放大的照片。
由上述表4得知,對於利用本發明的製造方法所製造的各實施例的帶有透明保護層的基材而言,透明保護層的外周部的直線性高。
另一方面得知,對於利用網版印刷所製造的比較例301的帶有透明保護層的基材而言,透明保護層的外周部的直線性均差。
[實施例401]
<基材的變更(實施例)>
(對導電性PET膜的轉印)
製作以下者作為導電性PET:依照日本專利特表2009-505358號公報的例1的記載來製備導電性層(銀奈米線、凱博瑞奧斯技術公司(Cambrios Technologies Corporation)),並將其積層於魯米拉(Lumirror)(東麗)T 60(100μm)上而成者。所得的導電性PET的全光透射率為91%。
除了於所得的導電性PET的導電層側轉印轉印材料1以外,與實施例301同樣地製造帶有透明保護層的膜。
與於帶有ITO的玻璃上製作的實施例301相比較,所形成的實施例401的帶有透明保護層的膜並無變化。
21‧‧‧框內部
23‧‧‧配線取出部
24‧‧‧著色層或透明樹脂層(未被去除的區域)
25‧‧‧去除了著色層或透明樹脂層的區域
30‧‧‧轉印材料

Claims (25)

  1. 一種帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,其特徵在於包括:(A)對含有暫時支撐體、與著色層及透明樹脂層中的任一者的轉印材料切入切口的步驟,上述切口為於厚度方向上至少貫穿上述著色層或上述透明樹脂層的深度,且於面內方向上具有直線部分;(B)自上述轉印材料的面內方向的一部分區域中將直至上述切口的深度為止的上述著色層或上述透明樹脂層去除的步驟;(C)將含有上述著色層或上述透明樹脂層中未被去除的剩餘區域的上述轉印材料貼附於基材上的步驟;(D)自貼附於上述基材上的上述轉印材料中去除上述暫時支撐體的步驟;以及(E)使貼附於上述基材上的上述著色層的剩餘區域硬化而形成裝飾材的步驟;或使貼附於上述基材上的上述透明樹脂層的剩餘區域硬化而形成透明保護層的步驟;並且上述著色層至少含有有色材料及黏合樹脂,上述透明樹脂層至少含有透明黏合樹脂。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,包括:(A)對含有上述暫時支撐體及上述著色層的上述轉印材料切入上述切口的步驟,上述切口為於厚度方向上至少貫穿上述著色 層的深度,且於面內方向上具有直線部分;(B)自上述轉印材料的面內方向的一部分區域中將直至上述切口的深度為止的上述著色層去除的步驟;(C)將含有上述著色層中未被去除的剩餘區域的上述轉印材料貼附於上述基材上的步驟;(D)自貼附於上述基材上的上述轉印材料中去除上述暫時支撐體的步驟;以及(E)使貼附於上述基材上的上述著色層的剩餘區域硬化而形成上述裝飾材的步驟;並且上述著色層至少含有上述有色材料及上述黏合樹脂。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,其中上述裝飾材的光學密度為2.6以上。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,其中上述裝飾材自上述基材側起具有吸收特定波長的可見光而呈色的層、及遍及可見光的整個波長範圍而吸收可見光的灰色層。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,包括:(A)對含有上述暫時支撐體及上述透明樹脂層的上述轉印材料切入上述切口的步驟,上述切口為於厚度方向上至少貫穿上述透明樹脂層的深度,且於面內方向上具有直線部分; (B)自上述轉印材料的面內方向的一部分區域中將直至上述切口的深度為止的上述透明樹脂層去除的步驟;(C)將含有上述透明樹脂層中未被去除的剩餘區域的上述轉印材料貼附於上述基材上的步驟;(D)自貼附於上述基材上的上述轉印材料中去除上述暫時支撐體的步驟;以及(E)使貼附於上述基材上的上述透明樹脂層的剩餘區域硬化而形成上述透明保護層的步驟;並且上述透明樹脂層至少含有上述透明黏合樹脂。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,更包括:(F)將包含形成有上述裝飾材或上述透明保護層的部分與未形成上述裝飾材或上述透明保護層的部分的區域的外周部切除的步驟。
  7. 如申請專利範圍第6項所述的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,其中上述帶有裝飾材的基材是利用選自湯姆遜刀刃加工及雷射光加工中的方法將包含形成有上述裝飾材或上述透明保護層的部分與未形成上述裝飾材或上述透明保護層的部分的區域的外周部切除。
  8. 如申請專利範圍第1項所述的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,其中上述轉印材料依序含有上述暫時支撐體、 熱塑性樹脂層、以及上述著色層及上述透明樹脂層中的任一者。
  9. 如申請專利範圍第8項所述的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,其中上述轉印材料依序含有上述暫時支撐體、上述熱塑性樹脂層、中間層、以及上述著色層及上述透明樹脂層中的任一者。
  10. 如申請專利範圍第1項所述的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,其中上述轉印材料於上述著色層或上述透明樹脂層的與上述暫時支撐體側為相反側的面上,更具有保護剝離層。
  11. 如申請專利範圍第1項所述的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,其中以於上述面內方向上具有4處以上的直線部分的方式來對上述轉印材料切入上述切口。
  12. 如申請專利範圍第1項所述的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,其中對上述轉印材料切入上述切口直至於厚度方向上貫穿上述轉印材料的所有層的深度為止。
  13. 如申請專利範圍第1項所述的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,其中利用選自湯姆遜刀刃加工或雷射光加工中的方法來對上述轉印材料切入上述切口。
  14. 如申請專利範圍第1項所述的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,其中於將上述轉印材料貼附於上述基材上之前,包括在上述暫時支撐體的與上述著色層或上述透明樹脂層為 相反之側進一步積層支撐體的步驟。
  15. 如申請專利範圍第1項所述的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,其中上述裝飾材的膜厚為1.0μm~40.0μm,上述透明保護層的膜厚為1.0μm~100.0μm。
  16. 如申請專利範圍第1項所述的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,其中上述基材的全光透射率為80%以上。
  17. 如申請專利範圍第1項所述的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,其中上述基材是選自玻璃、三乙醯纖維素、聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯或環烯烴聚合物中。
  18. 如申請專利範圍第1項所述的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,其中上述基材更具有導電性層。
  19. 如申請專利範圍第1項所述的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,其中上述基材進一步至少具有耐損傷層及防眩層中的至少一種。
  20. 如申請專利範圍第1項所述的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,其中上述基材的膜厚為40μm~2000μm。
  21. 如申請專利範圍第1項所述的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,其中上述著色層或上述透明樹脂層更含有聚合性化合物。
  22. 如申請專利範圍第1項所述的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,其中上述著色層或上述透明樹脂層更含有聚 合起始劑。
  23. 如申請專利範圍第1項至第22項中任一項所述的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法,其中上述透明保護層於400nm下的光透射率為85%以上。
  24. 一種觸控面板的製造方法,其特徵在於具有如申請專利範圍第1項至第23項中任一項所述的帶有裝飾材或透明保護層的基材的製造方法。
  25. 一種行動裝置的製造方法,其特徵在於具有如申請專利範圍第24項所述的觸控面板的製造方法。
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