TWI586706B - A coating agent composition, a surface treatment agent containing the composition, and an article treated with the surface treatment agent - Google Patents

A coating agent composition, a surface treatment agent containing the composition, and an article treated with the surface treatment agent Download PDF

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Description

塗佈劑組成物、含該組成物之表面處理劑及以該表面處理劑表面處理過的物品
本發明係關於一種含有含氟氧伸烷基聚合物之塗佈劑組成物、及含有其之表面處理劑、以該表面處理劑處理過的物品。
一般而言，含全氟氧伸烷基之化合物，由於其表面自由能量非常小，因此具有撥水撥油性、耐藥品性、潤滑性、脫膜性、防污性等。利用該性質，於工業方面係廣泛利用於紙．纖維等之撥水撥油防污劑、磁記錄媒體之潤滑劑、精密機器之防油劑、脫模劑、化妝品、保護膜等。
但，該性質同時意指對於其他基材之非黏著性、非密著性，即使能夠塗佈於基材表面，亦難以使其之被膜密著。
另一方面，使玻璃或布等之基材表面與有機化合物結合的材料方面，一般熟知有矽烷偶合劑。矽烷偶合劑係於1分子中具有有機官能基與反應性矽烷基(一般 而言為烷氧矽烷基)。烷氧矽烷基，係藉由空氣中的水分等引起自縮合反應成為矽氧烷而形成被膜。於此同時，烷氧矽烷基會與玻璃或金屬等之表面進行化學性、物理性結合，藉此而成為具有耐久性之強固的被膜。矽烷偶合劑係利用該性質而作為各種基材表面的塗佈劑被廣泛利用，為了賦予基材表面全氟氧伸烷基之特徵，揭示有應用了矽烷偶合劑的化合物。
於專利文獻1中，係藉由將以下述式所表示的氟胺基矽烷化合物塗佈於玻璃，而實現高撥水撥油性。但，該化合物係全氟氧伸烷鏈短，而無法充分展現潤滑性、脫模性、防污性。
(式中，R2、R3係碳數1~4之烷基，R1係CH2CH2CH2或CH2CH2NHCH2CH2CH2，h為0~8之整數，i為2或3)。
此外，專利文獻2，係記載有一種全氟聚醚改質胺基矽烷，其係含有以下述式所示的分支狀之長鏈全氟氧伸烷基。該全氟聚醚改質胺基矽烷雖撥水撥油性高，但由於主鏈具有分支結構，因此污垢拭除性或潤滑性並不充 分。
(式中，X係水解性基，R4係一價烴基，R6係氫原子或一價烴基，R5係表示可介在NH基的伸烷基。j為14~49之整數，k為2或3)。
專利文獻3，係記載有一種全氟聚醚改質矽烷，其係含有以下述式所示的直鏈狀之全氟氧伸烷基。以該全氟聚醚改質矽烷處理過的透鏡或抗反射膜，雖平滑性、脫模性、及耐磨耗性優異，但由於兩末端被固定於基材，因此潤滑性並不充分。
(式中，Rf係二價之直鏈型全氟聚醚基，R係碳數1~4之烷基或苯基，X係水解性基，l為0~2，m為1~5之整數，a為2或3)。
專利文獻4，係記載有以下述式所示的全氟聚醚改質矽烷作為提昇潤滑性之處理劑。但，該化合物係由 於在末端不具含氟之基，因此撥水撥油性、低動摩擦性、脫模性不佳。
(Z2Q) β Rf(QZ1A α )2-β
(式中，Rf係含有2價之全氟醚殘基的基，Q係2價之有機基，Z1及Z2係有機聚矽氧烷殘基，A係表示具有末端反應性矽烷基之一價的基。α為1~8之整數，β為大於0且低於2之數)。
〔先前技術文獻〕 〔專利文獻〕
[專利文獻1]日本特開昭58-167597號公報
[專利文獻2]日本特開2000-143991號公報
[專利文獻3]日本特開2003-238577號公報
[專利文獻4]日本特開2007-297589號公報
被覆於觸控面板顯示器之表面的撥水撥油層，係就損傷防止性及指紋拭除性的觀點而言，以動摩擦係數低者較為理想。尤其，表面之平滑性佳的被膜，相較於無平滑性之物，其耐磨耗性或耐擦傷性較為優異。此外，依據所塗佈的基材，而需要耐酸性或耐鹼性。本發明者們迄今雖發明有一種由在一方之單末端具有氟基且另一方之單末端具有水解性基的含氟氧伸烷基之聚合物、與在 兩末端具有水解性基的含氟氧伸烷基之聚合物的混合物所成，而形成撥水撥油性等優異的層之聚合物組成物，但並不具有優異的耐藥品性，在使用於需要耐酸性或耐鹼性的基材之表面處理劑方面，並不充分。
本發明係鑑於上述問題而完成者，其係以提供一種塗佈劑組成物及使用其之表面處理劑為目的，該塗佈劑組成物係含有撥水撥油性、耐藥品性優異，且耐擦傷性、表面平滑性優異之含氟氧伸烷基之單末端水解性聚合物、及含氟氧伸烷基之兩末端水解性聚合物中任一種以上。
為了解決上述課題，於本發明中係提供一種塗佈劑組成物，其係含有以下述式(1)所表示之含氟氧伸烷基之單末端水解性聚合物、及以下述式(2)所表示之含氟氧伸烷基之兩末端水解性聚合物中任一種以上
(式中，Rf基為2價之含全氟氧伸烷基之基，X為-(CH2)nSiX’基或氫原子，X當中成為氫原子者為1個以 下，n為2~10之整數；X’為水解性基)。
(式中，Rf、X、n係與上述式(1)相同；但，X當中成為氫原子者係在各自的單末端為1個以下)。
如上所述，只要是含有以上述式(1)及上述式(2)所示之聚合物的塗佈劑組成物，則可賦予對於酸或鹼之耐久性優異的撥水撥油性被膜。
此外，前述(1)式之Rf基較佳為含有以下述一般式所表示的重複單元：3~200個。
-CdF2dO-
(d每單元獨立為1~6之整數)。
於此情況中，就低動摩擦性的觀點而言，特佳為直鏈狀者。
此外，前述(1)式之Rf基，較佳為由以下述一般式(3)、(4)及(5)中任一者所示之基中選出的基。
(式中，Y係獨立為F或CF3基，m為3~200之整 數，e為1~3之整數)。
(CF2CF2CF2O)mCeF2e- (4)
(式中，m為3~200之整數，e為1~3之整數)。
(式中，Y係獨立為F或CF3基，p、q各自為0~200之整數，且p+q=3~200，各重複單元係可任意鍵結；此外，e為1~3之整數)。
只要是如此之主鏈結構，則可形成撥水撥油性優異，且指紋拭除性良好的膜。此外，於主鏈結構不具分支的(Y=F)之情況中，可進一步賦予低動摩擦性。
此外，前述(2)式之Rf基，較佳為由以下述一般式(6)、(7)及(8)中任一者所示之基中選出的基。
(式中，Y係各自獨立為F或CF3基，e為1~3之整數，f為2~6之整數，r、t係各自為0~200之整數，且r+t=3~200，s為0~6之整數，各重複單元係可任意鍵結)。
-CeF2e(CF2CF2CF2O)mCeF2e- (7)
(式中，m為3~200之整數，e為1~3之整數)。
(式中，Y係各自獨立為F或CF3基，e為1~3之整數，p、q各自為0~200之整數，且p+q=3~200，各重複單元係可任意鍵結)。
只要是如此之主鏈結構，則可形成撥水撥油性優異，且指紋拭除性良好的膜。此外，於主鏈結構不具分支的(Y=F)情況中，可進一步賦予低動摩擦性。
進而，於本發明中係提供一種表面處理劑，其係含有：含有前述含氟氧伸烷基之單末端水解性聚合物及含氟氧伸烷基之兩末端水解性聚合物中任一種以上之塗佈劑組成物及/或含有該含氟氧伸烷基之聚合物的部分水解縮合物之塗佈劑組成物。
如上所述，藉由含有本發明之塗佈劑組成物，而成為除撥水撥油性以外，亦賦予耐藥品性的表面處理劑。
此外，於本發明中係提供一種以前述表面處理劑處理過的物品。
只要是以如此之表面處理劑處理過的物品，則可具有耐藥品性、表面平滑性、撥水撥油性。
尤其，以表面處理劑處理過的物品，係可為光學物品、薄膜、玻璃、石英基板中任一者，可使用於例 如觸控面板顯示器、抗反射薄膜等。
如以上說明所述，本發明之含有含氟氧伸烷基之單末端水解性聚合物及含氟氧伸烷基之兩末端水解性聚合物中任一種以上的塗佈劑組成物，係可賦予對於酸或鹼之耐久性優異的撥水撥油性被膜。因而，對於需要耐酸或耐鹼的基材表面之塗佈有用處。此外，於本發明所使用的含有：含有含氟氧伸烷基之聚合物的塗佈劑組成物之表面處理劑中，使用了直鏈之含氟氧伸烷基之聚合物的情況中，由於表面平滑性優異，因此特別是作為觸控面板顯示器、抗反射薄膜等之光學物品的撥水撥油層為有用。
以下，針對本發明更詳細地進行說明。
如前述般，待開發一種塗佈劑組成物，其係含有具有優異的耐藥品性、撥水撥油性、低動摩擦性之含氟氧伸烷基之單末端水解性聚合物及含氟氧伸烷基之兩末端水解性聚合物中任一種以上。
因此，本發明者們，為了達成上述目的，屢經努力探討的結果發現，藉由含有以下述式(1)、及以下述式(2)所表示的含氟氧伸烷基之兩末端水解性聚合物中任一者，而表現優異的耐藥品性，以致完成本發明。
(式中，Rf基為2價之含全氟氧伸烷基之基，X為-(CH2)nSiX’基或氫原子，X當中成為氫原子者為1個以下，n為2~10之整數；X’為水解性基)。
(式中，Rf、X、n係與上述式(1)相同；但，X當中成為氫原子者係在各自的單末端為1個以下)。
亦即，本發明之特徵為含有以下述式(1)所表示之含氟氧伸烷基之單末端水解性聚合物、及以下述式(2)所表示之含氟氧伸烷基之兩末端水解性聚合物之至少一種以上
(式中，Rf基為2價之含全氟氧伸烷基之基，X為-(CH2)nSiX’基或氫原子，X當中成為氫原子者為1個以下，n為2~10之整數；X’為水解性基)。
(式中，Rf、X、n係與上述式(1)相同；但，X當中成為氫原子者係在各自的單末端為1個以下)。
以下，雖針對本發明進行詳細地說明，但本發明並不受限於此等。
於式(1)、(2)中，Rf基為2價之含全氟氧伸烷基之基。該氟氧伸烷基，係以含有3~200個，較佳為10~150個，更佳為20~100個-CdF2dO-(d係每單元獨立為1~6之整數)之重複單元者為佳。
以上述式(1)所示之重複單元-CdF2dO-，係可列舉例如下述之單元等。另外，Rf係可為重複單元之1 種，亦可為2種以上之組合。
【化14】-CF2O- -CF2CF2O- -CF2CF2CF2O- -CF2CF2CF2CF2O- -CF2CF2CF2CF2CF2O- -CF2CF2CF2CF2CF2CF2O-
此外，含有上述重複單元之Rf基，較佳為由以下述一般式(3)~(5)所示之基中選出者。
於上述一般式(3)中，Y係獨立為F或CF3基，m為3~200之整數，e為1~3之整數。
-(CF2CF2CF2O)mCeF2e- (4)
於上述一般式(4)中，m為3~200之整數，e為1~3之整數。
於上述一般式(5)中，Y係獨立為F或CF3基。p、q各自為0~200之整數，且p+q=3~200，較佳為10~150，更佳為20~100。只要p+q為上述上限以下， 則不會有密著性或硬化性變差之虞，只要為上述下限以上，則可充分發揮氟氧伸烷基之特徵。此外，各重複單元係可任意鍵結，e為1~3之整數。
前述(2)式之Rf基，較佳為由以下述一般式(6)、(7)及(8)中任一者所示之基中選出的基。
於上述一般式(6)中，Y係各自獨立為F或CF3基，e為1~3之整數，f為2~6之整數。r、t各自為0~200之整數，且r+t=3~200，較佳為10~150，更佳為20~100。s為0~6之整數，各重複單元係可任意鍵結。只要r+t為上述上限以下，則不會有密著性或硬化性變差之虞，此外，只要為上述下限以上，則可充分發揮氟氧伸烷基之特徵。
-CeF2e(CF2CF2CF2O)mCeF2e- (7)
於上述一般式(7)中，m為3~200之整數，e為1~3之整數。
於上述一般式(8)中，Y係各自獨立為F或CF3 基，e為1~3之整數。p、q各自為0~200之整數，且p+q=3~200，較佳為10~150，更佳為20~100。各重複單元係可任意鍵結。
式(1)中，X為SiX’基或氫原子，X當中成為氫原子者為1個以下，n為2~10之整數。X’為水解性基。此外，於式(2)中，X為-(CH2)nSiX’基或氫原子，X當中成為氫原子者為1個以下，n為2~10之整數。X’為彼此可相異的水解性之基。該例子係可列舉：甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基等之碳數1~10之烷氧基、甲氧基甲氧基、甲氧基乙氧基等之碳數2~10之氧基烷氧基、乙醯氧基等之碳數1~10之醯氧基、異丙烯氧基(isopropenoxy)等之碳數2~10之烯氧基、氯基、溴基、碘基等之鹵基等。其中，以甲氧基、乙氧基、異丙烯氧基、氯基較為適合。
此外，本發明之塗佈劑組成物，係藉由於分子中具有矽氧烷鍵，而可賦予耐磨耗性、耐擦傷性優異之塗佈。
含有以式(1)所表示之含氟氧伸烷基之單末端水解性聚合物、及以式(2)所表示之含氟氧伸烷基之兩末端水解性聚合物中任一種以上的塗佈劑組成物，係可利用以下的方法進行製造。
首先，藉由周知的方法，將具有末端不飽和基之化合物導入含全氟氧伸烷基之聚合物的末端氫氧基。該方法，例如，使單末端具有醇基的聚合物之 A-RfCH2OH，在溴化烯丙基與四丁基硫酸氫銨的存在下進行反應之後，滴下氫氧化鈉溶液等而使其成為鹼性，藉此可得到以RfCH2OCH2CH2=CH2所示之聚合物。
接著，將水解性矽烷基導入含末端不飽和基之聚合物的末端。藉由使上述步驟所得到之含末端不飽和基之聚合物組成物，與一方之末端具有SiH鍵且另一方之末端具有水解性基的有機矽化合物加成反應而進行。加成反應係只要以周知的反應條件進行即可，只要在加成反應觸媒，例如鉑族化合物之存在下進行即可。
此外，該步驟亦可使含不飽和基之聚合物組成物與具有多數SiH鍵的有機矽化合物反應來進行。
藉由該反應所得到的聚合物係由於在分子中具有多數殘存的SiH基，因此藉由使該殘存SiH基與具有不飽和基及水解性基之有機矽化合物進一步反應，而可增加末端之水解性基的數目。
本發明係提供一種將塗佈劑組成物作為主成分之表面處理劑，該塗佈劑組成物係含有以式(1)所表示之含氟氧伸烷基之單末端水解性聚合物、及以式(2)所表示之含氟氧伸烷基之兩末端水解性聚合物中任一種以上。該表面處理劑，亦可含有藉由周知的方法預先將該含氟氧伸烷基之聚合物組成物的末端水解性基進行部分水解、縮合所得到的部分水解縮合物。
於表面處理劑中，係可因應需要，而添加水解縮合觸媒，例如，有機錫化合物(二丁基錫二甲氧基、 二月桂酸二丁基錫等)、有機鈦化合物(四n-丁基鈦酸酯等)、有機酸(乙酸、甲磺酸、氟改質羧酸等)、無機酸(鹽酸、硫酸等)。此等當中，尤其以乙酸、四n-丁基鈦酸酯、二月桂酸二丁基錫、氟改質羧酸等較為理想。添加量為觸媒量，一般，相對於含氟氧伸烷基之聚合物及/或其之部分水解縮合物100質量份，為0.01~5質量份，特別是0.1~1質量份。
該表面處理劑亦可含有適當的溶劑。如此之溶劑係可例示：氟改質脂肪族烴系溶劑(全氟庚烷、全氟辛烷等)、氟改質芳香族烴系溶劑(m-二甲苯六氟化物、苯并三氟化物、1,3三氟甲基苯等)、氟改質醚系溶劑(甲基全氟丁基醚、乙基全氟丁基醚、全氟(2-丁基四氫呋喃)等)、氟改質烷基胺系溶劑(全氟三丁基胺、全氟三戊基胺等)、烴系溶劑(石油醚、礦油精(mineral spirit)、甲苯、二甲苯等)、酮系溶劑(丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等)。此等當中，就溶解性、潤濕性等的觀點而言，係以經氟改質的溶劑較為理想，尤其是以m-二甲苯六氟化物、全氟(2-丁基四氫呋喃)、全氟三丁基胺、乙基全氟丁基醚為佳。
上述溶劑係可將其2種以上混合，較佳為使含氟氧伸烷基之聚合物及其之部分水解縮合物均勻地溶解。另外，溶解於溶劑中之含氟氧伸烷基之聚合物組成物的最適濃度，雖依據處理方法而異，但為0.01~10重量%，尤其以0.05~5重量%為佳。
表面處理劑係可利用刷毛塗佈、浸漬法、噴灑法、蒸鍍處理等周知的方法而施予基材。另外，硬化溫度，雖依據硬化方法而異，但於例如以刷毛塗佈或浸漬法施予的情況中，係以室溫至80℃之範圍較為理想。硬化濕度，在加濕下進行的情況係對於促進反應方面較為理想。此外，硬化皮膜的厚度，雖依據基材的種類而適當選定，但一般為0.1nm~100nm，尤其為1~20nm。
以上述表面處理劑所處理的基材，並無特別限制，可為紙、布、金屬及其氧化物、玻璃、塑膠、陶瓷、石英等各種材質者，可賦予此等撥水撥油性、耐藥品性、脫模性、低動摩擦性、防污性。尤其是可列舉如光學物品、薄膜、玻璃、石英基板之類者。
具體而言，以本發明之表面處理劑所處理的物品及處理，係可列舉：汽車導航系統、行動電話、數位相機、數位攝錄影機、PDA、手提式音頻播放器、汽車音響、遊戲機、眼鏡鏡片、相機鏡頭、濾光透鏡、太陽眼鏡、胃鏡等之醫療用設備、複印機、PC、液晶顯示器、有機EL顯示器、電漿顯示器、觸控面板顯示器、保護薄膜、抗反射薄膜等光學物品之指紋、抗皮脂附著塗佈；如浴槽、洗臉台之類的衛生製品之撥水、防污塗佈；汽車、電車、飛機等之窗玻璃、車頭燈罩等之防污塗佈；外牆用建材之撥水、防污塗佈；廚房用建材之防油污用塗佈；電話亭之撥水、防污及防貼紙、塗鴉塗佈；美術品等之撥水性、賦予防指紋附著之塗佈；光碟、DVD等之防指紋附 著塗佈；奈米壓印用模具等之脫模劑；其他，將塗料添加劑、樹脂改質劑、無機質填充劑之流動性、分散性進行改質、提昇膠帶、薄膜等之潤滑性等。
〔實施例〕
以下，雖顯示實施例及比較例，更詳細地說明本發明，但本發明並不受下述實施例所限定。此外，本發明所使用的化合物，係可藉由組合周知的方法而進行合成。
[合成例]首先，準備數量平均分子量4,000且於單末端具有醇基的聚合物A-RfCH2OH。Rf基係全氟聚醚基，且可例示以下述式(3)、(4)、(5)所示之基。A為F或H基。
(式中，Y係獨立為F或CF3基，m為3~200之整數，e為1~3之整數)。
-(CF2CF2CF2O)mCeF2e- (4)
(式中，m為3~200之整數，e為1~3之整數)。
(式中，Y係獨立為F或CF3基，p、q各自為 0~200之整數，且p+q=3~200，各重複單元係可任意鍵結。此外，e為1~3之整數)。
將上述聚合物RfCH2OH 40g、溴化烯丙基3.5g、四丁基硫酸氫銨0.4g裝入反應容器中，在50℃下攪拌3小時之後，於所得到的混合物中，滴下30%氫氧化鈉水溶液5.2g，在55℃下進行熟成12小時。其後，添加適量鹽酸並進行攪拌之後，充分水洗。進而，取出下層、將溶劑餾除，藉此而可得到液狀之聚合物RfCH2OCH2CH=CH2作為主生成物。
接著，混合上述步驟所得到的混合物30g、1,3三氟甲基苯20g、四甲基環四矽氧烷10g、氯鉑酸/乙烯基矽氧烷錯合物之甲苯溶液0.1g(含有2.5×10-8莫耳作為Pt單體)，在70℃下使其熟成3小時。其後，藉由減壓餾除溶劑及未反應物，而可得到下述化合物(9)。
接著，混合上述步驟所得到的混合物30g、1,3三氟甲基苯20g、烯丙基三甲氧基矽烷3.7g、氯鉑酸/乙烯基矽氧烷錯合物之甲苯溶液0.1g(含有2.5×10-8莫耳作為Pt單體)，在70℃下使其熟成2小時。其後，藉由 減壓餾除溶劑及未反應物，而可得到下述化合物(10)。
〔表面處理劑之調整及硬化被膜之形成〕
以表1及表2之組成，以使下述化合物及組成物成為濃度20wt%的方式溶解於1,3三氟甲基苯而調製出表面處理劑。於在最表面經10nm之SiO2處理之玻璃(Corning公司製Gorilla)，以約15nm之厚度真空蒸鍍各表面處理劑(處理條件係壓力：3.0×10-3Pa、溫度：500℃)，在室溫下使其硬化24小時而形成硬化被膜。
〔組成物1~16〕
化合物1
Rfa：-CF2(OC2F4)p(OCF2)q-OCF2-(p/q=0.9、p+q≒45)
三烷氧基，係使用以1H NMR之分析，於1分子中導入平均5個以上者。
化合物2
Rfa：-CF2(OC2F4)p(OCF2)q-OCF2-(p/q=0.9、p+q≒45)
三烷氧基，係使用以1H NMR之分析，於1分子中導入平均2.5個以上者。
化合物3
CF3(OC2F4)p(OCF2)q-OCF3(p/q=0.9、p+q≒45)
化合物4
Rfa：-CF2(OC2F4)p(OCF2)q-OCF2-(p/q=0.9、p+q≒45)
三烷氧基，係使用以1H NMR之分析，於1分子中導入平均5個以上者。
化合物5
Rfa：-CF2(OC2F4)p(OCF2)q-OCF2-(p/q=0.9、p+q≒45)
三烷氧基，係使用以1H NMR之分析，於1分子中導入平均1.8~2.2個者。
化合物6
與以下之化合物進行比較。
〔比較化合物1~7〕
比較化合物1
F3C(OC2F4)p-OCF2CH2OC3H6Si(OCH3)3(p/q=0.9、p+q≒45)
比較化合物2
比較化合物3
(CH3O)3SiC3H6OCH2-CF2(OC2F4)p(OCF2)q-OCF2-CH2OC3H6Si(OCH3)3
比較化合物4
(p/q=0.9、p+q≒45)
比較化合物5
比較化合物6
比較化合物7
Rfa：-CF2(OC2F4)p(OCF2)q-OCF2-(p/q=0.9、p+q≒45)
藉由下述方法評估所得到的硬化被膜。將結果示於表3。
〔撥水撥油性之評估〕
使用上述所製作出的玻璃，使用接觸角計DropMaster(協和界面科學公司製)，測量出硬化被膜對於水之接觸角及對於油酸之接觸角。
〔耐鹼性之評估1〕
於1wt% NaOH水溶液中浸漬48小時後，測量水接觸角。
〔耐鹼性之評估2〕
於5wt% KOH水溶液中浸漬10小時後，測量水接觸角。
〔耐酸性之評估〕
於1wt% HCl水溶液中浸漬48小時後，測量水接觸角。
比較例1、2、5及6係單末端官能性聚合物，於其末端係僅具有1個三烷氧基。此等聚合物處理後的表面係耐藥品性差。由於與基材之結合點少，因此容易受到鹼或酸之攻擊。即使於在兩末端各具有1個三烷氧基的比較例3、4，相同地耐藥品性亦差。此外，即使為單 末端官能性聚合物，且於末端具有3個三烷氧基的比較例7，耐藥品性亦差。使用比較例7之比較化合物7，係由於連結基使用Q單元之矽氧烷基，因此連結基會容易因鹼或酸而分解。
相對於此，實施例1~17之表面處理劑，係即使浸漬於鹼或酸，亦可長期維持優異的撥水撥油性。
另外，本發明並不限定於上述實施形態。上述實施形態係為例示，與本發明之申請專利範圍所記載的技術性思想實質上具有相同的構造，而發揮相同的作用效果者，皆包含於本發明之技術範圍中。

Claims (7)

  1. 一種塗佈劑組成物，其特徵為含有以下述式(1)所表示之含氟氧伸烷基之單末端水解性聚合物、及以下述式(2)所表示之含氟氧伸烷基之兩末端水解性聚合物中任一種以上， (式中，Rf基為2價之含全氟氧伸烷基之基，X為-(CH2)nSiX’基或氫原子，X當中成為氫原子者為1個以下，n為6~10之整數；X’為水解性基) (式中，Rf、X、n係與上述式(1)相同；但，X當中成為氫原子者係在各自的單末端為1個以下)。
  2. 如請求項1所記載之塗佈劑組成物，其中前述(1)式之Rf基係含有以下述一般式所表示的重複單元：3~200個， -CdF2dO-(d每單元獨立為1~6之整數)。
  3. 如請求項1或2所記載之塗佈劑組成物，其中前述(1)式之Rf基係以下述一般式(3)、(4)及(5)中任一者所示之基， (式中，Y係獨立為F或CF3基，m為3~200之整數，e為1~3之整數)-(CF2CF2CF2O)mCeF2e- (4)(式中，m為3~200之整數，e為1~3之整數) (式中，Y係獨立為F或CF3基，p、q各自為0~200之整數，且p+q=3~200，各重複單元係可任意鍵結；此外，e為1~3之整數)。
  4. 如請求項1或2所記載之塗佈劑組成物，其中前述(2)式之Rf基係以下述一般式(6)、(7)及(8)中任一者所示之基， (式中，Y係各自獨立為F或CF3基，e為1~3之整數，f為2~6之整數，r、t係各自為0~200之整數，且r+t=3~200，s為0~6之整數，各重複單元係可任意鍵結)-CeF2e(CF2CF2CF2O)mCeF2e- (7)(式中，m為3~200之整數，e為1~3之整數) (式中，Y係各自獨立為F或CF3基，e為1~3之整數，p、q各自為0~200之整數，且p+q=3~200，各重複單元係可任意鍵結)。
  5. 一種表面處理劑，其特徵為含有如請求項1至4中任一項所記載之塗佈劑組成物及/或含有該含氟氧伸烷基之聚合物的部分水解縮合物之塗佈劑組成物。
  6. 一種以表面處理劑處理過的物品，其特徵為以如請求項5所記載之表面處理劑加以處理。
  7. 如請求項6所記載之以表面處理劑處理過的物品，其中該物品為光學物品、薄膜、玻璃、石英基板中任一者。
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