TWI573628B - A liquid automatic supply mechanism and a coating device provided with the same - Google Patents

Description

液體自動供給機構及具備此機構之塗佈裝置

本發明係關於一種可防止在液體中混入氣泡與微粒的液體自動供給機構及具備此機構之塗佈裝置。

在製造液晶顯示器的步驟中，存在將二片相對向的基板貼合並在其中間形成液晶層的面板步驟(亦稱為面板組裝步驟)。尤其，當製造大型面板時，採用在對貼合前的其中一基板滴下液晶後再進行貼合之滴下注入法。

在滴下注入法中，為了將液晶滴下於基板上，係使用具有儲存液晶的容器，並從此容器所設置的噴嘴利用氣體壓力或機械壓力的作用，一次流出既定量之所謂分配器(dispenser)的裝置。

近年來，隨著液晶顯示器的大型化，其原材料的基板亦隨之大型化。由於若基板大型化，則液晶的使用量亦會增加，因此如習知作為分配器所使用的小型儲存容器(注射器)便變得難以對應。因為若小型的儲存容器則液晶會迅速用盡，導致容器等的更換趨於頻繁，就生產性、作業性的觀點會有效率降低的緣故。又，當更換儲存容器之際，亦會有氣泡或異物(以下稱為微粒)混入的危險。

相對於此，存在於裝置外設置大型儲槽，藉由從該大型儲槽供給液體材料，以解決此等問題的各種嘗試。

例如於專利文獻1揭示有一種液滴吐出裝置，其特徵在於具備有：裝置本體；載置部，其可載置工件；頭單元，其具有對工件吐出液滴的複數個液滴吐出頭；頭單元支持體，其支持頭單元；移動機構，其使工件載置部與頭單元支持體進行相對移動；一次槽系統，其具有至少1個一次槽，該一次槽係儲存從各液滴吐出頭所吐出的吐出液，並可更換及/或補充吐出液；二次槽，其固設於頭單元支持體，且從一次槽流入吐出液；一次流路，其將一次槽系統與二次槽相連接，並從一次槽系統將吐出液供給至二次槽；及複數條二次流路，其將二次槽與頭單元相連接，並從二次槽分別將吐出液供給至各液滴吐出頭；且一次流路的條數係少於二次流路的條數。

再者，於專利文獻2揭示有一種液晶滴下裝置，其特徵在於包含有：平台，其用以放置基板；分配器頭，其具備可用以對基板滴下或塗佈液晶之注射器與噴嘴；頭支持構件，其設置於平台的周邊且支持分配器頭；供給管線，其對分配器頭的注射器供給滴下或塗佈於基板上的液晶；收受管線，其連接於分配器頭的注射器；及雜質物防止蓋，其係供給管線及收受管線的連接部且設置於其中任一方側，防止當該等管線相互連結或分離時發生雜質物流入之情形；且藉由頭支持構件與分配器頭從平台上部分開並移動至供給管線所在位置側，構成為收受管線連結於供給管線而可從液晶供給器對注射器填充液晶。

[先行技術文獻] [專利文獻]

專利文獻1：日本專利特開2004-167430號公報

專利文獻2：日本專利特開2009-172585號公報

然而，於文獻1的裝置中，因為液體供給流路(管路)係從儲槽連接至頭，因此於液體中不易混入氣泡與微粒，但相互地因為頭在進行相對移動時管路亦會一起移動，因此必須考量其移動範圍而增長管路，使其具有餘裕而配設。又，在頭進行相對移動時，管路亦一起移動，此亦會成為管路提早劣化的原因。

再者，於文獻2的裝置中，因為構成為在配管的途中能進行分離/連結，因此關於液體供給流路(管路)雖無上述問題，但相反地因為成為利用連結部接觸的機構，因此存在此部分的摩擦會成為產生微粒原因的問題。除此之外，構成雜質物防止蓋之鉸鏈或凸輪等零件亦會因本身動作部分的摩擦而成為產生微粒的原因。

而且，於文獻2的裝置中，因為連結部係成為將液體從上方直接注入注射器的機構，因此從上方所注入的液體會撞擊下方積蓄液體的液面，此時將導致氣泡混入的問題。

因此，本發明之目的在於提供一種可解決上述問題的液體自動供給機構及具備此機構之塗佈裝置。

本發明者為解決液體材料儲存部與吐出裝置暫時性或平時因物理性連接所造成之弊端，而採用使液體材料儲存部與吐出裝置平時分離的構造。而且，藉由設置解除因平時使液體材料儲存部與吐出裝置分離所產生氣泡之弊端的氣泡去除機構，可提供氣泡不會流入吐出裝置的液體自動供給機構及具備此機構之塗佈裝置。

即，第1發明係關於一種液體自動供給機構，其特徵在於具備有：液體儲存部，其儲存液體材料；供給部，其具有供給在液體儲存部所儲存之液體材料的供給口；收受部，其具有接收從供給部所排出之液體材料的收受口及氣泡去除機構；及收受部驅動裝置，其使收受部進行移動；且收受部移動至收受口位於供給口正下方的收受位置，從供給口接受液體材料的滴下供給，並將利用氣泡去除機構去除氣泡的液體材料，供給至吐出裝置。

第2發明係如第1發明，其中，氣泡去除機構係具備有：氣泡去除用容器，其儲存液體材料；流入管，其一端係浸漬於氣泡去除用容器所儲存的液體內，另一端則與收受口相連通；及流出管，其一端係浸漬於氣泡去除用容器所儲存的液體內，另一端則與吐出裝置相連通。

第3發明係如第2發明，其中，氣泡去除機構係具備有：泵裝置，其係對氣泡去除用容器進行減壓；及作動氣體供給管，其一端係連接於泵裝置，另一端則配置於氣泡去除用容器內的空間。

第4發明係如第2或3發明，其中，其具備有檢測裝置，用以檢測液體儲存部及/或氣泡去除用容器內液體材料的量。

第5發明係如第1、2或3發明，其中，收受口係具有經擴徑的開口，且為可暫時性儲存一定量之液體材料的形狀。

第6發明係就第1、2或3發明，其中，其具備有液體材料承接構件，用以在位於供給口正下方的第1位置、與不同於第1位置的第2位置進行進退動作。

第7發明係如第1、2或3發明，其中，其具備有控制從液體儲存部朝供給部的液體材料供給量之夾緊閥、及/或控制從收受部朝吐出裝置的液體材料供給量之夾緊閥。

第8發明相關的塗佈裝置，係其具備有：架台，其配設有保持工件的平台；吐出裝置，其具有吐出液體材料的噴嘴；驅動裝置，其使吐出裝置與平台進行相對移動；及第1、2或3發明的液體自動供給機構。

第9發明係如第8發明，其中，其具備有：樑，其配設有複數個吐出裝置；及流出部驅動裝置，其將各吐出裝置設為沿樑的延設方向移動自如；且上述收受部係設置有與吐出裝置相同數量。

第10發明係如第9發明，其中，上述供給部係配設有複數個。

第11發明係如第8發明，其中，其具備有覆蓋平台與吐出裝置的蓋體。

第12發明係如第9發明，其中，其具備有覆蓋著平台與吐出裝置的蓋體。

第13發明係如第10發明，其中，其具備有覆蓋著平台與吐出裝置的蓋體。

第14發明係如第11發明，其中，上述液體儲存部係配設於上述蓋體的外側。

第15發明係如第12發明，其中，上述液體儲存部係配設於上述蓋體的外側。

第16發明係就第13發明，其中，上述液體儲存部係配設於上述蓋體的外側。

根據本發明，因為並不需要將液體材料儲存部與吐出裝置以物理性連接，且未配設有可隨吐出裝置的移動變化形狀的液體供給流路(管路)，因此可解決當配設液體供給流路時的空間問題與液體供給流路的劣化問題。

再者，因為不需使液體材料儲存部側與吐出裝置側接觸就可供給液體材料，因此可有效地防止微粒產生及混入。

而且，因為設有氣泡去除機構，因此可防止氣泡流入吐出裝置。

以下，針對為了實施本發明的一形態進行說明。

於圖1係表示說明本發明液體自動供給機構的示意圖。於同圖中，實心箭頭係表示液體的流動，空心箭頭係表示氣體的流動。

液體自動供給機構1，其主要構成要件係包含槽(液體材料儲存部)4、供給部2、收受部3、及收受部驅動裝置；該儲槽4係儲存液體材料26的大容量儲槽；該供給部2係具備有將從儲槽4所送出的液體材料26排出之供給口12；該收受部3係與吐出裝置24一體地設置在吐出裝置24上部，且接收從供給部2所排出的液體材料26；該收受部驅動裝置係使收受部3進行移動。此等之中，從儲槽4至供給部2為止係利用配管8A相連結，從收受部3至吐出裝置24為止係利用配管8B、8C相連結。供給部2與收受部3之間係離開為開閉器15可自由通過的距離。又，在儲槽4與供給部2途中的配管8A上，於供給部2附近設有控制對供給部2的流動之閥A9，在儲槽4中設有用以檢測儲槽4內液體材料26之殘量的檢測裝置7。藉由設置檢測裝置7，當液體材料26低於既定量時，就可根據來自檢測裝置7的信號發出警報。於此，作為檢測裝置7係可使用例如利用重量進行檢測的荷重計等。除此之外，亦可使用例如：利用超音波檢測液面的超音波感測器、或利用光量的差異檢測有無液體的光感測器等。

在供給部2設置有具備供給口12的供給管13，該供給口12係用以將從儲槽4所送至的液體材料26排出。供給管13係在排出側端朝下彎曲，並將液體材料26滴落而供給(滴下供給)至收受部3。供給部2與收受部3並未利用配管進行連結，且亦沒有供給部2下降、或收受部3上昇之情形。即，供給口12並未連接於收受口16，而是從分開位置在非接觸的狀態下供給液體材料，藉此可防止微粒產生，俾可防止微粒混入液體材料26中。又，在供給管13下方，作為液體材料承接構件，具備有當從供給口12有多餘的液體材料26滴落時用以承接此多餘液體材料26的開閉器15。開閉器15具有在上表面開口的儲存用凹部，可沿水平方向進行滑動動作，且除了在供給時以外的時間均位於供給口12的正下方。又，開閉器15並未接觸到供給口12與收受口16。此亦與上述同樣，係為了不使微粒產生。

收受部3配設有：漏斗17、氣泡去除用瓶18、及閥B10與閥C11，且分別利用配管8進行連結。該漏斗17係具有接收從供給部2所供給之液體材料26的收受口16。該氣泡去除用瓶18係暫時地積蓄所供給的液體材料26，並施行氣泡的去除。該閥B10與閥C11係控制液體的流動。閥A~C係若考慮維護性，較佳係使用藉由夾入配管使配管產生彈性變形用以進行流路開閉的夾緊閥。夾緊閥由於閥本身不會接觸到液體，因此在執行配管更換等情況時可使作業較為容易。又，亦不存在因閥動作所產生的微粒混入的情形。於此，閥B10係對流入瓶18進行控制，而閥C11係對從瓶18的流出進行控制。從漏斗17流入瓶18的液體材料26，係經由流入管19所進行，而從瓶18對吐出裝置24的液體材料26的送出則經由流出管20所進行。又，因為漏斗17配設於比瓶18高的位置，因此液體材料26即便不借助於壓力等亦可自然流下，俾可積蓄於容量比儲槽4小的瓶(氣泡去除用容器)18中。

氣泡去除用的瓶18係與連接於作動氣體供給管21的增減壓泵(未圖示)一起構成氣泡去除機構41。增減壓泵係供給當從瓶18朝吐出裝置24送出液體材料26時所作用的壓縮氣體、以及當將瓶18內的液體材料26之氣泡去除時所作用的真空。增減壓泵亦可併用為供將工件吸附於平台上的真空源。又，當可利用吐出裝置側的抽吸手段(例如柱塞)抽吸瓶18內液體材料的情況時，亦可取代增減壓泵而使用減壓泵。瓶18係由玻璃或硬質之樹脂等透明材質所製作，可確認充滿內部的液材材料之液面位置、及氣泡混入狀況。又，在瓶18的外側面附近，於上限位置(元件符號22)及下限位置(元件符號23)設有檢測瓶18內之液面的感測器。於此，作為感測器可使用利用光量不同檢測液體有無的光感測器等。如後述，瓶18所連接各種管之關係，較佳為可正確地捕捉到液面位置者。

收受部3利用收受部驅動裝置可沿水平方向移動，俾可在供給口12的正下方將位於收受口16的中央設為供給位置。在收受部3的下方配設有吐出裝置24，且利用配管8C與收受部3進行連結。吐出裝置24係利用收受部3供給已去除氣泡的液體材料26，並從噴嘴38進行液體材料26的流出。

接著，針對截至上述為止的液體自動供給機構1會進行何種動作進行說明。

首先，在儲槽4中填充液體材料26，並連接壓縮氣體供給管5與液體送出管6(步驟1)。並非對儲槽4直接填充液體材料26，可設置已填充液體材料26的儲槽4。接著，對儲槽4供給壓縮氣體進行加壓(步驟2)。此時，事先將閥A9關閉。然後，使收受部3與吐出裝置24移動至供給部2下方的供給位置(步驟3)。移動後，使開閉器15後退，並開啟閥A9(步驟4)。如此一來，從供給口12將排出液體材料26，並經由收受部3的收受口16注入至漏斗17(步驟5)。此時，事先將閥B10與閥C11開啟。其後，液體材料26係通過閥B10，從流入管19流入至瓶18中(步驟6)。於此，如前述，液體材料26雖然自然地流下，但若事先關閉閥C11，並對瓶18內抽真空，便可加速供給速度。其次，若瓶18內的液體材料26到達上限感測器22位置，便關閉閥A9、閥B10及閥C11，使開閉器15進出，並關閉對儲槽4的加壓(步驟7)。然後，利用作動氣體供給管21進行抽真空，並進行瓶18內液體材料26之氣泡去除(步驟8)。於氣泡去除結束後，再來便利用作動氣體供給管21供給壓縮氣體進行加壓(步驟9)。接著，開啟閥C11，從流出管20將瓶18內的液體材料26送出至吐出裝置24(步驟10)。若利用吐出裝置24所進行的液體材料26填充完成時，便關閉閥C11，並停止對瓶18的加壓(步驟11)。然後，利用吐出裝置24進行流出(步驟12)。此時，在瓶18內的液體材料26到達下限感測器23位置為止，每當吐出裝置24內的液體材料26變少就重複上述步驟9至步驟11，對吐出裝置24填充液體材料26。又，若瓶18內的液體材料26到達下限感測器23位置，便再度執行上述步驟2至步驟8，將液體材料26供給至收受部3(步驟13)。儲槽4內的液體殘量管理係利用檢測裝置7執行。儲槽4的液體材料26之補充只要在供給動作以外的時間均可進行。

如上述，即便未連結配管8，而從上方以滴落之方式進行供給，因為會先利用收受部3的瓶18進行氣泡去除之後才供給至吐出裝置24，因此氣泡不會流入吐出裝置24。又，藉由未連結配管8，而從上方以滴落之方式進行供給，可在進行供給時不會發生接觸與摩擦等，俾不會產生微粒。藉此，因為可使用未混入氣泡與微粒混入的液體，故可進行精密量的流出與對正確位置進行塗佈。

本發明可適用於液晶、油墨、有機EL(organic electroluminescence；有機電致發光)材料、溶劑(乙醇、丙酮等)、紫外線硬化樹脂等黏度在10000cps以下的液體材料，特別適用於黏度在1000cps以下的液體材料。氣泡去除機構係對應液體材料的種類，施加約50~90kPa的負壓長約1~5分鐘。

以下，雖然已針對本發明之詳細內容利用實施例進行說明，惟本發明並不因任何實施例而受限定者。

[實施例]

實施例係關於一種一邊使吐出裝置與保持工件的平台進行相對移動，一邊將液晶塗佈於工件上的塗佈裝置，使樑在平台上移動之所謂「龍門式(gantry-type)」的塗佈裝置。

圖2所示係具備有實施例之液體自動供給機構的塗佈裝置概略立體圖，而圖3所示係將實施例的自動供給機構主要部分放大之圖式。以下，當說明圖2時，將設置有儲槽4之側稱為「左」，將其對向側(元件符號9側)稱為「右」，將設置有吐出裝置24之側稱為「前」，將其對向側稱為「後」。又，將左右方向設為「X方向」，將前後方向設為「Y方向」。

塗佈裝置25，如圖2所示，係在架台29上設置平台28，並具備有使吐出液體材料26的吐出裝置24對平台28進行相對移動之樑驅動裝置(Y驅動裝置)44及收受部驅動裝置 (X驅動裝置)43。該平台28係載置塗佈液體材料26的塗佈對象物27(以下稱為「工件」)。Y驅動裝置44係具有支持樑30的滑件、與在架台29上所配設的滑座，可使樑30在平台28上沿前後方向(元件符號31)進行移動。吐出裝置24係利用於樑30所設置的X驅動裝置43而可在樑30上沿左右方向(元件符號32)進行移動。吐出裝置24係設置有複數個相同物，所有的吐出裝置均可沿樑進行移動。再者，吐出裝置24的數量係依照對工件27的塗佈方式所決定者，並不受限於圖2所示數量。

而且，塗佈裝置25具備有覆蓋此等各裝置外周的蓋體33。在以虛線所圖示的蓋體33，於前面側設有供作業者進入內部的門(未圖示)，俾於執行吐出裝置24等的維護作業時使用。又，在蓋體33的頂板部分具備有將去除微粒的空氣供給至蓋體33內的空氣清淨裝置34。於此，作為空氣清淨裝置34係可使用例如具備有風扇過濾器單元，即HEPA(high efficiency particulate air；高效率粒子空氣)過濾器、ULPA(ultra low penetration air filter；超高效率空氣)過濾器等之小型送風機等。藉此，可保持蓋體33內，特別係較平台28更上方的空間之潔淨度。然而，在塗佈裝置25係設置於無塵室內、或設置於與其為同等級之清淨空間的情況時，亦可不設置空氣清淨裝置34而使頂板具有大開口或撤除頂板，俾導入保有潔淨度的空氣。再者，亦可使蓋體33與架台29構成為一體，而覆蓋架台29上之各要件。

液體自動供給機構1係具有上述圖1的構造者，主要之構成要件係包含有儲槽4、供給部2、收受部3、及X驅動裝置43與Y驅動裝置44。該儲槽4係收納液體材料26。該供給部2係具備有將從儲槽4所送出的液體材料26進行排出之供給口12。該收受部3係在吐出裝置24的上部與吐出裝置24設置為一體，並接收從供給部2所排出的液體材料26。該X驅動裝置43與Y驅動裝置44係使收受部3與吐出裝置24進行相對移動。在液體自動供給機構1中，收納液體材料26的儲槽4係可拆卸地固設於蓋體33的外側，而具備有將液體材料26排出之供給口12的供給部2係固設於蓋體33的內側。又，如圖3所示，在吐出裝置24的上方，使接收從供給部2所排出液體材料26的收受部3係與吐出裝置24設置為一體，並利用X驅動裝置43一體地移動。在利用Y驅動裝置44將樑30移動至收受部3附近，並利用X驅動裝置43將與吐出裝置24為一體的收受部3移動至供給部2下方的供給位置處，收受部3將接收從供給部2的液體材料26之供給。如圖2所示，當吐出裝置24係設置有複數個的情況，便在每個吐出裝置24個別設置收受部3。

從儲槽4至供給部2為止係利用配管8A進行連結，而從收受部3至吐出裝置24為止係利用配管8B、8C進行連結，且供給部2與收受部3間互相分開。在儲槽4與供給部2之間，在蓋體33內側之對應於供給部2附近固設有控制供給部2的流動之閥A9。在儲槽4的下方設有用以檢測儲槽4內之液體材料26殘量的檢測裝置7。從儲槽4朝向供給部2的配管8，係在臨近儲槽4處貫通蓋體33並進入蓋體33內。即，僅有儲槽4與檢測裝置7設置於蓋體33外。藉由將經常進行填充或更換等作業的儲槽4設置於蓋體33外，可盡量減少微粒被帶入蓋體33內。除此之外，即便於塗佈裝置25進行塗佈動作中亦可進行對儲槽4之作業。

液體自動供給機構1的供給口12之數量，較佳為可配合吐出裝置24的數量進行變更。這是因為當複數個吐出裝置24緊密地排列於樑30之其中一側時的合計寬度，超過左右方向之行程長度的一半時，即便在樑上的1處設置供給口12，仍無法將所有的吐出裝置24移動至此供給口12處。於此情況，在2處以上設置供給口12，構成為使複數個吐出裝置24可移動至任一供給口12。

如上述，於實施例的塗佈裝置25中，因為供給部2與收受部3之間互相分離，因此配管8不會與吐出裝置24或流出部驅動裝置一起移動。所以，不會存在為了平順地驅動而加長配設配管、或因配管移動導致提早劣化的問題。

其次，針對液體自動供給機構1的詳細內容一邊參照圖3一邊進行說明。於同圖中，實心箭頭係表示液體的流動，空心箭頭則表示氣體的流動。

在供給部2中設置有供給管13。該供給管13具備有將從儲槽4所送至的液體材料26排出之供給口12。供給管13係在途中支持於支持構件14，且在供給口12附近朝下彎曲。於此從供給口12至支持構件14為止的部分，係由金屬等可保持形狀的材料所製成。在供給管14的下方，具備有開閉器15。該開閉器15係當從供給口12滴落多餘液體材料26時用以接收該多餘液體材料26。開閉器15係形成為上表面開口的柄杓狀(具有柄之容器狀)，並進行滑動動作，除了在供給以外的時間均位於供給口12之正下方。

收受部3係由3個部位所構成，在最高位置處配設具有接收從供給部3所供給之液體材料26之收受口16的漏斗17，在最低位置處配設有將所供給的液體材料26，暫時積蓄並進行氣泡去除的瓶18。然後在漏斗17與瓶18的中間位置處，排列地配設有控制液體流動的閥B10及閥C11。漏斗17係以使上端成為收受口16的方式開口，而使液體材料26從供給口12滴下供給。於此，因為蓋體33內保有潔淨度，因此即便收受口16朝上部開口，亦不存在微粒混入的危險。

氣泡去除用的瓶18係與作動氣體供給管21所連接的增減壓泵(未圖示)一起構成氣泡去除機構41。增減壓泵係供給當從瓶18朝吐出裝置24送出液體材料26時所作用的壓縮氣體、及當將瓶18內的液體材料26之氣泡去除時所作用的真空。

再者，在瓶18的外側面附近，於上限位置(元件符號22)及下限位置(元件符號23)設有檢測瓶18內液面的感測器。上限感測器22係配置於比作動氣體供給管21的出口下方之位置，而下限感測器23則配置於比流出管20的入口上方之位置。如此一來，可防止從作動氣體供給管21吸入液體材料26、或從流出管20吸入氣體。

收受部3係設置於比供給部2低之位置，且當供給部2移動至收受部3下方時不會接觸到供給部2的位置。在收受部3的下方一體地配設有吐出裝置24。吐出裝置24係被供給利用收受部3去除氣泡後的液體材料26，並進行對工件27的流出。於本實施例中，雖然作為吐出裝置24係圖示柱塞式之吐出裝置，但當然亦可使用柱塞式吐出裝置以外的吐出裝置。可適用的吐出裝置例示有：對在前端設有噴嘴的注射器內之液體材料，施加所需時間經調壓之空氣的空氣式者；具有平面配管機構或旋轉配管機構的配管式者；利用螺桿的旋轉吐出液體材料的螺桿式者；將經施加所需壓力的液體材料利用閥之開閉進行流出控制的閥式者等。

本實施例的柱塞式吐出裝置24係具備有管形狀之計量部36、內接於計量部36的柱塞35、具有流出口39的噴嘴38、及可切換計量部36與噴嘴38及計量部36與流入口40的連通之切換閥37。然後，使在計量部36內密接地進退移動的柱塞35高速地進出移動，將液體材料26從流出口39連續(continuously projectile)流出。

亦可藉由設置複數個氣泡去除機構41更確實地防止氣泡混入。

另外，亦可取代本實施例的氣泡去除機構41，單獨或合併使用圖4所示不具有增減壓泵的簡易氣泡去除機構。藉由將流出管20的入口設置於離開氣泡去除用容器18之底面的上方，可防止沉積於底面、或在底面附近浮動的微粒42被吸入。該簡易的氣泡去除機構係於期望收受部3小型化時非常有效果。

1．．．液體自動供給機構

2．．．供給部

3．．．收受部

4．．．儲槽(液體材料儲存部)

5．．．壓縮氣體供給管

6．．．液體送出管

7．．．檢測裝置

8、8A、8B、8C．．．配管

9．．．閥A

10．．．閥B

11．．．閥C

12．．．供給口

13．．．供給管

14．．．支持構件

15．．．開閉器

16．．．收受口

17．．．漏斗

18．．．瓶(氣泡去除用容器)

19．．．流入管

20．．．流出管

21．．．作動氣體供給管

22．．．上限感測器

23．．．下限感測器

24．．．吐出裝置

25．．．塗佈裝置

26．．．液體材料

27．．．塗佈對象物(工件)

28．．．平台

29．．．架台

30．．．樑

31．．．樑移動方向

32．．．吐出裝置移動方向

33．．．蓋體

34．．．空氣清淨裝置

35．．．柱塞

36．．．計量部

37．．．切換閥

38．．．噴嘴

39．．．流出口

40．．．流入口

41．．．氣泡去除機構

42．．．微粒

43．．．收受部驅動裝置(X驅動裝置)

44．．．樑驅動裝置(Y驅動裝置)

圖1係說明本發明之液體自動供給機構的示意圖。

圖2係具備實施例之液體自動供給機構的塗佈裝置之概略立體圖。

圖3係將實施例之液體自動供給機構的主要部分放大之放大圖。

圖4係表示實施例之氣泡去除機構之另一態樣的側視圖。

1．．．液體自動供給機構

2．．．供給部

3．．．收受部

4．．．儲槽(液體材料儲存部)

5．．．壓縮氣體供給管

6．．．液體送出管

7．．．檢測裝置

8A．．．配管

8B．．．配管

8C．．．配管

9．．．閥A

10．．．閥B

11．．．閥C

12．．．供給口

13．．．供給管

14．．．支持構件

15．．．開閉器

16．．．收受口

17．．．漏斗

18．．．瓶(氣泡去除用容器)

19．．．流入管

20．．．流出管

21．．．作動氣體供給管

22．．．上限感測器

23．．．下限感測器

24．．．吐出裝置

26．．．液體材料

33．．．蓋體

38．．．噴嘴

Claims (16)

1. 一種液體自動供給機構，其特徵在於，具備有：液體儲存部，其儲存液體材料；供給部，其具有供給液體儲存部所儲存之液體材料的供給口；收受部，其具有接收從供給部所排出之液體材料的收受口及氣泡去除機構；及收受部驅動裝置，其使收受部沿水平方向進行移動；收受部移動至收受口位於供給口正下方的收受位置而不連接供給口與收受口地從分開的位置接受液體材料的滴下供給，並將利用氣泡去除機構去除氣泡的液體材料，供給至吐出裝置。
2. 如申請專利範圍第1項之液體自動供給機構，其中，氣泡去除機構係具備有：氣泡去除用容器，其儲存液體材料；流入管，其一端係浸漬於氣泡去除用容器所儲存的液體內，另一端則與收受口相連通；及流出管，其一端係浸漬於氣泡去除用容器所儲存的液體內，另一端則與吐出裝置相連通。
3. 如申請專利範圍第2項之液體自動供給機構，其中，氣泡去除機構係具備有：泵裝置，其係對氣泡去除用容器進行減壓；及 作動氣體供給管，其一端係連接於泵裝置，另一端則配置於氣泡去除用容器內的空間。
4. 如申請專利範圍第2或3項之液體自動供給機構，其中，具備有檢測裝置，用以檢測液體儲存部及/或氣泡去除用容器內之液體材料的量。
5. 如申請專利範圍第1、2或3項之液體自動供給機構，其中，收受口係具有經擴徑的開口，且為可暫時性儲存一定量之液體材料的形狀。
6. 如申請專利範圍第1、2或3項之液體自動供給機構，其中，具備有液體材料承接構件，用以在位於供給口正下方的第1位置、與不同於第1位置的第2位置進行進退動作。
7. 如申請專利範圍第1、2或3項之液體自動供給機構，其中，具備有控制從液體儲存部朝供給部的液體材料供給量之夾緊閥、及/或控制從收受部朝吐出裝置的液體材料供給量之夾緊閥。
8. 一種塗佈裝置，其係具備有：架台，其配設有保持工件的平台；吐出裝置，其具有吐出液體材料的噴嘴；驅動裝置，其使吐出裝置與平台進行相對移動；及申請專利範圍第1、2或3項之液體自動供給機構。
9. 如申請專利範圍第8項之塗佈裝置，其中，具備有：樑，其配設有複數個吐出裝置；及 吐出部驅動裝置，其將各吐出裝置設為沿樑的延設方向移動自如；且上述收受部係設置有與吐出裝置相同數量。
10. 如申請專利範圍第9項之塗佈裝置，其中，上述供給部係配設有複數個。
11. 如申請專利範圍第8項之塗佈裝置，其中，具備有覆蓋平台與吐出裝置的蓋體。
12. 如申請專利範圍第9項之塗佈裝置，其中，具備有覆蓋平台與吐出裝置的蓋體。
13. 如申請專利範圍第10項之塗佈裝置，其中，具備有覆蓋平台與吐出裝置的蓋體。
14. 如申請專利範圍第11項之塗佈裝置，其中，上述液體儲存部係配設於上述蓋體的外側。
15. 如申請專利範圍第12項之塗佈裝置，其中，上述液體儲存部係配設於上述蓋體的外側。
16. 如申請專利範圍第13項之塗佈裝置，其中，上述液體儲存部係配設於上述蓋體的外側。