TWI569438B - 有機ｅｌ顯示裝置 - Google Patents

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TWI569438B
TWI569438B TW103131037A TW103131037A TWI569438B TW I569438 B TWI569438 B TW I569438B TW 103131037 A TW103131037 A TW 103131037A TW 103131037 A TW103131037 A TW 103131037A TW I569438 B TWI569438 B TW I569438B
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Inventor
佐藤敏浩
豐田裕訓
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日本顯示器股份有限公司
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Description

有機EL顯示裝置
本發明係關於有機EL顯示裝置。
近年來，使用被稱為有機發光二極體(OLED：Organic Light Emitting Diode)之自發光體之圖像顯示裝置(以下稱為「有機EL(Electro-luminescent：電致發光)顯示裝置」)實用化。該有機EL顯示裝置與先前之液晶顯示裝置比較，因使用自發光體，故不僅在目視性、應答速度之方面優秀，且無需如背光燈之輔助照明裝置，而可更加薄型化。
有機EL顯示裝置之中，在光出射至基板之形成元件之側之所謂頂部發光方式之顯示裝置中，在夾著具有發光層之有機層之2個電極即上部電極及下部電極中，上部電極係覆蓋已形成有機層之顯示區域之整面之電極，且由透明之導電性材料形成。為提高光之透射率，期望更薄地形成該上部電極。然而，上部電極越薄電阻值越上升而產生電壓下降。因此，容易於顯示區域之端部與顯示區域之中央部之間產生亮斑。
在日本特開2010-027504號公報所記述之有機EL顯示裝置中，為謀求上部電極即陰極之低電阻化與窄框架化，而將設置於與元件基板對向配置之密封基板之、顯示區域之外側之非顯示區域之環繞配線、與元件基板之陰極連接。又，在日本特表2008-511100號公報所記述 之有機EL顯示裝置中，在使2種以上不同色之發光層重合發光時，於發光層彼此間設置有中間連接層。
上述之有機EL顯示裝置係被認為對陰極之低電阻化有效。然而，製造步驟複雜化，且難以消除顯示區域之端部與顯示區域之中央部之間之亮斑。
本發明係鑑於上述情況而完成者，目的在於提供一種不會使製造步驟複雜化，且使形成於顯示區域之整面之上部電極低電阻化之有機EL顯示裝置。
本發明之有機EL顯示裝置之特徵在於，其係具備如下者：下部電極，其形成於於顯示區域內配置成矩陣狀之副像素之各者，且包含導電性無機材料；發光有機層，其與上述下部電極相接，且包含具有發光之發光層之複數個不同之有機材料之層；上部電極，其與上述發光有機層相接，且係以覆蓋上述顯示區域之整體之方式形成，並包含導電性無機材料；及導電性有機層，其與上述上部電極相接，且係以覆蓋上述顯示區域之整體之方式形成，並包含導電性有機材料。
又，於本發明之有機EL顯示裝置中，上述導電性有機層亦可於俯視下形成於上述上部電極之內側。
又，本發明之有機EL顯示裝置亦可進而具備密封膜，其係於上述導電性有機層上，於俯視下，覆蓋至上述導電性有機層及上述上部電極之外側，且包含無機材料。
又，在本發明之有機EL顯示裝置中，上述導電性有機層亦可使上述上部電極之凹凸平坦化。
又，在本發明之有機EL顯示裝置中，亦可進而具備導電性無機膜，其與上述導電性有機層之與形成上述上部電極之面相反側之面相接，且係覆蓋上述顯示區域之整體而形成，且包含導電性無機材料。
又，在本發明之有機EL顯示裝置中，上述導電性有機層亦可由電荷產生層形成。
又，在本發明之有機EL顯示裝置中，上述發光有機層係串疊配置有複數個上述發光層之構成，於上述複數個發光層之間，亦可配置有電荷產生層。
又，在本發明之有機EL顯示裝置中，於上述導電性有機層之材料中，亦可附加提高導電性之無機物質。
又，在本發明之有機EL顯示裝置中，上述導電性有機層亦可包含成膜後注入之離子。
100‧‧‧顯示裝置
120‧‧‧TFT基板
121‧‧‧TFT電路層
122‧‧‧鈍化膜
123‧‧‧平坦化膜
124‧‧‧像素分離膜
125‧‧‧密封膜
130‧‧‧有機EL元件
131‧‧‧下部電極
132‧‧‧發光有機層
133‧‧‧上部電極
133a‧‧‧外周
134‧‧‧導電性有機膜
134a‧‧‧外周
135‧‧‧透明導電膜
141‧‧‧B發光層
142‧‧‧電荷產生層
143‧‧‧Y發光層
144‧‧‧R+G發光層
148‧‧‧離子
150‧‧‧對向基板
151‧‧‧彩色濾光片/黑矩陣層
181‧‧‧FPC
182‧‧‧驅動IC
205‧‧‧顯示區域
205a‧‧‧外周
210‧‧‧像素
212‧‧‧副像素
221‧‧‧填充劑
222‧‧‧密封劑
圖1係概略性顯示本發明之實施形態之有機EL顯示裝置之圖。
圖2係概略性顯示圖1之II-II線之剖面之圖。
圖3係顯示副像素之剖面及端部之剖面之詳細構成之圖。
圖4係示意性顯示配置導電性有機膜、上部電極及密封劑之區域之俯視圖。
圖5係顯示於OLED層形成R發光層、G發光層或B發光層之任一者之情形之圖。
圖6係顯示OLED層為B發光層及Y發光層之串疊配置之情形之圖。
圖7係顯示OLED層為B發光層及R+G發光層之串疊配置之情形之圖。
圖8係顯示於圖5之導電性有機膜中注入離子之情形之圖。
圖9係顯示於圖6之導電性有機膜中注入離子之情形之圖。
圖10係顯示於圖7之導電性有機膜中注入離子之情形之圖。
圖11係顯示改變導電性有機膜之厚度之情形之圖。
圖12係顯示改變導電性有機膜之厚度之其他情形之圖。
以下，參照圖式說明本發明之實施形態。另，於圖式中，對相同或同等之要件標註相同之符號，且省略重複說明。
圖1係概略性顯示本發明之實施形態之有機EL顯示裝置100。如該圖所示，有機EL顯示裝置100具有TFT(Thin Film Transistor：薄膜電晶體)基板120及對向基板150之2片基板，且於該等基板之間密封有透明樹脂之填充劑221(參照圖2)。於有機EL顯示裝置100之TFT基板120及對向基板150，形成有包含配置成矩陣狀之像素210之顯示區域205。像素210包含出射對應於R(紅)G(綠)B(藍)3色之光之3個副像素212。
又，於TFT基板120，載置有對配置於像素210之各者之像素電晶體之掃描信號線施加用以導通源極/汲極間之電位，且對各像素電晶體之資料信號線施加與像素之階調值對應之電壓之驅動電路，即驅動IC(Integrated Circuit：積體電路)182。又，於TFT基板120，安裝有用以自外部輸入圖像信號等之FPC(Flexible Printed Circuits：可撓式印刷電路)181。又，於本實施形態中，各副像素212係採用具有發出白色光之有機EL元件，且使用配置於對向基板150之與各色對應之彩色濾光片，出射具有與各色對應之波長區域之光之構成，亦可採用於各像素具有發出不同色之光之OLED之構成。又，於本實施形態中，如圖中箭頭符號所示，採用光出射至TFT基板120之形成有發光層之側之頂部發光型之有機EL顯示裝置，但亦可為底部發光型之有機EL顯示裝置。
圖2係概略性顯示圖1之II-II線之剖面之圖。如該剖面圖所示，TFT基板120係形成有：形成有TFT電路之TFT電路層121、形成於TFT電路層121上之複數個有機EL元件130、及覆蓋有機EL元件130且切斷水分之密封膜125。有機EL元件130雖形成有副像素212之個數，但圖 2中為使說明便於理解，而省略記述。又，於對向基板150，形成有具有RGB之彩色濾光片、及切斷自各副像素212之邊界出射之光之遮光膜即黑矩陣之彩色濾光片/黑矩陣層151。TFT基板120與對向基板150之間之填充劑221，係藉由密封劑222密封。
圖3係顯示有機EL顯示裝置100之副像素212之剖面、及有機EL顯示裝置100之端部之剖面之詳細構成之圖。如該圖所示，副像素212係具有形成於TFT基板120上之TFT電路層121上之鈍化膜122、形成於鈍化膜122上之包含有機材料之平坦化膜123、形成於平坦化膜123上且與TFT電路層121之電極電性連接之下部電極131、藉由以絕緣膜覆蓋下部電極131之端部而將副像素212間分離之像素分離膜124、於下部電極131及像素分離膜124上以覆蓋顯示區域205之方式形成之具有包含發光層之有機層之發光有機層132、以於發光有機層132上覆蓋顯示區域205之方式形成之包含ITO(Indium Tin Oxide：氧化銦錫)等之透明導電膜之上部電極133、以與上部電極133相接之方式形成之包含導電性之有機材料之導電性有機膜134、及包含絕緣性有機膜或絕緣性有機膜與無機膜之複數層之密封膜125。此處，構成密封膜125之複數層包括包含SiN或SiOx之無機材料之第1無機密封膜231、成膜於第1無機密封膜232之凹部之角部分之包含丙烯酸系等之樹脂之有機密封膜232、及形成於該有機密封膜232之上之包含無機材料之第2無機密封膜233。然而，密封膜125並不限定於包含複數層，亦可由單層構成。另，發光有機層132形成於顯示區域205之整面，發光有機層132亦可形成於各個與RGB之各色對應之副像素212。於該情形時，亦可不形成彩色濾光片/黑矩陣層151。又，密封膜125亦可為單層而並非複數層。
例如，於發光有機層132有複數個發光層，將發光有機層132進行所謂串疊配置之情形時，亦可將電荷產生層(CGL：Charge Generation Layer)成膜於發光層彼此間。又，導電性有機膜134亦可具有包含與上述之電荷產生層相同之材料之電荷產生層。無論發光有機層132是否為串疊配置，導電性有機膜134皆可具有電荷產生層。又，作為導電性之有機材料，可使用乙炔聚合物、聚塞吩類及聚合物複合材料。又，作為導電性之有機材料，亦可使用PEDOT：PSS[Poly(聚)(3,4-ethylenedioxythiophene(伸乙二氧基噻吩))：Poly(聚)(styrenesulfonate(苯乙烯磺酸鹽))]。再者，亦可於導電性有機材料或非導電性有機材料，藉由同時形成或共蒸鍍而附加具有導電性之無機物質，藉此設為導電性有機膜134之材料。此處作為具有導電性之無機物質，可使用非晶碳、碳納米管。又，亦可形成量子點。又，於導電性有機膜134之成膜後，進行例如質子等之離子植入，亦對提高導電性有機膜134之導電性有效。
另，在圖3所示之顯示有機EL顯示裝置100之端部之剖面之圖中，於TFT基板120之鈍化膜122上，密封膜125係形成至有機EL顯示裝置100之端部。又，上部電極133係形成至較有機EL顯示裝置100之端部更為內側(顯示區域205側)，導電性有機膜134係形成至較上部電極133之端部更為內側(顯示區域205側)。
圖4係示意性顯示配置導電性有機膜134、上部電極133及密封劑222之區域之俯視圖。另，為便於說明，在圖4中，以陰影線顯示顯示區域205之外側之各構成。又，在各構成重疊之區域中，僅以陰影線顯示配置於最上側(俯視下最表面側)之構件。如該圖所示，上部電極133成膜之區域之外周133a係俯視下顯示區域205之外周205a之外側，且較配置密封劑222之區域之內周更為內側。又，導電性有機膜134成膜之區域之外周134a係顯示區域205之外周205a之外側，且較上部電極133之端(外周133a)更為內側。藉由差異使用此種構成，即使於上部電極133上配置如導電性有機膜134般之有機材料，亦可於密封膜 125與上部電極133之間封入導電性有機膜134。因此，可避免水分進入導電性有機膜134。進而，由於在形成上部電極133後形成導電性有機膜134，因此不會於導電性有機膜134之端部跨及上部電極133，由上部電極133產生之階差不會產生於導電性有機膜134。由此，可防止產生因階差導致之龜裂。又，導電性有機膜134與構成上部電極133之ITO等之透明電極相比可提高導電性。因此，藉由使導電性有機膜134與上部電極133相接而形成，可實質性降低上部電極133之電阻。因此，藉由於上部電極133上覆蓋顯示區域205形成導電性有機膜134，而使上部電極133實質性低電阻化。因此，即使為需要大量電流之明亮畫面，亦可保持陰極之電位，來謀求畫質之提高。
圖5~圖10係示意性顯示副像素212之發光有機層132、及重疊於發光有機層132之層之構成之例之圖。另，於該等圖中，省略記述電洞輸送層(HTL：Hole Transport Layer)及電子輸送層(ETL：Electron Transport Layer)。圖5係顯示於發光有機層132形成R發光層、G發光層或B發光層之任一者之情形之圖。如該圖所示，於上部電極133上形成有導電性有機膜134。因此，可實質性提高上部電極133之導電性。
圖6係顯示發光有機層132為B發光層141及Y(黃)發光層143之串疊配置之情形。於該情形時，藉由於B發光層141及Y發光層143之間配置電荷產生層142，可使B發光層141及Y發光層143之各者同時發光。即便於此種構成之情形，亦可藉由於上部電極133上形成導電性有機膜134，實質性提高上部電極133之導電性。又，於該情形時，導電性有機膜134亦可由與電荷產生層142相同之材料形成。
圖7係顯示發光有機層132為B發光層141及R+G發光層144之串疊配置之構成。該情形時，藉由於B發光層141與R+G發光層144之間配置電荷產生層142，可使B發光層141及R+G發光層144之各者同時發 光。於此種構成之情形中，亦可藉由於上部電極133上形成導電性有機膜134，而實質性提高上部電極133之導電性。又，與圖6相同，導電性有機膜134亦可由與電荷產生層142相同之材料形成。
圖8~10係顯示分別於圖5~7之導電性有機膜134中注入離子148之情形之圖。此處，離子148可例如使用質子。藉由採用此種構成，可進而提高導電性有機膜134之導電性。且，藉此，可進而實質性降低與導電性有機膜134相接之上部電極133之電阻。
圖11係顯示改變導電性有機膜134之厚度之情形之圖。圖11之導電性有機膜134係以填埋由像素分離膜124產生之階差之方式形成為較厚。藉由形成較厚之導電性有機膜134，成為低電阻而提高導電性。因此，可進而實質性地使與導電性有機膜134相接之上部電極133低電阻化。
圖12係顯示改變導電性有機膜134之厚度之其他情形之圖。於該情形時，與圖11之情形不同，導電性有機膜134係不僅填埋由像素分離膜124產生之階差，且將其上表面平坦化。進而於導電性有機膜134上，以覆蓋顯示區域205之方式形成有包含ITO等之導電性無機材料之透明導電膜135。藉由採用此種構成，可實質性使上部電極133低電阻化，且可使透明導電膜135之上表面平坦化。此處，藉由進行平坦化，於以複數層形成密封膜125之情形時，亦可減少構成密封膜125之層數。
另，於本實施形態中，對構成密封膜125之複數層包含第1無機密封膜231、有機密封膜232、及第2無機密封膜233進行了說明，但亦可藉由採用導電性有機膜134而刪除有機密封膜232及第1無機密封膜231。理由如下：第1無機密封膜231基本上防止來自外部之水分滲入發光有機層132，但於在應形成第1無機密封膜231之表面存在有異物等之情形時，於該部分未充分地形成第1無機密封膜231，而有水分滲 入之虞。同樣地有於由像素分離膜124之角形成之凹陷部之周圍亦未充分地形成第1無機密封膜231之情形。因此，形成有機密封膜232，該有機密封膜232對例如此種異物附近或由像素分離膜124之角形成之凹陷部般之未充分形成第1無機密封膜231之部位之膜之覆蓋能力較佳。若於該有機密封膜232之上形成第2無機密封膜233，則因異物周邊或由角形成之凹陷部等之階差藉由有機密封膜232而變平滑，因此便不會有未充分形成第2無機密封膜233之部位，而成為可充分防止來自外部之水分之狀態。又，第1無機密封膜231可防止有機密封膜232本身之水分對發光有機層132造成不良影響。
於本實施形態中，存在導電性有機膜134。該導電性有機膜134對例如異物附近或由像素分離膜124之角形成之凹陷部般之未充分形成第1無機密封膜231之部位之覆蓋能力較佳。由此可刪除有機密封膜232。進而，亦無須在意來自有機密封膜232之水分，因此可刪除第1無機密封膜231。尤其於由上述材料、即乙炔聚合物、聚塞吩類、聚合物複合材料、PEDOT：PSS、及導電性電荷產生層(CGL：Charge Generation Layer)等中之任一者形成導電性有機膜134之情形時，幾乎不會產生來自導電性有機膜134之水分，因此發光有機層132之壽命或特性、及可靠性均提高。
尤其於如圖11或12般藉由導電性有機膜134謀求平坦化之情形時，不會產生因異物或由像素分離膜124之角形成之凹陷部所導致之密封膜125之形成不足，對水分之阻隔性提高，因此成為即便去除第1無機密封膜231或有機密封膜232亦不會產生任何問題之狀態。
另，於藉由導電性有機膜134之平坦化作用或異物附近之覆蓋能力，無法彌補因異物或由像素分離膜124之角形成之凹陷部所導致之密封膜125之形成不足之情形時，亦可設有第1無機密封膜231或有機密封膜232。雖藉由導電性有機膜134之平坦化作用或異物附近之覆蓋 能力，無法彌補因異物或由像素分離膜124之角形成之凹陷部所導致之密封膜125之形成不足，但只要為可忽視因來自有機密封膜232之水分產生之不良影響之程度，則密封膜125亦可包含第2無機密封膜233及有機密封膜232。
上述實施形態並不限定於設置有密封膜之構造，亦可應用於未使用密封膜之構成中。進而，亦可使導電性有機膜134具有吸收乃至反射特定波長之光之功能。藉由使其具有對能量射線(例如紫外線或紅外線、電子束等)進行遮蔽之作用，而可降低製造時及使用時之外界光成分中對發光有機層132造成不良影響之能量射線之影響，使元件長壽命化及穩定化。又，藉由使自發光有機層132產生之光於在上部電極133、導電性有機膜134行進之過程中該光之折射率平滑地變化，而可改善光提取效率，實現更高效率之元件。
雖已描述本發明之特定實施例，但應了解，在本發明之實質精神及範疇內，可進行各種修改，且隨附申請專利範圍意欲涵蓋所有此等修改。
120‧‧‧TFT基板
121‧‧‧TFT電路層
122‧‧‧鈍化膜
123‧‧‧平坦化膜
124‧‧‧像素分離膜
125‧‧‧密封膜
130‧‧‧有機EL元件
131‧‧‧下部電極
132‧‧‧發光有機層
133‧‧‧上部電極
134‧‧‧導電性有機膜
150‧‧‧對向基板
151‧‧‧彩色濾光片/黑矩陣層
212‧‧‧副像素
221‧‧‧填充劑
222‧‧‧密封劑

Claims (25)

  1. 一種有機EL顯示裝置，其特徵在於包含：下部電極，其形成於於顯示區域內配置成矩陣狀之副像素之各者，且包含導電性無機材料；發光有機層，其與上述下部電極相接，且包含具有發光之發光層之複數個不同之有機材料之層；上部電極，其與上述發光有機層相接，係以覆蓋上述顯示區域之整體之方式形成，且包含導電性無機材料；及導電性有機層，其與上述上部電極相接，係以覆蓋上述顯示區域之整體之方式形成，且包含導電性有機材料；且上述導電性有機層係於俯視下形成於上述上部電極之內側。
  2. 如請求項1之有機EL顯示裝置，其中進而包含密封膜，其係於上述導電性有機層上，於俯視下，覆蓋至上述導電性有機層及上述上部電極之外側，且包含無機材料。
  3. 如請求項1之有機EL顯示裝置，其中上述導電性有機層係使上述上部電極之凹凸平坦化。
  4. 如請求項1之有機EL顯示裝置，其中進而包含導電性無機膜，其與上述導電性有機層之與形成上述上部電極之面為相反側之面相接，且係覆蓋上述顯示區域之整體而形成，且包含導電性無機材料。
  5. 如請求項1之有機EL顯示裝置，其中上述導電性有機層係由電荷產生層形成。
  6. 如請求項1之有機EL顯示裝置，其中上述發光有機層係將複數個上述發光層串疊配置之構成；且於上述複數個發光層之間，配置有電荷產生層。
  7. 如請求項1之有機EL顯示裝置，其中上述導電性有機層之材料中，附加有提高導電性之無機物質。
  8. 如請求項1之有機EL顯示裝置，其中上述導電性有機層係包含成膜後注入之離子。
  9. 一種有機EL顯示裝置，其特徵在於包含：基板；複數個像素，其形成於上述基板且構成顯示區域者，各像素包含有包括下部電極、形成於上述下部電極上之發光有機層、及形成於上述發光有機層上之上部電極的有機發光元件，且上述下部電極係與上述發光有機層相接，上述發光有機層係與上述上部電極相接，上述上部電極係與上述複數個像素共通；導電性第1有機層，其形成於上述上部電極上，且覆蓋上述複數個像素；及密封膜，其係形成於上述第1有機層上，覆蓋上述複數個像素者，該密封膜包含第1氮化矽(silicon nitride)層、形成於上述第1氮化矽層上之第2有機層、及形成於上述第1氮化矽層與上述第2有機層上之第2氮化矽層；且上述第1有機層係與上述顯示區域重疊且於俯視時包圍上述顯示區域之外周即第1外周；上述上部電極係於俯視時包圍上述第1有機層之外周即第2外周；上述密封膜係於俯視時包圍上述上部電極之外周即第3外周。
  10. 如請求項9之有機EL顯示裝置，其中上述第1有機層係與上述上部電極相接。
  11. 如請求項9之有機EL顯示裝置，其中絕緣層係覆蓋上述下部電極之外緣部； 上述絕緣層係形成於上述下部電極之上述外緣部與上述發光有機層之間；上述第1有機層係包括位於上述有機發光元件之正上方的第1部分、及位於上述絕緣層之正上方的第2部分；上述第1部分之厚度即第1厚度較上述第2部分之厚度即第2厚度厚。
  12. 如請求項9之有機EL顯示裝置，其進而包含形成於上述第1有機層與上述密封膜之間的透明無機層。
  13. 如請求項12之有機EL顯示裝置，其中上述密封膜之厚度即第3厚度較上述上部電極之厚度即第4厚度厚；上述密封膜之厚度即上述第3厚度較上述透明無機層之厚度即第5厚度厚；上述第1有機層之厚度即上述第1厚度較上述上部電極之厚度即第4厚度厚；上述第1有機層之厚度即上述第1厚度較上述透明無機層之厚度即第5厚度厚。
  14. 如請求項9之有機EL顯示裝置，其中上述有機EL顯示裝置進而包含配置於上述密封膜之上側的對向基板；上述有機EL顯示裝置係包含第1區域與第2區域；上述第1區域係上述顯示區域之正上方之區域；上述第2區域係上述上部電極之外周即上述第3外周之外側之區域；上述第1區域係於上述密封膜與上述對向基板之間具有第1距離； 上述第2區域係於上述密封膜與上述對向基板之間具有第2距離；上述第1距離較上述第2距離小。
  15. 如請求項14之有機EL顯示裝置，其進而包含配置於上述對向基板與上述密封膜之間的填充劑。
  16. 如請求項9之有機EL顯示裝置，其中上述第2有機層被分成複數個區域；上述第1有機層係連續地覆蓋上述複數個區域。
  17. 一種有機EL顯示裝置，其特徵在於包含：基板；複數個像素，其係形成於上述基板且構成顯示區域者，各個包含共通地設置於有機發光元件與上述複數個像素之上部電極；導電性第1有機層，其形成於上述上部電極上，且覆蓋上述複數個像素；及密封膜，其係形成於上述第1有機層上，覆蓋上述複數個像素者，該密封膜包含第1氮化矽(silicon nitride)層、形成於上述第1氮化矽層上之第2有機層、及形成於上述第1氮化矽層與上述第2有機層上之第2氮化矽層；且於俯視時，上述第1有機層之外緣即第3外緣與上述基板之外緣即第1外緣之距離即第1距離較上述顯示區域之外緣即第2外緣與上述基板之上述第1外緣之間之距離即第2距離小；於俯視時，上述上部電極之外緣即第4外緣與上述基板之上述第1外緣之間之距離即第3距離較上述第1距離小；於俯視時，上述密封膜之外緣即第5外緣與上述基板之上述第1外緣之間之距離即第4距離較上述第3距離小。
  18. 如請求項17之有機EL顯示裝置，其中上述第1有機層係與上述上部電極相接。
  19. 如請求項17之有機EL顯示裝置，其中絕緣層係覆蓋上述下部電極之外緣部；上述絕緣層係形成於上述下部電極之上述外緣部與上述發光有機層之間；上述第1有機層係包括位於上述有機發光元件之正上方的第1部分、及位於上述絕緣層之正上方的第2部分；上述第1部分之厚度即第1厚度較上述第2部分之厚度即第2厚度厚。
  20. 如請求項19之有機EL顯示裝置，其進而包含形成於上述第1有機層與上述密封膜之間的透明無機層。
  21. 如請求項20之有機EL顯示裝置，其中上述密封膜之厚度即第3厚度較上述上部電極之厚度即第4厚度厚；上述密封膜之厚度即上述第3厚度較上述透明無機層之厚度即第5厚度厚；上述第1有機層之厚度即上述第1厚度較上述上部電極之厚度即第4厚度厚；上述第1有機層之厚度即上述第1厚度較上述透明無機層之厚度即第5厚度厚。
  22. 如請求項17之有機EL顯示裝置，其中上述有機EL顯示裝置進而包含配置於上述密封膜之上側的對向基板；於上述顯示區域，於上述對向基板與上述密封膜之間設有第5距離； 於較上述上部電極外側之區域，於上述對向基板與上述密封膜之間設有第6距離；上述第5距離較上述第6距離小。
  23. 如請求項22之有機EL顯示裝置，其進而包含配置於上述對向基板與上述密封膜之間的填充劑。
  24. 如請求項17之有機EL顯示裝置，其中上述第2有機層被分成複數個區域；上述第1有機層係連續地覆蓋上述複數個區域。
  25. 如請求項17之有機EL顯示裝置，其中於俯視時，上述密封膜之上述第5外緣之位置係與上述基板之上述第1外緣之位置一致。
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