TWI569032B - Anti-glare polarizing plate and image display device - Google Patents

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TWI569032B
TWI569032B TW102144288A TW102144288A TWI569032B TW I569032 B TWI569032 B TW I569032B TW 102144288 A TW102144288 A TW 102144288A TW 102144288 A TW102144288 A TW 102144288A TW I569032 B TWI569032 B TW I569032B
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Hitoshi Fukui
Tsutomu Furuya
Yasuhiro Haba
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Sumitomo Chemical Co
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Description

防眩性偏光板及畫像顯示裝置
本發明是有關防眩性偏光板及使用該防眩性偏光板的畫像顯示裝置。
液晶顯示器和電漿顯示器、布勞恩管(陰極射線管：CRT)顯示器、有機電激發光(EL)顯示器等的畫像顯示裝置，一旦外光映照到其顯示面的話，目視辨認性明顯受損。為了防止像這樣的外光映照，對於重視畫質的電視和電腦、在外光強烈的屋外所使用的攝影機和數位照相機、利用反射光進行顯示的行動電話等，自以往，為了防止外光映照到畫像顯示裝置的表面，都是使用防眩性偏光板。
希望防眩性偏光板，具有：防眩性、配置在畫像顯示裝置的表面時發現良好的對比度、抑制配置在畫像顯示裝置的表面時，顯示面全體因散射光而褪色，顯示成為不鮮明的顏色而產生所謂的「發白」、以及抑制配置在畫像顯示裝置的表面時，畫像顯示裝置的畫素與防眩性偏光板的表面凹凸形狀產生干擾，結果發生亮度分佈難以 看見而產生所謂的「閃眩」。
專利文獻1(日本特開第2010-224427號公 報)揭示一種形成具有微細凹凸表面的防眩層而成的防眩性偏光板，藉由控制微細凹凸表面的標高的功率頻譜，而得到防眩性能優異的防眩性偏光板。具體上是揭示一種藉由防眩性偏光板的微細凹凸表面的標高的空間頻率0.01μm-1的功率頻譜H1 2、和空間頻率0.04μm-1的功率頻譜H2 2之比H1 2/H2 2為3~15的範圍內，可得到具有充分的防眩性和抑制閃眩等優異之性能的防眩性偏光板。
專利文獻1所揭示的防眩性偏光板，其微細 凹凸表面的標高的功率頻譜之比H1 2/H2 2為3~15的範圍內，能夠減少具有50μm以上之周期的表面凹凸形狀的翹曲，且有效抑制閃眩。但是，防眩性偏光板的光學特性之一的霧度，為了發現良好的對比度和抑制產生發白，最好盡量縮小，但在防眩性偏光板低霧度化之際，減少到具有有助於發現防眩性的100μm附近的周期的表面凹凸形狀的翹曲，會有防眩性不足的可能性。
像這樣，有關於防眩性、發現良好的對比 度、抑制產生發白、以及抑制產生閃眩，雖可藉由專利文獻1所記載的方法達成，但為了盡量提高對比度和抑制產生發白，在降低霧度的情形下，防眩性會下降。而且，對配置在增進高精細化的畫像顯示裝置之際，亦有發生閃眩的可能性。
再者，為了解決該防眩性不足的問題，認為 可在防眩層之上形成反射防止層(例如舉例有：透明支撐體/防眩層/低折射率層和透明支撐體/防眩層/高折射率層/低折射率層等等的構成)，藉由減低反射率來彌補防眩性不足的方法。但是，在防眩層之上形成反射防止層的情形下，必須形成具有均勻膜厚的反射防止層，因此成本提高。而且，在反射防止層膜厚均勻性不足的情形下，會有產生不均等等之品質不佳的問題。
另一方面，為了解決消除閃眩的問題，認為可對防眩層賦予內部霧度的方法。但是，賦予防眩層的內部霧度，對比度明顯下降。
〔先行技術文獻〕 〔專利文獻〕
[專利文獻1]日本特開第2010-224427號公報
本發明，其目的為提供一種低霧度仍可達成充分的防眩性和抑制閃眩的防眩性偏光板。
為了解決上述課題經過刻意檢討的結果，本發明人等，發現防眩層的表面凹凸形狀只要是一方面具有100μm附近之周期的翹曲、一方面減少50μm附近之周期 的翹曲的話，在低霧化之際即會發現充分的防眩性、還會抑制閃眩。另外，液晶畫像顯示裝置的濾色器等的圖案和微細凹凸表面間的距離縮小，亦即防眩性偏光板的厚度變薄(具體上就是防眩性偏光板的厚度為100μm以下)，發現當配置在高精細的畫像顯示裝置之際並不會產生閃眩。本發明人等，根據相關的見解達成本發明。
亦即，本發明為一種防眩性偏光板，有關包 含：由聚乙烯醇系樹脂製成的偏光薄膜、和形成在該偏光薄膜上的防眩層，全霧度為1%以下，且厚度為100μm以下的防眩性偏光板，其特徵為：前述防眩層具備：在與前述偏光薄膜的相反側具有微細凹凸的微細凹凸表面，有關前述微細凹凸表面的標高的一維功率頻譜H2(f)的常用對數的空間頻率f的二階導數d2logH2(f)/df2，於空間頻率0.01μm-1為不滿0，於空間頻率0.02μm-1為大於0。
前述微細凹凸表面中，傾斜角度5°以上的微小面的比例不滿1%為佳。
前述微細凹凸表面的最大斷面高度Rt為0.3μm以上、1μm以下為佳。
另外，本發明，亦有關於一種畫像顯示裝置，其特徵為：上述的防眩性偏光板，是配置成前述微細凹凸表面的相反側與液晶胞相對向。
藉由本發明，就能提供一種低霧度仍可達成 充分的防眩性和抑制閃眩的防眩性偏光板。
另外，液晶畫像顯示裝置的濾色器等的圖案和微細凹凸表面間的距離縮小，亦即防眩性偏光板的厚度變薄，就更能抑制閃眩。
另外，本發明中，不必另外在防眩層之上形成反射防止層等，因此不會提高成本，還能抑制反射防止層等之膜厚均勻性不足的情形下所產生的不均等等的品質不佳。
1‧‧‧防眩性偏光板
101‧‧‧偏光薄膜
102‧‧‧防眩層
103‧‧‧假想性的平面
2‧‧‧微細的凹凸
3‧‧‧投影面
5‧‧‧主法線方向
6‧‧‧局部性的法線
6a~6d‧‧‧多面體面的法線向量
7‧‧‧模具用基材
8‧‧‧利用研磨工程所研磨的模具用基材的表面
9‧‧‧感光性樹脂膜
10‧‧‧已曝光的區域
11‧‧‧未曝光的區域
12‧‧‧遮罩
13‧‧‧無遮罩的區域
15‧‧‧第1表面凹凸形狀(第1蝕刻工程後的模具用基材表面的凹凸形狀)
16‧‧‧第2表面凹凸形狀(第2蝕刻工程後的模具用基材表面的凹凸形狀)
17‧‧‧鍍鉻層
18‧‧‧鍍鉻層的表面
第1圖是模式表示本發明之防眩性偏光板之一例的剖面圖。
第2圖是模式表示本發明之防眩性偏光板之一例的立體圖。
第3圖是表示標示標高之函數h(x、y)為離散性所得到的狀態之模式圖。
第4圖是以二維的離散函數h(x、y)來表示本發明之防眩性偏光板的微細凹凸表面的標高之圖。
第5圖是說明以自頻率空間的原點起的距離f將二維功率頻譜H2(fx、fy)平均化的方法的模式圖。
第6圖是表示將第4圖所示的防眩性偏光板的微細凹凸表面的標高進行離散傅立葉變換所得到的一維功率頻譜的常用對數logH2(f)的圖。
第7圖是說明微細凹凸表面的傾斜角度的測量方法的模式圖。
第8圖是表示防眩性偏光板的微細凹凸表面的微小面的傾斜角度分佈的條帶圖之一例的圖表。
第9圖是模式表示微細凹凸形成用模具的製造方法的前半部分之最佳一例的圖。
第10圖是模式表示微細凹凸形成用模具的製造方法的後半部分之最佳一例的圖。
第11圖是表示實施例1、2及比較例1、2的模具製作之際所使用的圖案的圖。
第12圖是表示將第11圖所示的圖案進行離散傅立葉變換所得到的功率頻譜G2(f)的圖。
第13圖是表示自實施例1及2的防眩性偏光板的標高所計算的一維功率頻譜的常用對數logH2(f)的圖。
第14圖是表示自比較例1及2的防眩性偏光板的標高所計算的一維功率頻譜的常用對數logH2(f)的圖。
第15圖是表示比較例3的模具製作之際所使用的圖案的圖。
第16圖是表示自比較例3的防眩性偏光板的標高所計算的一維功率頻譜的常用對數logH2(f)的圖。
本發明的防眩性偏光板，包含：由聚乙烯醇系樹脂製成的偏光薄膜、和形成在該偏光薄膜上的防眩 層，全霧度為1%以下。在此，防眩性偏光板的全霧度，如下測量。在偏光薄膜上形成防眩層之後，以未形成偏光薄膜的防眩層之側成為接合面的方式，利用透明黏著劑來貼合防眩性偏光板和玻璃基板，從玻璃基板側射入光，並以JIS K 7136為標準來測量霧度。按此所測量的霧度，是相當於防眩性偏光板的全霧度。
本發明之防眩層，為其特徵具備：在與偏光 薄膜的相反側具有微細凹凸的微細凹凸表面，有關後述的微細凹凸表面的標高的一維功率頻譜H2(f)的常用對數的空間頻率f的二階導數d2logH2(f)/df2，於空間頻率0.01μm-1為不滿0，於空間頻率0.02μm-1為大於0。本發明的防眩性偏光板，具有像這樣的防眩層，並具有優異的防眩性和高閃眩抑制性能。
再者，配置在最近促進高精細化的畫像顯示 裝置之際，確認具有稍微閃眩的可能性，因此本發明人等經由刻意檢討的結果，得知只要防眩性偏光板的厚度為100μm以下，配置在高精細的畫像顯示裝置之際，也能充分抑制閃眩。
具體上，認為閃眩是因防眩性偏光板的表面凹凸形狀和畫像顯示裝置的畫素等的圖案之干擾所產生。防眩性偏光板的厚度為100μm以下，該圖案和表面凹凸形狀之間的距離會變短。本發明人等，發現該距離縮的愈短愈能抑制閃眩。
在此，本發明的防眩性偏光板，至少具有： 由聚乙烯醇系樹脂製成的偏光薄膜和具備具有微細凹凸的微細凹凸表面的防眩層。而且，一般偏光板，雖具有：為了黏貼在畫像顯示裝置的黏著劑層、光學補償層、光學補償薄膜、保護薄膜等，但本發明的防眩性偏光板的「厚度」，為該些所有的層和薄膜的總厚度。
本發明的防眩性偏光板，是所有的層和薄膜 的總厚度為100μm以下。本發明人等的檢討結果，從總厚愈薄愈能有效抑制閃眩來看，防眩性偏光板的總厚90μm以下極佳，80μm以下更佳。本發明的防眩性偏光板的總厚的下限並未特別限定，但總厚變薄的話，具有作為偏光板的機械式強度下降的傾向，因此由確保機械強度的觀點來看，50μm以上為佳。
<偏光薄膜>
針對應用於本發明的防眩性偏光板的偏光薄膜做說明。於本發明中，是使用在單軸拉伸的聚乙烯醇系樹脂薄膜吸附取向著二色性色素的偏光薄膜。構成偏光薄膜的聚乙烯醇系樹脂，可藉由使聚醋酸乙烯系樹脂鹼化取得。作為聚醋酸乙烯系樹脂，除了醋酸乙烯的均聚物的聚乙酸乙烯酯外，舉例有：醋酸乙烯及能與此共聚的其他單體的共聚物等。與醋酸乙烯共聚的其他單體，例如舉例有：不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯基酸類、不飽和磺酸類等。聚乙烯醇系樹脂的鹼化度，通常為85~100莫耳%，理想為98~100莫耳%的範圍。該聚乙烯醇系樹脂，甚至可使用改 質，或例如使用以醛類改質的聚乙烯甲醛和聚乙烯縮醛等。聚乙烯醇系樹脂聚合度，通常為1000~10000，理想為1500~10000的範圍。
應用於本發明的偏光薄膜，是經由：單軸拉 伸此種聚乙烯醇系樹脂薄膜的工程；以二色性色素將聚乙烯醇系樹脂薄膜進行染色，吸附該二色性色素的工程；利用硼酸水溶液來處理已吸附二色性色素的聚乙烯醇系樹脂薄膜的工程；利用硼酸水溶液處理過後進行沖洗的工程所製造。
單軸拉伸，可在二色性色素的染色前進行， 也可與二色性色素的染色同時進行，或者也可在二色性色素的染色後進行。在二色性色素的染色後進行單軸拉伸的情形下，該單軸拉伸，可在硼酸處理前進行，或者也可在硼酸處理中進行。而且無論在該些複數個階段都可進行單軸拉伸。單軸拉伸，可在周速不同的輥間朝單軸進行拉伸，或者利用加熱輥朝單軸進行拉伸。另外，可為在大氣中進行拉伸的乾式拉伸，或者亦可為在藉由溶劑使其在膨脹濕潤的狀態下進行拉伸的濕式拉伸。拉伸倍率，通常為4~8倍左右。
以二色性色素將聚乙烯醇系樹脂薄膜進行染 色，例如：只要是將聚乙烯醇系樹脂薄膜浸漬在含有二色性色素的水溶液即可。二色性色素，具體上可使用碘或二色性染料。
作為二色性色素使用碘的情形下，通常是採 用將聚乙烯醇系樹脂薄膜浸漬在含有碘及碘化鉀的水溶液進行染色的方法。該水溶液的碘的含有量通常是水每100重量份0.01~0.5重量份左右，碘化鉀的含有量通常是水每100重量份0.5~10重量份左右。該水溶液的溫度，通常是20~40℃左右，另外，對該水溶液的浸漬時間，通常是30~300秒左右。
另一方面，作為二色性色素使用二色性染料 的情形下，通常是採用將聚乙烯醇系樹脂薄膜浸漬在含有水溶性二色性染料的水溶液進行染色的方法。該水溶液的二色性染料的含有量，通常是水每100重量份0.001~0.01重量份左右。該水溶液，也可含有硫酸鈉等的無機鹽。該水溶液的溫度，通常是20~80℃左右，另外，對該水溶液的浸漬時間，通常是30~300秒左右。
二色性色素之染色後的硼酸處理，是藉由將 已染色的聚乙烯醇系樹脂薄膜浸漬在硼酸水溶液進行。硼酸水溶液的硼酸的含有量，通常是水每100重量份2~15重量份左右，理想為5~12重量份左右。作為二色性色素使用碘的情形下，該硼酸水溶液是含有碘化鉀的為佳。硼酸水溶液的碘化鉀含有量，通常是水每100重量份2~20重量份左右，理想為5~15重量份左右。對硼酸水溶液的浸漬時間，通常是100~1200秒左右，理想為150~600秒左右，更理想為200~400秒左右。硼酸水溶液的溫度，通常是50℃以上，理想為50~85℃。
硼酸處理後的聚乙烯醇系樹脂薄膜，通常會 經沖洗處理。沖洗處理，例如：藉由將已硼酸處理的聚乙烯醇系樹脂薄膜浸漬在水中進行。沖洗後施行乾燥處理，得到偏光薄膜。沖洗處理的水的溫度，通常是5~40℃左右，浸漬時間，通常是2~120秒左右。其後施行的乾燥處理，通常是使用熱風乾燥機和遠紅外線加熱器進行。乾燥溫度，通常是40~100℃。乾燥處理的處理時間，通常是120~600秒左右。
如此一來，可得到由已吸附取向碘或二色性 染料的聚乙烯醇系樹脂薄膜製成的偏光薄膜。該偏光薄膜的厚度是5μm~30μm的範圍內為佳。偏光薄膜的厚度低於5μm的情形下，具有未發現充分的光學特性之可能，且亦有機械強度不足之可能性，因此很不理想。另一方面，偏光薄膜的厚度高於30μm的情形下，防眩性偏光板的總厚度超高100μm的可能性提高，結果具有產生閃眩的可能性，因此很不理想。
<防眩層> (微細凹凸表面的標高的功率頻譜)
首先，針對防眩層的微細凹凸表面的標高的功率頻譜做說明。第1圖是模式表示本發明的防眩性偏光板的表面的剖面圖。如第1圖所示，本發明的防眩性偏光板1，具有：偏光薄膜101和形成在其上的防眩層102，防眩層102，具備：在與偏光薄膜101的相反側具有微細的凹凸2的微細凹凸表面。
在此，本發明所謂的「微細凹凸表面的標 高」，是指防眩性偏光板1表面的任意之點P、和在微細凹凸表面的平均高度具有該高度的假設性的平面103(標高為基準0μm)的防眩性偏光板的主法線方向5(上述假設性的平面103的法線方向)的直線距離之意。
實際上防眩性偏光板，如第2圖模式所示， 在二維平面上具有形成微細凹凸的防眩層。因而，微細凹凸表面的標高如第2圖所示，薄膜面內的直交座標以(x、y)表示之際，微細凹凸表面的標高可表示為座標(x、y)的二維函數h(x、y)。
微細凹凸表面的標高，可由經由共聚焦顯微 鏡、干擾顯微鏡、原子力顯微鏡(AFM)等的裝置所測量的表面形狀的三維資訊所求得。測量機所要求的水平分辨率，至少5μm以下，理想為2μm以下，另外垂直分辨率，至少0.1μm以下，理想為0.01μm以下。對該測量作為最佳的非接觸三維表面形狀、粗度測量機，舉例有：New View 5000系列(Zygo Corporation社製，可在日本Zygo(股)購入)、三維顯微鏡PLμ2300(Sensofar社製)等等。測量面積，是標高的功率頻譜的分辨率必須為0.005μm-1以下，因此至少要200μm×200μm以上為佳，更佳為500μm×500μm以上。
其次，針對自二維函數h(x、y)求得標高的 功率頻譜的方法做說明。首先，藉由自二維函數h(x、y)，以式(1)所定義的二維傅立葉變換，求得二維函數 H(fx、fy)。
在此，fx及fy分別為x方向及y方向的頻 率，具有長度的倒數的次元。另外，式(1)中的π為圓周率、i為虛數單位。可將所得到的二維函數H(fx、fy)加以平方，藉此求得二維功率頻譜H2(fx、fy)。該二維功率頻譜H2(fx、fy)是表示防眩層的微細凹凸表面的空間頻率分佈。
以下，更具體說明求得防眩層的微細凹凸表 面的標高的二維功率頻譜的方法。藉由上述的共聚焦顯微鏡、干擾顯微鏡、原子力顯微鏡等實際測量的表面形狀的三維資訊，一般是離散性的值，亦即對應多數的測定點的標高而得的。第3圖是表示標示標高的函數h(x、y)為離散性所得到之狀態的模式圖。如第3圖所示，以(x、y)表示防眩層的面內的直交座標，在投影面3上於x軸方向每分割△x的線及於y軸方向每分割△y的線以虛線表示的話，在實際的測量中，微細凹凸表面的標高作為投影面3上的各虛線的每個交點的離散性的標高值而得的。
所得到的標高值的數量是因測量範圍和△x及 △y而定，如第3圖所示，x軸方向的測量範圍為X=(M-1)△x、且y軸方向的測量範圍為Y=(N-1)△y的話，所得到的標高值的數量為M×N個。
如第3圖所示，投影面3上的注視點A的座 標為(j△x、k△y)(在此j為0以上、M-1以下，k為0以上、N-1以下)的話，對應於注視點A的薄膜面上的點P的標高，可標示為h(j△x、k△y)。
在此，測量間隔△x及△y是依存於測量機器 的水平分辨率，精度良好用來評估微細凹凸表面，如上所述，△x及△y均是5μm以下為佳，2μm以下更佳。而且，測量範圍X及Y是如上所述，均是200μm以上為佳，且均是500μm以上更佳。
像這樣在實際的測量中，表示微細凹凸表面 的標高的函數，是具有M×N個之值的離散函數h(x、y)而得的。因測定而得的離散函數h(x、y)和因以式(2)定義的離散傅立葉變換而求得離散函數H(fx、fy)，將離散函數H(fx、fy)加以平方藉此求得二維功率頻譜的離散函數H2(fx、fy)。式(2)中的1是-M/2以上、M/2以下的整數，m是-N/2以上、N/2以下的整數。 另外，△fx及△fy分別為x方向及y方向的頻率間隔，以式(3)及式(4)定義。
在此，如第4圖所示，防眩層的微細凹凸表 面是隨意形成凹凸，因此頻率空間(空間頻率區域)的二維功率頻譜H2(fx、fy)是以原點(fx=0、fy=0)為中心呈對稱。因而，二維函數H2(fx、fy)，可變換成以自頻率空間的原點起的距離f(單位：μm-1)為變數的一維函數H2(f)。應用於本發明的防眩性偏光板的防眩層，是以該一維函數H2(f)表示的一維功率頻譜具有一定的特徵。
具體上，首先，如第5圖所示，於頻率空間 中，計算自原點O(fx=0，fy=0)起位於(n-1/2)△f以 上、不滿(n+1/2)△f之距離的所有點(第5圖中的黑圓點)的個數Nn。第5圖所示的例示為Nn=16個。其次，計算自原點O起位於(n-1/2)△f以上、不滿(n+1/2)△f的距離的所有點的H2(fx、fy)的合計值H2n(第5圖中的黑圓點的H2(fx、fy)的合計值)，如式(5)所示，將合計值H2n除以點的個數Nn成為H2(f)之值。
在此，M≧N的情形下，n為0以上、N/2以 下的整數，M<N的情形下，n為0以上、M/2以下的整數。再者，M及N，是如第3圖所示，分別為x軸方向的測量點的數量及y軸方向的測量點的數量之意。另外，△f為(△fx+△fy)/2。
一般藉由前述之方法求得的一維功率頻譜， 包含了測量之際的雜音。在此，求得一維功率頻譜之際，為了消除該雜音的影響，測量防眩層上的複數處之微細凹凸表面的標高，由各個微細凹凸表面的標高求得的一維功率頻譜的平均值作為一維功率頻譜H2(f)使用為佳。測量防眩層上的微細凹凸表面的標高之處的數量，三處以上為佳，更佳是五處以上。
於第6圖表示，像這樣所得到的微細凹凸表 面的標高的一維功率頻譜的常用對數logH2(f)。第6圖的一維功率頻譜的常用對數logH2(f)是將由防眩層上之五處不同之處的微細凹凸表面的標高所求得的一維功率頻譜加以平均。
有關微細凹凸表面的標高的一維功率頻譜的 對數logH2(f)的空間頻率f的二階導數d2logH2(f)/df2，可由一維功率頻譜的常用對數logH2(f)計算。具體上，可藉由式(6)的差分法來計算二階導數。
有關第6圖所示的標高的一維功率頻譜的常 用對數logH2(f)的空間頻率f的二階導數d2logH2(f)/df2，於空間頻率0.01μm-1為-11878，於空間頻率0.02μm-1為8081。因而，由第6圖即可明白，當以標高的一維功率頻譜的常用對數logH2(f)為相對於空間頻率的強度而表現時的圖表，是於空間頻率0.01μm-1具有向上凸的形狀，於空間頻率0.02μm-1具有向下凸的形狀。
本發明的防眩性偏光板的防眩層，其特徵 為：有關由微細凹凸表面的標高計算的一維功率頻譜的常用對數logH2(f)的空間頻率f的二階導數d2logH2(f)/df2， 於空間頻率0.01μm-1為不滿0，於空間頻率0.02μm-1為大於0。此結果，由微細凹凸表面的標高計算的一維功率頻譜的常用對數logH2(f)為空間頻率f的函數表示時的圖表，於空間頻率0.01μm-1具有向上凸的形狀，於空間頻率0.02μm-1具有向下凸的形狀，防眩層的表面凹凸形狀，於低霧度化之際，一方面有效具有幫助防眩效果的100μm左右(在空間頻率相當於0.01μm-1)的周期的翹曲、一方面有效減少50μm附近(在空間頻率相當於0.02μm-1)的周期的翹曲。
(微細凹凸表面的傾斜角度)
另外，本發明人等發現，在防眩性偏光板的防眩層中，只要構成微細凹凸表面的各微小面是呈現特定的傾斜角度分佈，在呈現優異的防眩性能、有效防止發白上更為有效。亦即，防眩層的微細凹凸表面中，傾斜角度5°以上的微小面的比例不滿1%為佳。微細凹凸表面中，傾斜角度5°以上的微小面的比例高於1%的話，凹凸表面的傾斜角度陡峭的微小面增多，來自周圍的光形成聚光，顯示面易發生整體變白的發白現象。為了抑制這樣的聚光效果、防止發白，微細凹凸表面中，傾斜角度5°以上的微小面的比例愈小愈好，不滿0.5%為佳，不滿0.1%更佳。
在此，本發明所謂的「微細凹凸表面的微小 面的傾斜角度」是指，在第2圖所示的防眩性偏光板1的防眩層表面的任意點P中，考慮包含如後述的點P的微小 面的凹凸的局部性的法線6和防眩性偏光板的主法線方向5所成的角度θ之意。微細凹凸表面的傾斜角度也與標高同樣的，可由經由共聚焦顯微鏡、干擾顯微鏡、原子力顯微鏡(AFM)等的裝置所測量的表面形狀的三維資訊求得。
第7圖是為了說明微細凹凸表面的微小面的 傾斜角度的測量方法的模式圖。若說明具體的傾斜角度的決定方法，如第7圖所示，決定以虛線所示的假設平面FGHI上的注視點A，在通過注視點A的x軸上的注視點A的附近，對點A略對稱的取得點B及D，並且在通過點A的y軸上的注視點A的附近，對點A略對稱的取得點C及E，來決定對應該於些的點B、C、D、E的防眩層表面上的點Q、R、S、T。再者，在第7圖中，以(x、y)表示防眩層的面內的直交座標，以z表示防眩層厚度方向的座標。平面FGHI，是經由平行於通過y軸上的點C的x軸的直線、及平行於通過同一y軸上的點E的x軸的直線、和平行於通過x軸上的點B的y軸的直線、及平行於通過同一x軸上的點D的y軸的直線的各個交點F、G、H、I所形成的面。另外在第7圖中，對平面FGHI而言，描繪成實際的防眩層表面的位置來到上方，但經由取得注視點A的位置，當然實際的防眩層表面的位置也會來到平面FGHI的上方或下方。
而且，所得到的表面形狀資料的傾斜角度， 是藉由對應於注視點A的實際的防眩層表面上的點P和 在其附近對應於所取得的四點B、C、D、E的實際的防眩層表面上的點Q、R、S、T之合計五點所求得展開的多邊四平面，亦即，將四個三角形PQR、PRS、PST、PTQ的各法線向量6a、6b、6c、6d加以平均而得的局部性的法線(向量)6的極角(於第2圖中，與主法線方向5所成的角度θ)，藉此就能得到。針對各測量點(微小面)求得傾斜角度之後，計算出條帶圖。
第8圖是表示防眩層的微細凹凸表面的微小 面的傾斜角度分佈的條帶圖之一例的圖表。於第8圖所示的圖表中，橫軸是傾斜角度，以0.5°刻度來分割。例如：最左的縱條棒，是表示傾斜角度在0~0.5°之範圍的集合的分佈，以下，角度隨著往右邊增大0.5°。在圖中，橫軸的每兩個刻度表示值的上限值，例如：在橫軸為「1」的部分，表示傾斜角度在0.5~1°之範圍的微小面的集合的分佈。另外，縱軸表示對其集合的整體的比例，若合計即為1的值。在此例中，傾斜角度5°以上的微小面的比例大致為0。
(微細凹凸表面的表面粗度參數)
防眩層的微細表面凹凸形狀是以JIS B 0601的規定為基準的算術平均粗度Ra為0.04μm以上、0.1μm以下為佳。另外，以JIS B 0601的規定為基準的最大斷面高度Rt為0.3μm以上、0.6μm以下為佳。另外，以JIS B 0601的規定為基準的平均長度RSm為50μm以上、130μm以下 為佳。
算術平均粗度Ra低於0.04μm的情形下，轉印該凹凸形狀所得到的防眩層具有防眩性不足的可能性。另一方面，算術平均粗度Ra高於0.1μm的情形下，有可能在轉印該凹凸形狀所得到的防眩層產生發白現象。
最大斷面高度Rt低於0.3μm的情形下，轉印該凹凸形狀所得到的防眩層具有防眩性不足的可能性。另一方面，最大斷面高度Rt高於0.6μm的情形下，有可能在轉印該凹凸形狀所得到的防眩層產生發白現象，且表面凹凸形狀的均勻性下降具有產生閃眩的可能性。
另外，平均度度RSm低於50μm的情形下，轉印該凹凸形狀所得到的防眩層具有防眩性不足的可能性。另一方面，平均長度RSm高於130μm的情形下，有可能在轉印該凹凸形狀所得到的防眩層產生閃眩現象。
<防眩層的製作方法>
上述的防眩層，可以直接形成在偏光薄膜上，或者製作在透明支撐體上形成防眩層的防眩薄膜，將該防眩薄膜經由接著劑層，在與防眩層側的相反側貼合在偏光薄膜，藉此形成亦可。
防眩層，是藉由包含將根據既定圖案的表面形狀(微細凹凸)形成在模具基材的表面的工程的方法來製造微細凹凸形成用模具，且可藉由包含將所製造的模具的凹凸面的形狀轉印到透明樹脂薄膜等之後，將已轉印模 具的凹凸面的形狀的透明樹脂薄膜從模具脫模的方法所製作。
為了精度良好的形成具有如上所述的特徵的 防眩層的微細凹凸表面，當上述既定的圖案的一維功率頻譜作為相對於空間頻率的強度來表現時的圖表，於空間頻率0.007μm-1以上、0.015μm-1以下具有一個極大值，且於空間頻率0.05μm-1以上、0.1μm-1以下具有一個極大值。 在此，「圖案」是指為了形成防眩層的微細凹凸表面的圖像資料、和具有透光部與遮光部的遮罩等之意。
另外，應用於微細凹凸形成用模具的製造的 圖案的空間頻率0.007μm-1以上、0.015μm-1以下的第一極大值的強度，小於空間頻率0.05μm-1以上、0.1μm-1以下的第二極大值的強度為佳。第一極大值的強度大於第二極大值的情形下，會有閃眩變強的傾向很不理想。
圖案的二維功率頻譜，是例如圖案為圖像資 料的情形下，將圖像資料變換為2階調的二值化圖像資料之後，以二維函數g(x、y)來表示圖像資料的階調，且將所得的二維函數g(x、y)進行傅立葉變換來計算二維函數G(fx、fy)，將所得的二維函數G(fx、fy)加以平方，藉此求得。在此，x及y是表示圖像資料面內的直交座標，fx及fy是表示x方向的頻率及y方向的頻率。
與求得防眩層的微細凹凸表面的標高的二維 功率頻譜的情形同樣的，求得圖案的二維功率頻譜的情形下，一般而言，階調的二維函數g(x、y)也是作為離散函 數所得的情形。該情形下，與求得微細凹凸表面的標高的二維功率頻譜的情形同樣的，藉由離散傅立葉變換計算二維功率頻譜即可。圖案的一維功率頻譜，是由圖案的二維功率頻譜，與微細凹凸表面的標高的一維功率頻譜同樣而求得的。
藉由用來製作防眩層的圖案的一維功率頻 譜，於空間頻率0.007μm-1以上、0.015μm-1以下具有第一極大值，於空間頻率0.05μm-1以上、0.1μm-1以下具有第二極大值，可得到以微細凹凸表面的標高的一維功率頻譜的常用對數作為對空間頻率的強度而表示之時的圖案，於空間頻率0.01μm-1具有向上凸的形狀，於空間頻率0.02μm-1具有向下凸的形狀的防眩層。
為了作成一維功率頻譜於空間頻率0.007μm-1 以上、0.015μm-1以下具有第一極大值，於空間頻率0.05μm-1以上、0.1μm-1以下具有第二極大值的圖案，只要是從任意配置點作成的圖案和具有藉由亂數或電腦所生成的虛擬亂數來決定濃淡的隨意明度分佈的圖案，使其通過除去特定的空間頻率範圍之成份的帶通濾波器即可。
在此，如上所述，適當形成防眩層的微細凹 凸表面的空間頻率分佈為佳。因而，防眩層，是藉由使用上述的圖案製造具有微細凹凸表面的模具，將所製造的模具的凹凸面轉印到透明支撐體上或偏光薄膜上的光硬化性樹脂層等，接著將已轉印凹凸面的防眩層和透明支撐體或偏光薄膜從模具脫模，藉此將防眩層製作在透明支撐體上 或偏光薄膜上為特徵的壓花法製作為佳。
在此，作為壓花法，舉例表示有：使用光硬 化性樹脂的UV壓花法、使用熱可塑性樹脂的熱壓花法，當中，由生產性的觀點來看，也以UV壓花法為佳。
UV壓花法，是在透明支撐體或偏光薄膜的表 面形成光硬化性樹脂層，一邊將該光硬化性樹脂層按壓在模具的凹凸面、一邊使其硬化，使模具的凹凸面轉印到光硬化性樹脂層的方法。具體上，在透明支撐體上或偏光薄膜上塗佈紫外線硬化型樹脂，在將已塗佈的紫外線硬化型樹脂密貼在模具的凹凸面的狀態下，從透明支撐體或偏光薄膜側照射紫外線，使紫外線硬化型樹脂硬化，然後從模具，剝離已形成硬化後的紫外線硬化型樹脂層(防眩層)的透明支撐體或偏光薄膜。
使用UV壓花法之情形的紫外線硬化型樹脂的 種類，雖未特別限定，但可使用市售的適當樹脂。而且，在紫外線硬化型樹脂組合所適當選擇的光引發劑，即使波長比紫外線更長的可視光也能使用可硬化的樹脂。具體上，分別將三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇基等的多官能丙酸酯以單獨或該些2種以上加以混合使用，最適合將此與IRGACURE 907(Ciba Specialty Chemicals社製)、IRGACURE 184(Ciba Specialty Chemicals社製)、LUCIRIN TPO(BASF社製)等的光聚合引發劑混合使用。
另一方面，熱壓花法，是將利用熱可塑性樹 脂形成的透明支撐體以加熱狀態按壓在模具，將模具的表面形狀轉印到透明支撐體的方法。作為熱壓花法所用的透明支撐體，實質上只要是透明的都可以，例如：可使用以聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯、三醋酸纖維素、降冰片系化合物為單體的非晶性環狀聚烯烴等的熱可塑性樹脂的溶液澆鑄薄膜和擠壓薄膜等。該些透明樹脂薄膜，也適用於作為塗佈上面所說明的UV壓花法的紫外線硬化型樹脂的透明支撐體。
(防眩薄膜)
製作防眩薄膜的情形所用的透明支撐體，實質上只要是光學性的透明薄膜即可，例如：舉例有：三乙醯纖維素膜、聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚甲基丙烯酸甲酯薄膜、聚碳酸酯薄膜、降冰片系化合物為單體的非晶性環狀聚烯烴等的熱可塑性樹脂的溶液澆鑄薄膜和擠壓薄膜等的樹脂薄膜。
透明支撐體的厚度10μm~60μm之範圍內為 佳。透明支撐體的厚度低於10μm的情形下，具有機械強度不足的可能性，因此很不理想。另一方面，透明支撐體的厚度高於60μm的情形下，防眩性偏光板的總厚度超過100μm的可能性變高，結果具有產生閃眩之可能性，因此很不理想。
另外，貼合偏光薄膜和防眩薄膜的情形所用的接著劑，可使用以往公知的物品。可使用例如：使用聚 乙烯醇系樹脂的水溶性接著劑、利用環氧系樹脂的陽離子聚合的接著劑、利用丙烯酸系樹脂的自由基聚合的接著劑、利用因環氧系樹脂和丙烯酸系樹脂的混合物引起的陽離子聚合和自由基聚合的接著劑等。接著劑的厚度，因接著劑的種類而異，因此不能一概而論，但0.1μm~5μm的範圍內為佳。接著劑層的厚度低於0.1μm的情形下，具有得不到充分的接著強度之虞，因此很不理想。另一方面，接著劑層的厚度高於5μm的情形下，防眩性偏光板的總厚度超過100μm的可能性變高，結果具有產生誤差之可能性，因此很不理想。
<微細凹凸形成用模具的製造方法>
以下，針對製造應用於為了在防眩層的表面形成微細凹凸的模具(微細凹凸形成用模具)的方法做說明。有關微細凹凸形成用模具的製造方法，只要是可得到使用上述之圖案的的既定表面形狀之方法即可，並未特別限制，但為了使微細凹凸表面精度良好，且再現性佳的製造，基本上包含：〔1〕第1電鍍工程、〔2〕研磨工程、〔3〕感光性樹脂膜形成工程、〔4〕曝光工程、〔5〕顯影工程、〔6〕第1蝕刻工程、〔7〕感光性樹脂膜剝離工程、〔8〕第2蝕刻工程、和〔9〕第2電鍍工程為佳。
第9圖是模式表示微細凹凸形成用模具的製 造方法的前半部分之最佳一例的圖。於第9圖模式表示在各工程的模具的剖面。以下，一面參照第9圖、一面針對 本發明之微細凹凸形成用模具的製造方法的各工程做詳細說明。
〔1〕第1電鍍工程
在微細凹凸形成用模具的製造方法中，先在基材(模具用基材)的表面施以鍍銅。像這樣，藉由對模具用基材的表面施以鍍銅，就能提升後面的第2電鍍工程的鍍鉻的密著性和光澤性。此是由於鍍銅，被覆性高，而且平滑化作用強，因此填設模具用基材的微小凹凸和氣孔等，形成平坦且具光澤的表面。藉由該些鍍銅的特性，即使在後述的第2電鍍工程中施行鍍鉻，仍可消除被認為起因於模具用基材所存在的微小凹凸和氣孔引起的鍍鉻表面的粗糙，還有鍍銅的被覆性高，因此可減低產生微細的裂紋。
作為第1電鍍工程所用的銅，除了可用銅的 純金屬以外，也可使用以銅為主體的合金，因而本說明書中所稱的「銅」，是包括銅及銅合金之意。鍍銅，雖可為電解電鍍或無電解電鍍，但通常可採用電解電鍍。
施行鍍銅之際，鍍層太薄的話，無法排除基 層表面的影響，因此其厚度50μm以上為佳。鍍層厚度的上限沒有臨界，但由成本等來看，一般達到500μm左右就很充分了。
再者，有關微細凹凸形成用模具的製造方 法，作為適合應用於形成模具用基材的金屬材料，由成本觀點來看，舉例有：鋁、鐵等。進一步由處理的便利性來 看，輕量的鋁更佳。在此所稱的鋁和鐵，亦除了可各別為純金屬外，也能以鋁或鐵為主體的合金。
另外，模具用基材的形狀，於該領域中，只 要是自以往所採用的適當形狀就未特別限制，但可為平板狀，也可為圓柱狀或圓筒狀的輥。若為使用輥狀的模具用基材來製作模具，即具有能以連續的輥狀來製造防眩性偏光板或防眩薄膜的優點。
〔2〕研磨工程
接著在研磨工程中，將在上述的第1電鍍工程施行鍍銅的模具用基材的表面進行研磨。在微細凹凸形成用模具的製造方法中，經由該工程，將基材表面研磨至接近鏡面狀態為佳。此乃由於成為基材的金屬板和金屬輥，為了形成所希望的精度，大多施行切削和研削等的機械加工，藉此會在模具用基材的表面留下加工痕跡，在施行鍍銅的狀態，也會殘留該些加工痕跡，而且在已電鍍的狀態下，表面未必會完全平滑。亦即，即使對殘留此種深的加工痕跡等的表面施行後述的工程，加工痕跡等凹凸也會比施行各工程之後所形成的凹凸還深，有殘留加工痕跡等之影響的可能性，在使用那樣的模具來製造防眩性偏光板或防眩薄膜的情形下，有可能會使光學特性受到無法預期的影響。 於第9圖(a)模式表示平板狀的模具用基材7，具有在第1電鍍工程中對其表面施行鍍銅(關於該工程中所形成的鍍銅之層，圖未表示)且還藉由研磨工程進行鏡面研磨 的表面8之狀態。
有關施行鍍銅的模具基材的表面進行研磨的 方法，並未特別限制，可使用機械研磨法、電解研磨法、化學研磨法中的任一種方法。作為機械研磨法，舉例表示有：超精加工法、拋光、流體研磨法、拋光研磨法等。另外，在研磨工程中，也可以藉由使用切削工具進行鏡面切削，以模具用基材7的表面8作為鏡面。此時的切削工具的材質和形狀等並未特別限制，可使用超硬刀具、CBN刀具、陶瓷刀具、金剛石刀具等，但由加工精度的觀點來看，使用金剛石刀具為佳。研磨後的表面粗度，是以JIS B 0601之規定為基準的中心線平均粗糙度Ra在0.1μm以下為佳，在0.05μm以下更佳。研磨後的中心線平均粗糙度Ra大於0.1μm的話，即有可能在最後的模具表面的凹凸形狀殘留研磨後的表面粗度之影響的可能性，因此很不理想。另外，關於中心線平均粗糙度Ra的下限並未特別限制，由加工時間和加工成本的觀點來看，自然而然地具有極限，因此不必特別指定。
〔3〕感光性樹脂膜形成工程
接著在感光性樹脂膜形成工程中，在藉由上述的研磨工程施行鏡面研磨的模具用基材7的表面8，將感光性樹脂製成溶解於溶劑的溶液進行塗佈，進行加熱、乾燥，藉此形成感光性樹脂膜。於第9圖(b)模式表示在模具用基材7的表面8形成有感光性樹脂膜9的狀態。
作為感光性樹脂，可使用以往公知的感光性 樹脂。例如：作為具有使感光部分硬化之性質的負片型感光性樹脂，可使用分子中具有丙烯基或甲基丙烯基的丙烯酸酯的單體和預聚物、二疊氮化物和二烯橡膠的混合物、聚乙烯肉桂酸酯系化合物等。另外，作為具有藉由顯影而溶出感光部分，僅未感光部分殘留的性質的正片型感光性樹脂，可使用苯酚樹脂系和酚醛樹脂系等。另外，在感光性樹脂，也可以配合需要，混合增感劑、顯影促進劑、密接性改質劑、塗佈性改善劑等各種添加劑。
在將該些感光性樹脂塗佈於基材7的表面8 時，為了形成良好的塗膜，稀釋於適當的溶劑而進行塗佈為佳，可使用賽璐索芙系溶劑、丙二醇系溶劑、酯系溶劑、醇系溶劑、酮系溶劑、高極性溶劑等。
作為塗佈感光性樹脂溶液的方法，可使用彎 月面塗佈、噴泉式刮刀塗佈、浸漬塗佈、旋轉塗佈、輥塗佈、螺杆擠出塗佈、氣刀塗佈、刮刀塗佈、幕簾式塗佈、環繞塗佈等公知的方法。塗佈膜的厚度在乾燥後設為1~10μm的範圍為佳。
〔4〕曝光工程
接著在曝光工程中，將上述的一維功率頻譜作為對空間頻率的強度表現時的圖表，是將在空間頻率0.007μm-1以上、0.015μm-1以下具有一個極大值，且在空間頻率0.05μm-1以上、0.1μm-1以下具有一個極大值的圖案，在 上述的感光性樹脂膜形成工程所形成的感光性樹脂膜9上進行曝光。曝光工程所用的光源只要是符合已塗佈的感光性樹脂的感光波長和感光度等適當選擇即可，例如：可使用高壓水銀燈的g線(波長：436nm)、高壓水銀燈的h線(波長：405nm)、高壓水銀燈的i線(波長：365nm)、半導體雷射光(波長：830nm、532nm、488nm、405nm等)、YAG雷射光(波長：1064nm)、KrF準分子雷射光(波長：248nm)、ArF準分子雷射光(波長：193nm)、F2準分子雷射光(波長：157nm)等。
在微細凹凸形成用模具的製造方法中，為了 精度良好的形成表面凹凸形狀，在曝光工程中，在將上述的圖案精密的控制在感光性樹脂膜上的狀態下進行曝光為佳。在微細凹凸形成用模具的製造方法中，為了將上述的圖案在感光性樹脂膜上進行精度良好的曝光，在電腦上將圖案作成畫像資料，藉由從電腦控制的雷射光學頭發出的雷射光根據該畫像資料來描繪圖案。在進行雷射光描繪之際，可使用印刷版作成用的雷射光描繪裝置。作為此種雷射光描繪裝置，例如舉例有：Laser Stream FX(Think Laboratory股份有限公司製)等。
於第9圖(c)模式表示圖案已曝光在感光性 樹脂膜9的狀態。在以負片型感光性樹脂形成感光性樹脂膜的情形下，已曝光的區域10藉由曝光進行樹脂的交聯反應，對後述的顯影液的溶解性下降。因而，在顯影工程 中未曝光的區域11會因顯影液而溶解，僅已曝光的區域10殘留在模具用基材的表面上成為遮罩。另一方面，在以正片型感光性樹脂形成感光性樹脂膜的情形下，已曝光的區域10，其樹脂的鍵會因曝光而被切斷，對後述的顯影液的溶解性增加。因而，在顯影工程中已曝光的區域10會因顯影液而被溶解，僅未曝光的區域11會殘留在模具用基材的表面上成為遮罩。
〔5〕顯影工程
接著在顯影工程中，在感光性樹脂膜9使用負片型感光性樹脂的情形下，未曝光的區域11會因顯影液而被溶解，僅已曝光的區域10會殘存在模具用基材上，接著在第1蝕刻工程中作為遮罩產生作用。另一方面，在感光性樹脂膜9使用正片型感光性樹脂的情形下，僅已曝光的區域10會因顯影液而溶解，未曝光的區域11殘存在模具用基材上，作為接著在第1蝕刻工程的遮罩產生作用。
有關顯影工程所用的顯影液，可使用以往公 知的顯影液。例如：舉例有：氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉、氨水等無機鹼類，乙胺、n-丙胺等第一胺類、二乙胺、n-二丁胺等第二胺類，三乙胺、甲基二乙胺等第三胺類，二甲基乙醇胺、三乙醇胺等醇胺類，四甲基羥銨、四乙基羥銨、三甲基羥乙基羥銨等第四級銨鹽，吡咯、呱啶等環狀胺類等鹼性水溶液，二甲苯、甲苯等有機溶劑等。
有關顯影工程的顯影方法並未特別限制，可 使用浸漬顯影、噴霧顯影、磁刷顯影、超音波顯影等方法。
於第9圖(d)模式表示在感光性樹脂膜9使 用負片型感光性樹脂，進行顯影處理的狀態。在第9圖(c)中，未曝光的區域11會因顯影液而被溶解，僅已曝光的區域10殘留在模具用基材的表面上成為遮罩12。於第9圖(e)模式表示在感光性樹脂膜9使用正片型感光性樹脂，進行顯影處理的狀態。在第9圖(c)中，已曝光的區域10會因顯影液而被溶解，僅未曝光的區域11殘留在模具用基材的表面上成為遮罩12。
〔6〕第1蝕刻工程
接著在第1蝕刻工程中，在上述的顯影工程後，將殘存在模具用基材的表面上的感光性樹脂膜作為遮罩使用，主要是對無遮罩之處的模具用基材施行電鍍的表面進行蝕刻。
第10圖是模式表示本發明的模具的製造方法 的後半部分的較佳之一例示的圖。於第10圖(a)模式表示藉由第1蝕刻工程主要是將無遮罩的區域13的模具用基材7蝕刻的狀態。遮罩12的下部的模具用基材7是自模具用基材的表面起未被蝕刻，但隨著蝕刻的進行，來進行自無遮罩的區域13起的蝕刻。因而，在遮罩12和無遮罩的區域13的邊界附近，遮罩12的下部的模具用基材7 也會被蝕刻。將在此種遮罩12和無遮罩的區域13的邊界附近中，遮罩12的下部的模具用基材7也被蝕刻的情形，在以下稱為側向蝕刻。
第1蝕刻工程的蝕刻處理，通常是使用氯化 鐵(FeCl3)液、氯化銅(CuCl2)液、鹼性蝕刻液(Cu(NH3)4Cl2)等，藉由使金屬表面腐蝕來施行，但也可以使用鹽酸及硫酸等的強酸，或者也可使用施加與電解電鍍時相反的電位所引起的反向電解蝕刻。形成在施行蝕刻處理之際的模具用基材的凹形狀，是因基底金屬的種類、感光性樹脂膜的種類以及蝕刻方法等而有所不同，因此，不能一概而論，但在蝕刻量為10μm以下的情形下，從接觸到蝕刻液的金屬表面，施以略等向性的蝕刻。在此所稱的蝕刻量，是藉由蝕刻所削減的模具用基材的厚度。
第1蝕刻工程的蝕刻量理想為1~50μm，更 理想為2~10μm。在蝕刻量不滿1μm的情形下，幾乎不會在金屬表面形成凹凸形狀，而會成為略平坦的模具，因此不會呈現防眩性。另外，當蝕刻量超過50μm的情形下，形成在金屬表面的凹凸形狀的高低差增大，使用所得到的模具製作成的防眩層會發白，因此很不理想。第1蝕刻工程的蝕刻處理可以藉由一次的蝕刻處理來進行，或者也可以將蝕刻處理分成兩次以上來進行。在此，在將蝕刻處理分成兩次以上來進行的情形下，兩次以上的蝕刻處理的蝕刻量的合計以1~50μm為佳。
〔7〕感光性樹脂膜剝離工程
接著在感光性樹脂膜剝離工程中，將在第1蝕刻工程中作為遮罩所使用的殘存下來的感光性樹脂膜完全溶解除去。在感光性樹脂膜剝離工程中，使用剝離液來溶解感光性樹脂膜。作為剝離液，可使用與上述的顯影液相同的液體，藉由使得pH值、溫度、濃度及浸漬時間等變化，將在使用負片型感光性樹脂膜的情形下曝光部的、和在使用正片型感光性樹脂膜情形下非曝光部的感光性樹脂膜完全溶解而除去。有關感光性樹脂膜剝離工程的剝離方法，亦未特別限制，可使用浸漬剝離、噴霧剝離、磁刷剝離、超音波剝離等方法。
第10圖(b)是模式表示藉由感光性樹脂膜 剝離工程，將在第1蝕刻工程中作為遮罩所使用的感光性樹脂膜完全溶解除去的狀態。藉由感光性樹脂膜的遮罩12和蝕刻，第1表面凹凸形狀15是形成在模具用基材的表面。
〔8〕第2蝕刻工程
在第2蝕刻工程中，使得將感光性樹脂膜作為遮罩所使用之藉由第1蝕刻工程所形成的第1表面凹凸形狀15因蝕刻處理而鈍化。藉由該第2蝕刻處理，藉由第1蝕刻處理所形成的第1表面凹凸形狀15的表面傾斜陡峭的部分消失，利用所得到的模具所製造的防眩層的光學特性會向理想的方向變化。在第10圖(c)表示藉由第2蝕刻處 理，使模具用基材7的第1表面凹凸形狀15鈍化，且使表面傾斜陡峭的部分被鈍化，使其形成具有平緩的表面傾斜的第2表面凹凸形狀16的狀態。
第2蝕刻工程的蝕刻處理，也與第1蝕刻工 程相同，通常是使用氯化鐵(FeCl3)液、氯化銅(CuCl2)液、鹼性蝕刻液(Cu(NH3)4Cl2)等，藉由使表面腐蝕來進行，但也可使用鹽酸及硫酸等強酸，或者也可使用施加與電解電鍍時相反的電位所引起的反向電解蝕刻。施行蝕刻處理後的凹凸的鈍化狀況，會因基底金屬的種類、蝕刻方法及藉由第1蝕刻工程所得到的凹凸的大小和深度等而有所不同，因此不能一概而論，但在控制鈍化狀況上，最大的因素是蝕刻量。在此所稱的蝕刻量，也與第1蝕刻工程相同，是藉由蝕刻被消減的模具用基材的厚度。若蝕刻量小的話，使得藉由第1蝕刻工程所得到的凹凸的表面形狀鈍化的效果並不充分，將其凹凸形狀轉印到透明薄膜所得到的防眩層的光學特性不太理想。另一方面，若蝕刻量太大的話，凹凸形狀幾乎消失，成為略平坦的模具，因此不會呈現防眩性。因此，蝕刻量在1~50μm的範圍內為佳，在4~20μm的範圍內更佳。有關第2蝕刻工程的蝕刻處理，也與第1蝕刻工程相同，可藉由一次的蝕刻處理來進行，或者也可將蝕刻處理分成兩次以上來進行。在此，在將蝕刻處理分成兩次以上來進行的情形下，兩次以上的蝕刻處理的蝕刻量的合計以1~50μm為佳。
〔9〕第2電鍍工程
接著，藉由施行鍍鉻，使第2表面凹凸形狀16鈍化，並且保護模具表面。在第10圖(d)，是表示在如上所述藉由第2蝕刻工程的蝕刻處理所形成的第2表面凹凸形狀16形成鍍鉻層17，使鍍鉻層的表面18鈍化的狀態。
在本發明中，採用平板及輥等的表面，具有 光澤、硬度高、摩擦係數小、可得到良好的離模性的鍍鉻。鍍鉻的種類並未特別限制，但採用稱為所謂的光澤鍍鉻和裝飾用鍍鉻等發現良好光澤的鍍鉻較為理想。鍍鉻，通常是藉由電解進行，作為其電鍍液，可使用含三氧化鉻(CrO3)和少量硫酸的水溶液。藉由調節電流密度和電解時間，就能夠控制鍍鉻的厚度。
再者，在第2電鍍工程中，施行鍍鉻以外的 電鍍並不理想。原因是，在鉻以外的電鍍中，硬度和耐磨性低，因此作為模具的耐久性下降，在使用中，凹凸磨損，或模具損傷。在使用那種模具所製作的防眩層中，難以得到充分的防眩功能的可能性高，而且，在防眩層上發生缺陷的可能性也高。
另外，研磨電鍍後的表面，在本發明中依然 很不理想。依其理由，是藉由研磨，最表面會產生平坦的部分，因此有可能導致光學特性變差，而且，由於形狀的控制因素增加，因此再現性良好的形狀控制變困難等。
像這樣，在本發明中，施行鍍鉻之後，不研磨表面，直接將鍍鉻面作為模具的凹凸面來使用很理想。由於是藉由對形成有微細表面凹凸形狀的表面施行鍍鉻，使凹凸形狀被鈍化，並且得到提高該表面硬度的模具。此時的凹凸的鈍化狀況，是因基底金屬的種類、自第1蝕刻工程得到的凹凸的大小和深度，還有電鍍的種類及厚度等而有所不同，因此無法一概而論，但在控制鈍化狀況上，最大的因素，仍是電鍍厚度。若鍍鉻的厚度薄的話，使得在鍍鉻加工前所得到的凹凸的表面形狀鈍化的效果很不充分，轉印該凹凸形狀所得到的防眩層的光學特性就不太理想。另一方面，若電鍍厚度太厚的話，生產性變差之外，還會發生所謂的瘤(nodule)的突起狀的電鍍缺陷，因此很不理想。因此，鍍鉻的厚度在1~10μm的範圍內為佳，在3~6μm的範圍內更佳。
在該第2電鍍工程所形成的鍍鉻層，形成維氏硬度800以上為佳，形成1000以上更佳。在鍍鉻層的維氏硬度不滿800的情形下，模具使用時的耐久性下降之外，因鍍鉻而硬度下降是由於在電鍍處理時，在電鍍液組成、電解條件等發生異常的可能性高，使其缺陷的發生狀況也帶來不良影響的可能升高。
<保護薄膜>
本發明的防眩性偏光板，由機械強度的觀點來看，可以在與形成偏光薄膜的防眩層之側的相反側，貼合著保護 薄膜。保護薄膜，也為保護薄膜一體型的光學補償薄膜。在此所用的保護薄膜，具體而言，現在採用作為偏光板的保護薄膜最廣泛被使用的三醋酸纖維素之類的透明樹脂的薄膜為佳。
本發明所用的保護薄膜之例示，舉例有：三醋酸纖維素、非晶聚烯烴類樹脂薄膜、聚樹脂薄膜、丙烯酸樹脂薄膜、聚碳酸脂樹脂薄膜、聚碸樹脂薄膜、脂環族聚醯亞胺樹脂薄膜等。在該些之中，由三醋酸纖維素或非晶聚烯烴類樹脂製成的薄膜特別理想可採用。非晶烯烴類樹脂，通常是具有像是降冰片烯和多環降冰片烯系單體的環烯烴的聚合單元，也可為與環烯烴和鏈烯烴的共聚物。當中亦有熱可塑性飽和降冰片烯樹脂具代表性。另外，極性基被導入也很有效。市售的非晶聚烯烴類樹脂，舉例有：ARTON(JSR(股)製)、ZEONOR(日本Zeon(股)製)、ZEONEX(日本Zeon(股)製)、APO(三井化學(股)製)、阿佩爾(三井化學(股)製)等。使用此種市售品的非晶聚烯烴類樹脂的情形下，將該非晶聚烯烴類樹脂製膜而成為薄膜，但製膜適合使用溶劑澆鑄法、熔融擠壓法等公知的方法。
在與形成著偏光薄膜的防眩層之側的相反相側貼合著保護薄膜的情形下，也能使用上述的接著劑來貼合。
保護薄膜，可以在對偏光薄膜貼合之前，對貼合面施行皂化處理、電暈處理、底漆處理、增黏塗層處 理等的易接著處理。
<光學補償薄膜、光學補償層>
本發明的防眩性偏光板，也可以在與形成著偏光薄膜的防眩層之側的相反側具有光學補償層。該光學補償層的目的是進行相位差的補償等，舉例有：由各種塑膠的延伸薄膜等製成的雙折射薄膜、取向固定著圓盤狀液晶和列向型液晶的薄膜，在薄膜基材上形成著上述的液晶層的光學補償層等。該些的光學補償層可以僅為一層，也可以是複數層。在設有複數層的光學補償層的情形下，可以層積同種的光學補償層，也可以層積不同種的光學補償層。例如：可在保護薄膜一體型的光學補償薄膜進一步介設接著劑而層積著由各種塑膠的拉伸薄膜等製成的雙折射薄膜等，也可在保護薄膜一體型的光學補償薄膜取向固化著液晶。
形成雙折射薄膜的塑膠，例如舉例有：聚碳 酸酯、聚乙烯醇、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、如聚丙烯的聚烯烴、聚芳酯、聚醯胺、非晶聚烯烴類樹脂等。拉伸薄膜，也可以利用單軸和雙軸等的適當方式進行處理。 另外，可以在與熱收縮性薄膜的接著下施加收縮力及/或拉伸力，控制薄膜的厚度方向的折射率的雙折射薄膜。
形成在與形成著偏光薄膜的防眩層之側的相 反側的光學補償層，可以使用上述的接著劑進行一體化，由防止產生接著作業的方便性和光學應變等的觀點來看， 也可使用後述的黏著劑(亦稱為感壓接著劑)。
光學補償薄膜及光學補償層可以配合液晶胞 的各驅動模式做適當選擇。液晶的驅動模式，舉例有：垂直配向(Vertical Alignment：VA)模式、橫向電場(In-Plane Switching：IPS)模式、扭轉向列(Twisted Nematic：TN)模式等。只要是垂直配向模式的液晶胞，就能將由具有以三醋酸纖維素之類的醯化纖維素為代表的纖維素樹脂、環烯烴樹脂、聚碳酸酯等的正折射率異向性的透明樹脂製成的薄膜，使用在適當的條件下具有進行單軸或雙軸延伸的nx>ny≧nz之關係的薄膜。在此，nx為表示薄膜的面內遲相軸方向的折射率，ny為表示薄膜的面內進相軸方向的折射率，nz為表示薄膜的厚度方向的折射率。另外，環狀烯烴系樹脂，是以降冰片烯及二亞甲基八氫化萘之類的環狀烯烴為單體的樹脂，作為市售品，有ARTON(商品名：JSR(股)製)、ZEONOR(商品名：日本Zeon(股)製)、ZEONEX(商品名：日本Zeon(股)製)。在該些透明性樹脂中，也由於光彈性係數小，且使用條件下的熱應變造成的面內特性不均的發生等少，因此很適合使用三乙醯纖維素及環狀烯烴系樹脂。另外，也可使用對圓盤狀液晶的基板上的塗佈、對膽固醇液晶之短距的基板上的塗佈、在基板上形成將雲母之類的無機層狀化合物的層、具有樹脂之逐次或同時雙軸拉伸、未拉伸溶劑澆鑄薄膜等的nx≒ny>nz之關係的光學補償層。
另外，只要是TN模式的液晶胞，理想上可使 用有機化合物，在當中也顯示液晶性，具有圓盤狀分子構造的化合物，或不顯示液晶性，但因電場或磁場發現負折射率異方向性的化合物，塗佈在由三醋酸纖維素等製成的透明樹脂薄膜上，使光學軸預先取向成自薄膜法線方向起在5~50°之間傾斜的薄膜。取向不光是單一方向，例如：也可為傾斜從薄膜的一面向著另一面依序增大的所謂的混合取向。作為顯示液晶性的具有圓盤狀分子構造的有機化合物，例示有：低分子或高分子的圓盤狀液晶，例如：在具有三伸苯基、三苄基苯、苯等的平面構造的母核，放射狀地鍵結著烷基、烷氧基、烷基取代苯甲酸基、烷氧基取代苯甲酸基等直鏈狀取代基的有機化合物。當中，在可視光區域不會呈現吸收的為佳。具有該些圓盤狀分子構造的有機化合物，不僅可單獨使用一種，本發明為了得到所需要的取向，可以配合需求混合多種使用，或者與高分子基質等其他有機化合物混合使用。如上所述，作為混合使用的有機化合物，若為可將具有圓盤狀分子構造的有機化合物和具有相溶性，或具有圓盤狀分子構造的有機化合物，分散為不會使光散射的程度的粒徑，就未特別限定。作為在由纖維素系樹脂製成的透明基材薄膜，設有由相關的液晶性化合物製成的層，且光學軸相對於薄膜法線傾斜的薄膜，例如：很適合使用WV薄膜(富士軟片(股)製)。另外，具有細長的棒狀構造的有機化合物膜，在當中也顯示向列型液晶性，且具有賦予正光學異方向性的分子構造的化合物，或不顯示液晶性，但因電場或磁場發現正折射率 異方向性的化合物，是在由纖維素系樹脂等製成的透明基材薄膜上製作成膜，且以光學軸從薄膜法線方向在5~50°之間傾斜的方式取向所得的薄膜。該取向，不光是一方向，例如：也可為傾斜從薄膜的一面向著另一面依序增大的所謂的混合取向。作為在透明基材薄膜設有由向列型液晶化合物製成的層，光學軸相對於薄膜法線而傾斜的薄膜，最適合可使用例如：NH薄膜(新日本石油(股)製)。
<黏著劑層>
對於為了使本發明的防眩性偏光板貼合在畫像顯示裝置的黏著劑，可使用以丙烯酸聚合物、矽膠聚合物、聚酯纖維、聚氨酯、聚醚等作為基質聚合物的黏著劑。在當中也如丙烯酸系黏著劑，選擇具有：光學透明性優異、保持適度濕潤性和凝集力、與基材的接著性亦優、更具耐候性和耐熱性等，且在加熱和加濕的條件下，不會產生翹曲和剝離等之剝離問題的黏著劑使用為佳。在丙烯酸系黏著劑中，將具有甲基和乙基和丁基之類的碳數為20以下的烷基(甲基)丙烯酸的烷基酯、和(甲基)丙烯酸或(甲基)丙烯酸羥乙基等製成的含有官能基丙烯酸系單體，以玻璃轉移溫度理想為25℃以下，更理想為0℃以下的方式進行混合之重量平均分子量為10萬以上的丙烯酸系共聚物作為基質聚合物很有用。
對偏光板形成黏著劑層，是例如：使黏著劑 組成物溶解或分散在甲苯或醋酸乙酯等等的有機溶媒調整成10~40重量%的溶液，將此直接塗佈在偏光板上而形成黏著劑層的方式、和預先將黏著劑層形成在護膜上，將此移動到偏光板上而形成黏著劑層的方式等等，就能藉此施行。黏著劑層的厚度，雖是配合該接著力等而決定，但在1~25μm左右的範圍很適合。
<畫像顯示裝置>
本發明更具備：上述的本發明之防眩性偏光板、和畫像顯示元件，前述防眩性偏光板，也針對以該硬塗佈層為外層配置在畫像顯示元件的視認側的畫像顯示裝置做提供。
在此，畫像顯示元件，具備：液晶封入到上 下基板間的液晶胞，且藉由施加電壓使液晶的取向狀態改變，進行畫像顯示的液晶面板為代表。在本發明的畫像顯示裝置中，防眩性偏光板，配置在比畫像顯示元件更靠近視認側。此時，防眩層的凹凸面配置成為外側(視認側)。像這樣，具備本發明之防眩性偏光板的畫像顯示裝置，藉由具有防眩層的表面的凹凸使入射光漫射，就能讓影像模糊，得到優異的視認性。
[實施例]
於以下列舉實施例，進一步詳細說明本發明，但本發明並不限於該些實施例。
<實施例1> (A)偏光薄膜的製作
將厚度75μm、聚合度2400、皂化度99.9%以上的聚乙烯醇薄膜，以乾式單軸拉伸到拉伸倍率五倍，仍然保持張力狀態，以溫度28℃、60秒鐘浸漬在水每100重量份各別含有碘0.05重量份以及碘化鉀5重量份的水溶液中。接著，仍保持張力狀態，以溫度73℃、300秒鐘浸漬在水每100重量份各別含有硼酸7.5重量份以及碘化鉀6重量份的硼水溶液中。然後，以15℃的約純水洗淨10秒鐘。已水洗的薄膜仍然保持張力狀態，以70℃、300秒鐘乾燥，得到偏光薄膜。該偏光薄膜的膜厚為23μm。
(B)微細凹凸形成用模具的製作
準備在直徑200mm的鋁輥(JIS的A5056)的表面施加巴拉德鍍銅的輥。巴拉德鍍銅是由鍍銅層/薄的鍍銀層/表面鍍銅層製成，電鍍層整體的厚度約設定為200μm。將其鍍銅表面進行鏡面研磨，在已研磨的鍍銅表面塗布感光性樹脂，進行乾燥，形成感光性樹脂膜。接著，藉由雷射光將重複並列第11圖所示之圖案(從具有隨機亮度分佈的圖案，穿過除去特定之空間頻率範圍的成份的帶通濾波器而作成)的圖案曝光、顯影在感光性樹脂膜上。雷射光的曝光及顯影是使用Laser Stream FX((股)Think Laboratory製)來進行。在感光性樹脂膜使用正片型感光 性樹脂。
然後，利用氯化銅液進行第1蝕刻處理。此 時的蝕刻量設定為4.5μm。從第1蝕刻處理後的輥上除去感光性樹脂膜，再度利用氯化銅液進行第2蝕刻處理。此時的蝕刻量設定為12μm。然後，進行鍍鉻加工，製作完成模具A。此時，鍍鉻厚度設定為4μm。
再者，第11圖是表示本實施例所用的圖案的 畫像資料的一部分的圖。第11圖所示的圖案的畫像資料是33mm×33mm的大小，以12800dpi作成。
第12圖是表示將第11圖所示的圖案進行離 散傅立葉變換所得到的功率頻譜G2(f)的圖。由第12圖可知，以製作防眩薄膜A(實施例1)所使用的圖案的一維功率頻譜作為相對於空間頻率之強度而表現時的圖表，在空間頻率0.007μm-1以上、0.015μm-1以下具有第一極大值，且在空間頻率0.05μm-1以上、0.1μm-1以下具有第二極大值。
(C)防眩薄膜的形成
以下的各成分以固體成份濃度60重量%溶解於醋酸乙酯，購入在硬化後呈現1.53之折射率的紫外線硬化性樹脂組合物A。
新戊四醇三丙烯酸酯 60重量份
多官能聚氨酯丙烯酸酯 40重量份
(六亞甲基二異氰酸酯和新戊四醇三丙烯酸酯的反應生成物)
二苯基(2,4,6-三甲氧基苯甲醯基)氧化膦5重量份
將該紫外線硬化性樹脂組合物A，以乾燥後的塗佈厚度為7μm的方式塗佈在厚度40μm的三乙醯纖維素(TAC)薄膜上，在設定為60℃的乾燥機中使其乾燥三分鐘。將乾燥後的薄膜，利用用橡膠輥，以光硬化性樹脂組合物層成為模具側的方式按壓於先前所得到的模具A的凹凸面，並使其密著。在該狀態下，自TAC薄膜側，以h線換算光量計測為200mJ/cm2的方式，照射來自強度20mW/cm2的高壓水銀燈的光，使光硬化性樹脂組合物層硬化。之後，將TAC薄膜連同硬化樹脂一同從模具剝離，製作出由表面具有凹凸的硬化樹脂和TAC薄膜的層積體製成的透明的防眩薄膜A。
(D)防眩性偏光板的製作
對於水100重量份，溶解1.8重量份的(股)Kuraray販售的羧基改質聚乙烯醇「可樂麗波維爾KL318」(改質度為2莫耳%)，再添加1.5重量份的水溶性聚醯胺環氧樹脂即Sumika Chemtex(股)販售的「sumilex resin650」(固體成份為30重量%的水溶液)進行溶解，製作聚乙烯醇系接著劑。
在對與形成防眩薄膜A的防眩層之側的相反側進行皂化處理之後，利用桿塗佈機來塗佈10μm的如上 所述調製的聚乙烯醇系接著劑，且在其上貼合先前所得到的偏光薄膜。然後，以80℃、乾燥5分鐘，進一步在常溫下養護一天。然後，將形成在保護膜上的厚度15μm的聚丙烯酸系黏著劑層移固到與貼合著偏光薄膜的防眩薄膜之側的相反側，形成黏著劑層，得到防眩性偏光板A。該防眩性偏光板A的總厚度85μm。
(E)液晶顯示裝置的製作
將偏光板自搭載著IPS模式的液晶顯示元件(即畫像顯示元件)的市售的筆記型電腦(VAIO-SVS15119FJB．S、Sony(股)製)的液晶胞的前面(視認側)剝離，在液晶胞的前面上述防眩性偏光板A，以偏光板的吸收軸與原本黏貼於液晶胞的偏光板的吸收軸方向一致的方式使其貼合，製作成液晶面板。接著，將該液晶面板恢復成液晶顯示元件，製作成液晶顯示裝置A(即畫像顯示裝置)。
<實施例2>
除黏著劑層的厚度為25μm以外，其餘與實施例1相同，製作成防眩性偏光板B與液晶顯示裝置B。該防眩性偏光板B的總厚度為95μm。
<比較例1>
除了使用厚度60μm的TAC薄膜以外，其餘與實施例1相同，製作成防眩薄膜C。另外，除了使用防眩薄膜C 以外，其餘與實施例1相同，製作防眩性偏光板C和液晶顯示裝置C。該防眩性偏光板C的總厚度為105μm。
<比較例2>
將直徑300mm的鋁輥(JIS的A5056)的表面進行鏡面研磨，對已研磨的鋁面，使用噴砂裝置((股)不二製作所製)，以噴砂壓力0.1MPa(表壓，以下相同)、珠使用量8g/cm2(輥的表面積平均每1cm2的使用量，以下相同)，噴氧化鋯珠TZ-SX-17(Tosoh(股)製，平均粒徑：20μm)，使表面形成凹凸。對所得到的附凹凸的鋁輥，進行無電解鍍鎳加工，製作成模具B。此時，無電解鍍鎳厚度設定為15μm。除了使用所得到的模具B以外，與實施例1相同，製作成防眩薄膜D。另外，除了使用防眩薄膜D以外，其餘與實施例1相同，製作防眩性偏光板D和液晶顯示裝置D。防眩性偏光板D的總厚度為85μm。
<比較例3>
藉由雷射光將圖案在感光性樹脂膜上進行曝光，第15圖所示的圖案(通過從具有隨機亮度分佈的圖案，除去特定的空間頻率範圍的成份的帶通濾波器而作成)重複並列而成的，除了第1蝕刻處理的蝕刻量設定為4μm、第2蝕刻處理的蝕刻量設定為11μm以外，其餘與實施例1相同，製作成模具C，除了使用模具C以外，其餘與實施例1相同，製作成防眩薄膜E，除了使用防眩薄膜E以 外，其餘與實施例1相同，製作成防眩性偏光板E和液晶顯示裝置E。防眩性偏光板E的厚度為85μm。
[防眩性偏光板的評價]
針對上述實施例及比較例所得到的防眩性偏光板，進行以下的評價。將評價結果標示於表1。另外，於第13圖、第14圖及第16圖表示，由在實施例1、2及比較例1~3製作的防眩性偏光板A~E的標高計算出的一維功率頻譜的常用對數logH2(f)。
[1]防眩性偏光板的表面形狀的測定 (表面的標高的測定)
使用三維顯微鏡PLμ2300(Sensofar社製)，來測量防眩性偏光板的表面的標高。為了防止樣品翹曲，使用光學透明的黏著劑，以凹凸面成為表面的方式貼合在玻璃基板之後，供測量使用。測量之際，對物鏡的倍率設為10倍進行測量。水平分辨率△x及△y都為1.66μm，測量面積為1270μm×950μm。
(微細表面凹凸的標高的功率頻譜)
從上述所得到的測量資料的中央部抽取512個×512個(以測量面積計，850μm×850μm)資料，將防眩性偏光板的微細凹凸表面的標高設為二維函數h(x、y)而求出。將二維函數h(x、y)進行離散傅立葉變換，求出二維函數 H(fx、fy)。將二維函數H(fx、fy)平方，計算二維功率頻譜的二維函數H2(fx、fy)，計算出自原點起的距離f的函數的一維功率頻譜的一維函數H2(f)。針對各樣品測量五處的表面的標高，將從該些資料所計算的一維功率頻譜的一維函數H2(f)的平均值作為各樣品的一維功率頻譜的一維函數H2(f)。
[2]防眩性偏光板的光學特性的測量 (霧度)
防眩性偏光板的全霧度，是將防眩性偏光板使用光學透明的黏著劑，以與防眩層形成面相反側的面貼合在玻璃基板，針對貼合在該玻璃基板的防眩性偏光板，從玻璃基板側射入光，使用以JIS K 7136為標準的(股)村上色彩技術研究所製的霧度測量儀「HM-150」型進行測量。
(透過鮮明度)
使用以JIS K 7105為標準的Suga試驗機(股)製的圖像清晰度測量儀「ICM-1DP」，來測量防眩性偏光板的透過鮮明度。此情形下，也為了防止樣品的翹曲，使用光學透明的黏著劑，以防眩層的微細凹凸形狀面成為表面的方式貼合在玻璃基板之後，供測量使用。在此狀態下從玻璃側射入光，進行測量。在此的測量值，是使用暗部和明部的寬度分別為0.125mm、0.5mm、1.0mm及2.0mm的四種光學梳所測量的值的合計值。此情形的透過鮮明度的最大 值為400%。
(反射鮮明度)
使用以JIS K 7105為標準的Suga試驗機(股)製的圖像清晰度測量儀「ICM-1DP」，來測量防眩性偏光板的反射鮮明度。此情形下，也為了防止樣品的翹曲，使用光學透明的黏著劑，以防眩層的微細凹凸形狀面成為表面的方式貼合在黑色丙烯酸基板之後，供測量使用。在此狀態下，從凹凸形狀面側使光以45°射入，進行測量。在此的測量值，是使用暗部和明部的寬度分別為0.5mm、1.0mm及2.0mm的四種光學梳所測量的值的合計值。此情形的反射鮮明度的最大值為300%。
[3]防眩性偏光板的評價
在前面(視認側)附加防眩性偏光板所製作的液晶顯示裝置，在明亮室內作為黑色顯示狀態，對映入狀態、發白進行目視觀察。接著，在明亮室內作為白色顯示狀態，有關閃眩亦進行目視觀察。有關映入狀態、發白、閃眩的評價基準則如下。
(映入)
1：未觀察到映入。
2：稍微觀察到映入。
3：清楚的觀察到映入。
(發白)
1：未觀察到發白。
2：稍微觀察到發白。
3：清楚的觀察到發白。
(閃眩)
1：辨識不到閃眩。
2：稍微觀察到閃眩。
3：明顯觀察到閃眩。
如表1所示，針對防眩性偏光板A~C(實施例1及2、比較例1)，有關標高的功率頻譜的常用對數 的空間頻率的二階導數d2logH2(f)/df2，在空間頻率0.01μm-1為不滿0，在空間頻率0.02μm-1為大於0。藉此，如第13圖及第14圖所示，以防眩性偏光板A~C的標高的功率頻譜的常用對數作為相對於空間頻率的強度而表現的圖表，在空間頻率0.01μm-1具有向上凸的形狀，在空間頻率0.02μm-1具有向下凸的形狀。
另一方面，針對防眩性偏光板D(比較例 2)，有關標高的功率頻譜的常用對數的空間頻率的二階導數d2logH2(f)/df2，在空間頻率0.01μm-1為大於0，在空間頻率0.02μm-1為不滿0。此結果，如第14圖所示，以防眩性偏光板D的功率頻譜的常用對數作為相對於空間頻率的強度而表現時的圖表，在空間頻率0.01μm-1具有向下凸的形狀，在空間頻率0.02μm-1具有向上凸的形狀。
另外，針對防眩性偏光板E(比較例3)，有 關標高的功率頻譜的常用對數的空間頻率的二階導數d2logH2(f)/df2，在空間頻率0.01μm-1為大於0，在空間頻率0.02μm-1為大於0。此結果，如第16圖所示，以防眩性偏光板E的功率頻譜的常用對數作為相對於空間頻率的強度而表現的圖表，空間頻率0.01μm-1具有向下凸的形狀，在空間頻率0.02μm-1具有向下凸的形狀。
滿足本發明之必要條件的防眩性偏光板A及 B(實施例1及2)就算是低霧度，發現仍然需要充分的防眩性與優異的閃眩抑制效果。另一方面，表現與防眩性偏光板A及B相同的空間頻率特性的防眩性偏光板C(比 較例1)也呈現必要充分的防眩性，但由為偏光板的厚度為105μm，因此觀察到閃眩。另外，以標高的功率頻譜的常用對數作為相對於空間頻率的強度而表現的圖表，在空間頻率0.02μm-1具有向上凸的形狀的防眩性偏光板D(比較例2)，觀察到強烈閃眩。另外，以標高的功率頻譜的常用對數作為相對於空間頻率的強度而表現的圖表，在空間頻率0.01μm-1具有向下凸的形狀的防眩性偏光板E(比較例3)發生映入，防眩性不充分。

Claims (4)

  1. 一種防眩性偏光板，有關包含：由聚乙烯醇系樹脂製成的偏光薄膜、和形成在該偏光薄膜上的防眩層，全霧度為1%以下，且厚為100μm以下的防眩性偏光板，其特徵為：前述防眩層具備：在與前述偏光薄膜的相反側具有微細凹凸的微細凹凸表面，有關前述微細凹凸表面的標高的一維功率頻譜H2(f)的常用對數的空間頻率f的二階導數d2logH2(f)/df2，於空間頻率0.01μm-1為不滿0，於空間頻率0.02μm-1為大於0。
  2. 如申請專利範圍第1項所記載的防眩性偏光板，其中，前述微細凹凸表面中，傾斜角度5°以上的微小面的比例不滿1%。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所記載的防眩性偏光板，其中，前述微細凹凸表面的最大斷面高度Rt為0.3μm以上、1μm以下。
  4. 一種畫像顯示裝置，其特徵為：申請專利範圍第1項~第3項之任一項所記載的防眩性偏光板，配置成前述微細凹凸表面的反相側與液晶胞相對向。
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