TWI512318B - 防眩性偏光板及使用該偏光板之影像顯示裝置 - Google Patents

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Description

防眩性偏光板及使用該偏光板之影像顯示裝置
本發明係關於一種顯示較佳的防眩性，可防止泛白及閃斑的產生，且顯現良好的對比(contrast)並賦予良好的觀看性之防眩性偏光板及使用該偏光板之影像顯示裝置。
液晶顯示器、電漿顯示面板、布勞恩管(Braun tube)(陰極射線管：CRT，Cathode Ray Tube)顯示器、有機電致發光(EL：Electroluminescence)顯示器等影像顯示裝置，係在外光映射至其顯示面時，會顯著地損及觀看性。為了防止如此之外光的映射，在重視畫質之電視和個人電腦、於外光較強的室外所用之攝影機及數位照相機、以及利用反射光來進行顯示之行動電話等中，係在影像顯示裝置的表面配置有用以防止外光的映射之防眩膜。例如在液晶顯示器中，通常在液晶面板的觀看側配置有防眩性偏光板，該防眩性偏光板具備：由聚乙烯醇樹脂所構成之偏光膜，以及使用聚乙烯醇系接著劑貼合於該偏光膜之防眩膜。
例如，在日本特開2006-053371號公報中，係記載有對於經研磨的模具基材施以噴砂加工後，施以無電解鍍鎳，藉此而製造表面具有細微凹凸之模具，然後一邊將形成於三乙酸纖維素(TAC：Triacetyl Cellulose)膜上之光硬化性樹脂層按壓於該模具的凹凸面，並一邊進行硬化，藉此而得到於光硬化性樹脂層的表面轉印有該模具的凹凸面之防眩膜。
對於防眩膜，除了要求防眩性以外，亦期望當配置在影像顯示裝置之偏光板的觀看側時會顯現高對比，當配置在影像顯示裝置之偏光板的觀看側時，則抑制因散射光使顯示面變白而產生顯示濁化之所謂「泛白」的產生，以及當配置在影像顯示裝置之偏光板的觀看側時，則抑制因影像顯示裝置的像素與防眩膜的表面凹凸形狀產生干涉而導致亮度分布的產生並變得難以觀看之所謂「閃斑」的產生。然而，上述日本特開2006-053371號公報所記載之防眩膜，由於是使用經噴砂加工而形成凹凸形狀之模具來製作，故形成於防眩膜之凹凸形狀的精度不足，尤其因可能會製作出具有50μm以上的周期之較大的凹凸形狀，故有容易產生「閃斑」的問題。
此外，當使用以往廣泛使用之聚乙烯醇系接著劑作為用以將防眩膜與由聚乙烯醇樹脂所構成之偏光膜貼合之接著劑時，亦有無法製得具有高耐水性之防眩性偏光板之問題。
因此，本發明之目的係提供一種可顯示較佳的防眩性，並顯現良好的對比，同時可防止因「泛白」及「閃斑」的產生所導致之觀看性的降低，並且耐水性亦佳之防眩性偏光板。
本發明係提供一種防眩性偏光板，其具備：防眩膜，其具有透明支撐體、及積層於該透明支撐體上且具有凹凸表面之防眩層；以及由聚乙烯醇系樹脂膜所構成之偏光膜，其係隔介第1接著劑層而積層於透明支撐體之與防眩層相反側的面；其中，第1接著劑層是由含有環氧系樹脂之硬化性組成物的硬化物所構成；空間頻率0.01μm-1 中之防眩層的凹凸表面之標高的能譜(energy spectrum)H1 2 與空間頻率0.04μm-1 中之該凹凸表面之標高的能譜H2 2 之比H1 2 /H2 2 係在1至20的範圍內；空間頻率0.1μm-1 中之該凹凸表面之標高的能譜H3 2 與空間頻率0.04μm-1 中之該凹凸表面之標高的能譜H2 2 之比H3 2 /H2 2 為0.1以下；並且，該凹凸表面包含95%以上之傾斜角度為5°以下的面。
本發明之防眩性偏光板，較佳係復具備：保護膜或光學補償膜等光學補償層，其係隔介第2接著劑層而積層於偏光膜之與防眩膜相反側的面。光學補償層亦可積層於保護膜上，該保護膜係隔介第2接著劑層而積層在偏光膜之與防眩膜相反側的面。
第2接著劑層較佳是由含有環氧系樹脂之硬化性組成物的硬化物所構成。
偏光膜較佳為使用經單軸拉伸且吸附配向有二色性色素(dichroism pigment)之聚乙烯醇系樹脂膜。
此外，本發明係提供一種具備上述防眩性偏光板及影像顯示元件之影像顯示裝置。本發明之影像顯示裝置中，防眩性偏光板係以其防眩層側為外側而配置在影像顯示元件的觀看側。
本發明之防眩性偏光板，能夠顯示較佳的防眩性，並顯現良好的對比，同時可有效地防止因「泛白」及「閃斑」的產生所導致之觀看性的降低，並且耐水性亦佳。
 ＜防眩性偏光板＞
第1圖係示意性地顯示本發明之防眩性偏光板的較佳一例之剖面圖。本發明之防眩性偏光板，如第1圖所示之例子，係具備：防眩膜1，其具有透明支撐體102、及積層於透明支撐體102上且具有細微的凹凸表面之防眩層101；以及由聚乙烯醇系樹脂膜所構成之偏光膜104，其係隔介第1接著劑層103a而積層於透明支撐體102之與防眩層101相反側的面。第1接著劑層103a是由含有環氧系樹脂之硬化性組成物的硬化物所構成。本發明之防眩性偏光板，如第1圖所示之例子，可復具備：保護膜或光學補償層105，其係隔介第2接著劑層103b而積層於偏光膜104之與防眩膜1相反側的面。光學補償層亦可積層於保護膜上，該保護膜係隔介第2接著劑層103b而積層於偏光膜104之與防眩膜1相反側的面。以下更詳細地說明本發明之防眩性偏光板。
[1]防眩膜 (防眩層)
本發明之防眩性偏光板中所使用之防眩膜，係具備：積層於透明支撐體上且具有細微的凹凸表面(細微凹凸表面)之防眩層。該防眩層的特徵為：空間頻率0.01μm-1 中之細微凹凸表面之標高的能譜H1 2 與空間頻率0.04μm-1 中之細微凹凸表面之標高的能譜H2 2 之比H1 2 /H2 2 係在1至20的範圍內，空間頻率0.1μm-1 中之細微凹凸表面之標高的能譜H3 2 與空間頻率0.04μm-1 中之細微凹凸表面之標高的能譜H2 2 之比H3 2 /H2 2 為0.1以下。
以往，對於防眩膜之細微凹凸表面的週期，係以JIS B 0601所記載之粗糙度曲線要素的平均長度RSm、剖面曲線要素的平均長度PSm、以及彎曲曲線要素的平均長度WSm等來進行評估。然而，在如此之以往的評估方法中，無法正確地評估細微凹凸表面中所含之複數個週期。因此，對於閃斑與細微凹凸表面之相關性以及防眩性與細微凹凸表面之相關性，亦無法正確地評估，在控制RSm、PSm、WSm等值之下，係難以製作出可兼具閃斑的抑制與充分的防眩性能之防眩膜。
本發明人們係發現到，在將具有細微凹凸表面之防眩層形成於透明支撐體上之防眩膜中，該細微凹凸表面顯示出使用「細微凹凸表面之標高的能譜」所規定之特定的空間頻率分布，亦即標高的能譜比H1 2 /H2 2 係在1至20的範圍內且H3 2 /H2 2 為0.1以下之防眩膜，可顯現較佳的防眩性能，並防止因泛白的產生所造成之觀看性的降低，即使運用在高精細的影像顯示裝置時，亦不會產生閃斑而能夠顯現高對比。
首先，說明防眩層所具有之細微凹凸表面之標高的能譜。第2圖係示意性地顯示本發明之防眩性偏光板所具備之防眩膜的表面之透視圖。如第2圖所示，本發明之防眩膜1具備：具有由細微凹凸2所構成之細微凹凸表面的防眩層。在此，本發明中所謂「細微凹凸表面的標高」，係意指在防眩膜1表面的任意點P中之細微凹凸表面的最低點的高度中，從具有該高度之虛擬平面(標高係就基準而言為0μm)，於防眩膜的主法線方向5(上述虛擬平面之法線方向)之直線距離。如第2圖所示，當以(x,y)來表示防眩膜面內的正交座標時，細微凹凸表面的標高可由座標(x,y)的二維函數h(x,y)來表示。第2圖中，係以投影面3來表示防眩膜全體的面。
細微凹凸表面的標高，可從藉由共焦顯微鏡、干涉顯微鏡、原子力顯微鏡(AFM：Atomic Force Microscope)等裝置所測定之表面形狀的三維資訊中求取。測定機所要求的水平分解能至少為5μm以下，較佳為2μm以下，此外，垂直分解能至少為0.1μm以下，較佳為0.01μm以下。適合於此測定之非接觸式三維表面形狀‧粗糙度測定機，可列舉New View 5000系列(Zygo Corporation公司製，在日本可從Zygo有限公司來取得)、三維顯微鏡PLμ2300(Sensofar公司製)等。關於測定面積，由於標高之能譜的分解能必須為0.01μm-1 以下，所以測定面積較佳係至少為200μm×200μm以上，尤佳為500μm×500μm以上。
其次，說明從二維函數h(x,y)來求取標高的能譜之方法。首先，係從二維函數h(x,y)中，藉由下列式(1)所定義之二維傅利葉轉換來求取二維函數H(fx ,fy )。
在此，fx 及fy 分別為x方向及y方向的空間頻率，具有長度之倒數的維度。此外，式(1)中的π為圓周率，i為虛數單位。藉由將所得之二維函數H(fx ,fy )進行平方運算，可求取標高的能譜H2 (fx ,fy )。此能譜H2 (fx ,fy )係表示防眩層之細微凹凸表面的空間頻率分布。
以下，更具體地說明求取防眩層所具有之細微凹凸表面之標高的能譜之方法。藉由上述共焦顯微鏡、干涉顯微鏡、原子力顯微鏡等所實際測定之表面形狀的三維資訊，一般係作為離散值，亦即作為對應於多數個測定點之標高而獲得。第3圖係顯示離散地獲得表示標高之函數h(x,y)之狀態的示意圖。如第3圖所示，當以(x,y)表示防眩膜面內的正交座標，並以虛線來表示防眩膜的投影面3上在x軸方向以每Δx所分割的線以及在y軸方向以每Δy所分割的線時，在實際的測定中，細微凹凸表面的標高係作為防眩膜的投影面3上之各虛線的每個交叉點之離散的標高值而獲得。
所得之標高值的數目，是由測定範圍與Δx及Δy所決定，如第3圖所示，當以x軸方向的測定範圍為X=MΔx，以y軸方向的測定範圍為Y=NΔy時，所得之標高值的數目為(M+1)×(N+1)個。
如第3圖所示，當將防眩膜的投影面3上之著眼點A的座標設為(jΔx,kΔy)(在此，j為0以上M以下，k為0以上N以下)時，對應於著眼點A之防眩膜表面上之點P的標高可表示為h(jΔx,kΔy)。
在此，測定間隔Δx及Δy係與測定機器的水平分解能相依，為了精度佳地評估細微凹凸表面，如上述般，以Δx及Δy較佳均為5μm以下，尤佳均為2μm以下。此外，測定範圍X及Y係如上述般，較佳均為200μm以上，尤佳均為500μm以上。
如此，在實際的測定中，表示細微凹凸表面的標高之函數係作為具有(M+1)×(N+1)個值之離散函數h(x,y)而獲得。因此，係藉由以測定所獲得之離散函數h(x,y)與下列式(2)所定義之離散傅利葉轉換，來求取離散函數H(fx ,fy )，並藉由將離散函數H(fx ,fy )進行平方運算，而求取能譜的離散函數H2 (fx ,fy )。式(2)中的1為-(M+1)/2以上(M+1)/2以下之整數，m為-(N+1)/2以上(N+1)/2以下之整數。此外，Δfx 及Δfy 分別為x方向及y方向的空間頻率間隔，並分別由式(3)及式(4)所定義。Δfx 及Δfy 相當於標高之能譜的水平分解能。
第4圖係以二維離散函數h(x,y)來表示本發明之防眩性偏光板所具備之防眩層的細微凹凸表面的標高之圖的一例。第4圖中，標高係以白與黑的階度(gradation)來表示。第4圖所示之離散函數h(x,y)係具有512×512個值，水平分解能Δx及Δy為1.66μm。
此外，第5圖係以白與黑的階度來表示將第4圖所示之二維函數h(x,y)進行離散傅利葉轉換所得之標高的能譜H2 (fx ,fy )之圖。第5圖所示之標高的能譜H2 (fx ,fy )亦為具有512×512個值之離散函數，水平分解能Δfx 及Δfy 為0.0012μm-1 。
如第4圖所示之例子般，由於本發明之防眩性偏光板所具備之防眩層的細微凹凸表面是由不規則地形成之凹凸所構成，所以，標高的能譜H2 係如第5圖所示，以原點為中心呈對稱。因此，可從通過屬於二維函數之能譜H2 (fx ,fy )的原點之剖面，來求取空間頻率0.01μm-1 中之標高的能譜H1 2 、空間頻率0.04μm-1 中之標高的能譜H2 2 及空間頻率0.1μm-1 中之標高的能譜H3 2 。第6圖係顯示第5圖所示之能譜H2 (fx ,fy )中的fx =0時之剖面的圖。從第6圖中可得知，空間頻率0.01μm-1 中之細微凹凸表面的標高的能譜H1 2 為4.4，空間頻率0.04μm-1 中之細微凹凸表面的標高的能譜H2 2 為0.35，空間頻率0.1μm-1 中之細微凹凸表面的標高的能譜H3 2 為0.00076，並算出比H1 2 /H2 2 為14，比H3 2 /H2 2 為0.0022。
如上述般，本發明之防眩層中，空間頻率0.01μm-1 中之細微凹凸表面的標高的能譜H1 2 與空間頻率0.04μm-1 中之標高的能譜H2 2 之比H1 2 /H2 2 被設定在1至20的範圍內。標高的能譜之比H1 2 /H2 2 低於1者，係顯示防眩層的細微凹凸表面中所含之100μm以上的長週期之凹凸形狀較少，未達25μm的短週期之凹凸形狀較多者。此時，無法有效地防止外光的映射，而無法獲得充分的防眩性能。此外，相對於此，標高的能譜之比H1 2 /H2 2 高於20者，係顯示細微凹凸表面中所含之100μm以上的長週期之凹凸形狀較多，未達25μm的短週期之凹凸形狀較少者。此時，當將防眩性偏光板適用在高精細的影像顯示裝置時，有產生閃斑之傾向。為了顯示更佳的防眩性能並更有效地抑制閃斑，標高的能譜H2 2 之比H1 2 /H2 2 較佳為5至18的範圍內，更佳為8至15的範圍內。
此外，本發明之防眩層中，空間頻率0.1μm-1 中之細微凹凸表面的標高的能譜H3 2 與空間頻率0.04μm-1 中之標高的能譜H2 2 之比H3 2 /H2 2 被設定在0.1以下，較佳設為0.01以下。比H3 2 /H2 2 為0.1以下者，係顯示可充分地降低細微凹凸表面中所含之未達10μm的短週期成分，藉此可有效地抑制泛白的產生。細微凹凸表面中所含之未達10μm的短週期成分，不僅未有效地賦予防眩性，更會使入射於細微凹凸表面之光散射而成為泛白之原因。
上述日本特開2006-053371號公報等所記載之以往所知的防眩膜中，由於其空間頻率0.01μm-1 中之細微凹凸表面的標高的能譜H1 2 與空間頻率0.04μm-1 中之標高的能譜H2 2 之比H1 2 /H2 2 係大於本案，所以，有容易產生閃斑之問題。因此，為了將比H1 2 /H2 2 設定在1至20的範圍內，必須降低空間頻率0.01μm-1 中之細微凹凸表面的標高的能譜H1 2 。如此，具有使空間頻率0.01μm-1 中之細微凹凸表面的標高的能譜H1 2 被降低之細微凹凸表面之防眩膜，如後述般，可藉由使用顯示出在空間頻率大於0μm-1 且為0.04μm-1 以下的範圍內不具有極大值之能譜的圖案(pattern)，而理想地製作出。在此，所謂「圖案」，典型上係意指為了形成防眩膜的細微凹凸表面所用之藉由計算機所製作之由2階調(例如經二值化為白與黑之影像資料)或3階調以上的階度所構成之影像資料，但亦可包含可單一意義地轉換為該影像資料之資料(行列資料等)。可單一意義地轉換為影像資料之資料，係可舉例如僅保存各像素的座標及階調之資料等。
如此，藉由使用顯示出在空間頻率大於0μm-1 且為0.04μm-1 以下的範圍內不具有極大值之能譜的圖案來形成防眩膜的細微凹凸表面，可有效地降低空間頻率0.01μm-1 中之細微凹凸表面的標高的能譜H1 2 ，而可將比H1 2 /H2 2 設定在1至20的範圍內。
再者，為了獲得具有空間頻率0.1μm-1 中之細微凹凸表面的標高的能譜H3 2 與空間頻率0.04μm-1 中之標高的能譜H2 2 之比H3 2 /H2 2 為0.1以下之細微凹凸表面之防眩膜，前述圖案的能譜，較佳係在空間頻率大於0.04μm-1 且未達0.1μm-1 之範圍內具有極大值。藉由使用具有如此之能譜之圖案來形成防眩膜的細微凹凸表面，可有效地增大空間頻率0.04μm-1 中之細微凹凸表面的標高的能譜H2 2 ，而可將比H3 2 /H2 2 設定在0.1以下。
使用如此之圖案來形成防眩膜的細微凹凸表面之方法，較佳為使用該圖案來製作具有凹凸面之模具，並將該模具的凹凸面轉印至基材膜上所形成之樹脂層的表面之方法(壓花法(embossing))。
本發明人們另發現到，防眩層的細微凹凸表面顯示特定的傾斜角度分布者，係會顯示較佳的防眩性能，且更有效地防止泛白。亦即，本發明之防眩性偏光板中，防眩層的細微凹凸表面係包含95%以上之傾斜角度為5°以下的面。當傾斜角度為5°以下之面的比例低於95%時，凹凸表面的傾斜角度變陡，會將來自周圍的光予以聚光，而容易產生顯示面全體變白之泛白現象。為了抑制此聚光效果並防止泛白，以細微凹凸表面的傾斜角度為5°以下之面的比例愈高者愈佳，較佳為97%以上，尤佳為99%以上。
在此，本發明中所謂「細微凹凸表面的傾斜角度」，是指參照第2圖，在防眩膜1表面的任意點P中，相對於防眩膜的主法線方向5，在該處將凹凸進行加權後之局部的法線6所成之角度(表面傾斜角度)ψ。關於細微凹凸表面的傾斜角度，亦與標高相同地，可從藉由共焦顯微鏡、干涉顯微鏡、原子力顯微鏡(AFM)等裝置所測定之表面形狀的三維資訊中求取。
第7圖係用以說明細微凹凸表面之傾斜角度的測定方法之示意圖。說明具體的傾斜角度決定方法時，如第7圖所示，首先決定以虛線所示之虛擬平面FGHI上的著眼點A，在通過點A之x軸上的著眼點A附近取相對於點A幾乎呈對稱之點B及D，且在通過點A之y軸上的著眼點A附近取相對於點A幾乎呈對稱之點C及E，並決定對應於此等點B、C、D、E之在防眩膜面上的點Q、R、S、T。此外，第7圖中，以(x,y)表示防眩膜面內的正交座標，以z來表示防眩膜厚度方向的座標。平面FGHI係由通過y軸上的點C且平行於x軸的直線以及同樣通過y軸上的點E且平行於x軸的直線、與通過x軸上的點B且平行於y軸的直線以及同樣通過x軸上的點D且平行於y軸的直線之各交叉點F、G、H、I所形成之面。此外，雖然第7圖中係以使實際之防眩膜面的位置相對於平面FGHI為上方之方式來描繪，但當然可因著眼點A的取點位置之不同，使實際之防眩膜面的位置在平面FGHI的上方或下方。
傾斜角度，可藉由從所測得之表面形狀的三維資訊中，求取將由對應於著眼點A之實際防眩膜面上的點P與對應於在著眼點A附近所取之4點B、C、D、E之實際防眩膜面上的點Q、R、S、T的合計5點所構成之多邊形的4個平面，亦即四個三角形PQR、PRS、PST、PTQ的各法線向量6a、6b、6c、6d予以平均所得之平均法線向量(平均法線向量係與第2圖所示之將凹凸進行加權後之局部的法線6同義)之相對於防眩膜的主法線方向之極角而獲得。對各測定點求取傾斜角度後，計算出直方圖(histogram)。
第8圖係顯示防眩膜所具備之防眩層的細微凹凸表面之傾斜角度分布的直方圖的一例之圖表。第8圖所示之圖表中，橫軸為傾斜角度，且以0.5°為刻度來分割。例如最左邊的直柱，係表示傾斜角度為0至0.5°的範圍之集合的分布，之後隨著往右方移動，角度每次增加0.5°。第8圖中，每隔橫軸的2個刻度顯示值的下限值，例如，橫軸中「1」的部分，表示傾斜角度為1至1.5°的範圍之集合的分布，此外，縱軸表示傾斜角度的分布，是合計為1(100%)之值。此例中，傾斜角度為5°以下之面的比例大致為100%。
為了製作出防眩層的細微凹凸表面包含95%以上之傾斜角度為5°以下的面之防眩膜，較佳仍是採取使用該圖案來製作具有凹凸面之模具，並將該模具的凹凸面轉印至基材膜上所形成之樹脂層的表面之方法(壓花法)。如此之壓花法中，防眩層的細微凹凸表面之傾斜角度，是由具有凹凸面之模具的製造條件來決定。具體而言，可藉由改變後述模具的製造方法中之蝕刻步驟的蝕刻量來進行控制。亦即，藉由減少第1蝕刻步驟之蝕刻量，可減少所形成之第1表面凹凸形狀的高低差，而增加傾斜角度為5°以下的面之比例。為了製得具備包含95%以上之傾斜角度為5°以下的面之細微凹凸表面的防眩膜，第1蝕刻步驟之蝕刻量較佳為2至8μm。當蝕刻量未達2μm時，金屬表面幾乎無法形成凹凸形狀而成為幾乎平坦之模具，故使用此模具所製作之防眩膜無法顯示充分的防眩性。此外，當蝕刻量超過8μm時，形成於金屬表面之凹凸形狀的高低差增大，可能使傾斜角度為5°以下的面未達95%。使用此模具所製作之防眩膜，會有產生泛白之虞。
此外，亦可藉由第2蝕刻步驟之蝕刻量，來控制防眩層的細微凹凸表面之傾斜角度。藉由增加第2蝕刻步驟之蝕刻量，可有效地將第1表面凹凸形狀之表面傾斜較陡的部分予以鈍化，而可增加傾斜角度為5°以下的面之比例。為了製得具備包含95%以上之傾斜角度為5°以下的面之細微凹凸表面的防眩膜，第2蝕刻步驟之蝕刻量較佳設為4至20μm之範圍內。當蝕刻量較小時，將藉由第1蝕刻步驟所得之凹凸的表面形狀予以鈍化之效果不足，轉印該凹凸形狀所製得之防眩膜的光學特性並不佳。另一方面，當蝕刻量太大時，凹凸形狀幾乎消失而成為幾乎平坦之模具，所以無法顯示防眩性。
本發明中，防眩層可由光硬化型樹脂等硬化型樹脂的硬化物或熱可塑性樹脂等所構成，其中較佳是由光硬化型樹脂的硬化物所構成。防眩層中，亦可分散有與硬化型樹脂的硬化物或熱可塑性樹脂具有不同折射率之微粒。藉由使微粒分散，可更有效地抑制閃斑。
當使上述微粒分散於防眩層時，微粒的平均粒徑較佳為5μm以上，尤佳為6μm以上。此外，微粒的平均粒徑可設為10μm以下，較佳為8μm以下。當平均粒徑低於5μm時，微粒所造成之廣角側的散射光強度上升，當將防眩性偏光板運用在影像顯示裝置時，有使對比降低之傾向。
此外，微粒的折射率nb 與硬化型樹脂的硬化物或熱可塑性樹脂的折射率nr 之折射率比nb /nr 較佳為0.93以上0.98以下、或1.01以上1.04以下，尤佳為0.97以上0.98以下、或1.01以上1.03以下。當折射率比nb /nr 低於0.93或高於1.04時，硬化型樹脂的硬化物或熱可塑性樹脂與微粒之界面的反射率增大，結果使後方散射上升，而有總透光率降低之傾向。總透光率的降低會使防眩膜的霧度(haze)增大，運用在影像顯示裝置時會發生對比的降低。此外，當折射率比nb /nr 超過0.98且未達1.01時，由於微粒所致之內部散射效果變小，為了將既定的散射特性賦予至防眩層以獲得閃斑抑制效果時，可能必須增加微粒的添加量。
微粒的含量，相對於硬化型樹脂或熱可塑性樹脂100重量份，通常為50重量份以下，較佳為40重量份以下。此外，微粒的含量，較佳為10重量份以上，尤佳為15重量份以上。當微粒的含量未達10重量份時，微粒所致之閃斑抑制效果可能會不足。
構成微粒之材料，較佳為滿足上述較佳折射率比者。如後述般，本發明中，防眩層的形成較佳係使用UV壓花法，UV壓花法中，較佳為使用紫外線硬化型樹脂。此時，由於紫外線硬化型樹脂的硬化物多半係顯示1.50左右的折射率，所以，可配合防眩膜的設計，從折射率為1.40至1.60者中適當地選擇作為微粒。微粒較佳係使用樹脂顆粒(resin beads)且為幾乎呈球狀者。較佳的樹脂顆粒之例，有下列所揭示者。
三聚氰胺顆粒(折射率1.57)、
聚甲基丙烯酸甲酯顆粒(折射率1.49)、
甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚物樹脂顆粒(折射率1.50至1.59)、
聚碳酸酯顆粒(折射率1.55)、
聚乙烯顆粒(折射率1.53)、
聚苯乙烯顆粒(折射率1.6)、
聚氯乙烯顆粒(折射率1.46)、
聚矽氧(silicone)樹脂顆粒(折射率1.46)等。
(透明支撐體)
防眩膜中所使用之透明支撐體，較佳係使用實質上為光學透明的樹脂膜，例如可列舉三乙酸纖維素膜、聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚甲基丙烯酸甲酯膜、聚碳酸酯膜、以降莰烯(norbornene)系化合物作為單體之非結晶性環狀聚烯烴所構成之膜等熱可塑性樹脂膜。此等熱可塑性樹脂膜，可為溶劑澆鑄膜(solvent cast film)或是擠壓膜(extruded film)等。此等樹脂膜亦可為經施以單軸拉伸或雙軸拉伸等拉伸處理者。
透明支撐體的厚度，就處理性之觀點來看，較佳為20μm以上，此外，就影像顯示裝置的薄型化及成本等觀點來看，較佳為100μm以下。透明支撐體的厚度尤佳為30μm以上80μm以下。
(防眩膜的製造方法)
本發明之防眩性偏光板所使用之防眩膜，較佳係藉由含有下列步驟(A)及步驟(B)之方法來製造出：
(A)根據顯示出在空間頻率大於0μm-1 且為0.04μm-1 以下的範圍內不具有極大值之能譜的圖案，來製作出具有凹凸面之模具之步驟；以及
(B)將模具的凹凸面，轉印至形成於透明支撐體上並含有光硬化性樹脂等硬化性樹脂或熱可塑性樹脂等之樹脂層的表面之步驟。
藉由使用在空間頻率大於0μm-1 且為0.04μm-1 以下的範圍內不具有極大值之能譜的圖案，能夠精度佳地形成具有上述特定的空間頻率分布之細微凹凸表面。此外，藉由根據該圖案製作出具有凹凸面之模具，並將該模具的凹凸面轉印至形成於透明支撐體上之樹脂層的表面之方法(壓花法)，能夠精度佳且重現性良好地製得具有細微凹凸表面之防眩層。在此，所謂「圖案」，典型上係意指為了形成防眩膜的細微凹凸表面所用之藉由計算機所製作之由2階調(例如經二值化為白與黑之影像資料)或3階調以上的階度所構成之影像資料，但亦可包含可單一意義地轉換為該影像資料之資料(行列資料等)。可單一意義地轉換為影像資料之資料，係可舉例如僅保存各像素的座標及階調之資料等。
上述步驟(A)所用之圖案的能譜，例如若為影像資料時，可藉由在將影像資料轉換為2階調的二值化影像資料後，以二維函數g(x,y)來表示影像資料的階調，並將所得之二維函數g(x,y)進行離散傅利葉轉換而計算出二維函數G(fx ,fy )，然後將所得之二維函數G(fx ,fy )進行平方運算而求取。在此，x及y係表示影像資料面內的正交座標，fx 及fy 分別表示x方向的空間頻率及y方向的空間頻率。
與求取細微凹凸表面的標高之能譜時相同地，在求取圖案的能譜時，階調的二維函數g(x,y)一般是作為離散函數而獲得。此時，與求取細微凹凸表面的標高之能譜時相同地，可藉由離散傅利葉轉換來計算能譜。具體而言，藉由以式(5)所定義之離散傅利葉轉換來計算出離散函數G(fx ,fy )，然後將所得之離散函數G(fx ,fy )進行平方運算而求取能譜G2 (fx ,fy )。在此，式(5)中的π為圓周率，i為虛數單位。此外，M為x方向的像素數，N為y方向的像素數，1為-M/2以上M/2以下之整數，m為-N/2以上N/2以下之整數。再者，Δfx 及Δfy 分別為x方向及y方向的空間頻率間隔，並由式(6)及式(7)所定義。式(6)及式(7)中之△x及△y分別為x軸方向及y軸方向的水平分解能。當圖案為影像資料時，△x及Δy分別與1個像素之x軸方向的長度及y軸方向的長度相等。亦即，當製作圖案作為6400dpi的影像資料時，△x=△y=4μm，當製作圖案作為12800dpi的影像資料時，Δx=△y=2μm。
第9圖係顯示為了製作本發明之防眩膜所可使用之圖案的影像資料的一部分之圖，其為以階調的二維離散函數g(x,y)來表示者。第9圖所示之圖案的影像資料為2mm×2mm的大小，且以12800dpi來製作。
第10圖係以白與黑的階度來表示將第9圖所示之階調的二維函數g(x,y)進行離散傅利葉轉換所得之能譜G2 (fx ,fy )之圖。由於第9圖所示之圖案係不規則地配置點(dot)者，因此，該能譜G2 (fx ,fy )如第10圖所示，係以原點為中心呈對稱。因此，可從通過能譜的原點之剖面，來求取顯示圖案之能譜G2 (fx ,fy )的極大值之空間頻率。第11圖係顯示第10圖所示之能譜G2 (fx ,fy )中的fx =0時之剖面的圖。由此得知，第9圖所示之圖案雖在空間頻率0.045μm-1 中具有極大值，但在大於0μm-1 且為0.04μm-1 以下之範圍內則不具有極大值。
當用以製作防眩膜之圖案的能譜G2 (fx ,fy )在大於0μm-1 且為0.04μm-1 以下之空間頻率範圍內具有極大值時，所得之防眩膜的細微凹凸表面未顯示出上述特定的空間頻率分布，所以無法同時達成閃斑的消除以及充分的防眩性。
能譜G2 (fx ,fy )在大於0μm-1 且為0.04μm-1 以下的空間頻率範圍內不具有極大值之圖案，例如，如第9圖所示之圖案般，可藉由不規則且均一地配置多數個點而製作出。不規則地配置之點徑可為1種或複數種。此外，不規則地配置多數個點所製作之圖案中，能譜係在作為點間的平均距離的倒數之空間頻率顯示第一極大值(在空間頻率大於0μm-1 之最小的空間頻率中的極大值)。因此，為了製作能譜G2 (fx ,fy )在大於0μm-1 且為0.04μm-1 以下的範圍內不具有極大值之圖案，只需以使點間的平均距離成為未達25μm之方式製作圖案即可。此外，為了將防眩膜之空間頻率0.1μm-1 中之細微凹凸表面的標高的能譜H3 2 與空間頻率0.04μm-1 中之標高的能譜H2 2 之比H3 2 /H2 2 設為0.1以下，則圖案的能譜，較佳係在空間頻率大於0.04μm-1 且未達0.1μm-1 的範圍內具有極大值。如此之圖案，可藉由以使點間的平均距離成為大於10μm且未達25μm之範圍內之方式製得。
此外，亦可從不規則地配置此等多數個點所製作之圖案中，使用通過用以去除特定空間頻率以下的低空間頻率成分之高通濾波器(highpass filter)而得之圖案。再者，亦可從不規則地配置多數個點所製作之圖案中，使用通過用以去除特定空間頻率以下的低空間頻率成分與特定空間頻率以上的高空間頻率成分之帶通濾波器(bandpass filter)而得之圖案。
如第11圖所示，不規則地配置多數個點所製作之圖案的能譜，係表示與所配置之點的點徑及點間的平均距離相依之極大值，藉由使此等圖案通過前述高通濾波器或前述帶通濾波器，可去除不必要的成分。如此通過高通濾波器或帶通濾波器之圖案的能譜，由於已藉由濾波器去除成分，所以在空間頻率大於0μm-1 且為0.04μm-1 以下的範圍內不具有極大值。此外，能夠更有效率地製作出在空間頻率大於0.04μm-1 且未達0.1μm-1 的範圍內具有極大值之圖案。在此，當使用前述高通濾波器時，為了去除空間頻率大於0μm-1 且為0.04μm-1 以下的範圍內之極大值，所去除之低空間頻率成分的上限空間頻率較佳為0.04μm-1 以下。此外，當使用前述帶通濾波器時，為了去除空間頻率大於0μm-1 且為0.04μm-1 以下的範圍內之極大值，且在空間頻率大於0.04μm-1 且未達0.1μm-1 的範圍內具有極大值，則所去除之低空間頻率成分的上限空間頻率較佳為0.04μm-1 以下，所去除之高空間頻率成分的下限空間頻率較佳為0.08μm-1 以上。
當採用通過高通濾波器或帶通濾波器等之手法來製作圖案時，通過濾波器前的圖案，亦可使用藉由亂數或以計算機所生成之虛擬亂數來決定濃淡而具有不規則的明亮度分布之圖案。
關於根據上述方式所得之圖案來製作出模具之方法的詳細內容，係於後詳述。
上述步驟(B)，為藉由壓花法，將具有細微凹凸表面之防眩層形成於透明支撐體上之步驟。壓花法可例示如使用光硬化性樹脂之UV壓花法、以及使用熱可塑性樹脂之熱壓花法，其中就生產性之觀點來看，較佳為UV壓花法。UV壓花法中，是將光硬化性樹脂層形成於透明支撐體的表面，並一邊將該光硬化性樹脂層按壓於模具的凹凸面一邊進行硬化，藉此將模具的凹凸面轉印至光硬化性樹脂層之方法。更具體而言，係將含有光硬化型樹脂之塗佈液塗佈在透明支撐體上，在使塗佈後的光硬化型樹脂密著於模具的凹凸面之狀態下，從透明支撐體側照射紫外線等光使光硬化型樹脂硬化，然後從該模具中，將形成有硬化後的光硬化型樹脂層之透明支撐體剝離，藉此而製得將模具的凹凸形狀轉印至硬化後的光硬化型樹脂層(防眩層)之防眩膜。
使用UV壓花法時之光硬化性樹脂，較佳為使用藉由紫外線進行硬化之紫外線硬化型樹脂，亦可使用將適當選擇的光起始劑組合於紫外線硬化型樹脂而可藉由波長較紫外線還長之可見光進行硬化之樹脂。紫外線硬化型樹脂的種類並無特別限定，可使用市售的適當品。紫外線硬化型樹脂的較佳例子，為含有三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯等多官能丙烯酸酯的1種.或2種以上，以及Irgacure 907(Chiba Specialty Chemicals公司製)、Irgacure 184(Chiba Specialty Chemicals公司製)、Lucirin TP0(BASF公司製)等光聚合起始劑之樹脂組成物。可因應需要將微粒和溶劑等添加於此等紫外線硬化型樹脂中，來調製出上述塗佈液。
(防眩膜製造用之模具的製造方法)
以下係說明製造防眩膜時所用之模具的製造方法。關於本發明之防眩性偏光板所用之防眩膜的製造時所用之模具的製造方法，只要是會獲得依據上述圖案所得之特定的表面形狀之方法，則無特別限制，但為了精度佳且重現性佳地製造細微凹凸表面，較佳係基本上含有(i)第1鍍覆步驟、(ii)研磨步驟、(iii)感光性樹脂膜形成步驟、(iv)曝光步驟、(v)顯影步驟、(vi)第1蝕刻步驟、(vii)感光性樹脂膜剝離步驟、以及(viii)第2鍍覆步驟。第12圖係示意性地顯示模具的製造方法之前半部分的較佳一例之圖。第13圖係示意性地顯示模具的製造方法之後半部分的較佳一例之圖。第12圖及第13圖中，係示意性地顯示各步驟中之模具的剖面。以下參照第12圖及第13圖，詳細地說明本模具之製造方法的各步驟。
(i)第1鍍覆步驟
本步驟中，係對模具中所用之基材的表面施以鍍銅或鍍鎳。如此，藉由對模具用基材的表面施以鍍銅或鍍鎳，可提升之後的第2鍍覆步驟中之鍍鉻的密著性與光澤性。此係由於鍍銅或鍍鎳的被覆性高且平滑化作用強，故可埋填模具用基材的微小凹凸或坑洞(Cavity)等，而能夠形成平坦且具光澤的表面之故。藉由此等鍍銅或鍍鎳的特性，即使在後述的第2鍍覆步驟中施以鍍鉻，亦可消除被視為因基材上所存在的微小凹凸或坑洞(Cavity)而造成之鍍鉻表面的粗化，並且，由於鍍銅或鍍鎳的被覆性高，而能夠減少細微龜裂的產生。
第1鍍覆步驟中所用之銅或鎳，除了分別可為純金屬之外，亦可為以銅為主體之合金或以鎳為主體之合金，因此，本說明書中所謂「銅」係包含銅及銅合金之涵義，此外，「鎳」係包含鎳及鎳合金之涵義。鍍銅及鍍鎳可分別藉由電解鍍覆來進行或是無電解鍍覆來進行，一般係採用電解鍍覆。
施以鍍銅或鍍鎳時，當鍍覆層太薄時，無法完全排除底層表面的影響，所以其厚度較佳為50μm以上。鍍覆層厚度的上限並無臨限性，以成本等來看，一般為500μm左右即可。
構成模具用基材之金屬材料，就成本的觀點來看，可列舉鋁、鐵等。此外，就處理便利性來看，尤佳為輕量的鋁。在此所謂的鋁或鐵，除了分別可為純金屬之外，亦可分別為以鋁或鐵為主體之合金。
此外，模具用基材的形狀，只要是該領域中以往所採用之適當的形狀者即可，例如，除了平板狀之外，亦可為圓柱狀或圓筒狀的輥。若使用輥狀的基材來製作模具，則具有能夠以連續的輥狀來製造防眩膜之優點。
(ii)研磨步驟
在接續的研磨步驟中，係將上述第1鍍覆步驟中經施以鍍銅或鍍鎳之基材表面進行研磨。較佳係經由此步驟將基材表面研磨至接近鏡面之狀態。此係由於成為基材之金屬板或金屬輥，為了達到期望精度，常施以切割或研磨等機械加工，因而在基材表面殘留加工痕跡，即使在經施以鍍銅或鍍鎳之狀態下，亦可能殘留此等加工痕跡，並且，在經鍍覆之狀態下，表面不見得會完全地平滑之故。亦即，即使將後述步驟施行在此等殘留有較深的加工痕跡之表面，加工痕跡等的凹凸亦可能較施以各步驟後所形成之凹凸還深，有殘留加工痕跡的影響之可能性，當使用此等模具來製造防眩膜時，可能對光學特性產生無法預期之影響。第12圖(a)中，係示意性地顯示平板狀的模具用基材7，在第1鍍覆步驟中該表面被施以鍍銅或鍍鎳(該步驟中所形成之鍍銅或鍍鎳的層並未圖示)，然後藉由研磨步驟而具有經鏡面研磨之表面8的狀態。
關於將經施以鍍銅或鍍鎳之基材表面進行研磨之方法並無特別限定，可使用機械研磨法、電解研磨法、化學研磨法的任一種。機械研磨法可例示如超加工法、磨光法(lapping)、流體研磨法、拋光(buffing)研磨法等。此外，亦可藉由使用切削工具進行鏡面切削，將模具用基材表面7形成為鏡面。此時之切削工具的材質與形狀等並無特別限制，可使用超硬刀、立方氮化硼(cubic boron nitride，CBN)刀、陶瓷刀、金剛石刀等，就加工精度之觀點來看，較佳為使用金剛石刀。
關於研磨後的表面粗糙度，依據JIS B 0601的規定之中心線平均粗糙度Ra較佳為0.1μm以下，尤佳為0.05μm以下。當研磨後的中心線平均粗糙度Ra大於0.1μm時，可能在最終形成之模具表面的凹凸形狀上會殘留研磨後之表面粗糙度的影響。此外，中心線平均粗糙度Ra的下限並無特別限制，可考量加工時間及加工成本等來適當地決定。
(iii)感光性樹脂膜形成步驟
在接續的感光性樹脂膜形成步驟中，係將在溶劑中溶解有感光性樹脂之溶液，塗佈在藉由上述研磨步驟而施以鏡面研磨之模具用基材7之經研磨的表面8，並進行加熱‧乾燥而形成感光性樹脂膜。第12圖(b)中，係示意性地顯示在模具用基材7之經研磨的表面8形成有感光性樹脂膜9之狀態。
感光性樹脂可使用以往所知的感光性樹脂。例如，作為具有感光部分會硬化之性質的負型感光性樹脂，可使用於分子中具有丙烯醯基或甲基丙烯醯基之丙烯酸酯的單體或預聚物、雙疊氮化物(bisazide)與二烯橡膠之混合物、聚肉桂酸乙烯酯系化合物等。此外，作為具有藉由顯影使感光部分溶出而僅殘留未感光部分之性質的正型感光性樹脂，可使用酚樹脂系或酚醛樹脂(novolac resin)系等。此外，感光性樹脂，可因應需要而調配增感劑、顯影促進劑、密著性改質劑、塗佈性改質劑等各種添加劑。
當將此等感光性樹脂塗佈在模具用基材7之經研磨的表面8時，為了形成良好的塗膜，較佳係稀釋於適當的溶劑來塗佈，可使用溶纖劑(cellosolve)系溶劑、丙二醇系溶劑、酯系溶劑、醇系溶劑、酮系溶劑、高極性溶劑等。
塗佈感光性樹脂溶液之方法，可使用彎月形液面塗佈(meniscus coating)、噴流塗佈(fountain coating)、浸泡塗佈、旋轉塗佈、輥塗佈、線棒塗佈、空氣刀塗佈、刮刀塗佈、淋幕塗佈等一般所知的方法。塗佈膜的厚度，較佳係設成在乾燥後為1至6μm之範圍。
(iv)曝光步驟
在接續的曝光步驟中，係將上述能譜在大於0μm-1 且為0.04μm-1 以下之空間頻率範圍內不具有極大值之圖案，
曝光於上述感光性樹脂膜形成步驟中所形成之感光性樹脂膜9上。曝光步驟中所用之光源，可配合所塗佈之感光性樹脂的感光波長或感度等來適當地選擇，例如可使用高壓水銀燈的g射線(波長：436nm)、高壓水銀燈的h射線(波長：405nm)、高壓水銀燈的i射線(波長：365nm)、半導體雷射(波長：830nm、532 nm、488 nm、405 nm等)、YAG雷射(波長：1064nm)、KrF準分子雷射(波長：248nm)、ArF準分子雷射(波長：193nm)、F2準分子雷射(波長：157nm)等。
為了精度佳地形成模具的表面凹凸形狀，甚至防眩層的表面凹凸形狀，則在曝光步驟中，較佳係在精密地控制之狀態下將上述圖案曝光於感光性樹脂膜上，具體而言，較佳係在電腦中製作圖案作為影像資料，並依據該影像資料，藉由從經電腦控制的雷射頭所發出之雷射光，將圖案描繪於感光性樹脂膜上。進行雷射描繪時，可使用印刷版製作用的雷射描繪裝置。如此之雷射描繪裝置，可列舉Laser Stream FX(Think Laboratory股份有限公司製)等。
第12圖(c)中，係示意性地顯示圖案被曝光於感光性樹脂膜9之狀態。當以負型感光性樹脂來形成感光性樹脂膜時，經曝光的區域10，係藉由曝光使樹脂的交聯反應進行，使對於後述顯影液之溶解性降低。因此，顯影步驟中未曝光的區域11會被顯影液所溶解，僅有經曝光的區域10殘留於基材表面上而成為遮罩。另一方面，當以正型感光性樹脂來形成感光性樹脂膜時，經曝光的區域10，係藉由曝光使樹脂的鍵結被切斷，使對於後述顯影液之溶解性增加。因此，顯影步驟中經曝光的區域10會被顯影液所溶解，僅有未曝光的區域11殘留於基材表面上而成為遮罩。
(v)顯影步驟
在接續的顯影步驟中，當使用負型感光性樹脂作為感光性樹脂膜9時，未曝光的區域11會被顯影液所溶解，僅有經曝光的區域10殘存於模具用基材上，並在接續的第1蝕刻步驟中為遮罩發揮作用。另一方面，當使用正型感光性樹脂作為感光性樹脂膜9時，僅有經曝光的區域10會被顯影液所溶解，未曝光的區域11殘存於模具用基材上，並在接續的第1蝕刻步驟中為遮罩發揮作用。
顯影步驟中所用之顯影液，可使用以往所知者。例如可列舉氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉、氨水等無機鹼類；乙胺、正丙胺等第一胺類；二乙胺、二正丙胺等第二胺類；三乙胺、甲基二乙基胺等第三胺類；二甲基乙醇胺、三乙醇胺等醇胺類；氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、氫氧化三甲基羥乙基銨等四級銨鹽；吡咯、哌啶等環狀胺等的鹼性水溶液；以及二甲苯、甲苯等有機溶劑等。
顯影步驟中的顯影方法並無特別限制，可使用浸漬顯影、噴霧顯影、刷式顯影(brush development)、超音波顯影等之方法。
第12圖(d)中，係示意性地顯示使用負型感光性樹脂作為感光性樹脂膜9來進行顯影處理之狀態。第12圖(c)中未曝光的區域11會被顯影液所溶解，僅有經曝光的區域10殘留於基材表面上而成為遮罩12。第12圖(e)中，係示意性地顯示使用正型感光性樹脂作為感光性樹脂膜9來進行顯影處理之狀態。第12圖(c)中，經曝光的區域10會被顯影液所溶解，僅有未曝光的區域11殘留於基材表面上而成為遮罩12。
(vi)第1蝕刻步驟
在接續的第1蝕刻步驟中，於上述顯影步驟後，係將殘存於模具用基材表面之感光性樹脂膜用作為遮罩，主要對無遮罩之處的模具用基材進行蝕刻，而在經研磨之鍍覆面形成凹凸。第13圖(a)中，係示意性地顯示藉由第1蝕刻步驟而主要對無遮罩之處13的模具用基材7進行蝕刻之狀態。遮罩12下部的模具用基材7，雖未從模具用基材表面被蝕刻，但隨著蝕刻的進行，亦從無遮罩之處13被進行蝕刻。因此，在遮罩12與無遮罩之處13的交界附近，遮罩12下部的模具用基材7亦被蝕刻。以下，係將在此等遮罩12與無遮罩之處13的交界附近，遮罩12下部的模具用基材7亦被蝕刻者，稱為側蝕(side etching)。
第1蝕刻步驟之蝕刻處理，一般係使用氯化鐵(FeCl3 )、氯化銅(CuCl2 )、鹼蝕刻液(Cu(NH3 )4 Cl2 )等，藉由將金屬表面進行腐蝕來進行，但亦可使用鹽酸或硫酸等強酸，或是藉由施加與電解鍍覆時相反的電位來進行之反電解蝕刻。施以蝕刻處理時之形成於模具用基材之凹形狀，係因底層金屬的種類、感光性樹脂膜的種類及蝕刻手法等有所不同，無法一概而論，但當蝕刻量為10μm以下時，可從接觸於蝕刻液之金屬表面，以大致等向之方式進行蝕刻。在此，所謂蝕刻量是指藉由蝕刻所去除之基材的厚度。
第1蝕刻步驟之蝕刻量，較佳為1至50μm，尤佳為2至10μm。當蝕刻量未達1μm時，金屬表面幾乎無法形成凹凸形狀而成為幾乎平坦之模具，所以無法顯示防眩性。此外，當蝕刻量超過50μm時，形成於金屬表面之凹凸形狀的高低差增大，使用以所得之模具所製作之防眩膜的影像顯示裝置會有產生泛白之虞。為了製得具備包含95%以上之傾斜角度為5°以下的面之細微凹凸表面的防眩膜，第1蝕刻步驟之蝕刻量尤佳為2至8μm。第1蝕刻步驟之蝕刻處理，可藉由1次的蝕刻處理來進行，或是亦可將蝕刻處理分為2次以上來進行。當將蝕刻處理分為2次以上來進行時，2次以上之蝕刻處理的蝕刻量之合計，較佳係設為上述範圍內。
(vii)感光性樹脂膜剝離步驟
在接續的感光性樹脂膜剝離步驟中，係將第1蝕刻步驟中作為遮罩使用之殘存之感光性樹脂膜完全地溶解而去除。感光性樹脂膜剝離步驟中，係使用剝離液來溶解感光性樹脂膜。剝離液可使用與上述顯影液相同者。藉由改變剝離液之pH、溫度、濃度及浸漬時間等，當使用負型感光性樹脂時係將曝光部的感光性樹脂膜完全地溶解，當使用正型感光性樹脂時係將非曝光部的感光性樹脂膜完全地溶解而去除。關於感光性樹脂膜剝離步驟中之剝離方法並無特別限制，可使用浸漬顯影、噴霧顯影、刷式顯影、超音波顯影等方法。
第13圖(b)中，係示意性地顯示藉由感光性樹脂膜剝離步驟，將第1蝕刻步驟中作為遮罩12使用之感光性樹脂膜完全地溶解而去除之狀態。藉由使用利用由感光性樹脂膜所構成之遮罩12之蝕刻，將第1表面凹凸形狀15形成於模具用基材表面。
(viii)第2鍍覆步驟
其次，係藉由對所形成之凹凸面(第1表面凹凸形狀15)施以鍍鉻，而將表面的凹凸形狀予以鈍化。第13圖(c)中，係顯示將鍍鉻層16形成於藉由第1蝕刻步驟的蝕刻處理所形成之第1表面凹凸形狀15，而形成使凹凸較第1表面凹凸形狀15更為鈍化之表面(鍍鉻表面17)之狀態。
鍍鉻，較佳係對於平板或輥等的表面採用具光澤，硬度高，摩擦係數小，且可賦予良好的脫模性之鍍鉻。如此之鍍鉻並無特別限制，但較佳為使用稱為所謂光澤鍍鉻或裝飾用鍍鉻等之顯現良好光澤之鍍鉻。鍍鉻一般是藉由電解來進行，該鍍覆浴可使用含有鉻酸酐(CrO3 )與少量硫酸之水溶液。藉由調節電流密度與電解時間，可控制鍍鉻的厚度。
第2鍍覆步驟中，施以鍍鉻以外的鍍覆者並不佳。此係由於在鍍鉻以外的鍍覆中，由於硬度或耐磨耗性低，使作為模具之耐久性降低，可能在使用中使凹凸磨損或損傷模具。由此等模具所製得之防眩膜可能難以獲得充分的防眩功能，此外，防眩膜上產生缺陷的可能性亦高。
此外，鍍覆後進行表面研磨者亦不佳。亦即，較佳係在第2鍍覆步驟後不設置將表面進行研磨之步驟，並將施以鍍鉻後的凹凸面直接用作為轉印至透明支撐體上的樹脂層的表面之模具的凹凸面。此係由於進行研磨會在最外表面產生平坦部分，而有導致光學特性惡化之可能性，此外，會導致形狀的控制因素增加，而難以進行重現性佳之形狀控制等理由。
如此，藉由對形成有細微表面凹凸形狀之表面施以鍍鉻，可將凹凸形狀予以鈍化，並獲得表面硬度被提高之模具。此時之凹凸的鈍化程度，因底層金屬的種類、藉由第1蝕刻步驟所得之凹凸的尺寸及深度、以及鍍覆的種類及厚度等而不同，無法一概而論，但控制鈍化程度之最大因素仍是鍍覆厚度。當鍍鉻厚度較薄時，將鍍鉻加工前所得之凹凸的表面形狀予以鈍化之效果不足，轉印該凹凸形狀所製得之防眩膜的光學特性並不佳。另一方面，當鍍覆厚度太厚時，除了生產性惡化以外，更會產生稱為突粒(nodule)之突起狀鍍覆缺陷，故不佳。因此，鍍鉻厚度較佳為1至10μm之範圍內，尤佳為3至6μm之範圍內。
在該第2鍍覆步驟中所形成之鍍鉻層，較佳係以使維氏硬度成為800以上之方式形成，尤佳係以成為1000以上之方式形成。此係由於當鍍鉻層的維氏硬度未達800時，模具使用時的耐久性降低且鍍鉻層的硬度降低者，於鍍覆處理時，在鍍覆浴組成、電解條件等產生異常之可能性提高，且對於缺陷的產生狀況，造成較不佳的影響之可能性提高之故。
此外，較佳係在上述(vii)感光性樹脂膜剝離步驟與(viii)第2鍍覆步驟之間，含有將經第1蝕刻步驟所形成之凹凸面以蝕刻處理進行鈍化之第2蝕刻步驟。第2蝕刻步驟中，係藉由蝕刻處理，將由使用感光性樹脂膜作為遮罩之以第1蝕刻步驟所形成之第1表面凹凸形狀15予以鈍化。藉由此第2蝕刻處理，可消除由第1蝕刻步驟所形成之第1表面凹凸形狀15之表面傾斜較陡的部分，使採用所得之模具所製造出之防眩膜的光學特性往較佳的方向變化。第14圖中，係示意性地顯示藉由第2蝕刻處理將模具用基材7的第1表面凹凸形狀15予以鈍化，並使表面傾斜較陡的部分被鈍化，而形成具有和緩的表面傾斜之第2表面凹凸形狀18之狀態。
第2蝕刻步驟之蝕刻處理，亦與第1蝕刻步驟相同地，一般係使用氯化鐵(FeCl3 )液、氯化銅(CuCl2 )液、鹼蝕刻液(Cu(NH3 )4 Cl2 )等並藉由將表面進行腐蝕來進行，但亦可使用鹽酸或硫酸等強酸，或亦可藉由施加與電解鍍覆時為相反的電位來進行之反電解蝕刻。施以蝕刻處理後之凹凸的鈍化程度，因底層金屬的種類、蝕刻手法、以及藉由第1蝕刻步驟所得之凹凸的尺寸及深度等而不同，無法一概而論，但控制鈍化程度之最大因素為蝕刻量。在此，所謂蝕刻量，亦與第1蝕刻步驟相同地，是指藉由蝕刻所去除之基材的厚度。當蝕刻量較小時，將藉由第1蝕刻步驟所得之凹凸的表面形狀予以鈍化之效果不足，轉印該凹凸形狀所製得之防眩膜的光學特性並不佳。另一方面，當蝕刻量太大時，凹凸形狀幾乎消失而成為幾乎平坦之模具，所以無法顯示防眩性。因此，蝕刻量較佳為1至50μm之範圍內，此外，為了製得具備包含95%以上之傾斜角度為5°以下的面之細微凹凸表面的防眩膜，尤佳為4至20μm之範圍內。關於第2蝕刻步驟之蝕刻處理，亦與第1蝕刻步驟相同地，可藉由1次的蝕刻處理來進行，或亦可將蝕刻處理分為2次以上來進行。在此，當將蝕刻處理分為2次以上來進行時，2次以上之蝕刻處理的蝕刻量之合計，較佳係設為上述範圍內。
[2]偏光膜
其次，說明本發明的防眩性偏光板中所使用之偏光膜。本發明中，較佳係使用將二色性色素吸附配向於經單軸拉伸的聚乙烯醇系樹脂膜之偏光膜。構成偏光膜之聚乙烯醇系樹脂，係藉由將聚乙酸乙烯酯樹脂進行皂化(saponification)而得。就聚乙酸乙烯酯樹脂而言，除了屬於乙酸乙烯酯的均聚物之聚乙酸乙烯酯以外，可例示如乙酸乙烯酯及可與該乙酸乙烯酯共聚合之其他單體的共聚物等。可與乙酸乙烯酯共聚合之其他單體，例如可列舉出不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯酯類、不飽和磺酸類等。聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常為85至100莫耳%，較佳為98至100莫耳%之範圍。此聚乙烯醇系樹脂可進一步經改質，例如可使用經醛類改質之聚乙烯基縮甲醛(polyvinyl formal)或聚乙烯基縮乙醛(polyvinyl acetal)等。聚乙烯醇系樹脂的聚合度通常為1000至10000，較佳為1500至10000之範圍。
本發明中所使用之偏光膜，可經由下列步驟來製造：將此等聚乙烯醇系樹脂進行單軸拉伸之步驟；以二色性色素將聚乙烯醇系樹脂膜染色，並使該二色性色素吸附之步驟；以硼酸水溶液處理吸附有二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜之步驟；以及在以硼酸水溶液進行處理後，進行水洗之步驟。
單軸拉伸，可於依據二色性色素所進行之染色前進行，亦可與依據二色性色素所進行之染色同時進行，亦可在依據二色性色素所進行之染色後進行。在依據二色性色素所進行之染色後進行單軸拉伸時，該單軸拉伸可在硼酸處理前進行，亦可在硼酸處理中進行。此外，亦可在此等複數個階段中進行單軸拉伸。單軸拉伸，可在轉速不同的輥間進行單軸拉伸，亦可使用熱輥進行單軸拉伸。此外，可為在大氣中進行拉伸之乾式拉伸，亦可為在藉由溶劑予以膨潤之狀態下進行拉伸之濕式拉伸。拉伸倍率一般為4至8倍。
以二色性色素將聚乙烯醇系樹脂膜染色時，例如可將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有二色性色素之水溶液。二色性色素，具體而言可使用碘或二色性染料。
當使用碘作為二色性色素時，通常採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有碘及碘化鉀之水溶液來進行染色之方法。該水溶液之碘的含量，通常是相對於每100重量份的水為0.01至0.5重量份，碘化鉀的含量通常是相對於每100重量份的水為0.5至10重量份。水溶液的溫度通常是20至40℃，此外，於水溶液中的浸漬時間通常為30至300秒。
另一方面，當使用二色性染料作為二色性色素時，通常採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有水溶性二色性染料之水溶液來進行染色之方法。該水溶液之二色性染料的含量，通常是相對於每100重量份的水為0.001至0.01重量份。該水溶液可含有硫酸鈉等無機鹽。水溶液的溫度通常是20至80℃，此外，於水溶液中的浸漬時間通常為30至300秒。
在依據二色性色素所進行之染色後的硼酸處理，係藉由將經染色之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於硼酸水溶液來進行。硼酸水溶液中之硼酸的含量，通常是相對於每100重量份的水為2至15重量份，較佳為5至12重量份。當使用碘作為二色性色素時，該硼酸水溶液較佳為含有碘化鉀。硼酸水溶液中之碘化鉀的含量，通常是相對於每100重量份的水為2至20重量份，較佳為5至15重量份。於硼酸水溶液中的浸漬時間通常為100至1200秒，較佳為150至600秒，更佳為200至400秒。硼酸水溶液的溫度通常是50℃以上，較佳為50至85℃。
硼酸處理後之聚乙烯醇系樹脂膜，通常會進行水洗處理。水洗處理，例如可藉由將經硼酸處理後之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於水來進行。水洗後進行乾燥處理，得到偏光膜。水洗處理中之水的溫度通常是5至40℃，浸漬時間通常為2至120秒。之後所進行之乾燥處理，可使用熱風乾燥機或遠紅外線加熱器來進行。乾燥溫度通常是40至100℃，乾燥處理的處理時間通常為120至600秒。
如此，得到由經單軸拉伸且吸附配向有碘或二色性染料之聚乙烯醇系樹脂膜所構成之偏光膜。偏光膜之厚度可為例如1至50μm左右。該偏光膜，係使用由含有後述環氧系樹脂之硬化性組成物所構成之接著劑(形成第1接著層之接著劑)，而貼合於上述防眩膜的透明性支撐體。
[3]保護膜
本發明之防眩性偏光板中，就機械強度之觀點來看，較佳是在偏光膜之與貼合有防眩膜的一側為相反側之面，隔介後述第2接著劑層來貼合保護膜。保護膜較佳為使用透明樹脂膜。列舉出透明樹脂膜的具體例時，例如有：三乙酸纖維素膜等纖維素系樹脂膜；聚丙烯等鏈狀聚烯烴系樹脂；非結晶性聚烯烴系樹脂膜；聚酯系樹脂膜；(甲基)丙烯酸系樹脂膜；聚碳酸酯系樹脂膜；聚碸系樹脂膜；脂環式聚醯亞胺系樹脂膜等。其中特佳為使用三乙酸纖維素膜或非結晶性聚烯烴系樹脂膜。
非結晶性聚烯烴系樹脂，通常為具有降莰烯或多環降莰烯系單體等環狀烯烴的聚合單位者，亦可為環狀烯烴與鏈狀烯烴之共聚物。當中，具代表性者為熱可塑性飽和降莰烯系樹脂。非結晶性聚烯烴系樹脂中，可導入極性基。市售之非結晶性聚烯烴系樹脂，可列舉「ARTON」(JSR股份有限公司製)、「ZEONOR」(日本Zeon股份有限公司製)、「ZEONEX」(日本Zeon股份有限公司製)、「APO」(三井化學股份有限公司製)、「APEL」(三井化學股份有限公司製)等。當使用此等市售品之非結晶性聚烯烴系樹脂時，可藉由溶劑澆鑄法、熔融擠壓法等一般所知的方法製膜而形成膜。
保護膜的厚度，通常約為5至200μm之範圍，較佳為10至120μm之範圍，更佳為10至85μm之範圍。
[4]光學補償層
本發明之防眩性偏光板中，亦以具備下述光學補償層來取代保護膜為佳：隔介後述第2接著劑層而積層於偏光膜之與貼合有防眩膜的一側為相反側之面的光學補償層。或者是，該光學補償層亦可積層於上述保護膜上，該保護膜係被貼合在偏光膜之與貼合有防眩膜的一側為相反側之面。光學補償層，是以相位差的補償等為目的之層(包含膜)，以相位差的補償為目的之光學補償層亦稱為「相位差板(或相位差膜)」。
光學補償層，例如可列舉：由透明樹脂的拉伸膜等所構成之雙折射性膜(birefringent film)；配向固定有盤形液晶(discotic liquid crystal)或向列液晶(nematic liquid crystal)之膜；於基材膜上形成有由盤形液晶或向列液晶所構成之液晶層者等之光學補償膜。當中，就成本、耐久性等之觀點來看，較佳係使用由透明樹脂的拉伸膜等所構成之雙折射性膜。該雙折射性膜，由於具有高耐久性，所以可兼具作為保護膜之功能，因此，使用該雙折射性膜時，可省略另外的保護膜。
積層於偏光膜之光學補償層可為單層或複數層。當設置複數層光學補償層時，可積層同種類的光學補償層或不同種類的光學補償層。例如，可隔介黏著劑層而在由透明樹脂的拉伸膜等所構成之雙折射性膜積層由其他透明樹脂的拉伸膜等所構成之雙折射性膜，亦可將盤形液晶或向列液晶配向固定在由透明樹脂的拉伸膜等所構成之雙折射性膜。
構成上述雙折射性膜之透明樹脂，可舉例如：聚碳酸酯系樹脂；聚乙烯醇系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚甲基丙烯酸甲酯等(甲基)丙烯酸系樹脂；聚丙烯等鏈狀聚烯烴系樹脂；聚芳酯系樹脂；聚醯胺系樹脂；非結晶性聚烯烴系樹脂等。拉伸膜可使用經單軸或雙軸等適當方式來進行處理者。此外，亦可將下列雙折射性膜用作為光學補償膜，該雙折射性膜是在將熱收縮性膜貼合於由上述透明樹脂所構成之膜之狀態下，藉由施加收縮力及/或拉伸力，來控制膜之厚度方向的折射率者。
在將光學補償層積層於保護膜上時，就接著作業的簡便性和防止光學扭曲的產生等觀點來看，光學補償層與保護膜之貼合，較佳係使用黏著劑(亦稱為感壓黏著劑)來進行。黏著劑可使用以丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺基甲酸酯(polyurethane)或聚醚等作為基礎聚合物(base polymer)之黏著劑組成物。當中，較佳為使用光學透明性佳，保持適度的潤濕性和凝聚力，與基材的接著性亦佳，並且具有耐候性和耐熱性等，在加熱或加濕的條件下不會產生浮起或剝落等剝離問題之丙烯酸系黏著劑(以丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物之黏著劑)。丙烯酸系黏著劑的基礎聚合物，較佳為使用：具有甲基、乙基、丁基等碳數20以下的烷基之(甲基)丙烯酸的烷酯與(甲基)丙烯酸或(甲基)丙烯酸羥基乙酯等含有官能基的丙烯酸系單體之丙烯酸系共聚物，且玻璃轉移溫度為25℃以下(較佳為0℃以下)，重量平均分子量為10萬以上之丙烯酸系共聚物。
使用黏著劑之光學補償層與保護膜之貼合，係藉由將黏著劑層形成於保護膜或光學補償層上，並隔介該黏著劑層將另一方之被貼合物(光學補償層或保護膜)積層並貼合來進行。黏著劑層的形成，例如可藉由下述方式進行：將黏著劑組成物溶解或分散於甲苯或乙酸乙酯等有機溶劑，而調製出10至40重量%的溶液，並將此溶液直接塗佈在保護膜或光學補償層上而形成黏著劑層之方式；或是預先將黏著劑層形成於防護膜上，然後將此移往保護膜或光學補償層上而形成黏著劑層之方式等。黏著劑層的厚度係因應其接著力等來決定，宜為1至50μm左右之範圍。
黏著劑層中，可因應需要調配玻璃纖維、玻璃顆粒、樹脂顆粒、金屬粉、其他無機粉末等填充劑、顏料、著色劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑等。紫外線吸收劑可列舉柳酸酯系化合物、二苯基酮(benzophenone)系化合物、苯并三唑系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯鹽(nickel complex salt)系化合物等。
當光學補償層不隔介保護膜而直接積層於偏光膜時，光學補償層與偏光膜之貼合係使用接著劑來進行。此接著劑係形成第2接著劑層者。
其次，詳細說明本發明之防眩性偏光板可具備之作為相位差板的光學補償層或保護膜，與適用該防眩性偏光板之液晶顯示裝置所具備之液晶單元(liquid crystal cell)的驅動模式之關係。本發明之防眩性偏光板可具備之相位差板或保護膜的較佳型態，係與所適用之液晶顯示裝置所具備之液晶單元的驅動模式相依。液晶單元的驅動模式，有垂直配向(Vertical Alignment：VA)模式、橫向電場(In-Plane Switching：IPS)模式、扭轉向列(Twisted Nematic：TN)模式等。
(垂直配向模式)
垂直配向模式，在非驅動狀態下，液晶分子相對於單元基板呈垂直地配向，所以光未伴隨著偏光的變化而通過。因此，以使偏光軸相互地正交之方式將直線偏光板配設在液晶單元的上下方，藉此可在從正面觀看時獲得幾乎完全的黑顯示，而可得到高對比。然而，在僅將直線偏光板配設在此液晶單元之垂直配向模式的液晶顯示裝置中，從斜方觀看時，由於所配設之直線偏光板的軸角度從90°偏離、以及液晶單元內的棒狀液晶分子顯現雙折射，故產生光漏，使對比顯著降低。
垂直配向模式的液晶顯示裝置中，為了消除此等光漏，必須在液晶單元與直線偏光板之間配設相位差板。垂直配向模式中，如上所述，黑顯示狀態下，由於液晶分子相對於單元基板呈垂直地配向，故在以液晶層之面內慢軸(slow axis)方向的折射率為nx 、以液晶層之面內快軸(fast axis)方向的折射率為ny 、以液晶層之厚度方向的折射率為nz 時，液晶層可視為顯示nx =ny ＜nz 的關係之正型C板。因此，已知於偏光膜與液晶單元之間，以膜之面內慢軸方向的折射率為nx 、以膜之面內快軸方向的折射率為ny 、以膜之厚度方向的折射率為nz 時，若配置顯示nx ＞ny =nz 的關係之正型A板及顯示nx =ny ＞nz 的關係之負型C板兩者，則可適當地消除光漏。此外，日本特開2007-256766號公報中，係記載將具有nx ＞ny ≧nz 的關係之第一相位差板，以使其慢軸與鄰接之偏光膜的穿透軸成為幾乎平行之關係或幾乎正交之關係的方式配置，並在該第一相位差板與單元基板之間、或是在另一方的單元基板與和此相對向之偏光膜之間，配置具有nx ≒ny ＞nz 的關係之第二相位差板。
將本發明之防眩性偏光板使用在垂直配向模式的液晶顯示裝置時，較佳係將上述構成的相位差板適當地配置在偏光膜之與貼合有防眩膜的一側為相反側之側。鑒於成本、生產性、防眩性偏光板的耐久性等，將本發明之防眩性偏光板適用在垂直配向模式的液晶顯示裝置時，本發明之防眩性偏光板的較佳實施型態的一例為如下述之構成：隔介後述第2接著劑層，將具有nx ＞ny ≧nz 的關係之第一相位差板積層於偏光膜之與貼合有防眩膜的一側為相反側的面，並隔介黏著劑層等，將具有nx ≒ny ＞nz 的關係之第二相位差板積層於該第一相位差板上。具有nx ＞ny ≧nz 的關係之第一相位差板，可藉由將由具有正的折射率異向性之透明樹脂所構成之膜，在適當條件下進行單軸或雙軸拉伸而製得。具有正的折射率異向性之透明樹脂，可使用以三乙酸纖維素等醯化纖維素為代表之纖維素系樹脂、環狀烯烴系樹脂、聚碳酸酯系樹脂等。在此，環狀烯烴系樹脂為以降莰烯或二甲橋八氫萘(dimethanooctahydronaphthalene)等環狀烯烴作為單體之樹脂，市售品有「ARTON」(JSR股份有限公司製)、「ZEONOR」(日本Zeon股份有限公司製)、「ZEONEX」(日本Zeon股份有限公司製)等。此等透明樹脂中，由於光彈性係數小、使用條件下的熱應變所導致之面內特性不一的產生等較少，故可較佳地使用三乙酸纖維素或環狀烯烴系樹脂。
具有nx ≒ny ＞nz 的關係之第二相位差板，例如可列舉：將有盤形液晶塗佈在基材膜上者、以短間距將膽固醇液晶(cholesteric liquid crystal)塗佈在基材膜上者、將雲母等無機層狀化合物的層形成於基材膜上者、逐次或同時將透明樹脂膜進行雙軸拉伸者、未經拉伸之溶劑澆鑄模等。具有nx ≒ny ＞nz 的關係之市售的相位差板，例如有「VAC Film」(住友化學股份有限公司製)、「Fujitac Film」(Fuji Film股份有限公司製)等。此第二相位差板為nx ≒ny ，因此，面內的相位差值R0 幾乎為零，故不論具有何種R0 值，亦不須特別規定其慢軸的軸角度。
此外，面內的相位差值R0 與厚度方向的相位差值Rth ，以膜(相位差板)之面內慢軸方向的折射率為nx 、以膜之面內快軸方向的折射率為ny 、以膜之厚度方向的折射率為nz 、以膜的厚度為d時，分別以下列式(a)及(b)所定義。
R0 =(nx -ny )×d　(a)
Rth =[(nx +ny )/2-nz ]×d　(b)
膜(相位差板)之面內的相位差值R0 及厚度方向的相位差值Rth ，例如可在隔介黏著劑層將測定對象膜貼合於玻璃板之狀態下，使用市售的相位差測定裝置(KOBRA-21ADH(王子計測機器股份有限公司製等)來直接測定。如此之相位差測定裝置中，例如藉由採用波長559nm的單色光之旋轉偵測光子法(rotating　analyzer　method)，測定該膜之面內的相位差R0 ，另一方面，並測定以該膜的面內慢軸作為傾斜軸而傾斜40度時之相位差值R40 ，並使用所測定之相位差值R40 、膜的厚度d及膜的平均折射率n0 ，來求取nx 、ny 、nz ，並根據上述式(b)從此等值計算出厚度方向的相位差值Rth 。
(IPS模式)
IPS模式，係藉由對單元基板面平行地施加電壓之橫向電場來改變液晶分子的配向狀態者，在無電壓施加之狀態下，液晶分子相對於單元基板呈平行地配向。在如此之IPS模式的液晶顯示裝置中，在夾持液晶單元而僅配設偏光板之構成中，從斜方觀看時，由於所配設之直線偏光板的軸角度從90°偏離、以及液晶單元內的棒狀液晶分子顯現雙折射，故產生光漏，使對比顯著降低。
IPS模式的液晶顯示裝置中，為了消除如此之光漏，必須在液晶單元與偏光膜之間配設相位差板。為了補償IPS模式的液晶顯示裝置中之視角變化所造成之液晶層的雙折射變化，已知光學上為負的單軸性且其光學軸相對於膜面呈平行之相位差板、或是配向於厚度方向之相位差板為有效。
例如，日本特開平10-54982號公報中，係記載在IPS模式的液晶顯示裝置中，於液晶單元與至少一方的偏光板之間，配置有光學上為負的單軸性且其光學軸相對於膜面呈平行之光學補償膜。
日本特開平11-133408號公報中，係記載在IPS模式的液晶顯示裝置中之一對的偏光板之間，更具體而言，在液晶單元與偏光板之間，配置有正的單軸性且在垂直於單元基板面之方向具有光學軸之光學補償層。
日本特開2005-309110號公報中，係揭示在IPS模式的液晶顯示裝置中，於液晶單元與上下一對的偏光板之間，配置有面內相位差值互為不同之光學補償膜(相位差板)。
日本特開2006-235576號公報中，係記載於背面側偏光膜與液晶單元之間至少配置1片相位差板，該相位差板中，包含從背面側偏光膜的液晶單元側表面至液晶單元的背面側基板表面為止之間所存在之相位差板之雙折射層的厚度方向的相位差值Rth 之和係於-40nm至+40nm之範圍，且此等之面內的相位差值R0 之和係於100nm至200nm之範圍；前面側偏光板為具備偏光膜、以及至少設置在與該液晶單元相對向之側為相反側的觀看側透明保護層之偏光板，並採用從偏光膜的液晶單元側表面至液晶單元的前面側基板表面為止之間之厚度方向的相位差值Rth 係於-10nm至+40nm之範圍之偏光板。
此外，將樹脂膜配向於厚度方向之方法，例如於日本特開平7-230007號公報中，係揭示將具有熱收縮性之膜，以使該熱收縮性膜的熱收縮方向與經單軸拉伸之熱可塑性樹脂膜的拉伸軸方向呈正交之方式，貼合於經單軸拉伸之熱可塑性樹脂膜的至少單面，在進行熱收縮後，將熱收縮性膜剝離去除之方法。
將本發明之防眩性偏光板使用在IPS模式的液晶顯示裝置時，較佳係以成為上述構成之方式，將保護膜或相位差板適當地配置在偏光膜之與貼合有防眩膜的一側為相反側之側。將本發明之防眩性偏光板適用在IPS模式的液晶顯示裝置時，本發明之防眩性偏光板的較佳實施型態的一例為如下述之構成：隔介後述第2接著劑層，將厚度方向的相位差值Rth 為-10nm至+40nm的範圍之保護膜積層於偏光膜之與貼合有防眩膜的一側為相反側的面。如此之厚度方向的相位差值Rth 為-10nm至+40nm的範圍之保護膜，可列舉可容易從市場中取得，實質上無配向且厚度方向的相位差值Rth 為10nm以下，更進一步者為5nm以下之環狀烯烴系樹脂膜、三乙酸纖維素等纖維素乙酸酯系樹脂膜等。再者，三乙酸纖維素等纖維素乙酸酯系樹脂膜的溶劑澆鑄膜，其厚度較薄者，由於厚度方向的相位差值Rth 為40nm以下，故亦可使用。
當本發明之防眩性偏光板具備厚度方向的相位差值Rth 為-10nm至+40nm的範圍之保護膜時，如上述般，較佳係將從背面側偏光板之偏光膜的液晶單元側表面至液晶單元的背面側基板表面為止之間所存在之雙折射層的厚度方向的相位差值Rth 之和設為-40nm至+40nm之範圍，且將此等之面內的相位差值R0 之和設為100nm至200nm之範圍。如此之雙折射層，例如可列舉：經單軸拉伸並且亦配向於厚度方向之熱可塑性樹脂膜；將具有負的折射率異向性之熱可塑性樹脂膜(聚苯乙烯膜等)進行單軸或雙軸拉伸而得之所謂負型A板(亦可為雙軸性)；將具有負的單軸性且光學軸位於與膜面平行之方向上之所謂負型A板，積層於具有正的單軸性且光學軸位於膜的法線方向之所謂正型C板上而得者等。
(TN模式)
TN模式，係藉由對單元基板面垂直地施加電壓之縱向電場來改變液晶分子的配向狀態者。TN模式中，液晶分子從一方的單元基板追蹤至另一方的單元基板時，係以使無電壓施加之狀態下的液晶配向成為在各部分中一邊朝向與基板平行之面內且一邊於上下基板間產生90度扭轉(已扭轉)之狀態的方式，相對於單元基板呈平行地配向。
以往之TN型液晶顯示裝置中，由於液晶單元內之液晶物質的預傾(pretilt)所導致之折射率的異向性，而使視角特性不足。因此，日本特開平6-214116號公報中，係揭示將顯示負的單軸性且光學軸以相對於膜面成為斜向方向之方式所配置之光學異向性層，配置在TN型液晶顯示裝置中之液晶單元與偏光板之間。此外，日本特開平10-186356號公報中，係揭示將顯示正的單軸性之液晶性高分子以液晶狀態所形成之向列混合配向予以固定化之光學補償膜，並揭示將該光學補償膜適用在TN型液晶顯示裝置，以期達到視角的擴大。如此，藉由使用光學軸相對於膜面為斜向方向之光學異向性層作為光學補償膜(相位差板)，而改良TN型液晶顯示裝置的視角。
將本發明之防眩性偏光板使用在TN模式的液晶顯示裝置時，較佳係將上述光學補償膜(相位差板)適當地配置在偏光膜之與貼合有防眩膜的一側為相反側之側。將本發明之防眩性偏光板適用在TN模式的液晶顯示裝置時，本發明之防眩性偏光板的較佳實施型態的一例為如下述之構成：隔介後述第2接著劑層，將保護膜積層於偏光膜之與貼合有防眩膜的一側為相反側的面，並將作為相位差板的上述光學異向性層積層於該保護膜上。保護膜與相位差板之貼合，較佳係使用丙烯酸系黏著劑等黏著劑來進行。惟，光學異向性層亦可直接積層於偏光膜上。光學異向性層較佳是光學上為負的單軸性且其光學軸從膜的法線方向傾斜5至50°之光學異向性層，以及光學上為正的單軸性且其光學軸從膜的法線方向傾斜5至50°之光學異向性層。
光學上為負的單軸性且其光學軸從膜的法線方向傾斜5至50°之光學異向性層，例如為日本特開平6-214116號公報中所記載般，較佳為使用：將有機化合物，其中尤以顯示液晶性且具有圓盤狀分子結構之化合物、或是雖未顯示液晶性但藉由電場或磁場而顯現負的折射率異向性之化合物，塗佈在由三乙酸纖維素等所構成之透明基材膜上，並以使光學軸從膜的法線方向傾斜5至50°間之方式所配向之膜等。配向不僅為單向，亦可為例如斜率從膜的一面朝另一面逐漸增大之所謂的混合配向。
顯示液晶性且具有圓盤狀分子結構之有機化合物，可例示如：於低分子或高分子的盤形液晶，例如於具有聯伸三苯(triphenylene)、三茚并苯(truxene)、苯等平面結構之母核，輻射狀地鍵結有烷基、烷氧基、經烷基取代之苯甲醯氧基、經烷氧基取代之苯甲醯氧基等直鏈狀的取代基者。當中，較佳為在可見光區域中不顯現吸收者。
具有圓盤狀分子結構之有機化合物，並不限於僅使用1種，為了獲得期望的配向，可因應需要使用複數種，或是與高分子基質等其他有機化合物混合使用。混合使用之有機化合物，只要是與具有圓盤狀分子結構之有機化合物具相溶性，或是可將具有圓盤狀分子結構之有機化合物分散為不使光產生散射之程度的粒徑者，則無特別限定。在由纖維素系樹脂所構成之透明基材膜設置有由該液晶性化合物所構成之層，並且光學軸相對於膜的法線方向呈傾斜之膜，較佳例如可使用「WV Film」(Fuji Film股份有限公司製)。
此外，光學上為正的單軸性且其光學軸從膜的法線方向傾斜5至50°之光學異向性層，例如為日本特開平10-186356號公報中所記載般，可列舉：將具有細長棒狀結構之有機化合物，其中尤以顯示向列液晶性且具有賦予正的光學異向性之分子結構之化合物、或是雖未顯示液晶性但藉由電場或磁場而顯現出正的折射率異向性之化合物，成膜於由三乙酸纖維素等所構成之透明基材膜上，並以使光學軸從膜的法線方向傾斜5至50°間之方式所配向之膜等。配向不僅為單向，亦可為例如斜率從膜的一面朝另一面逐漸增大之所謂的混合配向。在透明基材膜設置由向列液晶化合物所構成之層，且光學軸相對於膜的法線方向呈傾斜之膜，較佳例如可使用「NH Film」(新日本石油股份有限公司製)。
此外，藉由將能夠以真空蒸鍍形成薄膜並且在進行蒸鍍時可顯現出正的折射率異向性之電介質，從相對於其法線呈傾斜之方向蒸鍍於透明基材膜上，亦可製得光學上為正的單軸性且其光學軸從膜的法線方向傾斜5至50°之光學異向性層。用於此之電介質，可為由無機化合物所構成之電介質或是由有機化合物所構成之電介質的任一種，但就相對於真空蒸鍍時的熱之安定性的觀點來看，較佳為使用無機電介質。無機電介質，就透明性佳等觀點來看，較佳為使用氧化鉭(Ta2 O5 )、氧化鎢(WO3 )、二氧化矽(SiO2 )、一氧化矽(SiO)、氧化鉍(Bi2 O5 )、氧化釹(Nd2 O3 )等金屬氧化物。金屬氧化物中，尤佳為使用氧化鉭、氧化鎢、氧化鉍等容易顯現折射率異向性且膜質硬者。
當使用將顯現折射率異向性之電介質的層積層於此等透明基材膜上而成之光學異向性層時，該光學異向性層，係以使其透明基材膜側與偏光膜或貼合於該偏光膜之保護膜呈相對向之方式，積層於偏光膜或保護膜上。
此外，TN模式中，為了更進一步提升視角特性及顯示特性，較佳係亦將光學異向性層配置在夾持液晶單元而成對之背面側偏光板，設置在背面側偏光板之光學異向性層，如先前所說明般，較佳係使用光學上為負的單軸性且其光學軸從膜的法線方向傾斜5至50°之光學異向性層。
[5]接著劑層
本發明中，如第1圖所示，防眩膜1係隔介第1接著劑層103a而積層於偏光膜104之一面。此外，在積層保護膜或光學補償層105時，此等係隔介第2接著劑層103b而積層於偏光膜104之另一面。
本發明中，形成第1接著劑層之接著劑，係採用含有環氧系樹脂(較佳為含有環氧系樹脂作為主成分)之硬化性組成物。藉由使用該硬化性組成物，可提升所得之防眩性偏光板的耐水性，並且在防眩膜與偏光膜之間得到高接著強度，因而可提升防眩性偏光板的耐久性。形成第2接著劑層之接著劑，可與形成第1接著劑層之接著劑為同種類或不同種類，就接著性與耐久性之觀點來看，較佳與第1接著劑層相同地，以採用含有環氧系樹脂(較佳為含有環氧系樹脂作為主成分)之硬化性組成物為佳。在此，所謂環氧系樹脂，是指分子中具有平均2個以上的環氧基並藉由反應而硬化之化合物，除了聚合物之外，亦包含低聚物及單體。
使用由上述硬化性組成物所構成之接著劑所進行之防眩膜與偏光膜之接著、偏光膜與保護膜或光學補償層之接著，係可藉由對介置於所貼合的膜間之該接著劑的塗佈層照射活性能量線或進行加熱，而使接著劑中所含有之硬化性環氧系樹脂硬化來進行。依據該活性能量線或加熱所進行之環氧系樹脂的硬化，較佳為藉由陽離子聚合來進行。所謂活性能量線，為包含可見光、紫外線、X射線、電子束等之概念。
就耐候性、折射率、陽離子聚合性等觀點來看，作為接著劑的硬化性組成物中所含有之環氧系樹脂，可例示如氫化環氧樹脂、脂環式環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等。
氫化環氧化合物，可藉由在觸媒的存在下、加壓下，對芳香族環氧樹脂的原料之芳香族多羥基化合物選擇性地進行核氫化反應，其次，進行縮水甘油醚化而製得。芳香族環氧樹脂，可舉例如：雙酚A的二縮水甘油醚、雙酚F的二縮水甘油醚、及雙酚S的二縮水甘油醚等雙酚型環氧樹脂；酚酚醛(phenol novolac)環氧樹脂、甲酚酚醛環氧樹脂、及羥基苯甲醛酚酚醛環氧樹脂等酚醛型環氧樹脂；四羥基苯基甲烷的縮水甘油醚、四羥基二苯基酮的縮水甘油醚、及環氧化聚乙烯酚等多官能型的環氧樹脂等。若對此等芳香族環氧樹脂的原料之例如雙酚類等芳香族多羥基化合物施以上述核氫化反應，其次，使表氯醇進行反應，則得到氫化環氧樹脂。當中，氫化環氧樹脂較佳為經氫化之雙酚A的縮水甘油醚。
所謂脂環式環氧樹脂，係意指分子內具有1個以上之鍵結於脂環式環的環氧基之環氧樹脂。所謂「鍵結於脂環式環的環氧基」係意指下列式所示之構造中之架橋的氧原子-O-，下列式中，m為2至5的整數。
去除上述式的(CH2 )m 中之1個或複數個氫原子的形式之基與其他化學結構鍵結之化合物，可成為脂環式環氧樹脂。(CH2 )m 中之1個或複數個氫原子，可適當地經甲基或乙基等直鏈狀烷基所取代。脂環式環氧樹脂中，具有環氧雙環己烷環(上述式中m=3者)或環氧雙環庚烷環(上述式中m=4者)之環氧樹脂，由於顯示優異之接著性，而適宜使用。以下係具體例示本發明中可適當地使用之脂環式環氧樹脂，但並不限定於此等化合物。
(a)下列式(I)所示之環氧環己烷羧酸環氧環己基甲酯類：
(式中，R1 及R2 互為獨立地表示氫原子或碳數1至5的直鏈狀烷基)。
(b)下列式(II)所示之烷二醇的環氧環己烷羧酸酯類：
(式中，R3 及R4 互為獨立地表示氫原子或碳數1至5的直鏈狀烷基，n表示2至20的整數)。
(c)下列式(III)所示之二羧酸的環氧環己基甲酯類：
(式中，R5 及R6 互為獨立地表示氫原子或碳數1至5的直鏈狀烷基，p表示2至20的整數)。
(d)下列式(IV)所示之聚乙二醇的環氧環己基甲醚類：
(式中，R7 及R8 互為獨立地表示氫原子或碳數1至5的直鏈狀烷基，q表示2至10的整數)。
(e)下列式(V)所示之烷二醇的環氧環己基甲醚類：
(式中，R9 及R10 互為獨立地表示氫原子或碳數1至5的直鏈狀烷基，r表示2至20的整數)。
(f)下列式(VI)所示之二環氧三螺化合物：
(式中，R11 及R12 互為獨立地表示氫原子或碳數1至5的直鏈狀烷基)。
(g)下列式(VII)所示之二環氧單螺化合物：
(式中，R13 及R14 互為獨立地表示氫原子或碳數1至5的直鏈狀烷基)。
(h)下列式(VIII)所示之乙烯基環己烯二環氧化物類：
(式中，R15 表示氫原子或碳數1至5的直鏈狀烷基)。
(i)下列式(IX)所示之烷二醇的環氧環戊醚類：
(式中，R16 及R17 互為獨立地表示氫原子或碳數1至5的直鏈狀烷基)。
(j)下列式(X)所示之二環氧三環癸烷類：
(式中，R18 表示氫原子或碳數1至5的直鏈狀烷基)。
上述所例示之脂環式環氧樹脂中，就較容易取得等之理由來看，以下列脂環式環氧樹脂更適宜使用。
(A)7-氧雜雙環[4.1.0]庚烷-3-羧酸與(7-氧雜雙環[4.1.0]庚-3-基)甲醇之酯化物[式(I)中，R1 =R2 =H之化合物]，
(B)4-甲基-7-氧雜雙環[4.1.0]庚烷-3-羧酸與(4-甲基-7-氧雜雙環[4.1.0]庚-3-基)甲醇之酯化物[式(I)中，R1 =4-CH3 、R2 =4-CH3 之化合物]，
(C)7-氧雜雙環[4.1.0]庚烷-3-羧酸與1,2-乙二醇之酯化物[式(II)中，R3 =R4 =H、n=2之化合物]，
(D)(7-氧雜雙環[4.1.0]庚-3-基)甲醇與己二酸之酯化物[式(III)中，R5 =R6 =H、p=4之化合物]，
(E)(4-甲基-7-氧雜雙環[4.1.0]庚-3-基)甲醇與己二酸之酯化物[式(III)中，R5 =4-CH3 、R6 =4-CH3 、p=4之化合物]，
(F)(7-氧雜雙環[4.1.0]庚-3-基)甲醇與1,2-乙二醇之醚化物[式(V)中，R9 =R10 =H、r=2之化合物]。
此外，脂肪族環氧樹脂，可舉例如脂肪族多元醇或其環氧烷(alkylene oxide)加成物的多縮水甘油醚。具體而言，可舉例如：1,4-丁二醇的二縮水甘油醚；1,6-己二醇的二縮水甘油醚；甘油的三縮水甘油醚；三羥甲基丙烷的三縮水甘油醚；聚乙二醇的二縮水甘油醚；丙二醇的二縮水甘油醚；以及將1種或2種以上的環氧烷(環氧乙烷(ethylene oxide)、環氧丙烷(propylene oxide)等)加成於乙二醇、丙二醇及甘油等脂肪族多元醇而藉此製得之聚醚多元醇的多縮水甘油醚等。
上述所例示之環氧樹脂可僅單獨使用1種或是併用2種以上。
環氧樹脂的環氧當量通常為30至3000g/當量，較理想為50至1500g/當量的範圍。當環氧當量低於30g/當量時，硬化後之防眩性偏光板的可撓性可能會降低，或是接著強度降低。另一方面，當環氧當量超過3000g/當量時，與接著劑中所含有之其他成分的相溶性可能會降低。
就反應性之觀點來看，較佳係使用陽離子聚合作為環氧系樹脂的硬化反應。因此，作為接著劑的硬化性組成物，較佳為含有陽離子聚合起始劑。陽離子聚合起始劑係藉由可見光、紫外線、X射線、電子束等活性能量線的照射或加熱，產生陽離子物種或路易斯酸，而使環氧基的聚合反應開始進行。不論是何種型式的陽離子聚合起始劑，只要是可賦予隱性者，就作業性的觀點來看即為較佳。以下，將藉由活性能量線的照射產生陽離子物種或路易斯酸而使環氧基的聚合反應開始進行之陽離子聚合起始劑，稱為「光陽離子聚合起始劑」，將藉由熱產生陽離子物種或路易斯酸而使環氧基的聚合反應開始進行之陽離子聚合起始劑，稱為「熱陽離子聚合起始劑」。
使用光陽離子聚合起始劑並藉由活性能量線的照射來進行接著劑的硬化之方法，係因可在常溫下硬化，並減少需考量到偏光膜的耐熱性或膨脹所導致之應變的必要性，並且可良好地將防眩膜(及保護膜或光學補償層)與偏光膜予以接著，故較為有利。此外，由於光陽離子聚合起始劑是藉由光來進行觸媒作用，所以即使混合於環氧系樹脂，保存安定性和作業性亦為優良。光陽離子聚合起始劑，例如可列舉芳香族重氮鹽、芳香族錪鹽或芳香族鋶鹽等鎓鹽；以及鐵-丙二烯錯合物等。
芳香族重氮鹽，例如可列舉出六氟銻酸苯重氮鹽、六氟磷酸苯重氮鹽、六氟硼酸苯重氮鹽等。
芳香族錪鹽，例如可列舉出四(五氟苯基)硼酸二苯基錪、六氟磷酸二苯基錪、六氟銻酸二苯基錪、六氟磷酸二(4-壬基苯基)錪等。
芳香族鋶鹽，例如可列舉出六氟磷酸三苯基鋶、六氟銻酸三苯基鋶、四(五氟苯基)硼酸三苯基鋶、4,4’-雙(二苯基鋶基)二苯基硫醚雙六氟磷酸鹽、4,4’-雙[二(β-羥基乙氧基)苯基鋶基]二苯基硫醚雙六氟銻酸鹽、4,4’-雙[二(β-羥基乙氧基)苯基鋶基]二苯基硫醚雙六氟磷酸鹽、7-[二(對甲苯基)鋶基]-2-異丙基噻吨酮六氟銻酸鹽、7-[二(對甲苯基)鋶基]-2-異丙基噻吨酮四(五氟苯基)硼酸鹽、4-苯基羰基-4’-二苯基鋶基-二苯基硫醚六氟磷酸鹽、4-(對三級丁基苯基羰基)-4’-二苯基鋶基-二苯基硫醚六氟銻酸鹽、4-(對三級丁基苯基羰基)-4’-二(對甲苯基)鋶基-二苯基硫醚四(五氟苯基)硼酸鹽等。
此外，鐵-丙二烯錯合物，例如可列舉二甲苯-環戊二烯基鐵(II)六氟銻酸鹽、異丙苯-環戊二烯基鐵(II)六氟磷酸鹽、二甲苯-環戊二烯基鐵(II)-三(三氟甲基磺醯基)甲基化物。
此等光陽離子聚合起始劑，可單獨使用或混合2種以上使用。此等中，尤其是芳香族鋶鹽，係因即使在300nm以上的波長區域中亦具有紫外線吸收特性，故可賦予硬化性佳且具有良好的機械強度及接著強度之硬化物，所以係適宜使用。
此等光陽離子聚合起始劑可容易從市售品中取得，例如可分別以商品名稱列舉如「Kayarad PCI-220」及「Kayarad PCI-620」(以上為日本化藥股份有限公司製)、「UVI-6990」(Union Carbide公司製)、「Adeka Optomer SP-150」及「Adeka Optomer SP-170」(以上為ADEKA股份有限公司製)、「CI-5102」、「CIT-1370」、「CIT-1682」、「CIP-1866S」、「CIP-2048S」及「CIP-2064S」(以上為日本曹達股份有限公司製)、「DPI-101」、「DPI-102」、「DPI-103」、「DPI-105」、「MPI-103」、「MPI-105」、「BBI-101」、「BBI-102」、「BBI-103」、「BBI-105」、「TPS-101」、「TPS-102」、「TPS-103」、「TPS-105」、「MDS-103」、「MDS-105」、「DTS-102」及「DTS-103」(以上為Midori化學股份有限公司製)、「PI-2074」(Rhodia公司製)等。
光陽離子聚合起始劑的調配量，相對於環氧樹脂100重量份，一般為0.5至20重量份，較理想為1重量份以上，此外，較理想為15重量份以下。當光陽離子聚合起始劑的調配量相對於環氧樹脂100重量份低於0.5重量份時，硬化不足，而有硬化物的機械強度和接著強度降低之傾向。此外，當光陽離子聚合起始劑的調配量相對於環氧樹脂100重量份超過20重量份時，由於硬化物中的離子物質增加，使硬化物的吸濕性提高，可能會導致耐久性能的降低。
使用光陽離子聚合起始劑時，硬化性組成物可因應必要而復含有光增感劑。藉由使用光增感劑，可提升陽離子聚合的反應性，而提升硬化物的機械強度和接著強度。光增感劑可舉例如羰基化合物、有機硫化合物、過硫化物、氧化還原系化合物、偶氮及重氮化合物、鹵化物及光還原性色素等。
光增感劑的具體例，可列舉：安息香甲醚、安息香異丙醚及α,α-二甲氧基-α-苯基苯乙酮等安息香衍生物；二苯基酮、2,4-二氯二苯基酮、鄰苯甲醯基苯甲酸甲酯，4,4’-雙(二甲基胺基)二苯基酮及4,4’-雙(二乙基胺基)二苯基酮等二苯基酮衍生物；2-氯噻吨酮及2-異丙基噻吨酮等噻吨酮(thioxanthone)衍生物；2-氯蒽醌及2-甲基蒽醌等蒽醌衍生物；N-甲基吖啶酮及N-丁基吖啶酮等吖啶酮(acridone)衍生物；其他例如α,α-二乙氧基苯乙酮、二苯乙二酮(benzil)、茀酮、氧雜蒽酮(xanthone)、雙氧鈾化合物(uranyl compound)、鹵化物等。此等光增感劑可單獨使用或混合2種以上使用。於硬化性組成物100重量份中，較佳係在0.1至20重量份之範圍內含有光增感劑。
另一方面，熱陽離子聚合起始劑可列舉：苯甲基鋶鹽、噻吩鎓鹽(thiophenium salt)、四氫噻吩鎓鹽(thiolanium salt)、苯甲基銨鹽、吡啶鎓鹽、聯胺鹽(hydrazinium salt)、羧酸酯、磺酸酯及胺醯亞胺等。此等熱陽離子聚合起始劑可容易從市售品中取得，例如可分別以商品名稱列舉如「Adeka Opton CP77」及「Adeka Opton CP66」(以上為ADEKA股份有限公司製)、「CI-2639」及「CI-2624」(以上為日本曹達股份有限公司製)、「San-Aid SI-60L」、「San-Aid SI-80L」及「San-Aid SI-100L」(以上為三新化學工業股份有限公司製)等。
接著劑所含有之環氧系樹脂，可藉由光陽離子聚合或熱陽離子聚合中的任一種進行硬化，亦可藉由光陽離子聚合及熱陽離子聚合兩者來進行硬化。為後者時，較佳為併用光陽離子聚合起始劑與熱陽離子聚合起始劑。
此外，作為接著劑的硬化性組成物，可復含有氧雜環丁烷(oxetane)類或多元醇類等促進陽離子聚合之化合物。
氧雜環丁烷類為於分子內具有4員環醚之化合物，例如可列舉：3-乙基-3-羥基甲基氧雜環丁烷、1,4-雙[(3-乙基-3-氧雜環丁基)甲氧基甲基]苯、3-乙基-3-(苯氧基甲基)氧雜環丁烷、二[(3-乙基-3-氧雜環丁基)甲基]醚、3-乙基-3-(2-乙基己氧基甲基)氧雜環丁烷、酚酚醛氧雜環丁烷等。此等氧雜環丁烷類可容易從市售品中取得，例如可分別以商品名稱列舉如「Arone Oxetane OXT-101」、「Arone Oxetane OXT-121」、「Arone Oxetane OXT-211」、「Arone Oxetane OXT-221」及「Arone Oxetane OXT-212」(均為東亞合成股份有限公司製)等。此等氧雜環丁烷，於硬化性組成物中，通常是以5至95重量%，較佳是以30至70重量%的比例含有。
多元醇類較佳為不存在有酚性羥基以外的酸性基者，例如可列舉如不具有羥基以外的官能基之多元醇化合物、聚酯多元醇化合物、聚己內酯多元醇化合物、具有酚性羥基之多元醇化合物、聚碳酸酯多元醇化合物等。此等多元醇類的分子量，通常為48以上，較佳為62以上，更佳為100以上，此外，較佳為1000以下。此等多元醇類，於硬化性組成物中，通常是以50重量%以下，較佳是以30重量%以下的比例含有。
再者，由硬化性組成物所構成之接著劑中，在不損及其接著性下，可調配其他添加劑，例如離子捕集劑、抗氧化劑、鏈轉移劑(chain transfer agent)、黏著賦予劑、熱可塑性樹脂、填充劑、流動調整劑、可塑劑、消泡劑等。離子捕集劑可列舉如粉末狀的鉍系、銻系、鎂系、鋁系、鈣系、鈦系及此等之混合系等的無機化合物。抗氧化劑可列舉如受阻酚系抗氧化劑等。
將由含有上述環氧系樹脂之硬化性組成物所構成之接著劑，塗佈在被貼合物(偏光膜、防眩膜、保護膜、光學補償層)的至少任一貼合面後，隔介所塗佈之接著劑來貼合被貼合物彼此，並藉由藉由照射活性能量線或加熱使未硬化之接著劑層硬化，而得本發明之防眩性偏光板。未硬化之接著劑層的厚度通常為50μm以下，較佳為20μm以下，更佳為10μm以下。接著劑層的塗佈方法，例如可運用刮刀、線棒、壓模塗佈機(die coater)、逗號式塗佈機(comma coater)、凹版塗佈機等種種的塗佈方式。此時，由於各種塗佈方式分別具有最適的黏度範圍，所以可在硬化性組成物中含有用於黏度調整之溶劑。溶劑只要是不會使偏光膜的光學性能降低且可良好地溶解硬化性組成物者即可，可舉例如以甲苯為代表之烴類，以乙酸乙酯為代表之酯類等有機溶劑。
當將保護膜或光學補償層貼合於偏光膜之與貼合有防眩膜的一側為相反側之側時，防眩膜與保護膜或光學補償層可分階段地一次貼合單面，或是一次貼合兩者。
以接著劑來貼合被貼合物時，可預先在被貼合物的至少任一貼合面施以皂化處理、電暈放電處理、底漆(primer)處理、定錨塗佈(anchor coating)處理等易接著處理。
藉由照射活性能量線來進行接著劑的硬化時，所使用之光源並無特別限定，可使用在波長400nm以下具有發光分布者，例如低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵化物燈等。對接著劑之光照射強度，因組成物的不同而不同，較佳是對於聚合起始劑的活化為有效之波長區域的照射強度為0.1至100mW/cm2 之範圍內。當對接著劑之光照射強度未達0.1mW/cm2 時，反應時間過長，超過100mW/cm2 時，由於從燈所發出之輻射熱以及硬化性組成物於聚合時的發熱，可能產生接著劑的黃變或偏光膜的劣化。對接著劑之光照射時間，係因應組成物的不同來控制，仍無特別限定，但較佳是以使照射強度與照射時間之乘積所表示之積算光量成為10至5000mJ/cm2 之範圍內來設定。當對接著劑之積算光量未達10mJ/cm2 時，來自聚合起始劑之活性物種的產生不足，可能導致接著劑硬化的不足，此外，積算光量超過5000mJ/cm2 時，照射時間變得極長，就生產性提升方面，有時會變得不利。
藉由熱來進行接著劑的硬化時，可藉由一般所知的方法來加熱，其條件等亦無特別限定，通常是在可使調配於接著劑之熱陽離子聚合起始劑產生陽離子物種或路易斯酸之溫度以上進行加熱，具體的加熱溫度係例如為50至200℃。
不論是藉由照射活性能量線或加熱的任一條件來進行硬化，較佳是在不會使偏光膜的偏光度、穿透率及色相、防眩膜或保護膜的透明性及光學補償層的相位差特性等防眩性偏光板的諸項特性降低之範圍內進行硬化。
＜影像顯示裝置＞
本發明更提供具備上述本發明之防眩性偏光板以及影像顯示元件之影像顯示裝置。本發明之影像顯示裝置中，防眩性偏光板係以其防眩層側為外側而配置在影像顯示元件的觀看側。亦即，本發明之防眩性偏光板係適合作為前面側偏光板使用，並以使該防眩膜的凹凸面，亦即防眩層側成為外側(觀看側)之方式配置在影像顯示元件的觀看側。關於影像顯示元件，具代表性者為液晶被密封於上下基板間，且藉由施加電壓來改變液晶的配向狀態以進行影像的顯示之液晶單元。液晶單元的驅動模式，如上述般，有垂直配向(Vertical Alignment：VA)模式、橫向電場(In-Plane Switching：IPS)模式、扭轉向列(Twisted Nematic：TN)模式等各種模式。
防眩性偏光板可直接貼合於影像顯示元件的表面，此外，例如以上所述般，亦可隔介保護膜或光學補償層而貼合於影像顯示元件的表面。
具備本發明之防眩性偏光板之影像顯示裝置，可藉由防眩膜所具有之表面的凹凸，使入射光產生散射並使映射像模糊化，而賦予較佳的觀看性。此外，本發明之防眩性偏光板，即使運用在高精細的影像顯示裝置時，亦不會產生如以往的防眩膜所觀看到之閃斑，而能夠顯現出可充分地防止映射、泛白，抑制閃斑及對比的降低之優異性能。
(實施例)
以下係列舉出實施例來更詳細地說明本發明，但本發明並不限定於此等實施例。下列例子之防眩性偏光板中所使用之防眩膜及防眩膜製造用圖案之評估方法，係如以下所述。
[1]防眩性偏光板中所使用之防眩膜之表面形狀的測定
使用三維顯微鏡PLμ2300(Sensofar公司製)來測定防眩膜的表面形狀。為了防止樣本的翹曲，係使用光學上呈透明之黏著劑，以使凹凸面成為表面之方式貼合於玻璃基板後，再提供於測定。測定時，將物鏡的倍率設為10倍。水平分解能Δx及Δy均為1.66μm，測定面積為850μm×850μm。
(標高的能譜之比H1 2 /H2 2 與H3 2 /H2 2 )
從以上所得之測定資料中，求取防眩膜之細微凹凸表面的標高作為二維函數h(x,y)，將所得之二維函數h(x,y)進行離散傅利葉轉換而求得二維函數H(fx ,fy )。將二維函數H(fx ,fy )進行平方運算以計算出能譜的二維函數H2 (fx ,fy )，並從fx =0的剖面曲線之H2 (0,fy )中，求取空間頻率0.01μm-1 中的能譜H1 2 與空間頻率0.04μm-1 中的能譜H2 2 ，並計算出能譜之比H1 2 /H2 2 。此外，求取空間頻率0.1μm-1 中的能譜H3 2 ，並計算出能譜之比H3 2 /H2 2 。
(細微凹凸表面的傾斜角度)
根據以上所得之測定資料，並根據前述演算法進行計算，製作出凹凸面的傾斜角度之直方圖，從該圖中求取每個傾斜角度之分布，並計算出傾斜角度為5°以下之面的比例。
[2]防眩性偏光板中所使用之防眩膜之光學特性的測定 (霧度)
防眩膜的霧度係藉由JIS K 7136所規定之方法來進行測定。具體而言，係使用依據此規格之霧度計「HM-150型」(村上色彩技術研究所製)來測定霧度。為了防止防眩膜的翹曲，係使用光學上呈透明之黏著劑，以使凹凸面成為表面之方式貼合於玻璃基板後，再提供於測定。一般而言，當霧度增大時，運用在影像顯示裝置時之影像會變暗，結果容易使正面對比降低。因此，以霧度較低者為佳。
[3]防眩性偏光板的防眩性能及對比的評估
在暗房內啟動如此製得之液晶顯示裝置的背光，使用亮度計「BM5A型」(Topcon股份有限公司製)，測定黑顯示狀態及白顯示狀態下之液晶顯示裝置的亮度，並計算對比。在此，對比是以白顯示狀態的亮度相對於黑顯示狀態的亮度之比所表示。其次，將此評估系統移往明亮室內，設為黑顯示狀態且以目視來觀察映射狀態、泛白。繼而，在明亮室內，設為白顯示狀態且亦以目視來觀察閃斑。關於映射狀態、泛白、閃斑之評估基準如下所示。
映射1：未觀察到映射。
2：觀察到些許映射。
3：明顯地觀察到映射。
泛白1：未觀察到泛白。
2：觀察到些許泛白。
3：明顯地觀察到泛白。
閃斑1：未觀察到閃斑。
2：觀察到些許閃斑。
3：觀察到許多閃斑。
[4]防眩性偏光板之耐水性的評估
藉由下列所示的方法，對所製作之防眩性偏光板評估耐水性。首先，以與防眩性偏光板的吸收軸(偏光膜的拉伸方向)平行之方向作為長邊，將防眩性偏光板裁切為5cm×2cm的大小以製作出樣本，並正確地測定長邊方向的尺寸。在此，偏光膜係因所吸附之碘，故涵蓋全面均一地呈現特有色彩。其次，在握持該樣本的一短邊側之狀態下，將樣本之長度方向的大約8成浸漬於60℃的水槽，並保持4小時。然後從水槽中取出樣本，擦拭水分並觀察偏光板。藉由該溫水浸漬，使樣本的偏光膜收縮。此外，藉由該溫水浸漬，使碘從與溫水接觸之偏光膜的周緣部溶出，而在樣本周緣部產生褪色之部分。此偏光膜的收縮及褪色程度，可藉由測定從樣本短邊的中央之樣本的一端(防眩膜的一端)至所收縮之偏光膜中殘留有偏光膜的特有色彩之區域為止之距離來評估，並作為侵蝕長度。該侵蝕長度愈小，表示偏光膜的收縮及褪色程度愈小，亦即可評估其作為防眩性偏光板的耐水性為高。
[5]防眩膜製造用圖案的評估
以二維的離散函數g(x,y)來表示所製作之圖案資料的階調。離散函數g(x,y)的水平分解能Δx及Δy均為2μm。將所得之二維函數g(x,y)進行離散傅利葉轉換而求得二維函數G(fx ,fy )。將二維函數G(fx ,fy )進行平方運算以計算出能譜的二維函數G2 (fx ,fy )，並從fx =0的剖面曲線之G2 (0,fy )中，評估在大於0μm-1 且為0.04μm-1 以下的空間頻率範圍內是否具有極大值。
＜實施例1＞ (A)偏光膜的製作
將平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%以上且厚度75μm之聚乙烯醇膜浸漬於30℃的純水後，在30℃下浸漬於碘/碘化鉀/水的重量比為0.02/2/100之水溶液。然後在56.5℃下浸漬於碘化鉀/硼酸/水的重量比為12/5/100之水溶液。其次，以8℃的純水洗淨後，在65℃下進行乾燥，而得到碘吸附配向於聚乙烯醇之偏光膜。拉伸主要是在碘染色及硼酸處理的步驟中進行，總拉伸倍率為5.3倍。
(B)防眩膜製造用之模具的製作
首先製備在直徑200mm的鋁輥(依據JIS之A5056)的表面施以銅巴拉德鍍覆者。銅巴拉德鍍覆是由鍍銅層/薄鍍銀層/表面鍍銅層所構成者，鍍覆層全體的厚度係設定為大約200μm。將該鍍銅表面進行鏡面研磨，將感光性樹脂塗佈在經研磨的鍍銅表面，並進行乾燥而形成感光性樹脂膜。其次，將由第15圖所示之影像資料所構成之圖案予以複數個連續地重複排列而製成圖案，將該圖案於感光性樹脂膜上藉由雷射光進行曝光並顯影。依據雷射光所進行之曝光與顯影，係使用Laser Stream FX(Think Laboratory股份有限公司製)來進行。感光性樹脂膜係使用正型感光性樹脂。第15圖所示之圖案，係對於不規則地配置多數個點徑12μm的點之圖案，運用用以去除空間頻率0.04μm-1 以下的低空間頻率成分與0.1μm-1 以上的高空間頻率成分之帶通濾波器而製作者。
然後，以氯化銅液進行第1蝕刻處理(蝕刻量：3μm)。第1蝕刻處理後，從輥中去除感光性樹脂膜，再次以氯化銅液進行第2蝕刻處理(蝕刻量：10μm)。然後以使鍍鉻厚度成為4μm之方式進行鍍鉻加工而製作模具A。
(C)防眩膜的製作
將光硬化性樹脂組成物「GRANDIC 806T」(大日本油墨化學工業股份有限公司製)溶解於乙酸乙酯，製成50重量%濃度的溶液，然後將光聚合起始劑的「Lucirin TPO」(BASF公司製，化學名稱：2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基膦氧化物)，以硬化性樹脂成分每100重量份添加5重量份之方式調製出塗佈液。其次，在厚度80μm的三乙酸纖維素(TAC)膜上，以使乾燥後的塗佈厚度成為6μm之方式塗佈此塗佈液，在設定為60℃之乾燥機中進行3分鐘的乾燥。將乾燥後的TAC膜，以使光硬化性樹脂組成物層成為模具側之方式，藉由橡膠輥按壓於先前所得之模具A的凹凸面並使密著。在此狀態下，從TAC防眩膜側，以h射線換算光量成為200mJ/cm2 之方式，將來自強度20mW/cm2 之高壓水銀燈的光予以照射，使光硬化性樹脂組成物層硬化。然後將TAC膜與硬化樹脂一起從模具剝離，而製作由表面具有凹凸之硬化樹脂(防眩層)與TAC膜之積層體所構成的透明防眩膜A。
(D)由以環氧系樹脂為主成分之硬化性組成物所構成之接著劑的調製
將己二酸雙(3,4-環氧環己基甲基)酯100重量份、氫化雙酚A的二縮水甘油醚25重量份、及光陽離子聚合起始劑[4,4’-雙(二苯基鋶基)二苯基硫醚雙六氟磷酸鹽]2.2重量份混合後，進行脫泡而製得由硬化性組成物所構成之接著劑。光陽離子聚合起始劑是調配為50質量%碳酸丙烯酯(propylene carbonate)溶液。
(E)防眩性偏光板的製作
在防眩膜A之與形成有防眩層的一側為相反側之面(TAC膜面)，以棒式塗佈機塗佈上述接著劑3μm，並於其上積層上述偏光膜。此外，在作為保護膜之表面經電暈放電處理之厚度70μm的拉伸降莰烯系樹脂膜(「ZEONOR」，日本Zeon股份有限公司製)(以下亦記載為降莰烯膜)之電暈放電處理面，以棒式塗佈機塗佈上述接著劑3μm後，以該接著劑塗佈面側，將該降莰烯膜積層於偏光膜之與貼合有防眩膜的一側為相反側之面。然後，藉由附有輸送帶之紫外線照射裝置(照射燈：Fusion D Lamp、積算光量：1000mJ/cm2 )照射紫外線，並在室溫下放置1小時，而得防眩性偏光板A。
(F)液晶顯示裝置的製作
從裝載有垂直配向模式的液晶顯示元件(液晶面板)之市售的液晶電視(「LC-32GH3」，Sharp股份有限公司製)中取出液晶面板，從該液晶單元中將偏光板剝離。然後皆以使偏光板的吸收軸與原本貼附於各液晶單元之偏光板的吸收軸方向為一致之方式，隔介接著劑層，將偏光板「Sumikalan SRDB31E」(住友化學股份有限公司製)貼合於液晶單元的背面側(背光側)，並將上述防眩性偏光板A貼合於液晶單元的前面側(觀看側)，而製作液晶面板。其次，將該液晶面板以背光/光擴散板/液晶面板的構成來組裝，製作液晶顯示裝置A。
＜實施例2＞
在模具製作的曝光步驟中，將由第16圖所示之影像資料所構成之圖案予以複數個連續地重複排列而製成圖案，並將該圖案於感光性樹脂膜上藉由雷射光進行曝光，以使第1蝕刻處理的蝕刻量成為5μm之方式來設定，且使第2蝕刻處理的蝕刻量成為12μm之方式來設定，除此之外，其他與實施例1同樣操作而製作模具B。除了使用所得之模具B之外，其他與實施例1同樣操作而製作防眩膜B。此外，除了使用防眩膜B之外，其他與實施例1同樣操作而製作防眩性偏光板B及液晶顯示裝置B。第16圖所示之圖案，係對於不規則地配置多數個點徑12μm的點之圖案，運用用以去除空間頻率0.035μm-1 以下的低空間頻率成分與0.135μm-1 以上的高空間頻率成分之帶通濾波器而製作者。
＜比較例1＞
將直徑300mm的鋁輥(依據JIS之A5056)的表面進行鏡面研磨，並使用噴砂裝置(不二製作所股份有限公司製)以噴砂壓力0.1MPa(計示壓)、顆粒用量8g/cm2 (輥表面積每1cm2 之用量)將二氧化鋯顆粒TZ-SX-17(Tosoh股份有限公司製，平均粒徑：20μm)噴砂至經研磨的鋁面，於表面形成凹凸。對所得之附有凹凸的鋁輥進行無電解鍍鎳加工，而製作模具C。此時，無電解鍍鎳厚度係設定為15μm。除了使用所得之模具C之外，其他與實施例1同樣操作而製作防眩膜C。此外，除了使用防眩膜C之外，其他與實施例1同樣操作而製作防眩性偏光板C及液晶顯示裝置C。
＜比較例2＞
將Kuraray股份有限公司所販售之經羧基改質的聚乙烯醇「Kuraray Poval KL318」(改質度2莫耳%)1.8重量份溶解於水100重量份，然後加入作為水溶性聚醯胺環氧樹脂之Sumika Chemtex公司所販售之「Sumirez Resin 650」(固形份30重量%的水溶液)1.5重量份並溶解，調製聚乙烯醇系接著劑。
其次，在對防眩膜A之與形成有防眩層的一側為相反側之面進行皂化處理後，以棒式塗佈機將上述聚乙烯醇系接著劑10μm塗佈在皂化處理面，並於其上積層上述偏光膜。此外，在作為保護膜之表面經電暈放電處理之降莰烯系樹脂(與實施例1者相同)的電暈放電處理面，以棒式塗佈機塗佈上述聚乙烯醇系接著劑10μm後，以該接著劑塗佈面側，將該降莰烯膜積層於偏光膜之與貼合有防眩膜的一側為相反側之面。然後在80℃下乾燥5分鐘，再於常溫下熟化1天，而得防眩性偏光板D。
關於上述[1]至[4]的測定及評估結果，係匯總如第1表及第2表所示。此外，第17圖係顯示從實施例1的模具A及實施例2的模具B的製作時所使用之圖案所得之能譜G2 (fx ,fy )中的fx =0時之剖面。從第17圖中，可得知實施例1及2中所使用之圖案的能譜，在大於0μm-1 且為0.04μm-1 以下的空間頻率範圍內不具有極大值。
從第1表所示的結果中，可得知滿足本發明的所有要件之防眩性偏光板A及防眩性偏光板B，完全未產生閃斑，顯示充分的防眩性，且亦未產生泛白。此外，配置在影像顯示裝置時，亦顯示高對比。此外，如第2表所示，本發明之防眩性偏光板A係由於使用以環氧系樹脂為主成分之硬化性組成物作為接著劑，故耐水性亦高。
另一方面，能譜比H1 2 /H2 2 未滿足本發明的要件之比較例1之防眩性偏光板C，係產生閃斑。此外，使用聚乙烯醇系接著劑之比較例2之防眩性偏光板D，其耐水性差。
1．．．防眩膜
2．．．細微凹凸
3．．．防眩膜投影面
5．．．主法線方向
6．．．局部的法線
6a、6b、6c、6d．．．法線向量
7．．．模具用基材
8．．．經研磨的表面
9．．．感光性樹脂膜
10．．．經曝光的區域
11．．．未曝光的區域
12．．．遮罩
13．．．無遮罩之處
15．．．第1表面凹凸形狀
16．．．鍍鉻層
17．．．鍍鉻表面
18．．．第2表面凹凸形狀
101．．．防眩層
102．．．透明支撐體
103a．．．第1接著劑層
103b．．．第2接著劑層
104．．．偏光膜
105．．．保護膜或光學補償層
第1圖係示意性地顯示本發明之防眩性偏光板的較佳一例之剖面圖。
第2圖係示意性地顯示本發明之防眩性偏光板所具備之防眩膜的表面之透視圖。
第3圖係顯示離散地獲得表示標高之函數h(x,y)之狀態的示意圖。
第4圖係以二維離散函數h(x,y)來表示本發明之防眩性偏光板所具備之防眩層的細微凹凸表面的標高之圖的一例。
第5圖係以白與黑的階度來表示將第4圖所示之二維函數h(x,y)進行離散傅利葉轉換所得之標高的能譜H2 (fx ,fy )之圖。
第6圖係顯示第5圖所示之能譜H2 (fx ,fy )中的fx =0時之剖面的圖。
第7圖係用以說明細微凹凸表面之傾斜角度的測定方法之示意圖。
第8圖係顯示防眩膜所具備之防眩層的細微凹凸表面之傾斜角度分布的直方圖的一例之圖表。
第9圖係顯示為了製作本發明之防眩性偏光板所具備的防眩膜而可使用之圖案的影像資料的一部分之圖。
第10圖係以白與黑的階度來表示將第9圖所示之階調的二維函數g(x,y)進行離散傅利葉轉換所得之能譜G2 (fx ,fy )之圖。
第11圖係顯示第10圖所示之能譜G2 (fx ,fy )中的fx =0時之剖面的圖。
第12圖(a)至(e)係示意性地顯示模具的製造方法之前半部分的較佳一例之圖。
第13圖(a)至(c)係示意性地顯示模具的製造方法之後半部分的較佳一例之圖。
第14圖(a)及(b)係示意性地顯示在第1蝕刻步驟中所形成之凹凸面，藉由第2蝕刻步驟予以鈍化之狀態的圖。
第15圖係顯示實施例1之模具製作時所使用的圖案之圖。
第16圖係顯示實施例2之模具製作時所使用的圖案之圖。
第17圖係表示第15圖及第16圖所示之圖案之能譜G2 (fx ,fy )中的fx =0時之剖面的圖。
1．．．防眩膜
101．．．防眩層
102．．．透明支撐體
103a．．．第1接著劑層
103b．．．第2接著劑層
104．．．偏光膜
105．．．保護膜或光學補償層

Claims (10)

  1. 一種防眩性偏光板，其具備：防眩膜，其具有透明支撐體、及積層於前述透明支撐體上之具有凹凸表面之防眩層；以及由聚乙烯醇系樹脂膜所構成之偏光膜，其係隔介第1接著劑層而積層於前述透明支撐體之與前述防眩層相反側的面；其中，前述第1接著劑層是由含有環氧系樹脂之硬化性組成物的硬化物所構成；空間頻率0.01μm-1 中之前述凹凸表面之標高的能譜H1 2 與空間頻率0.04μm-1 中之前述凹凸表面之標高的能譜H2 2 之比H1 2 /H2 2 係在1至20的範圍內；空間頻率0.1μm-1 中之前述凹凸表面之標高的能譜H3 2 與空間頻率0.04μm-1 中之前述凹凸表面之標高的能譜H2 2 之比H3 2 /H2 2 為0.1以下；並且，前述凹凸表面包含95%以上之傾斜角度為5°以下的面。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之防眩性偏光板，其復具備保護膜，該保護膜係隔介第2接著劑層而積層於前述偏光膜之與前述防眩膜相反側的面。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之防眩性偏光板，其復具備光學補償層，該光學補償層係積層於前述保護膜上。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之防眩性偏光板，其中，前述光學補償層為光學補償膜。
  5. 如申請專利範圍第2項所述之防眩性偏光板，其中，前述第2接著劑層是由含有環氧系樹脂之硬化性組成物的硬化物所構成。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之防眩性偏光板，其復具備光學補償層，該光學補償層係隔介第2接著劑層而積層於前述偏光膜之與前述防眩膜相反側的面。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之防眩性偏光板，其中，前述光學補償層為光學補償膜。
  8. 如申請專利範圍第6項所述之防眩性偏光板，其中，前述第2接著劑層是由含有環氧系樹脂之硬化性組成物的硬化物所構成。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之防眩性偏光板，其中，前述偏光膜是由經單軸拉伸且吸附配向有二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜所構成。
  10. 一種影像顯示裝置，其具備：申請專利範圍第1項所述之防眩性偏光板、以及影像顯示元件；其中，前述防眩性偏光板係以其防眩層側為外側而配置在前述影像顯示元件的觀看側。
TW100107861A 2010-03-11 2011-03-09 防眩性偏光板及使用該偏光板之影像顯示裝置 TWI512318B (zh)

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