TWI558951B - 加熱爐及連續加熱爐 - Google Patents

加熱爐及連續加熱爐 Download PDF

Info

Publication number
TWI558951B
TWI558951B TW101131979A TW101131979A TWI558951B TW I558951 B TWI558951 B TW I558951B TW 101131979 A TW101131979 A TW 101131979A TW 101131979 A TW101131979 A TW 101131979A TW I558951 B TWI558951 B TW I558951B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
wall
exhaust
gas
furnace body
heating furnace
Prior art date
Application number
TW101131979A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201321681A (zh
Inventor
佐藤公美
須田俊之
藤森俊郎
相原正雄
Original Assignee
Ｉｈｉ股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ｉｈｉ股份有限公司 filed Critical Ｉｈｉ股份有限公司
Publication of TW201321681A publication Critical patent/TW201321681A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI558951B publication Critical patent/TWI558951B/zh

Links

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
    • F27B9/06—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity heated without contact between combustion gases and charge; electrically heated
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
    • F23D—BURNERS
    • F23D14/00—Burners for combustion of a gas, e.g. of a gas stored under pressure as a liquid
    • F23D14/02—Premix gas burners, i.e. in which gaseous fuel is mixed with combustion air upstream of the combustion zone
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
    • F23D—BURNERS
    • F23D14/00—Burners for combustion of a gas, e.g. of a gas stored under pressure as a liquid
    • F23D14/12—Radiant burners
    • F23D14/125—Radiant burners heating a wall surface to incandescence
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B5/00—Muffle furnaces; Retort furnaces; Other furnaces in which the charge is held completely isolated
    • F27B5/06—Details, accessories, or equipment peculiar to furnaces of these types
    • F27B5/14—Arrangements of heating devices
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
    • F27B9/06—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity heated without contact between combustion gases and charge; electrically heated
    • F27B9/08—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity heated without contact between combustion gases and charge; electrically heated heated through chamber walls
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
    • F27B9/06—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity heated without contact between combustion gases and charge; electrically heated
    • F27B9/10—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity heated without contact between combustion gases and charge; electrically heated heated by hot air or gas
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
    • F27B9/14—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment
    • F27B9/20—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment the charge moving in a substantially straight path tunnel furnace
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
    • F27B9/30—Details, accessories, or equipment peculiar to furnaces of these types
    • F27B9/36—Arrangements of heating devices
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D17/00—Arrangements for using waste heat; Arrangements for using, or disposing of, waste gases
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D17/00—Arrangements for using waste heat; Arrangements for using, or disposing of, waste gases
    • F27D17/004—Systems for reclaiming waste heat
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
    • F27D99/0001—Heating elements or systems
    • F27D99/0033—Heating elements or systems using burners
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
    • F27D99/0001—Heating elements or systems
    • F27D99/0033—Heating elements or systems using burners
    • F27D99/0035—Heating indirectly through a radiant surface
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A21—BAKING; EDIBLE DOUGHS
    • A21B—BAKERS' OVENS; MACHINES OR EQUIPMENT FOR BAKING
    • A21B1/00—Bakers' ovens
    • A21B1/02—Bakers' ovens characterised by the heating arrangements
    • A21B1/06—Ovens heated by radiators
    • A21B1/10—Ovens heated by radiators by radiators heated by fluids other than steam
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A21—BAKING; EDIBLE DOUGHS
    • A21B—BAKERS' OVENS; MACHINES OR EQUIPMENT FOR BAKING
    • A21B1/00—Bakers' ovens
    • A21B1/42—Bakers' ovens characterised by the baking surfaces moving during the baking
    • A21B1/48—Bakers' ovens characterised by the baking surfaces moving during the baking with surfaces in the form of an endless band
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
    • F27B9/30—Details, accessories, or equipment peculiar to furnaces of these types
    • F27B9/36—Arrangements of heating devices
    • F27B2009/3638—Heaters located above and under the track
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
    • F27B9/14—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment
    • F27B9/20—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment the charge moving in a substantially straight path tunnel furnace
    • F27B9/24—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity characterised by the path of the charge during treatment; characterised by the means by which the charge is moved during treatment the charge moving in a substantially straight path tunnel furnace being carried by a conveyor
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
    • F27D99/0001—Heating elements or systems
    • F27D2099/0061—Indirect heating

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Furnace Details (AREA)
  • Tunnel Furnaces (AREA)
  • Waste-Gas Treatment And Other Accessory Devices For Furnaces (AREA)

Description

加熱爐及連續加熱爐
本發明係關於一種使燃料燃燒而將被燒成物加熱的加熱爐及連續加熱爐。本申請案係根據於2011年9月5日在日本申請的特願2011-192305號主張優先權，且在此援用該內容。
以往已有一種加熱爐廣為普及，該加熱爐係具備以使燃料氣體燃燒的燃燒熱來將放射體加熱，且以來自該放射體之放射面的放射熱來將工業材料或食品等加熱的瓦斯加熱器(gas heater)。
此外，亦提出一種不限定於瓦斯加熱器，使藉由電加熱器加熱的熱風在載置被燒成物的管路(duct)內循環，且將來自經加熱之管路的放射熱傳熱至被燒成物的加熱爐(例如專利文獻1)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本發明專利第3657175號公報
然而，無論使用瓦斯加熱器及電加熱器哪一者，加熱爐都會因為來自爐本體之壁面的散熱導致壁面附近的溫度降低，使得爐本體內的溫度變得不均勻。
因此，例如，可考慮將配置於壁面附近之瓦斯加熱器的火力相對地加強來提高壁面附近之溫度的構成。然而，此情形下，燃料氣體的使用量會隨著增加瓦斯加熱器之火力的程度而增加，使得壁面附近的溫度升高。由於此，散熱至爐本體外的散熱量會增大。結果，熱效率會降低。
有鑑於此問題，本發明之目的在提供一種不會降低熱效率，可使爐本體內之溫度分布均勻的加熱爐及連續加熱爐。
本發明之第1態樣之加熱爐係具備：供被燒成物配置之對象空間；及圍繞對象空間之爐本體。此外，加熱爐進一步具備：配置於爐本體內之1個或複數個密閉式瓦斯加熱器，具有使燃料氣體流入於加熱器本體內的流入孔、供自流入孔流入之燃料氣體燃燒的燃燒室、用以引導在燃燒室中燃燒所產生之排氣氣體的導出部、藉由流通於導出部之排氣氣體或燃燒室中之燃燒加熱而將放射熱傳熱於被燒成物的放射面、及將經加熱過放射面之排氣氣體排氣至加熱器本體外的排氣孔；以及排氣傳熱部，與密閉式瓦斯加熱器之排氣孔連通，用以引導排氣氣體。此外，排氣傳熱部係設在加熱器本體內之中，除了形成於密閉式瓦斯加熱器與配置於對象空間之被燒成物之間用以將放射熱傳熱至被燒成物之燒成空間以外的任一部位。
本發明之第2態樣之加熱爐係如上述第1態樣，其中複數個前述密閉式瓦斯加熱器係隔著對象空間而對向配置，排氣傳熱部係對向配置在與密閉式瓦斯加熱器之對向方向正交的方向，燒成空間係被密閉式瓦斯加熱器及排氣傳熱部所包圍而形成。
本發明之第3態樣之加熱爐係如上述第2態樣，其中前述排氣傳熱部係隔著對象空間而與密閉式瓦斯加熱器對向配置。
本發明之第4態樣之加熱爐係如上述第1至第3中之任一態樣，其中復具備具有隔熱性的隔熱部，用以包圍燒成空間與排氣傳熱部的一部分或全部。
本發明之第5態樣之加熱爐，係如上述第1至第4中之任一態樣，其中前述排氣傳熱部係藉由下述構件構成：爐本體的外壁；在爐本體之內部空間中與外壁分隔的內壁；及用以引導排氣氣體之外壁與內壁之間的空隙。
本發明之第6態樣之連續加熱爐係具備：上述第1至第5中之任一態樣的前述加熱爐；及在爐本體內用以搬運被燒成物的搬運體。
依據本發明，在不降低熱效率下，可使爐本體內的溫度分布均勻。
100‧‧‧密閉式瓦斯加熱器系統
110‧‧‧密閉式瓦斯加熱器
120‧‧‧配置板
122‧‧‧外周壁
122a‧‧‧貫通孔
124‧‧‧區隔板
126‧‧‧加熱板
126a‧‧‧凹凸部
128‧‧‧火勢蔓延部
130‧‧‧第1配管部
132‧‧‧流入孔
134‧‧‧導入部
136‧‧‧燃燒室
138‧‧‧導出部
140‧‧‧放射面
142‧‧‧排氣孔
144‧‧‧第2配管部
150‧‧‧突起部
200‧‧‧連續加熱爐(加熱爐)
210‧‧‧搬運體
210a‧‧‧齒輪
212‧‧‧爐本體
212a‧‧‧對象空間
212b‧‧‧放射空間
212d‧‧‧外壁
212e‧‧‧內壁
212f‧‧‧空隙
214‧‧‧滾輪
214a‧‧‧軸承
216‧‧‧排氣用配管
218‧‧‧保溫壁(排氣傳熱部)
220a、220b、220c、220d、220e、220f‧‧‧連通管
222a、222b、222c‧‧‧保溫管(排氣傳熱部)
224‧‧‧矩形部分
226a、226b‧‧‧保溫板(排氣傳熱部)
228‧‧‧保溫層(排氣傳熱部)
230‧‧‧隔熱部
232‧‧‧下面側
第1圖係為顯示本發明之第1實施形態之密閉式瓦斯加熱器系統之外觀例的斜視圖。
第2圖係為用以說明本發明之第1實施形態之密閉式瓦斯加熱器系統之構造圖。
第3A圖係為第1圖之III-III線剖面圖。
第3B圖係為將第3A圖之圓部分放大的圖。
第4A圖係為用以說明複數個突起部的圖，且為密閉式瓦斯加熱器系統的斜視圖。
第4B圖係為用以說明複數個突起部的圖，且為從箭頭符號方向觀看第4A圖中之IV(b)-IV(b)線剖面的圖。
第5A圖係為用以說明本發明之第1實施形態之連續加熱爐之概要的圖，且為連續加熱爐的俯視圖。
第5B圖係為用以說明本發明之第1實施形態之連續加熱爐之概要的圖，且為第5A圖中之V(b)-V(b)線剖面圖。
第6A圖係為用以說明本發明之第1實施形態之滾輪(roller)之熱交換的圖，且為第5B圖中之VI(a)-VI(a)線剖面圖。
第6B圖係為用以說明本發明之第1實施形態之滾輪之熱交換的圖。
第7A圖係為用以說明本發明之第1實施形態之保溫壁及保溫管的圖。
第7B圖係為用以說明本發明之第1實施形態之保溫壁及保溫管的圖，且為顯示第5B圖中之矩形部分的放大圖。
第8圖係為第7B圖之VIII-VIII線剖面圖。
第9A圖係為用以說明本發明之第2實施形態之保溫管的圖，且為第5B圖中之VII(a)-VII(a)線剖面圖。
第9B圖係為用以說明本發明之第2實施形態之保溫管的圖。
第10A圖係為用以說明本發明之第3實施形態之保溫板的圖。
第10B圖係為用以說明本發明之第3實施形態之保溫板的圖。
第11圖係為用以說明本發明之第4實施形態之保溫層的圖。
第12A圖係為用以說明本發明之第5實施形態之保溫板的圖。
第12A圖係為用以說明本發明之第5實施形態之保溫板的圖。
以下一面參照圖式一面詳細說明本發明之較佳實施形態。實施形態所示之尺寸、材料或其他具體的數值等，僅係為使易於理解本發明之例示，除特別聲明外，均不限定本發明。另外，在本實施形態中，對於實質上具有相同功能、構成的要素，係賦予相同符號而省略重複說明。
第1實施形態之連續加熱爐係在爐內設有複數個密閉式瓦斯加熱器系統。首先說明密閉式瓦斯加熱器系統，之後則說明連續加熱爐的構成。
(第1實施形態：密閉式瓦斯加熱器系統100)
第1圖係為顯示第1實施形態之密閉式瓦斯加熱器系統100之外觀例的斜視圖。本實施形態之密閉式瓦斯加熱器系統100係為都市瓦斯等與作為燃燒用氧化劑氣體之空氣在供給至本體容器之前經混合的預混合型態。不限定於此情形，密閉式瓦斯加熱器系統100亦可為進行擴散燃燒的擴散型態。
如第1圖所示，密閉式瓦斯加熱器系統100係將複數個(第1圖所示之例係為2個)的密閉式瓦斯加熱器110並聯連接而成，以接受都市瓦斯等與空氣的混合氣體(以下稱「燃料氣體」)的供給，以各個密閉式瓦斯加熱器110燃燒燃料氣體之方式來加熱。在密閉式瓦斯加熱器系統100中，係回收由該燃燒所產生的排氣氣體。
第2圖係為用以說明第1實施形態之密閉式瓦斯加熱器系統100之構造的圖。如第2圖所示，密閉式瓦斯加熱器系統100係具備：配置板120；外周壁122；區隔板124；及加熱板126。
配置板120係為由耐熱性及耐氧化性高的素材，例如不鏽鋼(SUS：Stainless Used Steel)等所形成之薄板狀的構件。
外周壁122係由具有其外周面與配置板120之外周面齊平之外形之薄板狀的構件所構成，且疊層在配置板120。在外周壁122中係設有2個貫通孔122a，其內周具有田徑場跑道(track)形狀(由大致平行的2個線段、及連接該2個線段之2個圓弧(半圓)所構成的形狀)，且貫通在厚度方向(外周壁122與配置板120之疊層方向)。
區隔板124與配置板120相同，係由耐熱性及耐氧化性高的素材(例如不鏽鋼)、或導熱率高的素材(例如黃銅)等所形成。區隔板124係由具有沿著外周壁122之貫通孔122a之內周面之外形形狀的薄板構件所構成，且與配置板120大致平行地配置於外周壁122的內側。另外，區隔板124係在收容於外周壁122之貫通孔122a內的狀態下，使其外周面與貫通孔122a之內周面維持固定間隔而分隔。
加熱板126與配置板120相同，係由耐熱性及耐氧化性高的素材(例如不鏽鋼)、或導熱率高的素材(例如黃銅)等所形成之薄板狀的構件所構成。在加熱板126中係設有形成有凹凸的凹凸部126a。藉由上述的構成，以凹凸部126a來吸收因為加熱板126及配置板120之溫度差異、或加熱板126及配置板120之素材之不同所導致熱膨脹之變形量的差異，而使與外周壁122之結合部分等所產生的應力變小。因此，可抑制因為重複加熱與冷卻所導致之熱疲勞及高溫潛變(creep)。此外，加熱板126之後述之放射面的面積會變大。因此，亦可提高放射強度。
此外，配置板120、區隔板124、及加熱板126，只要在該等之間形成有空隙，亦可傾斜地對向配置。此外，配置板120、區 隔板124、及加熱板126不限定於該等厚度，配置板120及區隔板124亦可形成為厚度變化的形狀。
加熱板126係具有其外周面與配置板120及外周壁122之外周面齊平的外形，且疊層在外周壁122及區隔板124。此時，加熱板126及配置板120係彼此大致平行地(為使於本實施形態中產生超焓燃燒之實質的平行)配置。
密閉式瓦斯加熱器系統100之本體容器，係以加熱板126及配置板120將外周壁122之上下予以封閉而構成。此外，上下壁面(加熱板126及配置板120之外表面)之面積係較外周面(外周壁122之外表面)的面積還大。亦即，上下壁面係佔據本體容器之外表面的大部分。
此外，密閉式瓦斯加熱器系統100係並聯連接2個密閉式瓦斯加熱器110而構成。在兩密閉式瓦斯加熱器110間的連接部位，係形成有連通所連接之密閉式瓦斯加熱器110內之密閉空間的火勢蔓延部128。然而，雖說是密閉空間，但在氣體中使用時，也不需要完全密閉。在本實施形態的密閉式瓦斯加熱器系統100中，例如以點火器(ignitor)(未圖示)之點火裝置進行1次的點火，藉此使火焰經由火勢蔓延部128而蔓延至連接的密閉式瓦斯加熱器110而點燃。如上所述，雖於密閉式瓦斯加熱器系統100中設有2個密閉式瓦斯加熱器110，但2個密閉式瓦斯加熱器110均為相同的構成。因此，以下僅就一方的密閉式瓦斯加熱器110進行說明。
第3A圖及第3B圖係為第1圖之III-III線剖面圖。如第3A圖所示，在配置板120中，係設有在密閉式瓦斯加熱器110之中 心部貫通於厚度方向的流入孔132。在流入孔132中，係連接有供燃料氣體流通的第1配管部130。燃料氣體係經由流入孔132而被導入於密閉式瓦斯加熱器110內。
在本體容器內，係在厚度方向(與配置板120及加熱板126之對向面正交的方向)重疊形成有導入部134與導出部138。
導入部134係為被配置板120與區隔板124所包夾的空間，且配置成接連於燃燒室136，用以將自流入孔132流入的燃料氣體放射狀地引導至燃燒室136。
燃燒室136係配置在由外周壁122、加熱板126、及配置板120所包圍的空間內。此外，燃燒室136係面向區隔板124之外周端部，沿著外周壁122而形成。在燃燒室136中，係供經由導入部134而自流入孔132流入的燃料氣體燃燒。藉由沿著外周壁122而形成燃燒室136的構成，可充分確保燃燒室136的體積，此外，可使燃燒負荷率相較於瑞士捲(swiss roll)型者為低。在燃燒室136的任意位置，係設有點火裝置(未圖示)。
導出部138係為被加熱板126與區隔板124所包夾的空間，且配置成接連於燃燒室136，用以將燃燒室136中之燃燒所產生的排氣氣體，集中在密閉式瓦斯加熱器110的中心部。
此外，在本體容器內，係在厚度方向重疊形成有導入部134與導出部138。藉此，即可透過區隔板124將排氣氣體的熱傳遞至燃料氣體，而可將燃料氣體預熱。
放射面140係為加熱板126之外側的面，會被流通於導出部138之排氣氣體或燃燒室136中的燃燒所加熱，而將放射熱傳熱至被燒成物。
在區隔板124係設有在密閉式瓦斯加熱器110之中心部貫通於厚度方向的排氣孔142。在排氣孔142中，係於內周部分嵌合有第2配管部144。經由排氣孔142，將加熱過放射面140後的排氣氣體，排氣至密閉式瓦斯加熱器110的外部。
第2配管部144係配置在第1配管部130內部。亦即，藉由第1配管部130與第2配管部144而形成雙重管。此外，第2配管部144亦具有將排氣氣體的熱，傳遞至流通於第1配管部130之燃料氣體的功能。
配置板120係固定於第1配管部130的前端，而區隔板124係固定於較第1配管部130突出之第2配管部144的前端。配置板120與區隔板124係分隔相當於第1配管部130與第2配管部144之前端的差異之長度。
另外，在本實施形態中，係在第1配管部130的內部配置第2配管部144。不限定於上述的情形，亦可將第1配管部130及第2配管部144從加熱板126側插通至導入部134及導出部138，且在第2配管部144的內部配置第1配管部130。
接下來具體說明燃料氣體及排氣氣體的流路。將第3A圖之圓部分放大的第3B圖中，中空箭頭係顯示燃料氣體的流路，塗滿灰色的箭頭符號係顯示排氣氣體的流路，塗滿黑色的箭頭符號係顯示熱的移動。當將燃料氣體供給至第1配管部130時，燃料氣體即從流入孔132流入於導入部134，且一面朝水平方向擴展成放射狀一面朝向燃燒室136流通。燃料氣體係在燃燒室136中碰到外周壁122而使流速降低，且於藉由點燃的火焰燃燒之後，成為高溫的排氣氣體。排氣氣體係於流通於導出部138而傳熱至加熱 板126之放射面140之後，經由排氣孔142而從第2配管部144排出至後述的排氣傳熱部。
區隔板124係由較易於導熱的素材所形成。通過導出部138之排氣氣體的熱，係經由區隔板124而傳遞至通過導入部134的燃料氣體。流通於導出部138的排氣氣體與流通於導入部134的燃料氣體，係隔著區隔板124而成為對向流(反向流動(counter flow))。因此，可藉由排氣氣體的熱將燃料氣體有效率地預熱，而可獲得高的熱效率。藉由將燃料氣體預熱後進行燃燒(超焓燃燒)，可使燃料氣體的燃燒穩定化，且能將因為不完全燃燒所產生的CO(一氧化碳)的濃度抑制在極低濃度。
再者，為了防止逆火，在導入部134與燃燒室136的交界，係設有突起部150。藉由突起部150，防止從燃燒室136往導入部134的火焰(燃燒反應的傳遞)。茲使用第4圖來說明突起部150。
第4A圖及第4B圖係為用以說明複數個突起部150的圖。第4A圖係為拿掉加熱板126之密閉式瓦斯加熱器系統100的斜視圖，第4B圖係為從第4A圖之箭頭符號方向觀看IV(b)-IV(b)線剖面的圖。在第4B圖中，為了易於理解複數個突起部150的構造，係以虛線來顯示加熱板126及突起部150中被區隔板124所隱藏的部分。此外，箭頭符號152係顯示燃料氣體之流路的方向。導入部134係藉由設於區隔板124之複數個突起部150縮小其流路剖面。如第3B圖及第4B圖所示，燃料氣體係經由導入部134中之鄰接的突起部150之間的空隙而流入於燃燒室136。
如上所述，依據本實施形態之密閉式瓦斯加熱器系統100，係以排氣氣體的熱來將燃料氣體預熱，因此可獲得高的熱效率， 並且不會使排氣氣體擴散。因此，在後述之連續加熱爐200中可有效利用排氣氣體的熱。
接下來說明配置有複數個上述之密閉式瓦斯加熱器系統100的連續加熱爐200。
第5A圖及第5B圖係為用以說明第1實施形態之連續加熱爐200之概要的圖。尤其第5A圖係顯示連續加熱爐200的俯視圖，而第5B圖係顯示第5A圖之V(b)-V(b)線剖面圖。
搬運體210係例如由皮帶(belt)等的搬運帶所構成，且被張掛支撐在滾輪(roller)214，藉由接受馬達(未圖示)之動力的齒輪210a旋轉來搬運被燒成物。此被燒成物係載置於搬運體210之上。被燒成物亦可例如藉由設於搬運體210之吊撐機構(未圖示)而被懸吊支撐。此外，在本實施形態中，係在爐本體212內，配置被燒成物，且將搬運時通過的空間，設為對象空間212a。
爐本體212係包圍搬運體210之一部分或全部而形成燒成空間。亦即，爐本體212亦包圍了對象空間212a。
滾輪214係在爐本體212內從垂直下側支撐搬運體210的一部分。另外，為了抑制被燒成物的翹曲，於藉由包夾被燒成物之上下的一對網來構成搬運體時，可以在一對網的外側設置滾輪214。
密閉式瓦斯加熱器系統100係配置複數個在爐本體212內。在本實施形態中，密閉式瓦斯加熱器系統100係分別配置複數個在爐本體212內之搬運體210的垂直上方與下方。
第6A圖及第6B圖係為用以說明第1實施形態中之滾輪214之熱交換的圖。第6A圖係顯示第5B圖之VI(a)-VI(a)線剖面圖。 為了易於理解滾輪214的構造，茲省略關於後述之保溫壁及保溫管的記載。此外，在以下的圖式中，排氣氣體的流路(排氣氣體流通的空間)係以塗滿黑色來顯示，而密閉式瓦斯加熱器系統100則以交叉陰影線(cross hatching)來顯示。
如第6A圖所示，滾輪214之端部係貫通爐本體212的壁面而露出於爐本體212外，且藉由設於壁面之貫通部分的軸承214a而旋轉自如地支撐。
排氣用配管216係與密閉式瓦斯加熱器系統100之第2配管部144連通來引導排氣氣體。從密閉式瓦斯加熱器系統100延伸的配管中，將配管彎曲的部分之前設為第2配管部144，而連接有較配管彎曲的部分為下游側之複數個第2配管部144的配管則設為排氣用配管216。
排氣用配管216係具有可在流通於排氣用配管216之排氣氣體與滾輪214之間進行熱交換的構成。具體而言，如第6A圖所示，滾輪214係構成為中空，而排氣用配管216係連接於爐本體212外之滾輪214端部。此外，流通於排氣用配管216的排氣氣體係被引導至滾輪214的內部。
藉由使排氣氣體流通於滾輪214內部的構成，可將滾輪214整體加熱。此外，在滾輪214任何的位置，都會抑制爐本體212內之熱的吸熱，且抑制透過滾輪214而釋放至爐本體212外的熱，而可抑制爐本體212內的溫度降低。
此外，滾輪214亦可設為例如由軸芯、及供軸芯穿過之圓筒的旋轉體所構成，且旋轉體以旋轉自如之方式被支撐於固定於爐本體212之軸芯的構成。此情形時，只要將軸芯設為中空，將流 通於排氣用配管216的排氣氣體引導至軸芯的內部，就可將構造簡化。
此外，排氣用配管21亦可構成為：在爐本體212內，於滾輪214中，在與較搬運體210更突出於與被燒成物之搬運方向正交之方向之部位之間可進行熱交換。在第6B圖所示之例中，排氣用配管216為了可與滾輪214之間進行熱交換，係繞接於較搬運體210更突出於與被燒成物之搬運方向正交之方向之部位的一部分，且直接朝向垂直上方延伸。
藉由將滾輪214中，自搬運體210突出且遠離密閉式瓦斯加熱器系統100的部位，以排氣氣體的熱來加熱的構成，即可以簡單的構成來實現抑制對象空間212a附近之滾輪214之溫度降低的機構。結果，可抑制製造成本。
如上所述，本實施形態之連續加熱爐200之密閉式瓦斯加熱器系統100為密閉構造。藉此，排氣氣體就不會擴散而可在高溫狀態下引導至排氣用配管216。因此，排氣用配管216之溫度較滾輪214的溫度更高，而確實地將滾輪214加熱。因此，可抑制被燒成物附近之滾輪214的溫度降低。再者，由於連續加熱爐200係利用排氣氣體的排熱對滾輪214進行熱交換，因此不需要新的熱源。因此，可防止加熱處理整體之熱效率的降低。
此外，在本實施形態中，雖係以滾輪214之端部露出於爐本體212外之構成為例，但滾輪214整體亦可收容於爐本體212內。在此情形下，亦可在流通於排氣用配管216之排氣氣體與滾輪214進行熱交換來將滾輪214加熱。因此，可抑制滾輪214中，因為自對象空間212a附近，傳熱至遠離密閉式瓦斯加熱器系統100之 部位所產生之溫度降低(對象空間212a附近的溫度降低)。
另外，在爐本體212內或爐本體212外，可擴散排氣氣體的情形下，亦可將流通於排氣用配管216的排氣氣體，直接噴吹至滾輪214。不論如何，只要可在引導至排氣用配管216的排氣氣體、與滾輪214之間進行熱交換，就不需要新的熱源。因此，可抑制加熱處理整體之熱效率的降低。
接下來使用第7A圖至第12B圖來說明可利用在用來將爐本體212內保溫的保溫壁、保溫管、保溫板及保溫層。為了易於理解此等構造，在第7A圖至第12B圖中，省略上述之排氣用配管216的記載。
第7A圖及第7B圖係為用以說明第1實施形態中之保溫壁218及保溫管222a的圖。第7A圖係顯示第5B圖之VII(a)-VII(a)線剖面圖，第7B圖係顯示第5B圖之矩形部分224的放大圖。
如第7A圖及第7B圖所示，在連續加熱爐200之搬運方向的端部，係留下搬運被燒成物所需的間隙而配置有保溫壁218。保溫壁218之內部係成為中空，使自端部側之(最接近保溫壁218之)密閉式瓦斯加熱器系統100排出的排氣氣體經由連通管220a而被引導。此外，上下的保溫壁218係經由連通管220b而彼此連通。在第7A圖及第7B圖中，雖係顯示搬運方向之後方的端部，但保溫壁218在搬運方向之前方的端部亦具有相同的構成。
第8圖係為第7B圖之VIII-VIII線剖面圖。第7B圖及第8圖所示之保溫管222a，係供自密閉式瓦斯加熱器系統100排氣的排氣氣體引導至其內部。保溫管222a係與第2配管部144連通，且如第8圖所示，繞過密閉式瓦斯加熱器系統100的外側。如第7B 圖及第8圖所示，保溫管222a係沿著與對象空間212a之搬運方向平行而且與垂直方向平行的側面朝搬運方向延伸，且以折返方式配置。
第7B圖所示之隔熱部230係具有隔熱性，包圍放射空間212b與保溫管222a之一部分或全部。如第8圖所示，放射空間212b係形成在配置於對象空間212a之被燒成物(未圖示)、與配置在放射空間212b之垂直上方及垂直下方之密閉式瓦斯加熱器系統100之間。放射空間212b係為用以將放射熱傳遞至被燒成物的空間。
藉由具備隔熱部230的構成，連續加熱爐200即可抑制來自爐本體212之壁面的散熱，而提升熱效率。
綜上所述，在連續加熱爐200中，係由複數個密閉式瓦斯加熱器系統100包夾對象空間212a而對向配置。保溫管222a係對向配置在與密閉式瓦斯加熱器系統100之對向方向正交的方向。此外，藉由密閉式瓦斯加熱器系統100及保溫管222a來包圍放射空間212b。
藉由上述的構成，連續加熱爐200係一面以包夾被燒成物的方式利用密閉式瓦斯加熱器系統100進行放射加熱，一面以保溫管222a來將未配置有密閉式瓦斯加熱器系統100的部分予以包溫。因此，可抑制對象空間212a的溫度降低。
在第1實施形態的連續加熱爐200中，密閉式瓦斯加熱器系統100係為密閉構造。藉此，排氣氣體即不會擴散於爐內等，而在高溫狀態下被引導至保溫壁218或保溫管222a。將保溫管222a配置在對象空間212a與爐本體212之壁面之間、或爐本體212內之溫度相對較低的部位等。藉此，連續加熱爐200之爐本體212 內的溫度分布即被均勻化。此外，由於利用排氣氣體的排熱，因此不需要新的熱源。因此，可防止加熱處理整體之熱效率的降低。
(第2實施形態)
接著說明第2實施形態之保溫管222b、222c。在第2實施形態中，與上述第1實施形態僅有保溫管222b、222c有所不同。因此，省略關於與第1實施形態相同之構成的說明，僅就保溫管222b、222c進行說明。
第9A圖及第9B圖係為用以說明第2實施形態中之保溫管222b、222c的圖。第9A圖係顯示與第7A圖相同位置的剖面圖，第9B圖係顯示與第7B圖相同位置的放大圖。然而，為了易於理解保溫管222b的位置，在第9A圖中，係將隱藏在壁面212c之爐本體212內側(背面側)，以虛線顯示之保溫管222b，以塗滿黑色的方式來顯示。此外，在第9B圖中，係省略滾輪214的記載。
在第1實施形態之連續加熱爐200之搬運方向的端部，係於內部配置有供引導排氣氣體的保溫壁218(參照第7A圖及第7B圖)。在第2實施形態中，如第9A圖及第9B圖所示，連續加熱爐200之搬運方向的端部，僅被壁面212c所覆蓋。保溫管222b係以沿著壁面212c之爐本體212內側之壁面212c之方式配置。
在保溫管222b中，從連續加熱爐200之端部側之(最接近壁面212c)密閉式瓦斯加熱器系統100之第2配管部144排出的排氣氣體，係經由連通管220c而被引導。
此外，第1實施形態中之保溫管222a，係沿著與對象空間212a之搬運方向平行而且與垂直方向平行之側面之方式朝搬運方向延伸，且以折返之方式配置(參照第8圖)。第2實施形態中之保溫 管222c，係與第2配管部144連通，與第8圖所示之保溫管222a同樣地包繞密閉式瓦斯加熱器系統100的外側。如第9B圖所示，保溫管222c係沿著相對於搬運方向平行而且與垂直方向平行的側面，凹凸配置在垂直方向的上下。
在第2實施形態中，亦可獲得與第1實施形態相同的作用功效。亦即，在連續加熱爐200中，爐本體212內之溫度分布被均勻化。此外，由於利用排氣氣體的排熱，因此不需要新的熱源。因此，可防止加熱處理整體之熱效率的降低。
(第3實施形態)
接著說明第3實施形態之保溫板226a。在第3實施形態中，與第1實施形態僅有保溫板226a有所不同。因此，省略關於與第1實施形態相同構成的說明，僅就保溫板226a進行說明。
第10A圖及第10B圖係為用以說明第3實施形態之保溫板226a的圖。第10A圖係顯示與第7B圖相同位置的放大圖，第10B圖係顯示第10A圖之X(b)-X(b)線剖面圖。
第1實施形態之保溫管222a，係沿著與對象空間212a之搬運方向平行而且與垂直方向平行的側面而朝搬運方向延伸，且以折返之方式配置。如第10A圖及第10B圖所示，第3實施形態之保溫板226a係沿著相對於搬運方向平行而且與垂直方向平行的側面，構成覆蓋垂直上側之密閉式瓦斯加熱器系統100與垂直下側之密閉式瓦斯加熱器系統100之側面的壁面。保溫板226a係內部構成為中空，且該內部係經由連通管220d而連通於第2配管部144。藉此，排氣氣體即被引導至保溫板226a內。
在本實施形態中，對象空間212a及放射空間212b係被密閉 式瓦斯加熱器系統100與保溫板226a所完全覆蓋。
在第3實施形態中，亦可實現與第2實施形態相同的作用功效。
(第4實施形態)
接著說明第4實施形態中之保溫層228。在第4實施形態中，與第1實施形態僅保溫層228有所不同。茲省略關於與第1實施形態相同構成的說明，僅就保溫層228進行說明。
第11圖係為用以說明第4實施形態中之保溫層228的圖。第11圖係顯示與第10B圖相同位置的剖面圖。然而，在本實施形態中，爐本體212的寬度係較第3實施形態為窄。如第11圖所示，連續加熱爐200之爐本體212係具備外壁212d、及在爐本體212之內部空間與外壁212d分隔的內壁212e。保溫層228係藉由外壁212d與內壁212e之間的空隙而構成。從密閉式瓦斯加熱器系統100排出的排氣氣體，係經由連通管220e而被引導至外壁212d與內壁212e之間的空隙(保溫層228)。
在第4實施形態中，亦可獲得與第2實施形態相同的作用功效。尤其依據第4實施形態之連續加熱爐200，可使排氣氣體遍佈爐本體212的壁面整體。因此，可涵蓋爐本體212內整體抑制溫度降低。
(第5實施形態)
接著說明第5實施形態中之保溫板226b。在第5實施形態中，與第1實施形態，僅保溫板226b的構成與密閉式瓦斯加熱器系統100的數量有所不同。茲省略關於與第1實施形態相同構成的說明，僅就保溫板226b與密閉式瓦斯加熱器系統100之數量進行說 明。
第12A圖及第12B圖係為用以說明第5實施形態之保溫板226b之圖。第12A圖係顯示與第7A圖相同位置之剖面圖，第12B圖係顯示與第7B圖相同位置的放大圖。
另外，在第12A圖所示的剖面中，連通管220f雖從對象空間212a之圖中左側繞過而朝向下側，但在其他位置的剖面圖中，則繞過對象空間212a的右側。藉由連通管220f從對象空間212a之左右分別繞過，可使對象空間212a之水平方向的溫度分布更為均等化。
在上述之第1實施形態中，複數個密閉式瓦斯加熱器系統100係包夾對象空間212a而對向配置。在第5實施形態中，係在對象空間212a的垂直下方設置保溫板226b，以取代密閉式瓦斯加熱器系統100。此外，配置於爐本體212內之密閉式瓦斯加熱器系統100的數量，係設為第1實施形態的一半。亦即，如第12A圖及第12B圖所示，保溫板226b係隔著對象空間212a而與與密閉式瓦斯加熱器系統100對向配置。保溫板226b係經由連通管220f而與第2配管部144連通，供排氣氣體引導至中空的內部。
在第5實施形態中，亦可獲得與上述第2實施形態相同的作用功效。尤其依據第5實施形態之連續加熱爐200，僅從被燒成物之上面側在密閉式瓦斯加熱器系統100放射加熱時，可抑制未被放射加熱之下面側232(第12B圖所示)之對象空間212a的溫度降低。
保溫壁、保溫管、保溫板及保溫層係構成與密閉式瓦斯加熱器110之排氣孔142連通而供引導排氣氣體的排氣傳熱部。此外， 保溫壁、保溫管、保溫板及保溫層等的排氣傳熱部，不限定於上述的位置，亦可設置在爐本體212內之中除放射空間212b以外的任何部位。
此外，在上述的實施形態中，燃燒室136雖係沿著外周壁122而形成，但不限定於上述之情形。燃燒室136只要在由外周壁122、加熱板126、及配置板120所包圍的空間內即可。然而，為了充分確保排氣氣體所進行之燃料氣體的預熱效果，燃燒室136例如係以設置在加熱板126與區隔板124之間的空間，或是區隔板124與配置板120之間的空間中，較設於配置板120之流入孔132至外周壁122之中間位置更接近外周壁122之空間的任何位置為較理想。
綜上所述，雖一面參照圖式一面說明了本發明之較佳實施形態，但本發明並不限定於前述的實施形態。只要是該技術領域的該行業業者，當然可在申請專利範圍記載的範圍內思及各種變更例或修正例，該等亦屬本發明之技術範圍。
例如，在上述的實施形態中，雖以連續加熱爐200為例，但例如亦可適用在加熱爐。此時，與連續加熱爐200相同，係將排氣傳熱部配置在例如壁面附近等，爐本體內之溫度相對較低的部位。藉此，即可使加熱爐之爐本體內之溫度分布均勻。
[產業上之可利用性]
依據本發明之加熱爐及連續加熱爐，在不降低熱效率下，可獲得爐本體內之溫度分布均勻的加熱爐及連續加熱爐。
100‧‧‧密閉式瓦斯加熱器系統
144‧‧‧第2配管部
210‧‧‧搬運體
212‧‧‧爐本體
212a‧‧‧對象空間
212b‧‧‧放射空間
214‧‧‧滾輪
214a‧‧‧軸承
222a‧‧‧保溫管(排氣傳熱部)
230‧‧‧隔熱部

Claims (13)

  1. 一種加熱爐，係具備：對象空間，供被燒成物配置；爐本體，用以包圍前述對象空間；1個或複數個密閉式瓦斯加熱器，具有使燃料氣體流入於加熱器本體內的流入孔、供前述燃料氣體燃燒的燃燒室、以使自前述流入孔流入之前述燃料氣體一面擴散成放射狀一面朝向前述燃燒室流通之方式構成之導入部、用以引導在前述燃燒室中燃燒所產生之排氣氣體的導出部、將前述導入部及前述導出部區隔之區隔板、藉由流通於前述導出部之排氣氣體或燃燒室中之燃燒加熱而將放射熱傳熱於前述被燒成物的放射面、及將經加熱過前述放射面之排氣氣體排氣至前述加熱器本體外的排氣孔，該密閉式瓦斯加熱器係被配置於前述爐本體內，且前述燃料氣體係在前述燃燒室被燃燒而成為前述排氣氣體，前述排氣氣體係經由前述區隔板將前述燃燒氣體預熱，前述排氣氣體係在流通於前述導出部而傳熱至前述放射面之後，經由前述排氣孔而排出；以及排氣傳熱部，與前述密閉式瓦斯加熱器之排氣孔連通，用以引導前述排氣氣體；前述排氣傳熱部係設在前述加熱器本體內之中，除了形成於前述密閉式瓦斯加熱器與配置於前述對象空間之前述被燒成物之間用以將前述放射熱傳熱至前述被燒成物之放射空間以外的任一部位。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之加熱爐，其中，複數個前述密閉 式瓦斯加熱器係隔著前述對象空間而對向配置，前述排氣傳熱部係對向配置在與密閉式瓦斯加熱器之對向方向正交的方向，前述放射空間係被密閉式瓦斯加熱器及前述排氣傳熱部所包圍而形成。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之加熱爐，其中，前述排氣傳熱部係隔著前述對象空間而與前述密閉式瓦斯加熱器對向配置。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之加熱爐，復具備具有隔熱性的隔熱部，用以包圍前述放射空間與前述排氣傳熱部的一部分或全部。
  5. 如申請專利範圍第2項所述之加熱爐，復具備具有隔熱性的隔熱部，用以包圍前述放射空間與前述排氣傳熱部的一部分或全部。
  6. 如申請專利範圍第3項所述之加熱爐，復具備具有隔熱性的隔熱部，用以包圍前述放射空間與前述排氣傳熱部的一部分或全部。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之加熱爐，其中，前述排氣傳熱部係藉由下述構件構成：前述爐本體的外壁；在前述爐本體之內部空間中與前述外壁分隔的內壁；及用以引導前述排氣氣體之前述外壁與前述內壁之間的空隙。
  8. 如申請專利範圍第2項所述之加熱爐，其中，前述排氣傳熱部係藉由下述構件構成：前述爐本體的外壁； 在前述爐本體之內部空間中與前述外壁分隔的內壁；及用以引導前述排氣氣體之前述外壁與前述內壁之間的空隙。
  9. 如申請專利範圍第3項所述之加熱爐，其中，前述排氣傳熱部係藉由下述構件構成：前述爐本體的外壁；在前述爐本體之內部空間中與前述外壁分隔的內壁；及用以引導前述排氣氣體之前述外壁與前述內壁之間的空隙。
  10. 如申請專利範圍第4項所述之加熱爐，其中，前述排氣傳熱部係藉由下述構件構成：前述爐本體的外壁；在前述爐本體之內部空間中與前述外壁分隔的內壁；及用以引導前述排氣氣體之前述外壁與前述內壁之間的空隙。
  11. 如申請專利範圍第5項所述之加熱爐，其中，前述排氣傳熱部係藉由下述構件構成：前述爐本體的外壁；在前述爐本體之內部空間中與前述外壁分隔的內壁；及用以引導前述排氣氣體之前述外壁與前述內壁之間的空隙。
  12. 如申請專利範圍第6項所述之加熱爐，其中，前述排氣傳熱部係藉由下述構件構成：前述爐本體的外壁； 在前述爐本體之內部空間中與前述外壁分隔的內壁；及用以引導前述排氣氣體之前述外壁與前述內壁之間的空隙。
  13. 一種連續加熱爐，係具備：申請專利範圍第1至12項中任一項的加熱爐；及在前述爐本體內用以搬運前述被燒成物的搬運體。
TW101131979A 2011-09-05 2012-09-03 加熱爐及連續加熱爐 TWI558951B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011192305A JP6240371B2 (ja) 2011-09-05 2011-09-05 加熱炉および連続加熱炉

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201321681A TW201321681A (zh) 2013-06-01
TWI558951B true TWI558951B (zh) 2016-11-21

Family

ID=47832042

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW101131979A TWI558951B (zh) 2011-09-05 2012-09-03 加熱爐及連續加熱爐

Country Status (7)

Country Link
US (1) US10502487B2 (zh)
EP (1) EP2754985B1 (zh)
JP (1) JP6240371B2 (zh)
KR (1) KR101624618B1 (zh)
CN (2) CN103765146B (zh)
TW (1) TWI558951B (zh)
WO (1) WO2013035593A1 (zh)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5961941B2 (ja) * 2011-07-27 2016-08-03 株式会社Ihi 密閉式ガスヒータおよび密閉式ガスヒータを用いた連続加熱炉
JP6240371B2 (ja) 2011-09-05 2017-11-29 株式会社Ihi 加熱炉および連続加熱炉
JP5849542B2 (ja) * 2011-09-05 2016-01-27 株式会社Ihi 連続加熱炉
KR101773922B1 (ko) 2013-03-08 2017-09-01 가부시키가이샤 아이에이치아이 연속 가열로
CN105164483B (zh) * 2013-04-01 2017-03-08 株式会社Ihi 连续加热炉
JP6288602B2 (ja) * 2013-12-17 2018-03-07 株式会社Ihi 輻射式加熱装置及び輻射式加熱方法
CN107743986A (zh) * 2017-09-11 2018-03-02 佛山市顺德区奥利焙食品机械有限公司 一种高效蜂窝辐射板热交换系统
TWI686137B (zh) * 2017-12-27 2020-03-01 國家中山科學研究院 窯烤爐
US10920105B2 (en) 2018-07-27 2021-02-16 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Materials and methods for chemical mechanical polishing of ruthenium-containing materials
JP7318378B2 (ja) * 2019-07-11 2023-08-01 堺化学工業株式会社 加熱装置
CN112425612A (zh) * 2020-10-28 2021-03-02 广州复雅机械设备有限公司 一种螺旋赛道式烤炉

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003021462A (ja) * 2001-07-10 2003-01-24 Tdk Corp 燃焼式加熱炉

Family Cites Families (55)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2045773A (en) 1928-06-13 1936-06-30 Babcock & Wilcox Tube Company Heating furnace
US3143515A (en) 1956-04-18 1964-08-04 Reeves Bros Inc Method for reclaiming scrap polyurethane resins
US3216489A (en) 1961-03-16 1965-11-09 Thermel Inc Heated and cooled roll
US3245131A (en) 1964-07-09 1966-04-12 Floyd E Kimble Continuous kiln
HU167133B (zh) 1970-06-26 1975-08-28
JPS5388017A (en) * 1977-01-13 1978-08-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd Continuous baking furnace
US4217090A (en) 1978-08-22 1980-08-12 B & K Machinery International Limited Oven heating system
US4383823A (en) * 1981-06-12 1983-05-17 Williams Robert W Radiant oven for baking bread
US4493308A (en) 1982-04-06 1985-01-15 Thermo Electron Corporation Radiant/conductive broiler
JPS5986888A (ja) 1982-11-08 1984-05-19 株式会社吉田鐵工所 加熱装置
US4529123A (en) * 1983-09-02 1985-07-16 Combustion Research Corporation Radiant heater system
US5193996A (en) 1983-10-13 1993-03-16 Bp Chemicals (Hitco) Inc. Method and system for producing carbon fibers
US4553526A (en) * 1984-02-27 1985-11-19 The Hearthstone Corporation Secondary combustion system for woodburning stove
JPS61106900U (zh) * 1984-12-17 1986-07-07
US4951648A (en) 1989-03-23 1990-08-28 Tecogen, Inc. Conveyor oven
US5022911A (en) 1990-02-02 1991-06-11 Glasstech, Inc. Gas fired radiant heater for furnace floor
JPH0618178A (ja) 1992-07-01 1994-01-25 Murata Mfg Co Ltd 連続式焼成炉
NL9301581A (nl) * 1993-09-13 1995-04-03 Gastec Nv Compacte gasgestookte infraroodstraler in gesloten uitvoering.
US5632197A (en) * 1994-01-26 1997-05-27 Lubawy; Kenneth C. Commercial cooking vessel with improved heat transfer
GB9410945D0 (en) 1994-06-01 1994-07-20 Boc Group Plc Burners
DE69616631T2 (de) * 1995-04-13 2002-07-25 Patherm Sa Verfahren und Vorrichtung zur Wärmebehandlung von Werkstücken
JPH08313161A (ja) 1995-05-19 1996-11-29 Murata Mfg Co Ltd 連続式熱処理炉および被処理物収納容器
US5840101A (en) 1995-05-27 1998-11-24 Wet Tex Maschinenbau Gmbh Method and apparatus for treatment of an endless web of material with vacuum
JP3783366B2 (ja) 1997-10-09 2006-06-07 松下電器産業株式会社 焼成炉
US5906485A (en) 1998-02-27 1999-05-25 Reading Pretzel Machinery Corporation Tunnel-type conveyor oven having two types of heat sources
JP3512687B2 (ja) * 1999-09-29 2004-03-31 有限会社 ベイテック 電気炉
JP2001116463A (ja) 1999-10-20 2001-04-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd 加熱炉
JP2001165412A (ja) * 1999-12-08 2001-06-22 Tokyo Gas Co Ltd 表面燃焼バーナを備えたラジアントチューブ
JP2001330215A (ja) * 2000-05-25 2001-11-30 Tokyo Gas Co Ltd 輻射間接加熱バーナ
JP3657175B2 (ja) 2000-06-16 2005-06-08 株式会社久電舎 トンネルオーブン
TW500910B (en) 2000-10-10 2002-09-01 Ishikawajima Harima Heavy Ind Continuous sintering furnace and its using method
EP1275740B1 (en) 2001-01-17 2006-11-22 JFE Steel Corporation Method of operating a heating furnace with regenerative burners
JP4465702B2 (ja) * 2001-05-29 2010-05-19 株式会社ダイヤメット 加熱装置及び加熱方法
KR100482187B1 (ko) 2001-09-20 2005-04-13 니폰 조키 세야쿠 가부시키가이샤 유기폐기물의 탄화처리방법 및 장치
JP4032288B2 (ja) 2002-03-28 2008-01-16 アイシン精機株式会社 弁開閉時期制御装置
JP3921134B2 (ja) 2002-06-18 2007-05-30 薫 丸田 マイクロ燃焼加熱器
US6769909B2 (en) * 2002-10-19 2004-08-03 General Motors Corporation Paint baking oven with radiant tube heating elements and method of using same
JP2004218956A (ja) * 2003-01-16 2004-08-05 Ngk Insulators Ltd 基板の熱処理方法及び熱処理炉
WO2005115934A1 (fr) 2004-05-27 2005-12-08 Yan Zhao Four de chauffage de verre a flux de gaz opposes
JP4494346B2 (ja) * 2006-02-10 2010-06-30 株式会社Ｉｈｉ 燃焼加熱器
US8571396B2 (en) 2006-06-26 2013-10-29 Tp Solar, Inc. Rapid thermal firing IR conveyor furnace having high intensity heating section
US7980850B2 (en) * 2006-06-30 2011-07-19 Gas Technology Institute Self-recuperated, low NOx flat radiant panel heater
JP5125059B2 (ja) 2006-11-01 2013-01-23 パナソニック株式会社 ガラス基板の搬送方法
GB0706144D0 (en) * 2007-03-30 2007-05-09 Knauf Insulation Ltd Curing oven for mineral wool mat
JP5216246B2 (ja) * 2007-06-04 2013-06-19 光洋サーモシステム株式会社 連続焼成炉
JP5256802B2 (ja) 2008-03-19 2013-08-07 株式会社Ｉｈｉ ガス化設備のガス化炉構造
BRPI0923233A2 (pt) 2008-12-10 2016-01-26 Ihi Corp combustor
CN201837226U (zh) * 2010-10-12 2011-05-18 赵慧芳 链板式连续加热炉
JP5581979B2 (ja) 2010-11-04 2014-09-03 株式会社Ｉｈｉ 燃焼加熱器
EP2636950B1 (en) 2010-11-04 2017-07-19 IHI Corporation Combustion heating system
DE202011110724U1 (de) 2011-03-25 2016-01-22 Schwartz Gmbh Rollenherdofen zum Erwärmen von Werkstücken
JP5866845B2 (ja) 2011-07-27 2016-02-24 株式会社Ihi 燃焼加熱器
JP5961941B2 (ja) 2011-07-27 2016-08-03 株式会社Ihi 密閉式ガスヒータおよび密閉式ガスヒータを用いた連続加熱炉
JP6240371B2 (ja) * 2011-09-05 2017-11-29 株式会社Ihi 加熱炉および連続加熱炉
JP5849542B2 (ja) 2011-09-05 2016-01-27 株式会社Ihi 連続加熱炉

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003021462A (ja) * 2001-07-10 2003-01-24 Tdk Corp 燃焼式加熱炉

Also Published As

Publication number Publication date
JP2013053811A (ja) 2013-03-21
CN105352315A (zh) 2016-02-24
KR101624618B1 (ko) 2016-05-26
CN103765146B (zh) 2015-11-25
WO2013035593A1 (ja) 2013-03-14
EP2754985A1 (en) 2014-07-16
KR20140050111A (ko) 2014-04-28
TW201321681A (zh) 2013-06-01
CN105352315B (zh) 2017-08-18
US20140170582A1 (en) 2014-06-19
CN103765146A (zh) 2014-04-30
JP6240371B2 (ja) 2017-11-29
US10502487B2 (en) 2019-12-10
EP2754985A4 (en) 2015-08-12
EP2754985B1 (en) 2020-09-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI558951B (zh) 加熱爐及連續加熱爐
TWI516727B (zh) 連續加熱爐
US9982943B2 (en) Continuous heating furnace
TWI527999B (zh) 密閉式氣體加熱器及使用密閉式氣體加熱器的連續加熱爐
TWI461639B (zh) 燃燒加熱器
KR101773922B1 (ko) 연속 가열로
JP6245336B2 (ja) 加熱炉および連続加熱炉

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees