TWI541532B - An optical laminate having a touch panel, a polarizing plate, an image display device, and a method of suppressing the generation of the Newton ring - Google Patents

An optical laminate having a touch panel, a polarizing plate, an image display device, and a method of suppressing the generation of the Newton ring Download PDF

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TWI541532B
TWI541532B TW103119475A TW103119475A TWI541532B TW I541532 B TWI541532 B TW I541532B TW 103119475 A TW103119475 A TW 103119475A TW 103119475 A TW103119475 A TW 103119475A TW I541532 B TWI541532 B TW I541532B
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Description

附觸控面板之光學積層體、偏光板、影像顯示裝置及抑制產生牛頓環之方法
本發明係關於一種附觸控面板之光學積層體、偏光板、影像顯示裝置及抑制產生牛頓環之方法。
先前，已知於液晶顯示面板等之表面設置有觸控面板以令使用者以手指或筆等觸碰即可進行資訊輸入者。
然而，此種設置有觸控面板之液晶顯示面板因如下所述之理由，觸控面板與液晶顯示面板係設置些許間隙作配設。
即，由於觸控面板與液晶顯示面板之製造條件不同，故而事實上較困難或不可能使觸控面板與液晶顯示面板一體地形成而完全無間隙。又，可藉由分別製造觸控面板與液晶顯示面板並於其後將觸控面板安裝於液晶顯示面板而製造最終製品，故而製造後於觸控面板發現異常之情形時，可僅更換觸控面板。
然而，若於此種觸控面板與液晶顯示面板之間存在間隙，則自視認側利用筆或手指等對觸控面板進行按壓、彎折而使之與液晶顯示面板接觸時，會產生牛頓環。即，有如下問題：按壓之筆或手指等指向治具 之周邊產生堪比光波長之程度之間隙，因於觸控面板之間隙側之界面發生反射之光、與於液晶顯示面板之間隙側之界面發生反射之光的干涉，而產生牛頓環，使畫面之視認性降低。
針對該產生牛頓環之問題，例如專利文獻1中提出，於觸控面板與液晶顯示面板之間隙填充樹脂材料而製成樹脂層，藉此消除觸控面板及液晶顯示面板與間隙之界面上之反射。
然而，填充樹脂材料而製造最終製品時，即便於製造最終製品後於觸控面板發現異常，亦無法僅更換該觸控面板。又，將樹脂材料對觸控面板與液晶顯示面板之間隙完全地進行填充較困難，若成為包含氣泡之狀態，則成為顯示影像之缺陷之原因。
又，例如，專利文獻2中提出，於觸控面板與液晶顯示面板之間隙側之表面設置凹凸而謀求外部光之反射率降低。
然而，雖然專利文獻2中有藉由設置凹凸而可降低反射率之記載，但其值為3.0%左右，此種反射率無法充分地抑制牛頓環之產生。又，引用文獻2中對凹凸之形狀完全未進行研究。
[專利文獻1]日本特開2004-077887號公報
[專利文獻2]日本特開2002-189565號公報
本發明係鑒於上述現狀，其目的在於提供一種可充分地抑制產生牛頓環並可獲得高品質顯示影像的附觸控面板之光學積層體、使用該 附觸控面板之光學積層體而成之偏光板、影像顯示裝置及抑制產生牛頓環之方法。
本發明係一種附觸控面板之光學積層體，對向配置有透光性基材之一面上依序積層有硬塗層及低折射率層(A)的光學膜、與一面上具備低折射率層(B)的觸控面板，其特徵在於：上述光學膜與上述觸控面板於相互具有間隙之狀態下，以上述低折射率層(A)與上述低折射率層(B)相向之方式對向配置，於上述低折射率層(A)之上述低折射率層(B)側表面(A)、及上述低折射率層(B)之上述低折射率層(A)側表面(B)形成有凹凸，上述表面(A)及表面(B)之反射Y值為0.1%以上且未達1.5%，上述表面(A)及表面(B)之凹凸的10點平均粗糙度(Rz)為20~90nm，平均傾斜角(△a)為5~20°。
於本發明之附觸控面板之光學積層體中，上述低折射率層(A)及低折射率層(B)較佳含有中空狀二氧化矽(silica)微粒子、及作為黏合劑樹脂之含氟原子樹脂。
又，上述低折射率層(A)及低折射率層(B)較佳為上述中空狀二氧化矽微粒子之含量相對於上述黏合劑樹脂之固形物成分100質量份，為80~200質量份。
又，於本發明之附觸控面板之光學積層體中，上述低折射率層(A)及低折射率層(B)較佳為進一步含有平均粒徑為80~300nm之實心二氧化矽微粒子。
又，本發明亦為一種偏光板，係具備偏光元件而成，其特徵在於在上述偏光元件表面具備上述附觸控面板之光學積層體。
又，本發明亦為一種影像顯示裝置，其特徵在於具備上述附觸控面板之光學積層體、或上述偏光板。
又，本發明亦為一種抑制產生牛頓環之方法，係使用附觸控面板之光學積層體，該附觸控面板之光學積層體對向配置有透光性基材之一面上依序積層有硬塗層及低折射率層(A)的光學膜、與一面上具備低折射率層(B)的觸控面板，其特徵在於：上述光學膜與上述觸控面板於相互具有間隙之狀態下，以上述低折射率層(A)與上述低折射率層(B)相向之方式對向配置，於上述低折射率層(A)之上述低折射率層(B)側表面(A)、及上述低折射率層(B)之上述低折射率層(A)側表面(B)形成有凹凸，上述表面(A)及表面(B)之反射Y值為0.1%以上且未達1.5%，上述表面(A)及表面(B)之凹凸的10點平均粗糙度(Rz)為20~90nm，平均傾斜角(△a)為5~20°。
再者，於本說明書中，所謂「樹脂」，只要未特別提及，則為亦包括單體、低聚物等之概念。
以下，詳細地說明本發明。
本發明者等人進行努力研究，結果發現：於對向配置有觸控面板之低折射率層與光學膜之低折射率層的附觸控面板之光學積層體中，於上述各低折射率層之對向之表面設置凹凸，並且高度地控制該凹凸之形狀，藉此即便於觸控面板與光學膜之間設置間隙亦可抑制牛頓環之產生，並可獲得良好之顯示影像，從而完成本發明。
此種構成之本發明之附觸控面板之光學積層體係基於以下見解而完成者。
即，就觸控面板系統之構造而言，無法於原理上防止產生牛頓環。因此，必須使產生之牛頓環難以檢測。
使牛頓環難以檢測時，為了降低牛頓環之強度之絕對值、即降低暗線(明線)之濃度，將觸控面板系統中之對向之兩個界面一併設為抗反射層，藉此減少反射光量本身。
又，將明暗線自圓變化為複雜之線，從而利用難以檢測簡單之幾何學線的人之感性。
又，若形成迷彩色則檢測之感度變差，故而藉由使明(暗)線之粗細變得不均勻、即於觸控面板系統中之對向之兩個界面設置表面凹凸，而使若該界面間距離之2倍為波長之整數倍則錯開半波長之位置不變成同心圓。又，若使明暗之變化變得緩和，則檢測之感度變差，故而藉由降低鄰接之明暗線之對比度、即、使牛頓環之間具有凹凸而產生微小干涉，而混合設置而減少明暗差。
若使用以上說明之方法，則可使產生之牛頓環難以檢測。
此處，先前以來已知有配置於液晶顯示裝置等之最表面、具有低折射率層之光學積層體。此種配置於液晶顯示裝置等之最表面而使用之光學積層體之低折射率層若於其表面形成有與本發明之附觸控面板之光學積層體之低折射率層表面同等之凹凸形狀，則耐擦傷性較差。因此，習知之光學積層體之低折射率層之表面必須儘量平坦。因此，無法將先前公知之配置於液晶顯示裝置等之最表面之光學積層體之低折射率層用作本發明之上述光學膜之低折射率層。
再者，本發明之附觸控面板之光學積層體中，如上所述存在觸控面板， 故而上述光學膜之低折射率層不會成為最表面。因此，上述光學膜之低折射率層只要有於製造步驟中不會劃傷之程度之耐擦傷性即足夠，於低折射率層之表面形成有上述特定凹凸形狀就耐擦傷性之觀點而言，不會成為問題。具體而言，本發明之附觸控面板之光學積層體較佳為具有如下程度之耐擦傷性：對上述光學膜之低折射率層，使用鋼絲絨(「BONSTAR # 0000(商品名)」，Nippon Steel Wool公司製造)，以摩擦負荷100g/cm2摩擦10個來回之後，以目視未見損傷。
圖1係示意性地表示本發明之附觸控面板之光學積層體之一例的剖面圖。
如圖1所示，本發明之附觸控面板之光學積層體10具有光學膜11及與該光學膜11對向配置之觸控面板15。
光學膜11具有於透光性基材12之一面上依序積層有硬塗層13及低折射率層(A)14之構成，觸控面板15具有於一面上具備低折射率層(B)16之構造。
又，光學膜11與觸控面板15於相互具有間隙之狀態下以低折射率層(A)14與低折射率層(B)16相向之方式對向配置。
又，雖未圖示，但於本發明之附觸控面板之光學積層體10中，於低折射率層(A)14之低折射率層(B)16側表面(A)、及低折射率層(B)16之低折射率層(A)14側表面(B)形成有凹凸。
上述表面(A)及表面(B)(以下綜合兩者而亦稱為「表面」)之凹凸之10點平均粗糙度(Rz)為20~90nm，平均傾斜角(△a)為5~20°。藉由將滿足此種特定參數之凹凸形狀設置於上述表面，本發明之附觸控面板 之光學積層體可極高程度地抑制牛頓環之產生。
再者，先前已知有為了賦予防眩性而於表面具備具有凹凸形狀之防眩層的防眩性膜，但本發明之光學積層體與此種習知之防眩性膜不同。
即，本發明之光學積層體為抑制牛頓環之產生，於上述表面(A)及表面(B)形成有特定之凹凸形狀，形成於該表面(A)及表面(B)之凹凸形狀與形成於習知之防眩性膜之表面之凹凸形狀相比，上述Rz之值極小。因此，形成有此種凹凸形狀之本發明之光學積層體無法獲得如習知之防眩性膜之防眩性。另一方面，根據本發明，可極高程度地抑制牛頓環之產生。
若上述表面之凹凸之10點平均粗糙度(Rz)未達20nm，則表面之凹凸較少，無法充分地抑制牛頓環之產生，又，基本上，Rz越大，越可良好地抑制牛頓環之產生，但耐擦傷性有上述Rz一成為某大小就變差之傾向，尤其是若上述Rz超過90nm，則無法保持作為觸控面板所必需之耐擦傷性，又，成為本發明之附觸控面板之光學積層體之製造步驟中之損傷之原因。上述10點平均粗糙度(Rz)之較佳下限為35nm，較佳上限為70nm。
又，若上述表面之凹凸之平均傾斜角(△a)未達5°，則表面之凹凸變得平緩，無法充分地抑制牛頓環之產生。基本上，平均傾斜角(△a)越大，越可良好地抑制牛頓環之產生，但耐擦傷性有上述平均傾斜角(△a)一成為某大小就變差之傾向，尤其是若上述平均傾斜角(△a)超過20°，則無法保持作為觸控面板所必需之耐擦傷性，又，成為本發明之附觸控面板之光學積層體之製造步驟中之損傷之原因。上述平均傾斜角(△a)之較佳下限為7°，更佳下限為10°，較佳上限為15°。
再者，於本說明書中，上述10點平均粗糙度(Rz)及平均傾斜角(△a)均為使用SII NanoTechnology公司製造之原子力顯微鏡(Atomic Force Microscope；AFM)L-trace，於軟體：SPIWin之解析模式：SPIWin互換模式時測量之值。SPIWin互換模式係根據1982年版JIS規格(JIS B0601：1982)擴展至三維之解析形式。
又，於本發明之附觸控面板之光學積層體中，上述表面(A)及表面(B)之反射Y值為0.1%以上且未達1.5%。若未達0.1%，則上述表面(A)及表面(B)之耐擦傷性變差，成為製造步驟中之損傷之原因，若為1.5%以上，則上述表面(A)及表面(B)上之反射光量變多，無法充分地抑制牛頓環之產生。上述反射Y值之較佳下限為0.3%，較佳上限為1.2%。
再者，上述所謂反射Y值，係利用島津製作所公司製造之MPC3100分光光度計，於380~780nm之波長範圍內對5°正反射率進行測量，其後，利用換算為人眼感覺之亮度之軟體(MPC3100內置)算出的表示視感反射率之值。
此處，基本上，上述反射Y值越小，越可良好地抑制牛頓環之產生，但該牛頓環之產生抑制效果係上述反射Y值與上述平均傾斜角(△a)關聯而發揮。因此，例如，即便上述反射Y值為較小之值，若上述平均傾斜角(△a)為較小之值，則牛頓環之產生抑制效果亦變小，相反地，即便上述反射Y值為較大之值，若上述平均傾斜角(△a)為較大之值，則牛頓環之產生抑制效果亦變大。
於本發明之附觸控面板之光學積層體中，上述低折射率層(A)及低折射率層(B)(以下合併兩者而亦稱為低折射率層)較佳為含有 中空狀二氧化矽微粒子及作為黏合劑樹脂之含氟原子樹脂。
再者，上述所謂低折射率層，其折射率與構成本發明之附觸控面板之光學積層體中透光性基材等之低折射率層以外之構成物的折射率相比較低，且發揮可見光線之優異抗反射性能的層。
上述中空狀二氧化矽微粒子係用以降低上述低折射率層之折射率的材料，此種含有中空狀二氧化矽微粒子之低折射率層藉由含有含氟原子樹脂作為黏合劑樹脂，可於上述低折射率層之表面較佳地形成滿足上述參數之凹凸。其係基於以下理由。
即，上述含有中空狀二氧化矽微粒子及作為黏合劑樹脂之含氟原子樹脂的低折射率層係藉由使用含有該等之低折射率層用組成物形成塗膜並使該塗膜乾燥、硬化而形成。
於上述低折射率層用組成物中，若上述中空狀二氧化矽微粒子處於均勻分散之狀態，則難以於形成之低折射率層表面形成可抑制上述牛頓環之產生的凹凸形狀。然而，上述中空狀二氧化矽微粒子係其表面為親水性，相對於此，上述含氟原子樹脂為疏水性之樹脂，因此於上述低折射率層用組成物中，上述中空狀二氧化矽微粒子與含氟原子樹脂相溶性較差，上述塗膜中之中空狀二氧化矽微粒子大量不均勻地分佈於空氣層側(製成低折射率層時之表面側)之界面附近。若使如此中空狀二氧化矽微粒子不均勻分佈之狀態之塗膜乾燥、硬化而形成低折射率層，則於低折射率層之表面附近存在大量中空狀二氧化矽微粒子，可較佳地形成由該中空狀二氧化矽微粒子所致之凹凸。
如此可較佳地形成由中空狀二氧化矽微粒子所致之凹凸，故而可將形 成於低折射率層之表面之凹凸形狀控制於上述參數之範圍。
上述中空狀二氧化矽微粒子係於低折射率層之表面形成滿足上述參數之凹凸形狀、並且發揮降低其折射率之作用者。再者，於本說明書中，所謂「中空狀二氧化矽微粒子」，係指為內部填充有氣體之構造，且與二氧化矽微粒子本來之折射率相比與氣體之佔有率成反比例地折射率降低的二氧化矽微粒子。
作為上述中空狀二氧化矽微粒子之具體例，並無特別限定，例如可較佳地列舉使用日本特開2001-233611號公報中揭示之技術所製備的二氧化矽微粒子。由於中空狀二氧化矽微粒子製造容易，且其自身之硬度較高，故而於與下述黏合劑樹脂混合而形成低折射率層時，可提高該層強度，且可以折射率變低之方式進行調整。
作為上述中空狀二氧化矽微粒子之平均粒徑，較佳為5~300nm。藉由中空狀二氧化矽微粒子之平均粒徑處於該範圍內，可對低折射率層賦予優異之透明性。更佳之下限為8nm，更佳之上限為100nm，進而較佳之下限為10nm，進而較佳之上限為80nm。
再者，上述所謂中空狀二氧化矽微粒子之平均粒徑，係指於該中空狀二氧化矽微粒子單獨之情形時藉由動態光散射法測量之值。另一方面，上述低折射率層中之中空狀二氧化矽微粒子之平均粒徑係利用STEM(Scanning Transmission Electron Microscope，掃描穿透式電子顯微鏡)觀察低折射率層之剖面，選擇任意30個中空狀二氧化矽微粒子並對其等剖面之粒徑進行測量，以其等之平均值算出之值。
又，上述中空狀二氧化矽微粒子中，殼之厚度較佳為5~ 20nm。若未達5nm，則有難以製造、又中空狀二氧化矽微粒子之強度不充分而容易被壓壞之情況，若超過20nm，則有無法使低折射率層充分低折射率化之情況。上述殼之厚度之更佳下限為7nm，更佳上限為15nm。再者，上述所謂殼，係指除存在於上述中空狀二氧化矽微粒子之中心部分之氣體以外的由二氧化矽構成之外殼，該殼之厚度可藉由上述低折射率層之剖面顯微鏡觀察進行測量。
上述低折射率層中之上述中空狀二氧化矽微粒子之含量相對於下述黏合劑樹脂之固形物成分100質量份，較佳為80~200質量份。若未達80質量份，則有中空狀二氧化矽微粒子之含量少，因此無法使低折射率層充分地低折射率化，又，無法於低折射率層之表面形成滿足上述參數之凹凸的情況，即便超過200質量份而含有中空狀二氧化矽微粒子，亦有不但無法於其以上地降低低折射率層之折射率，且低折射率層之強度亦變得不充分的情況。更佳之下限為100質量份，更佳之上限為180質量份。
又，於本發明之附觸控面板之光學積層體中，上述低折射率層較佳為除上述中空狀二氧化矽微粒子以外進一步含有實心二氧化矽微粒子。
上述實心二氧化矽微粒子係用以於低折射率層中形成微小凹凸之材料，又，藉由含有上述實心二氧化矽微粒子，亦可提高上述低折射率層之硬度。再者，於本說明書中，所謂「實心二氧化矽微粒子」，係指與上述中空狀二氧化矽微粒子不同而為內部未填充氣體之構造，且具備二氧化矽微粒子本來之折射率的二氧化矽微粒子。
上述實心二氧化矽微粒子之平均粒徑較佳為80~300nm。若 未達80nm，則有無法較佳地形成凹凸而無法充分地抑制牛頓環之產生的情況，若超過300nm，則有過度地形成凹凸而霧度之上升或每單位面積之中空二氧化矽減少、反射Y值上升而界面上之反射光量變多、變得無法充分地抑制牛頓環之產生的情況。
此處，上述所謂實心二氧化矽微粒子之平均粒徑，係指以與上述中空狀二氧化矽微粒子相同之方式測得之值。
上述低折射率層中之上述實心二氧化矽微粒子之含量相對於下述黏合劑樹脂之固形物成分100質量份，較佳為1~10質量份。若未達1質量份，則有無法較佳地形成凹凸而無法充分地抑制牛頓環之產生的情況，若超過10質量份，則有過度地形成凹凸而霧度之上升或每單位面積之中空二氧化矽減少、反射Y值上升而界面上之反射光量變多、變得無法充分地抑制牛頓環之產生的情況。
進而，上述實心二氧化矽微粒子較佳為於表面具有對作為下述黏合劑樹脂之含氟原子樹脂具有反應性的官能基，例如具有乙烯性不飽和鍵之官能基等。藉由於表面具有上述反應性官能基，低折射率層之硬度優異。
於本發明之附觸控面板之光學積層體中，上述低折射率層較佳為含有含氟原子樹脂作為黏合劑樹脂。
作為上述含氟原子樹脂，較佳為至少於分子中含有氟原子之聚合性化合物或其聚合物。
作為上述聚合性化合物，並無特別限定，例如較佳為具有利用游離輻射線進行硬化之官能基、進行熱硬化之極性基等硬化反應性基者。又，亦 可為同時兼具該等反應性基之化合物。相對於該聚合性化合物，所謂聚合物，完全沒有如上所述之反應性基等。
作為上述具有利用游離輻射線進行硬化之官能基的聚合性化合物，可廣泛地使用具有乙烯性不飽和鍵之含氟單體。更具體而言，可例示：氟烯烴類(例如氟乙烯、偏二氟乙烯、四氟乙烯、六氟丙烯、全氟丁二烯、全氟-2,2-二甲基-1,3-二氧雜環戊烯等)。作為具有(甲基)丙烯醯氧基者，亦可列舉：(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,3,3,3-五氟丙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟丁基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟己基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟辛基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟癸基)乙酯、α-三氟甲基丙烯酸甲酯、α-三氟甲基丙烯酸乙酯之類之於分子中具有氟原子之(甲基)丙烯酸酯化合物；於分子中有具有至少3個氟原子之碳數1~14之氟烷基、氟環烷基或氟伸烷基、及至少2個(甲基)丙烯醯氧基之含氟多官能(甲基)丙烯酸酯化合物等。
再者，於本說明書中，所謂「(甲基)丙烯酸酯」，係指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。
作為上述進行熱硬化之極性基，例如可列舉羥基、羧基、胺基、環氧基等氫鍵形成基。
作為具有上述熱硬化性極性基之聚合性化合物，例如可列舉：4-氟乙烯-全氟烷基乙烯醚共聚物；氟乙烯-烴系乙烯醚共聚物；環氧、聚胺酯、纖維素、酚、聚醯亞胺等之各樹脂之氟改質品等。
作為兼具上述利用游離輻射線進行硬化之官能基與進行熱硬化之極性基的聚合性化合物，可列舉：丙烯酸或甲基丙烯酸之部分及完全氟化烷基、 烯基、芳基酯類、完全或部分氟化乙烯醚類、完全或部分氟化乙烯酯類、完全或部分氟化乙烯酮類等。
又，上述黏合劑樹脂中，作為上述含氟原子樹脂，例如亦可含有：含有至少1種具有上述利用游離輻射線進行硬化之官能基之聚合性化合物之含氟(甲基)丙烯酸酯化合物的單體或單體混合物之聚合物；上述含氟(甲基)丙烯酸酯化合物之至少1種、與如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯般於分子中不含氟原子之(甲基)丙烯酸酯化合物之共聚物；氟乙烯、偏二氟乙烯、三氟乙烯、氯三氟乙烯、3,3,3-三氟丙烯、1,1,2-三氯-3,3,3-三氟丙烯、六氟丙烯之類之含氟單體之均聚物或共聚物等。
又，亦可含有使該等共聚物含有聚矽氧成分之含聚矽氧偏二氟乙烯共聚物。作為該情形之聚矽氧成分，例如可列舉：(聚)二甲基矽氧烷、(聚)二乙基矽氧烷、(聚)二苯基矽氧烷、(聚)甲基苯基矽氧烷、烷基改質(聚)二甲基矽氧烷、含偶氮基之(聚)二甲基矽氧烷、二甲基聚矽氧、苯基甲基聚矽氧、烷基．芳烷基改質聚矽氧、氟聚矽氧、聚醚改質聚矽氧、脂肪酸酯改質聚矽氧、甲基氫聚矽氧、含矽烷醇基之聚矽氧、含烷氧基之聚矽氧、含酚基之聚矽氧、甲基丙烯酸改質聚矽氧、丙烯酸改質聚矽氧、胺基改質聚矽氧、羧酸改質聚矽氧、甲醇改質聚矽氧、環氧改質聚矽氧、巰基改質聚矽氧、氟改質聚矽氧、聚醚改質聚矽氧等。其中，較佳為具有二甲基矽氧烷結構者。
進而，上述黏合劑樹脂中，作為上述含氟原子樹脂，亦可含有：使分子中具有至少1個異氰酸酯基之含氟化合物與分子中具有至少1 個胺基、羥基、羧基之類之與異氰酸酯基反應之官能基之化合物進行反應而獲得之化合物；使含氟之聚醚多元醇、含氟之烷基多元醇、含氟之聚酯多元醇、含氟之ε-己內酯改質多元醇之類之含氟多元醇與具有異氰酸酯基之化合物進行反應而獲得之化合物等。
作為上述黏合劑樹脂中之上述含氟原子樹脂之含量，於黏合劑樹脂之全部固形物成分中較佳為90質量%以下。若超過90質量%，則有於形成低折射率層時無法充分地維持該層強度之硬度的情況。上述含氟原子樹脂之含量之更佳上限為80質量%。
上述含氟原子樹脂本身之折射率較佳為1.37~1.44。於未達1.37之情形時，氟原子之比率變高，故而難以溶解於通常之溶劑中，只溶解於含氟原子之溶劑中。又，有與中空狀二氧化矽微粒子或上述(甲基)丙烯酸系樹脂之單體成分之溶解性變得過差，而下述低折射率層用組成物本身凝膠化或形成之塗膜本身變白之情況。另一方面，於超過1.44之情形時，有接近於上述黏合劑樹脂之折射率而低折射率化之效果變少之情況。
再者，若上述黏合劑樹脂僅為上述含氟原子黏合劑，則低折射率層之硬度變差，因此必需上述(甲基)丙烯酸系樹脂。
又，上述黏合劑樹脂中，除了上述含氟原子樹脂等，亦可適當使用其他樹脂成分及用以使反應性基等硬化之硬化劑、用以提高塗佈性或賦予去污性之各種添加劑、溶劑。
作為上述其他樹脂成分，例如可列舉紫外線硬化型樹脂，於本發明中，尤其可較佳地使用(甲基)丙烯酸系樹脂。再者，於本說明書中，所謂「(甲基)丙烯酸」，係指丙烯酸或甲基丙烯酸。
作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂，可列舉(甲基)丙烯酸系單體之聚合物或共聚物，作為上述(甲基)丙烯酸系單體，並無特別限定，例如可較佳地列舉：新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇(甲基)四丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸EO改質三(甲基)丙烯酸酯等。
又，該等(甲基)丙烯酸酯單體亦可為使分子骨架之一部分改質者，亦可使用利用環氧乙烷、環氧丙烷、己內酯、異三聚氰酸、烷基、環狀烷基、芳香族、雙酚等進行過改質者。
該等(甲基)丙烯酸系單體可單獨使用，亦可併用2種以上。該等(甲基)丙烯酸系單體滿足如下所述之折射率之範圍，並且硬化反應性優異，可提高所獲得之低折射率層之硬度。
上述(甲基)丙烯酸系單體之折射率較佳為1.47~1.53。事實上不可能將折射率設為未達1.47，若超過1.53，則有無法獲得折射率足夠低之低折射率層的情況。
又，上述(甲基)丙烯酸系單體之重量平均分子量較佳為250~1000。若未達250，則有官能基數變少因此所獲得之低折射率層之硬度降低之虞。若超過1000，則一般而言有官能基當量(官能基數/分子量)變小因此交聯密度變低、低折射率層之硬度變得不充分之情況。
再者，上述(甲基)丙烯酸系單體之重量平均分子量可藉由利用凝膠滲透層析法(GPC)之聚苯乙烯換算而求出。GPC流動相之溶劑可使用四氫呋喃或氯仿。測量用管柱可組合使用四氫呋喃用或氯仿用之管柱之市售品管 柱。作為上述市售品管柱，例如可列舉Shodex GPC KF-801、GPC-KF800D(均為商品名，昭和電工公司製造)等。檢測器可使用RI(示差折射率)檢測器及UV檢測器。使用此種溶劑、管柱、檢測器，例如藉由Shodex GPC-101(昭和電工公司製造)等之GPC系統，可適當地測量上述重量平均分子量。
上述低折射率層之霧度值較佳為1%以下。若超過1%，則有本發明之附觸控面板之光學積層體之透光性降低或解析度降低，而成為影像顯示裝置之顯示品質降低之原因的情況。更佳為0.5%以下。再者，於本說明書中，所謂霧度值，係依據JIS K7136而求出之值。
上述低折射率層較佳為例如於使用鋼絲絨(「BONSTAR # 0000(商品名)」，Nippon Steel Wool公司製造)之摩擦荷重100g/cm2、摩擦10個來回之耐擦傷試驗中不產生損傷。
上述低折射率層係使用添加上述中空狀二氧化矽微粒子及黏合劑樹脂等而成之低折射率層用組成物形成。
上述低折射率層用組成物亦可進一步含有溶劑。
作為上述溶劑，並無特別限定，例如可列舉：甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇、正丁醇、第二丁醇、第三丁醇、苄醇、PGME(propylene glycol monomethyl ether，丙二醇單甲醚)等醇；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮、庚酮、二異丁基酮、二乙基酮等酮；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、甲酸甲酯、甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸丁酯、PGMEA(Propylene glycol monomethyl ether acetate，丙二醇單甲醚乙酸酯)等酯；己烷、環己烷等脂肪族烴；二氯甲烷、氯仿、四氯化碳等鹵化烴；苯、甲苯、二甲苯等芳香族 烴；二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、正甲基吡咯啶酮等醯胺；二乙醚、二噁烷、四氫呋喃等醚；1-甲氧基-2-丙醇等醚醇等。其中，較佳為甲基異丁基酮、甲基乙基酮、異丙醇(IPA)、正丁醇、第二丁醇、第三丁醇、PGME、PGMEA。
又，上述低折射率層用組成物視需要亦可含有其他成分。
作為上述其他成分，例如可列舉：光聚合起始劑、調平劑、交聯劑、硬化劑、聚合促進劑、黏度調整劑、抗靜電劑、上述以外之樹脂等。
作為上述光聚合起始劑，於上述低折射率層用組成物含有具有自由基聚合性不飽和基之樹脂系之情形時，可列舉：苯乙酮類(例如以商品名Irgacure184(BASF公司製造)市售之1-羥基-環己基-苯基-酮)、二苯甲酮類、9-氧硫類、安息香、安息香甲醚等，該等可單獨使用，亦可併用2種以上。
又，於上述低折射率層用組成物含有具有陽離子聚合性官能基之樹脂系之情形時，作為上述光聚合起始劑，例如可列舉．芳香族重氮鎓鹽、芳香族鋶鹽、芳香族錪鹽、茂金屬化合物、安息香磺酸酯等，該等可單獨使用，亦可併用2種以上。具體而言，可列舉：Ciba Specialty Chemicals公司製造之Irgacure184、Irgacure907、Irgacure369、Irgacure379、Irgacure819、Irgacure127、Irgacure500、Irgacure754、Irgacure250、Irgacure1800、Irgacure1870、Irgacure OXE01、DAROCUR TPO、DAROCUR1173；Japan Siber Hegner公司製造之Speedcure MBB、Speedcure PBZ、Speedcure ITX、Speedcure CTX、Speedcure EDB、Esacure ONE、Esacure KIP150、Esacure KTO46；日本化藥公司製造之KAYACURE DETX-S、KAYACURE CTX、KAYACURE BMS、 KAYACURE DMBI等。其中，較佳為Irgacure369、Irgacure127、Irgacure907、Esacure ONE、Speedcure MBB、Speedcure PBZ、KAYACURE DETX-S。
上述光聚合起始劑之添加量相對於上述黏合劑樹脂之固形物成分100質量份，較佳為0.1~10質量份。
上述調平劑、交聯劑、硬化劑、聚合促進劑、黏度調整劑、抗靜電劑、其他樹脂可使用公知者。
作為上述低折射率層用組成物之黏度，較佳為可獲得較佳塗佈性之0.5~5mPa．s(25℃)。藉由為上述黏度範圍，可實現可見光線之優異抗反射性能，可形成均勻且無塗佈不均之薄膜，且可形成密接性特別優異之低折射率層。更佳為0.7~3mPa．s(25℃)。
低折射率層之層厚(nm)dA較佳為滿足下述式(1)：dA=m λ/(4nA) (1)(上述式中，nA表示低折射率層之折射率，m表示正奇數，較佳為表示1，λ為波長，較佳為480~580nm範圍之值)。
又，於本發明中，就低反射率化方面而言，低折射率層較佳為滿足下述數式(2)：120<nAdA<145 (2)。
作為上述低折射率層用組成物之製備方法，並無特別限定，例如可藉由將上述中空狀二氧化矽微粒子、黏合劑樹脂、及視需要添加之溶劑、光聚合起始劑等成分混合而獲得。混合時可使用塗料振盪機或珠磨 機等之公知方法。
上述低折射率層可藉由在下述硬塗層上或觸控面板之玻璃基板上塗佈上述低折射率層用組成物，視需要使所形成之塗膜乾燥，並利用游離輻射線之照射及/或加熱使塗膜硬化而形成。
作為塗佈上述低折射率層用組成物之方法，並無特別限定，例如可列舉：旋轉塗佈法、浸漬法、噴霧法、模具塗佈法、棒式塗佈法、輥式塗佈法、液面彎曲式塗佈法、軟版印刷法、絲網印刷法、液滴塗佈法等各種方法。
於本發明之附觸控面板之光學積層體中，上述光學膜於透光性基材之一面上依序積層有硬塗層及上述低折射率層(低折射率層(A))。
上述透光性基材較佳為具備平滑性、耐熱性，機械強度優異。作為形成透光性基材之材料之具體例，例如可列舉：聚酯(聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯)、三乙酸纖維素、二乙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯醇縮乙醛、聚醚酮、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、或聚胺酯等熱塑性樹脂。較佳可列舉聚酯(聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯)、三乙酸纖維素。
上述透光性基材較佳為將上述熱塑性樹脂以富有柔軟性之膜狀體形式使用，但根據要求硬化性之使用態樣，亦可使用該等熱塑性樹脂之板，或亦可使用玻璃板之板狀體。
此外，作為上述透光性基材，可列舉具有脂環結構之非晶質烯烴聚合物(Cyclo-Olefin-Polymer：COP)膜。其係使用降莰烯系聚合物、 單環之環狀烯烴系聚合物、環狀共軛二烯系聚合物、乙烯基脂環式烴系聚合物等之基材，例如可列舉：日本ZEON公司製造之ZEONEX或ZEONOR(降莰烯系樹脂)、SUMITOMO BAKELITE公司製造之SUMILITE FS-1700、JSR公司製造之ARTON(改質降莰烯系樹脂)、三井化學公司製造之APEL(環狀烯烴共聚物)、Ticona公司製造之Topas(環狀烯烴共聚物)、日立化成公司製造之OPTOREZ OZ-1000系列(脂環式丙烯酸系樹脂)等。
又，作為三乙醯纖維素之代替基材，亦較佳為Asahi Kasei Chemicals公司製造之FV系列(低雙折射率、低光彈性模數膜)。
作為上述透光性基材之厚度，較佳為5~300μm，更佳為下限為20μm、上限為200μm。於透光性基材為板狀體之情形時，亦可為超過該等厚度之厚度。上述透光性基材於在其上形成下述硬塗層等時，為了提高接著性，除電暈放電處理、大氣壓電漿處理、氧化處理等物理處理以外，亦可預先進行被稱為增黏劑或底塗劑之塗料之塗佈。又，於上述透光性基材之材料為三乙醯纖維素之情形時，亦可預先進行鹼處理(皂化處理)等化學處理。
作為上述硬塗層，係指於JIS K5600-5-4(1999)所規定之鉛筆硬度試驗中顯示2H以上硬度者。上述硬度更佳為3H以上。又，作為上述硬塗層之膜厚(硬化時)，為0.1~100μm，較佳為0.8~20μm。
作為上述硬塗層，並無特別限定，例如可列舉由含有樹脂及任意成分之硬塗層用組成物形成而成者。
作為上述樹脂，可較佳地使用透明性者，具體而言，可列舉：藉由紫外線或者電子束而硬化之樹脂即游離輻射線硬化型樹脂、游離輻射線硬化 型樹脂與溶劑乾燥型樹脂(於塗佈時僅使溶劑乾燥而形成被膜之樹脂，其中該溶劑係為了調整固形物成分而添加)之混合物、或熱硬化型樹脂等，較佳可列舉游離輻射線硬化型樹脂。
作為上述游離輻射線硬化型樹脂之具體例，可列舉具有丙烯酸酯系之官能基者，例如，相對低分子量之聚酯樹脂、聚醚樹脂、丙烯酸樹脂、環氧樹脂、胺酯樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、多硫醇多烯樹脂、多元醇等多官能化合物之(甲基)丙烯酸酯等低聚物或預聚物、反應性稀釋劑等。
於使用上述游離輻射線硬化型樹脂作為紫外線硬化型樹脂之情形時，較佳為使用光聚合起始劑。
作為上述光聚合起始劑，例如可列舉：苯乙酮類、二苯甲酮類、米氏苯甲醯基苯甲酸酯、α-戊基肟酯、一硫化四甲基秋蘭姆、9-氧硫類等。
又，較佳為混合光敏劑而使用，作為其具體例，例如可列舉：正丁基胺、三乙基胺、聚正丁基膦等。
作為混合於上述游離輻射線硬化型樹脂中而使用之溶劑乾燥型樹脂，主要可列舉熱塑性樹脂，作為該熱塑性樹脂，並無特別限定，可使用先前公知者。
藉由添加上述溶劑乾燥型樹脂，可有效地防止塗佈面之塗膜缺陷。藉由本發明之較佳態樣，於透光性基材之材料為三乙酸纖維素等纖維素系樹脂之情形時，作為熱塑性樹脂之較佳具體例，可列舉纖維素系樹脂，例如硝化纖維素、乙醯纖維素、乙酸丙酸纖維素、乙基羥乙基纖維素等。
作為上述熱硬化性樹脂，例如可列舉：酚樹脂、脲樹脂、鄰 苯二甲酸二烯丙酯樹脂、三聚氰胺樹脂、胍胺樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚胺酯樹脂、環氧樹脂、胺基醇酸樹脂、三聚氰胺-脲共縮合樹脂、矽樹脂、聚矽氧烷樹脂等。
於使用上述熱硬化性樹脂之情形時，視需要可進一步添加交聯劑、聚合起始劑等硬化劑、聚合促進劑、溶劑、黏度調整劑等而使用。
上述硬塗層可藉由如下方式而形成：將使用上述各材料而製備之硬塗層用組成物塗佈於上述透光性基材上而形成塗膜，視需要使該塗膜乾燥，並藉由游離輻射線照射或加熱等使之硬化。再者，上述硬塗層用組成物之製備方法及塗膜之形成方法等可列舉與上述低折射率層相同之方法。
上述硬塗層中亦可進一步包含公知之抗靜電劑、高折射率劑、膠體二氧化矽等高硬度、低捲曲材料等。
於上述透光性基材與低折射率層(A)之間形成有上述硬塗層之構造的上述光學膜亦可為進一步於上述硬塗層與透光性基材或低折射率層之間形成由公知之抗靜電劑及黏合劑樹脂構成之抗靜電層的構造。
上述光學膜之全光線穿透率較佳為90%以上。若未達90%，則於將本發明之附觸控面板之光學積層體安裝於顯示器表面之情形時，有損傷顏色再現性或視認性之虞。上述全光線穿透率更佳為95%以上，進而較佳為96%以上。
上述光學膜之霧度較佳為未達1%，更佳為未達0.5%。
上述光學膜之製造方法可列舉具有如下步驟之方法：於透光性基材上塗佈上述硬塗層用組成物而形成硬塗層的步驟；及於所形成之硬 塗層上塗佈上述低折射率層用組成物而形成低折射率層的步驟。
作為形成上述硬塗層及低折射率層之方法，如上所述。
上述觸控面板係於一面上具備上述低折射率層(低折射率層(B))者。
作為上述觸控面板，並無特別限定，例如可列舉如下構造：使用兩片於表面形成有ITO(Indium Tin Oxide，氧化銦錫)等之透明導電膜之電極膜，以透明導電膜側相向之方式使各個電極膜對向，以利用隔片等隔開一定間隔之方式構成，於非輸入側之電極膜之與透明導電膜相反側之表面，形成有上述低折射率層(B)。再者，作為上述觸控面板之低折射率層(B)以外之構成構件，可使用與用作安裝於液晶顯示面板等顯示裝置之畫面上之輸入裝置的先前公知之觸控面板相同者。
又，上述觸控面板亦可為於上述非輸入側之電極膜之與透明導電膜相反側之表面經由黏著層與上述光學膜相同地依序積層有透光性基材、硬塗層及低折射率層(B)的構成。作為構成上述黏著層之黏著劑，較佳為可牢固地接著透光性基材或偏光板等光學零件、而且即便放置於高溫、高濕之條件下亦不會發泡者，例如可較佳地使用丙烯酸系黏著劑。
此種觸控面板可為靜電電容式、光學式、超音波式、薄膜電阻式等中之任一形式。
本發明之附觸控面板之光學積層體係上述光學膜與觸控面板於相互具有間隙之狀態下，以上述低折射率層(A)與上述低折射率層(B)相向之方式對向配置。
作為上述光學膜與觸控面板形成之間隙，並無特別限定，例如被適當 地調整為與搭載先前公知之觸控面板之液晶面板中之間隙相同程度之範圍。又，使上述光學膜與觸控面板對向配置之方法亦無特別限定，可列舉先前公知之方法。
本發明之附觸控面板之光學積層體可藉由利用層疊處理等將上述光學膜之透光性基材側面設置於偏光元件之表面，而製成偏光板。本發明之一亦為一種偏光板，係此種具備偏光元件而成，其於上述偏光元件表面具備本發明之附觸控面板之光學積層體。
作為上述偏光元件，並無特別限定，例如可列舉：藉由碘等進行染色、並經延伸之聚乙烯醇膜、聚乙烯醇縮甲醛膜、聚乙烯醇縮乙醛膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系皂化膜等。
於上述偏光元件與本發明之附觸控面板之光學積層體的層疊處理中，較佳為對透光性基材(較佳為三乙醯纖維素膜)進行皂化處理。藉由皂化處理，接著性變得良好，亦可獲得抗靜電效果。
本發明亦為具備上述附觸控面板之光學積層體或上述偏光板而成之影像顯示裝置。
上述影像顯示裝置可為LCD、PDP(Plasma Display Panel，電漿顯示器)、FED(Field Emission Display，場發射顯示器)、ELD(electroluminescent display，電致發光顯示器)(有機EL、無機EL)、CRT(Cathode Ray Tube，陰極射線管)、平板PC、觸控面板、電子紙等影像顯示裝置。
上述之代表性例即LCD係具備穿透性顯示體、及自背面照射上述穿透性顯示體之光源裝置而成者。於本發明之影像顯示裝置為LCD之情形時，係於該穿透性顯示體之表面形成本發明之附觸控面板之光學積 層體或本發明之偏光板而成。
於本發明為具有上述附觸控面板之光學積層體之液晶顯示裝置之情形時，光源裝置之光源自光學積層體之下側照射。再者，可於液晶顯示元件與偏光板之間插入相位差板。視需要可於該液晶顯示裝置之各層間設置接著劑層。
作為上述影像顯示裝置之PDP係具備表面玻璃基板(於表面形成電極)、及與該表面玻璃基板對向且於中間封入放電氣體而配置之背面玻璃基板(於表面形成電極及微小之槽，槽內形成紅、綠、藍之螢光體層)而成者。於本發明之影像顯示裝置為PDP之情形時，亦為於上述表面玻璃基板之表面、或其前面板(玻璃基板或膜基板)具備上述附觸控面板之光學積層體者。
上述影像顯示裝置亦可為將一施加電壓即發光之硫化鋅、二胺類物質：發光體蒸鍍於玻璃基板並對施加於基板之電壓進行控制而進行顯示之ELD裝置，或將電子訊號轉換為光而產生人眼可見之影像之CRT等影像顯示裝置。於該情形時，為於如上所述之各顯示裝置之最表面或其前面板之表面具備上述附觸控面板之光學積層體者。
本發明之影像顯示裝置於任一情形時，均可用於電視、電腦、電子紙、平板PC等之顯示器顯示。尤其可較佳地用於CRT、液晶面板、PDP、ELD、FED等高精細影像用顯示器之表面。
本發明之附觸控面板之光學積層體於光學膜及觸控面板之對向之低折射率層之表面分別形成有特定之凹凸形狀，因此可充分地抑制牛頓環之產生，並可獲得高品質之顯示影像。
因此，本發明之附觸控面板之光學積層體可較佳地應用於陰極射線管顯示裝置(CRT)、液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、電致發光顯示器(ELD)、場發射顯示器(FED)、電子紙、平板PC等。
10‧‧‧附觸控面板之光學積層體
11‧‧‧光學膜
12‧‧‧透光性基材
13‧‧‧硬塗層
14‧‧‧低折射率層(A)
15‧‧‧觸控面板
16‧‧‧低折射率層(B)
圖1係示意性地表示本發明之附觸控面板之光學積層體之一例的剖面圖。
藉由下述實施例說明本發明之內容，但本發明之內容並不限定於該等實施態樣而解釋。只要無特別說明，則「份」及「%」為質量基準。
(實施例1)
(光學膜之製作)
準備透光性基材(三乙酸纖維素膜，厚度60μm，Fuji Film公司製造，TD60UL P)，於該透光性基材之單面，塗佈下述所示之組成之硬塗層用組成物，形成塗膜。
繼而，對所形成之塗膜，以0.2m/s之流速使70℃之乾燥空氣流通15秒鐘之後，進而以10m/s之流速使70℃之乾燥空氣流通30秒鐘而使之乾燥，藉此使塗膜中之溶劑蒸發。
其後，使用紫外線照射裝置(Fusion UV System Japan公司製造，光源H燈管)，於氮氛圍(氧濃度200ppm以下)下，以累積光量成為50mJ/cm2之方式照射紫外線，而使塗膜硬化，藉此形成厚度10μm(硬化時)之硬 塗層。
(硬塗層用組成物)
於所形成之硬塗層之表面，以乾燥(50℃×1分鐘)後之膜厚成為0.1μm之方式塗佈下述組成之低折射率層(A)用組成物(1)，形成塗膜。使該塗膜乾燥後，使用紫外線照射裝置(Fusion UV System Japan公司製造，光源H燈管)，於氮氛圍(氧濃度200ppm以下)下，以累積光量100mJ/cm2進行紫外線照射，而使該塗膜硬化，而形成低折射率層(A)，獲得光學膜。
(低折射率層(A)用組成物(1))
於透光性基材(三乙酸纖維素膜，厚度60μm，Fuji Film公司製造，TD60UL P)之一面上，以乾燥(50℃×1分鐘)後之膜厚成為0.1μm之方式塗佈低折射率層(A)用組成物(1)，形成塗膜。使該塗膜乾燥後，使用紫外線照射裝置(Fusion UV System Japan公司製造，光源H燈管)，於氮氛圍(氧濃度200ppm以下)下，以累積光量100mJ/cm2進行紫外線照射，而使該塗膜硬化，形成具有與低折射率層(A)相同之凹凸形狀之低折射率層(B)。然後，經由由丙烯酸系黏著劑構成之黏著層將透光性基材之與低折射率層(B)側相反側面、與觸控面板感測器之基材黏著，製造觸控面板。
以低折射率層(A)與低折射率層(B)之間隙成為0.3mm之方式對向配置所獲得之光學膜與觸控面板，製造附觸控面板之光學積層體。
(實施例2)
使用下述之低折射率層(A)用組成物(2)代替低折射率層(A)組成物(1)，除此以外，藉由與實施例1相同之方法製作光學膜。使用所獲得之光學膜，除此以外，以與實施例1相同之方式製造附觸控面板之光學積層體。
(低折射率層(A)用組成物(2))
(實施例3)
使用下述之低折射率層(A)用組成物(3)代替低折射率層(A)組成物(1)，除此以外，藉由與實施例1相同之方法製作光學膜。使用所獲得之光學膜，除此以外，以與實施例1相同之方式製造附觸控面板之光學積層體。
(低折射率層(A)用組成物(3))
(實施例4)
使用下述之低折射率層(A)用組成物(4)代替低折射率層(A)組成物(1)，除此以外，藉由與實施例1相同之方法製作光學膜。使用所獲得 之光學膜，除此以外，以與實施例1相同之方式製造附觸控面板之光學積層體。
(低折射率層(A)用組成物(4))
(實施例5)
使用下述之低折射率層(A)用組成物(5)代替低折射率層(A)組成物(1)，除此以外，藉由與實施例1相同之方法製作光學膜。使用所獲得之光學膜，除此以外，以與實施例1相同之方式製造附觸控面板之光學積層體。
(低折射率層(A)用組成物(5))
(實施例6)
使用下述之低折射率層(A)用組成物(6)代替低折射率層(A)組成物(1)，除此以外，藉由與實施例1相同之方法製作光學膜。使用所獲得之光學膜，除此以外，以與實施例1相同之方式製造附觸控面板之光學積層體。
(低折射率層(A)用組成物(6))
(實施例7)
使用下述之低折射率層(A)用組成物(7)代替低折射率層(A)組成 物(1)，除此以外，藉由與實施例1相同之方法製作光學膜。使用所獲得之光學膜，除此以外，以與實施例1相同之方式製造附觸控面板之光學積層體。
(低折射率層(A)用組成物(7))
(實施例8)
使用下述之低折射率層(A)用組成物(8)代替低折射率層(A)組成物(1)，除此以外，藉由與實施例1相同之方法製作光學膜。使用所獲得之光學膜，除此以外，以與實施例1相同之方式製造附觸控面板之光學積層體。
(低折射率層(A)用組成物(8))
(比較例1)
使用下述之低折射率層(A)用組成物(9)代替低折射率層(A)組成物(1)，除此以外，藉由與實施例1相同之方法製作光學膜。使用所獲得之光學膜，除此以外，以與實施例1相同之方式製造附觸控面板之光學積層體。
(低折射率層(A)用組成物(9))
(比較例2)
使用下述之低折射率層(A)用組成物(10)代替低折射率層(A)組成物(1)，除此以外，藉由與實施例1相同之方法製作光學膜。使用所獲 得之光學膜，除此以外，以與實施例1相同之方式製造附觸控面板之光學積層體。
(低折射率層(A)用組成物(10))
(比較例3)
使用下述之低折射率層(A)用組成物(11)代替低折射率層(A)組成物(1)，除此以外，藉由與實施例1相同之方法製作光學膜。使用所獲得之光學膜，除此以外，以與實施例1相同之方式製造附觸控面板之光學積層體。
(低折射率層(A)用組成物(11))
(比較例4)
使用下述之低折射率層(A)用組成物(12)代替低折射率層(A)組成物(1)，除此以外，藉由與實施例1相同之方法製作光學膜。使用所獲得之光學膜，除此以外，以與實施例1相同之方式製造附觸控面板之光學積層體。
(低折射率層(A)用組成物(12))
(比較例5)
使用下述之低折射率層(A)用組成物(13)代替低折射率層(A)組成物(1)，除此以外，藉由與實施例1相同之方法製作光學膜。使用所獲得之光學膜，除此以外，以與實施例1相同之方式製造附觸控面板之光學積層體。
(低折射率層(A)用組成物(13))
(比較例6)
使用下述之低折射率層(A)用組成物(14)代替低折射率層(A)組成物(1)，除此以外，藉由與實施例1相同之方法製作光學膜。使用所獲得之光學膜，除此以外，以與實施例1相同之方式製造附觸控面板之光學積層體。
(低折射率層(A)用組成物(14))
丙二醇單甲醚乙酸酯 800質量份
(比較例7)
使用下述之低折射率層(A)用組成物(15)代替低折射率層(A)組成物(1)，除此以外，藉由與實施例1相同之方法製作光學膜。使用所獲得之光學膜，除此以外，以與實施例1相同之方式製造附觸控面板之光學積層體。
(低折射率層(A)用組成物(15))
(比較例8)
使用下述之低折射率層(A)用組成物(16)代替低折射率層(A)組成物(1)，除此以外，藉由與實施例1相同之方法製作光學膜。使用所獲得之光學膜，除此以外，以與實施例1相同之方式製造附觸控面板之光學積層體。
(低折射率層(A)用組成物(16))
針對實施例及比較例中製造之附觸控面板之光學積層體，進行以下評價。將結果示於表1。
(反射Y值)
對實施例及比較例中製作之各光學膜之低折射率層(A)之表面(A)、及觸控面板之低折射率層(B)之表面(B)之反射Y值，利用島津製作所公司製造之MPC3100分光光度計，於380~780nm之波長範圍測量5°正反射率，其後，利用換算為人眼感覺之亮度之軟體(MPC3100內置)算出。再者，於測量時，為了防止背面反射，於光學膜及觸控面板之與測量面相反側貼黑膠帶(寺岡公司製造)。
(低折射率層(A)之10點平均粗糙度(Rz)及平均傾斜角(△a))
使用SII NanoTechnology公司製造之原子力顯微鏡(Atomic Force Microscope；AFM)L-trace，於軟體：SPIWin之解析模式：SPIWin互換模 式時，對低折射率層(A)之10點平均粗糙度(Rz)及平均傾斜角(△a)進行測量。SPIWin互換模式係根據1982年版JIS規格(JIS B0601：1982)擴展至三維之解析形式。
(牛頓環之有無)
針對實施例及比較例中製造之附觸控面板之光學積層體，於暗室、Na燈光源下分別觀察以自觸控面板側空出70mm之間隔而設置面積成為1cm2之方式放置2個300g之砝碼時、與放置2個350g之砝碼時有無牛頓環，並利用以下基準進行評價。再者，使用重量不同之2種砝碼進行評價之原因在於，對觸控面板之單點負荷時難以觀察牛頓環，但使用2個砝碼之二點負荷時觀察2個砝碼間，則變得容易觀察到牛頓環。
◎：300g之砝碼及350g之砝碼均未見牛頓環
○：若放置350g之砝碼則可見較淺之牛頓環
△：若放置300g之砝碼則可見較淺之牛頓環
×：若放置300g之砝碼則牛頓環清晰可見
(耐擦傷性)
對實施例及比較例中製造之附觸控面板之光學積層體的低折射率層(A)，使用# 0000號之鋼絲絨，以摩擦負荷200g/cm2與100g/cm2摩擦10個來回之後，以目視觀察有無損傷，並利用以下基準進行評價。
◎：200g/cm2與100g/cm2均無損傷
○：於100g/cm2無損傷
×：於100g/cm2有損傷
[表1]
如表1所示，實施例之附觸控面板之光學積層體未見牛頓環，又，耐擦傷性亦優異。
相對於此，比較例之附觸控面板之光學積層體並非牛頓環及耐擦傷性均優異者。再者，比較例7之附觸控面板之光學積層體中低折射率層(A)之平均傾斜角較大，又，比較例8之附觸控面板之光學積層體中低折射率層(A)之10點平均粗糙度較大，任一者之耐擦傷性均差於實施例之附觸控面板之光學積層體。
再者，實施例3、4之附觸控面板之光學積層體與實施例5之附觸控面板之光學積層體的反射Y值為相同值，但低折射率層(A)之平均傾斜角△a更大之實施例3、4之附觸控面板之光學積層體與實施例5之附觸控面板之光學積層體相比，牛頓環之產生抑制效果更優異。
又，實施例6之附觸控面板之光學積層體與實施例7之附觸控面板之 光學積層體、及實施例3之附觸控面板之光學積層體與實施例8之附觸控面板之光學積層體的低折射率層(A)之平均傾斜角△a為相同值，但反射Y值更小之實施例3之附觸控面板之光學積層體與實施例8之附觸控面板之光學積層體相比，牛頓環之產生抑制效果更優異。
又，比較例1之附觸控面板之光學積層體與比較例3之附觸控面板之光學積層體的低折射率層(A)之平均傾斜角△a值均較小為4°，但反射Y值更小之比較例3之附觸控面板之光學積層體與比較例1之附觸控面板之光學積層體相比，牛頓環之產生抑制效果得到改善。
又，比較例6之附觸控面板之光學積層體之反射Y值較大為2.0%，低折射率層(A)之平均傾斜角△a值較大為10°，因此牛頓環之產生抑制效果得到改善。
本發明之附觸控面板之光學積層體由上述構成所構成，故而可充分地抑制牛頓環之產生，並可獲得高品質之顯示影像。因此，本發明之附觸控面板之光學積層體可較佳地應用於陰極射線管顯示裝置(CRT)、液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、電致發光顯示器(ELD)、場發射顯示器(FED)、電子紙、平板PC等。
10‧‧‧附觸控面板之光學積層體
11‧‧‧光學膜
12‧‧‧透光性基材
13‧‧‧硬塗層
14‧‧‧低折射率層(A)
15‧‧‧觸控面板
16‧‧‧低折射率層(B)

Claims (7)

  1. 一種附觸控面板之光學積層體，對向配置有透光性基材之一面上依序積層有硬塗層及低折射率層(A)的光學膜、與一面上具備低折射率層(B)的觸控面板，其特徵在於：該光學膜與該觸控面板於相互具有間隙之狀態下，以該低折射率層(A)與該低折射率層(B)相向之方式對向配置，於該低折射率層(A)之該低折射率層(B)側表面(A)、及該低折射率層(B)之該低折射率層(A)側表面(B)形成有凹凸，該表面(A)及表面(B)之反射Y值為0.1%以上且未達1.5%，該表面(A)及表面(B)之凹凸的10點平均粗糙度(Rz)為20~90nm，平均傾斜角(△a)為5~20°。
  2. 如申請專利範圍第1項之附觸控面板之光學積層體，其中，低折射率層(A)及低折射率層(B)含有中空狀二氧化矽(silica)微粒子、及作為黏合劑樹脂之含氟原子樹脂。
  3. 如申請專利範圍第2項之附觸控面板之光學積層體，其中，低折射率層(A)及低折射率層(B)之中空狀二氧化矽微粒子之含量相對於黏合劑樹脂之固形物成分100質量份，為80~200質量份。
  4. 如申請專利範圍第2或3項之附觸控面板之光學積層體，其中，低折射率層(A)及低折射率層(B)進一步含有平均粒徑為80~300nm之實心二氧化矽微粒子。
  5. 一種偏光板，係具備偏光元件而成，其特徵在於：於該偏光元件表面具備申請專利範圍第1項之附觸控面板之光學積層 體。
  6. 一種影像顯示裝置，其具備申請專利範圍第1、2或3項之附觸控面板之光學積層體、或申請專利範圍第5項之偏光板。
  7. 一種抑制產生牛頓環之方法，係使用附觸控面板之光學積層體，該附觸控面板之光學積層體對向配置有透光性基材之一面上依序積層有硬塗層及低折射率層(A)的光學膜、與一面上具備低折射率層(B)的觸控面板，其特徵在於：該光學膜與該觸控面板於相互具有間隙之狀態下，以該低折射率層(A)與該低折射率層(B)相向之方式對向配置，於該低折射率層(A)之該低折射率層(B)側表面(A)、及該低折射率層(B)之該低折射率層(A)側表面(B)形成有凹凸，該表面(A)及表面(B)之反射Y值為0.1%以上且未達1.5%，該表面(A)及表面(B)之凹凸的10點平均粗糙度(Rz)為20~90nm，平均傾斜角(△a)為5~20°。
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