TWI540225B - 電解池用之電極及其製造方法,以及鹼金屬次氯酸塩製造用電解池 - Google Patents
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Description
本發明係關於次氯酸塩之電化發生用電極。
利用氯化鈉水溶液或海水電解,從鹼金屬氯化物稀塩水電解生產次氯酸塩,例如次氯酸鈉,是工業上電化學領域中最通常的製法之一。生產次氯酸鈉始終附帶發生各種副產品,衍自氯化物(一般群稱「活性氯」)之氧化,和有些情況是加氧物類,諸如過氧化物,大部份使用時間有限;為簡便起見,在本文內,此等生成物水溶液,大多由次氯酸鹼金屬塩和次氯酸所組成,其比率主要視pH而定,均稱為次氯酸塩。視生產容量和濃度,生成物次氯酸塩可以若干方式使用,例如紙和布之漂白,飲用水、游泳池水或家庭用水之消毒。次氯酸鉀亦用於農作物之預防和治療處理。次氯酸塩一般是在不分隔的電解池內製造,具有各種形狀和幾何形之電極,例如交織之平坦電極。在電解池內,次氯酸塩生產是由氯化物之陽極氧化發生,而在陰極釋放氫;當要電解之氯化物溶液含有明顯量之鈣或鎂離子,諸如市民用水氯化情形,在陰極表面附近的電解質自然鹼化,會造成石灰石局部沉澱,經若干時間後,有使陰極失活傾向,並妨礙其操作性。為避免此問題所擬議的諸解決方案中,最有效者包含讓電極周期性電位逆反,輪流用做陰極和陽極。如此一來,在陰極操作下積留於電極表面之碳酸塩沉積物,會在隨後當做陽極操作時溶解,在如此條件下,周圍環境傾向於酸性。由於對許多金屬性材料,釋氫是發生在充分低的電位,故設計在輪流電極極化下作業的電氯化器用之電極,是以觸媒活化,旨在使次氯酸塩發生陽極反應之效率達最大,由於同時有不需要的釋氧陽極反應,故在過電位和選擇性二者均具關鍵性。在此製法中效率已屬公知之觸媒,包括貴金屬(以釕為典型,視情形還有銥或鈀)氧化物和閥金屬氧化物(以氧化鈦為佳)之混合物。此類觸媒按照各種方法學,施於典型上由鈦製成之基材,可得電極造型,能夠做為陰極,以良好效率釋氫。觸媒配方內之貴金屬主要目的,在催化陽極反應,並結合於閥金屬,呈固體溶液,有助於減少消耗;鈦可改用其他閥金屬,諸如鉭或鈮,雖然被視成效較低之替項,因其有降低陽極反應選擇性之傾向,於是生成較大量氧,淨損次氯酸塩。
電極在輪流極化條件下之功用,得以優良效率操作,同時保持陰極表面充分清淨,免於不溶解之沉積物;又,在此類電極造型的釋氫下之陰極操作,會遭致減少操作使用壽命,因為基材粘著塗料,在此等條件下有受損的傾向。此類電極之失活機制,主要與觸媒層消耗或從基材脫離有關,造成突然故障,而無重大的預兆訊號;為防止嚴重不便,通常是以統計基礎,進行預估電解持內電極之剩餘壽命,在發生快速而不可逆的故障之前,安排更換。因為在此種操作條件下作業的電極失活,是若干因數所致,變化性相當高,故保持充分邊際的安全性,常常暗示要更換電極,可能已發揮功用到重大剩餘時間。
迄今已證明亟需提供一種新的電極組成物,以便在電解法中的輪流極性條件下操作,生產次氯酸塩,其特徵為,可媲美或超過先前技術配方之總期限,並利用失活形態,藉更佳預知其剩餘使用壽命,方便安排其更換期程。
本發明諸項要旨列在附帶申請專利範圍內。
在一具體例中,次氯酸塩發生用之電極,包括基材,由閥金屬製成,典型上為鈦,是否合金均可,具有適當粗糙度形態;內觸媒塗層,以及不同組成份之外觸媒塗層,在內觸媒塗層之上,活性較高,粗糙度形態之特徵為,Ra在4-8 μm之間,Rz在20-50 μm之間,內觸媒塗層含銥、釕,和選自鉭和鈮的閥金屬之氧化物,銥加釕的總比載量,以金屬計為2-5 g/m2,外觸媒塗層含貴金屬氧化物,總比載量不低於7 g/m2。在一具體例中,外觸媒塗層包括銥、釕和鈦的氧化物之混合物,釕濃度為12-18%莫耳,銥濃度為6-10%莫耳,鈦濃度為72-82%莫耳。粗糙度形態如上述特徵為,相當深的坑洞彼此相隔開,可使二截然不同的塗層重疊,故最內部塗層強固於坑洞內,只有在最外塗層脫離完成時,才開始作業。本發明人等意外觀察到,前述電極之特徵為二步驟失活機制,先是電壓比正常操作電壓上升,達到明顯較高數值,但仍然適用,繼續操作(例如電壓上升500-800 mV),其次電壓上升更快,逼使其確定停產。不欲限制本發明於任何特殊理論,可倡議一種形態,提供內觸媒對次氯酸塩發生不太有效率,諸如銥和釕等貴金屬氧化物,與鉭和/或鈮之氧化物混合物,而外觸媒效益較高,諸如銥、釕和鈦的氧化物之混合物,容許電極在優異的電壓水準操作,直到電極表面呈現外塗層,方便具有較高之比載量;一旦外塗層耗損,內塗層即暴露。內塗層由於特別選用粗糙度形態,其比載量有限,但很牢固於表面,能夠操作到充分延長時間,雖然效率較差,電解池電壓較高,但得以安排全電解池或電極之替換,以防有突然故障之虞。在一具體例中,內觸媒塗層含銥、釕和鉭的氧化物之混合物,釕濃度為42-52%莫耳,銥濃度為22-28%莫耳,鉭濃度為20-36%莫耳。上述組成份範圍特別適用於電極配方,其特徵為失活形態,得以充分先見,預告需要安排更換介入期程。在一具體例中,前述電極包括薄保護層之閥金屬氧化物,例如鈦和鉭的氧化物之混合物,介置於基材和內觸媒層之間。此優點是保護基材以免有鈍化現象,改進其總期限,基本上不影響特徵性二步驟失活機制。
在另一要旨,前述電極之製造方法包括:對基材在溫度不低於550℃,例如590℃,熱處理為期至少4小時,例如5小時,接著進行酸蝕刻,以形成所需粗糙度形態;隨後利用適當先質溶液之熱分解,依序施以內觸媒層,然後外觸媒層。
基材熱處理,接著按照所示參數蝕刻,輕易有沉析基材雜質之效果,與結晶性顆粒邊界相對應;如此,顆粒邊界成為隨後蝕刻優先侵襲的區域。此優點是有益於形成粗糙度形態,由深而彼此分開的峰部和谷部組成,可有效牢固內觸媒層,即使減少貴金屬之比載量。處理可在有強制通風的通常烘爐內進行;熱處理結束時,可令基材在爐內緩緩冷卻,溫度降到300℃以下時取出。在一具體例中,特別適於鈦和鈦合金基材,酸蝕刻是用25-30%重量硫酸,含5-10 g/l溶化鈦,於80-90℃溫度範圍進行,直到重量損失不低於180 g/m2金屬。本發明人觀察到此等條件,特別有益於在先前熱處理中,優先侵襲沉析於顆粒邊界之雜質,方便達成所需粗糙度形態。蝕刻浴以溶解鈦濃度約5 g/l開始使用,迄鈦濃度到約10 g/l,由於基材本身溶解的效應,再整合新添加酸,把溶解鈦濃度恢復到原值約5 g/l。溶液內之鈦有益於閥金在蝕刻相內之溶解動力:濃度在5 g/l以下係與溶解率相關,對實際目的顯得太慢。另方面,過份濃度會減緩重新侵襲。熱處理過的鈦基材經上述蝕刻步驟,達每平方公尺表面失重180-220公克,此值視為2-3小時內之觸媒塗層沉積。在一具體例中,熱處理過的基材可在酸蝕刻之前,經噴砂處理。在一具體例中,經所需熱處理,視情形之噴砂和蝕刻酸之基材,在施加觸媒塗佈之前,即具有此保護層,由閥金屬氧化物所組成。施加保護層可利用閥金屬基材在空氣中第二次熱處理,成長相對應之氧化物,或藉施以例如鈦和/或鉭之氧化物,利用火焰或電漿噴濺,或利用適當先質溶液之熱分解。形成內觸媒層,係施用含銥、釕和選自鉭和鈮至少一閥金屬的塩或其他化合物之先質溶液,隨即經熱分解,可視需要多次塗佈,直到以金屬表示的銥和釕合計所界定貴金屬總載量為2-5 g/m2為止。形成外觸媒,係施用含貴金屬內例如銥和釕以及至少一種閥金屬(例如鈦)之先質溶液,隨即經熱分解,可視需要多次塗佈,直到以金屬表示的銥和釕合計所界定貴金屬總載量至少7 g/m2為止。
在另一要旨,從含氯化物的水性電解質製造次氯酸塩用之電化電解池,包括前述成對電極,和定時控制,使電極輪流極化,以決定成對中之電極為陰極,另一電極為陽極,進行操作,經預定時間,在一具體例內為30秒至60分鐘,周期性逆反其極性。在一具體例內,水性電解質為氯化鹼金屬溶液,例如氯化鈉或氯化鉀,或二者之混合物,氯化物離子濃度為2-20 g/l。
以下實施例用來證實本發明特殊具體例,其實用性在申請專利範圍所請求數值範圍內大致獲得驗證。凡精於此技術者應知下述實施例內揭示之組成份和技術,代表示本發明人等發現可充分實施本發明之組成份和技術;惟精於此技術者鑑於本案內容,均知在所揭示之特殊具體例內所為之許多變化,仍可得相同或相似之結果,而不悖本發明之範圍。
實施例1
取面積10 cm2和厚0.5 mm之二鈦片,用熱水和肥皂清洗,以脫離子水淋洗,並用丙酮脫脂。隨即在強制通風之烘爐內,於590℃對鈦片進行熱處理5小時。容許熱處理過的樣本在同一爐內冷卻到溫度290℃,然後取出,稱重,經含5 g/l鈦的27% H2SO4,在溫度87℃蝕刻處理。處理2小時後,樣本又經清洗、乾燥、稱重,記錄鈦損失約200 g/m2。以Mitutoyo SJ-301表面光度計驗測粗糙度形態,證明Ra值為5.2-5.3 μm,而Rz值約32 μm。
在如此處理過的鈦片兩面,施以內觸媒塗層,係以含47%莫耳Ru,24.7%莫耳Ir和28.3%莫耳Ta之第一種先質溶液,進行熱分解。此先質溶液之調配,是從20%重量的市售RuCl3溶液、23%重量的市售H2IrCl6溶液,和固體TaCl5在37%重量HCl內溶解所得濃度50 g/l的TaCl5溶液開始,攪拌中加熱,隨即用水和市售2-丙醇稀釋。諸成份經攪拌混合,先添加加權量的H2IrCl6溶液,再相當量之RuCl3。攪拌30分鐘後,添加TaCl5溶液,再30分鐘後,以2-丙醇調節混合物容量,又延長攪拌30分鐘。如此所得先質溶液施於原先在50℃風乾的鈦片,刷塗三次,隨即在強制通風的烘爐內,於510℃進行分解週期,每次中間塗佈後進行10分鐘,最後塗佈後經30分鐘。
隨後的重量檢驗證明,內觸媒塗層應用3 g/m2貴金屬,以Ir和Ru合計表示。
在鈦片兩面施以外觸媒塗層,是以含15%莫耳Ru、7.9%莫耳Ir和77.1%莫耳Ti之第二種先質溶液,經熱分解而成。第二種先質溶液之調製,是由第一種所用之同樣試劑開始,添加市售TiOCl2 160-180 g/l,代替TaCl5。也是在攪拌下混合,進行製備,與前述情況全然相同,除了TiOCl2和隨後加18% HCl,以代替TaCl5溶液。
第二種先質溶液施於鈦片,先在50℃風乾,刷塗14次,隨即在強制通風的烘爐內,於510℃分解週期,每次中間塗佈後經10分鐘,最後塗佈後經30分鐘。
隨後的重量檢驗證明外觸媒塗層應用12 g/m2貴金屬,以Ir和Ru合計表示。
如此所得電極以定期極性逆反,進行次氯酸塩生產,以加速使用壽命測試加以檢定。加速測試是在含4 g/l NaCl和70 g/l Na2SO4的水溶液組成之電解質內,於電流密度1 kA/m2進行,調節溫度於25±1℃,每60秒後,把二電極的極性逆反。在如此操作條件下,與工業應用比較甚為誇大,在電解池電壓3V左右,觀察恒定行為大約300小時,接著逐漸提高電解池電壓,經總共400小時後,穩定在新的恒定值,比先前高約800 mV。然而總共測試600小時後,還可操作電解池,雖然電壓較高。
實施例2
在相同條件下,重複實施例1,除了使用第一種先質溶液含47%莫耳Ru,24.7%莫耳Ir和28.3%莫耳Nb,是以NbCl5 1M溶液取代TaCl5溶液所得。所得電極以實施例1之加速使用壽命測試檢定,得前述實施例之實質同等結果,係在約3V電解池電壓恒常電解池操大約215小時,接著逐漸提高電壓,總共320小時後穩定在新的恒常值,比先前高約600 mV。在此情況下,延長測試總共400小時,在最後40小時過程中,電解池電壓稍移往更高數值。
比較例
取面積10 cm2和厚度0.5 mm的二鈦片,用熱水和肥皂清洗,以脫離子水淋洗,經丙酮脫脂。隨即於強制通風之烘爐內,施590℃對鈦片進行熱處理5小時。令熱處理過的樣本在同一爐內冷卻到溫度290℃,然後取出,稱重,並於含5 g/l鈦之27% H2SO4,在溫度87℃進行蝕刻處理。處理2小時後,樣本再經清洗、乾燥和稱重,發現鈦失重約200 g/m2。以Mitutoyo SJ-301表面光度計驗測粗糙度形態,證明Ra值為5.4-5.6 μm,而Rz值約34 μm。
在如此處理過的鈦片兩面,施以觸媒塗層,係以含15%莫耳Ru,7.9%莫耳Ir和77.1%莫耳Ti之先質溶液,相等於實施例1之第二種先質溶液,進行熱分解。對先在50℃風乾的鈦片,施以先質溶液,刷塗17次,隨即在強制通風的烘爐內,於510℃進行分解周期,每次中間塗佈後經10分鐘,最後塗佈後經60分鐘。
隨即重量驗測,證明外觸媒塗層應用15 g/m2貴金屬,以Ir和Ru合計表示。如此所得電極以實施例1之加速使用壽命測試檢定,得以在約3V電解池電壓,恒常電解池操作大約230小時,接著電壓突然上升,表示電極失活到測試不得不中斷的程度。
前述無意限制本發明,可按照不同具體例使用,不悖本發明之範圍,其程度純以附帶之申請專利範圍為準。
本案說明書和申請專利範圍內使用「包括」及其變化用語,並不排除其他元素或添加劑存在。
本說明書提到之文件、法規、材料、裝置、文章等,目的在提供本發明脈絡,並非倡議或表示任何或全部此等事物,形成先前技術基礎之一部份,或是本案各項申請專利範圍優先權日之前,為本發明相關領域之普通一般知識。
Claims (10)
- 一種電化製造次氯酸鹽的電解池用之電池,包括閥金屬基材、內部電觸媒塗層和外部電觸媒塗層,有不同組成份,互相重疊,該基材之粗糙度形態具有Ra值4-8μm,和Rz值20-50μm,該內觸媒塗層含銥、釕以及選自鉭和鈮的貴金屬之氧化物,銥和釕以金屬表示之總比載量為2-5g/m2,該外部電觸媒載量含銥、釕和鈦的氧化物之混合物,貴金屬比載量不低於7g/m2者。
- 如申請專利範圍第1項之電極,其中該外部電觸媒塗層包括銥、釕和鈦的氧化物之混合物,釕濃度為12-18%莫耳,銥濃度為6-10%,而鈦濃度為72-82%者。
- 如申請專利範圍第1或2項之電極,其中該內部電觸媒塗層包括銥、釕和鉭的氧化物之混合物,釕濃度為42-52%莫耳,銥濃度為22-28%,而鉭濃度為20-36%者。
- 如申請專利範圍第1項之電極,其中包括保護層,由閥金屬氧化物組成,介置於該基材和該內部電觸媒塗層之間者。
- 一種如申請專利範圍第1項電極之製造方法,包括如下步驟:在不低於560℃之溫度,對該閥金屬基材熱處理不少於4小時;酸蝕刻;利用先質溶液之熱分解,實施該內部電觸媒塗層;利用先質溶液之熱分解,實施該外部電觸媒塗層者。
- 如申請專利範圍第5項之製造方法,其中該酸蝕刻步驟係在含5-10g/l溶解鈦之25-30%重量硫酸內,於80-90℃溫度進行,直到金屬失重不低於180g/m2者。
- 如申請專利範圍第5或6項之製造方法,其中在該內部電觸媒塗層實施之前,另一閥金屬氧化物組成的保護層實施步驟,利用之技術選自基材熱處理,應用火焰或電漿噴濺,以及先質溶液之熱分解者。
- 一種鹼金屬次氯酸塩製造用電解池,包括含氯化鹼金屬之電解質,至少一對如申請專利範圍第1項所示之電極,以及定時控制系統,於預定時間期限輪流極化該電極,使其分別具有陽極和陰極之功能者。
- 如申請專利範圍第8項之電解池,其中該水性電解質含有氯化物離子濃度為2-20g/l者。
- 如申請專利範圍第8或9項之電解池,其中該預定時間期限為0.5-60分鐘者。
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