TWI533922B - Perfluoride decomposition treatment method and processing device - Google Patents
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Description
本發明係關於全氟化物的分解處理方法及其處理裝置,特別是關於可能量效率佳地分解自半導體製造裝置、液晶製造裝置或太陽電池製造裝置等所排出的全氟化物,並且,可理想地用於除去含於在分解進行所產生的分解氣體中之酸性氣體成分之全氟化物的分解處理方法及其處理裝置。
全氟化物(perfluorocompound、PFC)係為CF4、CHF3、C2F6、CH2F2、C3F8、C4F8、C5F8、SF6及NF3等之碳與氟、碳與氫及氟、硫磺與氟、及氮與氟的化合物之總稱。全氟化物係在半導體製造程序、液晶製造程序或太陽電池製造程序中,被使用於蝕刻用氣體、清淨用氣體或灰化用氣體。
全氟化物在前述製造程序中並非所有被消耗,而是所供給之全氟化物的大約10~50%在製造製程未被消耗而直接釋出到大氣中。
由於全氟化物在大氣中,會超過數萬年長期間穩定地存在著,具有吸收二氧化碳之數千倍~數萬倍的紅外線之性質,故成為地球暖化之原因的物質之一。在為了地球暖化防止之京都議定書中,為限制對象氣體之一,被強力要求朝大氣中的釋出量之削減。
作為全氟化物的大氣釋出抑制對策,檢討有各種除害(分解)方法,例如在燃燒氣體中使其燃燒之燃燒法、使用觸媒之觸媒法及使用電漿之電漿法等。
但,由於全氟化物為不易分解之穩定的物質,故,為了進行分解,必須將包含全氟化物之排廢氣作成高溫。為了獲得高溫氣體,在燃燒法,使作為燃料之城鎭氣體、丙烷氣體或甲烷氣體等燃燒,直接進行加熱,而在觸媒法,進行電氣加熱器上之間接加熱。例如在分解CF4之情況,在燃燒法,則需大約1200℃以上,而在觸媒法大約700~800℃。
在半導體製造工廠、液晶製造工廠及太陽電池製造裝置等,由於工廠全體會消耗多量的能量,故,並要求更進一步的省能量化。但,如前述般,由於全氟化物為不易分解的穩定物質,故,為了將全氟化物進行分解處理,需要投入大量的能量。用於分解全氟化物之燃料、電氣的大部分被使用於包含全氟化物之排廢氣的加熱。
因此,分解全氟化物後的氣體(分解氣體)也作為與分解溫度相同程度的高溫氣體排出。
另外,全氟化物具有複數個氟原子,在前述任一個處理方法,於分解後所產生的氟化氫會對所供給之全氟化物的濃度成為數倍的濃度。例如,在CF4的情況,因以對1個碳,有4個氟來構成,所以,在進行分解處理後,會產生所供給之CF4的4倍之氟化氫。其結果,分解處理後的分解氣體會成為高溫且包含高濃度的酸性氣體(HF氣體
)之氣體。
為了將此分解氣體冷卻,除去酸性氣體,一般係使用水。這是因為水的比熱大且蒸發潛熱大、以及氟化氫容易溶於水之故。在氟化氫為高濃度的情況,主流為採用洗滌器等之濕式洗淨的除去方式。在濕式洗淨,能夠同時地進行除去所產生之高濃度的氟化氫氣體並且進行高溫氣體的冷卻。
在此情況,為了進行加熱而投入的能量之大部分會移行到濕式洗淨後的氟酸之排廢水。但,從濕式洗淨所排出的排廢水的溫度大約40~60℃左右,作為熱加以利用之價值低,且因含有具有腐蝕性之氟酸,所以,會有不易進行熱回收之問題。因此,在濕式洗淨,有為有效利用所投入之能量的問題。
為了抑制全氟化物朝大氣釋出,使用觸媒進行從半導體製造製程及液晶製造製程所排出之包含全氟化物的排廢氣之處理的方法,如專利文獻1~3為眾所皆知。在專利文獻1,記載有下述方法,亦即利用以觸媒將分解後的高溫的分解氣體與反應用的水進行熱交換而將水預熱來提高熱回收率,且進一步以噴霧水將進行熱交換後的已被冷卻的分解氣體予以冷卻者。
在專利文獻2,記載有下述方法,亦即藉由對分解氣體中的酸性氣體(HF氣體)添加鈣鹽(以下稱為「Ca鹽」)使其反應,而不會產生包含氟之酸性排廢水者(乾式處理),在此情況,利用以觸媒將分解後的高溫的分解氣
體與反應用的水進行熱交換而將水預熱,或將分解氣體與包含全氟化物的排廢氣進行熱交換來將排廢氣預熱,提高熱回收率者。
但,該等專利文獻1及2所記載的方法,存在有以下的問題點。
在僅將高溫的分解氣體與水進行熱交換之情況,由於水的熱容量大且潛熱也大,故,熱交換器中的水流動的配管(傳熱管)的表面溫度(高溫的分解氣體接觸之側的溫度)部分地成為200℃以下。分解氣體亦含有因SF6的分解所產生之SOX。當含有SOX及水分之高溫的分解氣體與表面溫度為200℃以下的熱交換器的傳熱管接觸時,在傳熱管表面會生成硫酸,會有產生露點腐蝕之可能性。
一般,熱交換器的傳熱管在與大約500~800℃的高溫氣體進行熱交換之情況,從耐熱性及熱傳導性的觀點來看,需要為金屬製。因此,為了防止露點腐蝕,需要採用將水作成為100℃以上之水蒸氣的形態在傳熱管內流動等使得與高溫氣體接觸之傳熱管表面不會成為200℃以下之對策,故會有熱回收效率變差的問題。
且,在專利文獻1及2,因藉由在熱交換器的下部進行水噴霧,將高溫的分解氣體冷卻,所以,會有來自於噴霧之微小的飛沫飛到熱交換器之問題。當噴霧之微小的飛沫附著於金屬製的熱交換器的傳熱管時,分解氣體所含的酸性氣體會溶入到所附著的飛沫中而成為酸性溶液。因此,會有在金屬製的傳熱管產生腐蝕之問題。
為了防止來自於該噴霧之飛沫,有在熱交換器的下部設置擋板,抑制飛沫上升的方法,但,由於會阻礙分解氣體的流動,反而造成系統內的壓力損失增加。又,在擋板,由於上面被高溫的氣體加熱,下面被噴霧的飛沫冷卻,故,上下之溫度差變大。且,因基於噴霧飛沫附著之酸性氣體的溶入,產生酸性溶液,使得腐蝕之可能性變高。對於缺失所採用之對策,會有必須使用陶瓷等昂貴之材料的問題。
又,在專利文獻3,記載有讓高溫的分解氣體與外部的空氣進行熱交換予以冷卻之方法、和在高溫的分解氣體中混合外部的空氣而加以冷卻之方法。在將高溫的分解氣體與外部的空氣進行熱交換之情況,因加熱的空氣未被利用而釋出到大氣,所以,在熱回收的這一點上會有問題。另外,當在分解氣體中混合空氣時,分解氣體的流量會大幅地增加。由於壓力損失及反應速度是取決於氣體流速,故,當欲將氣體流速設為最理想條件時,則會有設在下游的酸性氣體處理裝置(鹼洗滌器及乾式袋形過濾器等)的設備容量變大,並且用來排出排廢氣之排氣裝置(排風機、噴射器等)的能力也變大的問題。
為了從因進行濕式洗淨所產生之排廢水中除去氟,會使用鈣鹽(Ca鹽)一般使用氫氧化鈣或碳酸鈣。氫氧化鈣及碳酸鈣與排廢水中的氟反應而產生難溶性的氟化鈣(CaF2)並使其沈殿,藉以除去排廢水中的氟。為了從排廢水中大致完全地除去氟,需要投入理論反應量的數倍之氫
氧化鈣或碳酸鈣。
在藉由一般濕式洗淨冷卻分解氣體,除去酸性氣體之情況,因排廢氣的分解溫度越高,則分解處理後的氣體溫度也越會成為高溫,所以為了進行冷卻,需要大量的水。在半導體製造工廠及液晶製造工廠,在洗淨製程等會消耗大量的水,在進行全氟化物的分解處理,會有進一步增加排廢水的處理量之問題。又,因產生含有多量的氟之酸性排廢水,所以需要大規模的酸性排廢水的處理設備。
又,為了將含有氟之排廢水排出至河川、海洋等,需要將氟濃度作成為法定值以下,必須將排廢水中的氟幾乎100%分離並除去。在將排廢水中的氟濃度作成為法定值以下之情況,欲處理之排廢水量越多、又,排廢水所含的氟濃度越高,則排廢水處理設備變得越大規模。
在既設的半導體製造工廠及液晶製造工廠,今後,在為了抑制全氟化物排出至大氣而將全氟化物的分解裝置導入至全氟化物使用製造製程之情況,當藉由濕式洗淨將在全氟化物的分解中所生成的所有高濃度的酸性氣體進行處理時,會有含有氟之排廢水的處理量接近界線之問題。今後,在將從半導體製造工廠、液晶製造工廠及太陽電池製造工廠等之工廠全體所釋出的所有全氟化物進行分解處理,對含有該等高濃度的氟化氫之分解氣體,進行濕式洗淨之情況,會有產生多量的排廢水,在設於該等工廠之既設的排廢水處理設備無法處理之可能性產生。
又,最近,在半導體製造工廠及液晶製造工廠,要求
將自工廠內排出的廢棄物的量作成零,使得削減排廢水產生量成為一大課題。特別是在半導體製造工廠及液晶製造工廠,會產生含有氟之排廢水的製程多,需要減低含有氟之排廢水的處理量。
又,在濕式洗淨,所沈殿之氟化鈣(CaF2)及過剩投入的Ca鹽,從排廢水中作為含有過剩的水分之污泥被分離。為了將該污泥再利用於氟酸之原料等,需要除去水分,並且,污泥需要將含於泥中之氟化鈣作成為高純度。因此,會有無法再利用該污泥,而成為產業廢棄物之問題。
在乾式處理,雖不會產生水分除去的問題,但,為了獲得適用於再利用之高純度的氟化鈣,需要適當地控制對填充有Ca鹽之酸性氣體除去裝置的Ca鹽的供給及自該酸性氣體除去裝置之Ca鹽的排出的操作。
除了以上問題,在進行對2台以上的全氟化物分解裝置之Ca鹽的供給及自該裝置進行與酸性氣體反應之Ca鹽的回收之情況,需要針對每個全氟化物分解裝置設置進行供給及回收之設備(槽),會有設備容量及設置空間變大的問題。作為其對策,當採用提高供給及回收頻度時,會產生必須構築新的物流系統,或增加該作業用之作業者的問題。
[專利文獻1]日本特開平11-319485號公報
[專利文獻2]日本特開2003-340239號公報
[專利文獻3]日本特開2006-312121號公報
本發明的目的係為了解決前述課題而開發完成的發明,其目的係在於能量效率良好,能夠防止熱交換器的配管的腐蝕,並且可大幅地削減排廢水量,且可有效率地回收高純度的氟化鈣(CaF2)之全氟化物的處理方法及全氟化物處理裝置。另一目的係在於能夠提供設備容量及設置場所小且效率佳之全氟化物處理裝置。
本發明者們為了解決前述課題而精心檢討研究的結果發現,(1)藉由將含有全氟化物的排廢氣及水或水蒸氣和分解氣體進行熱交換,可提升熱回收率,並且能夠防止熱交換器的配管的腐蝕的同時,能夠冷卻至適合將分解氣體中的酸性氣體進行乾式處理之溫度;(2)藉由使Ca鹽與分解氣體反應,除去分解氣體中的酸性氣體,能夠大幅地削減排廢水量;(3)利用依據從酸性氣體除去裝置所排出的酸性氣體濃度、或填充於酸性氣體除去裝置內之Ca鹽的溫度,進行Ca鹽朝酸性氣體除去裝置的的供給、及與酸性氣體反應後之Ca鹽的排出,能夠減少未反應而被直接排出的
Ca鹽量,可回收較多含有高純度的CaF2之Ca鹽;(4)對來自於2台以上的全氟化物分解裝置之Ca鹽的排出、回收及Ca鹽朝該裝置的供給上,採用使用壓縮空氣之Ca鹽排出或供給裝置,能夠縮小全氟化物處理裝置的設備容量、設置場所等,可達到效率佳的Ca鹽的排出、回收及供給,因而完成了本發明。本發明包含以下所示的〔1〕~〔15〕之事項。
〔1〕一種全氟化物的處理方法,其特徵為包含:(1)將含有全氟化物的排廢氣、及水或水蒸氣予以預熱之製程;(2)將在前述製程(1)進行預熱後的排廢氣、及水或水蒸氣進一步予以加熱之製程;(3)藉由以觸媒,將在前述製程(2)被加熱的排廢氣所含有的全氟化物予以分解,使含有酸性氣體之分解氣體產生的製程;(4)藉由將在前述製程(3)所產生的分解氣體與前述製程(1)的排廢氣、及水或水蒸氣進行熱交換加以冷卻之製程;以及(5)將在前述製程(4)所冷卻的分解氣體所含的酸性氣體,藉由與鈣鹽接觸接觸加以除去之製程,前述製程(1)係包含基於與在前述製程(3)所產生的分解氣體之熱交換的預熱。
〔2〕如項〔1〕之全氟化物的處理方法,其中,前述製程(1)是藉由將混合有含有全氟化物的排廢氣及水或水蒸氣之混合氣體與在前述製程(3)所產生的分解氣體進行熱交換來進行的。
〔3〕如項〔1〕或〔2〕之全氟化物的處理方法,其
中,前述製程(5)是使用填充有鈣鹽之酸性氣體除去裝置來進行的。
〔4〕如項〔3〕之全氟化物的處理方法,其中,自前述酸性氣體除去裝置排出與前述酸性氣體反應後的鈣鹽,且,對前述酸性氣體除去裝置供給鈣鹽。
〔5〕如項〔4〕之全氟化物的處理方法,其中,前述鈣鹽的排出及供給是依據在前述酸性氣體除去裝置除去前述酸性氣體後的分解氣體所含之酸性氣體的濃度來進行的。
〔6〕如項〔4〕之全氟化物的處理方法,其中,前述鈣鹽的排出及供給是依據填充於前述酸性氣體除去裝置內之鈣鹽的溫度來進行的。
〔7〕一種全氟化物的處理裝置,其特徵為包含:將含有全氟化物的排廢氣、及水或水蒸氣予以加熱之加熱器;分解前述全氟化物之觸媒層;將因前述全氟化物的分解所產生的分解氣體中的酸性氣體與鈣鹽接觸而加以除去之酸性氣體除去裝置;及藉由將前述排廢氣、及水或水蒸氣和前述分解氣體進行熱交換,來將前述排廢氣、及水或水蒸氣予以預熱並且冷卻前述分解氣體之熱交換器。
〔8〕如項〔7〕的全氟化物的處理裝置,其中,前述熱交換器為將混合含有全氟化物的排廢氣、及水或水蒸氣之混合氣體和因分解全氟化物所產生的分解氣體進行熱交換之熱交換器。
〔9〕如項〔7〕或〔8〕的全氟化物的處理裝置,其
中,前述酸性氣體除去裝置具備有:將與前述分解氣體所含的酸性氣體反應後的鈣鹽自前述酸性氣體除去裝置排出之鈣鹽排出器;及供給鈣鹽之鈣鹽供給器。
〔10〕如項〔9〕的全氟化物的處理裝置,其中,該處理裝置還包含:檢測自前述酸性氣體除去裝置所排出的分解氣體所含有的酸性氣體的濃度之酸性氣體濃度檢測器;及依據該酸性氣體濃度檢測器的測定濃度,控制前述鈣鹽排出器及前述鈣鹽供給器之控制裝置。
〔11〕如項〔9〕的全氟化物的處理裝置,其中,該處理裝置還包含:檢測填充於前述酸性氣體除去裝置之鈣鹽的溫度的溫度檢測器;及依據該溫度檢測器的測定溫度,控制前述鈣鹽排出器及前述鈣鹽供給器之控制裝置。
〔12〕一種全氟化物的處理裝置,包含有:2台以上的全氟化物分解裝置;對前述全氟化物分解裝置供給鈣鹽之鈣鹽槽;自鈣鹽槽對全氟化物分解裝置供給一定量的鈣鹽之鈣鹽供給裝置;鈣鹽供給配管,其具備使用壓縮空氣,用來對2台以上的全氟化物分解裝置供給鈣鹽之鈣鹽供給切換機構;壓縮空氣供給裝置,其將壓縮空氣供給至鈣鹽供給配管,該壓縮空氣為用來將鈣鹽自前述鈣鹽供給裝置移送至全氟化物分解裝置;及控制裝置,其依據來自於全氟化物分解裝置的鈣鹽供給的訊號,控制鈣鹽供給裝置、鈣鹽供給切換機構及壓縮空氣供給裝置。
〔13〕如項〔12〕的全氟化物的處理裝置,其中,前述全氟化物分解裝置具有加熱器、觸媒層、熱交換器及酸
性氣體除去裝置。
〔14〕一種全氟化物的處理裝置,包含有:2台以上的全氟化物分解裝置;回收自前述全氟化物分解裝置所排出的鈣鹽之鈣鹽回收槽;鈣鹽回收配管,其具備使用壓縮空氣,用來自2台以上的全氟化物分解裝置回收鈣鹽之鈣鹽回收切換機構;壓縮空氣供給裝置,其將壓縮空氣供給至鈣鹽供給配管,該壓縮空氣為用來將鈣鹽自前述鈣鹽供給裝置移送至全氟化物分解裝置;及控制裝置,其依據來自於全氟化物分解裝置的鈣鹽排出的訊號,控制鈣鹽回收切換機構及壓縮空氣供給裝置。
〔15〕如項〔14〕的全氟化物的處理裝置,其中,前述全氟化物分解裝置具有加熱裝置、觸媒層、熱交換器及酸性氣體除去裝置。
若依據項〔1〕及〔2〕的方法,藉由進行因全氟化物的分解所產生的高溫的分解氣體和含有全氟化物的排廢氣、及水或水蒸氣之熱交換,能夠減少用來加熱含有全氟化物的排廢氣之能量,並且不需要使用水、外氣等即可將分解氣體冷卻至適合使用Ca鹽之乾式處理,並且,能夠防止熱交換器的配管的腐蝕。
若依據項〔3〕及〔4〕的方法,除了前述項〔1〕及〔2〕所獲得的效果外,還可藉由在分解氣體所含的酸性氣體的除去上進行使用Ca鹽之乾式處理,比起比起以往
的濕式洗淨,更可減少排廢水量。
若依據項〔5〕及〔6〕的方法,除了前述項〔1〕~〔4〕所獲得的效果外,還可減少酸性氣體除去裝置中的未反應的Ca鹽量,能夠減少Ca鹽的消耗量,並且能夠回收較多包含高純度的CaF2之Ca鹽,包含所回收的高純度的CaF2之Ca鹽,可作為氟酸的原料等之有價物品加以再利用。
若採用項〔7〕及〔8〕的裝置,藉由進行因全氟化物的分解所產生的高溫的分解氣體和含有全氟化物的排廢氣、及水或水蒸氣之熱交換,可減少用來加熱含有全氟化物的排廢氣之能量,不需使用水、外氣等,即可將分解氣體冷卻至適合進行使用Ca鹽之乾式處理的溫度。
若使用項〔9〕的裝置,除了使用前述項〔7〕及〔8〕的裝置所能獲得之效果外,還可藉由在分解氣體所含的酸性氣體的除去上進行使用Ca鹽之乾式處理,比起以往的濕式洗淨,更可減少排廢水量。
若採用項〔10〕及〔11〕的裝置,除了使用前述〔7〕~〔9〕的裝置所能獲得之效果外,還可減少酸性氣體除去裝置中的未反應的Ca鹽量而能減少Ca鹽的消耗量,並且能夠回收較多的包含高純度的CaF2之Ca鹽,包含所回收的高純度的CaF2之Ca鹽,可作為氟酸的原料等之有價物品加以再利用。
若採用項〔12〕及〔13〕的裝置,藉由簡單的系統結構,可有效地達到Ca鹽對複數台全氟化物分解裝置的供
給。
若採用項〔14〕及〔15〕的裝置,藉由簡單的系統結構,可有效地達到與來自於複數台全氟化物分解裝置的酸性氣體反應後的Ca鹽的回收。
以下,詳細說明關於本發明的全氟化物的分解處理方法、用於該方法的裝置、及Ca鹽對複數台的全氟化物分解裝置的供給、回收系統。
再者,本說明書中,「排廢氣」係指自半導體製造程序、液晶製造程序、或太陽電池製造程序等產生而排出之氣體,「混合氣體」係指前述排廢氣和水或水蒸氣混合的氣體,「分解氣體」係指藉由以加熱及觸媒將前述混合氣體進行分解處理,處於所含的全氟化物被分解之狀態的氣體,「酸性氣體」係指前述分解氣體中的氟化氫(HF)等的氣體。
在本發明,為了提高全氟化物的處理裝置的熱效率,且防止配管的腐蝕,藉由將以觸媒分解含有全氟化物的排廢氣後所產生的高溫的分解氣體和含有全氟化物的排廢氣、及水或水蒸氣進行熱交換,可將前述排廢氣、及水或水蒸氣作為進行全氟化物分解所必須的加熱製程之一部分予以預熱的同時將分解氣體冷卻。此時,可將含有全氟化物的排廢氣和水或水蒸氣個別地供給至熱交換器,予以預熱後、再加以混合,又亦可在熱交換器內,將含有全氟化物
的排廢氣和水或水蒸氣予以混合並預熱。
又,此分解氣體中的酸性氣體,為了減少排廢水量,以填充有Ca鹽之酸性氣體除去裝置予以除去。此時,作為Ca鹽,可使用例如Ca(OH)2、CaCO3、CaO、或將該等混合者。又,Ca鹽,可為粉體,亦可為成型為例如圓柱狀、球狀等者。
且,為了藉由減少自酸性氣體除去裝置呈未反應的狀態下被排出之Ca鹽量,用以減少Ca鹽的消耗量,並回收較多的包含高純度的CaF2之Ca鹽,依據自酸性氣體除去裝置所排出的酸性氣體濃度、或填充於酸性氣體除去裝置內之Ca鹽的溫度,進行與此酸性氣體反應之Ca鹽的排出、及Ca鹽朝酸性氣體除去裝置的的供給。
依據自酸性氣體除去裝置所排出的酸性氣體濃度,進行Ca鹽之排出、供給的方法如以下所述。填充於酸性氣體除去裝置內之Ca鹽與自酸性氣體除去裝置的下部所供給的包含HF氣體之分解氣體接觸,藉由與該HF氣體反應而變化成CaF2。在酸性氣體除去裝置內,當從填充有分解氣體之Ca鹽的下部進行供給時,Ca鹽與HF氣體之反應位置會從下部移動至上部,當超過某一定的位置時,則從酸性氣體除去裝置出口排出數ppm級之低濃度HF氣體。在酸性氣體除去裝置的出口配管設有HF氣體濃度檢測器,當檢測到某一定濃度的HF氣體時,則將檢測訊號輸出至控制裝置。此時,HF氣體的濃度檢測,可直接檢測排廢氣中的HF濃度,亦可先讓水或鹼溶液吸收HF氣
體後,作為在水中之氟離子濃度間接地進行檢測。
在控制裝置,依據HF氣體濃度的檢測訊號,從控制裝置朝Ca鹽排出器傳送運轉訊號,在Ca鹽排出器,依據運轉訊號,將填充於酸性氣體除去裝置之Ca鹽中包含位於從下部算起的一定高度之高純度CaF2的Ca鹽經由Ca鹽排出器朝Ca鹽排出槽排出。又,從控制裝置朝Ca鹽供給器傳送運轉訊號。在Ca鹽供給器,以成為與包含所排出的高純度的CaF2之Ca鹽同等量的方式,將Ca鹽從連接於酸性氣體除去裝置之Ca鹽供給槽經由Ca鹽供給器供給至酸性氣體除去裝置。
又,依據填充於酸性氣體除去裝置內之Ca鹽的溫度進行Ca鹽之排出、供給的方法係如以下所述。填充於酸性氣體除去裝置內之Ca鹽,當與HF氣體反應時,則因發熱反應使得溫度上升。所充填之Ca鹽,藉由與HF氣體反應,改變成CaF2,使得發熱反應的位置從下部朝上部移動。與此同時,所充填之Ca鹽的溫度上升位置也移動。藉由溫度檢測器檢測此溫度上升,將檢測訊號輸出至控制裝置。以下之基於控制裝置的Ca鹽的排出及供給是與上述的基於HF氣體濃度之方法相同的方式進行。再者,溫度檢測,亦可藉由在Ca鹽與HF氣體之反應結束後所檢測到的溫度降低之檢測訊號輸出至控制裝置來進行。
又,以下,說明關於對本發明所含之2台以上的全氟化物分解裝置進行Ca鹽供給及Ca鹽排出、回收之方法。
為了對2台以上的全氟化物分解裝置供給Ca鹽,在以Ca鹽槽、壓縮空氣供給裝置、Ca鹽供給裝置、Ca鹽供給配管、Ca鹽供給切換機構及控制裝置所構成之裝置,依據從全氟化物分解裝置朝控制裝置之Ca鹽供給訊號,藉由Ca鹽供給切換機構切換Ca鹽供給配管,利用壓縮空氣,進行對全氟化物分解裝置之Ca鹽的供給。
又,為了進行從2台以上的全氟化物分解裝置排出與酸性氣體反應的Ca鹽,在以Ca鹽回收槽、壓縮空氣供給裝置、Ca鹽回收配管、Ca鹽回收切換機構及控制裝置所構成之裝置,依據從全氟化物分解裝置朝控制裝置之Ca鹽回收訊號,藉由Ca鹽回收切換機構切換Ca鹽回收配管,利用壓縮空氣,從全氟化物分解裝置進行包含高純度的CaF2之Ca鹽的回收。
以下,依據實施例進一步具體說明本發明,但,本發明的範圍不限於該等實施例。
圖1、圖2、圖3顯示本發明的理想一實施例之全氟化物分解處理系統。
將半導體製造程序、液晶製造程序或太陽電池製造程序中之自蝕刻裝置、灰化裝置或CVD裝置(未圖示)所排出的含有全氟化物的排廢氣和使用於分解反應之水或水
蒸氣供給至熱交換器2。
在熱交換器2,從分解全氟化物後之高溫的分解氣體將熱回收,將含有全氟化物的排廢氣和使用於分解反應的水或水蒸氣預熱至大約200~300℃。又,藉此,含有全氟化物的排廢氣和使用於分解反應的水或水蒸氣所流動之傳熱管的與高溫的分解氣體接觸之表面成為200℃以上。
在熱交換器,亦可如圖3所示,將含有全氟化物的排廢氣與水或水蒸氣個別地供給至熱交換器並預熱後,再加以混合。又,在熱交換器內,亦可將含有全氟化物的排廢氣與水或水蒸氣混合再預熱。熱交換器,可為板鰭或管殼,亦可為作成雙重管構造,在內管流動高溫的分解氣體,在外管流動低溫的含有全氟化物的排廢氣、及水或水蒸氣進行熱交換者。又,高溫的分解氣體和低溫的含有全氟化物的排廢氣、及水或水蒸氣,亦可在熱交換器內以對向流或、並流的方式流動。
被熱交換器所預熱之含有全氟化物的排廢氣與水或水蒸氣之混合氣體供給至全氟化物分解部1。全氟化物分解部1是以第一加熱裝置11、第二加熱裝置12及觸媒13所構成。再者,在處理氣體量少之情況,能僅以第一加熱裝置11加熱至進行分解反應之溫度,可不設置第二加熱裝置12。在第一加熱裝置11,供給已被預熱之含有全氟化物的排廢氣和水或水蒸氣的混合氣體,藉由加熱器14加熱至大約300℃~600℃。進一步將該混合氣體在第二加熱裝置12藉由加熱器15加熱至大約700~800℃。被
加熱至大約700~800℃之該混合氣體供給至觸媒13。在觸媒13,讓全氟化物與水進行反應,分解全氟化物。為了容易進行觸媒交換作業,亦可作成為將觸媒13填充至可取下之容器內,將該容器整個取出之構造。作為觸媒,可使用例如包含鋁氧化物且包含自Zn、Ni、Ti、F、Sn、Co、Zr、Ce及Si所選出之至少1個氧化物之觸媒。
下述反應式(1)~(4)顯示全氟化物的分解反應式之一例。
CF4+2H2O → CO2+4HF...(式1)
CHF3+1/2O2+H2O → CO2+3HF...(式2)
C2F6+3H2O+1/2O2 → 2CO2+6HF..(式3)
SF6+3H2O → SO3+6HF...(式4)
在觸媒13的分解反應所產生之分解氣體,含有高濃度的酸性氣體(氟化氫氣體:HF氣體)。在前述反應式(1),在包含1容積%的CF4之排廢氣的情況,因藉由分解反應產生CF4的4倍之HF,所以,分解氣體含有4容積%之高濃度的HF而被排出。又,分解氣體以大約500~800℃的高溫從觸媒13排出。
包含高溫且高濃度的酸性氣體(HF氣體)之分解氣體被供給至熱交換器2。在熱交換器2,藉由將包含高溫且高濃度的HF氣體之分解氣體與含有全氟化物的排廢氣、及水或水蒸氣進行熱交換,冷卻至約300~500℃。被冷卻之分解氣體供給至填充有Ca鹽之酸性氣體除去部3。
酸性氣體除去部3是由填充有Ca鹽30之酸性氣體除
去裝置31、Ca鹽供給槽32、將Ca鹽從Ca鹽供給槽32供給至酸性氣體除去裝置31之Ca鹽供給器33、將與高濃度的HF氣體進行了反應之Ca鹽排出的Ca鹽排出器34、及儲存自Ca鹽排出器所排出的Ca鹽之Ca鹽排出槽35所構成。
在酸性氣體除去裝置31,填充有Ca鹽30,藉由分解氣體中所含的HF氣體與Ca鹽反應,除去HF氣體。另外,Ca鹽與HF氣體反應,而成為CaF2(氟化鈣)。從酸性氣體除去裝置31所排出的分解氣體中的HF氣體濃度為3ppm以下,經由噴射器4排氣。再者,噴射器以外,作為將分解氣體進行吸引及排出之方法,亦可使用排風機。
作為Ca鹽,可使用例如,Ca(OH)2、CaCO3、CaO或將該等予以混合者。又,Ca鹽,可為粉體,但亦可為成形圓柱狀、或球狀等者。作為Ca鹽,理想為Ca(OH)2與CaCO3之混合物,且形狀為圓柱狀,並且其混合比為Ca(OH)2:CaCO3=50~80質量%:20~50質量%者。這是因為Ca(OH)2與CaCO3之混合物,其具有成型性佳、供給、排出時的粉化少進而容易處理之優點。
填充於酸性氣體除去裝置31之Ca鹽30會與HF氣體反應而成為CaF2,因被消耗,所以需要將含有CaF2之Ca鹽從酸性氣體除去裝置31連續或間歇地排出,且,對酸性氣體除去裝置31連續或間歇地供給Ca鹽。從酸性氣體除去裝置31所進行之包含CaF2的Ca鹽的排出係經由
Ca鹽排出器34,朝Ca鹽排出槽35連續或間歇地進行。Ca鹽排出器34可使用閥、旋轉送料器、螺旋送料器或輸送機等的排出裝置。朝酸性氣體除去裝置31之Ca鹽的供給係自Ca鹽供給槽32經由Ca鹽供給器33連續或間歇地進行。作為Ca鹽供給器33,可使用閥、旋轉送料器、螺旋送料器或輸送機等的供給裝置。
圖4係顯示將朝熱交換器之水的供給作為壓縮空氣與水的2流體來進行之實施例。在熱交換器2內,將含有全氟化物的排廢氣與水混合,將水作成為蒸氣之情況,利用將水作成為細微的水霧,可與氣體均等地混合,並且可增大與氣體接觸之水的表面積,藉由熱交換,能夠容易使水氣化。
將水作成為細微的水霧,是可藉由將水從噴嘴噴射來達到,但,為了進一步細微化,具有將壓縮空氣與水從2流體噴嘴噴射之方法。在熱交換器2設置噴嘴21,將壓縮空氣與水供給至噴嘴21,作為2流體而從噴嘴21進行噴霧。在熱交換器2,於含有全氟化物的排廢氣中混合有已被細微化之水霧,藉由與高溫的分解氣體進行熱交換而預熱。
圖5係顯示在自酸性氣體除去裝置所排出的排廢氣配
管設置HF氣體濃度檢測器,將HF氣體濃度檢測器的訊號輸出至控制裝置,再依據來自於控制裝置之控制訊號,進行Ca鹽排出器及Ca鹽供給器的控制之實施例。
自酸性氣體除去裝置所排出的包含CaF2之Ca鹽,是CaF2的含有比例越高,則越可再利用於氟酸的原料等,並且,亦可減少所供給之Ca鹽的消耗量。因此,需要在提高CaF2之含有比例的狀態下,自酸性氣體除去裝置取出Ca鹽。
填充於酸性氣體除去裝置31內之Ca鹽會與自酸性氣體除去裝置的下部所供給的包含HF氣體之分解氣體接觸,而與HF氣體反應,因而改變成CaF2。在酸性氣體除去裝置內31,Ca鹽與HF氣體之反應位置從下部朝上部移動,當越過某一定的位置時,從酸性氣體除去裝置31出口,排出數ppm級之低濃度HF氣體。在酸性氣體除去裝置31的出口配管,設有HF氣體濃度檢測器51,當檢測到某一定濃度的HF氣體時,將檢測訊號輸出至控制裝置5。HF氣體濃度檢測器51,可直接檢測排廢氣中的HF濃度,亦可一旦使水或鹼溶液吸收HF氣體後,檢測水中之氟離子濃度。
在控制裝置5,依據HF氣體濃度的檢測訊號,自控制裝置5朝Ca鹽排出器34傳送運轉訊號。在Ca鹽排出器,依據運轉訊號,將填充於酸性氣體除去裝置31之Ca鹽中包含位於從下部算起的一定高度之高純度CaF2的Ca鹽經由Ca鹽排出器34朝Ca鹽排出槽35排出。此時,
所回收之包含CaF2的Ca鹽係包含80~95質量%之CaF2。
又,從控制裝置5朝Ca鹽供給器33傳送運轉訊號。在Ca鹽供給器33,以成為與所排出之包含高純度的CaF2的Ca鹽同等量的方式,將Ca鹽從酸性氣體除去裝置31的上部的Ca鹽供給槽32經由Ca鹽供給器33供給至酸性氣體除去裝置31。
圖6係顯示檢測填充於酸性氣體除去裝置之Ca鹽的溫度,從酸性氣體除去裝置進行含有CaF2之Ca鹽的排出、及Ca鹽朝酸性氣體除去裝置的供給之實施例。
填充於酸性氣體除去裝置31內之Ca鹽,當與HF氣體進行反應時,會因發熱反應造成溫度上升。在被充填的Ca鹽,藉由與HF氣體反應,變化成CaF2,發熱反應的位置從下部朝上部移動。與此同時,被充填之Ca鹽的溫度上升位置也逐漸移動。以溫度檢測器52檢測該溫度上升,將檢測訊號輸出至控制裝置5。再者,溫度檢測,亦可在Ca鹽與HF氣體之反應結束後,將所檢測到的溫度降低之檢測訊號輸出至控制裝置5。
在控制裝置5,與實施例3同樣地,朝Ca鹽排出器34及Ca鹽供給器33傳送運轉訊號,進行含有高純度的CaF2之Ca鹽的排出、及Ca鹽朝酸性氣體除去裝置31的供給。
圖7與圖8係顯示設有2台以上之圖5、圖6的全氟化物分解裝置之情況時的使用壓縮空氣之Ca鹽的供給方法。Ca鹽槽6係在下部設有Ca鹽供給裝置61。Ca鹽供給裝置61和2台的全氟化物分解裝置的Ca鹽供給槽,為了利用壓縮空氣,將Ca鹽供給至2台的全氟化物分解裝置的Ca鹽供給槽,而以分岐設置之Ca鹽供給配管63加以連結著。在Ca鹽供給配管63,設有作為朝各全氟化物除去裝置之Ca鹽供給切換機構之閥110a及110b。再者,Ca鹽供給裝置61可利用閥、旋轉送料器、螺旋送料器或輸送機等。
從全氟化物分解裝置100a的控制裝置5a接收到Ca鹽供給的輸出訊號之控制裝置10係對Ca鹽供給裝置61傳送運轉訊號,對閥110a傳送打開訊號及對閥110b傳送關閉訊號。在Ca鹽槽6,藉由Ca鹽供給裝置61的運轉,將Ca鹽供給至下部。
被供給至下部的Ca鹽,藉由來自於壓縮空氣供給裝置62之壓縮空氣,通過Ca鹽供給配管63,經由閥110a而供給至Ca鹽貯槽8a。在Ca鹽貯槽8a,僅壓縮空氣被排氣,而僅留下Ca鹽。在對Ca鹽貯槽8a供給了Ca鹽後,從控制裝置10傳送Ca鹽供給裝置61的停止訊號、閥110a的關閉訊號及閥111a的打開訊號,朝全氟化物分解裝置100a的Ca鹽供給槽32a供給Ca鹽。在Ca鹽被
供給至Ca鹽供給槽32a後,自控制裝置10朝閥111a傳送關閉訊號,關閉閥111a。
另外,在朝全氟化物分解裝置100b供給Ca鹽之情況,接受到來自於全氟化物分解裝置100b的控制裝置5b之Ca供給的輸出訊號的控制裝置10,朝Ca鹽供給裝置61傳送運轉訊號,朝閥110b傳送打開訊號及朝閥110a傳送關閉訊號。在Ca鹽槽6,藉由Ca鹽供給裝置61的運轉,朝下部供給Ca鹽。
被供給至下部之Ca鹽藉由壓縮空氣通過Ca鹽供給配管63,經由閥110b,供給至Ca鹽貯槽8b。在Ca鹽貯槽8b僅壓縮空氣被排氣,而僅留下Ca鹽。在對Ca鹽貯槽8b供給Ca鹽後,自控制裝置10傳送Ca鹽供給裝置61的停止訊號、閥110b的關閉訊號及閥111b的打開訊號,朝全氟化物分解裝置100b的Ca鹽供給槽32b進行供給。在朝Ca鹽供給槽32b供給後,自控制裝置10朝閥111b傳送關閉訊號,關閉閥111b。
再者,在全氟化物分解裝置為2台的情況,亦可藉由1台的三相閥切換供給配管的閥110a及閥110b。又,亦可使控制裝置10具有控制裝置5a及5b的控制機能,僅以控制裝置10進行2台的全氟化物分解裝置的控制,能夠構築相同的系統。在圖7,顯示了朝2台的全氟化物分解裝置進行Ca鹽的供給方法,但,本系統對3台以上的複數台,亦可適用相同的裝置結構。
在圖8,顯示不使用圖7的Ca鹽貯槽,進行Ca鹽供給之方法。接收到來自於全氟化物分解裝置100a的控制裝置5a之Ca鹽供給的輸出訊號的控制裝置10,朝Ca供給裝置61傳送運轉訊號,朝閥110a、閥112a及閥113a傳送打開訊號,朝閥110b、閥112b及閥113b傳送關閉訊號。在Ca鹽槽6,藉由Ca鹽供給裝置的運轉,朝下部供給Ca鹽。
被供給至下部之Ca鹽與壓縮空氣一同通過Ca鹽供給配管63,經由閥110a供給至Ca鹽供給槽32a。在Ca鹽供給槽32a,僅壓縮空氣經由閥113a被排氣,僅留下Ca鹽。在對Ca鹽供給槽32a供給Ca鹽後,自控制裝置10傳送Ca鹽供給裝置61的停止訊號、閥110a、閥112a及閥113a的關閉訊號。
另外,在朝全氟化物分解裝置100b供給Ca鹽之情況,從全氟化物分解裝置100b的控制裝置5b接收到Ca鹽供給的輸出訊號之控制裝置10,朝Ca鹽供給裝置61傳送運轉訊號,朝閥110b、閥112b及閥113b傳送打開訊號,朝閥110a、閥112a及閥113a傳送關閉訊號。在Ca鹽槽,藉由Ca鹽供給裝置61的運轉,朝下部供給Ca鹽。
被供給至下部之Ca鹽與壓縮空氣一同通過Ca鹽供給配管63,經由閥110b,供給至Ca鹽供給槽32b。在Ca鹽供給槽32b,僅壓縮空氣經由閥113b被排氣,僅留
下Ca鹽。在朝Ca鹽供給槽32b供給Ca鹽後,自控制裝置10傳送Ca鹽供給裝置61的停止訊號、閥110b、閥112b及閥113b的關閉訊號。
圖9係顯示設置2台以上的圖5、圖6之全氟化物分解裝置的情況使用壓縮空氣之含有CaF2的Ca鹽的排出及回收方法。朝全氟化物分解裝置100a及100b的Ca鹽排出槽35a及35b連接有壓縮空氣配管,Ca鹽回收槽9、Ca鹽排出槽35a及35b被Ca鹽回收配管64連接著。在Ca鹽回收配管64,設有作為Ca鹽回收切換機構之閥。又,設有控制該等閥之打開及關閉的控制裝置10。
接收到來自於全氟化物分解裝置100a的控制裝置5a的Ca鹽排出的輸出訊號之控制裝置10,朝閥105a及106a傳送打開訊號,朝閥105b及106b傳送關閉訊號。在全氟化物分解裝置100a,藉由實施例3、4所示的控制裝置5a的控制,朝Ca鹽排出槽35a排出Ca鹽。壓縮空氣經由閥106a供給至Ca鹽排出槽35a。壓縮空氣及Ca鹽經由閥105a回收至Ca鹽回收槽9。在Ca鹽回收槽9,僅將壓縮空氣排氣,在Ca鹽回收槽9內留下Ca鹽。當自Ca鹽排出槽35a所進行的Ca鹽排出結束時,自控制裝置10傳送閥105a及106a的關閉訊號。
另外,在自全氟化物分解裝置100b排出Ca鹽之情況,自全氟化物分解裝置100b的控制裝置5b接收到Ca鹽
排出的輸出訊號之控制裝置10,朝閥105b及106b傳送打開訊號、朝閥105a及106a傳送關閉訊號。在全氟化物分解裝置100b,藉由如實施例3、4所示的控制裝置5b的控制,朝Ca鹽排出槽35b排出Ca鹽。壓縮空氣經由閥106b供給至Ca鹽排出槽35b。壓縮空氣與Ca鹽經由閥105b回收至Ca鹽回收槽9。在Ca鹽回收槽9,僅將壓縮空氣排氣,在Ca鹽回收槽9內留下Ca鹽。當自Ca鹽排出槽35b進行的Ca鹽排出結束時,自控制裝置10傳送閥105b及106b的關閉訊號。
再者,能夠藉由使控制裝置10具有控制裝置5a及5b的控制機能,僅以控制裝置10進行2台的全氟化物分解裝置的控制,能夠構築相同的系統。
在圖9,顯示了自2台的全氟化物分解裝置進行含有CaF2之Ca鹽的排出、回收方法,但,本系統對3台以上的複數台,亦可同樣地適用。
在具有實施例2的結構之裝置,於表1顯示實施排廢氣及水與分解氣體之熱交換時的氣體溫度的變化。在該裝置,將排廢氣及水以熱交換器予以混合並預熱。將已被預熱之混合氣體以第一加熱裝置加熱至400℃,進一步以第二加熱裝置加熱至750℃,再供給至觸媒層。作為觸媒,使用鋁氧化物與鎳氧化物。又,熱交換器設為雙重管構造,排廢氣及水和分解氣體在熱交換器內以並流的方式流動
。自酸性氣體除去裝置所進行之酸性氣體的排出是藉由噴射器進行的。又,Ca鹽朝酸性氣體除去裝置的的供給是使用旋轉送料器連續地進行,自酸性氣體除去裝置所進行之Ca鹽的排出是使用旋轉送料器連續地進行。充填及供給至酸性氣體除去裝置之Ca鹽為使用Ca(OH)2和CaCO3之混合物,形狀為圓柱狀,且混合比為Ca(OH)2:CaCO3=35:75質量%者。
自前述結果可得知,藉由使用本發明的方法及裝置,能夠將排廢氣與水在作為進行全氟化物的分解所必要的加熱之前階段予以適當預熱,並且,能夠將分解氣體冷卻至適合使用Ca鹽之乾式處理的溫度。
1、1a、1b‧‧‧全氟化物分解部
2、2a、2b‧‧‧熱交換器
3‧‧‧酸性氣體除去部
4‧‧‧噴射器
5、5a、5b‧‧‧控制裝置
6‧‧‧Ca鹽槽
8a、8b‧‧‧Ca鹽貯槽
9‧‧‧Ca鹽回收槽
10‧‧‧控制裝置
11‧‧‧第一加熱裝置
12‧‧‧第二加熱裝置
13‧‧‧觸媒
14、15‧‧‧加熱器
21‧‧‧噴嘴
30、30a、30b‧‧‧Ca鹽
31、31a、31b‧‧‧酸性氣體除去裝置
32、32a、32b‧‧‧Ca鹽供給槽
33、33a、33b‧‧‧Ca鹽供給器
34、34a、34b‧‧‧Ca鹽排出器
35、35a、35b‧‧‧Ca鹽排出槽
51、51a、51b‧‧‧HF氣體濃度檢測器
52‧‧‧溫度檢測器
61‧‧‧Ca鹽供給裝置
62‧‧‧壓縮空氣供給裝置
63‧‧‧Ca鹽供給配管
64‧‧‧Ca鹽回收配管
100a、100b‧‧‧全氟化物分解裝置
105a、105b、106a、106b、110a、110b、111a、111b、112a、112b、113a、113b‧‧‧閥
圖1係全氟化物分解處理系統的概念圖。
圖2係使用基於熱交換器之含有全氟化物的排廢氣與水的預熱方法之全氟化物的處理裝置的構成圖。
圖3係使用基於熱交換器之含有全氟化物的排廢氣與水的預熱方法之全氟化物的處理裝置的構成圖。
圖4係採用使用2流體噴嘴之水的預熱方法的全氟化
物的處理裝置的構成圖。
圖5係包含基於HF氣體濃度檢測之Ca鹽的排出、供給方法之全氟化物的處理裝置的構成圖。
圖6係包含基於Ca鹽的溫度檢測之Ca鹽的排出、供給方法之全氟化物的處理裝置的構成圖。
圖7係Ca鹽對複數台的全氟化物分解裝置的供給系統的構成圖。
圖8係Ca鹽對複數台的全氟化物分解裝置之Ca鹽的供給系統的構成圖。
圖9係包含CaF2之Ca鹽對複數台的全氟化物分解裝置的排出、回收系統的構成圖。
1‧‧‧全氟化物分解部
2‧‧‧熱交換器
3‧‧‧酸性氣體除去部
4‧‧‧噴射器
11‧‧‧第一加熱裝置
12‧‧‧第二加熱裝置
13‧‧‧觸媒
14、15‧‧‧加熱器
30‧‧‧Ca鹽
31‧‧‧酸性氣體除去裝置
32‧‧‧Ca鹽供給槽
33‧‧‧Ca鹽供給器
34‧‧‧Ca鹽排出器
35‧‧‧Ca鹽排出槽
Claims (15)
- 一種全氟化物的處理方法,其特徵為包含:(1)將含有全氟化物的排廢氣、及水或水蒸氣預熱之製程;(2)將在前述製程(1)預熱的排廢氣、及水或水蒸氣進一步加熱之製程;(3)藉由以觸媒將在前述製程(2)加熱的排廢氣所含的全氟化物予以分解,使含有酸性氣體之分解氣體產生的製程;(4)藉由將在前述製程(3)所產生的分解氣體與前述製程(1)的排廢氣、及水或水蒸氣進行熱交換加以冷卻之製程;及(5)藉由將在前述製程(4)冷卻的分解氣體所含的酸性氣體與鈣鹽接觸,予以除去之製程,前述製程(1)係包含基於在前述製程(3)所產生的分解氣體之熱交換所進行的預熱,且將含有全氟化物的排廢氣、及水或水蒸氣同時進行熱交換。
- 如申請專利範圍第1項之全氟化物的處理方法,其中,前述製程(1)是藉由將混合含有全氟化物的排廢氣及水或水蒸氣之混合氣體和在前述製程(3)所產生的分解氣體進行熱交換來進行的。
- 如申請專利範圍第1或2項之全氟化物的處理方法,其中, 前述製程(5)係使用填充有鈣鹽之酸性氣體除去裝置來進行的。
- 如申請專利範圍第3項之全氟化物的處理方法,其中,自前述酸性氣體除去裝置排出與前述酸性氣體反應之鈣鹽,且,對前述酸性氣體除去裝置供給鈣鹽。
- 如申請專利範圍第4項之全氟化物的處理方法,其中,前述鈣鹽的排出及供給,係依據以前述酸性氣體除去裝置除去前述酸性氣體後的分解氣體所含之酸性氣體的濃度進行的。
- 如申請專利範圍第4項之全氟化物的處理方法,其中,前述鈣鹽的排出及供給,係依據填充於前述酸性氣體除去裝置內之鈣鹽的溫度進行的。
- 一種全氟化物的處理裝置,其特徵為包含:加熱器,其用來將含有全氟化物的排廢氣、及水或水蒸氣加熱;觸媒層,其用來分解前述全氟化物;酸性氣體除去裝置,其將因前述全氟化物的分解所產生的分解氣體中的酸性氣體與鈣鹽接觸而將其除去;及熱交換器,其藉由使前述排廢氣、及水或水蒸氣與前述分解氣體同時進行熱交換,將前述排廢氣、及水或水蒸 氣予以預熱,並且將前述分解氣體予以冷卻。
- 如申請專利範圍第7項之全氟化物的處理裝置,其中,前述熱交換器為將混合含有全氟化物的排廢氣及水或水蒸氣之混合氣體和因分解全氟化物所產生的分解氣體進行熱交換之熱交換器。
- 如申請專利範圍第7或8項之全氟化物的處理裝置,其中,前述酸性氣體除去裝置係具備有:鈣鹽排出器,其將與前述分解氣體所含的酸性氣體進行反應後的鈣鹽自前述酸性氣體除去裝置排出;及鈣鹽供給器,其用來供給鈣鹽。
- 如申請專利範圍第9項之全氟化物的處理裝置,其中,該處理裝置還包含:酸性氣體濃度檢測器,其檢測自前述酸性氣體除去裝置排出的分解氣體所含之酸性氣體的濃度;及控制裝置,其依據該酸性氣體濃度檢測器的測定濃度,控制前述鈣鹽排出器及前述鈣鹽供給器。
- 如申請專利範圍第9項之全氟化物的處理裝置,其中,該處理裝置還包含:溫度檢測器,其檢測填充於前述酸性氣體除去裝置之鈣鹽的溫度;及 控制裝置,其依據該溫度檢測器的測定溫度,控制前述鈣鹽排出器及前述鈣鹽供給器。
- 一種全氟化物的處理裝置,使用於申請專利範圍第1項之全氟化物的處理方法,其特徵為包含:2台以上的全氟化物分解裝置;鈣鹽槽,其對前述全氟化物分解裝置供給鈣鹽;鈣鹽供給裝置,其自鈣鹽槽將一定量的鈣鹽供給至全氟化物分解裝置;鈣鹽供給配管,其具備使用壓縮空氣將鈣鹽供給至2台以上的全氟化物分解裝置之鈣鹽供給切換機構;壓縮空氣供給裝置,其將壓縮空氣供給至鈣鹽供給配管,該壓縮空氣是用來將鈣鹽自前述鈣鹽供給裝置移送至全氟化物分解裝置;及控制裝置,其依據來自於全氟化物分解裝置的鈣鹽供給的訊號,控制鈣鹽供給裝置、鈣鹽供給切換機構及壓縮空氣供給裝置。
- 如申請專利範圍第12項之全氟化物的處理裝置,其中,前述全氟化物分解裝置係具有加熱器、觸媒層、熱交換器及酸性氣體除去裝置。
- 一種全氟化物的處理裝置,使用於申請專利範圍第1項之全氟化物的處理方法,其特徵為包含:2台以上的全氟化物分解裝置;鈣鹽回收槽,其用來回收自前述全氟化物分解裝置所 排出的鈣鹽;鈣鹽回收配管,其具備使用壓縮空氣,用來自2台以上的全氟化物分解裝置回收鈣鹽之鈣鹽回收切換機構;壓縮空氣供給裝置,其將壓縮空氣供給至鈣鹽排出槽及前述鈣鹽回收配管,該壓縮空氣是用來將鈣鹽自前述全氟化物分解裝置移送至鈣鹽回收槽;及控制裝置,其依據來自於全氟化物分解裝置的鈣鹽排出的訊號,控制鈣鹽回收切換機構及壓縮空氣供給裝置。
- 如申請專利範圍第14項之全氟化物的處理裝置,其中,前述全氟化物分解裝置係具有加熱裝置、觸媒層、熱交換器及酸性氣體除去裝置。
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