JP2006312121A

JP2006312121A - 過フッ化物処理方法および過フッ化物処理装置

Info

Publication number: JP2006312121A
Application number: JP2005135053A
Authority: JP
Inventors: Shin Tamada; 愼玉田; Takashi Sasaki; 崇佐々木; Kazuyoshi Irie; 一芳入江
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 2005-05-06
Filing date: 2005-05-06
Publication date: 2006-11-16

Abstract

【課題】ＰＦＣｓガスなどの分解処理により生成した高温で高濃度のフッ化水素などの酸性ガスを含む排ガスを処理する際に使用する水量を削減できる過フッ化物処理方法および過フッ化物処理装置を提供する。
【解決手段】処理対象の排ガスから固形分などを除去する入口スクラバ１００と、固形分などを除去された排ガスを加熱する第一加熱器３００と、第一加熱器に水分を供給する反応水蒸発器２００と、加熱された排ガスを更に加熱し触媒により分解する第二加熱器４００と、加熱分解された排ガスを外気と熱交換させ冷却する熱交換器５００と、冷却された排ガスから酸性ガスを除去するアルカリスクラバ６００と、酸性ガスを除去された処理済みガスを排気する排気装置１０００とからなる過フッ化物処理装置。
【選択図】図１

Description

本発明は、過フッ化物処理方法および過フッ化物処理装置に係り、特に、半導体や液晶製造工場から排出されるＰＦＣｓ(perfluorocompounds)をＰＦＣ分解装置で分解し、分解により発生する排ガス中の酸性ガス成分を効率良く冷却するとともに、排水量を最小とする過フッ化物処理方法とその装置に関する。

半導体または液晶製造工場などのエッチングやＣＶＤなどの工程では温暖化係数が大きなＰＦＣｓが使用されている。

ＰＦＣｓは、ＣＦ_４，Ｃ_２Ｆ_６，Ｃ_３Ｆ_８，ＣＨＦ_３，Ｃ_４Ｆ_８，ＳＦ_６，ＮＦ_３などのフッ素化合物の総称である。

これらのＰＦＣｓガスの処理方法としては、分解処理方法が広く用いられている。具体的なＰＦＣｓの分解処理方法としては、燃焼法，プラズマ法，触媒法などがある。現在は簡便なメンテナンス，低ランニングコスト，高ＰＦＣｓ分解率の面から、触媒法を用いたＰＦＣｓ分解方法の普及が広まっている。

しかし、いずれの処理方法でも、ＰＦＣｓ分解後に高濃度の腐食性酸性ガスであるフッ化水素(ＨＦ)が生成する。フッ化水素ガスの処理は、生成したフッ化水素ガスを湿式洗浄で除去する方式が主流である。

湿式洗浄方式の利点は、ＰＦＣｓ分解後の高温ガスの冷却処理と分解により生成したフッ化水素の除去とを同時にできることである。

一方、欠点は、多量の酸性水が生成されるので、酸性排水の処理施設が必要となることである。

フッ素を含有する排水は、放出排水中に含まれるフッ素の濃度に法規制があるので、排水中からフッ素をほぼ１００％分離し除去しなければならず、廃水処理設備は大規模になる。

また、排水中からフッ素をほぼ完全に除去するには、理論反応量の数倍の水酸化カルシウムを投入しなければならない。フッ素と反応して生成したフッ化カルシウムと過剰に投入した水酸化カルシウムとは、産業廃棄物となる。

半導体製造プロセスおよび液晶製造プロセスにおいて、ＰＦＣガスは、エッチングガス，エッチャのクリーニングガス，ＣＶＤ装置のクリーニングガスとして使用されている。
ＰＦＣガスは、温暖化係数がＣＯ_２の一万倍から数千倍と非常に大い。

半導体製造プロセスおよび液晶製造プロセスでは、ＰＦＣガスを全量は消費せず、２０％〜５０％を消費した後に、残りのＰＦＣガスを排ガスとしてエッチャまたはＣＶＤ装置から排出している。

地球温暖化防止のため、ＰＦＣガスの外部環境への放出を防止するように、ＰＦＣガスの分解処理が求められている。

外部環境へのＰＦＣガスの放出を抑制するために、半導体製造業界および液晶製造業界では、ＰＦＣガスを使用するエッチャ毎に、その近傍にＰＦＣ分解装置を設置し、触媒を用いてエッチャからの排ガス中のＰＦＣガスを分解処理することが知られている(例えば、特許文献１参照)。

本発明者らは、先に、高温分解処理後の排ガスを水スプレイにより冷却し、ＰＦＣガスの分解により生成したＨＦガスをすべて水スクラバにより除去する湿式ＰＦＣ分解装置と、ＰＦＣガスの分解により生成したＨＦガスをすべて乾式フィルタにより冷却／除去する乾式ＰＦＣ分解装置とを提案した(例えば、特許文献２参照)。

一方、ごみ焼却施設では、湿式洗浄方式に代えて、バグフィルタ方式により排ガスを処理している(例えば、特許文献３参照)。バグフィルタ方式では、排ガス経路にあるダクトなどに水酸化カルシウムや炭酸水素ナトリウムを供給し、中和反応によりＣａＣｌ_２，ＮａＣｌとしてハロゲンを固定化させ、酸性成分を除去している。

特許文献３の発明では、酸性成分を含む排ガスを処理する集塵手段(バグフィルタ)の上流側または下流側のいずれか一方または双方にレーザ式ガス分析計を設置し、レーザ式ガス分析計の測定結果に基づいて、酸性ガスを処理するために供給するアルカリ性薬剤の供給量を増減調節している。

特開平１１−３１９４８５号公報(第５〜６頁図１，図２) 特開２００３−３４０２３９号公報(第４〜１１頁図２〜図４，図６〜図９) 特開２００２−３６１０４０号公報(第３〜４頁図１，図２)

ＰＦＣガスは、極めた安定なガスであり、燃焼方式で分解するには、約１２００℃以上の高温で燃焼させなければならない。触媒方式で分解する場合も、約７５０℃まで加熱する必要がある。

その結果、分解処理後の排ガスは、高温で高濃度の酸性ガス(ＨＦなど)を含んだガスとなる。

この排ガスを冷却し酸性ガスを除去するには、一般に水を使用する。水の比熱が大きく、しかも、水の蒸発潜熱が大きいからである。処理対象ガスの温度が高く、含有ＨＦガスの濃度が高いほど、多量の水が必要になる。

半導体製造プロセスや液晶製造プロセスでは、極めて高い清浄度が求められ、工場全体としての水の消費量が増えている。

しかし、河川から取水可能な水資源は限られており、１工場に供給される工業用水には上限がある。また、最近では、廃棄物ゼロという社会ニーズの高まりから、排水発生量の削減が大きな課題となっている。

上記特許文献２のＰＦＣガスの分解により生成したＨＦガスをすべて水スクラバにより除去する湿式ＰＦＣ分解装置では、水資源の限界に近づいている。

一方、ＰＦＣガスの分解により生成したＨＦガスをすべて乾式フィルタにより冷却／除去する乾式ＰＦＣ分解装置では、ろ布の耐熱温度が３００℃なので、フィルタ装置の下部空間内に冷却空気を供給し、排ガスを冷却しているが、処理すべき排ガス量によっては、冷却能力が不足するおそれがある。

また、特許文献３の発明では、ガス分析の対象としている酸性ガスがごみ焼却施設から排出されるＨＣｌ，ＳＯｘなどのガスである。本発明の対象であるＰＦＣｓを分解して生成される排ガスは、高腐食性のフッ化水素なので、特許文献３の方法では、十分な除去効果が得られない。さらに、フッ化水素の腐食に耐えうる設備とはなっていなかった。

したがって、冷却しすぎて排ガスが凝縮すると、フッ化水素が配管などを腐食させる場合もあった。

本発明の課題は、ＰＦＣｓガスなどの分解処理により生成した高温で高濃度のフッ化水素などの酸性ガスを含む排ガスを処理する際に使用する水量を削減できる過フッ化物処理方法および過フッ化物処理装置を提供することである。

本発明は、上記課題を解決するために、高温で高濃度の酸性ガスを含んだ排ガスを冷却し酸性ガスを除去する際、冷却する工程と酸性ガスを除去する工程とを明確に分離し、冷却する工程において、加熱分解された排ガスを水で冷却する従来の方式に代え、加熱分解された排ガスを気体で冷却する方式を提案する。

本発明においては、加熱分解された排ガスを冷却する工程において、排ガスを気体で冷却するので、すべて水スクラバにより冷却除去する従来の湿式ＰＦＣ分解装置と比較して、工業用水の消費量が大幅に少なくなる。

また、冷却する工程と酸性ガスを除去する工程とを明確に分離した結果、前工程で十分に冷却できることから、ろ布の耐熱温度が３００℃の乾式フィルタでも、乾式フィルタ自体の冷却能力の不足や耐熱温度の懸念が無くなった。

本発明の処理対象ガスは、高温でかつ高濃度の酸性ガスを含んでいる。このガスを処理するに当たって、冷却処理と酸性ガス処理とを分け、それぞれに最適な処理方法を適用すれば、トータルシステムとして最適化できる。

例えば、ＰＦＣガスを５０００ｐｐｍ含有し３０００リットル／分の量でエッチャから排出される排ガスへの対応策を説明する。

このガスを７５０℃まで加熱してＰＦＣガスを分解処理すると、排出されるガスの性状は、ＨＦを２％含有する７５０℃のガスとなる。

反応水として３００ミリリットル／分の反応水を加えて加熱すると、必要なエネルギーは、約６０，０００ｋｃａｌ／時となる。

冷却水の温度上昇分Δｔを１５℃とし、冷却水を使用してこの熱量を冷却すると、冷却水の量は、約６７リットル／分となる。

一方、３０００リットル／分で２容積％のＨＦを含んでいるので、アルカリを用いて３重量％濃度までＨＦを吸収しようとすると、ＨＦを約５４ｇ／分だけ吸収する必要があり、アルカリ溶液は、約２リットル／分となる。

このガスをすべて湿式で処理するには、冷却のために約６７リットル／分もの冷却水が必要となる。

これに対して、前段で水を消費しない方法で冷却できれば、必要となる水量をアルカリ溶液の約２リットル／分とすることができる。

本発明は、処理対象ガスを冷却する手段と含有されている酸性ガスを除去する手段とを分けて、それぞれの処理手段において水の使用量を削減できる最適な方法を適用する。

ＰＦＣｓを分解すると、いずれの方法(触媒法，プラズマ法，燃焼法)でも、分解してフッ化水素ガスが生成する。

例えば、触媒法でＰＦＣｓを加水分解した場合の代表的な反応例を式(１)−(４)に示す。
ＣＦ_４＋２Ｈ_２Ｏ⇒４ＨＦ＋ＣＯ_２ …(１)
Ｃ_２Ｆ_６＋３Ｈ_２Ｏ⇒ＣＯ＋ＣＯ_２＋６ＨＦ …(２)
ＳＦ_６＋３Ｈ_２０⇒ＳＯ_３＋６ＨＦ …(３)
２ＮＦ_３＋３Ｈ_２Ｏ⇒ＮＯ＋ＮＯ_２＋６ＨＦ …(４)
発生する酸性ガス量は、処理ＰＦＣガス濃度の数倍の高濃度となる。

触媒式ＰＦＣ分解装置は、触媒を用いてＰＦＣｓガスを上述の(１)から(４)の反応により分解する装置である。この触媒式ＰＦＣ分解装置における分解温度は、約７５０度である。

これに対して、燃焼式ＰＦＣ分解装置は、燃料(天然ガス，ＬＰＧなど)の燃焼により高温下でＰＦＣｓを上記(１)から(４)の反応により分解する装置である。この燃焼式ＰＦＣ分解装置では、ＰＦＣｓの分解率を確保するには、約１２００度の高温で燃焼させる必要があり、燃焼排ガスなどを含めると多量の排ガスが発生する。

ＰＦＣｓガスは、エッチャやＣＶＤ装置からの排出の過程で、機器保護の観点から窒素ガスで希釈して排出される。

しかし、省資源の要請が高まり、希釈用窒素量は、削減される方向にある。

このような窒素ガスの削減は、排ガス量の削減，排ガス処理設備の小型化には有効であるものの、相対的にＰＦＣｓガスの濃度の上昇をもたらす傾向にある。一般的には、排ガス中のＰＦＣｓガスの濃度は、約０.１％から１.０％程度であるが、徐々に高濃度側に移行しつつある。

ＰＦＣｓガスは、ガス分子中に多量のハロゲン原子を有しており、分解により多量の酸性ガスが発生する。例えば１％濃度のＣＦ_４ガスを分解処理すると、高濃度４％のＨＦガスが発生する。

このように、ＰＦＣｓの分解により高温で高濃度の酸性ガスを含む排ガスが発生するので、この排ガスをいかに少ない水消費量で処理するかが重要な課題となる。

本発明の実施例においては、高温で高濃度の酸性ガスを含んだ排ガスを冷却し酸性ガスを除去する際、冷却する工程と酸性ガスを除去する工程とを明確に分離し、冷却する工程において、加熱分解された排ガスを水で冷却する従来の方式に代えて、加熱分解された排ガスを気体で冷却する方式を採用する。

図１は、本発明による過フッ化物処理装置の実施例１の系統構成を示すブロック図である。

本実施例１の過フッ化物処理装置は、処理対象の排ガスから固形分などを除去する入口スクラバ１００と、固形分などを除去された排ガスを加熱する第一加熱器３００と、第一加熱器３００に水分を供給する反応水蒸発器２００と、加熱された排ガスを更に加熱し触媒により分解する第二加熱器４００と、加熱分解された排ガスを外気と熱交換させ冷却する熱交換器５００と、冷却された排ガスから酸性ガスを除去するアルカリスクラバ６００と、酸性ガスを除去された処理済みガスを排気する排気装置１０００とからなる。

入口スクラバ１００で、スプレイ水１１０を散布し、処理対象ガス(過フッ化物)１２０から固形分などを除去する。固形分などを除去するために用いた水は、排水系１３０から排水される。

固形分などを除去された処理対象ガスは、配管１４０で反応用空気供給系１５０から空気を供給され、ヒータ３１０を備えた第一加熱器３００に送られる。

一方、反応水蒸発器２００は、反応水供給系２２０からの水をヒータ２１０により蒸発させ、配管２３０を介して、第一加熱器３００に蒸気を供給する。

第一加熱器３００は、ヒータ３１０により、処理対象ガスすなわちＰＦＣガスを例えば５００℃まで一次加熱し、第二加熱器４００に送る。

第二加熱器４００は、ヒータ４１０により、ＰＦＣガスを例えば７５０℃まで二次加熱し、触媒４２０を通過させ、分解させる。分解されたガスは、配管４３０を介して、熱交換器５００に送られる。

熱交換器５００は、冷却空気供給ブロワ５１０および冷却空気流量調節弁５２０で流量を調整された冷却空気により、分解されたガスを冷却し、ガス温度を７５０℃から３００℃まで下げる。熱交換器５００は、排熱を熱排気系５３０から大気に放出する。熱交換器５００は、配管５４０を介して、冷却したガスをアルカリスクラバに送る。

熱交換器５００では、ガス温度は、１００℃以上にすることが望ましい。１００℃以下にすると、含有されている反応水が凝縮して水滴となり、熱交換器や配管を腐食させるためである。

また、本実施例１の配管や熱交換器５００は、運転時の最高温度が７５０℃であるから、耐食金属製にする必要がある。熱交換器５００は、分解後のガスを冷却しすぎて１００℃以下にしないように、空冷式の方が望ましい。

アルカリスクラバ６００は、冷却されたガスから酸性ガスを除去し、配管６１０を介して、処理済みガスを排気装置１０００に送る。排気装置１０００は、処理済みガスを大気に放出する。

工業用アルカリスクラバは数十立方ｍ／分〜数百立方ｍ／分の能力を有しており、しかも、大きなコストアップとはならない。

本実施例１の場合、アルカリスクラバ６００の前段に熱交換器５００を配置し、二段に冷却する方式を採用してあるので、熱交換器５００とアルカリスクラバ６００との双方について、十分余裕をもった熱設計ができる。

また、加熱分解された排ガスを冷却する工程において、排ガスを気体で冷却するので、すべて水スクラバにより冷却除去する従来の湿式ＰＦＣ分解装置と比較して、工業用水の消費量が大幅に少なくなる。

図２は、本発明による過フッ化物処理装置の実施例２の系統構成を示すブロック図である。

本実施例２の過フッ化物処理装置は、処理対象の排ガスから固形分などを除去する入口スクラバ１００と、固形分などを除去された排ガスを加熱する第一加熱器３００と、第一加熱器３００に水分を供給する反応水蒸発器２００と、加熱された排ガスを更に加熱し触媒により分解する第二加熱器４００と、加熱分解された排ガスを外気と熱交換させ冷却する熱交換器５００と、冷却された排ガスから酸性ガスを除去する乾式バグフィルタ７００と、酸性ガスを除去された処理済みガスを排気する排気装置１０００とからなる。

本実施例２は、実施例１のアルカリスクラバ６００を乾式バグフィルタ７００で置き換えた構成になっている。

本実施例２においては、熱交換器５００により冷却する工程と乾式バグフィルタ７００により酸性ガスを除去する工程とを明確に分離した結果、前工程で十分に冷却できることから、ろ布の耐熱温度が３００℃の乾式フィルタでも、乾式フィルタ自体の冷却能力の不足や耐熱温度の懸念が無くなる。

図３は、本発明による過フッ化物処理装置の実施例３の系統構成を示すブロック図である。

本実施例３の過フッ化物処理装置は、処理対象の排ガスから固形分などを除去する入口スクラバ１００と、固形分などを除去された排ガスを加熱する第一加熱器３００と、第一加熱器３００に水分を供給する反応水蒸発器２００と、加熱された排ガスを更に加熱し触媒により分解する第二加熱器４００と、加熱分解された排ガスを外気と熱交換させ冷却する熱交換器５００と、冷却された排ガスから酸性ガスを除去する湿式スクラバ８００と、酸性ガスを除去された処理済みガスを排気する排気装置１０００とからなる。

本実施例２は、従来例の第二加熱器４００と湿式スクラバ８００との間に熱交換器５００を追加設置した構成になっている。したがって、既存設備の改良にも有効な実施例である。

湿式スクラバ８００は、配管１６０を介して入口スクラバ１００から送られてきた水をポンプ８３０および循環配管８４０で循環させて冷却に利用し、排水弁８５０からの排水を従来よりも削減する。

湿式スクラバ８００は、熱交換器５００で冷却されたガスから酸性ガスを除去し、出口スクラバ８１０および配管８２０を介して、処理済みガスを排気装置１０００に送る。排気装置１０００は、処理済みガスを大気に放出する。

本実施例３においては、熱交換器５００と湿式スクラバ８００とに冷却熱量を単純に１／２ずつ振り分ければ、冷却水の量は、従来と比較して半分で済むことになる。実際は、熱交換器５００による冷却熱量の比率を更に高めることができるので、湿式スクラバ８００の冷却水の量を更に削減できる。

図４は、本発明による過フッ化物処理装置の実施例４の系統構成を示すブロック図である。

本実施例４の過フッ化物処理装置は、処理対象の排ガスから固形分などを除去する入口スクラバ１００と、固形分などを除去された排ガスを加熱する第一加熱器３００と、第一加熱器３００に水分を供給する反応水蒸発器２００と、加熱された排ガスを更に加熱し触媒により分解する第二加熱器４００と、加熱分解された排ガスを空気希釈により冷却する混合冷却器９００と、希釈冷却された排ガスから酸性ガスを除去するアルカリスクラバ６００と、酸性ガスを除去された処理済みガスを排気する排気装置１０００とからなる。

本実施例４は、実施例１の熱交換器５００を混合冷却器９００で置き換えた構成になっている。

混合冷却器９００は、供給流量調節弁９１０を介して導入した空気により、分解処理後のガスを混合希釈して冷却する。冷却されたガスは、アルカリスクラバに供給されて酸性ガスを除去して排気される。

２０℃の空気を用いて７５０℃のガスを１００℃以下に冷却するには、約３０,０００リットル／分の空気が必要となる。アルカリスクラバ６００単独の場合は、ガス流量は、希釈冷却しない場合に比べて約１０倍となる。

しかし、工業用アルカリスクラバは数十立方ｍ／分〜数百立方ｍ／分の能力を有しており、大きなコストアップとはならない。

冷却用の希釈空気量は、排気装置１０００により系内が負圧に維持されているので、供給流量調整弁９１０の開度により調整される。

この場合は、混合冷却器９００および混合冷却器９００からアルカリスクラバ６００までの配管９２０は、１００℃以下に冷却された場合、含有する反応水が凝縮するので、耐熱性と併せて十分な耐食性を確保する必要がある。

図５は、本発明による過フッ化物処理装置の実施例５の系統構成を示すブロック図である。

本実施例５の過フッ化物処理装置は、処理対象の排ガスから固形分などを除去する入口スクラバ１００と、固形分などを除去された排ガスを加熱する第一加熱器３００と、第一加熱器３００に水分を供給する反応水蒸発器２００と、加熱された排ガスを更に加熱し触媒により分解する第二加熱器４００と、加熱分解された排ガスを空気希釈により冷却する混合冷却器９００と、希釈冷却された排ガスから酸性ガスを除去する湿式スクラバ８００と、酸性ガスを除去された処理済みガスを排気する排気装置１０００とからなる。

本実施例５は、実施例３の熱交換器５００を混合冷却器９００で置き換えた構成になっている。したがって、既存設備の改良にも有効な実施例である。

本実施例３においては、混合冷却器９００と湿式スクラバ８００とに冷却熱量を単純に１／２ずつ振り分ければ、冷却水の量は、従来と比較して半分で済むことになる。

なお、実施例２の熱交換器５００を混合冷却器９００で置き換え、混合冷却器９００と乾式バグフィルタ７００とを組み合わせる構成も一応考えられる。

しかし、混合冷却器９００と乾式バグフィルタ７００とを組み合わせる構成は、混合冷却器９００の能力によっては、ＰＦＣガスの分解により生成したＨＦガスをすべて乾式フィルタにより冷却／除去する特許文献２の乾式ＰＦＣ分解装置に近くなるので、本発明の実施例とするには適当でない。

本発明による過フッ化物処理装置の実施例１の系統構成を示すブロック図である。本発明による過フッ化物処理装置の実施例２の系統構成を示すブロック図である。本発明による過フッ化物処理装置の実施例３の系統構成を示すブロック図である。本発明による過フッ化物処理装置の実施例４の系統構成を示すブロック図である。本発明による過フッ化物処理装置の実施例５の系統構成を示すブロック図である。

符号の説明

１００入口スクラバ
１１０スプレイ水
１２０処理対象ガス(過フッ化物)
１３０排水系
１４０配管
１５０反応用空気供給系
２００反応水蒸発器
２１０ヒータ
２２０反応水供給系
２３０配管
３００第一加熱器
３１０ヒータ
４００第二加熱器
４１０ヒータ
４２０触媒
４３０配管
５００熱交換器
５１０冷却空気供給ブロワ
５２０冷却空気流量調節弁
５３０熱排気系
５４０配管
６００アルカリスクラバ
６１０配管
７００乾式バグフィルタ
７１０配管
８００湿式スクラバ
８１０出口スクラバ
８２０配管
８３０ポンプ
８４０循環配管
８５０排水弁
９００混合冷却器
９１０供給流量調節弁
９２０配管
１０００排気装置

Claims

過フッ化物を含む排ガスに水分を添加して加熱分解し、分解された排ガスから酸性ガスを除去する過フッ化物処理方法において、
加熱分解された排ガスを気体により冷却し、
冷却された排ガスから酸性ガスを除去することを特徴とする過フッ化物処理方法。
請求項１に記載の過フッ化物処理方法において、
前記過フッ化物を含む排ガスが、半導体製造装置の排ガスであることを特徴とする過フッ化物処理装置。
請求項１に記載の過フッ化物処理方法において、
前記過フッ化物を含む排ガスが、液晶表示パネル製造システムの排ガスであることを特徴とする過フッ化物処理装置。
過フッ化物を含む排ガスに水分を添加して加熱分解し、分解された排ガスから酸性ガスを除去する過フッ化物処理方法において、
加熱分解された排ガスを外気との熱交換により冷却し、
冷却された排ガスから酸性ガスを除去することを特徴とする過フッ化物処理方法。
過フッ化物を含む排ガスに水分を添加して加熱分解し、分解された排ガスから酸性ガスを除去する過フッ化物処理方法において、
加熱分解された排ガスを空気希釈により冷却し、
希釈冷却された排ガスから酸性ガスを除去することを特徴とする過フッ化物処理方法。
処理対象の排ガスから固形分などを除去する入口スクラバと、
固形分などを除去された排ガスを加熱する第一加熱器と、
前記第一加熱器に水分を供給する反応水蒸発器と、
加熱された排ガスを更に加熱し触媒により分解する第二加熱器と、
加熱分解された排ガスを外気と熱交換させ冷却する熱交換器と、
冷却された排ガスから酸性ガスを除去するアルカリスクラバと、
酸性ガスを除去された処理済みガスを排気する排気装置とからなる過フッ化物処理装置。
処理対象の排ガスから固形分などを除去する入口スクラバと、
固形分などを除去された排ガスを加熱する第一加熱器と、
前記第一加熱器に水分を供給する反応水蒸発器と、
加熱された排ガスを更に加熱し触媒により分解する第二加熱器と、
加熱分解された排ガスを外気と熱交換させ冷却する熱交換器と、
冷却された排ガスから酸性ガスを除去する乾式バグフィルタと、
酸性ガスを除去された処理済みガスを排気する排気装置とからなる過フッ化物処理装置。
処理対象の排ガスから固形分などを除去する入口スクラバと、
固形分などを除去された排ガスを加熱する第一加熱器と、
前記第一加熱器に水分を供給する反応水蒸発器と、
加熱された排ガスを更に加熱し触媒により分解する第二加熱器と、
加熱分解された排ガスを外気と熱交換させ冷却する熱交換器と、
冷却された排ガスから酸性ガスを除去する湿式スクラバと、
酸性ガスを除去された処理済みガスを排気する排気装置とからなる過フッ化物処理装置。
処理対象の排ガスから固形分などを除去する入口スクラバと、
固形分などを除去された排ガスを加熱する第一加熱器と、
前記第一加熱器に水分を供給する反応水蒸発器と、
加熱された排ガスを更に加熱し触媒により分解する第二加熱器と、
加熱分解された排ガスを空気希釈により冷却する混合冷却器と、
希釈冷却された排ガスから酸性ガスを除去するアルカリスクラバと、
酸性ガスを除去された処理済みガスを排気する排気装置とからなる過フッ化物処理装置。
処理対象の排ガスから固形分などを除去する入口スクラバと、
固形分などを除去された排ガスを加熱する第一加熱器と、
前記第一加熱器に水分を供給する反応水蒸発器と、
加熱された排ガスを更に加熱し触媒により分解する第二加熱器と、
加熱分解された排ガスを空気希釈により冷却する混合冷却器と、
希釈冷却された排ガスから酸性ガスを除去する湿式スクラバと、
酸性ガスを除去された処理済みガスを排気する排気装置とからなる過フッ化物処理装置。