TWI531446B - 噴砂方法及具有研磨料回收系統的設備、薄膜太陽能電池板的加工處理方法及以此方法加工處理的薄膜太陽能電池板 - Google Patents
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Description
本發明是相關於一種噴砂方法以及設有用於噴砂製程所使用之研磨料回收系統的裝置，且更特別的是本發明關於一種包括有研磨料回收方法的噴砂方法，所述研磨料係特別是細顆粒研磨料，如同一種在噴砂方法中回收研磨料的系統以及在此種製程中使用的噴砂裝置，該噴砂裝置設有一種執行該方法的研磨料回收系統，一種根據所述加工處理方法之薄膜太陽能電池面板的加工處理方法，以及一種由該方法所加工處理的薄膜太陽能電池面板。
更詳細地說，本發明是相關於一種噴砂方法以及一種噴砂處理裝置(在下文中，稱為“噴砂裝置”)，其係能夠防止細小的研磨料(在下文中，稱為“研磨料”)以及包括有藉著噴砂製程而被壓碎的研磨料的切削廢料附著於要被加工處理的物品(在下文中，稱為“工件”)，所述物品較佳地是適用於一種所謂的噴砂使用的研磨料，以及一種根據所述加工處理方法的薄膜太陽能電池面板。
此外，本發明的發明人係專注於尚未被建議、嘗試、實驗或例示的能夠運用於用於薄膜太陽能電池面板的劃線方法之中的噴砂製程。更詳細地說，在本發明之中，所欲者為提供一種包括在沒有任何遮罩(一個固定在一表面上用以防止該預定表面的一部分被加工處理的蓋子)的情況下之細小研磨料以及切削廢料回收步驟的噴砂方法，以及一種在藉著一個噴砂裝置進行的噴砂製程之後之工件的清除處理方法，其中該噴砂裝置設有一個較佳地是使用於這個回收的研磨料回收系統；一種薄膜太陽能電池面板的加工方法；以及由該方法而被加工處理的薄膜太陽能電池面板。
在本發明之中，細小研磨料的一項觀念是包括有粗顆粒以及細顆粒。在JISR6001之中，界定出粗顆粒的顆粒尺寸分佈，並且可以使用高達顆粒尺寸F60(在JIS之中如此表示)的顆粒尺寸分佈。F60的典型顆粒尺寸為230μm，然而，在下文之中，細顆粒是表示#400或更大的顆粒的意思，或是具有平均顆粒直徑30μm或更小的顆粒的意思。
如同工件的加工處理的實施例，係有實驗性地有關於一種傳統上使用的重力類型的噴砂裝置60，並且將參照圖7來描述該噴砂裝置60。該噴砂裝置設有一個機殼61，在該機殼內側中形成有一個處理容室，用於藉著將一個具有注射噴嘴的噴砂槍62配置在機殼之內來加工處理透過一個載入接口63的中介而被承載在該機殼61之中的工件(未顯示於圖中)。
一般來說，在噴砂裝置中之研磨料的回收循環係以下文所述的方式建構。也就是說，機殼61的一個下方部位係形成為倒轉的三角錐形狀，一個送料斗68則形成在該下方部位處，並且該送料斗68的最低端部係透過一個導管65的中介而與一個用於回收研磨料之回收槽70的上方部位相連通，該回收槽係安裝在機殼61的上方部位處。
此外，上文所提到的回收槽70是一個所謂的用於將切削廢料從研磨料分開的旋風器。如果導管65的一個前導端部係透過一個連通管件75的中介而被連接到回收槽70的一個流入通口73，且回收槽70的內側係透過一個連接管件74以及一個排放管件67的中介而由一個設有一個排風機的集塵器(未顯示於圖中)加以吸取，在機殼之內的研磨料以及切削廢料已經與空氣氣流一起透過連通管件75的中介被轉移到回收槽70之中，切削廢料係在沿著回收槽70的內壁轉動的同時落下的時候被集塵器所回收，並且可以再使用的研磨料係被收集在回收槽70的一個底部部位之中並且以壓饋送到具有一個注射噴嘴的噴砂槍62透過一個研磨料饋入管件64的中介。
如以上所提及的，可以重複使用的研磨料可以藉著噴砂槍的注射噴嘴與因為需要而新填入的研磨料一起被注入。
在此之後，重複進行上文所提到的回收循環。
如上文提到的，在傳統式噴砂裝置之中，被注入處理容室之內的研磨料係藉著集塵器所產生的負壓被饋送到回收槽70，然後被回收。然而，在使用具有小顆粒直徑的細小顆粒的情況中，由於與一般的研磨料相較之下，每個細小研磨料的表面積相對於其重量是較大的，細小研磨料具有一種傾向於緊密地接附或凝集於工件或類似者的性質。據此，一旦細小研磨料黏附於工件以及處理容室的內壁，即便是處理容室的內側係由負壓或吹氣的空氣抽吸或是類似者係應用到工件，細小研磨料也是難以去除的。
據此，藉著此種細小研磨料而被運用以噴砂作用的工件在噴砂作用之後需要一個藉著用清洗的水將該工件加以清潔來去除黏附於其表面的細小研磨料之步驟。
如上文提到的，在使用細小研磨料的噴砂之中，考慮到一旦細小研磨料黏附於工件或類似者要將研磨料移除是很困難的事實，已經提出的是在細小研磨料黏附於工件或其他地方之前回收該細小研磨料。
如同此種結構的一項實施例，在如圖8所示的噴砂裝置80之中，已經提出的是一個處理導管81的一個端部設有一個具有注入研磨料之注射噴嘴的噴砂槍91，該處理導管81的另一個端部與一個藉著負壓抽吸研磨料的抽吸導管83相連通，該處理導管81設有一個在研磨料注入流的前側中的噴砂容室82，該噴砂容室82的側壁設有一個在大約正交於該研磨料注入流的方向中插入一個工件W的插入通口84，以及一個當做用於抽吸周遭空氣之引入間隙的引入通口85係形成於插入通口84的一個內部周圍與工件W的一個外部周圍之間，藉以被注入到噴砂容室中之工件的細小研磨料係立刻從抽吸導管處被抽吸，以及防止研磨料藉著從引入間隙被抽吸的周遭空氣所產生之吹送的空氣散佈到處理容室(參見日本專利LOPI第H09-300220號)。
在這種情況中，由於使用細小研磨料的噴砂作用能夠以高精確度來實現，可以預見的是其係在各種領域之中使用。舉例來說，可以考慮一種應用領域，其係用於取代目前在薄膜太陽能電池面板的製造步驟中實現之劃線作用(槽蝕作用)中所利用的雷射加工處理。
在這種情況中，在薄膜太陽能電池面板的製造步驟中所實施的劃線作用目前大體上是以雷射來實施的，然而，如圖9A以及圖9B所示，在一個玻璃基材上形成對於薄膜太陽能電池是必須之像是背面電極、光線吸收層體、射極、透明電極以及類似者的薄膜層體之後，其在接附個玻璃蓋子之前係需要用於從在數毫米到數十毫米之內的寬度範圍內的玻璃基材處以及在一個數毫米中的周邊邊緣部位移除一個薄膜層的步驟。因此，即使是在接附玻璃蓋子之後將以鋁或類似者製做的一個金屬框架接附到周邊邊緣部位，也有可能的是藉著移除在如上文提到的周邊邊緣部位處的薄膜層體來防止介於金屬框架與周邊邊緣之間發生短路。
在這種情況中，在薄膜太陽能電池面板的製造步驟中藉著雷射來實施的劃線也在劃分薄膜太陽能電池面板的情況中實施於每個太陽能電池以及上文所提到的實施例中。
上文提到的雷射處理裝置是很昂貴的，一開始需要很多投資，並且因為在大體上針對這種工作中使用的氮氣雷射中係會消耗氮氣，運轉成本係相對較高。
據此，如果上文提到的劃線能夠藉著與雷射裝置相較下不昂貴的噴砂裝置以及一種可以相對地壓低運轉成本之被稱為噴砂的方法來實施的話，在市場中成本競爭的能力中是有利的。
然而，在上文所提到的劃線係藉著使用使用細小研磨料來實施的情況之中，由於注入的研磨料係黏附於工件，移除如上文提到的黏附的研磨料是必要的；然而，如上文提到的，細小的研磨料一旦黏附於工件係難以將其移除，並且無法藉著集塵器或是將吹動的空氣應用到工件的作用來抽吸處理容室而輕易地被移除。
據此，如果將要移除如上文提到之黏附於工件的細小研磨料的話，係必須在噴砂之後用水或類似者清洗工件；然而，在工件為上文所提到的薄膜太陽能電池的情況中，用清洗的水來清洗該工件係不可能的，且沒有有效的手段來移除黏附於該工件的細小研磨料。
此外，在藉著噴砂裝置來實施切削的情況中，如圖10所示，由於藉著一個噴砂槍的注射洞孔而注射的研磨料係打擊在工件上，並且與饋入研磨料的空氣氣流一起沿著工件的一個表面擴散到所有的方向，像是360度，該工件不只會在研磨料所打擊到的一個表面上被切削，而且也會在周圍中被切削。
據此，如果上文提到的劃線將會藉著噴殺來實施的話，所必需的是藉著將遮罩材料黏著於一個非切削部位的表面上來事先地保護該表面，而使得要留下不被移除的表面能夠不受到切削。
然而，在上文所提及的薄膜太陽能電池面板係當做工件使用的情況中，形成在玻璃基材上的每個層體係比較脆，並且由於當薄膜層體在加工處理之後被黏附或脫除時，在黏著以及脫除遮罩材料的時候的衝擊，而有薄膜層體會從玻璃基材處脫除的風險。
如上文提到的，在使用細小研磨料的噴砂之中，由於研磨料係穩固地黏黏附於工件而難以被移除，並且必須黏著用於界定切削範圍的遮罩材料，噴砂作用不能夠被應用於無法清洗也不能被遮罩材料所黏著的工件，像是薄膜太陽能電池面板，即便其在與藉著雷射來進行劃線相比較成本方面較為優良也是如此。
在這種情況中，在上文所提及的文件‘300220中提出的裝置之中，所欲者為在細小研磨料附著於工件之前回收該研磨料；然而，在如圖8所示之結構的基礎上，此處可以運用的工件係被限制在圓柱形形狀的工件或直線的工件，並且不能被應用於例如是垂直地將處理容室分成二個的如同板件的二維工件。
此外，在上文所提及的文件‘300220中所描述的結構之中，如果是要形成一個具有相對於工件的固定寬度之凹槽的話，黏著遮罩材料是很重要的，並且在這個方面針對薄膜太陽能電池面板的劃線來使用是不可能的。
在這種情況中，在本說明書之中，將會藉著將形成為如同板件的二維形狀之薄膜太陽能電池面板當做該工件的一個實施例來進行描述，然而，甚至在不是能夠以清洗的水來清洗也不能夠被遮罩材料所黏住的各種材料而沒有限制於此等材料所製做成的工件之中，會產生以上提到的相同問題。
此外，即便是在可以被清洗且可以被遮罩材料所黏著的工件之中，就有可能省去清洗以及遮罩的黏著而言，有一項優點是增進了生產率並且可以降低運作的成本。
如前文所述，有一項嚴重的瑕疵是研磨料或類似者可能無法被脫除，且藉著之後的吹動而消失，並且一旦該研磨料或類似者附著於上文提及之相關技術中的工件W之要被加工處理的表面，係需要水來清洗。
據此，本發明的一項目的是要提供一種噴砂方法以及一種包括有一個研磨料回收系統的噴砂裝置來克服以上缺點，即使在使用細小研磨料的情況中，該研磨料回收系統能夠在研磨料或類似者附著於工件之前容易地回收該研磨料或類似者，據此可以使得用於在噴砂之後移除細小研磨料之(水)的清洗或類似者的步驟成為不需要的，而不會產生細小研磨料的附著情況，並且可以在固定的切削寬度下實施開槽或類似者，而不需要將遮罩材料黏著於相對移動的工件。
在以下的概括說明之中，為了要容易地閱讀本發明係參照以元件參考符號表示的實例，然而，這些元件參考符號並不是要限制本發明的實例。
本發明可以更加有效地使用於以預定寬度將切削加工實施於特別是形成為如同板件之二維形狀之工件的情況之中，但沒有限制於該情形，並且本發明可以被用來取代各種蝕刻以及加工處理所使用的雷射，舉例來說，將薄膜太陽能電池面板加以劃線，薄膜太陽能電池面板的劃線傳統上是以雷射來實施的，這是因為其並不需要實施用於限制切削範圍之黏著遮罩材料的步驟、藉著一種清洗液體的作用來進行清洗，用於移除附著的細小研磨料或類似者。
本發明的基本結構、操作以及效果從以下的描述將會很明白。
為了要達成上文提到的目的，在根據本發明的第一項觀點之中，一種包括有在噴砂中的一個研磨料回收系統之加工處理方法的特徵在於，透過一個與在一個要被加工處理之一個工件W上的空間相連通的抽吸裝置21a及/或21b的中介來對該空間加以抽吸，以使得該空間是如同一個負壓空間20；在一個大氣中相對於一個噴砂槍30的一個注射洞孔31相對地移動該工件(在以T標記的一個移動方向中)，該噴砂槍30係配置在該負壓空間之內而面對於該工件之一個要被加工處理的表面，該工件係以一個預定距離相對於彼此而設置；將一種壓縮氣體以及一種研磨料的混合流體從一個開口22處注射於該工件要被加工處理的表面，其中一個縱向方向係定位在與該工件在負壓空間之中的移動方向相同的方向之中，且前述的開口22係形成在該負壓空間之中且面對著該工件的至少一個側邊邊緣；以及透過該抽吸裝置的中介來抽吸以及回收一種切削廢料以及該研磨料。
此外，在該方法之中，較佳的是在要受到加工處理之工件W下方的一個空間係透過一個相對抽吸裝置41的中介，而在面對於相對於負壓空間之工件W要受到加工處理之表面的相對側邊處被抽吸，而該抽吸裝置41係與該空間相連通，以使得該空間係成為一個對面的負壓空間40，且透過對面的負壓空間40之抽吸裝置41的中介，切削廢料以及研磨料係從該負壓空間及/或該對面的負壓空間而從在對面的負壓空間及/或負壓空間的開口22以及42中之沒有被工件蓋住的回收開口22’以及42’處被抽吸以及回收。
根據上文提到的結構，有可能的是當細小研磨料在附著於工件W之前而處於漂浮狀態中的時候，藉著在負壓之下的負壓空間20及/或對面的負壓空間40之中實施而安全地回收細小研磨料。結果，已經以傳統的方是藉著清洗水的作用而被移除之細小研磨料的移除工作係變成是多餘的，且即便要被以及加工處理的工件具有如同無法在其上薄實施清洗作用的膜太陽能電池面板或類似者之性質，使用如此的工件當做使用細小研磨料之噴砂作用的對象是可能的。
此外，該負壓空間20以及對面負壓空間40二者的內側係被抽吸，接著由在負壓空間20之內的抽吸而導致之被應用到工件W的抽吸作用力，係藉著由在對面的負壓空間40之內之抽吸所產生之被應用到工件W的抽吸作用力而受到壓制，藉此該工件W可以平順地相對移動。
此外，即便該工件W並不是配置在二個負壓空間20以及40之間的情況中，有可能的是較佳地透過對面負壓空間40之中介藉著抽吸來回收被注射的細小研磨料。
較佳地，噴砂槍30之具有長形矩形剖面形狀的注射洞孔31係接近該工件，在該工件的一個方向之中，注射洞孔31的縱向方向係正交於工件的相對移動方向，並且大約垂直於該工件，從而壓縮氣體以及研磨料的混合流體係根據注射洞孔31的剖面形狀以一種長形的矩形形狀被注射，並且該負壓空間20係透過負壓空間20之抽吸裝置21a以及21b的中介而在開口寬度W0的一個方向中從注射洞孔31的二個側邊被抽吸。
根據上文提到的結構，可能的是創造出被注射之研磨料的擴散方向且在注射洞孔31之開口寬度W0的方向之中衝擊在該工件W上，及有可能的是以對應於注射洞孔31開口長度L0的切削寬度來處理工件W而不會黏著遮罩材料。此外，防止細小研磨料附著於工件W的表面是有可能的。
根據上文提到的結構，在噴砂槍30之當做注射噴嘴的注射洞孔31係被形成為長形矩形形狀的結構之中，進一步可能的是達成該工件W在注射洞孔31之開口寬度W0的方向之中相對於注射洞孔31的相對運動。
根據上文提到的結構，有可能的使用細小研磨料來將噴砂作用施行於甚至是無法黏著遮罩材料的工件，並且在將噴砂作用施行於其他工件的情況下，達成在黏著及清洗遮罩材料中所耗費之勞力及材料的減少是有可能的。
此外，藉著將工件W的相對移動方向T以及注射洞孔31之開口寬度W0的方向加以對準，有可能的是在沒有使用遮罩材料的情況下以高度精確的處理寬度將噴砂作用施行於工件W。
此外，藉著將噴砂槍30注射洞孔31的開口寬度W0設定於0.1mm到100mm的範圍之內、較佳的是在0.1mm到30mm的範圍之內，有可能的是在被注射出來的研磨料衝擊於工件W上之後，安全地防止該被注射出來的研磨料在注射洞孔31之開口長度L0的方向之中擴散，藉以有可能的是精確地控制工件W的切削寬度。
此外，較佳的是抽吸裝置21a以及21b相對於工件W要被加工處理的表面的軸向方向係被設定於在10度到80度之內的傾斜角度θ。
根據上文提到的結構，藉著抽吸負壓空間20的內側來更加有效率地回收細小研磨料是有可能的。
此外，在噴砂方法之中，一個整流板件24可以設在負壓空間20的開口22之內而位於注射洞孔31的二個側邊處，使得藉著側邊對側邊地設在前述負壓空間之一個開口之內而在前述注射洞孔的二個側邊中的整流板件，一個寬度方向可以在一個方向中被偏向，用以設定與前述工件的前述表面的一段距離，且所述板件係傾斜的，用以將與前述工件相距的距離設定成與在其寬度方向中與前述注射洞孔相距一樣遠。
有可能的是藉著整流板件24使得沿著工件W的表面流動之研磨料的流動轉向到移動遠離工件W表面的方向，藉此係有可能藉著抽吸裝置21a以及21b增進回收效率，以便於進一步安全地防止細小研磨料附著於工件W。
此外，用於達成上文提到方法之一個設有當做根據本發明之研磨料回收系統之回收系統的噴砂裝置包含有：一個對面空間，其係被界定成以要被加工處理工件之可容許的運動間隔所隔開；以及一個在該空間之內的噴砂槍30，該噴砂槍30具有一個面對於前述工件要被加工處理之表面的注射洞孔31，且該注射洞孔31係被設在一個距離前述工件要被加工處理之表面的預定距離處；其中該工件係被提供，以被例如是一個攜載機構所轉移，以及相對於注射洞孔進行相對移動；該空間具有一個開口22以及抽吸裝置21a，21b，該開口係形成為舉例來說是矩形形狀，且被定位成使得其一個縱向方向為與該工件的移動方向是相同的方向且面對於前述工件的至少一個側邊邊緣；以及該抽吸裝置的一個端部係與該空間相連通，且該抽吸裝置的另一個端部係與一個例如是集塵器的抽吸機構相連通，且前述的抽吸裝置係吸抽該空間來使該空間成為一個負壓空間，藉此切削廢料以及研磨料可以被前述抽吸裝置從前述的負壓空間20被抽吸及回收。
在具有上述結構的噴砂裝置之中，一個具有一個對面的抽吸裝置41以及一個開口42的對面負壓空間40可以被設在一個對於要被加工處理之工件表面的對面側邊上，以便於以工件之可容許的運動間隔面對著負壓空間20以及開口22，藉以係有可能藉著相對的抽吸裝置從負壓空間及/或對面的負壓空間吸抽以及回收切削廢料以及研磨料。
此外，藉著在當做要被加工處理之對象的玻璃基材上利用一個具有薄膜層的薄膜太陽能電池面板，像是背面電極、光線吸收層體、發射體、透明電極以及對於薄膜太陽能電池來說是必須的類似者，並且從負壓空間或對面的負壓空間吸抽及回收薄膜層體以及從玻璃基材被切削掉以及移除的研磨料，有可能的是利用本發明的方法來取代一開始需要龐大投資以及昂貴運作成本的傳統式雷射加工處理。即使是在薄膜太陽能電池面板被分成每個電池單元的情況下，有可能的是利用本發明的方法來取代傳統式雷射加工處理。
接下來，將要參照隨附圖式來描述根據本發明的實例。
研磨料回收系統
用於噴砂之根據本發明研磨料回收系統(在以下的實例之中係簡單地稱為“回收系統”)的一項實例係說明於圖1到圖6之中。
如圖所示，根據本發明的回收系統10係設有例如是一個負壓空間20、一個噴砂槍30以及抽吸裝置21a以及21b，該負壓空間20係相對於一個板件狀二維工件W的一個要被加供處理的表面彼此以一個預定距離設置，在該噴砂槍30之中，一個注射洞孔31係配置在該負壓空間20之內，且所述抽吸裝置21a以及21b(在下文中，在表示二者的情況下簡單地稱為“抽吸裝置21”)係抽吸負壓空間20的內側。
在所說明的實例之中，除了負壓空間20a以及20b之外，可以設有一個對面的負壓空間40，其係面對於工件W要被加工處理的表面的一個對面表面(以下稱為“背面”)，而該對面的負壓空間係與該工件設在相對於彼此的一個預定距離處，對面的負壓空間40可以透過工件W的中介而面對於負壓空間20，並且可以設有對於對面負壓空間40的內側加以抽吸的一個對面抽吸裝置41。然而，可以省略對面的負壓空間40來建構出回收系統10。
負壓空間20
上文提到的負壓空間20面對於板件狀二維工件(下文係簡單地稱為“工件”)要被加工處理的表面，而該對面的負壓空間係與該工件設在相對於彼此的一個預定距離處，該負壓空間20係以一種面對的方式配置，而能夠蓋住在所說明的實例之中水平配置工件W的一個頂面，且在工件W的一個對面表面上，一個縱向方向係定位在與負壓空間之工件的移動方向相同的方向之中。該負壓空間20設有一個矩形開口22，但是這並不是限制性的。
在所說明的實例之中，該負壓空間20係形成為個矩形形狀而具有長度Lmc方向(縱向方向)以及寬度Wmc方向，在平面視圖之中，該長度Lmc方向係在要受到加工處理的工件W的一個移動方向T之中，而該寬度Wmc方向則在與如圖1所示的移動方向T成正交的方向之中。該負壓空間20包括有在其底面處的開口22，且該開口22具有一個尺寸，其中一個壁部厚度係從長度Lmc以及寬度Wmc減少。在回收系統10的前視圖之中，亦即該系統顯示於圖1之中的水平剖面中，該負壓空間20係形成為箱型形狀，其中其梯形形狀的底部係開放的。
在所說明的實例之中，於如上文提到的前視圖之中，負壓空間20的形狀係形成為梯形形狀的，然而，取代如使的形狀，舉例來說，負壓空間的前方正面形狀可以形成為向上擴大的半圓形形狀，且負壓空間20的形狀並不限制於所說明的實例。
設在負壓空間20之底部部位處的開口22可以設有一個凸緣形狀的壓板(上方壓板)23，其係從一個開口邊緣(在圖1所示的實例之中，在縱向方向之中除了一側之外的三個側邊)處在一個外部周圍方向之中突伸，並且在上方壓板23的一個厚度之內可以確保一個用於配置一個下文所提及之整流板件24的空間。
在所說明的實例之中，上文提到的壓板(上方壓板)23藉著接附一個設有一個矩形開口之適當尺寸的板件而形成，所述矩形開口的尺寸係與主要主體之底面的尺寸相同，所述主要主體包含有形成為梯形形狀的固持構件12。並且在這種結構之中，形成在壓板23之中的係開口係對準負壓空間20之中的開口22。
可以根據要被加工處理之工件W的尺寸、應用於該工件之切削加工的寬度、以及工件W的加工位置(舉例來說，沿著矩形板件之板件狀二維工件W之端部部位的一個側邊所進行的切削加工、或是應用於一個中心部位的切削加工處理、或類似者)，將負壓空間20的尺寸改變成各種尺寸；然而，在負壓空間20的尺寸係過度放大的情況之中，在負壓空間20之內增加抽吸速度，用於回收飄浮在該負壓空間20之中的細小研磨料是必須的，據此係需要一個大尺寸的抽吸機構。因此，此種結構並不經濟。
如同一個實施例，在所說明的實例之中負壓空間20的尺寸係設定成，使得在平面視圖中矩形部位的寬度Wmc為80mm，且長度Lmc為200mm，並且在前視圖之中，梯形部位包括有壓板(上方壓板)厚度的高度Hmc為109mm。
在這種情況中，如圖1所示，該整流板件24係設在負壓空間20的開口22之內，較佳地是在噴砂槍30之注射洞孔31的二個側邊之中。在噴砂槍30的注射洞孔31係形成為如於下文中提及之長形矩形形狀的情況之中，整流板件24在注射洞孔31之開口寬度W0的方向之中係設在注射洞孔31的二個側邊之中(參見圖1以及2)、在注射洞孔31的開口長度L0方向之中具有一個長度方向、並且是傾斜的，用以使得與前述工件的距離與在其寬度方向之中距離前述注射洞孔31一樣遠。
在圖1所示的實例之中，六(6)個整流板件24係設在注射洞孔31的一個側邊之中，據此總共有十二(12)個整流板件24係設在二個側邊之中，並且係平行地配置，使得在寬度方向之中的傾斜角度變成是固定的。
如上文提到所設置的整流板件24係容許在從噴砂槍30的注射洞孔31被注射出來之後接著衝擊於工件W的表面之後，將要沿著工件W表面移動的研磨料流動可以向上偏向，接著與工件W的表面分開(參見圖2B)，從而藉著使得細小研磨料飄浮在負壓空間20之內，透過下文提到之抽吸裝置21a以及21b的中介藉著在負壓空間20之內的抽吸作用確實地防止細小研磨料附著於工件W表面是有可能的。
此外，在如圖1所示之負壓空間20的結構之中，藉著將透明玻璃板件或是類似者安裝於負壓空間20的前面來形成一個視窗25，藉此在該負壓空間20之內的狀態可以透過該視窗25的中介而被看見。
較佳的是提供該視窗25而能夠看見在該負壓空間20之內產生的異常狀態，舉例來說，因為細小研磨料的聚集所造成的阻塞的產生、研磨料的回收瑕疵、相對於工件W的加工狀態的變化以及類似者，然而，該視窗25是一項選擇的構件。
被建構成如上文提到的負壓空間20係配置在一種狀態之中，其中形成在該空間的底部部位處的開口22係面對於設在預定距離處之工件W要被加工處理的表面，藉以形成由負壓空間20的內壁以及要在該負壓空間20之內被加工處理之工件W所包圍的一個空間。
噴砂槍
用於注射研磨料到工件W之噴砂槍30的一個前導端部部位係配置在被建構成如上文提到的負壓空間20之內。
該噴砂槍30係被接附，使得該噴砂槍30的一個注射方向係在與工件W的垂直方向之中，同時係通過負壓空間20的一個頂部板件，並且該注射洞孔31係配置成在工件W的表面附近或是接近該工件W的表面，如在所說明的實例之中圖1所示者。
設在噴砂槍30之前導端部之中的注射洞孔31係形成為長形的矩形形狀，其中該開口寬度W0係形成為狹窄的，竊被接附到該負壓空間20，而使得長形矩形注射洞孔31的開口寬度W0方向係指向工件W的移動方向T(參見圖1以及2)。
大體上，從噴砂槍注射出的研磨料，特別是容易於承載或漂流於一個承載氣體流之中的細小研磨料，係由於其重量輕而當其撞擊在工件的表面上時會與承載氣體一起沿著工件的表面流動。然而，在研磨料是被設有如上文提到之長形矩形注射洞孔31的噴砂槍30所注射出來的情況中，在研磨料被撞擊於工件W表面上之後，係有可能控制研磨料流動到如圖2A所示之注射洞孔31之開口寬度W0方向的擴散方向；據此，防止工件W的切削寬度擴大是有可能的。為了要更有把握地獲得此種效果，注射洞孔31的開口寬度W0較佳地形成為在0.1mm到100mm之內的範圍之內，更佳的是0.1mm到30mm的範圍之內。在目前的實例之中，形成了0.5mm×15mm的矩形開口。
如上文提到的，在細小研磨料是被設有長形矩形注射洞孔31的噴砂槍30所注射出來的情況中，研磨料在工件上的分佈狀況係對應於形成為工件移動方向是一個長度方向之形狀的注射洞孔31。藉此，在變成與被撞擊到工件W的表面相衝突以便於對應注射洞孔31之後，研磨料的注射分佈狀況係基於開口的寬度方向而在長形矩形形狀之中擴張，且開口的二個端部以及中心部位係分別處於一種圓形的弧形形狀且後者係為一種在寬度上變窄的形狀。結果，防止工件W的切削寬度被擴張是有可能的。
此外，如同一項實施例，長形矩形注射洞孔31的開口長度L0可以形成如此的長度以便對應於相對於工件W的加工處理寬度。
事實上，在工件W係沿著工件W端部部位的一側被切削成預定寬度的情況中，該開口長度L0可以被形成為相對於切削寬度更長。在這種情況中，工件W相對於注射洞孔31的位置或是注射洞孔31的位置可以調整，以便於獲得所需的切削寬度，舉例來說，如圖2A所示者。
抽吸裝置
上文提到的負壓空間20進一步設有用於抽吸負壓空間20內側的抽吸裝置21(21a以及21b)。在負壓空間20之內漂浮的細小研磨料以及切削廢料可以藉著透過抽吸裝置21的中介抽吸負壓空間20的內側而被回收。
該抽吸裝置21係被設置成可以朝向噴砂槍30(參見圖1)之注射洞孔31之開口寬度W0方向中的二側開啟，且在所說明的實例之中，所述抽吸裝置21a以及21b係設置成可以與負壓空間20的內側連通，同時通過在前視圖中形成在梯形部位的傾斜直線部位處的每個傾斜表面。
如圖3D所示，該等抽吸裝置21a以及21b較佳地係被安裝成，使得一個角度θ係在10到80度的範圍之內，該角度係由藉著延伸抽吸裝置21a以及21b的軸線所獲得的直線以及工件W要被加工處理的表面所形成的，並且該等抽吸裝置21a以及21b係與在該負壓空間20之內的空間相連通且對於該空間開放，同時通過梯形箱型形狀的二個傾斜表面，其中，在所說明的實例之中，形成負壓空間20的底面係開放的，而使得該角度θ變成45度。據此，藉著在該負壓空間20之內的抽吸作用，更加有效率地回收所產生的細小研磨料是有可能的。
在這種情況中，視負壓空間20的尺寸、所使用之抽吸機構(以下提及的集塵器3)的性能以及類似者而定，抽吸裝置21a以及21b的尺寸可以被改變成各種尺寸；然而，在所說明的實例之中，47.6mm的直徑(內部直徑)係為一項實施例。
對面的負壓空間
對面的負壓空間40可以被配置成面對於設有上述噴砂槍30以及抽吸裝置21a以及21b的負壓空間20。
在所說明的實例之中，該對面的負壓空間40係被建構成使得一個開口42係形成在對面負壓空間40的一個頂面上，且形成在負壓空間20底面上的開口22及形成在對面負壓空間40頂面上的開口42係設成以一個預定距離面對彼此，用以容許要被加工處理的工件W可以移動，同時使得開口22的至少一個側邊邊緣面對開口42至少一個側邊邊緣。
負壓空間20的開口22、及對面的負壓空間40的開口42並不總是必須形成為相同的開口形狀；然而，在所說明的實例之中，二者係形成為相同的形狀且被建構成使得開口22以及42的開啟邊緣係在正視圖中重疊。
在圖1所示的實例之中，該對面的負壓空間40係整體地形成為送料斗形狀，設有大致上為矩形的管狀部位以及接續地形成在矩形管狀部位下方之大致上倒轉的三角錐造形部位，且係被建構成像是能夠藉著使得對面的抽吸裝置41與倒轉三角錐造形部位的最低端部相連通來抽吸對面的負壓空間40內側。
此外，以與上文提及之負壓空間20相同的方式，一個下方壓板43係在一個外部周圍方向上突伸成在對面負壓空間40一個上方開口邊緣上的凸緣形狀。
當在負壓空間20以及對面的負壓空間40之內的空間藉著將對面的負壓空間40設成面對於負壓空間20、以及如上文提到的抽吸對面負壓空間40的內側而彼此連通時，透過對面負壓空間40的中介，回收注射在負壓空間20之內的細小研磨料是有可能的，且藉著藉著在對面負壓空間40之內的抽吸所產生的向下抽吸作用力補償因為在負壓空間20之內的抽吸所產生之應用到工件W的向上抽吸作用力是有可能的，藉此可以容易地達成工件W的運動。
據此，只要可以獲得上文提到的操作，對面的負壓空間40的形狀、以及對面抽吸裝置41的形成位置、尺寸以及類似者並沒有特殊的限制。
事實上，在其中對面的抽吸裝置41係如所說明之實例形成在對面負壓空間40之底部部位的中心中的結構之中，由於對面的抽吸裝置41是配置在噴砂槍30之注射方向之前，在以其中工件W係從噴砂槍30前方面處被移除的狀態下實施研磨料注射的時候，透過對面的抽吸裝置41的中介，有效率地抽吸以及回收注射出來的研磨料是有可能的，並且有一項優點是從負壓空間20以及對面的負壓空間40無論哪一個的內部空間處快速地移除及回收細小研磨料是可能的。
在這種情況中，在圖1之中，元件參考符號44標示一個設在對面負壓空間40的開口42之內的整流板件。該整流板件44係配置成將其一個寬度方向設定成一個垂直方向，並且當研磨料係在坐落於下方之對面負壓空間40之內被回收時，形成一個用於對面負壓空間40內側的向下流向。
其他結構
在這種情況中，由於所說明的回收系統10係被建構成可以預定寬度切削板件狀二維工件W的一個側邊，一個插入調整主體51係設在一個距離之中，該距離係形成在負壓空間20以及對面的負壓空間40之間，如圖1所示者，並且該工件W的插入位置係由該插入調整主體51所調整。
據此，該結構係使得，如果工件W被插入在負壓空間20以及對面的負壓空間40之間，直到板件狀二維工件W的一側接觸及卡合插入調整主體51的一個邊緣為止，並且該工件W是在一種其中該工件W的一側變成可以與插入調整主體51滑移接觸的狀態下被移動的話，該工件W接受加工處理的表面可以通過噴砂槍30之注射洞孔31的表面。
此外，由於板件狀二維工件W之一側附近部位係如上文提到的受到加工處理，負壓空間20係被如圖1所示的一個背板52以一種相對側邊的一個側邊表面係面對工件W插入側的方式連接到對面的負壓空間40，並且該負壓空間20係藉著提供一個固持構件12的傾斜部位以及二個側邊面，且分別以背板52閉合空間20的背面及以由而玻璃板件或類似者而製成之視窗25閉合空間20的前面所形成的。然而，舉例來說，在預定寬度的切削加工係實施於相當大尺寸之板件狀二維工件W之中心部位，同時將移動方向設定成長度方向的情況中，可以移除插入調整主體51以及背板52，並且負壓空間20以及對面的負壓空間40可以配置成一種以垂直方式完整個分開成二個容室的狀態。
加工處理方法
如上文提到之根據本發明的回收系統10係建構成使得一個供應壓縮氣體以及細小研磨料之混合流體的混合流體供應源係連通到噴砂槍30的一個後端部位，該後端部位係從負壓空間20的一個頂部板件處延伸到一個外部部位。
此外，該結構係製做成使得負壓空間20以及對面的負壓空間40的內側可以藉著在以根據相關技術所描述者相同原理的回收循環中，使得設在負壓空間20之中的抽吸裝置21，在這種情況中為二個抽吸裝置21a以及21b、及設在對面的負壓空間40之中的對面的抽吸裝置41與像是集塵器或類似者的抽吸機構相連通而受到抽吸。
舉例來說，圖4說明了設有以上提及之根據本發明回收系統10之噴砂裝置1的結構實施例，以及噴砂槍30設在根據本發明之回收系統10之中的後方端部部位係與一個加壓槽2相連通，該加壓槽2係定量地將細小研磨料當做與壓縮氣體的混合流體饋送到噴砂槍，同時其重量係為固定的量。
此外，設在負壓空間20之中的二個抽吸裝置21a及21b以及設在對面的負壓空間40之對面的抽吸裝置41全部均與為抽吸機構的共同集塵器3相連通，藉以抽吸在每個負壓空間20以及40之內的周遭空氣來使週遭空氣係處於負壓之下是有可能的。
由集塵器3所回收之在負壓空間20以及對面負壓空間40之內的細小研磨料係由設在集塵器3之中的旋風器3a分類成可以再使用的研磨料以及切削廢料，以便於被回收，以及可以再使用的研磨料可以藉著再次被填料到加壓槽2之中而被再次使用。
在這種情況中，在所說明的實例之中，在圖4以及圖5之中的元件參考符號4係標示一個運送桌台。一個設在運送桌台4上的攜載滾柱5係藉著驅動馬達M的旋轉而被旋轉，以及可以在一個預定方向之中運載設在其上的工件W。
在所說明的實例之中，藉著將建構出根據本發明回收系統10之負壓空間20以及對面的負壓空間40接附到運送桌台的一個側邊4a以及移動裝設在運送桌台4之攜載滾柱5上的工件W，而在該運送桌台中，工件W的攜載方向係被設定成縱向方向，工件W端部部位之一側的附近區域係通過負壓空間20與對面的負壓空間40之間，然而，與前述相反的，藉著固定工件W、以及轉移建構出根據本發明回收系統10之負壓空間20以及對面的負壓空間，可以達成相對於工件W的相對運動。
此外，在所說明之可以加工處理在工件W端部部位之一側的預定寬度的實例之中，根據本發明的回收系統10僅設在運送桌台4的一個側邊4a上，然而，舉例來說，在同時加工處理工件W之二個平行側邊的每個側邊的情況中，回收系統10可以設在滾柱運送器的另一側邊4b上，藉此工件的二個側邊可以藉著只有一次的運載而被同時處理。此外，如圖6A所示，舉例來說，工件的四個(4)側邊可以藉著一個連續工作伴隨著工件W的旋轉而被加工處理。此外，如圖6B所示，該回收系統10可以配置在一個位置處，而工件W的中心部位係通過此位置，藉此噴砂程序可以被運用到該中心部位及其他選擇位置以及工件W的末端直線部位。
在使用時，藉著依據要接受加工處理之板件狀二維工件的厚度調整介於負壓空間20與對面的負壓空間40之間的距離、介於工件W與每個負壓空間20以及40之間的距離以及噴砂槍30的高度，一個預定距離係設在工件W要被加工處理的表面負壓空間20之對面的面之間、以及工件的背面與對面負壓空間40之對面的面之間。
藉著提供如上文提到的距離，在抽吸二個負壓空間之內之氣體的時候，透過這個部位的中介外側空氣係被導入負壓空間20以及對面的負壓空間，並且防止細小研磨料擴散到負壓空間。此外，由於外側空氣是沿著工件W表面被導入，有可能使得傾向於附著在工件W表面的細小研磨料因為外側空氣的流動而漂流。
舉例來說，在接受加工處理之板件狀二維工件W是厚度為3mm之玻璃板的情況下，各自部位的間隔係如下所述。在所說明的實例之中，介於負壓空間20與對面負壓空間40(在所說明的實例之中是介於上方壓板23與下方壓板43之間的間隔)之間的間隔為7mm，介於板件狀二維工件W與負壓空間20(上方壓板23)之間的間隔為2mm，以及介於板件狀二維工件W與對面的負壓空間40(下方壓板43)之間的間隔為1mm。此外，在所說明的其中整流板件24係設在負壓空間20之開口22之內的實例之中，介於整流板件24與板件狀二維工件W之間的間隔為0.9mm，以及介於噴砂槍30與板件狀二維工件W之間的間隔可以設定成3mm。
如果研磨料是在一種管件連接到每個裝置且每個裝置的間隔調整是以如上文提到的方式完成的狀態下從噴砂槍30被注射出去，且工件W係在藉由三個抽吸裝置21a，21b及41抽吸負壓空間20以及對面負壓空間40之內側的同時被插入及通過負壓空間20以及對面的負壓空間40之間的話，該工件W係在移動方向T之中以一個寬度被連續地切削，而該寬度為形成在噴砂槍30中之形成為長形矩形的注射洞孔31之開口長度L0。
使用設有一般使用之圓形注射洞孔之噴砂槍的情況下，注射出來的研磨料所產生的流動係會在在撞擊到工件上之後於所有方向中，亦即，如圖10所示的360度沿著工件表面移動；然而，從設有形成為如上文提到的長形矩形形狀，特別是相當窄的長形矩形形狀而具有在0.1mm到3mm內之開口寬度W0之注射洞孔31的噴砂槍30注射出來的研磨料所產生的流動是在注射洞孔31的開口寬度W0方向中沿著工件W的表面，並且在開口長度L0方向中不會產生研磨料的擴散狀況。
據此，藉著使用設有如上文提到之形成為長形矩形注射洞孔31的噴砂槍30，工件W能夠以對應於注射洞孔31之開口長度L0的對應寬度來切削。
此外，在如上文提到的注射洞孔31之開口寬度W0方向中於工件W表面上移動的研磨料流係在此之後被設在負壓空間20之開口22中的整流板件24偏向到向上傾斜的流動，以致於能夠從工件W表面分開(參照圖2B)，以及據此，研磨料係漂流在負壓空間20之內的空間之中。
Since the由於為#400或更多、或具有平均直徑為30μm或更小的研磨料，也就是在本發明之中使用的細小研磨料在漂流的時候具有很長的飛行期間，以及傾向於攜載於氣體流動上，該研磨料可以容易地與在漂流狀態下的場域中的氣體一起回收。據此，上文提到的在漂流狀態下的研磨料可以藉著來自於上文提到的抽吸裝置21a以及21b的抽吸作用與負壓空間20之內的氣體一起被回收。一旦研磨料或類似物附著到工件W要被加工處理的表面，如上文提到的，將其以之後的吹氣來加以剝除或使其落下是不可能的，而需要用水來清洗。然而，根據本發明，在研磨料附著之前將其容易地回收是有可能的。
在負壓空間20之內的空間係在實施如上文提到的回收研磨料的時候便成變成負壓，且該工件W係被負壓向上吸引，然而，向下的抽吸作用力係同時地藉著在相對於負壓空間20之對面的負壓空間40之內的抽吸作用應用到工件W。結果，工件可以根據負壓空間與對面的負壓空間之間的平衡狀態，容易地通過負壓空間與對面的負壓空間之間的固定間隔彼此分隔的每個開口22以及42。
較佳地，藉著將介於工件W與對面的負壓空間40之間的間隔形成為比介於工件W與負壓空間20之間的間隔為還要狹窄，在相對負壓空間40之中所產生的向下抽吸作用力係等於或大於在負壓空間20之中產生的向上抽吸作用力。據此，藉著將工件W壓抵著運送桌台4的攜載滾柱5，舉例來說，在該板件狀二維工件W係薄膜太陽能電池面板或類似者的情況下，有可能避免掉形成在玻璃基材上的每層薄膜係由於接觸上方壓板23而被損壞的問題產生。
在加工處理像是所說明實例之板件狀二維工件W的一個側邊端部部位的情況下，工件W之端部部位的一個位置係在切削工件W的時候由插入調整主體51所調整。結果，負壓空間20的開口22以及相對的負壓空間40的開口42係透過沒有被工件W所遮蓋之如圖3B以及圖3C所示的回收開口22’以及42’彼此相連通。
結果，從噴砂槍30注射出來的細小研磨料、以及藉著注射細小研磨料所產生的切削廢料係透過抽吸負壓空間20內側之抽吸裝置21a以及21b的中介而被集塵器所抽吸及回收，並且在該負壓空間20之內的細小研磨料以及切削廢料則是透過在對面負壓空間40之內的空間以及回收開口42’以及22’的中介，藉著抽吸對面負壓空間40之內側的對面抽吸裝置41而被抽吸及回收，使得在二個負壓空間之內的細小研磨料以及切削廢料在被附著於工件W表面之前可以在漂流的狀態下被有效率地回收。
結果，對面的負壓空間40以及對面的抽吸裝置41係與抽吸裝置21a以及21b一起共享漂流在負壓空間20之內的細小研磨料以及切削廢料、有效率地回收進入工件W背面側的細小研磨料以及有效率地防止細小研磨料附著在工件W的背面上。
此外，如果工件W藉著工件W的運動而從介於負壓空間之間間隔被移除的話，二個負壓空間20，40可以透過負壓空間20的開口22以及對面負壓空間40之開口42的一整個表面的中介與彼此相連通，噴砂槍30所注射的細小研磨料係被直接導入對面的負壓空間40之中，緊接著立刻被回收。結果，即使是在其中沒有工件W存在二個負壓空間之間的狀態下，可以防止細小研磨料被收集在負壓空間20以及40。
另一方面，在負壓空間20以及對面的負壓空間40之間係被工件W所完全分開的情況下，像是加工處理被應用於，舉例來說，相對大尺寸之工件W的中心部位的情況下，被注射在負壓空間20之內的研磨料係當工件W被插入時的一段時間下僅透過與負壓空間20相連通的抽吸裝置21a以及21b而被回收，並且在對面的負壓空間40之內的抽吸作用僅在將工件W向下抽吸時運作。然而，如果負壓空間20藉著工件W的運動而與在對面的負壓空間40之內的空間相連通的話，從噴砂槍30注射在負壓空間20之內的研磨料係透過對面的負壓空間40以及對面的抽吸裝置41的作用而被抽吸及回收。
如上文提到的，在根據明設有上文提及之結構的本發回收系統10之中，在進行切削加工處理的時候防止細小研磨料附著於工件W的表面是有可能的，並且在沒有遮罩黏著於工件W的情況下以預定寬度實施切削加工處理是有可能的。據此，使用細小研磨料的噴砂製程甚至可以應用到不能用清洗的水來清洗且無法黏附遮罩的工件，舉例來說，像是對形成在薄膜太陽能電池面板之玻璃基材上的薄膜加以劃線的情況。
此外，甚至是在加工處理係應用於可以在噴砂製程之後清洗且被遮罩所附著的工件的情況下，省去清洗以及附著遮罩所耗費的勞力，以及像是遮罩、清洗流體以及為了此項工作所使用之類似者之來源的使用係可能的，並且廣泛地降低切削加工處理的成本係可能的。
此外，在負壓空間20以及40二者之間沒有工件W存在的情況下，像是在將工件W配置在二個負壓空間20以及40之間之前、或是工件W通過二個負壓空間20以及40之間之後以及類似的情況，噴砂槍30所注射的細小研磨料可以藉著對面的負壓空間40的抽吸而從在二個負壓空間之內的空間被快速地移除，並且被饋到回收循環，據此並沒有細小研磨料被收集在負壓空間之內的空間之中。
因此，以下範圍最廣的申請專利範圍並非針對以一種特定方式而建構成的機器。相反的，前述範圍最廣的申請專利範圍是要保護此突破性發明的核心或本質。本發明很明顯的是新穎的且有用的。此外，對於所屬技術領域具有通常知識者來說，在整體考量時，在考慮習知技術之下，本發明在作出時並非顯而易見的。
此外，有鑑於本發明的革命性本質，很清楚的是本發明為開創性的發明。因此，就法律的方面來說，以下的申請專利範圍可以有非常廣的解釋，用以保護本發明的核心。
因此將可以看出的是，可以很有效率地獲得以上所提出的目的以及那些從先前的描述可以變得很明顯者，並且由於可以在以上的解釋下進行某些改變而不會偏離本發明的範圍，包含在先前描述中或顯示在隨附圖式中的所有事項應該被解釋成說明性的而不是限制性的。
亦應該要了解的是，以下的申請專利範圍是要涵蓋在本文中描述之所有的本發明上位以及下位特點，且在表達方式方面，本發明範圍的所有陳述可以說是落在其間。
現在已經描述過本發明。
1．．．噴砂裝置
2．．．加壓槽
3．．．集塵器
3a．．．旋流器
4．．．運送桌台
4a．．．運送桌台的一側
4b．．．滾柱運送桌台的另一側
5．．．攜載滾柱
10．．．回收系統
12．．．固持構件
20．．．負壓空間
20a．．．負壓空間
20b．．．負壓空間
21．．．抽吸裝置
21a．．．抽吸裝置
21b．．．抽吸裝置
22．．．開口
22’．．．回收開口
23．．．壓板
24．．．整流板件
25．．．視窗
30．．．噴砂槍
31．．．注射洞孔(注射噴嘴)
40．．．對面的負壓空間
41．．．對面的抽吸裝置
42．．．開口
42’．．．回收開口
43．．．下方壓板
44．．．整流板件
51．．．插入調節主體
52．．．背板
60．．．重力型噴砂裝置
61．．．機殼
62．．．噴砂槍(注射噴嘴)
63．．．載入接口
64．．．研磨料饋入管件
65．．．導管
67．．．排放管件
68．．．送料斗
70．．．回收槽
73．．．流入通口
74．．．連接管件
75．．．連通管件
80．．．噴砂裝置
81．．．加工處理導管
82．．．噴砂容室
83．．．抽吸導管
84．．．插入通口
85．．．引入通口
91．．．噴砂槍(注射噴嘴)
W．．．工件
W0．．．開口寬度
L0．．．開口長度
T．．．移動方向
Lmc．．．負壓空間的長度
Wmc．．．負壓空間的寬度
Hmc．．．負壓空間的高度
M．．．驅動馬達
θ．．．傾斜角度
本發明之目的以及優點從以下其較佳實例的詳細說明連同隨付圖式將會變得明白，其中：
圖1係根據本發明第一實例之研磨料回收系統的示意立體圖，在該系統所處的狀態之中，一個負壓空間以及一個對面的負壓空間係在該研磨料回收系統之中垂直地分隔開；
圖2A以及圖2B係解釋在根據本發明的研磨料回收系統之中，介於一個設在噴砂槍中之長形矩形注射洞孔與流動研磨料之間之關係的說明視圖，其中圖2A係正視圖以及圖2B係根據立體視圖的進行的觀察資料；
圖3A、圖3B、圖3C及圖3D係解釋在根據本發明之研磨料回收系統中每個裝置之位置關係的說明視圖，其中圖3A係解釋設在噴砂槍中之長形矩形注射洞孔以及一個工件之配置實施例的說明視圖，圖3B係在仰視圖中之一個負壓空間的開口22以及工件之配置，以及藉此形成之回收開口22’之位置關係的說明視圖，圖3C係對面負壓空間之一個開口42及工件在正視圖中之配置以及藉此形成之一個回收開口42’之位置關係的說明視圖，以及圖3D係根據本發明之研磨料回收系統的示意前視圖；
圖4係顯示出設有根據本發明研磨料回收系統之噴砂裝置之整體結構的正視圖；
圖5係圖4的前視圖；
圖6A以及圖6B係使用根據本發明之研磨料回收系統加工處理實施例的說明視圖，其中圖6A顯示出應用於板件狀二維工件W之四個側邊之所加工處理的實施例，及圖6B則顯示出應用到板件狀二維工件W之二個側邊以及中心的加工處理實施例；
圖7係(重力型)傳統式裝置的說明視圖；
圖8係(of Japanese Patent日本專利LOPI第H09-300220號)傳統式裝置的說明視圖；
圖9A及圖9B係相對於一個薄膜太陽能電池面板進行劃線的說明視圖，其中圖9A係實施劃線之裝置的說明視圖，及圖9B係藉著劃線而被移除之層體的說明視圖；以及
圖10係說明被一個噴砂槍(具有圓形注射洞孔)所注射之研磨料的擴散狀態的說明視圖。
12．．．固持構件
20．．．負壓空間
20a．．．負壓空間
20b．．．負壓空間
21．．．抽吸裝置
21a．．．抽吸裝置
21b．．．抽吸裝置
22．．．開口
22’．．．回收開口
23．．．壓板
24．．．整流板件
25．．．視窗
30．．．噴砂槍
31．．．注射洞孔(注射噴嘴)
40．．．對面的負壓空間
41．．．對面的抽吸裝置
42．．．開口
42’．．．回收開口
43．．．下方壓板
44．．．整流板件
51．．．插入調節主體
52．．．背板
W．．．工件
W0．．．開口寬度
L0．．．開口長度
T．．．移動方向
Lmc．．．負壓空間的長度
Wmc．．．負壓空間的寬度
Hmc．．．負壓空間的高度
Claims (13)
- 一種噴砂方法，其包含有以下步驟：透過一個抽吸裝置的中介來抽吸在一個工件上的一個空間，所述抽吸裝置係與前述空間相連通，用以使得前述空間係如同一個負壓空間，該抽吸裝置係傾斜於所述工件的一個要被處理的表面；在面對於前述負壓空間之前述工件要被加工處理之前述表面的對面側邊處抽吸在前述工件下方的一個空間，並且前述負壓空間的前述開口係透過一個與在前述工件下方的前述空間相連通之抽吸裝置的中介，用以使得前述空間成為一對面的負壓空間；在一個介於所述負壓空間與所述對面的負壓空間之間的距離提供一個插入調節主體，並且將所述工件插入於所述負壓空間之間，以使得該工件W的一側邊可以變成與該插入調節主體以可以滑動的方式相接觸；在一個大氣中相對於一個噴砂槍的一個注射洞孔之一個開口的寬度移動前述的工件，前述噴砂槍在一個前述工件的一側邊變成與所述插入調節主體已可以滑動的方式相接觸的狀態中具有長形矩形剖面形狀，前述注射洞孔係配置在在前述負壓空間之內於該工件的要被處理的所述表面附近的一個位置處，而與前述工件要被加工處理的一個表面設置成彼此面對，並且所述注射洞孔的一個縱向方向係正交於所述工件的一個相對移動方向，並且所述注射洞孔的一個注射方向係大約垂直於所述工件； 將一壓縮氣體以及一研磨料的混合流體根據所述注射洞孔的一個剖面形狀以一個長形矩形形狀從所述注射洞孔的一個開口注射到前述工件之前述要被加工處理的表面，其中一個寬度方向係定位成在所述負壓空間中與前述工件的一個移動方向相同的方向，用以處理前述工件之前述一個側邊；所述注射洞孔係形成在所述負壓空間中面對所述工件的至少一個側邊邊緣；透過所述對面的負壓空間的前述抽吸裝置的中介從所述的負壓空間及/或所述對面的負壓空間來從一個回收開口抽吸及回收一切削廢料以及一研磨料，該回收開口在前述對面的負壓空間及前述負壓空間的前述開口中並未被前述的工件所遮蓋。
- 根據申請專利範圍第1項所述的噴砂方法，其中前述噴砂槍之前述注射洞孔的前述開口寬度係在0.1mm到100mm之內。
- 根據申請專利範圍第1項所述的噴砂方法，其中前述抽吸裝置相對於前述工件要被加工處理之前述表面的軸向方向係被設定在一個10到80度之內的傾斜角度。
- 根據申請專利範圍第1項所述的噴砂方法，其中前述研磨料沿著前述工件的一個表面之流動係在一個方向中被整流板件所偏向，用以設定與前述工件之前述表面的距離，所述整流板件係並排地被設在前述負壓空間的一個開口之內而在前述注射洞孔的二個側邊之中，並且所述板件 係傾斜的，用以在其寬度方向之中將距離前述工件的距離設定成與距離前述的注射洞孔一樣遠。
- 根據申請專利範圍第1項所述的噴砂方法，其中前述要被加工處理的對象係一個具有在前述玻璃基材上之薄膜層體的薄膜太陽能電池面板，所述薄膜層體係對於薄膜太陽能電池來說是必須的像是一個背面電極、一個光線吸收層、一個射極、一個透明電極以及類似者，以及前述薄膜層體及從前述玻璃基材被切削以及移除的前述研磨料係從前述負壓空間或前述對面的負壓空間被抽吸及回收。
- 根據申請專利範圍第1項所述的噴砂方法，其中前述要被加工處理的對象係一個具有在前述玻璃基材上之薄膜層體的薄膜太陽能電池面板，所述薄膜層體係對於薄膜太陽能電池來說是必須的像是一個背面電極、一個光線吸收層、一個射極、一個透明電極以及類似者，以及其中前述薄膜層體及從前述玻璃基材被切削以及移除的前述研磨料係在將前述面板劃分成每個單位電池的時候從前述負壓空間或前述對面的負壓空間被抽吸及回收。
- 一種設有研磨料回收系統的噴砂裝置，其包含有：一個對面空間，其係藉著以容許一個工件可以運動的一個間隔而被分隔所界定出來的；以及一個在前述空間之內的噴砂槍，前述噴砂槍具有一個形成為一個長形矩形形狀並且面對於前述工件要被加工處理之一個表面的注射洞孔，以及前述的注射洞孔係配置在 一個接近前述工件要被加工處理的前述表面的位置處，其中前述工件係被設成可以相對於前述注射洞孔的一個開口的一個寬度方向移動，所述注射洞孔的一個注射方向大約垂直於所述工件，前述的空間具有一個開口以及一個抽吸裝置，前述空間的所述開口係在其縱向方向之中定位在與前述工件的一個移動方向相同的方向之中，以及面對著前述工件的至少一個側邊邊緣，所述抽吸裝置係朝向所述注射洞孔的所述開口的寬度方向中的二個側邊開放並且傾斜於所述工件的要被處理的所述表面傾斜，以及前述抽吸裝置的一個端部係與前述空間相連通，且前述抽吸裝置的另一個端部係與一個抽吸機構相連通，且前述抽吸裝置係抽吸前述空間，以使得前述的空間成為一負壓空間，以及包含：一個具有一個對面抽吸裝置之對面的負壓空間以及一個開口係以容許前述工件運動的間隔設在一個相對於前述工件要被加工處理之前述表面的對面表面上，以便於面對前述的負壓空間以及前述負壓空間的前述開口，以及一個插入調節主體設在一個介於所述負壓空間與所述對面的負壓空間之間所形成的距離，所述工件插入於所述負壓空間之間；以及所述工件的一個側邊端部部位係被處理，以及一切削廢料以及一研磨料係由前述抽吸裝置從前述負 壓空間及或所述對面的負壓空間抽吸及回收。
- 根據申請專利範圍第7項之設有研磨料回收系統的噴砂裝置，其中在前述研磨料回收系統之中，前述噴砂槍之前述注射洞孔的前述開口寬度係在0.1mm到100mm之內，在前述研磨料回收系統之中，前述噴砂槍的前述注射洞孔係形成為前述長形矩形的形狀。
- 根據申請專利範圍第7項之設有研磨料回收系統的噴砂裝置，其中，前述抽吸裝置相對於前述工件要被加工處理之前述表面的一個軸向方向係被設定成在10到80度之內的傾斜角度。
- 根據申請專利範圍第7項之設有研磨料回收系統的噴砂裝置，其中一個整流板件係設在前述負壓空間的前述開口之內而在前述注射洞孔的二個側邊，以及該板件係被傾斜以設定與前述工件的距離為與在其寬度方向中與前述注射洞孔相距一樣遠。
- 根據申請專利範圍第9項之設有研磨料回收系統的噴砂裝置，其中一個整流板件係設在前述負壓空間的前述開口之內而在前述注射洞孔的二個側邊，以及該板件係被傾斜以設定與前述工件的距離為與在其寬度方向中與前述注射洞孔相距一樣遠。
- 根據申請專利範圍第7項所述的噴砂裝置，其中前述要被加工處理的對象係一個具有在前述玻璃基材上之薄膜層體的薄膜太陽能電池面板，所述薄膜層體係對於薄膜太陽能電池來說是必須的像是一個背面電極、一個光線吸 收層、一個射極、一個透明電極以及類似者，以及其中前述薄膜層體及從前述玻璃基材被切削以及移除的前述研磨料係從前述負壓空間或前述對面的負壓空間被抽吸及回收。
- 根據申請專利範圍第7項的噴砂裝置，其中前述要被加工處理的對象係一個具有在前述玻璃基材上之薄膜層體的薄膜太陽能電池面板，所述薄膜層體係對於薄膜太陽能電池來說是必須的像是一個背面電極、一個光線吸收層、一個射極、一個透明電極以及類似者，以及其中前述薄膜層體及從前述玻璃基材被切削以及移除的前述研磨料係在將前述面板劃分成每個單位電池的時候從前述負壓空間或前述對面的負壓空間被抽吸及回收。
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