JP4690896B2 - ブラスト研磨用マスク、自動ブラスト研磨装置及び太陽電池パネルの製造方法 - Google Patents
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Description
本発明において、ブラスト研磨処理で研磨されない領域を覆う被覆部材(11c/11e)が、補強部材(11a、11b/11d)で補強されているので、ブラスト材の噴射圧による被覆部材(11c/11e)の残留応力発生による変形を抑制することができる。変形が抑制されるので、ブラスト材の回込みを抑えて、精度良くブラスト研磨を行うことができる。
また、ブラスト研磨処理の際のブラスト材の噴射圧による被覆部材(11c)の周縁部(18/11e)への衝撃が薄膜(56)へ達する恐れがあるが、第2保護部(16)を設けることで、衝撃を緩和し、薄膜(56)への損傷を防止することができる。更に、被覆部材(11c)の周縁部(18/11e)直下へのブラスト材の回り込みをより確実に防止することができる。さらに、密着手段によって、ブラスト材の風車の圧力に対しても、ブラスト研磨用マスクの位置を維持することができる。
本発明において、補強部材(11a、11b)のリブ構造による補強の効果が高いので、ブラスト材の噴射圧による被覆部材(11c)の変形をより確実に抑制することができる。
本発明において、、被覆部材(11c)における補強部材(11a、11b)のある面と反対の面は、薄膜(56)と接触するので、接触保護膜(12)を設けることで、薄膜(56)への接触による損傷を防止することができる。
本発明において、箱型形状の構造の補強部材(11d)は、製造が容易でより低コストで製造することができる。
上記のブラスト研磨用マスクにおいて、密着手段は、被覆部材(11e)と補強部材(11d)の自重とすることが好ましい。
本発明において、第2周縁部(18/11e)における基板(51)側の面を環状に囲むことで、薄膜(56)と被覆部材(11c)又は補強部材(11d)と真空シール部材(16b)とで囲まれる隙間空間を形成することができ、当該隙間空間を減圧すればブラスト研磨用マスクと基板(51)とをより強固に密着させることができる。
本発明において、弾力性用部材(16c)は永久変形により弾力性が低下する場合があるため、下地に緩衝性用部材(16a)を用いた二層構造とすることで、弾力性とシール性を保持することが可能である。
本発明において、真空排気用の配管に接続可能な配管(22)を介して隙間空間を減圧することができる。それにより、ブラスト研磨用マスクと基板(51)とをより強固に密着させることができる。
本発明において、第1保護部(15)を設けることで、ブラスト研磨処理の際にブラスト材が直接被覆部材(11c/11e)の被覆部材(11e)の周縁部(18/11e)へ到達することが無くなる。それにより、被覆部材(11e)の周縁部(18/11e)の磨耗や減肉を防止することができる。加えて、ブラスト材でダメージを受けた第1保護部(15)を適宜交換することで、被覆部材(11e)の周縁部(18/11e)の状態を良好に保つことができ、ブラスト研磨用マスクの寿命を延ばすことができる。
本発明において、磁石(13/35)を用いることで、ブラスト研磨用マスクと基板(51)とをより確実に密着させることができる。
本発明において、上記のような本発明のブラスト研磨用マスク(1)を用いてブラスト研磨を行うので、位置決め精度が良くブラスト材の回込みが発生しないので、より確実に薄膜の研磨を適切に行うことができる。
上記の太陽電池パネルの製造方法において、ブラスト研磨用マスク(1)は、被覆部材(11c)における補強部材(11d)のある面と反対の面を覆うように設けられ、被覆部材(11c)による薄膜への損傷を防止する接触保護膜(12)を更に備えることが好ましい。
上記の太陽電池パネルの製造方法において、第2工程は、ブラスト研磨用マスク(1)を基板(51)上に装着、及び、基板(51)上のブラスト研磨用マスク(1)を取り外す脱着部(37)と、ブラスト研磨用マスク(1)で覆われていない基板(51)の周縁部(61)上の薄膜をブラスト研磨で削るブラスト研磨部(34)とを具備する自動ブラスト研磨装置を用いることが好ましい。
まず、本発明のブラスト研磨用マスクの第1の実施の形態の構成について、添付図面を参照して説明する。図2は、本発明のブラスト研磨用マスクの第1の実施の形態の構成を示す斜視図及び断面図である。
第1保護部15の評価項目は、耐磨耗性及び価格である。各項目において、二重丸印はその項目の評価が高いことを示し、丸印はその項目の評価が中程度であることを示し、三角印はその項目の評価が低いことを示し、バツ印はその項目の評価が悪いことを示している。評価結果を示す「太陽電池用の評価」において、丸印はその材料が適していることを示し、三角印はその材料が場所により使用できることを示し、バツ印はその材料が不適であることを示している。本評価から、第1保護部15として、フッ素系樹脂が最適であるが、硬質ゴムも用いることができる。その他、クロロプレンフォーム、及びシリコンゴムを用いることもできる。更に、これらの材料の有する耐磨耗性や硬さを有していれば、他の材料を用いても良い。
一方、第2保護部16の評価項目は、反発弾性である。各印の意味は上記のとおりである。本評価から、硬質ゴム、シリコンゴム及びウレタンゴムが最適であるが、クロロプレンフォームも用いることができる。更に、これらの材料の有する耐磨耗性や緩衝性や硬さを有していれば、他の材料を用いても良い。
基板51としてソーダフロートガラス基板(1.4m×1.1m×板厚:4mm)を使用する。基板端面は破損防止にコーナー面取りやR面取り加工されていることが望ましい。
(2)図9(b):
透明導電層52として酸化錫膜(SnO2)を主成分とする透明電極膜を約500〜800nm、熱CVD装置にて約500℃で製膜処理する。この際、透明電極膜の表面は適当な凹凸のあるテクスチャーが形成される。透明導電層52として、透明電極膜に加えて、基板51と透明電極膜との間にアルカリバリア膜(図示されず)を形成しても良い。アルカリバリア膜は、酸化シリコン膜(SiO2)を50〜150nm、熱CVD装置にて約500℃で製膜処理する。
(3)図9(c):
その後、基板51をX−Yテーブルに設置して、レーザーダイオード励起YAGレーザーの第1高調波(1064nm)を、図の矢印に示すように、透明電極膜の膜面側から入射する。パルス発振:5〜20kHzとして加工速度に適切となるようにレーザーパワーを調整して、透明電極膜を発電セル56の直列接続方向に対して垂直な方向へ、溝60を形成するように幅約6〜10mmの短冊状にレーザーエッチングする。
(4)図9(d):
プラズマCVD装置により、減圧雰囲気:30〜150Pa、約200℃にて光電変換層53としてのアモルファスシリコン薄膜からなるp層膜/i層膜/n層膜を順次製膜する。光電変換層53は、SiH4ガスとH2ガスとを主原料に、透明導電層52の上に製膜される。太陽光の入射する側からp層、i層、n層がこの順で積層される。光電変換層53は本実施の形態では、p層:BドープしたアモルファスSiCを主とし膜厚10〜30nm、i層:アモルファスSiを主とし膜厚250〜350nm、n層:pドープした微結晶Siを主とし膜厚30〜50nmである。またp層膜とi層膜の間には界面特性の向上のためにバッファー層を設けても良い。
(5)図9(e)
基板51をX−Yテーブルに設置して、レーザーダイオード励起YAGレーザーの第2高調波(532nm)を、図の矢印に示すように、光電変換層53の膜面側から入射する。パルス発振:10〜20kHzとして加工速度に適切となるようにレーザーパワーを調整して、透明導電層52のレーザーエッチングラインの約100〜150μmの横側を、溝61を形成するようにレーザーエッチングする。
(6)図10(a)
裏面電極層54としてAg膜/Ti膜をスパッタリング装置により減圧雰囲気、約150℃にて順次製膜する。裏面電極層54は本実施の形態では、Ag膜:200〜500nm、これを保護するものとして防食効果の高いTi膜:10〜20nmをこの順に積層する。n層と裏面電極層54との接触抵抗低減と光反射向上を目的に、光電変換層53と裏面電極層54との間にGZO(GaドープZnO膜)を膜厚:50〜100nm、スパッタリング装置により製膜して設けても良い。
(7)図10(b)
基板51をX−Yテーブルに設置して、レーザーダイオード励起YAGレーザーの第2高調波(532nm)を、図の矢印に示すように、基板51側から入射することで、レーザー光が光電変換層53で吸収され、このとき発生する高いガス蒸気圧を利用して裏面電極層54が爆裂して除去される。パルス発振:1〜10kHzとして加工速度に適切となるようにレーザーパワーを調整して、透明導電層52のレーザーエッチングラインの約250μm〜400μmの横側を、溝62を形成するようにレーザーエッチングする。この状態が図10(c)断面図、及び図10(d)平面図である。
(8)図11(a)
発電領域を区分して、基板端周辺の膜端部においてレーザーエッチングによる直列接続部分が短絡し易い影響を除去する。基板51をX−Yテーブルに設置して、レーザーダイオード励起YAGレーザーの第2高調波(532nm)を、基板51側から入射することで、レーザー光が透明導電層52と光電変換層53で吸収され、このとき発生する高いガス蒸気圧を利用して裏面電極層54が爆裂して除去される。パルス発振:1〜10kHzとして加工速度に適切となるようにレーザーパワーを調整して、基板51の端部から5〜20mmの位置を、X方向絶縁溝65を形成するようにレーザーエッチングする。このとき、Y方向絶縁溝は設けない。
(9)図11(b)
後工程のEVA等を介したバックシートとの健在な接着面を確保するために、基板51周辺(周囲領域14)の積層膜は、段差があるとともに剥離し易いため、この膜を除去する。まず、基板の端から5〜20mmで、前述の図11(a)工程で設けたX方向絶縁溝65よりも基板端側における裏面電極層54/光電変換層53/透明導電層52において、研磨除去処理を行う。具体的には、上述の自動ブラスト研磨装置の実施の形態の動作のとおりであるので、その説明を省略する。基板51に付着した研磨屑や残留ブラスト材は、更に基板51を洗浄処理して除去しても良い。
(10)図11(c)
端子箱取付け部分は、太陽電池モジュール50の発電セル56のある面と反対側のバックシート66に開口貫通窓を設けて集電板を取出す。この開口貫通窓部分には絶縁材を複数層を設置して外部からの湿分などの浸入を抑制する。
直列に並んだ一方端の発電セル56と、他方端部の発電セル56とから銅箔を用いて集電して太陽電池パネル裏側の端子箱部分から電力が取出せるように処理する。銅箔は各部との短絡を防止するために銅箔幅より広い絶縁シートを配置する。
集電用銅箔などが所定位置に配置された後に、太陽電池モジュール50の全体を覆い、基板51からはみ出さないようにEVA(エチレン酢酸ビニル共重合体)等による充填材シートを配置する。
EVAの上に、防水効果の高いバックシート68を設置する。バックシート68は本実施形態では防水防湿効果が高いようにPTEシート/AL箔/PETシートの3層構造よりなる。
バックシート68までを所定位置に配置したものを、ラミネータにより減圧雰囲気で内部の脱気を行い約150〜160℃でプレスしながら、EVAを架橋させて密着させる。
(11)図12(a)、図12(b)
太陽電池モジュール50の裏側に端子箱を接着剤で取付ける。その後、銅箔と端子箱の出力ケーブル67とをハンダ等で接続し、端子箱内部を封止剤(ポッティング剤)で充填して密閉する。これで太陽電池パネルが完成する。
(12)図12(c)
図12(b)までの工程で形成された太陽電池パネルについて発電検査ならびに、所定の性能試験を行う。発電検査は、AM1.5、全天日射基準太陽光(1000W/m2)のソーラシミュレータを用いて行う。
(13)図12(d)
発電検査(図12(c))に前後して、所定の性能試験を行なう。
(i)絶縁検査:
ラミネートされた太陽電池パネルの出力端子と基板端面やバックシートなど導電部分との間にDC:1000V負荷を印加して抵抗値≧100MΩなることを確認する。
(ii)耐電圧検査
ラミネートされた太陽電池パネルの出力端子と基板端面やバックシートなど導電部分との間にDC:3800V(または2200V)を1分間負荷をかけて、絶縁破壊がないことを確認する。
(iii)高温高湿試験
自動ブラスト研磨方法へ製造方法の変更を実施したことによる、構造と製造条件が適切であることの最終確認には、屋外での過酷条件を模擬して、JISC8938に従い、20時間光暴露で予め性能を安定させた後に、高温高湿条件:温度85℃、湿度:85%、評価時間1000時間で性能に変化ないこと(外観変化が無く、初期性能値の95%以上を確保し、性能に変化ないこと)を確認する。
本発明のブラスト研磨用マスクの第2の実施の形態の構成について、添付図面を参照して説明する。図13は、本発明のブラスト研磨用マスクの第2の実施の形態の構成を示す斜視図及び断面図である。
11a、11b、11d 補強部材
11c、11e 被覆部材
12 接触保護膜
13、35 電磁石
14、36 磁性体板
15、15a、15b 第1保護部
16、16a 第2保護部
16b 真空シール部材
18 周縁部
19 中央部
22、25、42 配管
23、24、41 逆支弁付カプラ
30 自動ブラスト研磨装置
31 制御装置
32、33 基板位置決定装置
34 ブラスト研磨装置
36 ブラスト粉吹払装置
37 マスク脱着装置
38、39 コンベア
43 吸着パット
50、150 太陽電池モジュール
51、151 基板
52 透明導電層
53 光電変換層
54 裏面電極層
56、156 発電セル
61、62 溝
64、164 周縁部
66、68 バックシート
67 出力ケーブル
Claims (17)
- 薄膜で略全面を覆われた基板の外縁をブラスト研磨する際に、研磨域との少なくとも境界部分を覆うために該基板上に密着配置されるブラスト研磨用マスクであって、
該ブラスト研磨用マスクは、
被覆部材と、
前記被覆部材と結合し、前記被覆部材の強度を高める補強部材と、
前記被覆部材の周縁部における前記基板側の面に密着配置された第2保護部と、
前記ブラスト研磨用マスクを基板上に密着させて前記被覆部材の基板上の位置を維持する密着手段と
を具備し、
前記被覆部材は、基板の周縁部上の薄膜がブラスト研磨で削られるとき、前記基板の周縁部の内側の前記薄膜上を覆う形状とされたブラスト研磨用マスク。 - 請求項1に記載のブラスト研磨用マスクにおいて、
前記被覆部材は、板状の構造を有し、
前記補強部材は、リブ構造を有するブラスト研磨用マスク。 - 請求項1に記載のブラスト研磨用マスクにおいて、
前記被覆部材は、該被覆部材の周縁部に環状で板状の構造を有し、
前記補強部材は、前記被覆部材の周縁部の内側に結合された箱型形状の構造を有するブラスト研磨用マスク。 - 請求項1乃至3のいずれか一項に記載のブラスト研磨用マスクにおいて、
前記密着手段は、前記被覆部材と前記補強部材の自重であるブラスト研磨用マスク。 - 請求項1乃至3のいずれか一項に記載のブラスト研磨用マスクにおいて、
前記密着手段は、前記被覆部材又は前記補強部材における前記基板と反対の側に接続され、前記基板側に開放され、真空排気用の配管に接続可能な配管であるブラスト研磨用マスク。 - 請求項5に記載のブラスト研磨用マスクにおいて、
前記第2保護部は、真空シール部材を備えるブラスト研磨用マスク。 - 請求項1乃至3のいずれか一項に記載のブラスト研磨用マスクにおいて、
前記密着手段は、前記被覆部材又は前記補強部材に結合された磁石であり、
前記基板に対して前記磁石と反対の側に用意された磁性金属板とが引き合うことで、前記基板を押し付けるブラスト研磨用マスク。 - 請求項1乃至7のいずれか一項に記載のブラスト研磨用マスクにおいて、
前記被覆部材における補強部材のある面と反対の面を覆うように設けられ、前記被覆部材による前記薄膜への損傷を防止する接触保護膜をさらに具備するブラスト研磨用マスク。 - 請求項1乃至8のいずれか一項に記載のブラスト研磨用マスクにおいて、
前記被覆部材の周縁部を覆うように設けられ、前記ブラスト研磨処理の研磨材から前記被覆部材の周縁部を保護する第1保護部を更に具備するブラスト研磨用マスク。 - 請求項1乃至9のいずれか一項に記載のブラスト研磨用マスクにおいて、
前記第2保護部は弾力性用部材と緩衝用部材を組合わせて構成されるブラスト研磨用マスク。 - 請求項1乃至10のいずれか一項に記載のブラスト研磨用マスクと、
前記ブラスト研磨用マスクを基板上に装着、及び、前記基板上の前記ブラスト研磨用マスクを取り外す脱着部と、
前記ブラスト研磨用マスクで覆われていない前記基板の周縁部上の薄膜をブラスト研磨で削るブラスト研磨部と
を具備する自動ブラスト研磨装置。 - 基板上に発電膜を備える太陽電池パネルの製造方法であって、
(a)前記基板上の略全面を覆うように前記発電膜を形成する第1工程と、
(b)前記基板の周縁部の内側にブラスト研磨用マスクを置きながら、前記基板の周縁部上にある前記発電膜をブラスト研磨処理で削る第2工程と、
(c)前記基板の周縁部をシール・接着面として、封止用シート材を貼る第3工程と
を具備し、
前記ブラスト研磨用マスクは
前記基板の周縁部の内側の前記発電膜上を覆う形状とされた被覆部材と、
前記被覆部材と結合し、前記被覆部材の強度を高める補強部材と、
前記被覆部材の周縁部における前記基板側の面に密着配置された第2保護部と、
前記ブラスト研磨用マスクを基板上に密着させて前記被覆部材の基板上の位置を維持する密着手段と
を備える太陽電池パネルの製造方法。 - 請求項12に記載の太陽電池パネルの製造方法において、
前記ブラスト研磨用マスクは、
前記被覆部材が、板状の構造を有すると共に前記補強部材が、リブ構造を有する、または、前記被覆部材が、該被覆部材の周縁部に環状で板状の構造を有すると共に、前記補強部材が、前記被覆部材の周縁部の内側に結合された箱型形状の構造を有する太陽電池パネルの製造方法。 - 請求項12または請求項13に記載の太陽電池パネルの製造方法において、
前記ブラスト研磨用マスクは、
前記密着手段として、
前記被覆部材と前記補強部材の自重、または、前記被覆部材又は前記補強部材における前記基板と反対の側に接続され、前記基板側に開放され、真空排気用の配管に接続して減圧する手段、または、前記被覆部材又は前記補強部材に結合された磁石を有し、前記基板に対して前記磁石と反対の側に用意された磁性金属板とが引き合うことで、前記基板へ押し付ける手段とする太陽電池パネルの製造方法。 - 請求項12乃至14のいずれか一項に記載の太陽電池パネルの製造方法において、
前記ブラスト研磨用マスクは、前記被覆部材における補強部材のある面と反対の面を覆うように設けられ、前記被覆部材による前記薄膜への損傷を防止する接触保護膜を更に備える太陽電池パネルの製造方法。 - 請求項12乃至15のいずれか一項に記載の太陽電池パネルの製造方法において、
前記ブラスト研磨用マスクは、前記被覆部材の周縁部を覆うように設けられ、前記ブラスト研磨の研磨材から前記被覆部材の周縁部を保護する第1保護部を更に備える太陽電池パネルの製造方法。 - 請求項12乃至16のいずれか一項に記載の太陽電池パネルの製造方法において、
前記第2工程は、
前記ブラスト研磨用マスクを基板上に装着、及び、前記基板上の前記ブラスト研磨用マスクを取り外す脱着部と、
前記ブラスト研磨用マスクで覆われていない前記基板の周縁部上の薄膜をブラスト研磨で削るブラスト研磨部と
を具備する自動ブラスト研磨装置を用いる太陽電池パネルの製造方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111716255A (zh) * | 2020-06-24 | 2020-09-29 | 中国航空制造技术研究院 | 带筋壁板预弯工装及喷丸成形方法 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5250334B2 (ja) * | 2008-08-07 | 2013-07-31 | 株式会社不二製作所 | 薄膜太陽電池パネルのスクライビング方法及び該方法に用いる装置 |
US9039487B2 (en) | 2008-08-07 | 2015-05-26 | Fuji Manufacturing Co., Ltd. | Blasting method and apparatus having abrasive recovery system, processing method of thin-film solar cell panel, and thin-film solar cell panel processed by the method |
EP2351871B1 (en) | 2008-10-21 | 2016-06-15 | Ulvac, Inc. | Mask and method for forming film using this mask |
KR101138688B1 (ko) | 2010-04-15 | 2012-04-19 | 임상기 | 판유리의 가장자리 샌딩 가공 장치 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0396176U (ja) * | 1990-01-19 | 1991-10-01 | ||
JP2003127064A (ja) * | 2001-10-22 | 2003-05-08 | Nec Corp | 立体マスク及びこれを用いた加工方法並びにこの立体マスクの製造方法 |
JP2005254441A (ja) * | 2003-08-29 | 2005-09-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | マスク及びマスクの作製方法、並びに、材料の加工方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53140366U (ja) * | 1977-04-13 | 1978-11-06 |
-
2006
- 2006-01-10 JP JP2006002276A patent/JP4690896B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0396176U (ja) * | 1990-01-19 | 1991-10-01 | ||
JP2003127064A (ja) * | 2001-10-22 | 2003-05-08 | Nec Corp | 立体マスク及びこれを用いた加工方法並びにこの立体マスクの製造方法 |
JP2005254441A (ja) * | 2003-08-29 | 2005-09-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | マスク及びマスクの作製方法、並びに、材料の加工方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111716255A (zh) * | 2020-06-24 | 2020-09-29 | 中国航空制造技术研究院 | 带筋壁板预弯工装及喷丸成形方法 |
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